JP4444435B2 - プリント配線基板及びプリント配線基板の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、リジッド基板をコア材として、このリジッド基板の少なくとも一方の面にフレキシブル基板が積層されたプリント配線基板及びこのプリント配線基板の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、プリント配線基板の中には、ガラスエポキシ樹脂等を材料に用いる剛性を有するコア材に配線パターンが設けられた所謂リジッド基板と、可撓性を有するコア材に配線パターンが形成された所謂フレキシブル基板とがある。
【0003】
ところで、ディジタルモバイル機器等高性能の携帯型電子機器では、伝送速度の高速化、メモリの大容量化が求められている一方で、携帯性の向上のため小型化、軽量化が求められている。このような要求を背景として、プリント配線基板も、半導体I/Oピンの増加対応や軽量化が要求されている。
【0004】
そこで、上述したプリント配線基板の中には、基板を積層し、導電層を複数層設けた多層型プリント配線基板がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、多層型のリジッド基板は、各基板に各導電層との電気的接続を図るため貫通孔を形成する必要があり、この貫通孔を形成した際には、コア材上に設けられた導電層上及び貫通孔の内壁にめっき処理を施す必要かある。このため、多層型のリジッド基板では、各導電層を構成する銅箔の薄型化を図ることができず、全体の更なる薄型化及び軽量化、更には微細パターン(ファインパターン)を形成することが困難であった。また、多層型のリジッド基板は、コア材の両面に配線パターンを形成した後、この配線パターン形成されたコア材の両面に更にコア材を貼り合わせ、この貼り合わされたコア材に配線パターンを形成していく。このため、製造工程の途中で不良が発生した場合には、これ以前に貼り合わされた基板の全てを廃棄しなければならず、歩溜まりが多くなり、生産効率の向上、生産コストの削減等を図ることが困難であった。
【0006】
そこで、本発明は、基板全体の小型薄型化により軽量化を図ることができるプリント配線基板及びこのプリント配線基板の製造方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明に係るプリント配線基板は、上述した課題を解決すべく、コア材の少なくとも一方の面にランドが設けられたリジッド基板と、絶縁層の少なくとも一方の面に、銅箔をエッチングすることによりランドとの電気的接続を図るためのバンプが突出して設けられ、他方の面に、銅箔をエッチングすることによりバンプと対向する位置にランドが設けられたフレキシブル基板とを備える。そして、リジッド基板とフレキシブル基板とは、ランドとバンプとを対向させ、間に接着剤を介在させて一体成形される。
【0008】
また、以上のようなプリント配線基板の製造方法は、コア材の少なくとも一方の面にランドが設けられたリジッド基板を形成する工程と、絶縁層の少なくとも一方の面に、銅箔をエッチングすることによりランドとの電気的接続を図るためのバンプが突出して設けられ、他方の面に、銅箔をエッチングすることにより上記バンプと対向する位置にランドが設けられたフレキシブル基板を形成する工程と、ランドとバンプとを対向させ、リジッド基板とフレキシブル基板との間に接着剤を介在させて、リジッド基板とフレキシブル基板とを真空熱加圧し一体化する工程とを備える。
【0009】
【発明の実施の形態】
以下、本発明が適用されたプリント配線基板及びこのプリント配線基板の製造方法について、図面を参照して説明する。このプリント配線基板は、剛性を有するリジッド基板と可撓性を有するフレキシブル基板とを積層して構成したものである。
【0010】
このプリント配線基板1は、図1及び図2に示すように、リジッド基板2をコア材に用いて、このリジッド基板2の一方の面にフレキシブル基板3,4が積層され、他方の面にフレキシブル基板5,6が積層されてなる。すなわち、フレキシブル基板3,5は、リジッド基板2に貼り付けられる内層基板となり、フレキシブル基板4,6は、フレキシブル基板3,5に貼り付けられる外層基板となる。
【0011】
