JP4610771B2 - 縦型熱処理装置およびその強制空冷方法 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、縦型熱処理装置およびその強制空冷方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体デバイスの製造においては、被処理体例えば半導体ウエハに、酸化、拡散、CVD(Chemical Vapor Deposition)などの処理を行うために、各種の熱処理装置が用いられている。そして、その一つとして、一度に多数枚の被処理体の熱処理が可能な縦型熱処理装置が知られている。
【0003】
この縦型熱処理装置は、複数枚の被処理体を下方から収容する縦型の処理容器を有し、この処理容器の外側にはこれを取り囲むヒータが設置されている。このような縦型熱処理装置においては、熱処理中または熱処理後に高温のヒータ内を強制的に空冷(空気冷却)するために、ヒータの下部にヒータ内へ空気を送り込む送風部を設け、ヒータの上部に排気口を設け、該排気口に排気ダクトを接続するとともに排気口を開閉するシャッターを設けたものが提案されている。シャッターは排気ダクトの外部に設けたエアシリンダによって開閉駆動されるようになっている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前述した縦型熱処理装置においては、排気ダクトによりヒータ内の雰囲気を吸い出しているものの、送風によりヒータ内の圧力が陽圧(大気圧よりも高い)になった場合、シャッターの外部動力が貫通している隙間からヒータの断熱材から発生するごみ(パーティクル)やヒータ内の熱気が吹き出す場合があり、ごみや熱気を装置外およびクリーンルーム外へ排出して装置内およびクリーンルーム内の雰囲気を奇麗に保つという排気ダクトの効果が減衰されてしまう問題があった。
【0005】
図6は従来の縦型熱処理装置における強制空冷時のごみの発生量の変化を示すグラフ図である。この図は、横軸に強制空冷時の時間を、縦軸に1μm以上のごみの個数を示している。この図から、強制空冷の開始時(ON)にごみが少し発生し、強制空冷の終了時(OFF)にごみが多く発生していることが解かる。
【0006】
本発明は、前記事情を考慮してなされたもので、強制空冷時にごみや熱気の吹き出しを防止することができる縦型熱処理装置およびその強制空冷方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明のうち、請求項1の発明は、複数枚の被処理体を下方から収容する縦型の処理容器の外側にこれを取り囲むヒータを設置し、該ヒータの下部にヒータ内へ冷却用の空気を送り込む送風部を設け、ヒータの上部に排気口を設け、該排気口に排気ダクトを接続した縦型熱処理装置において、前記排気口にこれを送風圧力により自動的に開閉する弁蓋を設けたことを特徴とする。
【0008】
請求項2の発明は、複数枚の被処理体を下方から収容する縦型の処理容器の外側にこれを取り囲むヒータを設置し、該ヒータの下部にヒータ内へ冷却用の空気を送り込む送風部を設け、ヒータの上部に排気口を設け、該排気口に排気ダクトを接続するとともに排気口を開閉するシャッターを設けた縦型熱処理装置において、前記ヒータ内の上部に設けられた圧力センサと、該圧力センサによる検出圧に基いてヒータ内が微陰圧となるよう前記送風部を制御する制御部とを備えたことを特徴とする。
【0009】
請求項3の発明は、請求項1または2記載の縦型熱処理装置において、前記送風部が、ヒータの下部に設けられた環状の送風ダクトと、該送風ダクトに空気を送り込む送風ブロワと、送風ダクトの上部にその周方向に適宜間隔で突設された送風ノズルとを備え、送風ノズルの幾つかはヒータ内の下部を冷却すべく短く形成されていることを特徴とする。
【0010】
請求項4の発明は、複数枚の被処理体を下方から収容する縦型の処理容器の外側に設置されたヒータの上部の排気口のシャッターを開け、排気ブロワにより排気するとともにヒータ内に下部から送風ブロワにより空気を送り込んでヒータ内を強制的に空冷する方法において、強制空冷開始時に先ず前記シャッターを開け、次に排気ブロワと送風ブロワを順に起動し、ヒータ内の圧力が微陰圧になるように送風ブロワを制御し、ヒータ内の温度降下に伴う陰圧度の増大を抑えるべく送風ブロワの送風量を増大させることを特徴とする。
