JP4574198B2 - 露光装置、その調整方法及びデバイス製造方法 - Google Patents
露光装置、その調整方法及びデバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4574198B2 JP4574198B2 JP2004077044A JP2004077044A JP4574198B2 JP 4574198 B2 JP4574198 B2 JP 4574198B2 JP 2004077044 A JP2004077044 A JP 2004077044A JP 2004077044 A JP2004077044 A JP 2004077044A JP 4574198 B2 JP4574198 B2 JP 4574198B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- value
- amount
- optical system
- aberration
- optical element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70591—Testing optical components
- G03F7/706—Aberration measurement
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0025—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
- G02B27/0068—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration having means for controlling the degree of correction, e.g. using phase modulators, movable elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/003—Alignment of optical elements
- G02B7/005—Motorised alignment
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70258—Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
前記潜像パターンを現像する工程とを含む。
i=1,…,N 数式(2)
j=1,…,J 数式(3)
k=1,…,K 数式(4)
ブロック106は、ブロック105で得た評価量のうち、Zernike係数の1次関数で表されたもの(これを1次評価量と呼ぶことにする)を得る。ブロック107は、ブロック105で得た評価量のうち2次関数で表した波面収差RMS平方(これを2次評価量と呼ぶことにする)を得る。
Yi: i番目の収差の許容値
yih:像高hにおけるi番目の収差の評価量
y0ih:像高hにおけるi番目の収差の評価量初期値
zjh:像高hにおけるj番目のZernike係数
z0jh:像高hにおけるj番目のZernike係数初期値
xk:k番目の調整量
aij:i番目の収差に対するZernike係数zjhの影響度
bjhk:Zernike係数zjhに対する各部調整量xkの影響度
cihk:像性能評価量yihに対する各部調整量xkの影響度
ブロック108は、1次評価量に特許文献2(特開2002-367886号公報)で提案されたダミー変数を用いた線形計画法を適用して、1次評価量のみ最小化する。ここで、ブロック109では、1次評価量の上限値であるダミー変数tを最小化する。
RMS2:波面収差RMS平方の許容値
rms2:波面収差RMSの2次評価量
αjh: rms2に対する像高hでのZernike係数zjhの影響度
ところで、2次評価量は,ダミー変数tよりも大きくないとは限らないので、別途、2次評価量も含めた収差の最小化が必要になる。
wh:重み
d:緩和量
なお、H=1、つまり最小化すべき波面収差RMSが1つのときは、緩和量dだけを探索することになるので、その探索は容易である。逆に、Hが大きい場合は探索に時間を費やす可能性が高くなる。
ブロック108は、数式(21)〜数式(28)に従って、ダミー変数tを用いた線型計画法を実施する。
以下、ダミー変数を用いた線型計画法について説明する。数式(29)は、調整前の誤差ei、調整後の誤差ei'、調整感度aij、調整量xjの関係を示す。
xj=xj’−xj” 数式(32)
また、実際は制御量が一定の範囲内であることが要求される場合があるが、この条件は数式(31)に示される条件式で表現することができる。
定式化された問題には、必ず解が存在するため、かかる計算方法によれば、誤差の最大絶対値を厳密に最小化する制御変数xj を求めることができる。また、本実施形態が対象とする露光装置では、制御変数の数は多くなく、通常の線形計画問題ソルバーでさえ、短時間で計算が終了する。従って、リアルタイムに調整する場合は、安定した高いスループットを維持できる点で有効である。
Claims (6)
- 可動の光学要素を含む投影光学系を有し、前記光学系を通して基板にパターンを投影する露光装置であって、
前記光学要素を駆動する駆動機構と、
前記駆動機構による前記光学要素の調整量の1次関数で表現された前記光学系の収差を当該収差の許容値としての第1許容値で正規化した1次評価量と、前記調整量の2次関数で表現された前記光学系の波面収差のRMSの平方を当該平方の許容値としての第2許容値で正規化した2次評価量とを得る第1ブロックと、
前記1次評価量の上限値を表す変数としてのダミー変数を用い、線形計画法によって前記ダミー変数の最小値を得る第2ブロックと、
前記1次評価量の上限値が前記第2ブロックで得られた前記ダミー変数の最小値に緩和量を加えた値であるとの制約条件下で前記2次評価量が最小化されるように、2次計画法によって前記調整量を得る第3ブロックと、
を備え、
前記第3ブロックは、前記加えた値と前記加えた値を用いて得られた前記2次評価量とに基づいて前記緩和量を調整することにより、前記2次評価量を最小化し、
前記駆動機構は、前記第3ブロックにより得られた調整量にしたがって前記光学要素を駆動する、
ことを特徴とする露光装置。 - 可動の光学要素を含む投影光学系を有し、前記光学系を通して基板にパターンを投影する露光装置であって、
前記光学要素を駆動する駆動機構と、
前記駆動機構による前記光学要素の調整量の1次関数で表現された前記光学系の収差を当該収差の許容値としての第1許容値で正規化した1次評価量を得る第1ブロックと、
前記光学系の波面収差のZernike係数の絶対値の上限を表す変数としての第1ダミー変数を用い、前記波面収差のRMSの許容値としての第2許容値で正規化した前記波面収差の当該RMSを前記第1ダミー変数の1次関数で近似した1次評価量を得る第2ブロックと、
前記第1ブロック及び前記第2ブロックでそれぞれ得られた1次評価量の上限を表す変数としての第2ダミー変数を用い、前記第2ダミー変数が最小化されるように線形計画法によって前記調整量を得る第3ブロックと、
を備え、
前記駆動機構は、前記第3ブロックにより得られた調整量にしたがって前記光学要素を駆動する、
ことを特徴とする露光装置。 - 可動の光学要素を含む投影光学系と、前記光学要素を駆動する駆動機構とを備え、前記光学系を通して基板にパターンを投影する露光装置の調整方法であって、
前記駆動機構による前記光学要素の調整量の1次関数で表現された前記光学系の収差を当該収差の許容値としての第1許容値で正規化した1次評価量と、前記調整量の2次関数で表現された前記光学系の波面収差のRMSの平方を当該平方の許容値としての第2許容値で正規化した2次評価量とを得る第1工程と、
前記1次評価量の上限値を表す変数としてのダミー変数を用い、線形計画法によって前記ダミー変数の最小値を得る第2工程と、