リジッド基板2は、図3に示すように、コア材11を有する。このコア材11は、ガラス布にエポキシ樹脂を含浸させて形成され、剛性を有する基板によりなる。また、このコア材は、難燃性の材料としてブロム等のハロゲン化合物の代わりに窒素、燐を主体とした難燃性化合物が用いられている。このコア材11には、その両面に、銅箔よりなる配線パターン12,13が形成されている。この配線パターン12,13が形成されたコア材11には、コア材11の各面に形成された配線パターン12,13の電気的接続を図るための貫通孔14,14が形成されている。そして、貫通孔14,14の内壁を含む配線パターン12,13上には、電解銅めっき法、無電解銅めっき法等により第1のめっき層15,16が形成されている。そして、第1のめっき層15,16が設けられた貫通孔14,14は、リジッド基板2の表面が平坦となるように例えば絶縁性の樹脂17が充填されている。すなわち、リジッド基板2は、貫通孔14を穴埋めすることで、各面に積層されるフレキシブル基板3,5のバンプが確実に接触されるようにするとともに、フレキシブル基板3,5を確実に貼り付けることができるようにしている。
【0012】
第1のめっき層15,16上には、貫通孔14,14に充填された絶縁性の樹脂17の表面にも導電層を形成するため、第2のめっき層18,19が形成されている。第2のめっき層18,19は、樹脂17の表面に設けられることで、フレキシブル基板3,5のバンプと確実に電気的接続ができるようにしている。なお、ここでは、樹脂17が絶縁性の場合について説明したが、ペースト状の配線パターン12,13の電気的接続を一層確実にするため導電性物質を充填するようにしてもよい。そして、第2のめっき層18,19上には、更に導電性に優れた金めっきにより形成された第3の導電層21,22が形成されている。このようなリジッド基板2は、貫通孔4上等がフレキシブル基板3,5のバンプが接続されるランド23,23として機能する。
【0013】
このように構成されるリジッド基板2は、剛性を有する基板であることから、これをコア材として、両面にフレキシブル基板3,4,5,6を容易に貼り付けることができる。
【0014】
以上のようなリジッド基板2に積層されるフレキシブル基板3,4,5,6は、次のような構成を有する。なお、フレキシブル基板3,4,5,6は、同様な構成を有することから、以下、リジッド基板2の一方の面側に積層されるフレキシブル基板3を例にとり説明する。
【0015】
このフレキシブル基板3は、図4に示すように、配線パターン30となる銅箔31を有し、この銅箔31の一方の面には、リジッド基板2のランド23,23との電気的接続を図るためのバンプ32,32が形成されている。また、銅箔31一方の面側には、難燃性の材料、例えばポリイミドよりなる第1の絶縁層33が形成されている。ここで、銅箔31上には、ポリイミドよりなる第1の絶縁層33との密着性を高めるためニッケルめっきにより第1のめっき層34が形成されている。また、銅箔31の他方の面には、難燃性の材料、例えばポリイミドよりなる第2の絶縁層36が形成されている。この第2の絶縁層36はパターニングされることで、銅箔31を外部に臨ませる開口部37が形成され、ここにランド38,38が形成されている。そして、第1の絶縁層33より外部に臨まされたバンプ32,32の先端部及びランド38,38の表面には、導電性に優れた金めっきにより第2のめっき層39,39が形成されている。
【0016】
ランド38,38は、銅箔31の他方の面に設けられ、具体的にバンプ32と対向する位置等に設けられてる。図1及び、図2に示すように、フレキシブル基板3,5のバンプ32,32は、リジッド基板2のランド23,23に接続され、フレキシブル基板4,6のバンプ32,32は、リジッド基板2に積層されたフレキシブル基板3,5のランド38,38に接続される。また、外層を構成するフレキシブル基板4,6のランド38,38には、ICチップ等の電子部品が実装される。
【0017】
そして、リジッド基板2とフレキシブル基板3,5との接着、フレキシブル基板3,4の接着及びフレキシブル基板5,6の接着は、図1及び図2に示すように、接着剤7,7,7,7によりなされる。そして、これらの基板2,3,4,5,6は、真空熱プレスにより一体にされる。ここで、接着剤7,7,7,7には、電子部品を実装する際の半田リフローの半田温度が230℃程度となるため、耐熱性に優れた接着剤が用いられる。具体的に、この接着剤7には、耐熱性を有すると共に焼却時に有害物質を発生させないためハロゲン化合物を用いないエポキシアクリル系接着剤が用いられる。そして、この接着剤7,7,7,7は、12μmから25μm程度の厚さに形成される。すなわち、接着剤7の厚さが12μmより薄い場合には、基板の接着強度を十分に得ることができなくなり、25μmより厚くした場合には、バンプ32,32が接着剤7より突出せず、ランド23,38との電気的接続を図ることができなくなるからである。また、接着剤7,7,7,7は、硬化するとき厚さ方向に硬化収縮することで隣接した基板を互いに近接する方向に引き寄せ、ランドとバンプの接続が確実になされるようにする。