【0011】
請求項5の発明は、複数枚の被処理体を下方から収容する縦型の処理容器の外側に設置されたヒータの上部の排気口のシャッターを開け、排気ブロワにより排気するとともにヒータ内に下部から送風ブロワにより空気を送り込んでヒータ内を強制的に空冷する方法において、強制空冷終了時に先ず送風ブロワの電源と排気ブロワの電源を順に切り、前記送風ブロワの電源を切ってから送風ブロワの回転が停止するまでの所定時間経過後に前記シャッターを閉めることを特徴とする。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の実施の形態を添付図面に基いて詳述する。
【0013】
先ず、第1の実施の形態を示す図1において、1は縦型熱処理装置で、この縦型熱処理装置1は複数枚の被処理体例えば半導体ウエハwを下方から収容して所定の熱処理例えばCVD処理を施す縦型の処理容器(プロセスチューブ)2を備えている。この処理容器2は、耐熱性および耐食性を有する材料例えば石英ガラスにより形成されている。
【0014】
処理容器2は、図示例では、内管2aと外管2bの二重管構造になっている。内管2aは上端および下端が開放されている。外管2bは、上端が閉塞され、下端が開放されている。なお、処理容器2は、外管2bのみからなっていてもよく、この場合、外管2bの頂部に排気部が設けられていてもよい。
【0015】
処理容器2の下部には、本実施の形態では、処理容器2内に処理ガスや不活性ガスを導入するガス導入部3と、処理容器2内を排気する排気部4とを有する短円筒状のマニホールド5が気密に接続されている。このマニホールド5は、耐熱性および耐食性を有する材料例えばステンレス鋼により形成されている。マニホールド5の内側には、内管2aを支持するための内管支持部8が設けられている。
【0016】
ガス導入部3には、ガス源に通じるガス供給系の配管が接続される。排気部4には、真空ポンプおよび圧力制御機構を有する排気系が接続され、処理容器2内を所定の処理圧力に制御し得るようになっている。この処理圧力に制御された状態で、ガス導入部3から導入された処理ガスが処理容器2の内管2a内を上昇してウエハwの所定の熱処理に供された後、内管2aと外管2bとの間の環状通路を下降して排気部4から排気されるようになっている。
【0017】
前記処理容器2内に複数枚例えば150枚程度の半導体ウエハwを高さ方向に所定間隔で搭載保持するために、ウエハwは保持具である例えば石英ガラス製のボート6に保持され、このボート6はマニホールド5の下端開口部(炉口)を密閉する例えばステンレス鋼製の蓋体7の上部に炉口断熱手段である保温筒8を介して載置されている。前記処理容器2の下方には、蓋体7を昇降させて蓋体7の開閉および処理容器2に対するボート6の搬入搬出を行うための昇降機構9が設けられていると共にその作業領域であるローディングエリアが設けられている。
【0018】
前記マニホールド5は、図示しないベースプレートの下部に保持されており、このベースプレートの上部には、処理容器2の周囲を取り囲み処理容器2内のウエハwを所定の熱処理温度に加熱昇温するためのヒータ10が設置されている。このヒータ10は、処理容器2の周囲を取囲む筒状(円筒状)の断熱材11を備え、この筒状断熱材11の内周に抵抗発熱線12が螺旋状または蛇行状に配設されている。前記ヒータ10は、高さ方向に複数の領域に分けて温度制御が可能に構成されている。ヒータ10には領域毎に温度を検知する図示しない温度センサが設けられている。
【0019】
また、ヒータ10の筒状断熱材11の上部には、ヒータ10の頂部断熱材である円板状の板状断熱材13が被せられ(載置され)ている。ヒータ10本体の筒状断熱材11およびヒータ10頂部の板状断熱材13は、所定の断熱材料例えばシリカ(SiO2)およびアルミナ(Al23)の混合材料により形成されている。
【0020】
前記ヒータ10の筒状断熱材11の外側には、金属製の円筒状のアウターシェル14が設けられ、このアウターシェル14には図示しない水冷ジャケットが設けられている。アウターシェル14の上部には、板状断熱材13の上方を覆う金属製の天板15が取付けられている。
