JP5660514B1 - 位相シフト量測定装置及び測定方法 - Google Patents
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Abstract
Description
位相シフトマスクに形成されたモニタパターン及びその周辺のエリアに向けて照明ビームを投射する光源装置と、
位相シフトマスクから出射した光を集光する対物レンズと、
前記対物レンズにより集光された光から、互いに横ずらしされた第1及び第2のシアリングビームを形成する手段、これら第1及び第2のシアリングビームについて1周期分の位相変調を行う手段、及び、位相変調された第1及び第2のシアリングビームを合成して干渉ビームを形成する手段を有するシアリング干渉計と、
前記シアリング干渉装置から出射した干渉ビーム受光し、前記第1のシアリングビームのモニタパターンを通過した光と第2のシアリングビームの周辺エリアを通過した光との干渉光である第1の干渉光の輝度、前記第2のシアリングビームのモニタパターンを通過した光と第1のシアリングビームの周辺エリアを通過した光との干渉光である第2の干渉光の輝度、及び、前記第1のシアリングビームの周辺エリアを通過した光と第2のシアリングビームの周辺エリアを通過した光との干渉光である第3の干渉光の輝度を検出する光検出手段と、
前記光検出手段からの出力信号を受け取り、位相シフターの透過率及び位相シフト量を算出する信号処理装置とを有し、
前記信号処理装置は、前記第1の干渉光と第2の干渉光との位相差から位相シフターの位相シフト量を求め、前記第1の干渉光の振幅と第3の干渉光の振幅から位相シフターの透過率を求めることを特徴とする。
ハーフトーン膜に形成した光透過部により構成され、又は光透過部に形成したハーフトーン膜により構成されるモニタパターンに向けて照明ビームを投射する工程と、
シアリング干渉計のシアリング量を調整し、モニタパターンを透過した透過光とモニタパターンの周辺エリアを透過した透過光とにより形成される第1及び第2の干渉画像、及びモニタパターンの周辺エリアを透過した透過光同士により形成される第3の干渉画像を含む横ずらし干渉画像を2次元撮像装置上に形成する工程と、
前記第1〜第3の干渉画像を含む横ずらし干渉画像について1周期分の位相変調を行って、第1〜第3の干渉画像について位相変調量と輝度値との関係を示す位相変調データをそれぞれ取得する工程と、
前記第1及び第2の干渉画像の位相変調データを用いて、第1の干渉画像と第2の干渉画像との間の位相シフト量を算出し、位相シフターの位相シフト量として出力する工程と、
前記第1の干渉画像の位相変調データの振幅と第3の干渉画像の位相変調データの振幅との比の2乗を算出し、位相シフターの透過率として出力する工程とを含むことを特徴とする。
φ=φ0−φ1
φ=φ2−φ0
モニタパターンの位相シフト量φは以下の式により与えられる。
φ=(φ2 − φ1 )/2
従って、横ずらし干渉画像中に含まれる第1及び第2の干渉画像の位相差φ1 及びφ2 からモニタパターンの位相シフト量が求まる。
I=A1 2+A2 2+2√A1×√A2×cosφ
ここで、モニタパターン(光透過部:開口部)の画像同士の干渉画像の輝度をI1とし、モニタパターンの画像と周辺エリア(ハーフトーン膜領域)の画像との干渉画像の輝度をI2とし、周辺エリアの画像同士の干渉画像の輝度をI3とする。また、モニタパターンを通過した光の輝度をAQZとし、周辺エリアを通過した光の輝度をATHとする。上記3つの干渉画像の輝度は以下の式で表される。
I1=AQZ 2+AQZ 2+2√AQZ×√AQZ×cosφ
I2=AQZ 2+AHT 2+2√AQZ×√AHT×cosφ
I3=AHT 2+AHT 2+2√AHT×√AHT×cosφ
Amp1=2√AQZ×√AQZ
Amp2=2√AQZ×√AHT
Amp3=2√AHT×√AHT
T=Amp3/Amp1
=AHT/AQZ
上記式により規定される透過率は、従来の透過率測定である。
T=AHT/AQZ
=(√AHT/√AQZ)2
=(Amp3/Amp2)2
上式が示すように、石英ガラスの透過率を基準する位相シフターの相対透過率は、モニタパターンの画像と周辺エリアの画像との干渉画像の輝度の振幅と、周辺エリアの画像同士の干渉画像の輝度の振幅との比率により求めることができる。従って、石英ガラスの透過率を基準とする位相シフター(ハーフトーン膜:遮光膜)の透過率は、図3に示す干渉画像を1周期だけ変調して第1又は第2の干渉画像の振幅と第3の干渉画像の振幅を求め、求めた振幅の比率の2乗を求めることにより得ることができる。
さらに、上述した実施例では、シアリング干渉計としてマッファツェンダ干渉計を用いたが、ノマルスキープリズムやウォルストンプリズムを用いることも可能である。
2 集光レンズ
3 位相シフトマスク
4 対物レンズ
5 リレーレンズ
6 シアリング干渉計
7,10 ハーフミラー
8,12 ダブルウエッジプリズム
9,11 全反射ミラー
13 リニアモータ
14 結像レンズ
15 2次元撮像装置