前記1次評価量の上限値が前記第2工程で得られた前記ダミー変数の最小値に緩和量を加えた値であるとの制約条件下で前記2次評価量が最小化されるように、2次計画法によって前記調整量を得る第3工程と、
前記第3工程で得られた調整量にしたがって前記駆動機構により前記光学要素を駆動する第4工程と、
を有し、
前記第3工程では、前記加えた値と前記加えた値を用いて得られた前記2次評価量とに基づいて前記緩和量を調整することにより、前記2次評価量を最小化する、
ことを特徴とする調整方法。 - 可動の光学要素を含む投影光学系と、前記光学要素を駆動する駆動機構とを備え、前記光学系を通して基板にパターンを投影する露光装置の調整方法であって、
前記駆動機構による前記光学要素の調整量の1次関数で表現された前記光学系の収差を当該収差の許容値としての第1許容値で正規化した1次評価量を得る第1工程と、
前記光学系の波面収差のZernike係数の絶対値の上限を表す変数としての第1ダミー変数を用い、前記波面収差のRMSの許容値としての第2許容値で正規化した前記波面収差の当該RMSを前記第1ダミー変数の1次関数で近似した1次評価量を得る第2工程と、
前記第1工程及び前記第2工程でそれぞれ得られた1次評価量の上限を表す変数としての第2ダミー変数を用い、前記第2ダミー変数が最小化されるように線形計画法によって前記調整量を得る第3工程と、
前記第3工程で得られた調整量にしたがって前記駆動機構により前記光学要素を駆動する第4工程と、
を有することを特徴とする調整方法。 - デバイス製造方法であって、
感光剤が塗布された基板の前記感光剤に請求項1又は請求項2に記載の露光装置によって潜像パターンを形成する工程と、
前記潜像パターンを現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。 - デバイス製造方法であって、
露光装置を請求項3又は請求項4に記載の調整方法にしたがって調整する工程と、
感光剤が塗布された基板の前記感光剤に前記露光装置によって潜像パターンを形成する工程と、
前記潜像パターンを現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004077044A JP4574198B2 (ja) | 2004-03-17 | 2004-03-17 | 露光装置、その調整方法及びデバイス製造方法 |
US11/080,407 US7230692B2 (en) | 2004-03-17 | 2005-03-16 | Optical apparatus, method of determining position of optical element in optical system, and device manufacturing method |
US11/627,125 US7301615B2 (en) | 2004-03-17 | 2007-01-25 | Optical apparatus, method of determining position of optical element in optical system, and device manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004077044A JP4574198B2 (ja) | 2004-03-17 | 2004-03-17 | 露光装置、その調整方法及びデバイス製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005268451A JP2005268451A (ja) | 2005-09-29 |
JP2005268451A5 JP2005268451A5 (ja) | 2007-05-10 |
JP4574198B2 true JP4574198B2 (ja) | 2010-11-04 |
Family
ID=34985874
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004077044A Expired - Fee Related JP4574198B2 (ja) | 2004-03-17 | 2004-03-17 | 露光装置、その調整方法及びデバイス製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7230692B2 (ja) |
JP (1) | JP4574198B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4789194B2 (ja) * | 2006-05-01 | 2011-10-12 | 国立大学法人東京農工大学 | 露光装置および方法ならびにデバイス製造方法 |
JP5105474B2 (ja) * | 2007-10-19 | 2012-12-26 | 国立大学法人東京農工大学 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
US7991713B2 (en) | 2007-11-07 | 2011-08-02 | Trifon Triantafillidis | Method for solving minimax and linear programming problems |
DE102008042356A1 (de) | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsbelichtungsanlage mit optimierter Justagemöglichkeit |
JP2010278034A (ja) | 2009-05-26 | 2010-12-09 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP5418768B2 (ja) * | 2009-06-26 | 2014-02-19 | キヤノン株式会社 | 露光装置、調整方法及びデバイスの製造方法 |
JP5969848B2 (ja) | 2012-07-19 | 2016-08-17 | キヤノン株式会社 | 露光装置、調整対象の調整量を求める方法、プログラム及びデバイスの製造方法 |
US9671673B2 (en) * | 2014-11-17 | 2017-06-06 | Singapore University Of Technology And Design | Optical device for dispersion compensation |
CN111492316B (zh) | 2017-12-19 | 2024-06-28 | Asml荷兰有限公司 | 光刻方法和设备 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000121491A (ja) * | 1998-10-20 | 2000-04-28 | Nikon Corp | 光学系の評価方法 |
JP2000182952A (ja) * | 1998-10-06 | 2000-06-30 | Canon Inc | 投影露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2002324752A (ja) * | 2001-02-13 | 2002-11-08 | Nikon Corp | 投影光学系の製造方法及び調整方法、露光装置及びその製造方法、デバイス製造方法、並びにコンピュータシステム |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1022190A (ja) * | 1996-06-28 | 1998-01-23 | Nikon Corp | 露光装置における位置合わせ誤差補正方法および該方法を用いた露光装置 |