【0021】
熱処理中や熱処理終了後の急速降温を可能とすべくヒータ10内を強制的に空冷するために、ヒータ10の下部にはヒータ10内へ冷却用の空気を送り込む送風部20が設けられ、ヒータ10の上部の中央部には板状断熱材13および天板15を貫通する排気口21が設けられ、この排気口21には排気ブロワ22を備えた排気ダクト23が接続されている。
【0022】
前記送風部20は、ヒータ10の下部に設けられた環状の送風ダクト24と、この送風ダクト24に空気を送り込む送風ブロワ25と、送風ダクト24の上部にその周方向に適宜間隔で突設された送風ノズル26とから主に構成されている。この場合、図3にも示すように、複数例えば12個の送風ノズル26のうち幾つか例えば6個はヒータ10内の下部を冷却すべく長さが短く形成されている。これら長さの長いノズル26aと、長さの短いノズル26bは、周方向に交互に配置されていることが好ましい。
【0023】
そして、ヒータ10の上部に設けられた前記排気口21の上部には、この排気口21を送風圧力によって自動的に開閉する弁蓋27が設けられている。この弁蓋27は、例えばAl等のセラミックスにより形成されていることが好ましい。弁蓋27は排気口21の上面を塞ぐべく排気口21よりも大きく形成されており、一端がヒンジ28を介して天板15に垂直回動可能に支持されている。弁蓋27を取り囲む排気ダクト23の周囲には断熱材が設けられていることが好ましい。
【0024】
弁蓋27は、通常時には自重で排気口21を塞いだ閉状態にあり、強制空冷時には送風部20からの送風圧力と排気ダクト23の排気圧力との圧力差および弁蓋27の重さとのバランスにより自動的に上方に押し上げられて開閉されるようになっている。特に、エアシリンダ等外部の動力を用いずに排気口21の弁蓋27を自動開閉できるため、排気ダクト23には外部動力貫通用の隙間が形成されたおらず、排気ダクト23は排気口21に気密に接続されている。この場合、排気ダクト23は、ヒータ10の上下方向の熱膨張収縮を吸収し得る例えば蛇腹等の接続構造が採られていることが好ましい。
【0025】
次に、以上の構成からなる縦型熱処理装置の作用を述べる。ローディングエリアにおいてボート6へのウエハwの移載が終了すると、昇降機構9による蓋体7の上昇によってボート6を保温筒8と共に処理容器2内にその下端開口(マニホールド5の下端開口部)から搬入し、その開口を蓋体7で気密に閉塞する。
【0026】
そして、処理容器2内を、排気部4からの排気系による減圧排気により所定の圧力ないし真空度に制御すると共にヒータ10により所定の処理温度に制御し、ガス導入部3より処理ガスを処理容器2内に導入してウエハwに所定の熱処理例えばCVD処理を開始する。
【0027】
この熱処理中あるいは熱処理終了後にヒータ10内を強制空冷を行ない、熱処理終了後は処理ガスの導入を停止して不活性ガスの導入により処理容器2内をパージし、蓋体7を下降させて処理容器2内を開放すると共にボート6をローディングエリアに搬出すればよい。
【0028】
前記強制空冷を行なう場合には、ヒータ10の電源を切り、先ず排気ブロワ22の電源を入れて排気ブロワ22を起動し、次に送風ブロワ25の電源を入れて送風ブロワ25を起動する。これにより、排気口21を塞いで閉状態にある弁蓋27の上面には排気ダクト23内の陰圧が作用し、弁蓋27の下面には送風ダクト24の送風ノズル26から吹き込まれる空気によるヒータ10内の陽圧が作用するため、その送風圧力具体的には弁蓋27の上下面の差圧と蓋体27の自重とのバランスにより弁蓋27が上方へ押し上げられて所定の開度で開放される。これにより、ヒータ10内の雰囲気が排気口21から排気ダクト23へ排気され、ヒータ10内が強制空冷されることになる。
【0029】
強制空冷を終了する場合には、先ず送風ブロワ25の電源を切り、次に排気ブロワ22の電源を切れば良く、これにより弁蓋27には圧力差が作用しなくなるため、弁蓋27が自重で降下して排気口21を自動的に塞ぐ。ヒータ10の昇温加熱時には、弁蓋27が排気口21を塞いでいることにより排気口21からのヒータ10内の熱の逃げを防止することができる。
【0030】
