JP2000182931A

JP2000182931A - 露光装置

Info

Publication number: JP2000182931A
Application number: JP10357066A
Authority: JP
Inventors: Kazuya Ono; 一也小野
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1998-12-16
Filing date: 1998-12-16
Publication date: 2000-06-30

Abstract

(57)【要約】【課題】ステージの駆動時の反力に起因する悪影響を
防止して高精度な露光を実現する。【解決手段】磁石ユニット（２２Ａ〜２２Ｃ等）、磁
石ユニット（２４Ａ、２４Ｂ等）及び磁石ユニット（２
６Ａ、２６Ｂ等）により、投影光学系ＰＬ、マスクステ
ージ装置（ＲＳＴ、１６）及び基板ステージ装置（ＷＳ
Ｔ、１８）が、それぞれ基準構造体１４に対しが非接触
で支持されている。このため、例えばステージＷＳＴが
移動した際に、その駆動反力によりステージ支持部材１
８がステージＷＳＴと反対向きに所定量移動してその力
を吸収するため、基板ステージ装置全体で運動量が保存
され、装置全体の重心位置は変化しない。すなわち、基
板ステージ装置の駆動による反力が、基準構造体は勿
論、マスクステージ装置や投影光学系に何らの影響も及
ぼさない。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、露光装置に係り、
更に詳しくは、半導体素子、液晶表示素子等を製造する
際にフォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、半導体素子等を製造するため
のリソグラフィ工程では、いわゆるステッパあるいはス
キャニング・ステッパ等の縮小投影露光装置が主として
用いられている。

【０００３】図３には、この種の投影露光装置の一例が
示されている。この投影露光装置１００は、床面上に複
数（ここでは４つ）の防振マウント１０７を介して水平
に保持された第１コラム１０４、該第１コラム１０４に
保持された（固定された）投影光学系１０１、第１コラ
ム１０４の上面に載置された側面視コの字状の第２コラ
ム１０５、この第２コラム１０５の上板を成すレチクル
ステージベース１０５ａ上に搭載されたレチクルステー
ジ１０２、第１コラム１０４から下方に吊り下げられた
側面視コの字状の第３コラム１０６、この第３コラム１
０６の底部を成す定盤１０６ａの上面に搭載されたウエ
ハステージ１０３等を備えている。

【０００４】レチクルステージ１０２には、不図示のレ
チクルが吸着保持され、また、ウエハステージ１０３に
は不図示のウエハが吸着保持される。レチクルステージ
１０２、ウエハステージ１０３のＸＹ面（水平面内）の
位置は、レーザ干渉計１１０Ａ、１１０Ｂによって投影
光学系１０１にそれぞれ固定された不図示の参照鏡を基
準として所定の分解能でそれぞれ常時計測されている。

【０００５】そして、この投影露光装置１００が、ステ
ッパである場合には、ウエハ上の各ショット領域が露光
位置（投影光学系１０１によるレチクルパターンの投影
位置）に一致するように、ウエハステージ１０３を順次
位置決めする動作と、その位置決め位置でレチクルパタ
ーンを投影光学系１０１を介してウエハ上に静止状態で
転写する動作とが繰り返し行われる。また、この投影露
光装置１００が、スキャニング・ステッパである場合に
は、レチクルステージ１０２とウエハステージ１０３を
１次元方向（Ｙ方向）に同期移動しつつ各ショット領域
に対するレチクルパターンの転写が行われる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の投影露光装置１００にあっては、レチクルステージ
１０２、ウエハステージ１０３、及び投影光学系１０１
が、第１コラム１０４、第２コラム１０５及び第３コラ
ム１０６から成るボディを介して物理的に連結されてい
るので、ウエハステージ１０３（又はウエハステージ１
０３及びレチクルステージ１０２（スキャニング・ステ
ッパの場合））が駆動されると、ボデイはその反力に起
因するモーメントを受け、前後に揺動する。そのとき、
各コラムが歪んでウエハステージ１０３（又はウエハス
テージ１０３及びレチクルステージ１０２）を投影光学
系１０１に対して高精度に位置決め（ウエハステージ及
びレチクルステージの投影光学系に対する相対位置制御
を含む）ができないという不都合があった。

【０００７】また、各ステージはボディに固定された投
影光学系１０１を基準として干渉計計測値に基づき位置
制御がなされるので、上記のようにボディが振動した場
合に、そのボディの動きに追従するように各ステージは
位置制御されるため高精度な位置決めが困難となる。特
に、スキャニング・ステッパの場合、レチクルステージ
とウエハステージの同期誤差が殆どないにもかかわら
ず、ボディの振動のため両ステージ間に大きな同期誤差
が存在するかのように両ステージの制御が行われ、結果
的に同期誤差が生じた状態でレチクルパターンがウエハ
上に転写され、微細パターンを高精度に転写することは
困難となる。

【０００８】本発明は、かかる従来技術の有する不都合
に鑑みてなされたもので、その目的は、ステージの駆動
時の反力に起因する悪影響を防止して高精度な露光を実
現することができる露光装置を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、マスク（Ｒ）に形成されたパターンを投影光学系
（ＰＬ）を介して基板（Ｗ）上に転写する露光装置であ
って、基準構造体（１４）と；前記基準構造体に対し前
記投影光学系を非接触で支持する第１の支持装置（２２
Ａ〜２２Ｄ、２３、５０）と；前記マスクを保持するマ
スクステージ（ＲＳＴ）と、該マスクステージを支持す
る第１のステージ支持部材（１６）とを含むマスクステ
ージ装置と；前記基板を保持して所定方向に移動する基
板ステージ（ＷＳＴ）と、該基板ステージを支持する第
２のステージ支持部材（１８）とを含む基板ステージ装
置と；前記マスクステージ装置を前記基準構造体に対し
非接触で支持する第２の支持装置（２４Ａ〜２４Ｄ、２
８Ａ，２８Ｂ、５０）と；前記基板ステージ装置を前記
基準構造体に対し非接触で支持する第３の支持装置（２
６Ａ〜２６Ｄ、２３、５０）とを備える。

【００１０】これによれば、第１の支持装置により基準
構造体に対し投影光学系が非接触で支持され、第２の支
持装置によりマスクステージ装置が基準構造体に対し非
接触で支持され、第３の支持装置により基板ステージ装
置が基準構造体に対し非接触で支持されている。このた
め、例えば基板ステージ装置を構成する基板ステージが
移動した際に、その移動時の駆動反力により第２のステ
ージ支持部材が基板ステージと反対向きに所定量移動し
てその力を吸収するため、基板ステージ装置全体で運動
量が保存され、装置全体の重心位置は変化しない。すな
わち、基板ステージ装置の駆動による反力が、基準構造
体は勿論、マスクステージ装置や投影光学系に何らの影
響も及ぼさない。従って、ステージの駆動時の反力に起
因する悪影響を防止することができ、これによりマスク
のパターンを投影光学系を介して基板上に高精度に転写
することが可能となる。