【0018】
このようなプリント配線基板1は、剛性を有するリジッド基板2の両面にフレキシブル基板3,4,5,6を積層してなることから、フレキシブル基板3,4,5,6に微細なパターンを形成し、より多くの回路を形成することができ、全体の小型化を図ることができる。また、このプリント配線基板1は、剛性を有するリジッド基板2に対してフレキシブル基板3,4,5,6を貼り合わせるものであるから、フレキシブル基板同士を貼り合わせる場合に比べ、容易に貼り合わせることができる。更にまた、後述するように、このプリント配線基板1は、配線パターンが完成されたリジッド基板2に、フレキシブル基板3,4,5,6を貼り合わせるものであるから、導電層が複数層設けられた多層型のリジッド基板の場合と異なり、どの層とも自由に電気的接続をすることができる。また、このプリント配線基板1は、リジッド基板2に対してフレキシブル基板3,4,5,6を積層して形成するものであるから、全体の薄型化を図ることができる。
【0019】
また、プリント配線基板1は、リジッド基板2の貫通孔4等も樹脂17により穴埋めされていることから、フレキシブル基板4,6の表面が平滑化され、電子部品の実装を容易に行うことができる。更には、このプリント配線基板1は、リジッド基板2を構成するコア材11の難燃性の材料としてハロゲン化合物を用いておらず、また、フレキシブル基板3,4,5,6にもハロゲン化合物を用いることなくポリイミドを用い、更には接着剤7にもハロゲン化合物を用いていないことから、焼却時に有害物質が発生することを防止することができる。
【0020】
次に、以上のようなプリント配線基板1の製造方法について、図面を参照して説明する。このプリント配線基板1は、図2に示すように、リジッド基板2とフレキシブル基板3とフレキシブル基板4とフレキシブル基板5とフレキシブル基板6とがそれぞれ別に形成される。
【0021】
先ず、プリント配線基板1のコアとなるリジッド基板2の製造方法について説明する。図5(A)に示すように、リジッド基板2のコア材11には、厚さ0.2mmのガラス布にエポキシ樹脂を含浸させ、剛性を有する基板が用いられる。また、このコア材11は、難燃性の材料としてブロム等のハロゲン化合物を用いる代わりに窒素、燐等の難燃性化合物を用いて形成し、焼却時に有害物質を発生させないようにされている。そして、このコア材11の両面には、配線パターン12,13を形成するための導電層12a,13aが貼り付けられている。これら導電層12a,13aは、銅箔よりなり、厚さが12μmである。
【0022】
次いで、図5(B)に示すように、導電層12a,13aが設けられたコア材11には、導電層12a,13aの電気的接続を図るための貫通孔14,14がドリル径φ0.2mmのドリルマシンにより形成される。次いで、貫通孔14,14が形成されたコア材11は、高圧水洗により貫通孔14,14内に残ったバリが除去される。次いで、高圧洗浄で除去しきれなかった貫通孔14,14内のバリを除去するため、化学的なスミア除去が行われる。例えば、貫通孔14,14内のバリの除去は、硫酸法、クロム酸法、プラズマ法、過マンガン酸塩法等により行われる。なお、この化学的スミア除去を行う工程は、上述した高圧洗浄でスミアが十分除去できるのであれば行わなくてもよい。次いで、貫通孔14,14内のバリが完全に除去されたコア材11は、リジッド基板2の薄型化を図り、また、微細パターン(ファインパターン)を形成するため、導電層12a,13aがソフトエッチングされる。
【0023】
次いで、図5(C)に示すように、貫通孔14,14が形成されたコア材11の導電層12a,13aには、導電層12a,13aの電気的接続を図るため、電解銅めっき法や無電解銅めっき法により第1のめっき層15,16が形成される。第1のめっき層15,16は、貫通孔14,14の内壁にも設けられることで、導電層12a,13aの電気的接続を図る。第1のめっき層15,16は、約10μmの厚さに形成され、導電層12a,13aと第1のめっき層15,16とを合わせた厚さが約22μmとなるように形成される。
【0024】