このように、前記排気口21にこれを送風圧力により自動的に開閉する弁蓋27を設けているため、エアシリンダ等外部の動力を用いずに排気口21の弁蓋27を自動開閉でき、外部動力貫通用の隙間が無いことから強制空冷時にヒータ10内が陽圧になったとしても従来のように外部動力貫通用の隙間等からごみや熱気が吹き出すようなことはなくなり、強制空冷時のごみや熱気の吹き出しを防止することができ、装置内およびクリーンルーム内の雰囲気を奇麗に保つことができる。また、外部動力貫通用の隙間が無いことから、ヒータ外上部の外気を吸い込むこと無くヒータ10内の雰囲気を十分に排気することができ、排気ダクト23の効果を高めることができる。
【0031】
ところで、ヒータ10に設けられている図示しない温度センサにより検知したヒータ10の上部と下部のヒータ温度の強制空冷時の温度変化は、例えば図5に示す通りであり、保温筒8の存在によりヒータ10の下部の方が上部よりも降温時間が多くかかっている。そこで、送風ダクト24の上部にその周方向に適宜間隔で突設された送風ノズル26のうちの幾つかはヒータ10内の下部を冷却すべく短く形成されているため、ヒータ10内の上部よりも降温時間の遅い下部の降温時間を上部の降温時間と同程度に早めることができ、強制空冷時間の短縮化が図れる。
【0032】
図2は本発明の第2の実施の形態を示す縦型熱処理装置の断面図である。図2の実施の形態において、図1の実施の形態と同一部分は同一参照符号を付して説明を省略する。図2の実施の形態においては、排気口21の上部にこれを開閉するシャッター30が設けられている。アウターシェル14の天板15上には、前記シャッター30を開閉移動可能に収容する金属製のハウジング31が設けられ、このハウジング31に排気ダクト23が接続されている。
【0033】
前記シャッター30は、排気口21の上面を水平方向にスライド開閉可能に覆う例えば石英製の蓋体として形成されている。シャッター30の上部には例えば凹部が設けられ、この凹部に断熱材が充填されていることが好ましい(図示省略)。前記シャッター30には、ハウジング31を貫通して外部からシャッター30を開閉駆動するためのエアシリンダ32が連結されている。ハウジング31には、シャッター30の外部動力貫通用の隙間33が存在する。
【0034】
前記ヒータ10内の上部には、強制空冷時のヒータ10内の圧力を検知するための圧力センサ34が設けられ、圧力センサ34による検出圧に基いてヒータ10内が微陰圧例えば大気圧−30Paとなるよう前記送風部20の送風ブロワ25が制御部35により制御されるように構成されている。また、前記エアシリンダ32および排気ブロワ22も前記制御部35により制御されるように構成されている。
【0035】
この場合、前記制御部35は、強制空冷開始時に先ず前記シャッター30を開け、次に排気ブロワ22の電源と送風ブロワ25の電源を順に入れてこれら排気ブロワ22と送風ブロワ25を順に起動し、ヒータ10内の圧力を圧力センサ34により検出してヒータ10内が微陰圧になるように送風ブロワ25を制御し、ヒータ10内の温度降下に伴う陰圧度の増大を抑えるべく送風ブロワ25の送風量を増大させるように設定されている。また、前記制御部35は、強制空冷終了時に先ず送風ブロワ25の電源と排気ブロワ22の電源を順に切り、前記送風ブロワ25の電源を切ってから送風ブロワ25の回転が停止するまでの所定時間経過後例えば1分30秒後に前記シャッター30を閉めるように設定されている。
【0036】
次に、以上の構成からなる縦型熱処理装置の作用および強制空冷方法について説明する。前記縦型熱処理装置において、熱処理中または熱処理終了後にヒータ10内の強制空冷を行なう場合には、先ずヒータ10の電源を切り、シャッター30を開ける。そして、排気ブロワ22の電源を入れて排気ブロワ22を起動し、次に送風ブロワ25の電源を入れて送風ブロワ25を起動する。これにより、ヒータ10内に室温の空気が送り込まれると共にヒータ10内の雰囲気が排気口21から排気ダクト23に吸い出され、ヒータ10内の強制空冷が開始される。
【0037】
