JP4556784B2 - 圧力センサ - Google Patents

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Description

本発明は、半導体ダイアフラム式のセンサチップに圧力導入孔を有する台座を接合してなる圧力センサに関し、特に、圧力導入孔が保護用のゲル部材により封止されてなる圧力センサに関する。
従来より、この種の圧力センサとしては、たとえば、特許文献1、特許文献2、特許文献3、特許文献4などに記載のものが提案されている。
このものは、裏面に凹部が形成されこの凹部に対応した表面側の薄肉部がダイアフラムとして構成されるとともに、表面にピエゾ抵抗を有する半導体ダイアフラム式のセンサチップと、このセンサチップの裏面に接合され凹部からダイアフラムへ通じる貫通穴を有するガラスなどからなる台座とを備えている。
ここで、半導体ダイアフラム式センサチップは台座に対して陽極接合などにより接合されており、さらに、台座の貫通穴およびセンサチップの凹部には、センサチップ、特にセンサチップのダイアフラム裏面を保護するゲル部材が充填されている。
このような圧力センサは、いわゆる「ダイアフラム裏面封止型の圧力センサ」として構成されており、この圧力センサにおいては、台座の貫通穴からゲル部材を介してダイアフラムに圧力が導入され、センサチップからはピエゾ抵抗効果によって印加された圧力に応じた信号が出力されるようになっている。
ここで、この種の圧力センサは、たとえば、腐食性を有する液体やガスなどの圧力媒体の圧力を測定する場合に適用され、そのような腐食性の圧力媒体からセンサチップを保護するために、上記のようにゲル部材による保護がなされている。
また、台座の貫通穴からのセンサチップのダイアフラムへの水分の侵入、および、侵入した水分が低温時に凍結して体積膨張したときのダイアフラムの破壊などを、防止するためにも、ゲル部材が注入されている。
具体的には、このような圧力センサは、ディーゼルエンジン車両の排気管内に設けられた排気清浄フィルタとしてのDPF(ディーゼルパティキュレートフィルタ)の前後の差圧を測定したり、EGR雰囲気中の圧力などを測定するセンサなどに適用されるものである。
特開平4−370726号公報 特開平5−133827号公報 特開平11−201845号公報 特開2002−221462号公報
ところで、近年、自動車用センサなど、0℃以下の低温から100℃以上の高温まで幅広い温度範囲で作動可能な圧力センサが要望されている。
本発明者の検討によれば、この種の圧力センサにおいては、低温、たとえば−30℃以下においてゲル部材が固くなり、その変形応力によって、ダイアフラム裏面からゲージ部であるピエゾ抵抗の歪が変化するため、当該低温におけるセンサ出力特性が変動してしまうことがわかった。
しかしながら、従来では、このようなゲル部材の変形による低温におけるセンサ特性の変動については、対策が採られていなかった。
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、ダイアフラム裏面封止型の圧力センサにおいて、ダイアフラム裏面を封止するゲル部材の変形による低温でのセンサ特性の変動を抑制することを目的とする。
ここで、本発明者は、台座の貫通穴に充填されたゲル部材の低温での挙動について鋭意検討を行った結果、次のようなメカニズムを考えるに至った。
台座における貫通穴の径Lが大きければ、低温時にゲル部材が固く変形したとしても、ゲル部材は広い貫通穴内部をダイアフラムとは反対方向へ移動することでき、ゲル部材の応力を緩和できるため、ダイアフラム裏面での変位は抑えられる。
しかし、貫通穴の径Lが小さく、貫通穴の長さすなわち台座の厚さTが大きい場合には、貫通穴が細長いものとなり、ゲル部材の上記方向への変位は限定される。そのため、上記したゲル部材の応力緩和が不十分となり、逆に、ゲル部材の変形応力がダイアフラム裏面に印加され、ダイアフラム裏面を変位させる。本発明者は、このようにして、ゲル部材は自己の形状安定性を確保するものと考えた。
そこで、本発明者は、台座における貫通穴の径Lと台座の厚さTとの関係について改良
を加えれば、よいのではないかと考え、本発明を見出した。