次いで、図6(A)に示すように、第1のめっき層15,16が形成されたコア材11の貫通孔14,14内には、コア材11表面を平坦化するため、絶縁性の樹脂17が充填される。これにより、リジッド基板2は、貫通孔14,14が樹脂17により穴埋めされることで、コア材11の表面が平坦になり貫通孔14,14上でフレキシブル基板3,5のバンプ32,32と確実に接触するようにされる。なお、貫通孔14,14には、ペースト状の導電性物質を充填し、配線パターン12,13の電気的接続を一層確実にするようにしてもよい。
【0025】
次いで、図6(B)に示すように、第1のめっき層15,16は、リジッド基板2の薄型化を図り、また、微細パターンを形成するためソフトエッチングされる。具体的に、第1のめっき層15,16は、導電層12a,13aと第1のめっき層15,16とを合わせた厚さが約17μmとなるまでソフトエッチングされる。
【0026】
次いで、図6(C)に示すように、ソフトエッチングがされた第1のめっき層15,16上には、貫通孔14,14を穴埋めした樹脂17上に導電層を形成し、フレキシブル基板3,5のバンプのバンプ32,32と確実に電気的接続を図ることができるようにするため、電解銅めっき法や無電解銅めっき法により第2のめっき層18,19が形成される。具体的に、第2のめっき層18,19は、全体の厚みが約17μmから約27μmとなるように、約10μmの厚さに形成される。
【0027】
次いで、図6(D)に示すように、第2のめっき層18,19が形成されたコア材11上には、ドライフィルムが貼り合わされ、露光現像がされ、エッチングがされることによりパターニングがなされる。そして、第2のめっき層18,19上には、上記図3に示すように、更に導電性に優れる金めっきがなされ、第3の導電層21,22が形成される。これにより、貫通孔14,14上には、フレキシブル基板3,5のバンプ32,32のランド23,23が形成される。この後、第3のめっき層21,22の表面は、フレキシブル基板3,5を接着するための接着剤7との密着性を向上させるため、表面を溶剤により酸化させる黒化処理がなされる。プリント配線基板1では、このようにパターニングが終了したリジッド基板2がコア材に用いられ、このリジッド基板2の一方の面にフレキシブル基板3,4が積層され、他方の面にフレキシブル基板5,6が積層される。
【0028】
次いで、このリジッド基板2に積層されるフレキシブル基板3,4,5,6の製造方法について、フレキシブル基板3の製造方法を例に取り説明する。
【0029】
先ず、図7(A)に示すように、キャリアフィルム41には、配線パターン30やバンプ32を形成するための銅箔31が貼り合わされる。キャリアフィルム41は、銅箔31のみの場合銅箔31がしわになり、また、切断されたりするため、これらの弊害を防止する銅箔31の保護フィルムとして機能するものであり、例えばポリエチレンテレフタレート等の合成樹脂材料で、厚さが約200μmとなるように形成されている。そして、このキャリアフィルム41には、厚さ約40μmの紫外線硬化型の接着剤を介して、厚さが約55μmの銅箔が貼り合わされる。銅箔31をキャリアフィルム41に接着するとき、紫外線は、銅箔31側の面に50%、キャリアフィルム41側の面に30%の割合で照射される。すなわち、ここでは、キャリアフィルム41側の面を半硬化の状態にしておくことで、後の工程でキャリアフィルム41を剥がすことができるようにする。
【0030】
次いで、キャリアフィルム41に貼り合わされた銅箔31は、図7(B)に示すように、ドライフィルムが貼り合わされ、露光現像がされ、更にエッチングがなされることによりパターニングがなされる。これにより、銅箔31には、突出したバンプ32が形成される。このバンプ32は、銅箔31をエッチングすることにより形成されることから、高さのばらつきを小さくすることができる。次いで、バンプ32,32が形成された銅箔31の表面は、次工程で行われるニッケル(Ni)よりなる第1のめっき層34との密着性を向上させるため溶剤により粗化処理がなされる。
【0031】
次いで、図7(C)に示すように、バンプ32が形成された銅箔31の全面には、フレキシブル基板3のコア材となるポリイミドよりなる第1の絶縁層との密着性を向上させるためニッケル(Ni)よりなる第1のめっき層34が形成される。具体的に、この第1のめっき層34は、厚さが約1μmとなるように形成される。
【0032】
そして、第1のめっき層34上には、図8(A)に示すように、ポリアミク酸33aが塗布される。このポリアミク酸33aは、第1のめっき層34上に塗布厚が約200μmとなるように塗布され、半硬化されるまで乾燥される。これにより、乾燥後のポリアミク酸33aは、約20μmとなる。
【0033】