そして、この強制空冷中、ヒータ10内の圧力が圧力センサ34により検知されており、この圧力センサ34による検出圧に基いてヒータ10内が微陰圧の設定圧となるよう送風ブロワ25が制御部35により制御されている。これにより、強制空冷時にヒータ10内が陽圧になるのが防止され、シャッター30の外部動力貫通用の隙間33があったとしてもその隙間33からのごみや熱気の吹き出しを防止することができる。圧力センサ34がヒータ10内の陽圧になり易い上部に配置されているため、ヒータ10内の圧力を精度良く検知することができる。強制空冷を終了する場合には、先ず送風ブロワ25の電源を切り、次に排気ブロワ22の電源を切り、次にシャッター30を閉じれば良い。
【0038】
一般的に、強制空冷開始時には、ごみや熱気の吹き出しを抑制するために、ON信号により先ずシャッター30を開け、次に排気ブロワ22の電源と送風部ブロワ25の電源を順に入れて排気ブロワ22と送風ブロワ25を順に起動する。しかしながら、送風ブロワ25が起動してヒータ10内が陽圧になった場合、シャッター30の外部動力貫通用の隙間33からごみや熱気が吹き出してしまう。図6に示すように強制空冷の開始時(ON)にごみが発生しているのはこのためである。
【0039】
この問題を解決するためには、ヒータ10内が陰圧になるように排気ブロワ22や送風ブロワ25を制御することが好ましい。しかしながら、単にヒータ10内を陰圧にするだけでは、図4に一点鎖線で示すように、ヒータ温度の降下に伴いヒータ内雰囲気の熱膨張の量が減少するため、時間と共に陰圧度が増大してしまい、その結果、ヒータ内が冷えにくくなり(降温レートが低下し)、強制空冷時間が長くなってしまう。
【0040】
そこで、本実施の形態における縦型熱処理装置の強制空冷方法においては、強制空冷開始時には先ず前記シャッター30を開け、次に排気ブロワ22の電源と送風ブロワ25の電源を順に入れてこれら排気ブロワ22と送風ブロワ25を順に起動し、ヒータ10内の圧力を圧力センサ34により検出してヒータ10内が微陰圧(例えば大気圧−30Pa)になるように送風ブロワ25を制御し、ヒータ10内の温度降下に伴う陰圧度の増大を抑えるべく送風ブロワ25の送風量を増大させるようにする。この強制空冷方法によれば、強制空冷開始時にヒータ10内が陽圧になるのを防止でき、シャッター30の外部動力貫通用の隙間33からごみや熱気が吹き出すのを防止することができると共に、図4に実線で示すように、陰圧度を一定に保ちつつ送風量を増大することによって陰圧度の増大に伴う降温レートの低下を抑制し、強制空冷時間の短縮化が図れる。
【0041】
また、一般的に、強制空冷終了時には、ごみや熱気の吹き出しを抑制するために、OFF信号により先ず送風ブロワ25の電源と排気ブロワ22の電源を順に切り、次にシャッター30を閉める。この場合、例えば、OFF信号と同時に送風ブロワ25の電源を切り、その3秒後に排気ブロワ22の電源を切り、更にその1秒後にシャッター30を閉じるというシーケンス制御が行なわれている。従って、シャッター30を閉めるタイミングは、OFF信号から4秒後である。
【0042】
しかしながら、送風ブロワ25の電源を切っても送風ブロワ25は直ぐに止まらず慣性力でしばらく回転しているため、その回転中にシャッター30を閉めると、ヒータ10内が陽圧になってしまい、ヒータ10の隙間例えばヒータ下部の隙間等からごみや熱気が吹き出してしまう。図6に示すように強制空冷の終了時(OFF)にごみが発生しているのはこのためである。
【0043】
そこで、本実施の形態における縦型熱処理装置の強制空冷方法においては、強制空冷終了時には先ず送風ブロワ25の電源と排気ブロワ22の電源を順に切り、前記送風ブロワ25の電源を切ってから送風ブロワ25の回転が停止するまでの所定時間経過後例えば1分30秒後に前記シャッター30を閉めるようにする。この強制空冷方法によれば、電源を切った後の送風ブロワ25の慣性回転に起因してヒータ10内が陽圧になる現象を防止することができ、強制空冷終了時のごみや熱気の吹き出しを防止することができる。
【0044】