上記目的を達成するため、本発明は、半導体ダイアフラム式のセンサチップ(10)をそのダイアフラム(14)裏面側に通じる貫通穴(21)を有する台座(20)に接合し、当該貫通穴(21)をゲル部材(30)にて封止してなり、台座(20)の貫通穴(21)におけるセンサチップ(10)側の開口部(21a)の径は、センサチップ(10)における凹部(13)の径よりも小さいものとしたダイアフラム裏面封止型の圧力センサにおいて、台座(20)におけるセンサチップ(10)とは反対側の部位は、ケース(40)に支持されており、ケース(40)には、貫通穴(21)と連通するとともに圧力を導入するための穴部(41)が設けられており、穴部(41)には、貫通穴(21)から連続してゲル部材(30)が充填されており、台座(20)の貫通穴(21)の径Lよりも、ケース(40)の穴部(41)における貫通穴(21)側の径L1が大きく、且つ、ケース(40)の穴部(41)における貫通穴(21)側の径L1よりも、ケース(40)の穴部(41)における圧力導入側の径L2の方が大きいものとされており、さらに、台座(20)の厚さTは、台座(20)の貫通穴(21)の径Lよりも小さいことを特徴とする。
それによれば、ダイアフラム裏面を封止するゲル部材の変形による低温でのセンサ特性の変動を抑制することができる。
また、本発明では、貫通穴(21)におけるセンサチップ(10)側の開口部(21a)の径、センサチップ(10)における凹部(13)の径よりも小さいものとしている
それによれば、台座(20)のセンサチップ(21)側の面における貫通穴(21)を除いた領域を広く採ることができるため、圧力センサの小型化を考慮し限られたサイズの中で、台座(20)とセンサチップ(10)との接合面積を十分確保することができ、接合構造体の強度を充分に確保できる。
また、本発明では、台座(20)におけるセンサチップ(10)とは反対側の部位は、ケース(40)に支持されており、ケース(40)には、貫通穴(21)と連通するとともに前記圧力を導入するための穴部(41)が設けられており、穴部(41)には、貫通穴(21)から連続してゲル部材(30)が充填されており、穴部(41)は、穴部(41)における貫通穴(21)側の径L1が貫通穴(21)の径Lよりも大きい穴として構成されたものとしている
このように、台座(20)をケース(40)に支持した場合、このケース(40)に穴部(41)を設けることにより、当該穴部(41)から台座(20)の貫通穴(21)を介してセンサチップ(10)へ圧力を導入できる。
また、ケース(40)の穴部(41)にゲル部材(30)を充填することにより、この部分においてもセンサチップ(10)の保護がなされるが、ケース(40)の穴部(41)を、この穴部(41)における貫通穴(21)側の径L1が貫通穴(21)の径Lよりも大きい穴として構成しているため、低温時におけるゲル部材(30)の応力緩和をより適切に行うことができる。
また、本発明では、穴部(41)は、穴部(41)における貫通穴(21)側の径L1よりも圧力導入側の径L2の方が大きい穴として構成されている。
それによれば、ケース(40)の穴部(41)をダイアフラム(14)とは反対側へ拡径した穴形状とできるため、この穴部(41)に充填されたゲル部材(30)が、当該穴部(41)内をダイアフラム(14)とは反対方向へ移動しやすくでき、ケース(40)の穴部(41)において、低温時におけるゲル部材(30)の応力を緩和することができる。
また、ケース(40)の穴部(41)において、圧力導入側については、より大きな容量のゲル部材(30)によって水分の侵入を抑制することができるため、低温でのセンサ特性変動を、より確実に抑えることができる。
ここで、本発明の圧力センサにおける台座(20)としては、ガラスにより構成されているものにでき、また、ゲル部材(30)は、フッ素系ゲル、シリコーン系ゲル、フロロシリコーン系ゲルにより構成されているものにできる。
なお、特許請求の範囲およびこの欄で記載した各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示す一例である。
以下、本発明の実施形態について図に基づいて説明する。なお、以下の各実施形態相互において、互いに同一もしくは均等である部分には、説明の簡略化を図るべく、図中、同一符号を付してある。
(第1実施形態)
本実施形態に係る圧力センサは、たとえば、腐食性を有する液体やガスなどの圧力媒体の圧力を測定する場合に適用され、具体的には、ディーゼルエンジン車両の排気管内の排気ガスを測定したり、当該排気管内に設けられた排気清浄フィルタとしてのDPF(ディーゼルパティキュレートフィルタ)の前後の差圧を測定したり、EGR雰囲気中の圧力などを測定するセンサなどに適用されるものである。