次いで、半硬化されたポリイミドよりなるポリアミク酸33a上には、図8(B)に示すように、グラビアロールによりレジスト42が乾燥後の厚みが約8μmとなるように塗布される。次いで、レジスト42は、ポリアミク酸33aを所定の形状にパターニングするため露光現像され、次いでアルカリエッチングがなされる。このとき、エッチングは、バンプ32,32の先端部がリジッド基板2のランド23,23と接続できるように外部に臨むまで行われる。すなわち、バンプ32,32上は、レジスト42が薄いため、バンプ32,32の先端部がポリアミク酸33aより外部に露出することになる。この後、図8(C)に示すように、レジスト42が剥離され、この後、半硬化状態のポリアミク酸33aが設けられた銅箔31からは、キャリアフィルム41が剥離される。
【0034】
なお、次工程で行うポリアミク酸33aのイミド化の前にキャリアフィルム41を銅箔31より剥離するのは、イミド化の際の加熱により銅箔31とキャリアフィルム41とを接着する接着剤が硬化し、また、キャリアフィルム41が溶融してしまうことを防ぐためである。
【0035】
次いで、図9(A)に示すように、キャリアフィルム41が銅箔31より剥離された後、ポリアミク酸33aは、イミド化するため、約350℃で加熱され、これにより、ポリイミドよりなる第1の絶縁層33が形成される。
【0036】
次いで、図9(B)に示すように、第1の絶縁層33が形成された側の面には、キャリアフィルム41と同様のキャリアフィルム43が紫外線硬化型の接着剤により貼り合わされる。
【0037】
この後、銅箔31には、図9(C)に示すように、ドライフィルムが貼り合わされ、露光現像がされ、更にエッチングがなされることによりパターニングがなされる。これにより、銅箔31は、配線パターン30が形成されるとともに、バンプ32,32と対向した位置にランド38,38が形成される。
【0038】
次いで、図10(A)に示すように、パターニングされた銅箔31上には、ポリアミク酸36aが塗布される。このポリアミク酸36aは、半硬化されるまで乾燥される。これにより、乾燥後のポリアミク酸36aは、約2μmとなる。
【0039】
次いで、ポリアミク酸36a上には、図示しないがレジストが塗布され、ポリアミク酸36aを所定の形状にパターニングするため露光現像され、次いでアルカリエッチングがなされる。これにより、銅箔31の一部が外部に臨まれ、図10(B)に示すように、ランド38,38が形成される。この後、レジストが剥離され、次いで、銅箔31からは、キャリアフィルム43が剥離される。なお、次工程で行うポリアミク酸36aのイミド化の前にキャリアフィルム43を銅箔31より剥離するのは、イミド化の際の加熱により銅箔31とキャリアフィルム43とを接着する接着剤が硬化し、また、キャリアフィルム43が溶融してしまうことを防ぐためである。
【0040】
次いで、図10(C)に示すように、キャリアフィルム43が銅箔31より剥離された後、ポリアミク酸36aは、イミド化するため、約320℃で加熱され、これにより、ポリイミドよりなる第2の絶縁層36が形成される。この後、ランド38,38に更に導電性に優れる金めっきがなされ、第2のめっき層39が形成され、上記図4に示すようにリジッド基板2に積層可能な状態となる。ところで、第1及び第2の絶縁層33,36を構成するポリイミドは、縮重合型であることから、ぬれ性が悪い。そこで、ポリイミドよりなる第1の絶縁層33の表面は、過マンガン酸カリウムやO2プラズマ処理等を施すことで接着性の向上が図られる。
【0042】
次に、以上のように製造されたリジッド基板2とフレキシブル基板3,4,5,6を貼り合わせる貼り合わせ工程について図面を参照して説明する。
【0043】
この貼り合わせ工程では、先ず、図11(A)に示すように、リジッド基板2の他方の面に貼り合わされるフレキシブル基板4の第1の絶縁層33側の面には、接着剤7が塗布され、接着剤7が塗布されたフレキシブル基板4は、バンプ32とランド23が対向するようにリジッド基板2の配線パターン13側の面に貼り合わさる。次いで、リジッド基板2の一方の面に貼り合わされるフレキシブル基板3の第1の絶縁層33側の面に、接着剤7が塗布され、接着剤7が塗布されたフレキシブル基板4は、バンプ32とランド23が対向するようにリジッド基板2の配線パターン12側の面に貼り合わさる。次いで、フレキシブル基板4上には、図11(B)に示すように、第1の絶縁層33上に接着剤7が塗布されたフレキシブル基板6がランド38にバンプ32が対向するように貼り合わされ、次いで、フレキシブル基板3上には、第1の絶縁層33上に接着剤7が塗布されたフレキシブル基板5がランド38にバンプ32が対向するように貼り合わされる。このようにリジッド基板2に対してフレキシブル基板3,4,5,6を貼り合わすとき、フレキシブル基板3,4,5,6は、剛性を有するリジッド基板2に対して貼り合わされることから、しわ等を生じさせることなく容易に貼り合わせることができる。
