JP2003270776A - 平版印刷版用原版及び平版印刷版の製版方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 画像形成性を損なわずに印刷時の汚れと耐刷
性の両立ができ、かつ現像液を長時間分散安定化できる
平版印刷版及びその製版方法を提供する。 【解決手段】 アルミニウム支持体上に、親水性の高い
ジオール成分を含有するポリウレタン樹脂バインダーと
疎水性の高いジオール成分を含有するポリウレタン樹脂
バインダーを含むポリウレタン樹脂バインダーを含有す
る光重合系感光層を有する平版印刷版用原版、及びこれ
を画像露光した後、式Ａ−Ｗ（式中、ＡはＡ−Ｈのｌｏ
ｇＰが１．５以上の疎水性有機基、ＷはＷ−Ｈのｌｏｇ
Ｐが１．０未満の非イオン性の親水性有機基）で表され
る非イオン性化合物を含有し、かつ一定範囲内のＳｉＯ
₂／Ｍ₂Ｏモル比（Ｍはアルカリ金属又はアンモニウム
基）、ｐＨ、及び電導度を有するアルカリ現像液で現像
する平版印刷版の製版方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光重合型感光性平
版印刷版及びその製版方法に関するものである。さらに
詳しくは、長期間の経時や繰り返しの使用による現像特
性の低下がなく、かつ、平版印刷版の非画像部（未露光
部）に対し良好な現像性を有し印刷での汚れを防止する
と共に、画像部（露光部）に対しての現像ダメージが少
なく強固な画像を形成し、高い耐刷性を実現する光重合
型感光性平版印刷版及びその製版方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より光重合性の平版印刷版原版用の
現像液として広く用いられているものとしては大きく分
類すると、次のa)〜c)の３種類のものが知られている。
a)有機溶剤を主にした非水系の現像液、b)無機アルカリ
を主にした水系現像液、c)有機塩基を主にした水系現像
液である。これらの内、昨今では、環境問題の要請か
ら、b)、c)の水系現像液が使用されている。これら２つ
の現像液の特徴を詳しく述べると、b)の無機アルカリ現
像液には通常現像後に支持体上の親水化処理を施すため
に、ｐＨ１２付近で、珪酸塩が含有されていることが特
徴である。この珪酸塩は印刷時の非画像部の汚れを防止
するための親水化処理において使用される必須成分であ
る。

【０００３】たとえば、特開平８−２４８６４３号に記
載のｐＨ１２以上の現像液や、特開平１１−６５１２９
号記載のｐＨ１２以下の現像液が知られているが、前者
のｐＨ１２以上の現像液の場合には、通常支持体に用い
るアルミを溶解しやすく、特に画像面積の小さな点（小
点）の場合にはサイドエッチング現象により、その画像
部直下のアルミ支持体を溶解することで、印刷時に小点
が支持体から取れる現象（小点飛び）が発生し、つま
り、耐刷性を著しく劣化させるという問題があった。ま
た、後者のｐＨ１２以下の場合には、上述の耐刷性と印
刷汚れ防止の点では好ましいが、長期間の現像処理を続
けていくと、例えば、空気中の炭酸ガスによる効果等に
よりｐＨが低下しやすく、この際に珪酸塩が現像液中に
析出し現像処理を安定にできなくなるという新たな問題
があった。その他、珪酸塩を含有しない現像液の試みと
して、特開昭６１−１０９０５２号、西ドイツ特許第１
９８４６０５号、特開２０００−８１７１１号、特開平
１１−６５１２６号などに開示されているが、いずれも
印刷汚れの点で珪酸塩含有のものより不利なだけでな
く、耐刷性との両立も困難であった。

【０００４】一方、c)の有機塩基現像液としては、エタ
ノールアミン等の有機アミン及び、現像補助剤としてベ
ンジルアルコール等のアルコール系有機溶剤を含有する
ものが知られているが、この場合には、確かにｐＨ１０
程度と低く、炭酸ガスの影響を受けにくく処理安定性は
良いが、やはり、支持体に対する親水化の点で不利であ
るだけでなく、今度は画像部への浸透力が高過ぎ、特に
小点に対して悪影響を及ぼし、現像時に支持体から小点
がとれる現象が生じるという画像形成性を劣化させる問
題があった。すなわち、光重合性の平版印刷版に関して
は、画像形成性、印刷汚れと耐刷性、処理安定性などを
考慮すると適した現像液がないのが実状である。また、
現像液組成に関しては珪酸塩の含有の有無、ｐＨの高
低、無機アルカリと有機アルカリの相違などが、現像現
象に非常に影響を及ぼすことがわかるが、従来の組み合
わせでは上記の問題を解決することはできなかった。

【０００５】さらに、従来から光重合性の平版印刷版で
は、長期間現像処理を続けていると現像液中に不溶物が
蓄積、凝集沈降し現像カスとなり現像処理を不安定化す
る要因になっていた。このような現像カスの成分はこれ
まで明らかとはなっていなかったが、分析の結果、その
多くは、感光層中に含まれる現像液不溶解成分であるこ
とが判明した。その不溶解成分としては、例えば、露光
部と未露光部を識別するために感光層に添加している種
々の着色剤が挙げられる。これらの着色剤として、光重
合系感光層では、ラジカル捕捉による減感や開始系（開
始剤単独或いは増感色素と開始剤との組み合わせなど）
との不必要な相互作用（エネルギー移動や電子移動）に
よる減感を避ける目的で、感光層中に分子分散せずに結
晶状態を保った集合体として分散される、いわゆる顔料
が用いられている。しかしこのような顔料は本質的に現
像液に不溶であるため、未露光部を除去するための現像
工程において、はじめは一時的に現像液に分散している
が、長期間現像処理を続けていると現像液中に蓄積、凝
集沈降し現像カスとなる。

【０００６】また、光重合性の平版印刷版には、近年発
達してきたレーザー光源に対応すべく様々な光重合開始
剤（ラジカル発生剤）が使用されているが、その中でも
レーザー光源波長域に感光性を有し、安定性と感度の点
で優れた開始剤として、チタノセン系の開始剤が知られ
ている。しかしこのチタノセン系開始剤は有機金属であ
り、上述の着色剤顔料と同様に、現像液に不溶のもので
あり、一時的に現像液に分散しているが、長期間現像処
理を続けていると現像液中に蓄積、凝集沈降し、やはり
現像カスとなる。上述のｐＨ低下に伴う珪酸塩析出の問
題だけでなく処理安定性に関しては、このような現像カ
スの問題を解決することも非常に重要である。

【０００７】一方、印刷版の高耐刷化の施策としては、
例えば特開平３−２８７１６５号、特開平４−２０４４
５３号公報等に記載のように、バインダーとして高強度
なウレタンポリマーを用いる試みがなされてきた。しか
し、いずれも上記現像液との組み合わせでは、その機能
を十分に発揮することはできず、満足な耐刷性は得られ
ていなかった。以上のように、画像形成性、印刷汚れと
耐刷性の両立、処理安定性を満足する平版印刷版及びそ
の製版方法が望まれている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明
は、上記従来の技術の欠点を克服し、画像形成性を損な
わずに印刷時の汚れと耐刷性の両立ができ、かつ、上述
の現像液不溶性化合物を溶解或いは長時間分散安定化で
き、処理安定性をも向上することができる平版印刷版及
びその製版方法を提供しようとするものである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
した結果、下記構成により、上記の課題を達成すること
に成功した。即ち、本発明は、アルミニウム支持体上
に、ポリウレタン樹脂バインダー、付加重合可能なエチ
レン性不飽和結合を有する化合物、および光重合開始剤
を含有する感光層を有する平版印刷版用原版であって、
前記ポリウレタン樹脂バインダーが、少なくとも下記
（i）、（ii）及び（iii）の化合物より合成されるポリ
ウレタン樹脂バインダー（Ｂ１）並びに少なくとも下記
（i）、（ii）及び（iv）の化合物より合成されるポリ
ウレタン樹脂バインダー（Ｂ２）を含むものであること
を特徴とする、上記平版印刷版用原版； （i）少なくとも１種のジイソシアネート化合物、（i
i）少なくとも１つのカルボキシル基を有する少なくと
も１種のジオール化合物、（iii）ｌｏｇＰ値が０未満
の少なくとも１種のジオール化合物、（iv）ｌｏｇＰ値
が０より大きい少なくとも１種のジオール化合物、ただ
し、（iii）及び（iv）の化合物はカルボキシル基を有
するジオール化合物を除く化合物である、及び上記平版
印刷版用原版を、レーザー光で画像露光した後、下記一
般式（Ｉ）で表される非イオン性化合物を含有し、ｐＨ
が１１．５〜１２．８であり、かつ３〜３０ｍＳ／ｃｍ
の電導度を有するアルカリ現像液で現像する平版印刷版
の製版方法； Ａ−Ｗ （Ｉ） （式中、ＡはＡ−ＨのｌｏｇＰが１．５以上の疎水性有
機基を表し、ＷはＷ−ＨのｌｏｇＰが１．０未満の非イ
オン性の親水性有機基を表す。）、を提供する。

【００１０】本発明の好ましい実施態様として、上記一
般式（I)で表される非イオン性化合物として具体的に、
下記式（Ｉ−Ａ）で示されるノニオン芳香族エーテル系
活性剤および下記式（Ｉ−Ｂ）で示されるノニオン芳香
族エーテル系活性剤から選ばれる少なくとも１種が好ま
しく使用される。

【００１１】

【化１】

【００１２】（Ｒ₁₀、Ｒ₂₀は、Ｈまたは炭素数１〜１０
０の炭化水素基であり、ｎ、ｍは０〜１００の整数（た
だし、ｎ及びｍは同時に０ではない）である。）

【００１３】本発明の製版方法の好ましい実施態様とし
て、上記方法において現像液が更にアルカリ珪酸塩をＳ
ｉＯ₂／Ｍ₂Ｏモル比（Ｍはアルカリ金属塩またはアンモ
ニウム塩）で０．７５〜４．０の範囲で含有することを
特徴とする製版方法が挙げられる。本発明の製版方法の
好ましい実施態様として、上記方法において未露光部の
現像速度が０．０５μｍ／ｓ以上、且つ露光部の現像液
浸透速度が０．１μｍ／ｓ以下となるように現像するこ
とが挙げられる。本発明の製版方法の好ましい実施態様
として、上記方法においてポリウレタン樹脂バインダー
Ｂ１およびＢ２それぞれが０．２〜４．０ｍｅｑ／ｇの
酸価を有し、かつ感光層が１．０ｍｅｑ／ｇ以下の酸価
を有することが挙げられる。また、本発明の製版方法の
好ましい実施態様として、上記方法において感光層がチ
タノセン系開始剤及び着色剤（顔料）からなる群から選
択される少なくとも一種を含有することが挙げられる。

【００１４】上記のとおり、本発明は、特殊な成分から
なる現像液を用い、かつ感光層に特定のポリウレタン樹
脂バインダーを使用することにより、画像形成性を損な
わずに印刷時の汚れと耐刷性の両立ができ、かつ、上述
の現像液不溶性化合物を溶解或いは長時間分散安定化で
き、処理安定性をも向上することに成功した。

【００１５】特殊な現像液とは、現像液組成物として以
下の要件を満たすものであると現在のところは考えてい
る。第１に画像形成性に対し極めて良好な働きをするこ
と（未露光部の現像性は高く、露光部に対する現像液の
浸透性は低い。また、感光層の溶解挙動は非膨潤的であ
り、感光層表面から順に溶解していく）。第２に未露光
部の感光層を完全に除去することができ、支持体表面を
印刷汚れの発生しない親水面として再生できることであ
る。第３に上述の現像不溶性化合物を安定に分散或いは
可溶化するため、これらの不溶性化合物と相互作用する
疎水性サイトと水中で分散安定化させる親水性サイトを
有する前記一般式（Ｉ）の非イオン性化合物を含有する
こと。第４に現像処理時の不安定化要因となる、水に含
有されるＣａイオン等の２価金属を除去するキレート剤
を含有すること。

【００１６】この内、第１、第２に関しては感光層成分
の特徴も重要な要因である。特に光重合性の平版印刷版
の感光層が特定のポリウレタン樹脂バインダーを含むこ
とにより、上記現像液の効果との相乗効果を得ることが
できる。また、感光層酸価が従来のものよりも低いと、
上記効果がより顕著となるため重要であると考えられ
る。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の平版印刷版の製版
方法について、さらに詳細に説明する。初めに、本発明
に使用される平版印刷版用原版について説明する。本発
明に使用される平版印刷版用原版は、アルミニウム支持
体上に、ポリウレタン樹脂バインダー、付加重合可能な
エチレン性不飽和結合を有する化合物、および光重合開
始剤を含有する感光層を有するものである。

【００１８】［感光層］本発明に使用される平版印刷版
用原版の感光層は、ポリウレタン樹脂バインダー、付加
重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物及び光
重合開始剤を含有する感光性組成物をアルミニウム支持
体上に設けたものである。すなわち、本発明に使用され
る感光層の必須成分は、 ａ）ポリウレタン樹脂バインダー ｂ）付加重合可能なエチレン性不飽和結合を含む化合物 ｃ）光重合開始剤、 であり、必要に応じ、着色剤、可塑剤、熱重合禁止剤等
の種々の化合物が添加される。

【００１９】まず、本発明で使用するポリウレタン樹脂
バインダーａ）について説明する。本発明の感光層の必
須成分であるポリウレタン樹脂バインダーは、少なくと
も下記（i）、（ii）及び（iii）の化合物より合成され
るポリウレタン樹脂バインダー（Ｂ１）並びに少なくと
も下記（i）、（ii）及び（iv）の化合物より合成され
るポリウレタン樹脂バインダー（Ｂ２）をそれぞれ一種
ずつ含有する。 （i）少なくとも１種のジイソシアネート化合物、（i
i）少なくとも１つのカルボキシル基を有する少なくと
も１種のジオール化合物、（iii）ｌｏｇＰ値が０未満
の少なくとも１種のジオール化合物、（iv）ｌｏｇＰ値
が０より大きい少なくとも１種のジオール化合物 ただし、（iii）及び（iv）の化合物はカルボキシル基
を有するジオール化合物を除く化合物である。親水性の
高いジオール成分を含有するポリウレタン樹脂バインダ
ー（Ｂ１）と疎水性の高いジオール成分を含有するポリ
ウレタン樹脂バインダー（Ｂ２）を組み合わせることに
よって、低い感光層酸価であっても未露光部の現像性を
低下させることなく、露光部の現像ダメージを抑制する
ことができ、良好な汚れ性と高い耐刷性を兼ね備えるこ
とができる。ポリウレタン樹脂バインダー（Ｂ１）と
（Ｂ２）の使用重量比は、成分（iii）及び（iv）のｌ
ｏｇＰ値や含有量、バインダーの酸価や分子量、感光層
酸価、さらには現像液の組成やｐＨによって適宜選択さ
れるが、例えば（Ｂ１）／（Ｂ２）（重量比）＝１／９
〜９／１、好ましくは２／８〜８／２、より好ましくは
３／７〜７／３である。ポリウレタン樹脂バインダー
（Ｂ１）またはポリウレタン樹脂バインダー（Ｂ２）に
は後述するように上記化合物に加えて（v）その他のア
ミノ基含有化合物をそれぞれのポリウレタン樹脂構造中
に組み入れることもできる。