【００１１】この場合において、基準構造体は床面に直
接固定しても良いが、請求項２に記載の発明の如く、前
記基準構造体（１４）は、防振装置（１２）を介して設
置床上に支持されていることが望ましい。かかる場合に
は、基準構造体への床面からの振動の伝達を防振装置に
よって抑制あるいは阻止することができる。

【００１２】上記請求項１及び２に記載の各発明におい
て、前記各支持装置の構成は種々考えられるが、請求項
３に記載の発明の如く、前記第１の支持装置、前記第２
の支持装置及び前記第３の支持装置の少なくとも１つ
は、磁力により支持対象物を前記基準構造体（１４）に
対して非接触で支持する電磁石を含む磁石ユニット（２
２Ａ〜２２Ｄ、２４Ａ〜２４Ｄ、２６Ａ〜２６Ｄ）と、
前記支持対象物と前記基準構造体との位置関係が所定の
位置関係となるように前記磁石ユニットを制御する制御
装置（５０）とを含んで構成することができる。かかる
場合には、制御装置により支持対象物、具体的には、投
影光学系、マスクステージ装置及び基板ステージ装置の
少なくとも１つと基準構造体との位置関係が所定の位置
関係となるように磁石ユニットが制御されるので、支持
対象物と基準構造体との相対位置関係を所定の関係に維
持することができる。

【００１３】この場合において、請求項４に記載の発明
の如く、前記基準構造体（１４）と前記支持対象物との
相対変位を計測する変位センサ（３０ａ〜３０ｌ）を更
に備える場合には、前記制御装置（５０）は、前記変位
センサの出力に基づいて前記磁石ユニット（２２Ａ〜２
２Ｄ、２４Ａ〜２４Ｄ、２６Ａ〜２６Ｄ）を制御しても
良い。かかる場合には、支持対象物と基準構造体との位
置関係が例えばステージの駆動反力等何らかの要因によ
って変動すると、この変動に応じた出力を変位センサが
出力し、この変位センサの出力に基づいて磁石ユニット
が制御装置によりフィードバック制御されるので、結果
的に支持対象物と基準構造体との相対位置関係を所定の
関係に維持することができる。

【００１４】上記請求項１及び２に記載の各発明におい
て、請求項５に記載の発明の如く、前記第１の支持装
置、前記第２の支持装置及び前記第３の支持装置の少な
くとも１つは、前記基準構造体（１４）と前記支持対象
物との間に加圧気体を噴出してその加圧気体の静圧によ
り前記基準構造体を浮上支持する気体静圧軸受けと、該
気体静圧軸受けを介して前記静圧を制御する軸受け制御
装置とを含んで構成しても良い。かかる場合には、軸受
け制御装置により、気体静圧軸受けを介して基準構造体
とと支持対象物との間の空隙（軸受け隙間）内の静圧
（すきま内圧力）を制御できるので、例えば一定値制御
を行うことにより、基準構造体と支持対象物との相対位
置関係を所望の位置関係に維持することができる。

【００１５】また、上記請求項１及び２に記載の各発明
において、請求項６に記載の発明の如く、前記マスクス
テージ（ＲＳＴ）及び前記基板ステージ（ＷＳＴ）の少
なとも一方の水平面内の位置を、前記投影光学系（Ｐ
Ｌ）を基準に計測する計測装置（４６、６４）を更に備
えていても良い。かかる場合には、計測装置の計測結果
に基づき、マスクステージ及び基板ステージの少なくと
も一方と投影光学系との相対位置関係を常に所望の位置
関係に設定することが出来る。

【００１６】また、請求項１及び２に記載の各発明にお
いて、請求項７に記載の発明の如く、前記基板ステージ
装置を水平方向に駆動する第１の水平方向駆動用アクチ
ュエータ（２６Ａ〜２６Ｄ、２３）を更に備えていても
良い。かかる場合には、基板ステージの駆動反力により
基板ステージ装置が移動し、基準位置から所定量以上移
動した際に、第１の水平方向駆動用アクチュエータによ
り、基板ステージ装置を基準位置に戻したり、装置の初
期調整の際に基準位置に位置決めしたりすることができ
る。

【００１７】同様に、上記請求項１、２、７に記載の各
発明において、請求項８に記載の発明の如く、前記マス
クステージ装置を水平方向に駆動する第２の水平方向駆
動用アクチュエータ（２４Ａ〜２４Ｄ、２８Ａ、２８
Ｂ）を更に備えていても良い。かかる場合には、マスク
ステージの駆動反力によりマスクステージ装置が移動
し、基準位置から所定量以上移動した際に、第２の水平
方向駆動用アクチュエータにより、マスクステージ装置
を基準位置に戻したり、装置の初期調整の際に基準位置
に位置決めしたりすることができる。

【００１８】また、上記請求項１、２、７、８に記載の
各発明において、請求項９に記載の発明の如く、前記投
影光学系（ＰＬ）を水平方向に駆動する第３の水平方向
駆動用アクチュエータ（２２Ａ〜２２Ｄ、２３）を更に
備えていても良い。かかる場合には、装置の初期調整の
際に第３の水平方向駆動用アクチュエータによって投影
光学系ＰＬを基準位置に位置決めすることができる。

【００１９】上記請求項１及び２に記載の各発明におい
て、請求項１０に記載の発明の如く、前記基板ステージ
（ＷＳＴ）の駆動点が前記基板ステージ装置の重心と略
一致した位置に設定されていることが望ましい。かかる
場合には、基板ステージの駆動反力によって、第２のス
テージ支持部材は基板ステージと反対方向に移動する
が、モーメントは生じないので、より高速な基板ステー
ジの駆動が可能になる。

【００２０】また、上記請求項１及び２に記載の各発明
において、請求項１１に記載の発明の如く、前記マスク
ステージ（ＲＳＴ）は、前記第１のステージ支持部材
（１６）上で前記基板ステージ（ＷＳＴ）の移動方向の
内の１つの方向と同一方向に移動可能であり、その駆動
点が前記マスクステージ装置の重心と略一致した位置に
設定されていることが望ましい。かかる場合には、マス
クステージと基板ステージとを互いに逆向きに駆動する
ことにより、それぞれのステージの反力によりマスクス
テージ装置と基板ステージ装置とが反対方向に移動す
る。この場合、マスクステージ装置には、モーメントは
生じないので、より高速なマスクステージの駆動が可能
になる。