US6330052B1 (en) * | 1997-06-13 | 2001-12-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and its control method, stage apparatus, and device manufacturing method |
JP3673633B2 (ja) | 1997-12-16 | 2005-07-20 | キヤノン株式会社 | 投影光学系の組立調整方法 |
US6924937B2 (en) * | 1998-11-16 | 2005-08-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Aberration correcting optical system |
US6924884B2 (en) * | 1999-03-08 | 2005-08-02 | Asml Netherlands B.V. | Off-axis leveling in lithographic projection apparatus |
JP4689081B2 (ja) | 2001-06-06 | 2011-05-25 | キヤノン株式会社 | 露光装置、調整方法、およびデバイス製造方法 |
-
2004
- 2004-03-17 JP JP2004077044A patent/JP4574198B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-03-16 US US11/080,407 patent/US7230692B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-01-25 US US11/627,125 patent/US7301615B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000182952A (ja) * | 1998-10-06 | 2000-06-30 | Canon Inc | 投影露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2000121491A (ja) * | 1998-10-20 | 2000-04-28 | Nikon Corp | 光学系の評価方法 |
JP2002324752A (ja) * | 2001-02-13 | 2002-11-08 | Nikon Corp | 投影光学系の製造方法及び調整方法、露光装置及びその製造方法、デバイス製造方法、並びにコンピュータシステム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20050206880A1 (en) | 2005-09-22 |
JP2005268451A (ja) | 2005-09-29 |
US7301615B2 (en) | 2007-11-27 |
US7230692B2 (en) | 2007-06-12 |
US20070115458A1 (en) | 2007-05-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7301615B2 (en) | Optical apparatus, method of determining position of optical element in optical system, and device manufacturing method | |
US7546178B2 (en) | Aligner evaluation system, aligner evaluation method, a computer program product, and a method for manufacturing a semiconductor device | |
JP5105474B2 (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
US8572518B2 (en) | Predicting pattern critical dimensions in a lithographic exposure process | |
KR102087310B1 (ko) | 패터닝 프로세스 오차를 정정하기 위한 방법 및 장치 | |
CN109634068B (zh) | 离焦低敏感度、工艺窗口增强的光源-掩模批量优化方法 | |
US20230273529A1 (en) | Method for adjusting a patterning process | |
US8634061B2 (en) | Exposure apparatus and device manufacturing method | |
JP4789194B2 (ja) | 露光装置および方法ならびにデバイス製造方法 | |
KR20000028881A (ko) | 투영노광장치 및 디바이스의 제조방법 | |
US9310695B2 (en) | Exposure apparatus, method of obtaining amount of regulation of object to be regulated, program, and method of manufacturing article | |
US20060132757A1 (en) | System for measuring aberration, method for measuring aberration and method for manufacturing a semiconductor device | |
WO2015182788A1 (ja) | リソグラフィシステム、シミュレーション装置、及びパターン形成方法 | |
JP3347692B2 (ja) | 光学特性調整方法及びデバイス製造方法 | |
JP2006084787A (ja) | 結像光学系の評価方法、結像光学系の調整方法、露光装置および露光方法 | |
JP7213757B2 (ja) | 露光装置、および物品製造方法 | |
JP2005012190A (ja) | 結像光学系の評価方法、結像光学系の調整方法、露光装置および露光方法 | |
US20240192609A1 (en) | Opc modeling method | |
EP3944020A1 (en) | Method for adjusting a patterning process | |
JP5418768B2 (ja) | 露光装置、調整方法及びデバイスの製造方法 | |
JP2023533027A (ja) | 人工ニューラルネットワークを使用する動き制御 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070319 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070319 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091023 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091030 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091225 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100806 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100818 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130827 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |