JP4319800B2 - 大型のフォトマスク用レーザ露光装置およびレーザ描画方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、大型のフォトマスクを作製するための描画を行なうレーザ露光装置とレーザ描画方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、ＣＲＴ型のカラーテレビに加え、液晶表示型ディスプレイ製品の普及が一段と進む中、最近では大型ディスプレイとしてのプラズマディスプレイ製品が商品化されてきている。
【０００３】
上記、液晶表示型ディスプレイ製品、プラズマディスプレイ製品の作製において、液晶表示型ディスプレイ製品のカラーフィルタ部やプラズマディスプレイ製品の電極部や誘電体部等を形成する際に、これらに対応した大型のガラス基板にクロム系の遮光膜で絵柄を配設した大型のフォトマスクを用いて製版を行なうのが一般的である。
そして、ここで用いられる大型のフォトマスクは、例えば、大型のガラス基板にクロム系の遮光膜をほぼ全面に配設したマスクブランクの遮光膜上にフォトレジストが配設された状態で、電子線描画装置（ＥＢ露光装置とも言う）あるいはレーザ光を用いたレーザ露光装置により、所望の選択露光を行ない、フォトレジストの現像、現像後のフォトレジストを耐エッチングマスクとした遮光膜のエッチング工程を経て作製される。
これらフォトマスクは、製品サイズが小さい場合にも、生産性の面から、製品サイズに対応して絵柄を面付けした状態で、大型のガラス基板に形成されるのが一般的である。
液晶用のカラーフィルタ部形成のためのフォトマスクは、例えば、図６に示すようなレーザ光を用いた露光装置（以下、レーザ露光装置と言う）にて、描画用データに基づき所望の選択露光を行ない、現像、エッチング工程を経て、図３のように、４面付けされた状態で作製される。
図３中、３１０はフォトマスク、３１０Ａ、３１０Ｂは側面、３３１〜３３４は位置合せ用のマーク、Ｂ（３２０）は単面の絵柄部である。
【０００４】
ここで、図６に示すレーザ露光装置を簡単に説明しておく。
図６に示すレーザ露光装置は、通常、所定方向であるＸ方向に描画ヘッド部（露光ヘッド部とも言う）を移動させながら露光光（以下、集束レーザビームとも言う）をスキャンして、所定のスキャン幅領域１７１を選択露光するもので、ステージ１４０により、スキャン幅領域１７１の幅に対応させた所定ピッチでＹ方向に描画用基板１５０を順次ステップ移動して、描画用基板１５０の所定領域全域を、露光用のデータ（以下、描画用データとも言う）にしたがい選択露光する方式を採るラスター型の露光装置である。
露光光は、レンズ系により所定の形状に集束されたもので、集束レンズの機械的移動によりＹ方向にスキャンされるものである。
尚、図６中、１１０は描画ヘッド部、１１１は拡張部材、１１２は集束用光学部材、１２０は固定部（搬送器とも言う）、１３０はレール、１３１は電動リニアモータ、１４０はステージ、１４５はステージ保持部、１５０は描画用基板、１６０はレーザ光、１６１は露光光（集束レーザ光あるいは集束ビームとも言う）、１７１はスキャン幅領域、１８１はレーザ源、１８２ａ〜１８２ｃはプリズム、１８３は拡大光学部材である。
【０００５】
ところで、フォトマスクにおいては、通常、１つの位置合せマークの位置が、そのマークを配するフォトマスク基板のコーナー部の２つの側面から所望の位置にあるように確保されていることが、カラーフィルタを作製する工程を円滑に行なうために必要となる。
例えば、図３のような絵柄配置のフォトマスクにおいては、位置合せマーク３３１〜３３４を絵柄に合せて配設するが、通常、１つの位置合せマーク３３１の位置が描画用基板３１０の側面３１０Ａ、３１０Ｂからそれぞれ所定の距離範囲にあることが要求される。
通常、許容は±１ｍｍ程度（目標値は±０. ５ｍｍ）である。
このような位置合せマーク３３１をここでは基準となる位置合せマークと言う。
そして、従来、この基準となる位置合せマークの位置精度は以下のようにして確保されていた。
図３において、側面３１０Ａの延長上との側面３１０Ｂの延長上の交点を、レーザ露光装置のＸ−Ｙ座表系のＸ，Ｙ基準位置として得るため、所定の位置センサ（図示していない）にて、基準となる位置合せマーク３３１の近傍で側面３１０Ａの位置、側面３１０Ｂの位置を測定し、更に、レーザ露光装置のＸ−Ｙ座表系に対する描画用基板の回転度合を得るため、側面３１０Ａ、側面３１０Ｂのいずれか一方については、前記測定と合せ、離れた２点でその位置を測定し、その側面方向を得ていた。
これにより、側面３１０Ａの延長上との側面３１０Ｂの延長上の交点を描画用基板３１０のレーザ露光装置のＸ−Ｙ座表系の基準位置（原点位置）として得ることができ、且つ、この座標系に対する描画用基板３１０の回転量を得ることができる。
そして、ここで得られた測定結果に基づき、セットされた描画用基板の角度等を機械的に調整した後、得られた基準位置に基づき描画が行われる。
データ上で、基準となる位置合せマーク３３１が、描画する絵柄とともに配置されており、このように、上述の所定の位置センサ（図示していない）による測定により得られた基準位置、描画用基板の回転量を基に、データにしたがい描画が行われる。
この結果、基準となる位置合せマーク３３１が、このマークが配されるコーナー部を挟む２つの側面からデータに合せた所定の位置範囲に描画されることとなる。
そして、描画後、現像、エッチング工程を経て、フォトマスクを得るが、カラーフィルタを作製する工程では、このようにして得られたフォトマスクの基準となる位置合せマーク３３１を基に、位置合せが行なわれている。
【０００６】
従来、このような、基準となる位置合せマーク（図３の３３１に相当）がレーザ露光装置のステージ（図６の１４０）の所定のコーナー部側に向くように描画用基板をセットして描画が行われていた。
例えば、図５（ａ）に示すように、ステージのＸ方向マイナス側、Ｙ方向マイナス側のコーナー側に、基準となる位置合せマーク２８１を向けて描画用基板をセットし、所定の位置センサ（図示していない）により、側面２８０ＡではＰ１１点、Ｐ２１点でそのＹ方向位置を測定し、側面２８０ＢではＰ３１点でそのＸ方向位置を測定した後、その測定結果基づいて描画が行われていた。
この場合は、作製される位置合せ用マーク２８１の位置は所望の位置範囲に入り、基準の位置合せ用マークとして問題はない。
勿論、基準位置合せ用マーク２８１と絵柄との相対位置関係はデータ上で決められている。
【０００７】
一方、図６に示すようなレーザ露光装置を用いて露光を行なう際、所望の絵柄（ストライプ状の絵柄を露光するものとする）が図４（ａ）のように描画されるようにセットされた場合、集束ビーム（図６の１６１）のスキャン方向（Ｙ方向）の位置精度は良くないことに起因して、図４（ａ１）に示すように、本来同じであるはずの各スキャンの描画領域３２１ＳにＹ方向にずれが発生し、最近の高精度要求に対しては、絵柄のエッジ品質の面で問題になってきた。
尚、図４（ａ１）は図４（ａ）のＤ１の拡大図である。
所望の絵柄（ストライプ状の絵柄を露光するものとする）が図４（ｂ）のようにセットされた場合には、図４（ｂ１）に示すように、集束ビームのスキャン方向（Ｙ方向）の位置が絵柄のエッジを形成することとなり、絵柄のエッジ品質の面では有利である。
図４（ｂ１）は図４（ｂ）のＤ２の拡大図である。
図４中、３１０Ａは描画用基板、３２０は単面の絵柄部、３２１はストライプ状絵柄、３２１Ｓは各スキャンの描画領域である。
【０００８】