【0044】
なお、バンプ32とランド23,32との間には、異方性導電膜を設けるようにしてもよい。
【0045】
ここで、接着剤7には、次工程でプレスされることから圧感型の接着剤が用いられ、また、電子部品を実装する際の半田リフローの半田温度が230℃程度となるため、耐熱性に優れた接着剤が用いられる。具体的に、この接着剤7には、エポキシアクリル系接着剤が用いられる。そして、この接着剤7,7,7,7は、12μmから25μm程度の厚さに形成される。すなわち、図12に示すように、基板同士を貼り合わせるとき、ピール強度は、約1000g/cm以上必要である。そこで、そこで、接着剤7の厚みは、最低限度のピール強度を確保することができる厚さ、すなわち12μm以上必要となる。また、接着剤7のピール強度は、接着層が厚くなるに連れて高くなる傾向がある。一方で、接着剤7の厚みは、基板同士を貼り合わせたとき、バンプ32が接着剤7より突出する程度にする必要がある。そこで、ランド23,38とバンプ32との電気的接続を確実に確保するため、接着剤7の厚みは、25μm以下とされる。
【0046】
接着剤7によりリジッド基板2にフレキシブル基板3,4,5,6が接着剤7により貼り合わされると、次いで、これらの基板は、真空熱加圧法によりプレスされる。例えば、この真空熱加圧は、180℃、120分、40kg/cm2の条件で行われる。ここで、真空熱加圧法によるのは、加圧時に基板間にエアボイドが形成されることを防止するためである。また、超音波溶着法はオーミックコンタクトには優れるが、大面積の接続を図る場合には、真空熱加圧法の方が優れるからである。なお、真空熱加圧を行った後に、更に超音波溶着をオーミックコンタクトを確実にするため行うようにしてもよい。
【0047】
この後、接着剤7によりリジッド基板2にフレキシブル基板3,4,5,6が貼り合わされ真空熱加圧がなされた基板は、金型プレスやルーターにより外形加工等がなされることにより、図1に示すようなプリント配線基板1が完成される。そして、このように形成されたプリント配線基板1には、半田リフロー等の方法により電子部品が実装される。このとき、リジッド基板2の貫通孔14は、樹脂17により穴埋めされていることから、外層のフレキシブル基板5,6上は平滑に形成されており、電子部品を確実に取り付けることができる。
【0048】
なお、表1にプリント配線基板1の製造例を示す。
【0049】
【表1】
【0050】
表1より分かるように、従来のリジッド基板やフレキシブル基板の配線パターンよりプリント配線基板1のリジッド基板2の配線パターン12,13やランド23及びフレキシブル基板3,4,5,6の配線パターン30やランド38は、微細に形成される。したがって、本発明が適用されたプリント配線基板1では、従来のリジッド基板を積層し、導電層が複数層形成された多層型プリント配線基板を形成した場合より、高密度に配線パターンを形成することができることが分かる。
【0051】
以上のようなプリント配線基板1の製造方法では、リジッド基板2とプリント基板3,4,5,6とを別に形成し、最後に真空熱プレスにより一体化することで、上記図1に示すような小型化、薄型化が図られたプリント配線基板1を製造することができる。また、従来、多層型のリジッド基板を製造するときのように、コア材の両面に配線パターンを形成した後、この配線パターン形成されたコア材の両面に更にコア材を貼り合わせ、この貼り合わされたコア材に配線パターンを形成していくことがないことから、プリント配線基板1を構成する各基板の検査を行った後、各基板の貼り合わせを行うことができ、製造時の歩溜まりを少なくすることができる。また、フレキシブル基板3,4,5,6は、銅箔31に対するめっき処理の回数がリジッド基板2の場合より少ないことから、リジッド基板2より薄く形成することができる。そして、プリント配線基板1は、このようなフレキシブル基板を積層するものであることから、積層型リジッド基板より薄く形成することができる。
【0052】