【００２０】（i）ジイソシアネート化合物 ジイソシアネート化合物としては、式（１）で表される
ジイソシアネート化合物が挙げられる。

【００２１】

【化２】 式中、Ｌは置換基を有していてもよい２価の脂肪族また
は芳香族炭化水素基を示す。必要に応じ、Ｌはイソシア
ネート基と反応しない他の官能基、例えばエステル、ウ
レタン、アミド、ウレイド基を有していてもよい。より
具体的にはＬは、単結合、置換基（例えば、アルキル、
アラルキル、アリール、アルコキシ、ハロゲノの各基が
好ましい。）を有していてもよい２価の脂肪族または芳
香族炭化水素基を示す。好ましくは炭素数１〜２０個の
アルキレン基、炭素数６〜１５個のアリーレン基、さら
に好ましくは炭素数１〜８個のアルキレン基を示す。ま
た必要に応じ、Ｌ中にイソシアネート基と反応しない他
の官能基、例えばカルボニル、エステル、ウレタン、ア
ミド、ウレイド、エーテル基を有していてもよい。

【００２２】具体的には以下に示すものが挙げられる。
すなわち、２，４−トリレンジイソシアネート、２，４
−トリレンジイソシアネートの二量体、２，６−トリレ
ンジレンジイソシアネート、ｐ−キシリレンジイソシア
ネート、ｍ−キシリレンジイソシアネート、４，４’−
ジフェニルメタンジイソシアネート、１，５−ナフチレ
ンジイソシアネート、３，３’−ジメチルビフェニル−
４，４’−ジイソシアネート等のような芳香族ジイソシ
アネート化合物；ヘキサメチレンジイソシアネート、ト
リメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイ
ソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等のような
脂肪族ジイソシアネート化合物；イソホロンジイソシア
ネート、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソ
シアネート）、メチルシクロヘキサン−２，４（または
２，６）ジイソシアネート、１，３−（イソシアネート
メチル）シクロヘキサン等のような脂環族ジイソシアネ
ート化合物；１，３−ブチレングリコール１モルとトリ
レンジイソシアネート２モルとの付加体等のようなジオ
ールとジイソシアネートとの反応物であるジイソシアネ
ート化合物等が挙げられる。ジイソシアネート化合物は
単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いて
もよい。耐刷性と汚れ性のバランスの点で、２種以上を
組み合わせて用いるのが好ましく、芳香族ジイソシアネ
ート化合物（Ｌが芳香族基）と脂肪族ジイソシアネート
化合物（Ｌが脂肪族基）をそれぞれ少なくとも１種ずつ
用いることが特に好ましい。ジイソシアネート化合物
は、ポリウレタン樹脂バインダー（Ｂ１）と（Ｂ２）に
おいて同一であってもよいし、異なっていてもよい。ま
た、それぞれについて２種以上を組み合わせて用いても
よい。耐刷性と汚れ性のバランスの点で、ポリウレタン
樹脂バインダー（Ｂ１）と（Ｂ２）にはそれぞれ異なる
ジイソシアネート化合物を用いることが好ましく、芳香
族ジイソシアネート化合物（Ｌが芳香族基）と脂肪族ジ
イソシアネート化合物（Ｌが脂肪族基）をそれぞれ少な
くとも１種ずつ用いることがより好ましい。ポリウレタ
ン樹脂バインダー（Ｂ１）には脂肪族ジイソシアネート
化合物を、ポリウレタン樹脂バインダー（Ｂ２）には芳
香族ジイソシアネート化合物をそれぞれ少なくとも１種
ずつ用いることが特に好ましい。ジイソシアネートの使
用量は、ジオール化合物に対してモル比で好ましくは
０．８〜１．２、より好ましくは０．９〜１．１であ
る。ジイソシアネート化合物をジオール化合物に対して
過剰に用い、ポリマー末端にイソシアネート基が残存す
るような場合には、ウレタン化反応終了後にアルコール
類またはアミン類等で処理することにより、最終的にイ
ソシアネート基が残存しない形で合成されることが好ま
しい。

【００２３】（ii）少なくとも１つのカルボキシル基を
有する少なくとも１種のジオール化合物 少なくとも１つのカルボキシル基を有する少なくとも１
種のジオール化合物としては、式（２）、（３）、
（４）のジオール化合物および／または、テトラカルボ
ン酸２無水物をジオール化合物で開環させた化合物が挙
げられる。カルボン酸２無水物を開環させるために使用
されるジオール化合物としては、後述する（iii）また
は（iv）として記載されるジオール化合物を使用するこ
とができる。

【００２４】

【化３】

【００２５】Ｒ₁は水素原子、置換基（例えば、シア
ノ、ニトロ、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−
Ｉ）、−ＣＯＮＨ₂、−ＣＯＯＲ₁₁₃、−ＯＲ₁₁₃、−Ｎ
ＨＣＯＮＨＲ₁₁₃、−ＮＨＣＯＯＲ₁₁₃、−ＮＨＣＯＲ
₁₁₃、−ＯＣＯＮＨＲ₁₁₃（ここで、Ｒ₁₁₃は炭素数１〜
１０のアルキル基、炭素数７〜１５のアラルキル基を示
す。）などの各基が含まれる。）を有していてもよいア
ルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、アリーロ
キシ基を示し、好ましくは水素原子、炭素数１〜８個の
アルキル、炭素数６〜１５個のアリール基を示す。
Ｌ₁₀、Ｌ₁₁、Ｌ₁₂はそれぞれ同一でも相違していてもよ
く、単結合、置換基（例えば、アルキル、アラルキル、
アリール、アルコキシ、ハロゲノの各基が好ましい。）
を有していてもよい２価の脂肪族または芳香族炭化水素
基を示す。好ましくは炭素数１〜２０個のアルキレン
基、炭素数６〜１５個のアリーレン基、さらに好ましく
は炭素数１〜８個のアルキレン基を示す。また必要に応
じ、Ｌ₁₀、Ｌ₁₁、Ｌ₁₂中にイソシアネート基と反応しな
い他の官能基、例えばカルボニル、エステル、ウレタ
ン、アミド、ウレイド、エーテル基を有していてもよ
い。なおＲ₁、Ｌ₁₀、Ｌ₁₁、Ｌ₁₂のうちの２または３個
で環を形成してもよい。Ａｒは置換基を有していてもよ
い三価の芳香族炭化水素基を示し、好ましくは炭素数６
〜１５個の芳香族基を示す。

【００２６】式（２）、（３）または（４）で示される
カルボキシル基を有するジオール化合物としては具体的
には以下に示すものが含まれる。

【００２７】すなわち、３，５−ジヒドロキシ安息香
酸、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸、
２，２−ビス（２−ヒドロキシエチル）プロピオン酸、
２，２−ビス（３−ヒドロキシプロピル）プロピオン
酸、ビス（ヒドロキシメチル）酢酸、ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）酢酸、２，２−ビス（ヒドロキシメチ
ル）酪酸、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペ
ンタン酸、酒石酸、Ｎ，Ｎ−ジヒドロキシエチルグリシ
ン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−カル
ボキシ−プロピオンアミド等が挙げられる。

【００２８】また、少なくとも１つのカルボキシル基を
有する少なくとも１種のジオール化合物の生成において
用いられる好ましいテトラカルボン酸２無水物として
は、式（５）、（６）、（７）で示されるものが挙げら
れる。

【００２９】

【化４】

【００３０】式中、Ｌ₂₁は単結合、置換基（例えばアル
キル、アラルキル、アリール、アルコキシ、ハロゲノ、
エステル、アミドの各基が好ましい。）を有していても
よい二価の脂肪族または芳香族炭化水素基、−ＣＯ−、
−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｏ−または−Ｓ−を示す。好
ましくは単結合、炭素数１〜１５個の二価の脂肪族炭化
水素基、−ＣＯ−、−ＳＯ₂−、−Ｏ−または−Ｓ−を
示す。Ｒ₂、Ｒ₃は同一でも相違していてもよく、水素原
子、アルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、ま
たはハロゲノ基を示す。好ましくは、水素原子、炭素数
１〜８個のアルキル、炭素数６〜１５個のアリール、炭
素数１〜８個のアルコキシ、またはハロゲノ基を示す。
またＬ₂₁、Ｒ₂、Ｒ₃のうちの２つが結合して環を形成し
てもよい。Ｒ₄、Ｒ₅は同一でも相違していてもよく、水
素原子、アルキル、アラルキル、アリールまたはハロゲ
ノ基を示す。好ましくは水素原子、炭素数１〜８個のア
ルキル、または炭素数６〜１５個のアリール基を示す。
またＬ₂₁、Ｒ₄、Ｒ₅のうちの２つが結合して環を形成し
てもよい。Ｌ₂₂、Ｌ₂₃は同一でも相違していてもよく、
単結合、二重結合、または二価の脂肪族炭化水素基を示
す。好ましくは単結合、二重結合、またはメチレン基を
示す。Ａは単核または多核の芳香環を示す。好ましくは
炭素数６〜１８個の芳香環を示す。

【００３１】式（５）、（６）または（７）で示される
化合物としては、具体的には以下に示すものが含まれ
る。

【００３２】すなわち、ピロメリット酸二無水物、３，
３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物、３，３’，４，４’−ジフェニルテトラカルボン
酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボ
ン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカル
ボン酸二無水物、４，４’−スルホニルジフタル酸二無
水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）
プロパン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニ
ル）エーテル二無水物、４，４’−［３，３’−（アル
キルホスホリルジフェニレン）−ビス（イミノカルボニ
ル）］ジフタル酸二無水物、ヒドロキノンジアセテート
とトリメット酸無水物の付加体、ジアセチルジアミンと
トリメット酸無水物の付加体などの芳香族テトラカルボ
ン酸二無水物；５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフ
リル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジ
カルボン酸無水物（大日本インキ化学工業（株）製、エ
ピクロンＢ−４４００）、１，２，３，４−シクロペン
タンテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−シク
ロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、テトラヒドロフ
ランテトラカルボン酸二無水物などの脂環族テトラカル
ボン酸二無水物；１，２，３，４−ブタンテトラカルボ
ン酸二無水物、１，２，４，５−ペンタンテトラカルボ
ン酸二無水物などの脂肪族テトラカルボン酸二無水物が
挙げられる。

【００３３】これらのテトラカルボン酸二無水物をジオ
ール化合物で開環することにより、（ii）少なくとも一
つのカルボキシル基を有する少なくとも１種のジオール
化合物を合成することができる。ただし、ジオール化合
物と（i）ジイソシアネート化合物との反応を初めに行
い、この反応物と上記テトラカルボン酸二無水物とを反
応させることにより本発明のポリウレタン樹脂を合成す
ることも可能であり、この方法も本発明の観点に包含さ
れる。すなわち、テトラカルボン酸二無水物とジオール
化合物から由来する構造単位をポリウレタン樹脂中に導
入する方法としては、以下の方法がある。

【００３４】ａ）テトラカルボン酸二無水物をジオール
化合物で開環させて得られたアルコール末端の化合物
と、ジイソシアネート化合物とを反応させる方法。 ｂ）ジイソシアネート化合物をジオール化合物過剰の条
件下で反応させ得られたアルコール末端のウレタン化合
物と、テトラカルボン酸二無水物とを反応させる方法。

【００３５】少なくとも１つカルボキシル基を有する少
なくとも１種のジオール化合物のうち、一般式（２）で
表される化合物は、溶剤溶解性が高く、合成が容易であ
るためより好ましい。また、少なくとも１つのカルボキ
シル基を有する少なくとも１種のジオール化合物は、ポ
リウレタン樹脂バインダー（Ｂ１）または（Ｂ２）中に
それぞれ独立に、カルボキシル基を０．２〜４．０ｍｅ
ｑ／ｇ、好ましくは０．３〜３．０ｍｅｑ／ｇ、さらに
好ましくは０．４〜２．０ｍｅｑ／ｇ、特に好ましくは
０．５〜１．５ｍｅｑ／ｇ、最も好ましくは０．６〜
１．２ｍｅｑ／ｇの範囲で有するような量において各ポ
リウレタン樹脂バインダーに導入される。従って、（i
i）少なくとも一つのカルボキシル基を有する少なくと
も１種のジオール化合物由来の構造のポリウレタン樹脂
バインダー中における含有量は、カルボキシル基の数、
他のジオール成分として何を用いるか、得られるポリウ
レタン樹脂バインダーの酸価や分子量、現像液の組成や
ｐＨ等によって適宜選択されるが、例えば、５〜４５モ
ル％、好ましくは１０〜４０モル％、より好ましくは１
５〜３５モル％である。

【００３６】（iii）ｌｏｇＰ値が０未満の少なくとも
１種のジオール化合物 （iii）及び（iv）のジオール化合物におけるｌｏｇＰ
値とは、後述する現像液中の非イオン性界面活性剤に関
して記載したものと同じ定義を有し、同様に既知データ
から計算できる値である。ｌｏｇＰ値が０未満のジオー
ル化合物は、特に制限されずに用いることができるが、
ただし、ｌｏｇＰ値が０未満のジオール化合物は含まれ
ない。ｌｏｇＰ値が０未満のジオール化合物としては、
一般式（Ａ’）で表されるエチレングリコール化合物を
挙げることができる。 ＨＯ−（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）_n−Ｈ （Ａ’）（式中、ｎは
１以上の整数を表す。） また、ｌｏｇＰ値が０未満であるような末端に水酸基を
有するエチレンオキシドとプロピレンオキシドのランダ
ム共重合体や、ブロック共重合体も挙げられる。さら
に、ビスフェノールＡのエチレンオキシド付加体（エチ
レンオキシドの付加数が２７以上１００以下）、ビスフ
ェノールＦのエチレンオキシド付加体（エチレンオキシ
ドの付加数が２２以上１００以下）、水添ビスフェノー
ルＡのエチレンオキシド付加体（エチレンオキシドの付
加数が２３以上１００以下）、水添ビスフェノールＦの
エチレンオキシド付加体（エチレンオキシドの付加数が
１８以上１００以下）も用いることができる。ｌｏｇＰ
値が０未満のジオール化合物は、単独で用いてもよい
し、２種以上を組み合わせて用いてもよいが、印刷版の
安定性（感度、耐刷など）の点で、単独で用いることが
好ましい。

【００３７】ｌｏｇＰ値が０未満のジオール化合物とし
ては、汚れ性の点でｌｏｇＰ値が−１０〜−０．５であ
ることが好ましく、−８〜−１であることがより好まし
く、−５〜−１．２であることがさらに好ましい。より
具体的には、（Ａ’）で表されるエチレングリコール化
合物が汚れ性の点で好ましく、ｎが２〜５０のエチレン
グリコール化合物がより好ましく、ｎが３〜３０のエチ
レングリコール化合物がさらに好ましく、ｎが４〜１０
のエチレングリコール化合物が特に好ましい。ｌｏｇＰ
値が０未満の少なくとも１種のジオール化合物のポリウ
レタン樹脂バインダー（Ｂ１）中における含有量は、用
いるジオール化合物のｌｏｇＰ値、他のジオール成分と
して何を用いるか、得られるポリウレタン樹脂バインダ
ーの酸価や分子量、現像液の組成やｐＨ等によって適宜
選択されるが、好ましくは５〜４５モル％、より好まし
くは１０〜４０モル％、特に好ましくは１５〜３５モル
％である。

