JP4500908B2 - 位相ずれ量測定装置及び位相ずれ量測定方法並びに位相シフトマスクの製造方法 - Google Patents
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Description
本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであり、位相シフターの位相シフト量を精度良く検出することができる位相シフト量測定装置及び位相シフト量測定方法並びに生産性の優れた位相シフトマスクの製造方法を提供することを目的とする。
I2=A1 2+A2 2+2A1A2cos(φR+p)
13a〜13c レンズ、14 エネルギーモニター、15 グレーティング、
16 位相シフトマスク(PSM)、16a 基板、16b シフター部、
16c 光透過部、17 シフター、
20 真空空間、21a〜21c レンズ、22a、22b ミラー、
25a、25bビームスプリッター、26 光学シェアリング部材
27a、27b 全反射ミラー、28 光学くさび、29 直線駆動機構、30 検出器31 コンピューター、32データ記憶部、33 位相差算出部、
34 チルト記憶部、35 透過率算出部、40a 0次の回折光、
40b 1次の回折光、41a 第1の光束、41b 第2の光束、43 干渉光
101 位相シフトマスク(PSM)、101A XYステージ、101b 光透過部、
103 シフター部、104a〜104f レンズ、105a〜105b ハーフミラー
106a〜106c ミラー、111a 第1の光束、111b 第2の光束、
113 干渉光、117 測光ターゲット、118 フォトマルチプライア、
119 TVカメラ、121 コンピューター、122 電流/電圧変換器、
123 A/D変換器、125 光源、
Claims (6)
- 光を透過する光透過部と、透過した光に前記光透過部を透過した光と位相差を生じさせる位相シフターが形成されたシフター部とを有する基板において前記位相シフターの位相シフト量を測定する位相シフト量測定装置であって、
光を発生する光源と、
前記光源で発生した光から、m次(mは整数)の回折光による第1の可干渉光とn次(nはmと異なる整数)の回折光による第2の可干渉光とを生成するグレーティングと、
前記基板の光透過部及びシフター部に前記第1の可干渉光と第2の可干渉光の一部を重ね合わせて入射させる光学手段と、
前記基板を透過した第1の可干渉光及び第2の可干渉光を、それぞれ当該第1の可干渉光及び第2の可干渉光を含む第1の光束と第2の光束に分岐する光分岐手段と、
光分岐手段によって分岐された前記第1の光束と前記第2の光束との間に位相差を与える位相差生成手段と、
前記位相差生成手段により位相差が与えられた前記第1の光束と前記第2の光束を重ね合わせて干渉光を生成する干渉光生成手段と、
前記第1の光束と前記第2の光束の重ね合わせにおいて、前記第1の光束と前記第2の光束との間に、前記基板での前記第1の可干渉光と前記第2の可干渉光のずれ量に応じた横方向のずれを生じさせるシャリング手段と、
前記位相差生成手段を移動させ、前記位相差生成手段によって生成された前記第1の光束と前記第2の光束との間の位相差を変化させる位相差変化手段と、
前記位相差変化手段による位相差の変化に応じた前記干渉光の光強度を、一方が前記第1の光束の前記シフター部を透過したシフター部透過領域と前記第2の光束の前記光透過部を透過した光透過部透過領域とを重ね合わせたシフター部/光透過部領域に配置され、他方が前記第1の光束の前記光透過部透過領域と前記第2の光束の前記シフター部透過領域とを重ね合わせた光透過部/シフター部領域に配置される異なる2つの検出点で略同時に検出する光検出手段とを備え、
前記2つの検出点における前記光強度から前記第1の光束と前記第2の光束との位相差をそれぞれ算出し、当該第1の光束と第2の光束との位相差に基づいて前記位相シフターの位相シフト量を測定する位相シフト量測定装置。 - 前記基板を載置して移動可能なステージをさらに備え、
