JP4322861B2 - パルス変調装置及びリソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
本発明の実施例についての詳細説明を、添付の図面を参照に、例示の方法においてのみ行うものとし、ここで一致する参照符合はその対応一致する部分を示す。
− 放射線ビームB(例えばUV放射線あるいはDUV放射線)を調整するように構成され、さらに、ビーム送出部システムBDを介してソースSOから放射線を受取るように構成された照明装置ILと、ここで、ソースSOと照明装置IL間のあるポイントで、放射線は、リソグラフィ装置にて用いる放射線を調整するパルスストレッチ装置50を通過する。
− パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構成され、かつ、特定のパラメータに基づいて正確にパターニングデバイスの位置決めを行うように構成された第一ポジショナPMに連結を行った支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
− 基板(例えばレジスト塗布ウェハ)を保持するように構成され、かつ、特定のパラメータに基づいて正確に基板の位置決めを行うように構成された第二ポジショナPWに連結を行った基板テーブル(例えばウェハテーブル)WTと、
− パターニングデバイスMAにより投影ビームBに与えられたパターンを、基板Wの目標部分C(例えば、1つあるいはそれ以上のダイから成る)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズ)PSとにより構成されている。
ストレッチの程度を示すために、パルス変調器に対してTIS係数を算出することが可能である。
TIS係数=TISout/TISin
1. ステップモードにおいて、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTは基本的に静止状態に維持されており、投影ビームに与えられた全体パターンが1回の作動(すなわちシングル静的露光)で目標部分Cに投影される。次に基板テーブルWTがx方向および/あるいはy方向にシフトされ、異なる目標部分Cが露光可能となる。ステップモードにおいては、露光フィールドの最大サイズにより、シングル静的露光にて結像される目標部分Cのサイズが制限される。
2. スキャンモードにおいて、投影ビームに与えられたパターンが目標部分Cに投影されている間、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTは同時走査される(すなわちシングル動的露光)。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPSの拡大(縮小)および像反転特性により判断される。スキャンモードにおいては、露光フィールドの最大サイズにより、シングル動的露光における目標部分の幅(非走査方向における)が制限される。一方、走査動作長が目標部分の高さ(走査方向における)を決定する。
3. 他のモードにおいて、マスクテーブルMTは、プログラム可能パターニング手段を保持し、基本的に静止状態が維持される。そして、基板テーブルWTは、放射線ビームに与えられたパターンが目標部分Cに投影されている間、移動あるいは走査される。このモードにおいては、一般にパルス放射線ソースが用いられ、プログラム可能パターニングデバイスは、基板テーブルWTの各運動後、もしくは走査中の連続的放射線パルスの間に、要求に応じて更新される。この稼動モードは、上述のようなタイプのプログラム可能ミラーアレイといった、プログラム可能パターニング手段を使用するマスクレスリソグラフィに容易に適用可能である。
・ 前述のように、例えば60R/40Tビームスプリッタキューブを使用する、エネルギーによる。
・ 図11に示したような偏光といった、入射放射線の特性による。このパルス変調器において、入射放射線ビーム100は偏光により2つの部分に分割される、−1つの偏光は遅延されずパルス変調器を通過できるが、もう一方の偏光は、最終的に第一偏光と再結合する前に、それを屈折することで遅延パス40を通って遅延され、両方の偏光からなる出射放射線ビーム110を作りだす。
・ 図12に示したような(幾何学的)位置による。ここで、適切なリフレクタ28を入射放射線ビーム100の部分に挿入することによりビームの部分が遅延パス40に導かれる。出射放射線ビーム110は遅延部分および遅延されない部分からなる。この構成は再結合面を必要としない。
Claims (23)
- 第一光軸に沿って放射線の入力パルスを受取るように構成され、さらに、第二光軸に沿って放射線の1つ以上の対応する出力パルスを放射するように構成されたパルス変調器を二つ以上含むパルス変調装置において、該パルス変調器は、