【００３８】（iv）ｌｏｇＰ値が０より大きい少なくと
も１種のジオール化合物 ｌｏｇＰ値が０より大きい少なくとも１種のジオール化
合物としては、ｌｏｇＰ値が０より大きいものであれば
特に制限なく用いることができる。ただし、ｌｏｇＰ値
が０より大きい少なくとも１種のジオール化合物には、
カルボキシル基を有するジオール化合物を含まれない。
具体的には、１，２−プロピレングリコール、ジ−１，
２−プロピレングリコール、トリ−１，２−プロピレン
グリコール、テトラ−１，２−プロピレングリコール、
ヘキサ−１，２−プロピレングリコール、１，３−プロ
ピレングリコール、ジ−１，３−プロピレングリコー
ル、トリ−１，３−プロピレングリコール、テトラ−
１，３−プロピレングリコール、１，３−ブチレングリ
コール、ジ−１，３−ブチレングリコール、トリ−１，
３−ブチレングリコール、ヘキサ−１，３−ブチレング
リコール、平均分子量４００のポリプロピレングリコー
ル、平均分子量７００のポリプロピレングリコール、平
均分子量１０００のポリプロピレングリコール、平均分
子量２０００のポリプロピレングリコール、平均分子量
３０００のポリプロピレングリコール、平均分子量４０
００のポリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコ
ール、２−ブテン−１，４−ジオール、２，２，４−ト
リメチル−１，３−ペンタンジオール、１，４−ビス−
β−ヒドロキシエトキシシクロヘキサン、１，４−ブタ
ンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキ
サンジオール、１，７−ヘプタンジオール、１，８−オ
クタンジオール、シクロヘキサンジメタノール、トリシ
クロデカンジメタノール、水添ビスフェノールＡ、水添
ビスフェノールＦ、ビスフェノールＡのエチレンオキシ
ド付加体（エチレンオキシドの付加数が２６以下）、ビ
スフェノールＦのエチレンオキシド付加体（エチレンオ
キシドの付加数が２１以下）、水添ビスフェノールＡの
エチレンオキシド付加体（エチレンオキシドの付加数が
２２以下）、水添ビスフェノールＦのエチレンオキシド
付加体（エチレンオキシドの付加数が１７以下）、ビス
フェノールＡのプロピレンオキサイド付加体、ビスフェ
ノールＦのプロピレンオキサイド付加体、水添ビスフェ
ノールＡのプロピレンオキサイド付加体、水添ビスフェ
ノールＦのプロピレンオキサイド付加体、ヒドロキノン
ジヒドロキシエチルエーテル、ｐ−キシリレングリコー
ル、ジヒドロキシエチルスルホン、ビス（２−ヒドロキ
シエチル）−２，４−トリレンジカルバメート、２，４
−トリレン−ビス（２−ヒドロキシエチルカルバミ
ド）、ビス（２−ヒドロキシエチル）−ｍ−キシリレン
ジカルバメート、ビス（２−ヒドロキシエチル）イソフ
タレート等が挙げられる。

【００３９】また、式（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、
（Ｄ）、（Ｅ）で表される化合物であって、ｌｏｇＰ値
が０より大きいポリエーテルジオール化合物も好適に用
いることができる。

【００４０】

【化５】

【００４１】式中、Ｒ₆は水素原子またはメチル基を表
す。ただし、式（Ａ）においてはＲ₆はメチル基を表
す。また、Ｘは、以下の基を表す。

【００４２】

【化６】 ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆ，ｇはそれぞれ２以上の整数を
示す。好ましくは２〜１００の整数である。

【００４３】式（８）、（９）で表されるｌｏｇＰ値が
０より大きいポリエステルジオール化合物も（iv）のジ
オールの具体例として挙げることができる。

【００４４】

【化７】

【００４５】式中、Ｌ₁、Ｌ₂およびＬ₃はそれぞれ同一
でも相違してもよく２価の脂肪族または芳香族炭化水素
基を示し、Ｌ₄は２価の脂肪族炭化水素基を示す。好ま
しくは、Ｌ₁、Ｌ₂、Ｌ₃はそれぞれアルキレン基、アル
ケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基を示し、Ｌ
₄はアルキレン基を示す。またＬ_l、Ｌ₂、Ｌ₃、Ｌ₄中に
はイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばエ
ーテル、カルボニル、エステル、シアノ、オレフィン、
ウレタン、アミド、ウレイド基またはハロゲン原子等が
存在していてもよい。ｎ１、ｎ２はそれぞれ２以上の整
数であり、好ましくは２〜１００の整数を示す。

【００４６】式（１０）で表されるｌｏｇＰ値が０より
大きいポリカーボネートジオール化合物も具体例として
挙げることができる。

【００４７】

【化８】

【００４８】式中、Ｌ₅はそれぞれ同一でも相違しても
よく２価の脂肪族または芳香族炭化水素基を示す。好ま
しくは、Ｌ₅はアルキレン基、アルケニレン基、アルキ
ニレン基、アリーレン基を示す。またＬ₅中にはイソシ
アネート基と反応しない他の官能基、例えばエーテル、
カルボニル、エステル、シアノ、オレフィン、ウレタ
ン、アミド、ウレイド基またはハロゲン原子等が存在し
ていてもよい。ｎ3はそれぞれ２以上の整数であり、好
ましくは２〜１００の整数を示す。

【００４９】式（８）、（９）または（１０）で示され
るジオール化合物としては具体的には以下に示すものが
含まれる。具体例中のｎは２以上の整数である。

【００５０】

【化９】

【００５１】

【化１０】

【００５２】

【化１１】

【００５３】また更に、カルボキシル基を有せず、イソ
シアネートと反応しない他の置換基を有してもよい、ｌ
ｏｇＰ値が０より大きいジオール化合物を用いることも
できる。このようなジオール化合物としては、以下に示
すものが含まれる。 ＨＯ−Ｌ₆−Ｏ−ＣＯ−Ｌ₇−ＣＯ−Ｏ−Ｌ₆−ＯＨ （１
１） ＨＯ−Ｌ₇−ＣＯ−Ｏ−Ｌ₆−ＯＨ （１２）

【００５４】式中、Ｌ₆、Ｌ₇はそれぞれ同一でも相違し
ていてもよく、置換基（例えば、アルキル、アラルキ
ル、アリール、アルコキシ、アリーロキシ、ハロゲン原
子（−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ）、などの各基が含ま
れる。）を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基、
芳香族炭化水素基または複素環基を示す。必要に応じ、
Ｌ₆、Ｌ₇中にイソシアネート基と反応しない他の官能
基、例えばカルボニル、エステル、ウレタン、アミド、
ウレイド基などを有していてもよい。なおＬ₆、Ｌ₇で環
を形成してもよい。

【００５５】また式（１１）または（１２）で示される
化合物の具体例としては以下に示すものが含まれる。

【００５６】

【化１２】

【００５７】

【化１３】

【００５８】

【化１４】

【００５９】

【化１５】

【００６０】下記に示すジオール化合物も好適に使用で
きる。

【００６１】

【化１６】

【００６２】式中、Ｒ₇、Ｒ₈はそれぞれ同一でも異なっ
ていてもよく、置換基を有してもよいアルキル基、好ま
しくは、シアノ、ニトロ、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｃ
ｌ、−Ｂｒ、−Ｉ）、−ＣＯＮＨ₂、−ＣＯＯＲ、−Ｏ
Ｒ、（ここで、Ｒは互いに同一でも異なっていてもよ
く、炭素数が１〜１０のアルキル基、炭素数７〜１５の
アリ−ル基、アラルキル基を示す。）などの各基を置換
基として有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基
を示す。式（１６）で示されるジオール化合物として
は、具体的には以下に示すものが挙げられる。

【００６３】

【化１７】

【００６４】式（１７）としては、２−ブチン−１，４
−ジオール、式（１８）としては、cis−２−ブテン−
１，４−ジオール、trans−２−ブテン−１，４−ジオ
ール等が挙げられる。また、下記に示すジオール化合物
も好適に使用できる。 ＨＯ−Ｌ₈−ＮＨ−ＣＯ−Ｌ₉−ＣＯ−ＮＨ−Ｌ₈−ＯＨ
（１９） ＨＯ−Ｌ₉−ＣＯ−ＮＨ−Ｌ₈−ＯＨ （２０）

【００６５】式中、Ｌ₈、Ｌ₉はそれぞれ同一でも相違し
ていてもよく、置換基（例えば、アルキル、アラルキ
ル、アリール、アルコキシ、アリーロキシ、ハロゲン原
子（−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ）、などの各基が含ま
れる。）を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基、
芳香族炭化水素基または複素環基を示す。必要に応じ、
Ｌ₈、Ｌ₉中にイソシアネート基と反応しない他の官能
基、例えばカルボニル、エステル、ウレタン、アミド、
ウレイド基などを有していてもよい。なおＬ₈、Ｌ₉で環
を形成してもよい。

【００６６】また式（１９）または（２０）で示される
化合物の具体例としては以下に示すものが含まれる。

【００６７】

【化１８】

【００６８】

【化１９】

【００６９】さらに、下記に示すジオール化合物も好適
に使用できる。 ＨＯ−Ａｒ₂−（Ｌ₁₆−Ａｒ₃）n−ＯＨ （２１） ＨＯ−Ａｒ₂−Ｌ₁₆−ＯＨ （２２）

【００７０】式中、Ｌ₁₆は置換基（例えば、アルキル、
アラルキル、アリール、アルコキシ、アリーロキシ、ハ
ロゲノの各基が好ましい。）を有していてもよい２価の
脂肪族炭化水素基を示す。必要に応じ、Ｌ₁₆中にイソシ
アネート基と反応しない他の官能基、例えばエステル、
ウレタン、アミド、ウレイド基を有していてもよい。

【００７１】Ａｒ₂、Ａｒ₃は同一でも相違していてもよ
く、置換基を有していてもよい２価の芳香族炭化水素基
を示し、好ましくは炭素数６〜１５個の芳香族基を示
す。ｎは０〜１０の整数を示す。また式（２１）または
（２２）で示されるジオール化合物としては具体的には
以下に示すものが含まれる。

【００７２】すなわち、カテコール、レゾルシン、ハイ
ドロキノン、４−メチルカテコール、４−ｔ−ブチルカ
テコール、４−アセチルカテコール、３−メトキシカテ
コール、４−フェニルカテコール、４−メチルレゾルシ
ン、４−エチルレゾルシン、４−ｔ−ブチルレゾルシ
ン、４−ヘキシルレゾルシン、４−クロロレゾルシン、
４−ベンジルレゾルシン、４−アセチルレゾルシン、４
−カルボメトキシレゾルシン、２−メチルレゾルシン、
５−メチルレゾルシン、ｔ−ブチルハイドロキノン、
２，５−ジ−ｔ−ブチルハイドロキノン、２，５−ジ−
ｔ−アミルハイドロキノン、テトラメチルハイドロキノ
ン、テトラクロロハイドロキノン、メチルカルボアミノ
ハイドロキノン、メチルウレイドハイドロキノン、メチ
ルチオハイドロキノン、ベンゾノルボルネン−３，６−
ジオール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＳ、３，
３’−ジクロロビスフェノールＳ、４，４’−ジヒドロ
キシベンゾフェノン、４，４’−ジヒドロキシビフェニ
ル、４，４’−チオジフェノール、２，２’−ジヒドロ
キシジフェニルメタン、３，４−ビス（ｐ−ヒドロキシ
フェニル）ヘキサン、１，４−ビス（２−（ｐ−ヒドロ
キシフェニル）プロピル）ベンゼン、ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）メチルアミン、１，３−ジヒドロキシナ
フタレン、１，４−ジヒドロキシナフタレン、１，５−
ジヒドロキシナフタレン、２，６−ジヒドロキシナフタ
レン、１，５−ジヒドロキシアントラキノン、２−ヒド
ロキシベンジルアルコール、４−ヒドロキシベンジルア
ルコール、２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルベ
ンジルアルコール、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−
ブチルベンジルアルコール、４−ヒドロキシフェネチル
アルコール、２−ヒドロキシエチル−４−ヒドロキシベ
ンゾエート、２−ヒドロキシエチル−４−ヒドロキシフ
ェニルアセテート、レゾルシンモノ−２−ヒドロキシエ
チルエーテル等が挙げられる。下記に示すジオール化合
物も好適に使用できる。

【００７３】ｌｏｇＰ値が０より大きいジオール化合物
としては、耐刷性の点でｌｏｇＰ値が０．５〜３０であ
ることが好ましく、１〜２０であることがより好まし
く、２〜１５であることがさらに好ましく、３〜１５で
あることが特に好ましい。また、一般式（Ａ）〜（Ｅ）
で表される化合物は、耐刷性が良好であるため好まし
く、中でも一般式（Ａ）（Ｒ₆がメチル基）で表される
ポリプロピレングリコールはより好ましい。さらに、一
般式（Ａ）（Ｒ₆がメチル基）で表されるポリプロピレ
ングリコールの中でも、耐刷性と汚れ性のバランスの点
で、好ましくはａが５〜５０、より好ましくは１０〜４
０、さらに好ましくは１５〜３０である化合物が好まし
い。ｌｏｇＰ値が０より大きい少なくとも１種のジオー
ル化合物由来の構造のウレタン樹脂バインダー（Ｂ２）
中における含有量は、用いるジオール化合物のｌｏｇＰ
値、他のジオール成分として何を用いるか、得られるウ
レタン樹脂バインダーの酸価や分子量、現像液の組成や
ｐＨ等によって適宜選択されるが、好ましくは５〜４５
モル％、より好ましくは１０〜４０モル％、特に好まし
くは１５〜３５モル％である。ｌｏｇＰ値が０より大き
いジオール化合物は、単独で使用してもよいし、２種以
上を組み合わせて使用してもよいが、印刷版の安定性
（感度、耐刷性など）の点で単独で用いることが好まし
い。

【００７４】（v）その他のアミノ基含有化合物 本発明におけるポリウレタン樹脂バインダー（Ｂ１）お
よび／または（Ｂ２）において、さらに下記に示すアミ
ノ基含有化合物を組み合わせて式（１）で表されるジイ
ソシアネート化合物と反応させ、ウレア構造を形成して
ポリウレタン樹脂の構造に組み込んでもよい。

【００７５】

【化２０】

【００７６】式中、Ｒ₁₀₆、Ｒ_106'はそれぞれ同一でも
相違していてもよく、水素原子、置換基（例えばアルコ
キシ、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ）、
エステル、カルボキシル基などの各基が含まれる。）を
有していてもよいアルキル、アラルキル、アリール基を
示し、好ましくは水素原子、置換基としてカルボキシル
基を有していてもよい炭素数１〜８個のアルキル、炭素
数６〜１５個のアリール基を示す。Ｌ₁₇は置換基（例え
ば、アルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、ア
リーロキシ、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−
Ｉ）、カルボキシル基などの各基が含まれる。）を有し
ていてもよい２価の脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素
基または複素環基を示す。必要に応じ、Ｌ₁₇中にイソシ
アネート基と反応しない他の官能基、例えばカルボニ
ル、エステル、ウレタン、アミド基などを有していても
よい。なおＲ₁₀₆、Ｌ₁₇、Ｒ_106'のうちの２個で環を形
成してもよい。

【００７７】また式（３１）、（３２）で示される化合
物の具体例としては以下に示すものが含まれる。

【００７８】すなわち、エチレンジアミン、プロピレン
ジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジ
アミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジア
ミン、オクタメチレンジアミン、ドデカメチレンジアミ
ン、プロパン−１，２−ジアミン、ビス（３−アミノプ
ロピル）メチルアミン、１，３−ビス（３−アミノプロ
ピル）テトラメチルシロキサン、ピペラジン、２，５−
ジメチルピペラジン、Ｎ−（２−アミノエチル）ピペラ
ジン、４−アミノ−２，２−６，６−テトラメチルピペ
リジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエチレンジアミン、リジン、
Ｌ−シスチン、イソホロンジアミン等のような脂肪族ジ
アミン化合物；ｏ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレ
ンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、２，４−トリレ
ンジアミン、ベンジジン、ｏ−ジトルイジン、ｏ−ジア
ニシジン、４−ニトロ−ｍ−フェニレンジアミン、２，
５−ジメトキシ−ｐ−フェニレンジアミン、ビス−（４
−アミノフェニル）スルホン、４−カルボキシ−ｏ−フ
ェニレンジアミン、３−カルボキシ−ｍ−フェニレンジ
アミン、４，４’−ジアミノフェニルエーテル、１，８
−ナフタレンジアミン等のような芳香族ジアミン化合
物；２−アミノイミダゾール、３−アミノトリアゾー
ル、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、４−アミノピラ
ゾール、２−アミノベンズイミダゾール、２−アミノ−
５−カルボキシ−トリアゾール、２，４−ジアミノ−６
−メチル−Ｓ−トリアジン、２，６−ジアミノピリジ
ン、Ｌ−ヒスチジン、ＤＬ−トリプトファン、アデニン
等のような複素環アミン化合物；エタノールアミン、Ｎ
−メチルエタノールアミン、Ｎ−エチルエタノールアミ
ン、１−アミノ−２−プロパノール、１−アミノ−３−
プロパノール、２−アミノエトキシエタノール、２−ア
ミノチオエトキシエタノール、２−アミノ−２−メチル
−１−プロパノール、ｐ−アミノフェノール、ｍ−アミ
ノフェノール、ｏ−アミノフェノール、４−メチル−２
−アミノフェノール、２−クロロ−４−アミノフェノー
ル、４−メトキシ−３−アミノフェノール、４−ヒドロ
キシベンジルアミン、４−アミノ−１−ナフトール、４
−アミノサリチル酸、４−ヒドロキシ−Ｎ−フェニルグ
リシン、２−アミノベンジルアルコール、４−アミノフ
ェネチルアルコール、２−カルボキシ−５−アミノ−１
−ナフトール、Ｌ−チロシン等のようなアミノアルコー
ルまたはアミノフェノール化合物。