【００２１】また、上記請求項１及び２に記載の各発明
において、請求項１２に記載の発明の如く、前記マスク
ステージ装置の発生推力によるモーメントと前記基板ス
テージ装置の発生推力によるモーメントとが相殺される
ような位置関係に前記両ステージ装置が設定されている
ことが望ましい。

【００２２】上記請求項１、２、１２に記載の各発明に
おいて、請求項１３に記載の発明の如く、前記基板ステ
ージと前記マスクステージとを同期して所定の走査方向
に駆動する同期駆動装置を更に備えていても良い。かか
る場合には、例えば露光時に同期駆動装置によりマスク
ステージと基板ステージとを投影光学系の投影倍率に応
じた速度比で同期移動させることにより、走査露光方式
によりマスクのパターンを基板上に正確に転写すること
ができる。また、この走査露光の際のマスクステージと
基板ステージとの加減速時に第１のステージ支持部材、
第２のステージ支持部材には各ステージ駆動推力による
反力がそれぞれ作用するが、これらの反力により、マス
クステージ装置、基板ステージ装置が反対方向に所定量
移動することでその反力が吸収される。

【００２３】上記請求項１、３、５に記載の各発明にお
いて、請求項１４に記載の発明の如く、前記投影光学
系、前記マスクステージ装置、及び前記基板ステージ装
置の内の少なくとも１つは、加速度検出器及び速度検出
器の少なくとも一方を具備していることが望ましい。か
かる場合には、上記検出器の出力に基づいて第１、第２
及び第３の支持装置の内のその検出器が設けられた支持
対象物（前記投影光学系、マスクステージ装置及び基板
ステージ装置の少なくとも１つ）を支持する支持装置を
制御することにより、基準構造体の位置が変動してもこ
れに影響されることなく、その支持対象物を絶対座標系
上でほぼ静止させることができる。

【００２４】上記請求項１に記載の発明に係る露光装置
において、請求項１５に記載の発明の如く、前記第１及
び第２のステージ支持部材（１６、１８）の内の少なく
とも一方は、複数の加速度検出器（３２ａ〜３２ｃ）及
び速度検出器のいずれかと、所定の軸回りに回転モーメ
ントを発生する回転力発生装置（３４、３６）とを具備
し、前記複数の検出器の出力に基づいて前記回転力発生
装置を制御する制御装置（５０）を備えていても良い。
例えば、基板ステージが所定の第１軸方向に駆動される
と、その反力により第２のステージ支持部材が移動する
とともに、その駆動力及びその反力の作用点と基板ステ
ージ装置の重心点とが異なる場合には、その重心を通る
第１軸を含む直交３軸の少なくとも１軸回りの回転モー
メント（ピッチング、ローリング、ヨーイングの少なく
とも１つ）を発生させる。かかる場合に、第２のステー
ジ支持部材が加速度検出器と回転力発生装置とを具備す
る場合には、例えば、回転力発生装置の発生する回転モ
ーメントの軸を上記直交３軸のいずれかに設定しておく
ことにより、制御装置により前記複数の検出器の出力に
基づいて前記回転力発生装置を制御することにより、ス
テージの駆動に起因する基板ステージ装置のピッチン
グ、ローリング、ヨーイングの少なくとも１つをキャン
セルするような回転モーメントを発生させることが可能
になる。

【００２５】請求項１６に記載の発明は、マスク（Ｒ）
に形成されたパターンを投影光学系（ＰＬ）を介して基
板（Ｗ）上に転写する露光装置であって、設置床上に防
振装置（１２）を介して水平に保持された基準構造体
（１４）と；前記マスクを保持するマスクステージ（Ｒ
ＳＴ）と、該マスクステージを支持する第１のステージ
支持部材（１６）とを含むマスクステージ装置と；前記
基板を保持して所定方向に移動する基板ステージ（ＷＳ
Ｔ）と、該基板ステージを支持する第２のステージ支持
部材（１８）とを含む基板ステージ装置とを備え、前記
投影光学系、前記マスクステージ装置、及び前記基板ス
テージ装置の内の少なくとも投影光学系が、支持装置
（２２Ａ〜２２Ｄ、２３、５０）により前記基準構造体
に対し非接触で支持されていることを特徴とする。

【００２６】これによれば、投影光学系が支持装置によ
り基準構造体に対して非接触で支持されていることか
ら、基板ステージ、あるいはマスクステージの駆動によ
る反力等によって影響を受けることがなく、投影光学系
を絶対座標系に静止させることができる。従って、マス
クのパターンを投影光学系を介して基板上に高精度に転
写することが可能となる。

【００２７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図
１、図２に基づいて説明する。

【００２８】図１には、一実施形態の露光装置１０の構
成が概略的に示されている。この露光装置１０は、ステ
ップ・アンド・スキャン方式の縮小投影露光装置、すな
わちいわゆるスキャニング・ステッパである。

【００２９】この露光装置１０は、床面上に複数（ここ
では４つ）の防振装置としての防振マウント１２を介し
て水平に保持され、中央部に円形の開口（図示省略）を
有する基準構造体としての第１コラム１４、該第１コラ
ム１４の中央部の開口内に所定の空隙を介して挿入され
た投影光学系ＰＬ、第１コラム１４の上方に投影光学系
ＰＬを覆うように配置され所定長さでＸ方向（紙面直交
方向）に延びる第１のステージ支持部材としての第２コ
ラム１６、この第２コラム１６の上板を構成するレチク
ルステージベース１６ａ上に搭載されたマスクステージ
としてのレチクルステージＲＳＴ、第１コラム１４の下
方に配置され正面視及び側面視がともにＵ字状の第２の
ステージ支持部材としての第３コラム１８、この第３コ
ラム１８の底部を構成するウエハステージベース（定
盤）１８ａの上面に搭載された基板ステージとしてのウ
エハステージＷＳＴ等を備えている。

【００３０】前記投影光学系ＰＬの高さ方向（Ｚ方向）
の中央やや下方の位置には、左右、前後に第１磁石ユニ
ット２２Ａ、２２Ｂ、２２Ｃ、２２Ｄ（但し、図１では
紙面奥側の磁石ユニット２２Ｄは図示せず、図２参照）
がそれぞれ設けられており、これらの磁石ユニット２２
Ａ〜２２Ｄの第１コラム１４に対する磁気的吸引力によ
り、投影光学系ＰＬは第１コラム１４の下方に非接触で
支持されている（吊り下げ状態で支持されている）。

