JP4444984B2 - レチクル欠陥検査装置およびこれを用いた検査方法 - Google Patents
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Description
本実施の形態のレチクル欠陥検査装置は、パターンが形成されたレチクルに光を照射して得られるパターン画像を用いて、このレチクル上の欠陥を検査するレチクル欠陥検査装置である。そしてレチクルに検査光を照射する照明光学系と、検査光が照射されたレチクルのパターン画像を検出する検出光学系を備えている。そして、この照明光学系が、検査光の照度分布を均一化するためのインテグレータと、このインテグレータを、インテグレータの光軸に対して垂直方向に微動可能とする移動機構とを有することを特徴とする。
本実施の形態のレチクル欠陥検査装置は、インテグレータの移動機構にかえて、インテグレータのレチクル側の光路に設けられた光学的に透明な光路変更板を備え、この光路変更板をインテグレータの光軸に対して傾斜可能とする移動機構を有する以外は、第1の実施の形態と同様であるので記述を省略する。
14 インテグレータ
14a 前段インテグレータ
14b 後段インテグレータ
38 対物レンズ
50 レチクル
70 移動機構
72 移動機構
80 光路変更板
100 レチクル欠陥検査装置
104 照明光学系
170 検出光学系
Claims (7)
- パターンが形成されたレチクルに光を照射して得られるパターン画像を用いて前記レチクル上の欠陥を検査するレチクル欠陥検査装置であって、
前記レチクルに検査光を照射する照明光学系と、
前記検査光が照射されたレチクルのパターン画像を検出する検出光学系を備え、
前記照明光学系が、
前記検査光の照度分布を均一化するためのインテグレータと、
前記インテグレータを、複数回のレチクル欠陥検査を行った後、前記インテグレータの光軸に対して垂直方向に、移動前後で前記インテグレータによって形成される輝点面の輝点位置が重ならないよう離散的に移動可能とする移動機構と、
を有することを特徴とするレチクル欠陥検査装置。 - 前記移動機構が、前記インテグレータを、互いに垂直な2方向に移動可能であることを特徴とする請求項1記載のレチクル欠陥検査装置。
- 前記移動機構が、前記インテグレータを、レチクル欠陥検査終了後、次のレチクル欠陥検査開始前に移動することを特徴とする請求項1または請求項2記載のレチクル欠陥検査装置。
- パターンが形成されたレチクルに光を照射して得られるパターン画像を用いて前記レチクル上の欠陥を検査するレチクル欠陥検査装置を用いた検査方法であって、
前記レチクル欠陥検査装置が、
前記レチクルに検査光を照射する照明光学系と、
前記検査光が照射されたレチクルのパターン画像を検出する検出光学系を備え、
前記照明光学系が、
前記検査光の照度分布を均一化するためのインテグレータと、
前記インテグレータを、前記インテグレータの光軸に対して垂直方向に移動可能とする移動機構とを有し、
複数回のレチクル欠陥検査を行った後、前記インテグレータを、前記インテグレータの光軸に対して垂直方向に、移動前後で前記インテグレータによって形成される輝点面の輝点位置が重ならないよう離散的に移動することを特徴とする検査方法。 - 前記移動は、前記検査光の照射時間が所定の時間を超過した場合に行うことを特徴とする請求項4記載の検査方法。
- 前記インテグレータを移動した後に、さらにレチクル欠陥検査を継続し、前記インテグレータを移動することを繰り返す場合に、前記インテグレータの移動を、移動ごとにランダムに行うことを特徴とする請求項4または請求項5記載の検査方法。
- 前記インテグレータの移動を、レチクル欠陥検査終了後、次のレチクル欠陥検査開始前に行うことを特徴とする請求項4ないし請求項6いずれか一項記載の検査方法。
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