以上、本発明の実施の形態を図面により詳述してきたが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲での種々の設計変更等が可能である。例えば、前記実施の形態では、熱処理の一例としてCVD処理が例示されているが、本発明の縦型熱処理装置は、CVD処理以外に、例えば拡散処理、酸化処理、アニール処理等にも適用可能である。また、前記実施の形態では、処理容器にマニホールドを備えた縦型熱処理装置が例示されているが、本発明の縦型熱処理装置は、処理容器にマニホールドを備えていなくてもよい。また、被処理体としては、半導体ウエハ以外に、例えばLCD基板やガラス基板等であってもよい。
【0045】
【発明の効果】
以上要するに本発明によれば、次のような効果を奏することができる。
【0046】
(1)請求項1の発明によれば、複数枚の被処理体を下方から収容する縦型の処理容器の外側にこれを取り囲むヒータを設置し、該ヒータの下部にヒータ内へ冷却用の空気を送り込む送風部を設け、ヒータの上部に排気口を設け、該排気口に排気ダクトを接続した縦型熱処理装置において、前記排気口にこれを送風圧力により自動的に開閉する弁蓋を設けているため、エアシリンダ等外部の動力を用いずに排気口の弁蓋を自動開閉でき、外部動力貫通用の隙間が無いことから強制空冷時にヒータ内が陽圧になったとしてもごみや熱気の吹き出しを防止することができる。
【0047】
(2)請求項2の発明によれば、複数枚の被処理体を下方から収容する縦型の処理容器の外側にこれを取り囲むヒータを設置し、該ヒータの下部にヒータ内へ冷却用の空気を送り込む送風部を設け、ヒータの上部に排気口を設け、該排気口に排気ダクトを接続するとともに排気口を開閉するシャッターを設けた縦型熱処理装置において、前記ヒータ内の上部に設けられた圧力センサと、該圧力センサによる検出圧に基いてヒータ内が微陰圧となるよう前記送風部を制御する制御部とを備えているため、強制空冷時にヒータ内が陽圧になるのを防止でき、シャッターの外部動力貫通用の隙間があったとしてもその隙間からのごみや熱気の吹き出しを防止することができる。
【0048】
(3)請求項3の発明によれば、前記送風部が、ヒータの下部に設けられた環状の送風ダクトと、該送風ダクトに空気を送り込む送風ブロワと、送風ダクトの上部にその周方向に適宜間隔で突設された送風ノズルとを備え、送風ノズルの幾つかはヒータ内の下部を冷却すべく短く形成されているため、ヒータ内の上部よりも降温時間の遅い下部の降温時間を上部の降温時間と同程度に早めることができ、強制空冷時間の短縮化が図れる。
【0049】
(4)請求項4の発明によれば、複数枚の被処理体を下方から収容する縦型の処理容器の外側に設置されたヒータの上部の排気口のシャッターを開け、排気ブロワにより排気するとともにヒータ内に下部から送風ブロワにより空気を送り込んでヒータ内を強制的に空冷する方法において、強制空冷開始時に先ず前記シャッターを開け、次に排気ブロワと送風ブロワを順に起動し、ヒータ内の圧力が微陰圧になるように送風ブロワを制御し、ヒータ内の温度降下に伴う陰圧度の増大を抑えるべく送風ブロワの送風量を増大させるため、強制空冷時にヒータ内が陽圧になるのを防止でき、シャッターの外部動力貫通用の隙間があったとしてもその隙間からのごみや熱気の吹き出しを防止することができ、しかも、陰圧度の増大に伴う降温レートの低下を抑制でき、強制空冷時間の短縮化が図れる。
【0050】
(5)請求項5の発明によれば、複数枚の被処理体を下方から収容する縦型の処理容器の外側に設置されたヒータの上部の排気口のシャッターを開け、排気ブロワにより排気するとともにヒータ内に下部から送風ブロワにより空気を送り込んでヒータ内を強制的に空冷する方法において、強制空冷終了時に先ず送風ブロワの電源と排気ブロワの電源を順に切り、前記送風ブロワの電源を切ってから送風ブロワの回転が停止するまでの所定時間経過後に前記シャッターを閉めるため、電源を切った後の送風ブロワの慣性回転に起因するヒータ内の陽圧化現象を防止することができ、強制空冷終了時のごみや熱気の吹き出しを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態を示す縦型熱処理装置の縦断面図である。
【図2】本発明の第2の実施の形態を示す縦型熱処理装置の縦断面図である。
【図3】送風ノズルの配置を示す概略的平面図である。
【図4】強制空冷時のヒータ温度の変化とヒータ内の圧力変化を示すグラフ図である。
【図5】強制空冷時のヒータの上部と下部の温度変化を示すグラフ図である。