【００３１】これをさらに詳述すると、前記磁石ユニッ
ト２２Ａは、図２に示されるように、永久磁石、Ｚ駆動
コイル、Ｘ駆動コイル、Ｙ駆動コイル等を有する一種の
磁気浮上型の２次元リニアアクチュエータである。その
他の磁石ユニット２２Ｂ、２２Ｃ、２２Ｄも、磁石ユニ
ット２２Ａと同様に構成されている。これらの磁石ユニ
ット２２Ａ〜２２Ｄに対向して、第１コラム１４の底面
には、図１に示されるように、永久磁石２３が埋め込ま
れており、各磁石ユニット２２Ａ〜２２Ｄを構成する永
久磁石と永久磁石２３との間の磁気的吸引力によって、
投影光学系ＰＬの定常的な自重がほぼ支持されている。
また、磁石ユニット２２Ａ〜２２Ｄには、図１に示され
るように変位センサ（例えば静電容量型変位センサ）３
０ａ、３０ｂ、３０ｃ、３０ｄ（但し、３０ｄは図示せ
ず）が組み込まれており、これらの変位センサの出力が
後述する制御装置としての主制御装置５０に供給される
ようになっている（図２参照）。すなわち、主制御装置
５０では、これらの変位センサ３０ａ、３０ｂ、３０
ｃ、３０ｄの計測値に基づいて、磁石ユニット２２Ａ〜
２２Ｄを構成する各Ｚ駆動コイルに対する駆動電流を制
御することにより、第１コラム１４と各磁石ユニット２
２Ａ〜２２Ｄとの間の隙間寸法を所望の値に調整できる
ようになっている。

【００３２】また、主制御装置５０は、投影光学系ＰＬ
の初期位置の調整等の際に、第１磁石ユニット２２Ａ〜
２２Ｄを構成する各Ｘ駆動コイル、各Ｙ駆動コイルに対
する駆動電流を調整することにより、投影光学系ＰＬの
ＸＹ位置を微調整するようになっている。

【００３３】前記第２コラム１６には、その下端部にＹ
方向に延びる左右の延設部１６ｂ、１６ｃが設けられ、
これらの延設部１６ｂ、１６ｃの先端に、各２つ、合計
４つの第２磁石ユニット２４Ａ、２４Ｂ、２４Ｃ、２４
Ｄ（但し、図１では紙面奥側の一対の磁石ユニット２４
Ｃ、２４Ｄは図示せず、図２参照）が固定されている。
前記４つの第２磁石ユニット２４Ａ、２４Ｂ、２４Ｃ、
２４Ｄに対応して、第１コラム１４の上面には、一対の
断面Ｌ字状の磁性体部材２７Ａ、２７Ｂが設けられてい
る。そして、これらの磁性体部材２７Ａ、２７Ｂが第２
磁石ユニット２４Ａ、２４Ｂ、２４Ｃ、２４Ｄの磁気的
吸引力により吸引され、第２コラム１６は、第１コラム
１４の上面の上方に浮上支持されている。

【００３４】これを更に詳述すると、前記第２磁石ユニ
ット２４Ａ〜２４Ｄは、前述した第１磁石ユニット２２
Ａ〜２２Ｄと同様に、永久磁石、Ｚ駆動コイル、Ｘ駆動
コイル、Ｙ駆動コイル等を含んで構成されている。これ
らの磁石ユニット２４Ａ〜２４Ｄに対向する磁性体部材
２７Ａ、２７Ｂの面には、永久磁石２８Ａ、２８Ｂが設
けられており、各磁石ユニット２４Ａ〜２４Ｄを構成す
る永久磁石と永久磁石２８Ａ、２８Ｂとの間の磁気的吸
引力によって、第２コラム１６及びレチクルステージＲ
ＳＴ等から成るマスクステージ装置としてのレチクルス
テージ装置全体の定常的な自重がほぼ支持されている。
また、磁石ユニット２４Ａ〜２４Ｄには、図１に示され
るように変位センサ（例えば静電容量型変位センサ）３
０ｅ、３０ｆ、３０ｇ、３０ｈ（但し、３０ｇ、３０ｈ
は図示せず）が組み込まれており、これらの変位センサ
３０ｅ〜３０ｈの出力が後述する主制御装置５０に供給
されるようになっている。すなわち、主制御装置５０で
は、これらの変位センサ３０ｅ、３０ｆ、３０ｇ、３０
ｈの計測値に基づいて、磁石ユニット２４Ａ〜２４Ｄを
構成する各Ｚ駆動コイルに対する駆動電流を制御するこ
とにより、第１コラム１４と各磁石ユニット２４Ａ〜２
４Ｄとの間の隙間寸法を所望の値に調整できるようにな
っている。

【００３５】更に、第２コラム１６の図１における紙面
手前側の側面には、３つの加速度検出器としての加速度
センサ（例えば半導体加速度センサ）３２ａ、３２ｂ、
３２ｃが固定されている。この内、加速度センサ３２
ａ、３２ｂは、第２コラム１６に作用するＺ方向及びＹ
方向の加速度を検知するＺＹ加速度センサであり、残り
の加速度センサ３２ｃは、第２コラム１６に作用するＺ
方向及びＸ方向の加速度を検知するＺＸ加速度センサで
ある。これらの加速度センサ３２ａ、３２ｂ、３２ｃの
計測値は、後述する主制御装置５０に供給されている。
また、第２コラム１６のＸ方向両側面には、図１に示さ
れるように、モータ３４によって駆動される一対の回転
イナーシャ３６が固定されている。これらの回転イナー
シャ３６は、モータ３４によって駆動され、その回転
軸、すなわちＹ軸まわりの回転モーメント（トルク）を
発生する。本実施形態の場合、主制御装置５０は、上記
の加速度センサ３２ａ、３２ｂ、３２ｃからの合計６つ
の計測値に基づき、第２コラム１６及びレチクルステー
ジＲＳＴ等から成るレチクルステージ装置の重心まわり
の６自由度方向（Ｘ、Ｙ、Ｚ、θｘ、θｙ、θｚ）の力
に変換し、例えば、θｙ方向の力、すなわちＹ軸回りの
モーメントを相殺すべく、回転イナーシャ３６を加減速
する。

【００３６】前記レチクルステージＲＳＴは、リニアモ
ータ等から成る駆動系によってＹ方向に所定ストローク
で駆動されるレチクル走査ステージ４２と、このレチク
ル走査ステージ４２の上面で不図示の駆動系によって
Ｘ、Ｙ、θｚ方向に微少駆動されるレチクル微動ステー
ジ４４とを備えている。なお、図２においては、上記の
レチクル走査ステージ４２の駆動系とレチクル微動ステ
ージ４４の駆動系とが代表的にレチクル駆動装置４０と
して示されている。