次に、本発明が適用されたプリント配線基板1の他の例について、図13を参照して説明する。図13に示すプリント配線基板50は、リジッド基板51の両側にフレキシブル基板52,53,54,55が積層され、リジッド基板51の中央部に外部に臨まされ露呈部56が形成されてなることを特徴とする。リジッド基板51には、一方の面側にフレキシブル基板52が積層され、他方の面にフレキシブル基板53,54,55が積層されている。そして、これらフレキシブル基板52,53,54,55は、上述した接着剤7によりリジッド基板51に接着され、真空熱加圧により一体化されている。このようなプリント基板51は、リジッド基板51の両面の露呈部56に電子部品を実装することができるとともに、外層のフレキシブル基板52,55に電子部品を実装することができる。そして、フレキシブル基板52,53,54,55の何れか1枚を長く形成し、基板から延出するように形成し、これを他の電子部品との接続用に用いるようにしてもよい。なお、リジッド基板51及びフレキシブル基板52,53,54,55の製造方法については、上述したリジッド基板2及びフレキシブル基板3の製造方法と同様なため詳細は省略する。
【0053】
以上、本発明が適用されたプリント配線基板1について図面を参照して説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、リジッド基板2は、両面に配線パターン12,13が形成された両面型プリント配線基板に限定されるものではなく、導電層が3層以上設けられた多層型リジッド基板を用いてもよい。また、リジッド基板2上に積層されるフレキシブル基板は、両面又は片面に1層又はそれ以上設けてあるものでもよい。
【0054】
【発明の効果】
本発明に係るプリント配線基板によれば、剛性を有するリジッド基板の少なくとも一方の面にフレキシブル基板を積層してなることから、フレキシブル基板より多くの回路を形成することができ、全体の小型化を図ることができる。また、このプリント配線基板は、剛性を有するリジッド基板に対してフレキシブル基板を貼り合わせるものであるから、フレキシブル基板同士を貼り合わせる場合に比べ、容易に貼り合わせることができる。このプリント配線基板は、配線パターンが完成されたリジッド基板、フレキシブル基板を貼り合わせるものであるから、導電層が複数層設けられた多層型のリジッド基板の場合と異なり、どの層とも自由に電気的接続をすることができる。
【0055】
また、本発明が適用されたプリント配線基板の製造方法によれば、多層型のリジッド基板を製造するときのように、コア材の両面に配線パターンを形成した後、この配線パターン形成されたコア材の両面に更にコア材を貼り合わせ、この貼り合わされたコア材に配線パターンを形成していくことがないことから、各基板の検査を行った後、各基板の貼り合わせを行うことができ、製造時の歩溜まりを少なくすることができる。また、フレキシブル基板は、めっき処理の回数がリジッド基板の場合より少ないことから、リジッド基板より薄く形成することができる。そして、このようなフレキシブル基板を積層するものであることから、積層型リジッド基板より薄く形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明が適用されたプリント配線基板の要部断面図である。
【図2】上記プリント配線基板の分解した状態の要部断面図である。
【図3】上記プリント配線基板を構成するリジッド基板の要部断面図である。
【図4】上記プリント配線基板を構成するフレキシブル基板の要部断面図である。
【図5】リジッド基板の製造工程を説明する図であり、(A)は、両面に銅箔が設けられたコア材の要部断面図であり、(B)は、コア材に貫通孔を形成し、銅箔をエッチングした状態を示す要部断面図であり、(C)は、銅箔上に第1のめっき層が形成された状態を示す要部断面図である。
【図6】リジッド基板の製造工程を説明する図であり、(A)は、コア材に設けられた貫通孔内に樹脂が充填された状態を示す要部断面図であり、(B)は、第1のめっき層がエッチングされた状態を示す要部断面図であり、(C)は、第1のめっき層上に樹脂に蓋をするため第2のめっき層が形成された状態を示す要部断面図であり、(D)は、第2のめっき層上に第3のめっき層が形成された状態を示す要部断面図である。
【図7】フレキシブル基板の製造工程を示す図であり、(A)は、キャリアフィルムに銅箔が貼り合わされた状態を示す要部断面図であり、(B)は、銅箔がエッチングされ、配線パターンやバンプが形成された状態を示す要部断面図であり、(C)は、銅箔表面に第1のめっき層が形成された状態を示す要部断面図である。