16 増幅器
17 信号処理装置
Claims (4)
- シアリング干渉計を用いて、ハーフトーン型位相シフトマスクに形成された位相シフターの位相シフト量及び透過率を同時に測定する測定方法であって、
ハーフトーン膜に形成した光透過部により構成され、又は光透過部に形成したハーフトーン膜により構成されるモニタパターンに向けて照明ビームを投射する工程と、
シアリング干渉計のシアリング量を調整し、モニタパターンを透過した透過光とモニタパターンの周辺エリアを透過した透過光とにより形成される第1及び第2の干渉画像、及びモニタパターンの周辺エリアを透過した透過光同士により形成される第3の干渉画像を含む横ずらし干渉画像を2次元撮像装置上に形成する工程と、
前記第1〜第3の干渉画像を含む横ずらし干渉画像について1周期分の位相変調を行って、第1〜第3の干渉画像について位相変調量と輝度値との関係を示す位相変調データをそれぞれ取得する工程と、
前記第1及び第2の干渉画像の位相変調データを用いて、第1の干渉画像と第2の干渉画像との間の位相シフト量を算出し、位相シフターの位相シフト量として出力する工程と、
前記第1の干渉画像の位相変調データの振幅と第3の干渉画像の位相変調データの振幅との比の2乗を算出し、位相シフターの透過率として出力する工程とを含むことを特徴とする測定方法。 - 請求項1に記載の測定方法において、前記モニタパターンとして、ハーフトーン膜に形成された細長いストライプ状の光透過部により構成されたモニタパターン、又は光透過部に形成された細長いストライプ状のハーフトーン膜により構成されたモニタパターンが用いられることを特徴とする測定方法。
- 請求項2に記載の測定方法において、前記シアリング干渉計として、第1及び第2のダブルウエッジを有するマッファツェンダ干渉計を用い、第1のダブルウエッジを調整することにより、互いに重なり合わない第1及び第2の干渉画像を撮像装置上に形成し、前記第2のダブルウエッジを連続的に制御することにより第1〜第3の干渉画像について1周期にわたる位相変調が行われることを特徴とする測定方法。
- 請求項1、2又は3に記載の検査装置において、前記撮像装置として2次元撮像装置が用いられ、前記第1〜第3の干渉画像をそれぞれ撮像する画素エリアから出力される出力信号を用いて位相変調データを形成することを特徴とする測定方法。
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07159978A (ja) * | 1993-10-12 | 1995-06-23 | Mitsubishi Electric Corp | 位相シフトマスクの検査方法およびその方法に用いる検査装置 |
JP2000241121A (ja) * | 1999-02-17 | 2000-09-08 | Lasertec Corp | 段差測定装置並びにこの段差測定装置を用いたエッチングモニタ装置及びエッチング方法 |
JP2005083974A (ja) * | 2003-09-10 | 2005-03-31 | Lasertec Corp | 位相ずれ量測定装置及び位相ずれ量測定方法並びに位相シフトマスクの製造方法 |
JP2005509147A (ja) * | 2001-11-05 | 2005-04-07 | ザイゴ コーポレーション | 干渉周期誤差の補償 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07159978A (ja) * | 1993-10-12 | 1995-06-23 | Mitsubishi Electric Corp | 位相シフトマスクの検査方法およびその方法に用いる検査装置 |
JP2000241121A (ja) * | 1999-02-17 | 2000-09-08 | Lasertec Corp | 段差測定装置並びにこの段差測定装置を用いたエッチングモニタ装置及びエッチング方法 |
JP2005509147A (ja) * | 2001-11-05 | 2005-04-07 | ザイゴ コーポレーション | 干渉周期誤差の補償 |
JP2005083974A (ja) * | 2003-09-10 | 2005-03-31 | Lasertec Corp | 位相ずれ量測定装置及び位相ずれ量測定方法並びに位相シフトマスクの製造方法 |
JP2008185582A (ja) * | 2007-01-04 | 2008-08-14 | Lasertec Corp | 位相シフト量測定装置及び透過率測定装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190013517A (ko) | 2017-07-27 | 2019-02-11 | 호야 가부시키가이샤 | 포토마스크의 검사 방법, 포토마스크의 제조 방법, 및 포토마스크 검사 장치 |
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