【００７９】本発明のポリウレタン樹脂バインダー（Ｂ
１）及び（Ｂ２）は、上記イソシアネート化合物および
ジオール化合物を非プロトン性溶媒中、それぞれの反応
性に応じた活性の公知の触媒を添加し、加熱することに
より合成される。使用するジイソシアネートおよびジオ
ール化合物のモル比、すなわち、ジイソシアネート化合
物（i）と、ジオール化合物の合計モル比（（ii）、お
よび（iii）または（iv））または任意に（v）その他の
アミノ基含有化合物成分を含む場合には、ジイソシアネ
ート化合物（i）と、ジイソシアネート以外の化合物の
合計モル比（（ii）、（iii）または（iv）、および
（v））の合計モル比）は好ましくは０．８：１〜１．
２：１であり、ポリマー末端にイソシアネート基が残存
した場合、アルコール類またはアミン類等で処理するこ
とにより、最終的にイソシアネート基が残存しない形で
合成される。

【００８０】本発明の感光層の必須成分として使用され
るポリウレタン樹脂バインダー（Ｂ１）及び（Ｂ２）は
いずれも、カルボキシル基を０．２〜４．０ｍｅｑ／
ｇ、好ましくは０．３〜３．０ｍｅｑ／ｇ、さらに好ま
しくは０．４〜２．０ｍｅｑ／ｇ、特に好ましくは０．
５〜１．５ｍｅｑ／ｇ、最も好ましくは０．６〜１．２
ｍｅｑ／ｇの範囲で有する。

【００８１】本発明において使用される好ましいポリウ
レタン樹脂バインダー（Ｂ１）および（Ｂ２）は、それ
ぞれ以下より合成される酸価０．６〜１．２ｍｅｑ／ｇ
のポリウレタン樹脂バインダーであり、（Ｂ１）／（Ｂ
２）（重量比）＝３／７〜７／３の割合で感光層に用い
られる。 （Ｂ１） １− 脂肪族ジイソシアネート化合物（Ｌが脂肪族
基）の少なくとも一種、 １− 少なくとも一種の一般式（２）で表されるカル
ボキシル基を有するジオール化合物、及び １− ｌｏｇＰ値が−５．０〜−１．２の少なくとも
１種のジオール化合物 （Ｂ２） ２− 芳香族ジイソシアネート化合物（Ｌが芳香族
基）の少なくとも一種、 ２− 少なくとも一種の一般式（２）で表されるカル
ボキシル基を有するジオール化合物、及び ２− ｌｏｇＰ値が３〜１０の少なくとも１種のジオ
ール化合物。

【００８２】これらのポリウレタン樹脂バインダーは単
独で用いても混合して用いてもよい。感光性組成物中に
含まれる、これらポリウレタン樹脂バインダー（Ｂ１）
及び（Ｂ２）の合計の含有量は１０〜９０質量％、好ま
しくは１５〜８０質量％、より好ましくは２０〜７０質
量％、さらに好ましくは２５〜６０質量％、最も好まし
くは３０〜５０質量％である。

【００８３】ｉ）ポリウレタン樹脂バインダー（Ｂ１）
及び（Ｂ２）のより好ましい具体例としては、以下の化
合物を挙げることができるが、これらに限定されるもの
ではない。具体例は、使用したジイソシアネート化合物
とジオール化合物との組合せで示している。また、カル
ボキシル基含有量を酸価として示す。

【００８４】

【表１】

【００８５】

【表２】

【００８６】

【化２１】（i）ジイソシアネート化合物

【００８７】

【化２２】（ii）カルボキシル基を有するジオール化合
物

【００８８】

【化２３】

【００８９】

【化２４】（iv）ｌｏｇＰ値が０より大きいジオール化
合物

【００９０】

【化２５】

【００９１】

【化２６】

【００９２】

【化２７】（v）その他のアミノ基含有化合物

【００９３】本発明に使用される感光性平版印刷版用原
版の感光層には上記ポリウレタン樹脂バインダーの他に
更にアルカリ水に可溶性又は膨潤性を有する他の有機高
分子重合体を用いてもよい。有機高分子重合体は、例え
ば、水可溶性有機高分子重合体を用いると水現像が可能
になる。この様な有機高分子重合体としては、側鎖にカ
ルボン酸基を有する付加重合体、例えば特開昭５９−４
４６１５号、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５８−
１２５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭５４
−９２７２３号、特開昭５９−５３８３６号、特開昭５
９−７１０４８号に記載されているもの、すなわち、メ
タクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸
共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、
部分エステル化マレイン酸共重合体等がある。

【００９４】また同様に、側鎖にカルボン酸基を有する
酸性セルロース誘導体がある。この外に水酸基を有する
付加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用
である。特にこれらの中で〔ベンジル（メタ）アクリレ
ート／（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の付加
重合性ビニルモノマー〕共重合体及び〔アリル（メタ）
アクリレート（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他
の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体が好適である。
この他に水溶性有機高分子として、ポリビニルピロリド
ンやポリエチレンオキシド等が有用である。また硬化皮
膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ポリアミドや
２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン
とエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。
また特公平７−１２００４０号、特公平７−１２００４
１号、特公平７−１２００４２号、特公平８−１２４２
４号、特開昭６３−２８７９４４号、特開昭６３−２８
７９４７号、特開平１−２７１７４１号、特開平１１−
３５２６９１号に記載のポリウレタン樹脂も本発明の用
途には有用である。

【００９５】これら高分子重合体は側鎖にラジカル反応
性基を導入することにより硬化皮膜の強度を向上させる
ことができる。付加重合反応し得る官能基としてエチレ
ン性不飽和結合基、アミノ基、エポキシ基等が、又光照
射によりラジカルになり得る官能基としては、メルカプ
ト基、チオール基、ハロゲン原子、トリアジン構造、オ
ニウム塩構造等が、又極性基としてカルボキシル基、イ
ミド基等が挙げられる。上記付加重合反応し得る官能基
としては、アクリル基、メタクリル基、アリル基、スチ
リル基などエチレン性不飽和結合基が特に好ましいが、
又アミノ基、ヒドロキシ基、ホスホン酸基、燐酸基、カ
ルバモイル基、イソシアネート基、ウレイド基、ウレイ
レン基、スルホン酸基、アンモニオ基から選ばれる官能
基も有用である。良好な現像性と耐刷性を付与するため
に、本発明のポリウレタン樹脂バインダーは適当な分子
量、酸価を有することが好ましい。分子量、酸価は、現
像液のｐＨや組成、印刷版に求められる性能等によって
適宜調整されるが、重量平均分子量は、Ｂ１およびＢ２
それぞれ、ＧＰＣ法によるポリスチレン換算で通常５，
０００〜５００，０００であり、好ましくは１０，００
０〜３０，０００、より好ましくは２０，０００〜１５
０，０００の範囲で用いられる。５，０００よりも低い
と耐刷性が不十分となり、５００，０００を越えると現
像性の低下により汚れが発生する。一方、ポリウレタン
樹脂バインダーの酸価は、Ｂ１およびＢ２それぞれ０．
２〜４．０ｍｅｑ／ｇであることが好ましく、より好ま
しくは０．３〜３．０ｍｅｑ／ｇ、さらに好ましくは
０．４〜２．０ｍｅｑ／ｇ、特に好ましくは０．５〜
１．５ｍｅｑ／ｇ、最も好ましくは０．６〜１．２ｍｅ
ｑ／ｇの範囲で用いられる。０．２ｍｅｑ／ｇ未満では
現像性の不足により汚れが発生し、６．０ｍｅｑ／ｇを
越えると耐刷性が劣化する。

【００９６】［感光層酸価］なお、本発明でいう感光層
酸価とは、感光性平版印刷版（平版印刷版用原版）の支
持体上に塗設されている感光性組成物（感光層の上に塗
設されるオーバーコート層、例えば、酸素遮断層は含ま
ない）の層、１ｇあたりに含有されるpKa９以下の酸の
等量である。実験的には感光層を水酸化ナトリウム水溶
液により直接、滴定して求めることができるが、感光性
組成物中のpKa９以下の酸基を有する化合物の含有量か
ら計算により求めることもできる。具体的に感光層酸価
を変える方法としては、感光層成分である架橋剤モノマ
ー／酸基を有するバインダーポリマー（線状高分子）の
含有比の変更および酸基の少ない低酸価バインダーポリ
マーの使用などが考えられる。低酸価バインダーポリマ
ーとしては、０．２〜４．０ｍｅｑ／ｇ、より好ましく
は０．３〜３．０ｍｅｑ／ｇ、さらに好ましくは０．４
〜２．０ｍｅｑ／ｇ、特に好ましくは０．５〜１．５ｍ
ｅｑ／ｇ、最も好ましくは０．６〜１．２ｍｅｑ／ｇの
範囲で用いられる。本発明の感光層の感光層酸価は１．
０ｍｅｑ／ｇ以下であることが好ましい。酸価０．２０
〜０．６０ｍｅｑ／ｇの感光層を有する平版印刷版に適
用する方が効果的である。さらに画像形成性の点でより
好ましくは０．３０〜０．５０ｍｅｑ／ｇの感光層を有
するものである。

【００９７】これらの有機高分子重合体は全感光性組成
物中に任意な量を混和させることができる。しかし９０
質量％を超える場合には、形成される画像強度等の点で
好ましい結果を与えない。好ましくは１０〜９０％、よ
り好ましくは３０〜８０％である。また光重合可能なエ
チレン性不飽和化合物と有機高分子重合体は、重量比で
１／９〜９／１の範囲とするのが好ましい。より好まし
い範囲は２／８〜８／２であり、更に好ましくは３／７
〜７／３である。

【００９８】次にｂ）付加重合可能なエチレン性不飽和
結合を含む化合物について説明する。付加重合可能なエ
チレン性不飽和結合を含む化合物は、エチレン性不飽和
結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合
物の中から任意に選択することができる。例えばモノマ
ー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体およびオリ
ゴマー、またはそれらの混合物ならびにそれらの共重合
体などの化学的形態をもつものである。モノマーおよび
その共重合体の例としては、不飽和カルボン酸（例え
ば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン
酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）と脂肪族多価ア
ルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪
族多価アミン化合物とのアミド等が挙げられる。

【００９９】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソル
ビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリ
レート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトー
ルヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチ
ル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリ
ゴマー等がある。

【０１００】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタメタアクリレ
ート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトール
テトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリルオ
キシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチル
メタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フ
ェニル〕ジメチルメタン等がある。

【０１０１】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、
１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコール
ジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネ
ート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビト
ールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エ
ステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネー
ト、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビ
トールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エ
ステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリ
エチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトール
ジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。さ
らに、前述のエステルモノマーの混合物も挙げることが
できる。

【０１０２】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。その他の例としては、特公昭４８−４１７
０８号公報中に記載されている、１分子中に２個以上の
イソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物
に、下記の一般式（Ｘ）で示される水酸基を含有するビ
ニルモノマーを付加せしめた１分子中に２個以上の重合
性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げら
れる。

【０１０３】 ＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ₃₀）ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｒ₄₀）ＯＨ （Ｘ） （ただし、Ｒ₃₀およびＲ₄₀はＨあるいはＣＨ₃を示す。）

【０１０４】また、特開昭５１−３７１９３号、特公平
２−３２２９３号に記載されているようなウレタンアク
リレート類、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−
４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号各公報に記載
されているようなポリエステルアクリレート類、エポキ
シ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアク
リレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレート
を挙げることができる。さらに日本接着協会誌ｖｏｌ．
２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８ページ（１９８４年）
に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されて
いるものも使用することができる。なお、これらの使用
量は、全成分に対して５〜７０質量％（以下％と略称す
る。）、好ましくは１０〜５０％である。

【０１０５】次に本発明に使用される感光性平版印刷版
の感光層に含有されるｃ）光重合開始剤としては、使用
する光源の波長により、特許、文献等で公知である種々
の光開始剤、あるいは２種以上の光開始剤の併用系（光
開始系）を適宜選択して使用することができる。

【０１０６】４００ｎｍ以上の可視光線、Ａｒレーザ
ー、半導体レーザーの第２高調波、ＳＨＧ−ＹＡＧレー
ザーを光源とする場合にも、種々の光開始系が提案され
ており、例えば、米国特許第２，８５０，４４５号に記
載のある種の光還元性染料、例えばローズベンガル、エ
オシン、エリスロシンなど、あるいは、染料と開始剤と
の組み合わせによる系、例えば、染料とアミンの複合開
始系（特公昭４４−２０１８９号）、ヘキサアリールビ
イミダゾールとラジカル発生剤と染料との併用系（特公
昭４５−３７３７７号）、ヘキサアリールビイミダゾー
ルとｐ−ジアルキルアミノベンジリデンケトンの系（特
公昭４７−２５２８号、特開昭５４−１５５２９２
号）、環状シス−α−ジカルボニル化合物と染料の系
（特開昭４８−８４１８３号）、環状トリアジンとメロ
シアニン色素の系（特開昭５４−１５１０２４号）、３
−ケトクマリンと活性剤の系（特開昭５２−１１２６８
１号、特開昭５８−１５５０３号）、ビイミダゾール、
スチレン誘導体、チオールの系（特開昭５９−１４０２
０３号）、有機過酸化物と色素の系（特開昭５９−１５
０４号、特開昭５９−１４０２０３号、特開昭５９−１
８９３４０号、特開昭６２−１７４２０３号、特公昭６
２−１６４１号、米国特許第４７６６０５５号）、染料
と活性ハロゲン化合物の系（特開昭６３−２５８９０３
号、特開平２−６３０５４号など）、染料とボレート化
合物の系（特開昭６２−１４３０４４号、特開昭６２−
１５０２４２号、特開昭６４−１３１４０号、特開昭６
４−１３１４１号、特開昭６４−１３１４２号、特開昭
６４−１３１４３号、特開昭６４−１３１４４号、特開
昭６４−１７０４８号、特開平１−２２９００３号、特
開平１−２９８３４８号、特開平１−１３８２０４号な
ど）、ローダニン環を有する色素とラジカル発生剤の系
（特開平２−１７９６４３号、特開平２−２４４０５０
号）、チタノセンと３−ケトクマリン色素の系（特開昭
６３−２２１１１０号）、チタノセンとキサンテン色素
さらにアミノ基あるいはウレタン基を含む付加重合可能
なエチレン性不飽和化合物を組み合わせた系（特開平４
−２２１９５８号、特開平４−２１９７５６号）、チタ
ノセンと特定のメロシアニン色素の系（特開平６−２９
５０６１号）、チタノセンとベンゾピラン環を有する色
素の系（特開平８−３３４８９７号）等を挙げることが
できる。