前記2つの検出点における光強度の信号の振幅に基づいて前記位相シフターの透過率を測定する請求項1記載の位相シフト量測定装置。 - 前記光源が真空紫外光を発生する真空紫外光源であり、
前記光源から前記検出器までの光路の少なくとも一部がパージガスによりパージされている請求項1又は2記載の位相シフト量測定装置。 - 光を透過する光透過部と、透過した光に前記光透過部を透過した光と位相差を生じさせる位相シフターが形成されたシフター部とを有する基板において前記位相シフターの位相シフト量を測定する位相シフト量測定方法であって、
グレーティングを用いて、m次(mは整数)の回折光による第1の可干渉光とn次(nはmと異なる整数)の回折光による第2の可干渉光とを生成するステップと、
前記第1の可干渉光と前記第2の可干渉光の重なり合う領域を前記基板の前記光透過部及び前記シフター部に照射するステップと、
前記基板を透過した第1の可干渉光及び前記第2の可干渉光を、それぞれ当該第1の可干渉光及び第2の可干渉光を含む第1の光束と第2の光束に分岐するステップと、
前記第1の光束と前記第2の光束との間に位相差を与える位相差生成手段を移動して、前記第1の光束と前記第2の光束との間の位相差を変化させるステップと、
前記第1の光束と前記第2の光束との間に、前記基板での前記第1の可干渉光と前記第2の可干渉光のずれ量に応じた横方向のずれを生じさせ、前記第1の光束と前記第2の光束を重ね合わせて干渉光を生成するステップと、
前記位相差の変化に応じた前記干渉光の光強度を、一方が前記第1の光束の前記シフター部を透過したシフター部透過領域と前記第2の光束の前記光透過部を透過した光透過部透過領域とを重ね合わせたシフター部/光透過部領域に配置され、他方が前記第1の光束の前記光透過部透過領域と前記第2の光束の前記シフター部透過領域とを重ね合わせた光透過部/シフター部領域に配置される異なる2つの検出点で略同時に検出するステップと、
前記2つの検出点における前記光強度から前記第1の光束と前記第2の光束との位相差をそれぞれ算出し、当該第1の光束と第2の光束との位相差に基づいて前記位相シフターの位相シフト量を測定するステップとを備える位相シフト量測定方法。 - 前記第1の光束と前記第2の光束が重ね合わされた前記干渉光のうち、前記第1の光束の前記シフター部を通過したシフター部透過領域と前記第2の光束の前記光透過部を透過した光透過部透過領域とが重ね合わされた領域をシフター部/光透過部領域とし、前記第1の光束の前記シフター部を通過したシフター部透過領域と前記第2の光束の前記シフター部を透過したシフター透過領域とが重ね合わされた領域をシフター部/シフター部領域とし、前記第1の光束の前記光透過部を通過した光透過部透過領域と前記第2の光束の前記光透過部を透過した光透過部透過領域とが重ね合わされた領域を光透過部/光透過部領域とし、前記第1の光束の前記光透過部を通過した光透過部透過領域と前記第2の光束の前記シフター部を透過したシフター透過領域とが重ね合わされた領域を光透過部/シフター部領域とした場合に、前記基板が載置されたステージを移動して前記2つの検出点を、前記干渉光の前記シフター部/光透過部領域、シフター部/シフター部領域、光透過部/光透過部領域及び光透過部/シフター部領域の中の同じ領域に配置するステップと、
前記干渉光の同じ領域に配置された2つの検出点における光強度の信号の位相差に基づいて、前記第1の光束の波面と第2の光束の波面との間の傾きの差によって、前記2つの検出点の間に生じるチルト量を測定するステップとをさらに備え、
前記チルト量に基づいて前記位相シフト量が測定される請求項4記載の位相シフト量測定方法。 - 請求項4又は5記載の位相シフト量測定方法により、位相シフトマスクに設けられた位相シフターの位相シフト量を測定するステップと、
前記位相シフト量が設定された許容範囲に含まれるか否かを判別するステップと、
前記位相シフト量が許容範囲に含まれていない位相シフターを修復するステップとを有する位相シフトマスクの製造方法。
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