図1は、本発明の実施形態に係るピエゾ式圧力センサデバイスとしてのダイアフラム裏面封止型の圧力センサ100の概略断面構成を示す図である。
図1に示されるように、本実施形態の圧力センサ100は、大きくは、半導体ダイアフラム式のセンサチップ10と、このセンサチップ10に接合された圧力導入孔としての貫通穴21を有する台座20と、貫通穴21に充填されたゲル部材30とを備えて構成されている。
センサチップ10は、シリコン半導体基板などの半導体基板からなるものであり、その裏面12に化学的エッチングなどにより作成された凹部13が形成されている。そして、センサチップ10においては、凹部13に対応した表面11側の薄肉部がダイアフラム14として構成されている。
また、センサチップ10の表面11において、ダイアフラム14の部分には、拡散抵抗などからなるピエゾ抵抗15が設けられている。このピエゾ抵抗15は複数個設けられており、後述する図4に示されるように、ブリッジ回路を構成している。このように、本実施形態のセンサチップ10は、半導体ダイアフラム式のセンサチップとして構成されている。
そして、センサチップ10においては、ピエゾ抵抗効果によって印加された圧力に応じた信号が出力されるようになっている。
具体的には、ダイアフラム14にて圧力を受け、その圧力によってダイアフラム14が歪み、ダイアフラム14に形成された上記ブリッジ回路によって、このダイアフラム14の歪みに基づく信号、すなわち、印加された圧力値に応じたレベルの信号が出力されるようになっている。
また、本実施形態では、センサチップ10は、その裏面12側において、薄肉部であるダイアフラム14の周囲部すなわち厚肉部16にて、台座20に対して固定されている。本例では、台座20はガラスからなり、シリコン半導体からなるセンサチップ10とは、陽極接合により接合されている。
ここで、センサチップ10の裏面12に接合されている台座20において、圧力導入孔としての貫通穴21は、センサチップ10側の面からその反対側の面へ貫通する穴として構成されている。この貫通穴21は一般的なものと同じく、ストレートな丸穴形状を有するものである。
そして、センサチップ20は、その裏面12側にてダイアフラム14を台座20の貫通穴21対向した状態で配置されている。つまり、台座20の貫通穴21は、センサチップ10の凹部13からダイアフラム14へ通じている。
ここで、本実施形態の圧力センサ100においては、台座20における貫通穴21の径Lと台座20の厚さTとの比L/Tは、1<L/T<3である。このように、本実施形態にて、比L/Tを1よりも大きく3未満の範囲とした構成を採用している根拠については、後述する。
さらに、本実施形態では、台座20の貫通穴21におけるセンサチップ10側の開口部21aの径は、センサチップ10における凹部13の径よりも小さいものとなっている。そのため、図1に示されるように、台座20においては、センサチップ10の凹部13の内側に張り出している肩部22が存在する。
このような台座20の貫通穴21は、たとえば超音波振動を用いた切削やサンドブラストなどの加工方法を採用することにより、作成することができる。
なお、台座20は、たとえば通常矩形板状のセンサチップ10に対応した平面矩形の台座であり、上記比L/Tの範囲を満足した上で、貫通穴21の径Lはたとえば0.8mm〜2.1mm程度、台座20の厚さTはたとえば0.7mm〜2.1mm程度にすることができる。
ここで、図1に示されるように、センサチップ10のピエゾ抵抗15は、感度を大きくするために、ダイアフラム14の歪みの大きい部位、図示例ではダイアフラム14の周辺部に設けられている。さらに、ピエゾ抵抗15は、台座20の貫通穴21におけるセンサチップ10側の開口部21aの径の内側に位置している。
また、台座20の貫通穴21およびセンサチップ10の凹部13には、ゲル部材30が充填されており、このゲル部材30によって、センサチップ10特にダイアフラム14の裏面部分が封止され保護されている。
このゲル部材30としては、たとえばシリコーン系ゲル、フッ素系ゲル、フロロシリコーン系ゲルなどのゲル材料を用いることができ、このようなゲル材料を貫通穴21に注入・硬化させることで、ゲル部材30の充填がなされる。
上述したように、本圧力センサ100は、ディーゼルエンジンの排気ガス圧など、腐食性を有する液体やガスなどの圧力媒体の圧力を測定する場合に適用されるものであり、そのような腐食性の圧力媒体からセンサチップ10特にダイアフラム14の裏面を保護するために、ゲル部材30による保護がなされている。
また、本実施形態の圧力センサ100は、図1に示されるように、車両の排気系の適所に取り付けられるケース40を有している。このケース40は、外部と電気的に接続可能な図示しない端子を有するものである。
たとえば、ケース40としては、PBT(ポリブチレンテレフタレート)やPPS(ポリフェニレンサルファイド)などの樹脂にて成形されたものからなり、さらに、Cuや42アロイなどからなるターミナルなどの端子がインサート成形されたものを採用することができる。
そして、センサチップ10は、これに一体化された台座20を介して接着剤50により、ケース40に接合され固定されている。このような接着剤50としては、たとえば、塗布して硬化させることで接着機能を発揮する樹脂などからなる接着剤、具体的にはシリコーン系接着剤やフロロシリコーン系接着剤などを採用することができる。
また、上記したケース40の端子とセンサチップ10とは、図示しない金やアルミニウムなどからなるボンディングワイヤなどにより電気的に接続されている。それにより、センサチップ10と外部との電気的なやり取りが可能となる。
ここで、台座20におけるセンサチップ10とは反対側の部位は、ケース40に支持されているが、ケース40には、台座20の貫通穴21と連通するとともに圧力を導入するための穴部41が設けられている。そして、この穴部41には、貫通穴21から連続して上記ゲル部材30が充填されている。
また、このケース40の穴部41は、たとえば丸穴であるが、本実施形態では、穴部41は、この穴部41における貫通穴21側の径L1が貫通穴21の径Lよりも大きい穴として構成されている。
さらに、穴部41は、この穴部41における貫通穴21側の径L1よりも圧力導入側の径L2の方が大きい穴として構成されている。本例では、穴部41は、ダイアフラム14とは反対側すなわち圧力導入側へテーパ状に拡径した穴形状となっている。
そして、この圧力センサ100においては、ケース40の穴部41および台座20の貫通穴21からゲル部材30を介してセンサチップ10の裏面12すなわちダイアフラム14の裏面12に圧力が導入され、センサチップ10からは、上記したピエゾ抵抗効果によって、印加された圧力に応じた信号が出力されるようになっている。なお、具体的な検出方法については、後述する。
次に、本実施形態の圧力センサ100の製造方法について、図2および図3を参照して述べる。これら図2(a)〜(d)および図3(a)〜(d)は、本製造方法をワークの概略断面にて示す工程図であり、主としてセンサチップ10の製造方法を示すものである。
本圧力センサ100におけるセンサチップ10についての、より具体的な断面構成の一例は、図3(c)、(d)に示される。
図3(c)および(d)に示される例では、センサチップ10は、裏面12側から表面11側に向かって、P型のシリコン基板としてのP型層(PSub層)201、N-層(N型エピタキシャル層)203が積層されたシリコン半導体基板200よりなり、N-層203は、上記P型層201とは異なる不純物濃度を持つP型領域を介して、ピエゾ抵抗15の形成領域とその周囲領域とに分離されており、アイソレーション204を確保している。
ピエゾ抵抗15は、P型領域としてN-層内に形成されている。このピエゾ抵抗15は、実際には、少なくとも4個形成されており、後述するブリッジ回路(図4参照)を構成している。
また、シリコン半導体基板200の上面すなわちセンサチップ本体の表面11側は、酸化膜17にて被覆され、この酸化膜17の上にはAl薄膜よりなる配線18が形成されている。そして、この配線18および酸化膜17に形成されたコンタクトホールを介して、ピエゾ抵抗15同士の接続等がなされている。
そして、配線18を除く酸化膜17の上には、シリコン酸化膜やシリコン窒化膜等よりなる保護膜19が形成され、センサチップ10の保護が図られている。このセンサチップ10は、周知の半導体製造技術を用いて製造することができる。次に、その製造方法の一例について、図2、図3を参照して説明する。
まず、図2(a)に示されるように、P型のシリコン基板201の一面側の所定領域にイオン注入等により、不純物濃度の異なるP型層202を形成するとともに、当該シリコン基板201の一面側に、リン(P)等の不純物雰囲気にて、N-層203を成長させ形成する。
次に、図2(b)に示されるように、N-層203の表面からホウ素(B)イオン等を注入し、拡散させるとともに、上記不純物濃度の異なるP型層202をN-層203の表面側へ拡散させることにより、上記P型のシリコン基板としてのP型層201、N-層203が積層され且つアイソレーション204が形成されたシリコン半導体基板200を形成する。
次に、図2(c)に示されるように、シリコン半導体基板200の上面に、スパッタや蒸着法、加熱処理などの方法により、酸化膜17を形成し、この酸化膜17により上記N-層203およびアイソレーション204上を被覆する。
次に、図2(d)に示されるように、酸化膜17を介してホウ素(B)イオン等によるイオン注入や拡散法により、シリコン半導体基板200の表面に、ピエゾ抵抗15を形成する。
次に、図3(a)に示されるように、フォトリソグラフ法等を用いて、酸化膜17の所望の部位にコンタクトホールを形成し、その上に蒸着法などによりAl薄膜よりなる配線18を形成し、配線18とピエゾ抵抗15とを導通させる。
次に図3(b)に示されるように、CVD法等により、シリコン酸化膜やシリコン窒化膜等よりなる保護膜19を形成する。
しかる後、シリコン半導体基板200の上面側をマスクした状態で、KOHなどのエッチング液を用いて、シリコン半導体基板200の下面側の一部を異方性エッチングにより除去する。それにより、図3(c)に示されるように、上記凹部13が形成されるのに伴いダイアフラム14が形成され、上記センサチップ10ができあがる。
そして、上述したように、超音波振動を用いた切削やサンドブラストなどの加工方法によりテーパ形状の貫通穴21が設けられた台座20を用意し、この台座20とセンサチップ10とを陽極接合する。
それにより、図3(d)に示されるように、センサチップ10と台座20とが一体化する。続いて、さらに、ケース40と台座20とを接着剤50を介して接合する。そして、ケース40の穴部41および台座40の貫通穴21へゲル部材30を注入し、加熱などによりこれを硬化させる。
また、センサチップ10と上記したケース40の図示しない端子とをワイヤボンディングなどにより電気的に接続する工程などを経ることにより、実際の圧力測定に供することの可能な圧力センサとして、本実施形態のダイアフラム裏面封止型の圧力センサ100が完成する。
このような圧力センサ100は、たとえば、センサチップ10の表面11側からダイアフラム14に印加される圧力と、センサチップ10の裏面12側からダイアフラム14に印加される圧力との差圧により、ダイアフラム14が歪み、このダイアフラム14の歪みに基づいて圧力検出を行う相対圧型の圧力センサとすることができる。
限定するものではないが、具体的には、このような相対圧検出型の圧力センサ100は、たとえば、ケース40を介して上述したディーゼルエンジンの排気系に取り付けられ、その排気ガス圧を測定するものとして適用することができる。
この場合、本圧力センサ100においては、たとえば、基準圧となる大気圧がセンサチップ10の表面11側へ導入され、排気ガス圧が、センサチップ10の裏面12側にてゲル部材30を介してダイアフラム14へ導入される。
このとき、センサチップ10のダイアフラム14の表面と裏面とで各圧力が受圧され、ダイアフラム14の歪みに基づいて、これら両面の差圧が検出され、ピエゾ抵抗効果に基づくセンサチップ10からの信号が、上記ボンディングワイヤ等から上記端子を経て、外部に出力されるようになっている。
この圧力センサ100におけるより具体的な検出動作について、図4を参照して述べることにする。図4は、ピエゾ抵抗15により構成される上記ブリッジ回路の結線図を示すものである。4個のピエゾ抵抗15(15a、15b、15c、15d)によりホイートストンブリッジが構成されている。
上記圧力の印加によりダイアフラム14が歪み変形するが、このとき、図4に示されるホイートストンブリッジの入力端子IaとIbとの間に直流定電圧Vを与えた状態では、このダイアフラム14の変形がピエゾ抵抗15a〜15dの抵抗値変化として現れ、出力端子PaとPbとの間から被検出圧力に応じたレベルの電圧(センサ信号)Voutが出力される。
そして、このセンサ信号Voutが、ピエゾ抵抗効果に基づくセンサチップ10からの信号として外部に出力される。このようにして、圧力センサ100において圧力検出がなされる。
ところで、本実施形態によれば、裏面12に凹部13が形成され凹部13に対応した表面11側の薄肉部がダイアフラム14として構成されるとともに、表面11にピエゾ抵抗15を有するセンサチップ10と、センサチップ10の裏面12に接合され凹部13からダイアフラム14へ通じる貫通穴21を有する台座20と、貫通穴21および凹部13に充填されてセンサチップ10を保護するゲル部材30とを備え、貫通穴21からゲル部材30を介してダイアフラム14に圧力が導入され、センサチップ10からはピエゾ抵抗効果によって印加された圧力に応じた信号が出力されるようになっている圧力センサにおいて、台座20における貫通穴21の径Lと台座20の厚さTとの比L/Tは、1<L/T<3であることを特徴とする圧力センサ100が提供される。
このような本実施形態の圧力センサ100は、0℃以下の低温から100℃以上の高温まで幅広い温度範囲で作動可能な圧力センサとして適用可能なものであり、特に、上記比L/Tを1よりも大きく3未満の範囲とすることで、−30℃程度の極低温においても、センサ特性の変動を抑制可能としている。
この極低温におけるセンサ特性の変動抑制の具体的な様子は、図5に示される。図5は、台座における貫通穴の径Lと台座の厚さTとの関係について、比L/Tに着目し、本発明者が実験調査した結果を示す図であり、比L/Tと低温におけるセンサ特性の変動との関係を示す図である。
図5に示されるように、本発明者は、台座20の貫通穴21の径(図中、穴径と図示)をφ0.8mm〜φ2.0mmと変えることで比L/Tを変えた圧力センサをサンプルとして作成し、これら各サンプルについて、注入前後のTCO変動(単位:%FS)を調べた。
ここで、「注入前後のTCO変動」とは、上記各サンプルにおいて、ゲル部材30を注入する前のものと注入した後のものとについて、低温におけるセンサ特性の変動の大きさを示すものである。
具体的には、ゲル部材30を注入する前の各サンプルについて室温および−30℃にて上記センサ信号Voutを測定し、室温の測定値に対する−30℃の測定値の変動分を求め、次に、ゲル部材30を注入した後の各サンプルについて室温および−30℃にて上記センサ信号Voutを測定し、同じく変動分を求める。
たとえば、各サンプルについて、ゲル部材注入前の変動分がa%であり、注入後の変動分が(a+b)%であったとすると、これらの差分b%がゲル部材30による低温での特性変動に相当する。そして、この差分b%が、図4中に示される「注入前後のTCO変動」である。
図5に示されるように、比L/Tが大きくなるにつれてTCO変動が小さくなっている。比L/Tが1以下では、TCO変動は、実用レベルである1.5%FSを超えているが、比L/Tが1よりも大きく比L/Tが3未満程度まで、実用レベルである1.5%FS以下を満足することが確認された。
比L/Tが1以下であると、台座20の貫通穴21がゲル部材30の応力緩和を行うには不十分な細長形状となるため、低温でのセンサ特性の変動が実用レベルとしては不適切な大きさとなってしまう。
一方、台座20の厚さTについては、台座20の安定性およびセンサチップ10の接合時の反りなどを考慮すると、0.7mm程度が下限であり、貫通穴21の径Lについては、センサチップ10との接合面積の確保や台座20自体の機械的強度の確保の点から2.1mm程度が上限である。
これらのことや、上記図5に示される実験データを考慮して、本実施形態では、比L/Tの上限については、2.1/0.3=3、すなわち3未満とした。
そして、このように、比L/Tを1よりも大きく3未満の範囲とすることにより、ダイアフラム裏面を封止するゲル部材30の変形による低温でのセンサ特性の変動を抑制することができる。
また、本実施形態の圧力センサ100においては、貫通穴21におけるセンサチップ10側の開口部21aの径は、センサチップ10における凹部13の径よりも小さいものであることも特徴のひとつである。
このようにすれば、図1に示されるように、センサチップ10における凹部13以外の厚肉部16が、貫通穴21に重なることなく、すべて台座20に接して接合されるため、台座20とセンサチップ10との接合面積を十分確保することができ、センサチップ10および台座20の接合構造体における剛体特性が適切に保持される。
なお、このような点を除けば、本実施形態においては、参考図ではあるが、図6に第1の変形例として示されるように、台座20の貫通穴21におけるセンサチップ10側の開口部21aの径は、センサチップ10における凹部13の径よりも大きいものであってもよい。
また、本実施形態の圧力センサ100においては、台座20におけるセンサチップ10とは反対側の部位は、ケース40に支持されており、ケース40には、貫通穴21と連通するとともに圧力を導入するための穴部41が設けられており、穴部41には、貫通穴21から連続してゲル部材30が充填されており、穴部41は、穴部41における貫通穴21側の径L1が貫通穴21の径Lよりも大きい穴として構成されていることも、特徴のひとつである。
このように、台座20の貫通穴21に連通し圧力導入可能な穴部41をケース40に設け、この穴部41に、貫通穴21から連続してゲル部材30を充填することにより、センサチップ10を保護しつつ、当該穴部41および台座20の貫通穴21内のゲル部材30を介してセンサチップ10へ圧力を導入できる。
また、ケース40の穴部41における貫通穴21側の径L1を貫通穴21の径Lよりも大きいものとして構成しているため、低温時にゲル部材30が固く変形したとしても、ゲル部材30は比較的広いケース40側の穴部41内をダイアフラム14とは反対方向へ移動しやすくできる。
つまり、このようにすることで、台座20の貫通穴21からケース40の穴部41に渡る領域において、低温時におけるゲル部材30の応力を緩和できるため、ダイアフラム14裏面での変位を抑えやすくできる。
また、本実施形態の圧力センサにおいては、穴部41は、穴部41における貫通穴21側の径L1よりも圧力導入側の径L2の方が大きい穴として構成されていることも、特徴のひとつである。
ケース40は、台座20に比べて比較的加工しやすいものであり、成形や切削加工などにより、このような圧力導入側へ拡径した穴形状とした穴部41をケース40に形成することは、容易である。
それによれば、上述したように、ケース40の穴部41において、低温時におけるゲル部材30の応力を緩和できるとともに、圧力導入側にて、より広い面積かつ大容量のゲル部材30によって水分を遮断することができるため、低温でのセンサ特性変動を、より確実に抑えることができる。
ここで、図7は、本実施形態の第2の変形例としての圧力センサ110を示す概略断面図であり、圧力導入側へ拡径した穴形状としたケース40の穴部41を一部変形したものである。
上記図1に示される例では、貫通穴21側の径L1よりも圧力導入側の径L2の方が大きい穴部41としては、圧力導入側へテーパ状に拡径した穴形状が示されていたが、図7に示される圧力センサ110では、穴部41を段付き内孔とすることにより、段差を有して拡径した穴形状としている。この場合も、図1に示されるものと同様の効果を奏するものである。
また、上記図1に示される例では、ケース40は樹脂成形されたものであったが、この図7に示される例のように、ケース40を、樹脂部40aとこの樹脂部40aとは別体の部材であって穴部41の少なくとも一部を構成するパイプ40bとにより構成されたものとしてもよい。
このパイプ40bは、たとえばムライト、アルミナなどのセラミックや、42アロイなどの金属などにより構成されたものであり、樹脂部40aに対してインサート成形や圧入などにより一体的に固定されている。
ここでは、パイプ40bは、穴部41における貫通穴21側の開口部に挿入固定されており、このパイプ40bの内径が穴部41における貫通穴21側の径L1に相当するものとなっている。
また、本実施形態の圧力センサ100においては、上記図1、図7に示したように、ピエゾ抵抗15は、ガラス台座20の貫通穴21におけるセンサチップ10側の開口部21aの径の内側に位置していることも、有利な点である。
それによれば、ピエゾ抵抗15は、センサチップ10の凹部13において台座20の肩部22よりも、さらに内側に位置することになる。そのため、肩部22に覆われた凹部13の空間、すなわち凹部13において肩部22上の空間にはゲル部材30が入り込んで、熱などにより膨張するが、その膨張時の応力を、ピエゾ抵抗15が受けにくくなるという利点がある。
(他の実施形態)
なお、上記実施形態では、台座20はガラスにより構成されていたが、台座20の材料としては、ガラス以外にも、たとえばSi、セラミックなどを用いることができる。
これは、排気ガス影響下における圧力センサの使用を鑑みた制限であり、センサチップや台座の形状を保持できるならば、シリコンに線膨張係数が合う金属類(42アロイなど)も使用することができる。
また、ゲル部材30としては、上記したフッ素系ゲル、シリコーン系ゲル、フロロシリコーン系ゲル以外にも、センサチップの保護部材や圧力伝達部材として十分機能するものであるならば、使用可能である。
また、上記実施形態では、ケース40の穴部41は、圧力導入側の方が拡径した穴形状となっているが、このような穴部41の形状は、上記したテーパ状の拡径形状あるいは段差を有した拡径形状に限らず、たとえば、穴の側面が湾曲した形となることで拡径した穴となっていてもよい。さらには、ケース40の穴部41はストレートな穴形状であってもよい。
また、上記実施形態では、圧力センサ100はケース40を有し、このケース40を介して被測定部材に取り付けられ、測定動作に供されるものとしたが、これに限定されるものではなく、たとえば、ケース40を持たずに台座20を直接被測定部材に取り付けて測定するものとしてもよい。
また、上記実施形態の圧力センサにおいては、ディーゼルエンジン車両の排気管内に設けられた排気清浄フィルタとしてのDPFの前後の差圧を測定する場合、たとえばDPF上流側の排気ガス圧がセンサチップ10の表面11側へ導入され、下流側の排気ガス圧が、センサチップ10の裏面12側に導入されるが、このような場合には、センサチップ10の表面11側は図示しないゲル部材などにより被覆保護されてよい。
また、上記実施形態では、差圧検出タイプすなわち相対圧検出タイプの圧力センサであったが、センサチップにおけるダイアフラムの表面側が真空などの基準圧となっており、ダイアフラムの裏面側にゲル部材を介して被測定圧力を受ける絶対圧型の圧力センサに対しても、本発明は適用することが可能である。
また、本発明の圧力センサは、上述した排気圧力を検出するセンサに、その用途を限定されるものではないことは上述した通りである。たとえば、本発明の圧力センサは大気圧、エンジンの吸気圧をはじめとして、各種機器や容器の圧力など、いろいろな用途に用いることができる。
本発明の実施形態に係る圧力センサの概略断面図である。 上記実施形態に係る圧力センサにおけるセンサチップの製造方法を示す工程図である。 図2に続くセンサチップの製造方法を示す工程図である。 上記実施形態に係る圧力センサにおけるピエゾ抵抗により構成されるブリッジ回路の結線図である。 比L/Tと低温におけるセンサ特性の変動との関係を示す図である。 上記実施形態の参考図としての第1の変形例を示す概略断面図である。 上記実施形態の第2の変形例を示す概略断面図である。
符号の説明
10…センサチップ、11…センサチップの表面、12…センサチップの裏面、
13…センサチップの凹部、14…ダイアフラム、15…ピエゾ抵抗、
20…ガラス台座、21…ガラス台座の貫通穴、
21a…貫通穴のセンサチップ側の開口部、30…ゲル部材、40…ケース、
41…ケースの穴部。

Claims (1)

  1. 裏面(12)に凹部(13)が形成され前記凹部(13)に対応した表面(11)側の薄肉部がダイアフラム(14)として構成されるとともに、前記表面(11)にピエゾ抵抗(15)を有するセンサチップ(10)と、
    前記センサチップ(10)の裏面(12)に接合され前記凹部(13)から前記ダイアフラム(14)へ通じる貫通穴(21)を有する台座(20)と、
    前記貫通穴(21)および前記凹部(13)に充填されて前記センサチップ(10)を保護するゲル部材(30)とを備え、
    前記台座(20)の前記貫通穴(21)における前記センサチップ(10)側の開口部(21a)の径は、前記センサチップ(10)における前記凹部(13)の径よりも小さいものであり
    前記貫通穴(21)から前記ゲル部材(30)を介して前記ダイアフラム(14)に圧力が導入され、前記センサチップ(10)からはピエゾ抵抗効果によって印加された圧力に応じた信号が出力されるようになっている圧力センサにおいて、
    前記台座(20)における前記センサチップ(10)とは反対側の部位は、ケース(40)に支持されており、
    前記ケース(40)には、前記貫通穴(21)と連通するとともに前記圧力を導入するための穴部(41)が設けられており、
    前記穴部(41)には、前記貫通穴(21)から連続して前記ゲル部材(30)が充填されており、
    前記台座(20)の前記貫通穴(21)の径Lよりも、前記ケース(40)の前記穴部(41)における前記貫通穴(21)側の径L1が大きく、且つ、前記ケース(40)の前記穴部(41)における前記貫通穴(21)側の径L1よりも、前記ケース(40)の前記穴部(41)における前記圧力導入側の径L2の方が大きいものとされており、
    さらに、前記台座(20)の厚さTは、前記台座(20)の前記貫通穴(21)の径Lよりも小さいことを特徴とする圧力センサ。
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