【００３７】図１に示されるように、レチクル微動ステ
ージ４４の上面にマスクとしてのレチクルＲが不図示の
レチクルホルダを介して吸着固定されている。レチクル
微動ステージ４４のＸＹ面内の位置は、投影光学系ＰＬ
に固定された不図示の参照鏡を基準として計測装置とし
てのレチクルレーザ干渉計４６によって所定の分解能で
計測されるようになっている。また、レチクル微動ステ
ージ４４のヨーイング及びピッチング量もレチクルレー
ザ干渉計４６によって計測可能となっている。レチクル
レーザ干渉計４６の計測値は、主制御装置５０に供給さ
れている（図２参照）。

【００３８】前記第３コラム１８は、図１に示されるよ
うに、水平方向に沿って配置された略正方形板状のウエ
ハステージベース１８ａと、このウエハステージベース
１８ａの４つのコーナー部分にそれぞれ立設された４本
の支柱１８ｂ（紙面奥側の支柱は図示せず）とを備えて
いる。各支柱１８ｂの上端には、第３磁石ユニット２６
Ａ、２６Ｂ、２６Ｃ、２６Ｄ（但し、図１では紙面奥側
の一対の磁石ユニット２６Ｃ、２６Ｄは図示せず、図２
参照）が固定されている。前記４つの第３磁石ユニット
２６Ａ、２６Ｂ、２６Ｃ、２６Ｄの磁気的吸引力によ
り、第３コラム１８は、第１コラム１４の下方に非接触
かつ吊り下げ状態で支持されている。

【００３９】これを更に詳述すると、前記第３磁石ユニ
ット２６Ａ〜２６Ｄは、前述した第１磁石ユニット２２
Ａ〜２２Ｄと同様に、永久磁石、Ｚ駆動コイル、Ｘ駆動
コイル、Ｙ駆動コイル等を含んで構成されている。この
場合、各磁石ユニット２６Ａ〜２６Ｄを構成する永久磁
石と第１コラム１４底面に埋め込まれた永久磁石２３と
の間の磁気的吸引力によって、第３コラム１８及びウエ
ハステージＷＳＴ等から成る基板ステージ装置としての
ウエハステージ装置全体の定常的な自重がほぼ支持され
ている。また、磁石ユニット２６Ａ〜２６Ｄには、図１
に示されるように変位センサ（例えば静電容量型変位セ
ンサ）３０ｉ、３０ｊ、３０ｋ、３０ｌ（但し、３０
ｋ、３０ｌは図示せず）が組み込まれており、これらの
変位センサ３０ｉ、３０ｊ、３０ｋ、３０ｌの出力が主
制御装置５０に供給されるようになっている。すなわ
ち、主制御装置５０では、これらの変位センサ３０ｉ〜
３０ｌの計測値に基づいて、磁石ユニット２６Ａ〜２６
Ｄを構成する各Ｚ駆動コイルに対する駆動電流を制御す
ることにより、第１コラム１４と各磁石ユニット２６Ａ
〜２６Ｄとの間の隙間寸法を所望の値に調整できるよう
になっている。

【００４０】前記ウエハステージＷＳＴは、２次元リニ
アアクチュエータ等から成る不図示の駆動系によりウエ
ハステージベース１８ａ上をＸＹ２次元方向に駆動可能
なＸＹステージ６０と、このＸＹステージ６０上に搭載
され不図示の駆動系によりＺ方向及びＸＹ面に対する傾
斜方向に駆動可能な基板テーブル６２とを備えている。
基板テーブル６２の上面に、不図示のウエハホルダを介
して基板としてのウエハＷが吸着固定されている。な
お、図２においては、上記ＸＹステージ６０の駆動系及
び基板テーブル６２の駆動系が代表的にウエハ駆動装置
７０として図示されている。

【００４１】図１に示されるように、基板テーブル６２
のＸＹ面内の位置は、投影光学系ＰＬに固定された不図
示の参照鏡を基準として計測装置としてのウエハレーザ
干渉計６４によって所定の分解能で計測されるようにな
っている。また、基板テーブル６２のヨーイング及びピ
ッチング量もウエハレーザ干渉計６４によって計測可能
となっている。ウエハレーザ干渉計６４の計測値は、主
制御装置５０に供給されている（図２参照）。

【００４２】更に、本実施形態では、投影光学系ＰＬの
下部の側面に固定された送光系６６ａと受光系６６ｂと
から成る多点焦点位置検出系から成るフォーカスセンサ
によって、ウエハＷ面の複数の検出点におけるＺ方向位
置が計測されるようになっている。このフォーカスセン
サ（６６ａ、６６ｂ）の計測値も主制御装置５０に供給
されるようになっている。

【００４３】このように、本実施形態では、ウエハＷの
６自由度方向の位置、姿勢変化が、投影光学系ＰＬを基
準として計測されるようになっており、主制御装置５０
ではウエハレーザ干渉計４６、及びフォーカスセンサの
計測値に基づいてウエハ駆動装置７０を介してウエハＷ
の６自由度方向の位置姿勢を制御する。

【００４４】図２には、これまでに説明した本実施形態
の露光装置１０の制御系の概略構成が示されている。こ
の図２の制御系は、マイクロコンピュータ又はワークス
テーションから成る主制御装置５０を中心として構成さ
れ、該主制御装置５０の入力側装置としては干渉計６
４、４６、変位センサ群３０ａ〜３０ｌ、加速度センサ
群３２ａ〜３２ｃが接続され、また、出力側装置として
はレチクル駆動装置４０、ウエハ駆動装置７０、及び磁
石ユニット群２２Ａ〜２６Ｄ等が接続されている。な
お、この図２においては、回転イナーシャ３６を駆動す
るモータ３４等は図示が省略されている。

【００４５】上述のようにして構成された露光装置１０
では、主制御装置５０により、ウエハ駆動装置７０を介
してウエハＷ上の各ショット領域を当該ショット領域の
露光のための走査開始位置に移動させるステッピングさ
せる動作と、露光用照明光ＥＬによりレチクルＲ上の所
定の照明領域を照明した状態で、レチクル駆動装置４０
及びウエハ駆動装置７０を用いてレチクルステージＲＳ
ＴとウエハステージＷＳＴを１次元方向（Ｙ方向）に投
影光学系ＰＬの投影倍率（例えば１／４又は１／５）に
応じた速度比で相互に逆向きに同期移動しつつ、各ショ
ット領域に対するレチクルパターンの転写を行う走査露
光動作と、が繰り返し行われ、レチクルＲのパターンが
ウエハＷ上の各ショット領域に順次転写される。すなわ
ち、本実施形態においては、レチクル駆動装置４０、ウ
エハ駆動装置７０及び主制装置５０によって同期駆動装
置が構成され、この同期駆動装置により露光時のレチク
ルＲとウエハＷとの同期移動が行われるようになってい
る。

【００４６】上記の走査露光に際しては、レチクルステ
ージＲＳＴとウエハステージＷＳＴとがＹ方向に同期移
動され、その加減速時に第２コラム１６、第３コラム１
８には各ステージ駆動推力による反力がそれぞれ作用す
るが、これらの反力により、第２コラム１６（すなわち
レチクルステージ装置）、第３コラム１８（すなわちウ
エハステージ装置）が反対方向に所定量移動する（この
とき、各磁石ユニットのＸ駆動コイル、Ｙ駆動コイルの
駆動電流は零である）ことでその力が吸収される。

【００４７】但し、レチクルステージＲＳＴの駆動点
（駆動推力の作用点）及びその反力の作用点とレチクル
ステージ装置の重心点とは必ずしも一致しているとは限
らない。この場合、レチクルステージＲＳＴの駆動によ
り、第２コラム１６を含むレチクルステージ装置の重心
を通るＸ軸回りのモーメントが生じるが、次のような理
由により、このＸ軸回りのモーメントは非常に小さく
（殆ど零）、レチクルステージ装置はその影響は殆ど受
けない。

【００４８】すなわち、レチクルステージ装置の重心
は、レチクルステージ駆動点及びその反力の作用点より
下方に位置しているので、レチクルステージ装置の重心
を通るＸ軸回りのモーメントは、レチクルステージＲＳ
Ｔの駆動力によるモーメントと、その反力によるモーメ
ントとが互いに逆向きであり、相互に打ち消すように作
用するからである。

【００４９】ウエハステージ装置側の重心もまたウエハ
ステージ駆動点及びその反力の作用点より下方に位置さ
せることは容易なので、上記と同様の理由によりウエハ
ステージ装置は、該ウエハステージ装置の重心を通るＸ
軸回りのモーメントの影響を殆ど受けない。

【００５０】また、レチクルステージ装置、ウエハステ
ージ装置、第１コラム、投影光学系ＰＬ等の全体を含む
系の重心を通るＸ軸回りのモーメントを考えても、各ス
テージの駆動力によって系の重心回りに作用するモーメ
ントと、その駆動力の反力によって系の重心回りに作用
するモーメントとは向きが反対であり、大きさは殆ど同
じであるから、両者が互いに打ち消し合うように働くの
で、系全体としてもＸ軸回りの回転モーメントは殆ど問
題とならない。

【００５１】なお、レチクルステージ装置の重心からレ
チクルステージの駆動点までの距離はその反力の作用点
より僅かに大きく、ウエハステージ装置の重心からウエ
ハステージの駆動点までの距離はその反力の作用点より
僅かに大きいと考えれ、かつレチクルステージとウエハ
ステージとの駆動方向が逆向きであるので、結果的に、
レチクルステージ装置の発生推力によるモーメントとウ
エハステージ装置の発生推力によるモーメントとが相殺
されるような位置関係に両ステージ装置が設定されてい
るとも言える。

【００５２】また、本実施形態では、レチクルステージ
ＲＳＴの駆動により、第２コラム１６を含むレチクルス
テージ装置には、重心を通るＺ軸回りのモーメント、Ｙ
軸回りのモーメントも生じ得る。レチクルステージＲＳ
Ｔは、第２コラム１６のＸ軸方向のほぼ中央部で移動す
るので、上記のＺ軸回りのモーメントは殆ど零であると
言える。

【００５３】そこで、問題になるのが、上記のＹ軸回り
のモーメントであるが、本実施形態では、このＹ軸回り
のモーメントを次のようにしてキャンセルしている。

【００５４】すなわち、主制御装置５０では、第２コラ
ム１６に固定された加速度センサ３２ａ〜３２ｃからの
６つの計測値に基づいてレチクルステージ装置の重心回
りの６自由度方向の力を求め、その内のθｙ方向の力
（すなわちＹ軸回りのモーメント）を相殺するように、
モータ３４を介して回転イナーシャ３６による発生トル
クを制御している。このように本実施形態では、回転イ
ナーシャ３６とこれを回転駆動するモータ３４とによっ
て、回転力発生装置が構成されている。

【００５５】以上より、レチクルステージ装置、従って
これを構成する第２コラム１６は、レチクルステージＲ
ＳＴの駆動反力の影響を受けないのみならず、いずれの
方向の回転モーメントの影響をも殆ど受けないので、歪
みも殆ど生じない。

【００５６】上記の如く、ウエハステージＷＳＴの駆動
点及びその反力の作用点とウエハステージ装置の重心と
は必ずしも一致しているとは限らないので、その重心を
通るＺ軸、Ｙ軸回りの回転モーメントも生じ得る。そこ
で、ウエハステージ装置を構成する第３コラム１８に
も、レチクルステージ側と同様に、加速度センサ及び速
度センサの少なくともいずれかと、回転イナーシャ及び
モータとから成る回転力発生装置とを設けることが望ま
しい。この場合、レチクルステージ側と異なり、ウエハ
ステージＷＳＴは２次元方向に自在に移動するので、Ｙ
軸回りの回転モーメント発生用（キャンセル用）のみな
らず、Ｚ軸回りの回転モーメント（キャンセル用）の回
転力発生装置をも設けた方が良い。Ｙ軸回りの回転モー
メントを発生する回転イナーシャの回転軸の向きはＹ軸
となり、Ｚ軸回りの回転モーメントを発生する回転イナ
ーシャの回転軸の向きはＺ軸となるように、各回転イナ
ーシャの回転軸を設定すれば良い。

【００５７】勿論、第２コラム、第３のコラムの少なく
とも一方に、Ｘ軸回りの回転モーメントを発生する回転
イナーシャを設けても構わない。

【００５８】以上のように、本実施形態によると、スキ
ャン露光時には、第１コラム１４や床面には殆ど力が伝
わらない。これにより、ステージの駆動により生ずる反
力によって露光精度が悪化することが確実に防止され
る。また、この場合、レチクルステージ装置、ウエハス
テージ装置ともに運動量保存則が成立し、レチクルステ
ージ装置、ウエハステージ装置ともに重心の移動は生じ
ない。従って、露光装置全体の重心も変動しない。ま
た、この場合、投影光学系ＰＬには、殆ど力が作用しな
いので、絶対座標系に対して、略静止状態にすることが
できる。

【００５９】また、本実施形態によると、上記の効果に
加え、レチクルステージＲＳＴ（すなわちレチクル
Ｒ）、及びウエハステージＷＳＴ（すなわちウエハＷ）
のＸＹ面内の位置が、レーザ干渉計４６、６４によって
投影光学系ＰＬを基準に計測されるので、レチクルステ
ージＲＳＴ、ウエハステージＷＳＴと投影光学系ＰＬと
の相対位置関係を常に所望の位置関係に設定することが
出来、高精度なステッピング、あるいは走査露光が可能
となる。従って、より高集積化した半導体素子を製造可
能となる。

【００６０】また、本実施形態によると、第１コラム１
４が、床面からの振動の伝達を阻止あるいは抑制する防
振マウント１２を介して床上に支持されているので、床
面からの振動を例えばマイクロＧレベルで阻止すること
ができ、その振動の影響も殆ど受けることがない。

【００６１】また、本実施形態では、第３磁石ユニット
２６Ａ〜２６Ｄを構成する各Ｘ駆動コイル及び各Ｙ駆動
コイルと、永久磁石２３とによって第３コラム１８及び
ウエハステージＷＳＴ等から成るウエハステージ装置を
水平方向に駆動する第１の水平方向駆動用アクチュエー
タが構成されている。このため、ウエハステージＷＳＴ
の駆動反力によりウエハステージ装置が移動し、基準位
置から所定量以上移動した際に、上記第１の水平方向駆
動用アクチュエータにより、基準位置に戻したり、装置
の初期調整の際に基準位置に位置決めしたりすることが
できる。

【００６２】同様に、第２磁石ユニット２４Ａ〜２４Ｄ
を構成する各Ｘ駆動コイル及びＹ駆動コイルと、永久磁
石２８Ａ、２８Ｂとによって第２コラム１６及びレチク
ルステージＲＳＴ等から成るレチクルステージ装置を水
平方向に駆動する第２の水平方向駆動用アクチュエータ
が構成されている。このため、レチクルステージＲＳＴ
の駆動反力によりレチクルステージ装置が移動し、基準
位置から所定量以上移動した際に、上記第２の水平方向
駆動用アクチュエータにより、基準位置に戻したり、装
置の初期調整の際に基準位置に位置決めしたりすること
ができる。

【００６３】また、第１磁石ユニット２２Ａ〜２２Ｄを
構成する各Ｘ駆動コイル及びＹ駆動コイルと、永久磁石
２３とによって投影光学系ＰＬを水平方向に駆動する第
３の水平方向駆動用アクチュエータが構成されている。
このため、装置の初期調整の際に上記第３の水平方向駆
動用アクチュエータによって投影光学系ＰＬを基準位置
に位置決めすることができる。

【００６４】また、これまでの説明から明らかなよう
に、本実施形態においては、磁力により投影光学系（支
持対象物）を第１コラム１４（基準構造体）に対して非
接触で支持する第１磁石ユニット２２Ａ〜２２Ｄを構成
する各Ｚ駆動コイルと、永久磁石２３と、投影光学系Ｐ
Ｌと第１コラム１４との位置関係が所定の位置関係とな
るように第１磁石ユニット（の各Ｚ駆動コイル）を制御
する主制御装置５０とによって、第１の支持装置が構成
されている。また、磁力によりレチクルステージ装置
（支持対象物）を第１コラム１４（基準構造体）に対し
て非接触で支持する第２磁石ユニット２４Ａ〜２４Ｄを
構成する各Ｚ駆動コイルと、永久磁石２８Ａ，２８Ｂ
と、レチクルステージ装置と第１コラム１４との位置関
係が所定の位置関係となるように第２磁石ユニット（の
各Ｚ駆動コイル）を制御する主制御装置５０とによっ
て、第２の支持装置が構成されている。また、磁力によ
りウエハステージ装置（支持対象物）を第１コラム１４
（基準構造体）に対して非接触で支持する第３磁石ユニ
ット２６Ａ〜２６Ｄを構成する各Ｚ駆動コイルと、永久
磁石２３と、ウエハステージ装置と第１コラム１４との
位置関係が所定の位置関係となるように第３磁石ユニッ
ト（の各Ｚ駆動コイル）を制御する主制御装置５０とに
よって、第３の支持装置が構成されている。従って、主
制御装置５０により、各支持対象物と第１コラム１４と
を所望の位置関係に保つことができる。

【００６５】なお、上記実施形態では、主制御装置５０
が変位センサ３０ａ〜３０ｌの計測値に基づいて、第
１、第２、第３磁石ユニットを制御することにより、投
影光学系、レチクルステージ装置、ウエハステージ装置
と、第１コラムとの間の距離を一定値に制御する場合に
ついて説明したが、本発明がこれに限定されるものでは
ない。すなわち、上記の場合には、何らかの要因により
第１コラム１４の位置が上下に変動した場合、これに追
従して支持対象物である、投影光学系、レチクルステー
ジ装置、ウエハステージ装置の位置も変動する。この場
合、各構成部材相互の位置関係は維持されるが、各構成
部材は絶対座標系に対しては変動している。しかし、例
えば投影光学系ＰＬ等に加速度検出器（又は速度検出
器）を設ければ、この加速度検出器等に基づいて第１の
支持装置を制御することにより、仮に第１コラム１４の
位置が変動してもこれに影響されることなく、投影光学
系を絶対座標系上でほぼ静止させるような制御も可能で
ある。レチクルステージ装置、及びウエハステージ装置
についても同様である。すなわち、例えば、加速度セン
サ３２ａ〜３２ｃの計測値に基づいてレチクルステージ
装置の重心回りの６自由度方向の力を求め、これに基づ
いてレチクルステージ装置の位置・姿勢を正確に静止座
標系上で静止させることも可能である。

【００６６】なお、第１、第２及び第３の支持装置は、
上記実施形態の構成に限定されることはなく、例えば基
準構造体（第１コラム１４）に対して支持対象物（投影
光学系、レチクルステージ装置、ウエハステージ装置の
いずれか）との間に加圧気体を噴出してその加圧気体の
静圧により基準構造体を浮上支持する気体静圧軸受け
と、該気体静圧軸受けを介して前記静圧を制御する軸受
け制御装置（コンピュータ等）とを含んでいても良い。
かかる場合には、軸受け制御装置により、気体静圧軸受
けを介して第１コラム１４と支持対象物との間の空隙
（軸受け隙間）内の静圧（すきま内圧力）を制御できる
ので、例えば一定値制御を行うことにより、第１コラム
１４と支持対象物との相対位置関係を所望の位置関係に
維持することができる。

【００６７】また、上記実施形態において、ウエハステ
ージＷＳＴの駆動点とウエハステージ装置の重心とを略
一致させても良い。かかる場合には、ウエハステージＷ
ＳＴの駆動反力によって、第３コラム１８はウエハステ
ージＷＳＴと反対方向に移動するが、モーメントは生じ
ないので、より高速なウエハステージＷＳＴの駆動が可
能になる。レチクルステージＲＳＴについても同様であ
る。

【００６８】なお、上記実施形態では、本発明がスキャ
ニング・ステッパに適用された場合について説明した
が、これに限らず、本発明はいわゆるステッパ等の静止
露光型の露光装置にも好適に適用できるものである。