【０１０７】本発明においては、特にチタノセン化合物
を用いた系が、感度の点で優れており好ましい。チタノ
セン化合物としては、種々のものを用いることができる
が、例えば、特開昭５９−１５２３９６号、特開昭６１
−１５１１９７号各公報に記載されている各種チタノセ
ン化合物から適宜選んで用いることができる。さらに具
体的には、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ジ−クロ
ライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェ
ニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，
３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ
−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６
−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタ
ジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフエ
ニ−１−イル、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−
２，６−ジ−フルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペ
ンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジ−フルオロフェ
ニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ
−ビス−２，３，４，５，６−テトラフルオロフェニ−
１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビ
ス−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロ
ペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロ−３
−（ピル−１−イル）−フェニ−１−イル等を挙げるこ
とができる。

【０１０８】さらに、本発明で用いる光重合開始剤に必
要に応じてアミン化合物、チオール化合物などの助剤を
加えても良く、これらの水素供与性化合物を加えること
によってさらに光重合開始能力を高めることができる。
これらの光重合開始剤の使用量は、エチレン性不飽和化
合物１００重量部に対し、０．０５〜１００重量部、好
ましくは０．１〜７０重量部、更に好ましくは０．２〜
５０重量部の範囲で用いることができる。

【０１０９】また本発明においては、以上の基本成分の
他に、感光層用の感光性組成物の製造中あるいは保存中
において重合可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱
重合を阻止するために、少量の熱重合禁止剤を添加する
ことが望ましい。適当な熱重合禁止剤としては、ハイド
ロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−
ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコー
ル、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−
６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス
（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニト
ロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩、Ｎ−
ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等
が挙げられる。熱重合禁止剤の添加量は、全組成物の重
量に対して約０．０１％〜約５％が好ましい。また必要
に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン
酸やべヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加
して、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させて
もよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約
０．５％〜約１０％が好ましい。

【０１１０】更に感光層には着色を目的とした着色剤を
添加してもよい。着色剤としては、例えば、フタロシア
ニン系顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １
５：３．１５：４、１５：６など）、アゾ系顔料、カー
ボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレ
ット、クリスタルバイオレット、アゾ染料、アントラキ
ノン系染料、シアニン系染料がある。染料および顔料の
添加量は全感光層固形分の約０．５％〜約２０％が好ま
しい。加えて、硬化皮膜の物性を改良するために、無機
充填剤やジオクチルフタレート、ジメチルフタレート、
トリクレジルホスフェート等の可塑剤等の添加剤を加え
てもよい。これらの添加量は全感光層固形分の１０％以
下が好ましい。

【０１１１】上記感光層を後述の支持体上に塗布する際
には、感光層用組成物を種々の有機溶剤に溶かして使用
に供される。ここで使用する溶媒としては、アセトン、
メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エ
チレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチ
ルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エ
チレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレン
グリコールモノブチルエーテルアセテート、３−メトキ
シプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、
プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、
３−メトキシプロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクト
ン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。これらの溶媒
は、単独あるいは混合して使用することができる。そし
て、塗布溶液中の固形分の濃度は、１〜５０質量％が適
当である。

【０１１２】前記光重合性感光層用組成物には、塗布面
質を向上するために界面活性剤を添加することができ
る。その被覆量は乾燥後の重量で約０．１ｇ／ｍ²〜約
１０ｇ／ｍ²の範囲が適当である。より好ましくは０．
３〜５ｇ／ｍ²である。更に好ましくは０．５〜３ｇ／
ｍ²である。

【０１１３】（支持体）本発明で用いられる感光性平版
印刷版の支持体としては、寸度的に安定な板状物であれ
ば、特に限定されないが、アルミニウム支持体が好適で
ある。アルミニウム支持体は、寸度的に安定なアルミニ
ウムを主成分とするアルミニウムおよびアルミニウム含
有（例えばケイ素、銅、マンガン、マグネシウム、クロ
ム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなどの金属とアルミ
ニウムとの合金）合金、またはアルミニウムまたはアル
ミニウム合金がラミネートもしくは蒸着されたプラスチ
ックフィルムまたは紙の中から選ばれる。さらに特公昭
４８−１８３２７号に記載の様なポリエチレンテレフタ
レートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複
合体シートでもかまわない。このアルミニウム支持体に
は、適宜後述の基板表面処理が施される。

【０１１４】（砂目立て処理）砂目立て処理方法は、特
開昭５６−２８８９３号に開示されているような機械的
砂目立て、化学的エッチング、電解グレインなどがあ
る。さらに塩酸または硝酸電解液中で電気化学的に砂目
立てする電気化学的砂目立て方法、及びアルミニウム表
面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン
法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立でする
ボールグレイン法、ナイロンブラシと研磨剤で表面を砂
目立てするブラシグレイン法のような機械的砂目立て法
を用いることができ、上記砂目立て方法を単独あるいは
組み合わせて用いることもできる。

【０１１５】その中でも本発明に有用に使用される表面
粗さを作る方法は、塩酸または硝酸電解液中で化学的に
砂目立てする電気化学的方法であり、適する電流密度は
１００Ｃ／ｄｍ²〜４００Ｃ／ｄｍ²の範囲である。さら
に具体的には、０．１〜５０％の塩酸または硝酸を含む
電解液中、温度２０〜１００℃、時間１秒〜３０分、電
流密度１００Ｃ／ｄｍ²〜４００Ｃ／ｄｍ²の条件で電解
を行うことが好ましい。このように砂目立て処理したア
ルミニウム支持体は、酸またはアルカリにより化学的に
エッチングされる。酸をエッチング剤として用いる場合
は、微細構造を破壊するのに時間がかがり、工業的に本
発明を適用するに際しては不利であるが、アルカリをエ
ッチング剤として用いることにより改善できる。本発明
において好適に用いられるアルカリ剤は、苛性ソーダ、
炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソーダ、リ
ン酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等を用
い、濃度と温度の好ましい範囲はそれぞれ１〜５０％、
２０〜１００℃であり。Ａｌの溶解量が５〜２０ｇ／ｍ
³となるような条件が好ましい。

【０１１６】エッチングのあと表面に残留する汚れ（ス
マット）を除去するために酸洗いが行われる。用いられ
る酸は硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフ
ッ化水素酸等が用いられる。特に電気化学的粗面化処理
後のスマット除去処理方法としては、好ましくは特開昭
５３−１２７３９号公報に記載されているような５０〜
９０℃の温度の１５〜６５質量％の硫酸と接触させる方
法及び特公昭４８−２８１２３号公報に記載されている
アルカリエッチングする方法が挙げられる。なお、本発
明で有効に用いられるＡｌ支持体の表面粗さは（Ｒａ）
は０．３〜０．７μｍである。

【０１１７】（陽極酸化処理）以上のようにして処理さ
れたアルミニウム支持体は、さらに陽極酸化処理が施さ
れる。陽極酸化処理はこの分野で従来より行われている
方法で行うことができる。具体的には、硫酸、リン酸、
クロム酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホ
ン酸等あるいはこれらの二種以上を組み合わせて水溶液
または非水溶液中でアルミニウムに直流または交流を流
すとアルミニウム支持体表面に陽極酸化皮膜を形成する
ことができる。陽極酸化処理の条件は使用される電解液
によって種々変化するので一概に決定され得ないが、一
般的には電解液の濃度が１〜８０％、液温５〜７０℃、
電流密度０．５〜６０アンペア／ｄｍ²、電圧１〜１０
０Ｖ、電解時間１０〜１００秒の範囲が適当である。

【０１１８】これらの陽極酸化処理のうちでも特に英国
特許第１，４１２，７６８号明細書に記載されている、
硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法及び米国特許第
３，５１１，６６１号明細書に記載されているリン酸を
電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。本発明にお
いては、陽極酸化皮膜は１〜１０ｇ／ｍ²であることが
好ましく、１ｇ／ｍ²以下であると版に傷が入りやす
く、１０ｇ／ｍ²以上は製造に多大な電力が必要とな
り、経済的に不利である。好ましくは、１．５〜７ｇ／
ｍ²である。更に好ましくは、２〜５ｇ／ｇ²である。更
に、本発明においては、砂目立て処理及び陽極酸化後、
アルミニウム支持体に封孔処理を施してもかまわない。
かかる封孔処理は、熱水及び無機塩または有機塩を含む
熱水溶液への基板の浸漬ならびに水蒸気浴などによって
行われる。また、このアルミニウム支持体にはアルカリ
金属珪酸塩によるシリケート処理のほか、たとえば弗化
ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処
理などの表面処理がなされてもかまわない。

【０１１９】また、本発明で用いる感光性平版印刷版の
支持体には、前記アルミニウム支持体の他に、寸度的に
安定な以下の板状物も好適に用いられる。例えば、紙、
プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板
（例えば、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例え
ば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、
硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール等）、上記の如き金属がラ
ミネート若しくは蒸着された紙またはプラスチックフィ
ルム等が挙げられる。

【０１２０】また、これらの支持体に対しては、その支
持体に応じた表面親水化処理を行うことも好ましい。表
面親水化処理には、エッチングや酸化、還元、ゾル−ゲ
ルコーティングなどの化学反応による処理や、支持体表
面に吸着するような特定の化合物をコーティングするこ
と等が挙げられる。例えば、陽極酸化アルミニウム支持
体の場合には、特に、燐系の酸原子団を有する有機化合
物（燐酸、ホスホン酸、ホスフィン酸など）、又は特開
２００１−１０９１３９号公報に記載されているアルミ
ニウム基板上に設ける接着層に用いる有機シリコーン化
合物などが好適に使用される。上記の支持体上に、前述
の感光層を形成することで、感光性平版印刷版が製造さ
れるが、感光層を塗設する前に必要に応じて有機または
無機の下塗り層が設けられてもかまわない。

【０１２１】（酸素遮断性保護層）本発明で用いる感光
性平版印刷版は、その光重合性感光層の上に水溶性ビニ
ル重合体を主成分とする酸素遮断性保護層を有していて
もよい。酸素遮断性保護層に含まれる水溶性ビニル重合
体としては、ポリビニルアルコール、およびその部分エ
ステル、エーテル、およびアセタール、またはそれらに
必要な水溶性を有せしめるような実質的量の未置換ビニ
ルアルコール単位を含有するその共重合体が挙げられ
る。ポリビニルアルコールとしては、７１〜１００％加
水分解され、重合度が３００〜２４００の範囲のものが
挙げられる。具体的には、株式会社クラレ製ＰＶＡ−１
０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１１
７Ｈ、ＰＶＡ−１２０、ＰＶＡ−１２４、ＰＶＡ−１２
４Ｈ、ＰＶＡ−ＣＳ、ＰＶＡ−ＣＳＴ、ＰＶＡ−ＨＣ、
ＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２０４、ＰＶＡ−２０５、Ｐ
ＶＡ−２１０、ＰＶＡ−２１７、ＰＶＡ−２２０、ＰＶ
Ａ−２２４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２２０、Ｐ
ＶＡ−２２４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２１７
Ｅ、ＰＶＡ−２２０Ｅ、ＰＶＡ−２２４Ｅ、ＰＶＡ−４
０５、ＰＶＡ−４２０、ＰＶＡ−６１３、Ｌ−８等が挙
げられる。上記の共重合体としては、８８〜１００％加
水分解されたポリビニルアセテートクロロアセテートま
たはプロピオネート、ポリビニルホルマールおよびポリ
ビニルアセタールおよびそれらの共重合体が挙げられ
る。その他有用な重合体としては、ポリビニルピロリド
ン、ゼラチンおよびアラビアゴム等が挙げられ、これら
は単独または、併用して用いても良い。

【０１２２】この酸素遮断性保護層を塗布する際用いる
溶媒としては、純水が好ましいが、メタノール、エタノ
ールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケト
ンなどのケトン類を純水と混合しても良い。そして塗布
溶液中の固形分の濃度は１〜２０質量％が適当である。
この酸素遮断性保護層にはさらに塗布性を向上させるた
めの界面活性剤、皮膜の物性を改良するための水溶性の
可塑剤等の公知の添加剤を加えても良い。水溶性の可塑
剤としては、たとえばプロピオンアミド、シクロヘキサ
ンジオール、グリセリン、ソルビトール等がある。ま
た、水溶性の（メタ）アクリル系ポリマーなどを添加し
ても良い。その被覆量は、乾繰後の重量で約０．１ｇ／
ｍ²〜約１５ｇ／ｍ²の範囲が適当である。より好ましく
は１．０ｇ／ｍ²〜約５．０ｇ／ｍ²である。

【０１２３】［製版プロセス］本発明の感光性平版印刷
版の製版プロセスとしては、必要に応じ、露光前、露光
中、露光から現像までの間に、全面を加熱しても良い。
このような加熱により、感光層中の画像形成反応が促進
され、感度や耐刷性の向上や、感度の安定化といった利
点が生じ得る。さらに、画像強度・耐刷性の向上を目的
として、現像後の画像に対し、全面後加熱もしくは、全
面露光を行うことも有効である。通常現像前の加熱は１
５０℃以下の穏和な条件で行うことが好ましい。温度が
高すぎると、非画像部までがかぶってしまう等の問題を
生じる。現像後の加熱には非常に強い条件を利用する。
通常は２００〜５００℃の範囲である。温度が低いと十
分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合には支持体
の劣化、画像部の熱分解といった問題を生じる。

【０１２４】本発明の感光性平版印刷版の露光方法は、
公知の方法を制限なく用いることができる。光源として
はレーザが好ましく。例えば、３５０〜４５０ｎｍの波
長の入手可能なレーザー光源としては以下のものを利用
することができる。ガスレーザーとして、Ａｒイオンレ
ーザー（３６４ｎｍ、３５１ｎｍ、１０ｍＷ〜１Ｗ）、
Ｋｒイオンレーザー（３５６ｎｍ，３５１ｎｍ，１０ｍ
Ｗ〜１Ｗ）、Ｈｅ−Ｃｄレーザー（４４１ｎｍ，３２５
ｎｍ，１ｍＷ〜１００ｍＷ）、固体レーザーとして、Ｎ
ｄ：ＹＡＧ（ＹＶＯ４）とＳＨＧ結晶×２回の組み合わ
せ（３５５ｍｍ、５ｍＷ〜１Ｗ）、Ｃｒ：ＬｉＳＡＦと
ＳＨＧ結晶の組み合わせ（４３０ｎｍ，１０ｍＷ）、半
導体レーザー系として、ＫＮｂＯ₃、リング共振器（４
３０ｎｍ，３０ｍＷ）、導波型波長変換素子とＡｌＧａ
Ａｓ、ＩｎＧａＡｓ半導体の組み合わせ（３８０ｎｍ〜
４５０ｎｍ、５ｍＷ〜１００ｍＷ）、導波型波長変換素
子とＡｌＧａＩｎＰ、ＡｌＧａＡｓ半導体の組み合わせ
（３００ｎｍ〜３５０ｎｍ、５ｍＷ〜１００ｍＷ）、Ａ
ｌＧａＩｎＮ（３５０ｎｍ〜４５０ｎｍ、５ｍＷ〜３０
ｍＷ）、その他、パルスレーザーとしてＮ₂レーザー
（３３７ｎｍ、パルス０．１〜１０ｍＪ）、ＸｅＦ（３
５１ｎｍ、パルス１０〜２５０ｍＪ）

【０１２５】特にこの中でＡｌＧａＩｎＮ半導体レーザ
ー（市販ＩｎＧａＮ系半導体レーザー４００〜４１０ｎ
ｍ、５〜３０ｍＷ）が波長特性、コストの面で好適であ
る。

【０１２６】その他、４５０ｎｍ〜７００ｎｍの入手可
能な光源としてはAr＋レーザ−（４８８ｎｍ）、ＹＡＧ
−ＳＨＧレーザー（５３２ｎｍ）、Ｈｅ−Ｎeレーザー
（６３３ｎｍ）、Ｈｅ―Ｃｄレーザー、赤色半導体レー
ザー（６５０〜６９０ｎｍ）、及び７００ｎｍ〜１２０
０ｎｍの入手可能な光源としては半導体レーザ（８００
〜８５０ｎｍ）、Ｎｄ−ＹＡＧレーザ（１０６４ｎｍ）
が好適に利用できる。

【０１２７】その他、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水
銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン
灯、メタルハライド灯、紫外のレーザランプ（ＡｒＦエ
キシマレーザー、ＫｒＦエキシマレーザーなど）、放射
線としては電子線、Ｘ線、イオンビーム、遠赤外線など
も利用できるが、安価な点で上述の３５０ｎｍ以上のレ
ーザー光源が特に好ましい。

【０１２８】また、露光機構は内面ドラム方式、外面ド
ラム方式、フラットベッド方式等のいずれでもよい。ま
た本発明の感光性平版印刷版の感光層成分は高い水溶性
のものを使用することで、中性の水や弱アルカリ水に可
溶とすることもできるが、このような構成の感光性平版
印刷版は印刷機上に装填後、機上で露光−現像といった
方式を行うこともできる。

【０１２９】また現像処理された感光性平版印刷版は、
特開昭５４−８００２号、同５５−１１５０４５号、同
５９−５８４３１号等の各公報に記載されているよう
に、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビ
アガムや澱粉誘導体等を含む不感脂化液で後処理され
る。本発明の感光性平版印刷版の後処理にはこれらの処
理を種々組み合わせて用いることができる。このような
処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機に
かけられ、多数枚の印刷に用いられる。

【０１３０】次に、現像挙動について詳細に説明する。 ［現像速度］本発明でいう現像速度とは、後述の実施例
４で得られた平版印刷版用原版を露光せずにそのまま、
各種現像液に対して２８℃で浸漬して、感光層が現像除
去され、支持体が現れる時間を測定し、感光層膜厚に対
する現像速度を算出し他ものである。速度が大きい方が
現像性が高くてよいことを表す。 未露光部現像速度 ＝ 感光層膜厚（μｍ）／現像完了
時間（ｓ）

【０１３１】［現像浸透速度］本発明でいう現像浸透速
度とは、後述の実施例４で得られた平版印刷版用原版を
各露光光源により標準露光量にて露光後、各種現像液に
対して２８℃で浸漬して静電容量の変化を測定したもの
である。静電容量の変化が起こる時間を調べることで感
光層に現像液が浸透し、支持体に接触する時間が分かる
（変化点が現れにくい場合は静電容量が１００ｎＦに到
達する時間で見積もる）。該時間から感光層膜厚方向に
対する現像液浸透速度を算出し、速度が小さい方が浸透
性が低くてよいことを表す。なお、現像浸透速度の測定
装置および測定グラフを図１および図２に示す。 露光部現像液浸透速度＝感光層膜厚（μｍ）／静電容量
変化が始まる時間（ｓ）

【０１３２】［感光層の溶解及び膨潤］本発明でいう感
光層の溶解及び膨潤とは、後述の実施例４で得られた平
版印刷版用原版を露光せずにそのまま、各種現像液に対
して３０℃で浸漬して、感光層の溶解挙動をＤＲＭ干渉
波測定装置で調査した。現像挙動が感光層表面からの非
膨潤的現像の場合、感光層膜厚が現像時間に対して徐々
に薄くなり、その厚みに応じた干渉波が得られる。逆に
膨潤的溶解（脱膜的溶解）の場合には膜厚が現像液浸透
により変化するため、きれいな干渉波が得られない。き
れいな干渉波が得られることが望ましく、評価は干渉波
の有無で評価した。なお、感光層の溶解及び膨潤を測定
するためのＤＲＭ干渉波測定装置および測定グラフを図
３および図４に示す。

【０１３３】以下に本発明において使用される光重合型
感光性平版印刷版用現像液（以下、単に現像液とも称す
る）について説明する。本発明において使用される現像
液は、少なくとも一般式(I)で表される非イオン性化合
物を含有するアルカリ性の水溶液である。前記現像液
は、更にＳｉＯ₂／Ｍ₂Ｏモル比を０．７５〜４．０の範
囲にすることが好ましい。通常上記アルカリ珪酸塩は塩
基と組み合わせて使用され、現像液のｐＨは１１．５〜
１２．８であり、好ましくは１１．８〜１２．５であ
る。使用するアルカリ珪酸塩としては、水に溶解したと
きにアルカリ性を示すものであって、例えば珪酸ナトリ
ウム、珪酸カリウム、珪酸リチウム、珪酸アンモニウム
などがある。これらのアルカリ珪酸塩は１種単独でも、
２種以上を組み合わせて用いてもよい。

【０１３４】上記アルカリ水溶液は、珪酸塩の成分であ
る酸化ケイ素ＳｉＯ₂とアルカリ酸化物Ｍ₂Ｏ（Ｍはアル
カリ金属又はアンモニウム基を表す。）との混合比率、
及び濃度の調整により、現像性を容易に調節することが
できる。本発明において現像液は、ＳｉＯ₂／Ｍ₂Ｏモル
比を０．７５〜４．０の範囲にすることが好ましく、さ
らに好ましくは１．０〜３．０である。ＳｉＯ₂／Ｍ₂Ｏ
モル比が０．７５未満であると、アルカリ強度が強くな
っていくため、平版印刷版用原版の支持体として汎用の
アルミニウム板などをエッチングしてしまうといった弊
害を生ずることがあり、４．０を超えると現像性が低下
することがある。

【０１３５】現像液中のアルカリ珪酸塩の濃度として
は、二酸化ケイ素（ＳｉＯ₂）換算で０．１〜３質量％
が適当であり、好ましくは０．５〜２質量％である。こ
の濃度が０．１質量％に満たないと現像性、処理能力が
低下することがあり、一方３質量％を超えると沈殿や結
晶を生成しやすくなり、さらに廃液時の中和の際にゲル
化しやすくなり、廃液処理に支障をきたすことがある。

【０１３６】アルカリ珪酸塩と組み合わせて用いる塩基
として、従来より現像液にアルカリ剤として用いられる
公知のものから適宜選択することができる。該アルカリ
剤としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カ
リウム、リン酸三アンモニウム、リン酸二ナトリウム、
リン酸二カリウム、リン酸二アンモニウム、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ホ
ウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸アンモニウム
などの無機アルカリ剤、クエン酸カリウム、クエン酸三
カリウム、クエン酸ナトリウムなどが挙げられる。アル
カリ剤の組み合わせとして、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウムといったアルカリ金属水酸化物と炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムといった炭酸塩との組み合わせが好ま
しい。

【０１３７】さらにモノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジ
イソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブ
チルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチ
レンジアミン、ピリジン、テトラメチルアンモニウムヒ
ドロキシドなどの有機アルカリ剤も好適に挙げることが
できる。これらのアルカリ剤は単独で用いても、二種以
上を組み合わせて用いてもよい。中でも水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムが好ましい。また、リン酸三ナトリ
ウム、リン酸三カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ムなどもそれ自身に緩衝作用があるので好ましい。

【０１３８】［一般式（Ｉ）の非イオン性化合物］本発
明の現像液にはさらに、下記一般式（Ｉ）の非イオン性
化合物を含める。 Ａ−Ｗ （Ｉ） 式中、ＡはＡ−ＨのｌｏｇＰが１．５以上の疎水性有機
基を表し、ＷはＷ−ＨのｌｏｇＰが１．０未満の非イオ
ン性の親水性有機基を表す。ｌｏｇＰとは、C.Hansch，
A.Leo,“Substituent Constants for CorrelationAnaly
sis in Chemistry and Biology”,J.Wile&Sons,1979.
記載の疎水性パラメータとして一般的に使用されるもの
であり、目的とする分子（Ａ−Ｈ及びＷ−Ｈ）のオクタ
ノール／水２層系に対して、各層に分配される割合から
算出した平衡濃度比Ｐの対数として定義される。ここで
は、一般式（Ｉ）中のＡ，Ｗの各基を特定する指標とし
て使用しており、Ａ，Ｗ各有機基に便宜的に水素原子結
合させた、Ａ−Ｈ、Ｗ−Ｈ構造に対して、A.K.Ghose、e
t．al．J. Comput．Chem. 9,80(1988).記載の方法に基
づき、既知データより計算し、求めたものである。

【０１３９】具体的には、構造としては、有機基Ａ、Ｗ
は互いに異なり、上述のlogＰを満足する、一価の有機
残基を表す。より好ましくは、互いに同一または異な
り、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していても良
く、かつ、不飽和結合を含んでいても良い炭化水素基、
ヘテロ環基、ヒドロキシル基、置換オキシ基、メルカプ
ト基、置換チオ基、アミノ基、置換アミノ基、置換カル
ボニル基、カルボキシラート基、スルホ基、スルホナト
基、置換スルフィニル基、置換スルホニル基、ホスホノ
基、置換ホスホノ基、ホスホナト基、置換ホスホナト基
、シアノ基、ニトロ基を表す。

【０１４０】上記置換基を有していてもよく、かつ、不
飽和結合を含んでいても良い炭化水素基としては、アル
キル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール
基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基及
び置換アルキニル基があげられる。

【０１４１】アルキル基としては炭素原子数が１から２
０までの直鎖状、分岐状、または環状のアルキル基を挙
げることができ、その具体例としては、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル
基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、
イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペン
チル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘ
キシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル
基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボ
ルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素
原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２
までの分岐状、ならびに炭素原子数５から１０までの環
状のアルキル基がより好ましい。

【０１４２】置換アルキル基は置換基とアルキレン基と
の結合により構成され、置換基としては、水素を除く一
価の非金属原子団が用いられ、好ましい例としては、ハ
ロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキ
シル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ
基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ
基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ
基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−
アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキ
シ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリー
ルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモ
イルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ
基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ
基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、ア
シルチオ基、

【０１４３】アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミ
ノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′
−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイ
ド基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリ
ールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレ
イド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイ
ド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′
−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジ
アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジア
ルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ
−アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリール
ウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウ
レイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレ
イド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキ
ルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−
アリールウレイド基、

【０１４４】アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロ
キシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキ
シカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキ
シカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシ
カルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシ
カルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基及びその共役塩基基（以下、カルボキシラートと
称す）、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリール
カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、
Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、アルキル
スルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルス
ルホニル基、

【０１４５】アリールスルホニル基、スルホ基（−ＳＯ
₃Ｈ）及びその共役塩基基（以下、スルホナト基と称
す）、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニ
ル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナモ
イル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ−
アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスル
フィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフィ
ナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファ
モイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−
アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフ
ァモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイ
ル基、

【０１４６】Ｎ−アシルスルファモイル基及びその共役
塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルスルファモイル基（−
ＳＯ₂ＮＨＳＯ₂（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、
Ｎ−アリールスルホニルスルファモイル基（−ＳＯ₂Ｎ
ＨＳＯ₂（ａｌｌｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ−ア
ルキルスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ
₂（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ−アリール
スルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ₂（ａｌｌ
ｙｌ））及びその共役塩基基、アルコキシシリル基（−
Ｓｉ（Ｏａｌｋｙｌ）₃）、アリーロキシシリル基（−
Ｓｉ（Ｏａｌｌｙｌ）₃）、ヒドロキシシリル基（−Ｓ
ｉ（ＯＨ）₃）及びその共役塩基基、

【０１４７】ホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ₂）及びその共役塩
基基（以下、ホスホナト基と称す）、ジアルキルホスホ
ノ基（−ＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）₂）、ジアリールホスホノ
基（−ＰＯ₃（ａｒｙｌ）₂）、アルキルアリールホスホ
ノ基（−ＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノア
ルキルホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びそ
の共役塩基基（以後、アルキルホスホナト基と称す）、
モノアリールホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ（ａｒｙｌ））及
びその共役塩基基（以後、アリールホスホナト基と称
す）、ホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ₂）及びその共役
塩基基（以後、ホスホナトオキシ基と称す）、ジアルキ
ルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）₂）、ジ
アリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃（ａｒｙ
ｌ）₂）、アルキルアリールホスホノオキシ基（−ＯＰ
Ｏ₃（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホス
ホノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその
共役塩基基（以後、アルキルホスホナトオキシ基と称
す）、モノアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ
（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基（以後、アリールホ
スホナトオキシ基と称す）、シアノ基、ニトロ基、アリ
ール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。

【０１４８】これらの置換基における、アルキル基の具
体例としては、前述のアルキル基が挙げられ、アリール
基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフ
チル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル
基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニ
ル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェ
ノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロ
キシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオ
フェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノ
フェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフ
ェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカ
ルボニルフェニル基、フェノキシカルボニルフェニル
基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル
基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェ
ニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、
ホスホナトフェニル基などを挙げることができる。ま
た、アルケニル基の例としては、ビニル基、１−プロペ
ニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロロ−
１−エテニル基等が挙げられ、アルキニル基の例として
は、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、
トリメチルシリルエチニル基、フェニルエチニル基等が
挙げられる。

【０１４９】上述のアシル基（Ｒ⁴ＣＯ−）としては、
Ｒ⁴が水素原子及び上記のアルキル基、アリール基、ア
ルケニル基、アルキニル基を挙げることができる。一
方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述
の炭素数１から２０までのアルキル基上の水素原子のい
ずれか１つを除し、２価の有機残基としたものを挙げる
ことができ、好ましくは炭素原子数１から１２までの直
鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状ならびに炭素
原子数５から１０までの環状のアルキレン基を挙げるこ
とができる。好ましい置換アルキル基の具体例として
は、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロロエチ
ル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メト
キシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノ
キシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル
基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル
基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、
ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバ
モイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキ
シエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ−メチルベン
ゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチル基、２−オ
キソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカル
ボニルエチル基、メトキシカルボニルメチル基、メトキ
シカルボニルブチル基、エトキシカルボニルメチル基、
ブトキシカルボニルメチル基、アリルオキシカルボニル
メチル基、ベンジルオキシカルボニルメチル基、メトキ
シカルボニルフェニルメチル基、トリクロロメチルカル
ボニルメチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、ク
ロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチ
ル基、Ｎ−メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプ
ロピルカルバモイルメチル基、Ｎ−（メトキシフェニ
ル）カルバモイルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホ
フェニル）カルバモイルメチル基、スルホプロピル基、
スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイル
ブチル基、Ｎ−エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ
−ジプロピルスルファモイルプロピル基、Ｎ−トリルス
ルファモイルプロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスホノ
フェニル）スルファモイルオクチル基、

【０１５０】

【化２８】

【０１５１】ホスホノブチル基、ホスホナトヘキシル
基、ジエチルホスホノブチル基、ジフェニルホスホノプ
ロピル基、メチルホスホノブチル基、メチルホスホナト
ブチル基、トリルホスホノヘキシル基、トリルホスホナ
トヘキシル基、ホスホノオキシプロピル基、ホスホナト
オキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチ
ルベンジル基、１−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ
−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１−プ
ロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル
基、２−メチルプロペニルメチル基、２−プロピニル
基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、等を挙げること
ができる。

【０１５２】アリール基としては１個から３個のベンゼ
ン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和
環が縮合環を形成したものを挙げることができ、具体例
としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フ
ェナントリル基、インデニル基、アセナブテニル基、フ
ルオレニル基等を挙げることができ、これらのなかで
は、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。