【図8】フレキシブル基板の製造工程を示す図であり、(A)は、銅箔上にポリアミク酸が塗布された状態を示す要部断面図であり、(B)は、ポリアミク酸上にレジストが塗布された状態を示す要部断面図であり、(C)は、露光現像後レジストが除去され、バンプの先端部がポリアミク酸33aより突出した状態を示す要部断面図である。
【図9】フレキシブル基板の製造工程を示す図であり、(A)は、ポリアミク酸がイミド化され、ポリイミドよりなる第1の絶縁層が形成された状態を示す要部断面図であり、(B)は、バンプが形成された面側に更なるキャリアフィルムが貼り付けられた状態を示す要部断面図であり、(C)は、銅箔がパターニングされた配線パターンが形成された状態を示す要部断面図である。
【図10】フレキシブル基板の製造工程を示す図であり、(A)は、パターニングされた銅箔上にポリアミク酸が塗布された状態を示す要部断面図であり、(B)は、ポリアミク酸がパターニングされた状態を示す要部断面図であり、(C)は、ポリアミク酸がイミド化され、ポリイミドよりなる第2の絶縁層が形成された状態を示す要部断面図である。
【図11】リジッド基板よフレキシブル基板との貼り合わせ工程を説明する図であり、(A)は、リジッド基板に内層基板となるフレキシブル基板が貼り合わされる状態を示す要部断面図であり、(B)は、内層となるフレキシブル基板上に外層となるフレキシブル基板が貼り合わされる状態を示す要部断面図である。
【図12】基板同士を貼り合わされる接着剤の厚さとピール強度との関係を示す図である。
【図13】本発明が適用されたプリント配線基板の他の例を示す斜視図である。
【符号の説明】
1 プリント配線基板、2 リジッド基板、3〜6 フレキシブル基板、7 接着剤、11 コア材、12,13 配線パターン、14 貫通孔、15,16 第1のめっき層、17 樹脂、18,19 第2のめっき層、21,22 第3のめっき層、30 配線パターン、31 銅箔、32 バンプ、33 第1の絶縁層、34 第1のめっき層、36 第2の絶縁層、37 開口部、39 第2のめっき層、41,43 キャリアフィルム、42 レジスト
Claims (7)
- コア材の少なくとも一方の面にランドが設けられたリジッド基板と、
絶縁層の少なくとも一方の面に、銅箔をエッチングすることにより上記ランドとの電気的接続を図るためのバンプが突出して設けられ、他方の面に、銅箔をエッチングすることにより上記バンプと対向する位置にランドが設けられたフレキシブル基板とを備え、
上記リジッド基板と上記フレキシブル基板とは、上記ランドと上記バンプとを対向させ、間に接着剤を介在させて一体成形されてなることを特徴とするプリント配線基板。 - 上記フレキシブル基板は、上記ランドの直径が略70μm、上記バンプの直径が略35μmである請求項1記載のプリント配線基板。
- 上記リジッド基板は、両面に上記ランドが設けられ、両面に上記フレキシブル基板が積層して設けられていることを特徴とする請求項1又は請求項2記載のプリント配線基板。
- 上記フレキシブル基板は、上記リジッド基板の両側に積層して設けられ、上記フレキシブル基板の間には、上記リジッド基板が外部に臨まされた露出部が設けられていることを特徴とする請求項1又は請求項2記載のプリント配線基板。
- コア材の少なくとも一方の面にランドが設けられたリジッド基板を形成する工程と、
絶縁層の少なくとも一方の面に、銅箔をエッチングすることにより上記ランドとの電気的接続を図るためのバンプが突出して設けられ、他方の面に、銅箔をエッチングすることにより上記バンプと対向する位置にランドが設けられたフレキシブル基板を形成する工程と、
上記ランドと上記バンプとを対向させ、上記リジッド基板と上記フレキシブル基板との間に接着剤を介在させて、上記リジッド基板と上記フレキシブル基板とを真空熱加圧し一体化する工程とを備えるプリント配線基板の製造方法。 - 上記フレキシブル基板は、上記ランドの直径が略70μm、上記バンプの直径が略35μmである請求項5記載のプリント配線基板の製造方法。
- 上記リジッド基板の両面に配線パターンが形成されているとき、上記両面に導電層が設けられたコア材に貫通孔を形成する工程と、上記貫通孔を含むコア材の全面にめっき処理を施す工程と、上記内壁にめっき層が形成された貫通孔を穴埋めする工程と、上記貫通孔が穴埋めされたコア材上に更にめっき処理を施す工程と、めっき処理がなされた上記導電層をパターニングして配線パターンと上記バンプが接続されるランドを形成する工程とを有することを特徴とする請求項5又は請求項6記載のプリント配線基板の製造方法。
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