第一光軸に沿って配置され、かつ、入力パルスを第一パルス部分と第二パルス部分に分割するように構成され、さらに、第一パルス部分を第二光軸に沿って導くように構成された分割器と、
所定の分離間隔をおいて互いに向き合って配置されており、かつ、第二パルス部分を受取って、第二部分を第二光軸に沿ってリダイレクトするように構成された、所定の曲率半径を有する第一および第二鏡と、を含み、
前記パルス変調器を通過する第二部分の光パスは第一部分のそれよりも長く、そして、前記分離間隔は曲率半径よりも小さいものであり、
パルス変調器の第一光軸が、前のパルス変調器の第二光軸と一致するようにカスケードに配置され、
全パルス変調器の第一鏡は共通の第一鏡であり、全パルス変調器の第二鏡は共通の第二鏡である、ことを特徴とするパルス変調装置。 - 共通の第一および第二鏡の分離間隔と曲率半径との差は0.1mmよりも大きいことを特徴とする請求項1に記載のパルス変調装置。
- 各パルス変調器における放射線の第二部分は各共通の鏡に2回入射することを特徴とする請求項1又は2に記載のパルス変調装置。
- 分割器はビームスプリッタであることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一項に記載のパルス変調装置。
- 放射線の波長は、365nm、355nm、248nm、193nm、157nm、126nm、および5−20nmの範囲のうちの1つから選択されることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一項に記載のパルス変調装置。
- 放射線は193nmであり、分割器はCaF2からなるビームスプリッタであることを特徴とする請求項5に記載のパルス変調装置。
- 時間積分二乗係数は1.5よりも大きいことを特徴とする請求項1に記載のパルス変調装置。
- 時間積分2乗係数は2よりも大きいことを特徴とする請求項1に記載のパルス変調装置。
- 各パルス変調器が第一光軸に沿って放射線の入力パルスを受取るように構成され、さらに、第二光軸に沿って、放射線の1つ以上の対応する出力パルスを放射するように構成され、パルス変調器の第一光軸が前のパルス変調器の第二光軸と一致するようにカスケードに配置された2つのパルス変調器から成るパルス変調装置において、該パルス変調装置は、
入力パルスを第一パルス部分と第二パルス部分に分割するように構成され、さらに、第一パルス部分を第二分割器に導くように構成された第一分割器と、
所定の分離間隔をとって互いに向き合って配置されており、かつ、第一分割器から第二パルス部分を受取って、第二部分を第二分割器にリダイレクトするように構成され、パルス変調器を通過する第二部分の光パスが第一部分のそれよりも長くされた所定の曲率半径を有する第一および第二鏡と、
第一分割器から第一光軸に沿ってパルスを受取って、該パルスを第三および第四パルス部分に分割するように構成され、さらに、第二光軸に沿って第三パルス部分を導くように構成された第二分割器と、を含み、
前記第一および第二鏡が、さらに、第二分割器から第四パルス部分を受取って、第四部分を第二光軸に沿って向け直すように構成されており、それにより、パルス変調器を通過する第四部分の光パスが第三部分のそれよりも長いことを特徴とするパルス変調装置。 - 前記第一分割器及び前記第二分割器がビームスプリッタであり、これら分割器の縦軸間の角度が約90度であることを特徴とする請求項9に記載のパルス変調装置。
- 分離間隔が曲率半径よりも小さいことを特徴とする請求項9又は10に記載のパルス変調装置。
- 分離間隔と曲率半径との差が0.1mmよりも大きいことを特徴とする請求項9ないし11のいずれか一項に記載のパルス変調装置。
- パターニングデバイスから基板にパターンを投影するように配置されたリソグラフィ装置であって、パターニングデバイスの照明における放射線ビームを調整するように構成された照明システムを含み、前記照明システムが放射線ビームのパルスを変調するように構成された請求項1に記載のパルス変調装置を含むリソグラフィ装置。
- 第一光軸に沿って放射線の入力パルスを受取るように構成され、さらに、第二光軸に沿って、放射線の1つ以上の対応する出力パルスを放射するように構成されたパルス変調器を二つ以上含むパルス変調装置であって、該パルス変調器は、
入力を第一パルス部分と第二パルス部分に分割するように構成され、さらに、両方のパルス部分を、所定の曲率半径を有する第一鏡に導くように構成された分割器を、含み、前記第一鏡が第二光軸に配置されかつ第二光軸に沿って配置された、出力パルスの通過可能な開口を有し、また、第一鏡が各パルス部分の第一部分を、第一鏡の曲率半径と等しい所定の曲率半径を有する第二鏡にリダイレクトするように配置されており、さらに、各パルス部分の第二部分を第二光軸に沿って1つ以上の出力パルスとして、第一鏡の開口を通過させるように配置されており、