【０１５３】置換アリール基は、置換基がアリール基に
結合したものであり、前述のアリール基の環形成炭素原
子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を
有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては
前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、先に置
換アルキル基における置換基として示したものを挙げる
ことができる。これらの、置換アリール基の好ましい具
体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、
メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル
基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニ
ル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル
基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、
メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、フェニ
ルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチル
アミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオ
キシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ−シ
クロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−フェ
ニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフ
ェニル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カ
ルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、
アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシ
カルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、Ｎ−
メチルカルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカ
ルバモイルフェニル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カル
バモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニ
ル）カルバモイルフェニル基、

【０１５４】スルホフェニル基、スルホナトフェニル
基、スルファモイルフェニル基、Ｎ−エチルスルファモ
イルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルフ
ェニル基、Ｎ−トリルスルファモイルフェニル基、Ｎ−
メチル−Ｎ−（ホスホノフェニル）スルファモイルフェ
ニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基、
ジエチルホスホノフェニル基、ジフェニルホスホノフェ
ニル基、メチルホスホノフェニル基、メチルホスホナト
フェニル基、トリルホスホノフェニル基、トリルホスホ
ナトフェニル基、アリル基、１−プロペニルメチル基、
２−ブテニル基、２−メチルアリルフェニル基、２−メ
チルプロペニルフェニル基、２−プロピニルフェニル
基、２−ブチニルフェニル基、３−ブチニルフェニル基
等を挙げることができる。

【０１５５】アルケニル基としては、上述のものを挙げ
ることができる。置換アルケニル基は、置換基がアルケ
ニル基の水素原子と置き換わり結合したものであり、こ
の置換基としては、上述の置換アルキル基における置換
基が用いられ、一方アルケニル基は上述のアルケニル基
を用いることができる。好ましい置換アルケニル基の例
としては

【０１５６】

【化２９】

【０１５７】等を挙げることができる。アルキニル基と
しては、上述のものを挙げることができる。置換アルキ
ニル基は、置換基がアルキニル基の水素原子と置き換わ
り、結合したものであり、この置換基としては、上述の
置換アルキル基における置換基が用いられ、一方アルキ
ニル基は上述のアルキニル基を用いることができる。

【０１５８】ヘテロ環基とは、ヘテロ環上の水素を１つ
除した一価の基及びこの一価の基からさらに水素を１つ
除し、上述の置換アルキル基における置換基が結合して
できた一価の基（置換ヘテロ環基）である。好ましいヘ
テロ環の例としては、

【０１５９】

【化３０】

【０１６０】

【化３１】

【０１６１】等を挙げることができる。置換オキシ基
（Ｒ⁵Ｏ−）としては、Ｒ⁵が水素を除く一価の非金属原
子団であるものを用いることができる。好ましい置換オ
キシ基としては、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシ
ルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカル
バモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ
基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ
−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ
−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ
基、アリールスルホキシ基、ホスホノオキシ基、ホスホ
ナトオキシ基等を挙げることができる。これらにおける
アルキル基、ならびにアリール基としては前述のアルキ
ル基、置換アルキル基ならびに、アリール基、置換アリ
ール基として示したものを挙げることができる。

【０１６２】また、アシルオキシ基におけるアシル基
（Ｒ⁶ＣＯ−）としては、Ｒ⁶が、前述のアルキル基、置
換アルキル基、アリール基ならびに置換アリール基のも
のを挙げることができる。これらの置換基の中では、ア
ルコキシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、アリー
ルスルホキシ基等がより好ましい。好ましい置換オキシ
基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピ
ルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、
ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ
基、ベンジルオキシ基、アリルオキシ基、フェネチルオ
キシ基、カルボキシエチルオキシ基、メトキシカルボニ
ルエチルオキシ基、エトキシカルボニルエチルオキシ
基、メトキシエトキシ基、フェノキシエトキシ基、メト
キシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ
基、モルホリノエトキシ基、モルホリノプロピルオキシ
基、アリロキシエトキシエトキシ基、フェノキシ基、ト
リルオキシ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ基、
クメニルオキシ基、メトキシフェニルオキシ基、エトキ
シフェニルオキシ基、クロロフェニルオキシ基、ブロモ
フェニルオキシ基、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキ
シ基、ナフチルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ
基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ等が挙げられ
る。

【０１６３】置換チオ基（Ｒ⁷Ｓ−）としてはＲ⁷が水素
を除く一価の非金属原子団のものを使用できる。好まし
い置換チオ基の例としては、アルキルチオ基、アリール
チオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アシル
チオ基を挙げることができる。これらにおけるアルキル
基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキ
ル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示し
たものを挙げることができ、アシルチオ基におけるアシ
ル基（Ｒ⁶ＣＯ−）のＲ⁶は前述のとおりである。これら
の中ではアルキルチオ基、ならびにアリールチオ基がよ
り好ましい。好ましい置換チオ基の具体例としては、メ
チルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、エトキシ
エチルチオ基、カルボキシエチルチオ基、メトキシカル
ボニルチオ基等が挙げられる。

【０１６４】置換アミノ基（Ｒ⁸ＮＨ−，（Ｒ⁹）
（Ｒ¹⁰）Ｎ−）としては、Ｒ⁸，Ｒ⁹，Ｒ¹⁰が水素を除く
一価の非金属原子団のものを使用できる。置換アミノ基
の好ましい例としては、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ
−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ
−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールア
ミノ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ
基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′−
アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイド
基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリー
ルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレイ
ド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド
基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−
アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジア
ルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアル
キル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−
アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウ
レイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウレ
イド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレイ
ド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキル
ウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−ア
リールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、ア
リーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−ア
ルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリ
ーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アル
コキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリー
ロキシカルボニルアミノ基が挙げられる。これらにおけ
るアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、
置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基
として示したものを挙げることができ、アシルアミノ
基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシル
アミノ基におけるアシル基（Ｒ⁶ＣＯ−）のＲ⁶は前述の
とおりである。これらの内、より好ましいものとして
は、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ
基、Ｎ−アリールアミノ基、アシルアミノ基等が挙げら
れる。好ましい置換アミノ基の具体例としては、メチル
アミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホ
リノ基、ピペリジノ基、ピロリジノ基、フェニルアミノ
基、ベンゾイルアミノ基、アセチルアミノ基等が挙げら
れる。

【０１６５】置換カルボニル基（Ｒ¹¹−ＣＯ−）として
は、Ｒ¹¹が一価の非金属原子団のものを使用できる。置
換カルボニル基の好ましい例としては、ホルミル基、ア
シル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ア
リーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキ
ルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル
基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリール
カルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモ
イル基等が挙げられる。これらにおけるアルキル基、ア
リール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、
ならびにアリール基、置換アリール基として示したもの
を挙げることができる。これらの内、より好ましい置換
基としては、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、
アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、
カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ
−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイ
ル基等が挙げられ、更により好ましいものとしては、ホ
ルミル基、アシル基、アルコキシカルボニル基ならびに
アリーロキシカルボニル基が挙げられる。好ましい置換
基の具体例としては、ホルミル基、アセチル基、ベンゾ
イル基、カルボキシル基、メトキシカルボニル基、アリ
ルオキシカルボニル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ
−フェニルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモ
イル基、モルホリノカルボニル基等が挙げられる。

【０１６６】置換スルフィニル基（Ｒ¹²−ＳＯ−）とし
てはＲ¹²が一価の非金属原子団のものを使用できる。好
ましい例としては、アルキルスルフィニル基、アリール
スルフィニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルス
ルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイ
ル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジア
リールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリー
ルスルフィナモイル基が挙げられる。これらにおけるア
ルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換
アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基とし
て示したものを挙げることができる。これらの内、より
好ましい例としてはアルキルスルフィニル基、アリール
スルフィニル基等が挙げられる。このような置換スルフ
ィニル基の具体例としては、へキシルスルフィニル基、
ベンジルスルフィニル基、トリルスルフィニル基等が挙
げられる。

【０１６７】置換スルホニル基（Ｒ¹³−ＳＯ₂−）とし
ては、Ｒ¹³が一価の非金属原子団のものを使用できる。
より好ましい例としては、アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基を挙げることができる。これらにおけ
るアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、
置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基
として示したものを挙げることができる。このような、
置換スルホニル基の具体例としては、ブチルスルホニル
基、クロロフェニルスルホニル基等が挙げられる。

【０１６８】スルホナト基（−ＳＯ₃−）は前述のとお
り、スルホ基（−ＳＯ₃Ｈ）の共役塩基陰イオン基を意
味し、通常は対陽イオンと共に使用されるのが好まし
い。このような対陽イオンとしては、一般に知られるも
の、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウム類、ス
ルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム類、アジ
ニウム類等）、ならびに金属イオン類（Ｎａ⁺、Ｋ⁺、Ｃ
ａ²⁺、Ｚｎ²⁺等）が挙げられる。

【０１６９】カルボキシラート基（−ＣＯ₂−）は前述
のとおり、カルボキシル基（ＣＯ₂Ｈ）の共役塩基陰イ
オン基を意味し、通常は対陽イオンと共に使用されるの
が好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知
られるもの、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウ
ム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム
類、アジニウム類等）、ならびに金属イオン類（Ｎ
ａ⁺、Ｋ⁺、Ｃａ²⁺、Ｚｎ²⁺等）が挙げられる。

【０１７０】置換ホスホノ基とはホスホノ基上の水酸基
の一つもしくは二つが他の有機オキソ基によって置換さ
れたものを意味し、好ましい例としては、前述のジアル
キルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、アルキルアリ
ールホスホノ基、モノアルキルホスホノ基、モノアリー
ルホスホノ基が挙げられる。これらの中ではジアルキル
ホスホノ基、ならびにジアリールホスホノ基がより好ま
しい。このような具体例としては、ジエチルホスホノ
基、ジブチルホスホノ基、ジフェニルホスホノ基等が挙
げられる。

【０１７１】ホスホナト基（−ＰＯ₃ ^2-、−ＰＯ₃Ｈ^-）
とは前述のとおり、ホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ₂）の、酸第
一解離もしくは、酸第二解離に由来する共役塩基陰イオ
ン基を意味する。通常は対陽イオンと共に使用されるの
が好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知
られるもの、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウ
ム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム
類：アジニウム類、等）、ならびに金属イオン類（Ｎａ
⁺、Ｋ⁺、Ｃａ²⁺、Ｚｎ²⁺等）が挙げられる。

【０１７２】置換ホスホナト基とは前述の置換ホスホノ
基の内、水酸基を一つ有機オキソ基に置換したものの共
役塩基陰イオン基であり、具体例としては、前述のモノ
アルキルホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ（ａｌｋｙｌ））、モ
ノアリールホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ（ａｒｙｌ））の共
役塩基を挙げることができる。通常は対陽イオンと共に
使用されるのが好ましい。このような対陽イオンとして
は、一般に知られるもの、すなわち、種々のオニウム類
（アンモニウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、
ヨードニウム類、アジニウム類、等）、ならびに金属イ
オン類（Ｎａ⁺、Ｋ⁺、Ｃａ²⁺、Ｚｎ²⁺等）が挙げられ
る。

【０１７３】前記一般式（Ｉ）中、Ａ及びＷの各構造
は、より好ましくは、Ａが芳香族を含有する有機基、Ｗ
がポリオキシアルキレン基を含有する非イオン性の有機
基である。

【０１７４】なお、Ａ−ＨおよびＷ−Ｈの具体例を以下
に示す。

【０１７５】

【化３２】

【０１７６】

【化３３】

【０１７７】また、前記一般式（Ｉ）の非イオン性化合
物の具体例を以下に示す。

【０１７８】

【化３４】

【０１７９】

【化３５】

【０１８０】

【化３６】

【０１８１】前記一般式（Ｉ）の非イオン性化合物とし
て、さらに好ましいものとしては、下記式（Ｉ−Ａ）ま
たは（Ｉ−Ｂ）で示されるものである。

【０１８２】

【化３７】

【０１８３】上記式中、Ｒ₁₀、Ｒ₂₀は、Ｈまたは炭素数
１〜１００の炭化水素基であり、ｎ、ｍは０〜１００の
整数（ただし、ｎ及びｍは同時に０ではない）である。
炭化水素基としては、アルキル基、アリール基、アラル
キル基等が挙げられ、さらにこれらの炭化水素基がエー
テル結合、エステル結合またはアミド結合で結合したも
のも含む。より好ましいＲ₁₀、Ｒ₂₀としては、Ｈまたは
炭素数１〜１００の直鎖または分岐鎖アルキル基が挙げ
られる。また、Ｒ₁₀、Ｒ₂₀は基：Ｒ₃₀−Ｘ−（Ｒ₃₀は炭
素数１〜１００の直鎖または分岐鎖アルキル基であり、
Ｘは−Ｏ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＮＨＣＯ−、
または−ＣＯＮＨ−を表す）を表してもよい。より好ま
しくはＲ₁₀、Ｒ₂₀は水素原子、炭素数１〜１０の直鎖ま
たは分岐鎖アルキル基または基：Ｒ₃₀−Ｘ−（Ｒ₃₀は炭
素数１〜１０の直鎖または分岐鎖アルキル基であり、Ｘ
は−Ｏ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＮＨＣＯ−、ま
たは−ＣＯＮＨ−）である。

【０１８４】一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物として
は、ポリオキシエチレンフェニルエーテル、ポリオキシ
エチレンメチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン
オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニル
フェニルエーテル等が挙げられる。一般式（Ｉ−Ｂ）で
表される化合物としては、ポリオキシエチレンナフチル
エーテル、ポリオキシエチレンメチルナフチルエーテ
ル、ポリオキシエチレンオクチルナフチルエーテル、ホ
リオキシエチレンノニルナフチルエーテル等が挙げられ
る。

【０１８５】前記一般式（Ｉ−Ａ）および（Ｉ−Ｂ）の
化合物において、ポリオキシエチレン鎖の繰り返し単位
数は、好ましくは３〜５０、より好ましくは５〜３０で
ある。ポリオキシプロピレン鎖の繰り返し単位数は、好
ましくは０〜１０、より好ましくは０〜５である。ポリ
オキシエチレン部とポリオキシプロピレン部はランダム
でもブロックの共重合体でもよい。前記一般式（Ｉ−
Ａ）および（Ｉ−Ｂ）で示されるノニオン芳香族エーテ
ル系活性剤は、単独または２種類以上を組み合わせて使
用される。

【０１８６】本発明において、前記一般式（Ｉ）で示さ
れる非イオン性化合物は、現像液中０．１〜１５質量
％、好ましくは１．０〜８．０質量％添加することが効
果的である。ここで添加量が少なすぎると、現像性低下
および感光層成分の溶解性低下を招き、逆に多すぎる
と、印刷版の耐刷性を低下させる。

【０１８７】［キレート剤］本発明の現像液は、キレー
ト剤を含有していてもよい。キレート剤としては、例え
ば、Ｎa₂Ｐ₂Ｏ₇、Ｎa₅Ｐ₃Ｏ₃、Ｎa₃Ｐ₃Ｏ₉、Ｎa₂Ｏ₄Ｐ
（ＮaＯ₃Ｐ)ＰＯ₃Ｎa ₂、カルゴン（ポリメタリン酸ナト
リウム）などのポリリン酸塩、例えばエチレンジアミン
テトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；ジエ
チレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、ナトリ
ウム塩；トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリ
ウム塩、そのナトリウム塩；ヒドロキシエチルエチレン
ジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム
塩；ニトリロトリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウ
ム塩；１，２−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸、そ
のカリウム塩、そのナトリウム塩；１，３−ジアミノ−
２−プロパノールテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナ
トリウム塩などのようなアミノポリカルボン酸類の他２
−ホスホノブタントリカルボン酸−１，２，４、そのカ
リウム塩、そのナトリウム塩；２一ホスホノブタノント
リカルボン酸−２，３，４、そのカリウム塩、そのナト
リウム塩；１−ホスホノエタントリカルボン酸−１，
２、２、そのカリウム塩、そのナトリウム塩；１−ヒド
ロキシエタン−１，１−ジホスホン酸、そのカリウム
塩、そのナトリウム塩；アミノトリ（メチレンホスホン
酸）、そのカリウム塩、そのナトリウム塩などのような
有機ホスホン酸類を挙げることができる。このようなキ
レート剤の最適量は使用される硬水の硬度およびその使
用量に応じて変化するが、一般的には、使用時の現像液
中に０．０１〜５質量％、より好ましくは０．０１〜
０．５質量％の範囲で含有させられる。