【図6】従来の縦型熱処理装置における強制空冷時のごみの発生量の変化を示すグラフ図である。
【符号の説明】
w 半導体ウエハ(被処理体)
1 縦型熱処理装置
2 処理容器
20 送風部
21 排気口
22 排気ブロワ
23 排気ダクト
24 送風ダクト
25 送風ブロワ
26 送風ノズル
27 弁蓋
30 シャッター
34 圧力センサ
35 制御部

Claims (5)

  1. 複数枚の被処理体を下方から収容する縦型の処理容器の外側にこれを取り囲むヒータを設置し、該ヒータの下部にヒータ内へ冷却用の空気を送り込む送風部を設け、ヒータの上部に排気口を設け、該排気口に排気ダクトを接続した縦型熱処理装置において、前記排気口にこれを送風圧力により自動的に開閉する弁蓋を設けたことを特徴とする縦型熱処理装置。
  2. 複数枚の被処理体を下方から収容する縦型の処理容器の外側にこれを取り囲むヒータを設置し、該ヒータの下部にヒータ内へ冷却用の空気を送り込む送風部を設け、ヒータの上部に排気口を設け、該排気口に排気ダクトを接続するとともに排気口を開閉するシャッターを設けた縦型熱処理装置において、前記ヒータ内の上部に設けられた圧力センサと、該圧力センサによる検出圧に基いてヒータ内が微陰圧となるよう前記送風部を制御する制御部とを備えたことを特徴とする縦型熱処理装置。
  3. 前記送風部は、ヒータの下部に設けられた環状の送風ダクトと、該送風ダクトに空気を送り込む送風ブロワと、送風ダクトの上部にその周方向に適宜間隔で突設された送風ノズルとを備え、送風ノズルの幾つかはヒータ内の下部を冷却すべく短く形成されていることを特徴とする請求項1または2記載の縦型熱処理装置。
  4. 複数枚の被処理体を下方から収容する縦型の処理容器の外側に設置されたヒータの上部の排気口のシャッターを開け、排気ブロワにより排気するとともにヒータ内に下部から送風ブロワにより空気を送り込んでヒータ内を強制的に空冷する方法において、強制空冷開始時に先ず前記シャッターを開け、次に排気ブロワと送風ブロワを順に起動し、ヒータ内の圧力が微陰圧になるように送風ブロワを制御し、ヒータ内の温度降下に伴う陰圧度の増大を抑えるべく送風ブロワの送風量を増大させることを特徴とする縦型熱処理装置の強制空冷方法。
  5. 複数枚の被処理体を下方から収容する縦型の処理容器の外側に設置されたヒータの上部の排気口のシャッターを開け、排気ブロワにより排気するとともにヒータ内に下部から送風ブロワにより空気を送り込んでヒータ内を強制的に空冷する方法において、強制空冷終了時に先ず送風ブロワの電源と排気ブロワの電源を順に切り、前記送風ブロワの電源を切ってから送風ブロワの回転が停止するまでの所定時間経過後に前記シャッターを閉めることを特徴とする縦型熱処理装置の強制空冷方法。
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4709423B2 (ja) * 2001-05-16 2011-06-22 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド チャンバ冷却装置および半導体製造装置
KR100943588B1 (ko) 2003-09-19 2010-02-23 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키 반도체 장치의 제조 방법 및 기판 처리 장치
JP5312765B2 (ja) * 2007-01-26 2013-10-09 株式会社日立国際電気 基板処理方法及び半導体製造装置
JP5394360B2 (ja) * 2010-03-10 2014-01-22 東京エレクトロン株式会社 縦型熱処理装置およびその冷却方法
JP5394292B2 (ja) 2010-03-12 2014-01-22 東京エレクトロン株式会社 縦型熱処理装置および圧力検知システムと温度センサの組合体
JP5893280B2 (ja) 2010-09-09 2016-03-23 東京エレクトロン株式会社 縦型熱処理装置
JP2012172871A (ja) 2011-02-18 2012-09-10 Tokyo Electron Ltd 熱処理装置および熱処理装置の温度測定方法