第二鏡が、所定の分離間隔をおいて第一鏡と向き合って第二光軸上に配置され、第二部分の光パスを第一部分のそれよりも長くなるように構成され、
パルス変調器の第一光軸が、前のパルス変調器の第二光軸と一致するようにカスケードに配置され、
全パルス変調器の第一鏡は共通の第一鏡であり、全パルス変調器の第二鏡は共通の第二鏡である、ことを特徴とするパルス変調装置。 - 分離間隔が曲率半径よりも小さいことを特徴とする請求項14に記載のパルス変調装置。
- 分離間隔と曲率半径との差が0.1mmよりも大きいことを特徴とする請求項14又は15に記載のパルス変調装置。
- 分割器がリニアアキシコンから成ることを特徴とする請求項14ないし16のいずれか一項に記載のパルス変調装置。
- 分割器が幾何(geometrical)分割器から成ることを特徴とする請求項14ないし16のいずれか一項に記載のパルス変調装置。
- 放射線ビームのパルスを変調するように構成された請求項14に記載のパルス変調装置を具備し、かつ、パターニングデバイスの照明における放射線ビームを調整するように構成された照明システムから成る、パターニングデバイスから基板にパターンを投影するように配置されたリソグラフィ装置。
- 照明システムがさらにビーム送出部を含み、パルス変調器が前記ビーム送出部に配置されることを特徴とする請求項19に記載のリソグラフィ装置。
- 第一光軸に沿って放射線の入力パルスを受取るように構成され、さらに、第二光軸に沿って、放射線の1つ以上の対応する出力パルスを放射するように構成されたパルス変調器を二つ以上含むパルス変調装置であって、該パルス変調器は、
入力を第一パルス部分と第二パルス部分に分割するように構成され、さらに、第一パルス部分を出力パルスとしてパルス変調器から導くように構成された分割器と、
所定の分離間隔をおいて互いに向き合って配置された第一および第二鏡を有してなり、且つ、第二パルス部分を受取って、第二部分を出力パルスとしてパルス変調器からリダイレクトするように構成された遅延パスと、を含み、
第二部分の光パスが第一部分のそれよりも長くされ、出力放射線ビームの発散度が入力放射線ビームの発散度とほぼ同じであり、
パルス変調器の第一光軸が、前のパルス変調器の第二光軸と一致するようにカスケードに配置され、
全パルス変調器の第一鏡は共通の第一鏡であり、全パルス変調器の第二鏡は共通の第二鏡であることを特徴とするパルス変調装置。 - 第一光軸に沿って放射線の入力パルスを受取るように構成され、さらに、第二光軸に沿って、放射線の1つ以上の対応する出力パルスを放射するように構成されたパルス変調器を二つ以上含むパルス変調装置であって、該パルス変調器は、
入力を第一パルス部分と第二パルス部分に分割するように構成され、さらに、第一パルス部分を出力パルスとしてパルス変調器から導くように構成された分割器と、
所定の分離間隔をおいて互いに向き合って配置された第一および第二鏡を有してなり、且つ、第二パルス部分を受取って、第二部分を出力パルスとしてパルス変調器からリダイレクトするように構成された遅延パスと、を含み、
第二部分の光パスが第一部分のそれよりも長く、また、前記遅延パスが第二光軸とほぼ平行であり、
パルス変調器の第一光軸が、前のパルス変調器の第二光軸と一致するようにカスケードに配置され、
全パルス変調器の第一鏡は共通の第一鏡であり、全パルス変調器の第二鏡は共通の第二鏡であることを特徴とするパルス変調装置。 - 第一光軸に沿って放射線の入力パルスを受取るように構成され、さらに、第二光軸に沿って、放射線の1つ以上の対応する出力パルスを放射するように構成されたパルス変調器を二つ以上含むパルス変調装置であって、該パルス変調器は、
入力を第一パルス部分と第二パルス部分に分割するように構成され、さらに、第一パルス部分を第一出力パルス部分としてパルス変調器から導くように構成された分割器と、
所定の分離間隔をおいて互いに向き合って配置された第一および第二鏡を有してなり、且つ、第二パルス部分を受取って、第二部分を第二出力パルス部分としてパルス変調器からリダイレクトするように構成された遅延パスと、を含み、
第二部分の光パスが第一部分のそれよりも長く、また、パルス変調装置の出力において、第一出力パルス部分と第二出力パルス部分間の空間的オーバラップがほぼゼロであり、
パルス変調器の第一光軸が、前のパルス変調器の第二光軸と一致するようにカスケードに配置され、
全パルス変調器の第一鏡は共通の第一鏡であり、全パルス変調器の第二鏡は共通の第二鏡であることを特徴とするパルス変調装置。
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