【０１８８】［界面活性剤］また、本発明に使用される
現像液は、上記一般式（Ｉ）で示される非イオン性化合
物以外に、さらに以下に記すその他の界面活性剤を加え
てもよい。その他の界面活性剤としては、例えば、ポリ
オキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレン
セチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテ
ル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオ
キシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエ
チレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレン
アルキルアリルエーテル類、ポリオキシエチレンステア
レート等のポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソ
ルビタンモノラウレート、ソルビタンモノステアレー
ト、ソルビタンジステアレート、ソルビタンモノオレエ
ート、ソルビタンセスキオレエート、ソルビタントリオ
レエート等のソルビタンアルキルエステル類、グリセロ
ールモノステアレート、グリセロールモノオレート等の
モノグリセリドアルキルエステル類等のノニオン界面活
性剤：ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等のアル
キルベンゼンスルホン酸塩類、ブチルナフタレンスルホ
ン酸ナトリウム、ペンチルナフタレンスルホン酸ナトリ
ウム、ヘキシルナフタレンスルホン酸ナトリウム、オク
チルナフタレンスルホン酸ナトリウム等のアルキルナフ
タレンスルホン酸塩類、ラウリル硫酸ナトリウム等のア
ルキル硫酸塩類、ドデシルスルホン酸ソーダ等のアルキ
ルスルホン酸塩類、ジラウリルスルホコハク酸ナトリウ
ム等のスルホコハク酸エステル塩類等のアニオン界面活
性剤：ラウリルベタイン、ステアリルベタイン等のアル
キルベタイン類、アミノ酸類等の両性界面活性剤が使用
可能であるが、特に好ましいのはアルキルナフタレンス
ルホン酸塩類等のアニオン界面活性剤である。これら界
面活性剤は単独、もしくは組み合わせて使用することが
できる。また、これら界面活性剤の現像液中における含
有量は有効成分換算で、０．１から２０質量％が好まし
い。

【０１８９】［その他の成分］本発明に使用される現像
液には、上記の成分の他に、必要に応じて以下のような
成分を併用することができる。例えば安息香酸、フタル
酸、ｐ−エチル安息香酸、ｐ−ｎ−プロピル安息香酸、
ｐ−イソプロピル安息香酸、ｐ−ｎ−ブチル安息香酸、
ｐ−ｔ−ブチル安息香酸、ｐ−ｔ−ブチル安息香酸、ｐ
−２−ヒドロキシエチル安息香酸、デカン酸、サリチル
酸、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸等の有機カルボン
酸；イソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、エ
チルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソル
ブ、プロピレングリコール、ジアセトンアルコール等の
有機溶剤；この他、キレート剤、還元剤、染料、顔料、
硬水軟化剤、防腐剤等が挙げられる。さらに本発明の製
版方法を、自動現像機を用いて現像処理を行う場合、処
理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液または
新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させても良い。

【０１９０】［電導度］本発明の現像液の電導度は、３
〜３０ｍＳ／ｃｍの範囲にあることが適当であり、現像
速度の点でより好ましくは、３〜１５ｍＳ／ｃｍであ
る。

【０１９１】［発砲性］内径３ｃｍの１００ｍｌ透明ガ
ラス瓶に現像液を３０ｍｌ入れて、２５℃で、１秒間に
３回の速度で、ガラス瓶を上下に１分間振とうする。そ
の後、静置し、泡が消えるまでの時間（消泡時間）を測
定する。この時間が少ない方が発泡性が低くよい（消泡
性が高い）。本発明の現像液は、好ましくは、発砲性が
低く、消泡時間５分以下であり、現像処理時に発砲し現
像処理工程に支障を来すことがない。

【０１９２】［色］本発明の現像液は無色、好ましくは
水との誤認を防ぐ目的で、視認性が得られる程度の色が
付いている。 ［粘度］本発明の現像液の粘度は好ましくは、水希釈状
態で２５℃において１．０〜１０．０ｃｐであり、円滑
な現像処理が行える。

【０１９３】

【実施例】以下、実施例により、本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 ［支持体例］ （支持体１：陽極酸化アルミニウム支持体）厚さ０．３
０ｍｍの材質１Ｓのアルミニウム板を８号ナイロンブラ
シと８００メッシュのパミストンの水懸濁液を用い、そ
の表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。１０％水
酸化ナトリウムに７０℃で６０秒間浸漬してエッチング
した後、流水で、水洗後、２０％ＨＮＯ₃で中和洗浄、
水洗した。これをＶ_A＝１２．７Ｖの条件下で正弦波の
交番波形電流を用いて１％硝酸水溶液中で３００クーロ
ン／ｄｍ²の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。
その表面粗さを測定したところ０．４５μｍ（Ｒａ表
示）であった。ひきつづいて３０％のＨ₂ＳＯ₄水溶液中
に浸漬し、５５℃で２分間デスマットした後、３３℃、
２０％Ｈ₂ＳＯ₄水溶液中で、砂目立てした面に陰極を配
置して、電流密度５Ａ／ｄｍ²において５０秒間陽極酸
化したところ、厚さが２．７ｇ／ｍ²であった。これを
支持体１とした。

【０１９４】（支持体２）支持体１に下記の表面処理用
下塗り液状組成物１をＰ量が約０．０５ｇ／ｍ²となる
ように塗布し、１００℃で１分間乾燥させたものを支持
体２とした。

【０１９５】 ＜下塗り用液状組成物１＞ フェニルホスホン酸 ２重量部 メタノール ８００重量部 水 ５０重量部

【０１９６】（支持体３）支持体１に下記の表面処理用
下塗り液状組成物２をＳｉ量が約０．００１ｇ／ｍ²と
なるように塗布し、１００℃で１分間乾燥させたものを
支持体３とした。

【０１９７】＜下塗り用液状組成物２＞下記成分を混合
攪拌し、約５分後に発熱が見られ、６０分間反応させた
後、内容物を別の容器に移し、メタノールをさらに３万
重量部加えたものを液状組成物２とした。

【０１９８】 ユニケミカル（株）ホスマーＰＥ ２０重量部 メタノール １３０重量部 水 ２０重量部 パラトルエンスルホン酸 ５重量部 テトラエトキシシラン ５０重量部 ３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン ５０重量部

【０１９９】［感材例］上述の支持体１〜３上に、下記
組成の光重合性組成物を乾燥塗布重量が１．５ｇ／ｍ²
となるように塗布し、１００℃で１分間乾燥させ、感光
層を形成した。続いて、この感光層上にポリビニルアル
コール（ケン化度９８モル％、重合度５００）の３質量
％の水溶液を乾燥塗布重量が２．５ｇ／ｍ²となるよう
に塗布し、１２０℃で３分間乾燥させ、感光性平版印刷
版（感材）を得た。

【０２００】 （感光層塗布液（光重合性組成物）：下記表３に詳細を記載） エチレン性不飽和結合含有化合物（Ａ） ａ 重量部 本発明におけるポリウレタン樹脂バインダー（Ｂ） ｂ 重量部 増感剤（Ｃ） ０．１５重量部 光開始剤（Ｄ） ０．３０重量部 添加剤（Ｓ） ０．５０重量部 フッ素系界面活性剤 ０．０３重量部 （メガファックF-177：大日本インキ化学工業(株)製） 熱重合禁止剤 ０．０１重量部 （Ｎ-ニトロソヒドロキシルアミンアルミニウム塩） ε型の銅フタロシアニン分散物 ０．２ 重量部 メチルエチルケトン ３０．０ 重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル ３０．０ 重量部

【０２０１】

【表３】

【０２０２】※感光層酸価は感光層1g当たりに含有され
る酸量を水酸化ナトリウム滴定により測定後、算出した
値である。

【０２０３】なお、感光層塗布液に用いる、エチレン性
不飽和結合含有化合物（Ａ）、本発明におけるポリウレ
タン樹脂バインダー（Ｂ）、増感剤（Ｃ）、光開始剤
（Ｄ）、添加剤（Ｓ）を以下に示す。

【０２０４】

【化３８】

【０２０５】

【表４】

【０２０６】

【化３９】

【０２０７】

【化４０】

【０２０８】［現像液例］下記組成の現像液を調製し
た。

【０２０９】 （実施例：現像液１〜３５：下記表５〜７に詳細を記載） アルカリ剤 ｘ ｇ アルカリ珪酸塩 ｙ ｇ 一般式（Ｉ）の化合物（Ｙ） ５．０ ｇ キレート剤 （Ｚ） ０．１ ｇ 添加剤 （Ｑ） １．０ ｇ 水 （９３．９−（ｘ＋ｙ））ｇ

【０２１０】なお、現像液に用いる、キレート剤
（Ｚ）、添加剤（Ｑ）を以下に示す。表５〜７に実施
例、比較例で使用する現像液の組成、ｐH及び電導度を
まとめて示す。電導度は、東亜電波工業（株）製 電導
度測定機ＣＭ６０Ｓにて２５℃で測定した。

【０２１１】

【化４１】

【０２１２】

【表５】

【０２１３】

【表６】

【０２１４】

【表７】

【０２１５】上記現像液１’〜５’は比較のための現像
液である。上表中の現像液組成において使用している１
Ｋ珪酸カリウム、２Ｋ珪酸カリウム、Ａ珪酸カリウムは
日本化学工業（株）製の商品名である。比較の現像液４
及び現像液５は、一般式（I）で示される非イオン性化
合物を含んでいないものである。

【０２１６】［印刷等評価］上記表３の感材と表５〜７
の現像液を組み合わせた際の結果について下記表８〜９
にまとめた。また、露光、印刷、現像条件は以下のもの
を使用した。 （現像性の評価）上述の塗布感材を未露光のまま現像
後、版の色を目視評価。残膜がある場合、感光層の色が
残る。

【０２１７】（耐刷性および印刷放置汚れ性の評価）上
述の塗布感材を５３２ｎｍ、１００ｍＷのＦＤ・ＹＡＧ
レーザー（ＣＳＩ社製プレートジェット４）、或いは、
４０５ｎｍ、３０ｍＷのvioletＬＤ（内面ドラム型実験
機）で１００μ／ｃｍ²の露光（標準露光条件）で４０
００ｄｐｉにて１７５線／インチの条件で、ベタ画像と
１〜９９％の網点画像（１％刻み）を走査露光した後、
各種現像液およびフィニッシングガム液ＦＰ−２Ｗ（富
士写真フィルム製）を仕込んだ自動現像機（富士写真フ
ィルム製ＬＰ−８５０Ｐ２）で標準処理を行い平版印刷
版を得た。（露光後のプレヒートは版面到達温度が１０
０℃、現像液への浸漬時間１５秒である。） 続いて、得られた平版印刷版についてマン・ローランド
社製Ｒ２０１型印刷機で、大日本インキ社製ＧＥＯＳ
Ｇ墨（Ｎ）を使用して印刷し、３％の網点が版飛びを起
こした印刷枚数を評価した。印刷放置汚れ性は三菱重工
製ダイヤＩＦ２型印刷機で、大日本インキ社製ＧＥＯＳ
Ｇ紅（Ｓ）を使用して印刷し、印刷途中でインキをつ
けた状態で１時間放置した後、再び印刷を行い、非画像
部のインキ汚れを目視で評価した。

【０２１８】（現像カスの評価）上述の塗布感材２０ｍ
²を上述の現像液（１リットル）中で現像後、１ヶ月放
置し沈降した現像カスの有無を調査した。この結果も表
８〜９に示す。

【０２１９】

【表８】

【０２２０】

【表９】

【０２２１】※感材５〜９、１４、１６、１８並びに比
較感材１については４０５ｎｍで露光、その他は５３２
ｎｍで露光した。

【０２２２】表８〜９から明らかなように本発明の現像
液は現像性良好であり、耐刷性と印刷汚れを両立し、さ
らに現像カスを発生せず長期にわたって処理が安定に保
たれて、よって良好なランニング安定性を発揮する。

【０２２３】［現像挙動調査］本明細書に記載の検査方
法により表８〜９の実施例及び比較例について、現像挙
動等の調査を行った結果を表１０に示す。

【０２２４】

【表１０】

【０２２５】

【発明の効果】本発明の感光性平版印刷版用現像液およ
び平版印刷版の製版方法は、画像形成性を損なわずに印
刷時の汚れと耐刷性の両立ができ、かつ、上述の現像液
不溶性化合物を溶解或いは長時間分散安定化でき、処理
安定性をも向上することができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】現像浸透速度を測定するための装置の概略図で
ある。

【図２】現像浸透速度を測定するためのグラフである。

【図３】感光層の溶解及び膨潤を測定するためのＤＲＭ
干渉波測定装置の概略図である。

【図４】感光層の溶解及び膨潤を測定するためのグラフ
である。

フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H025 AA04 AA12 AB03 AC01 AD01 BC13 BC42 CA00 CB22 CB43 CB45 CB51 DA18 DA36 FA17 2H096 AA06 BA05 BA06 CA03 GA09 GA11 GA13 4J034 BA08 CA04 CA22 CB03 CB04 CB07 CB08 CC03 CC12 CC13 CC26 CC45 CC46 CC52 CC61 CC62 CC65 CC67 CD01 CD04 CD06 DA01 DB04 DB07 DF01 DF02 DG03 DG04 DG10 DG12 DG16 HA01 HA07 HB07 HB12 HC03 HC12 HC17 HC22 HC46 HC52 HC61 HC64 HC67 HC71 HC73 QA07 QC03 RA07

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 アルミニウム支持体上に、ポリウレタン
   樹脂バインダー、付加重合可能なエチレン性不飽和結合
   を有する化合物、および光重合開始剤を含有する感光層
   を有する平版印刷版用原版であって、前記ポリウレタン
   樹脂バインダーが、少なくとも下記（i）、（ii）及び
   （iii）の化合物より合成されるポリウレタン樹脂バイ
   ンダー（Ｂ１）並びに少なくとも下記（i）、（ii）及
   び（iv）の化合物より合成されるポリウレタン樹脂バイ
   ンダー（Ｂ２）を含むものであることを特徴とする、上
   記平版印刷版用原版； （i）少なくとも１種のジイソシアネート化合物、（i
   i）少なくとも１つのカルボキシル基を有する少なくと
   も１種のジオール化合物、（iii）ｌｏｇＰ値が０未満
   の少なくとも１種のジオール化合物、（iv）ｌｏｇＰ値
   が０より大きい少なくとも１種のジオール化合物、ただ
   し、（iii）及び（iv）の化合物はカルボキシル基を有
   するジオール化合物を除く化合物である。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の平版印刷版用原版を、
   レーザー光で画像露光した後、下記一般式（Ｉ）で表さ
   れる非イオン性化合物を含有し、ｐＨが１１．５〜１
   ２．８であり、かつ３〜３０ｍＳ／ｃｍの電導度を有す
   るアルカリ現像液で現像する平版印刷版の製版方法； Ａ−Ｗ （Ｉ） （式中、ＡはＡ−ＨのｌｏｇＰが１．５以上の疎水性有
   機基を表し、ＷはＷ−ＨのｌｏｇＰが１．０未満の非イ
   オン性の親水性有機基を表す。）。