JP5662845B2 (ja) 2011-03-01 2015-02-04 東京エレクトロン株式会社 熱処理装置およびその制御方法

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0247266A (ja) * 1988-08-04 1990-02-16 Tel Sagami Ltd 処理装置
JPH0294626A (ja) * 1988-09-30 1990-04-05 Tel Sagami Ltd 縦型熱処理装置および熱処理方法
JPH0567577A (ja) * 1991-09-09 1993-03-19 Kokusai Electric Co Ltd 縦型拡散・cvd炉
JPH05343326A (ja) * 1992-06-11 1993-12-24 Kokusai Electric Co Ltd 半導体基板反応炉
JPH076955A (ja) * 1993-06-15 1995-01-10 Tokyo Electron Ltd 高速熱処理炉の温度制御方法及びその装置
JPH0778778A (ja) * 1993-06-28 1995-03-20 Tokyo Electron Ltd 熱処理装置
JPH0799164A (ja) * 1993-06-30 1995-04-11 Tokyo Electron Ltd 熱処理装置及び熱処理方法
JPH0874058A (ja) * 1994-09-01 1996-03-19 Kokusai Electric Co Ltd 等温急速冷却手段を備えた反応炉
JPH11152574A (ja) * 1997-11-18 1999-06-08 Sony Corp 常圧cvd装置の排気浄化装置
JPH11265893A (ja) * 1997-12-26 1999-09-28 Canon Inc 熱処理装置、および、これを用いた半導体部材の熱処理方法と製造方法
JP2001007035A (ja) * 1999-06-23 2001-01-12 Sukegawa Electric Co Ltd 縦型加熱装置

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0247266A (ja) * 1988-08-04 1990-02-16 Tel Sagami Ltd 処理装置
JPH0294626A (ja) * 1988-09-30 1990-04-05 Tel Sagami Ltd 縦型熱処理装置および熱処理方法
JPH0567577A (ja) * 1991-09-09 1993-03-19 Kokusai Electric Co Ltd 縦型拡散・cvd炉
JPH05343326A (ja) * 1992-06-11 1993-12-24 Kokusai Electric Co Ltd 半導体基板反応炉
JPH076955A (ja) * 1993-06-15 1995-01-10 Tokyo Electron Ltd 高速熱処理炉の温度制御方法及びその装置
JPH0778778A (ja) * 1993-06-28 1995-03-20 Tokyo Electron Ltd 熱処理装置
JPH0799164A (ja) * 1993-06-30 1995-04-11 Tokyo Electron Ltd 熱処理装置及び熱処理方法
JPH0874058A (ja) * 1994-09-01 1996-03-19 Kokusai Electric Co Ltd 等温急速冷却手段を備えた反応炉
JPH11152574A (ja) * 1997-11-18 1999-06-08 Sony Corp 常圧cvd装置の排気浄化装置
JPH11265893A (ja) * 1997-12-26 1999-09-28 Canon Inc 熱処理装置、および、これを用いた半導体部材の熱処理方法と製造方法
JP2001007035A (ja) * 1999-06-23 2001-01-12 Sukegawa Electric Co Ltd 縦型加熱装置

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