【００６９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ステージの駆動時の反力に起因する悪影響を防止して高
精度な露光を実現することができるという従来にない優
れた効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】一実施形態の露光装置の構成を概略的に示す図
である。

【図２】図１の装置の制御系の主要部を示すブロック図
である。

【図３】従来例を示す説明図である。

【符号の説明】

１０…露光装置、１２…防振マウント（防振装置）、１
４…第１コラム（基準構造体）、１６…第２コラム（第
１のステージ支持部材、マスクステージ装置の一部）、
１８…第３コラム（第２のステージ支持部材、基板ステ
ージ装置の一部）、２２Ａ〜２２Ｄ…第１磁石ユニット
（第１の支持装置の一部、第３の水平方向駆動用アクチ
ュエータの一部）、２３…永久磁石（第１の水平方向駆
動用アクチュエータの一部、第３の水平方向駆動用アク
チュエータの一部）、２４Ａ〜２４Ｄ…第２磁石ユニッ
ト（第２の支持装置の一部、第２の水平方向駆動用アク
チュエータの一部）、２６Ａ〜２６Ｄ…第３磁石ユニッ
ト（第３の支持装置の一部、第１の水平方向駆動用アク
チュエータの一部）、２８Ａ，２８Ｂ…永久磁石（第２
の水平方向駆動用アクチュエータの一部）、３０ａ〜３
０ｌ…変位センサ、４０…レチクル駆動装置（同期駆動
装置の一部）、４６…レチクルレーザ干渉計（計測装
置）、５０…主制御装置（制御装置、同期駆動装置の一
部）、６４…ウエハレーザ干渉計（計測装置）、７０…
ウエハ駆動装置（同期駆動装置の一部）、Ｗ…ウエハ
（基板）、Ｒ…レチクル（マスク）、ＰＬ…投影光学系
（支持対象物）、ＲＳＴ…レチクルステージ（マスクス
テージ、マスクステージ装置の一部）、ＷＳＴ…ウエハ
ステージ（基板ステージ、基板ステージ装置の一部）

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】マスクに形成されたパターンを投影光学
系を介して基板上に転写する露光装置であって、基準構造体と；前記基準構造体に対し前記投影光学系を
非接触で支持する第１の支持装置と；前記マスクを保持
するマスクステージと、該マスクステージを支持する第
１のステージ支持部材とを含むマスクステージ装置と；
前記基板を保持して所定方向に移動する基板ステージ
と、該基板ステージを支持する第２のステージ支持部材
とを含む基板ステージ装置と；前記マスクステージ装置
を前記基準構造体に対し非接触で支持する第２の支持装
置と；前記基板ステージ装置を前記基準構造体に対し非
接触で支持する第３の支持装置とを備える露光装置。
【請求項２】前記基準構造体は、防振装置を介して設
置床上に支持されていることを特徴とする請求項１に記
載の露光装置。
【請求項３】前記第１の支持装置、前記第２の支持装
置及び前記第３の支持装置の少なくとも１つは、磁力に
より支持対象物を前記基準構造体に対して非接触で支持
する電磁石を含む磁石ユニットと、前記支持対象物と前
記基準構造体の位置関係が所定の位置関係となるように
前記磁石ユニットを制御する制御装置とを含むことを特
徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項４】前記基準構造体と前記支持対象物との相
対変位を計測する変位センサを更に備え、前記制御装置は、前記変位センサの出力に基づいて前記
磁石ユニットを制御することを特徴とする請求項３に記
載の露光装置。
【請求項５】前記第１の支持装置、第２の支持装置及
び前記第３の支持装置の少なくとも１つは、前記基準構
造体と前記支持対象物との間に加圧気体を噴出してその
加圧気体の静圧により前記基準構造体を浮上支持する気
体静圧軸受けと、該気体静圧軸受けを介して前記静圧を
制御する軸受け制御装置とを含むことを特徴とする請求
項１又は２に記載の露光装置。
【請求項６】前記マスクステージ及び前記基板ステー
ジの少なとも一方の水平面内の位置を、前記投影光学系
を基準に計測する計測装置を更に備えることを特徴とす
る請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項７】前記基板ステージ装置を水平方向に駆動
する第１の水平方向駆動用アクチュエータを更に備える
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項８】前記マスクステージ装置を水平方向に駆
動する第２の水平方向駆動用アクチュエータを更に備え
ることを特徴とする請求項１、２、７のいずれか一項に
記載の露光装置。
【請求項９】前記投影光学系を水平方向に駆動する第
３の水平方向駆動用アクチュエータを更に備えることを
特徴とする請求項１、２、７、８のいずれか一項に記載
の露光装置。
【請求項１０】前記基板ステージの駆動点が前記基板
ステージ装置の重心と略一致した位置に設定されている
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項１１】前記マスクステージは、前記第１の支
持部材上で前記基板ステージの移動方向の内の１つの方
向と同一方向に移動可能であり、その駆動点が前記基板
ステージ装置の重心と略一致した位置に設定されている
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項１２】前記マスクステージ装置の発生推力に
よるモーメントと前記基板ステージ装置の発生推力によ
るモーメントとが相殺されるような位置関係に前記両ス
テージ装置が設定されていることを特徴とする請求項１
又は２に記載の露光装置。
【請求項１３】前記基板ステージと前記マスクステー
ジとを同期して所定の走査方向に駆動する同期駆動装置
を更に備えることを特徴とする請求項１、２、１２のい
ずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１４】前記投影光学系、前記マスクステージ
装置、及び前記基板ステージ装置の内の少なくとも１つ
は、加速度検出器及び速度検出器の少なくとも一方を具
備することを特徴とする請求項１、３、５のいずれか一
項に記載の露光装置。
【請求項１５】前記第１のステージ支持部材及び前記
第２のステージ支持部材の内の少なくとも一方は、複数
の加速度検出器及び速度検出器の少なくともいずれか
と、所定の軸回りに回転モーメントを発生する回転力発
生装置とを具備し、前記複数の検出器の出力に基づいて前記回転力発生装置
を制御する制御装置を備えたことを特徴とする請求項１
に記載の露光装置。
【請求項１６】マスクに形成されたパターンを投影光
学系を介して基板上に転写する露光装置であって、設置床上に防振装置を介して水平に保持された基準構造
体と；前記マスクを保持するマスクステージと、該マス
クステージを支持する第１のステージ支持部材とを含む
マスクステージ装置と；前記基板を保持して所定方向に
移動する基板ステージと、該基板ステージを支持する第
２のステージ支持部材とを含む基板ステージ装置とを備
え、前記投影光学系、前記マスクステージ装置、及び前記基
板ステージ装置の内の少なくとも投影光学系が、支持装
置により前記基準構造体に対し非接触で支持されている
ことを特徴とする露光装置。