最近では、絵柄のエッジ品質の面から、図５（ａ）のように基準位置合せ用マーク２８１と絵柄の関係がデータ上で決められているものを、図５（ｂ）のようにセットして、描画する必要性がでてきた。
しかし、図５（ａ）のように基準位置合せ用マーク２８１と絵柄の関係がデータ上で決められているものを、図５（ｂ）のようにセットし、側面２８０Ｂの２点Ｐ１２、Ｐ２２の位置、側面２８０Ｃの１点、Ｐ３２の位置を、所定位置センサー（図示していない）でそれぞれ測定して、測定された位置データを基に、側面２８０Ｂと側面２８０Ｃとの交点である基準内位置を求め、また、描画用基板の回転量を把握し、把握された回転量に基づき描画用基板のステージ上の角度を機械的に調整し、求められた基準位置を基に、レーザ露光装置のＸ−Ｙ座表系上での描画を行なった場合、作製されたフォトマスクについては、基準となる位置合せ用マーク２８１の、側面２８０Ａからの距離、側面２８０Ｂからの距離を、それぞれ、所望の位置範囲内に入れることができない場合がある。
これは、主に、ガラス基板自体にサイズ的に（形状的にでもある）バラツキがあることにより、起こるのである。
また、レーザ露光装置のＸ−Ｙ座表系とステージ上のガラス基板とで若干の回転量が発生することもその一因となっている。
この場合、勿論、図５（ａ）で用いる描画データをレーザ露光装置のＸ−Ｙ座表系に合せ、図５（ｂ）での描画用のデータに変換しておく。
尚、ステージ（図６の１４０に相当）への描画用基板２８０のセットは、通常、所定の治具を用い、ほぼ所定の位置におくことが出来るようになっている。
図５中、２６０Ａはステージ位置を示す。
【０００９】
ところで、上記で各側面のそれぞれの方向の位置を検出する位置センサーは、レーザ露光装置にＸ−Ｙ座標系と確実に正確に所定の一定の位置関係を保つことが前提となる。
このため、通常、描画ヘッド（図６の１１０）と一体的に位置センサーを取り付けておくが、従来は、Ｘ＋向き、Ｙ＋向きの２つの向きに、位置検出できるジョイスティック型の接触型位置センサーを、描画ヘッドと一体的に取り付けていた。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように、従来の大型のフォトマスクを作製するための描画を行なうレーザ露光装置においては、絵柄方向に対応して、絵柄のエッジ品質を良くするために、絵柄の向きに合せ、フォトマスク作製用の基板の向きを９０度回転した状態で描画を行なうことがあるが、その際に、作製されたフォトマスクの、後続する工程で基準となる位置合せマークが、これを配するコーナー部を挟む２つの側面から決められた所定位置範囲に入らないことがあり、この対応が求められていた。
本発明は、これに対応するもので、描画ヘッドを所定の方向であるＸ方向に直線的に移動させながら、且つ露光光である集束レーザビームをＸ方向と直交する方向であるＹ方向に所定幅でスキャンして露光描画する操作を、前記スキャン幅に対応した所定幅でステージをＹ方向に順次ステップ移動させて行ない、所望の領域を描画用のデータに基づき描画する方式の、大型のフォトマスクを作製するための描画を行なうレーザ露光装置で、絵柄によらずエッジ品質を良く形成できるレーザ露光装置を提供しようとするものである。
同時に、絵柄によらずエッジ品質を良く形成できるレーザ露光方法を提供しようとするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明の大型のフォトマスク用レーザ露光装置は、描画ヘッドを所定の方向であるＸ方向に直線的に移動させながら、且つ露光光である集束レーザビームをＸ方向と直交する方向であるＹ方向に所定幅でスキャンして露光描画する操作を、前記スキャン幅に対応した所定幅でステージをＹ方向に順次ステップ移動させて行ない、所望の領域を描画用のデータに基づき描画する方式で、サイズ、形状にバラツキがある描画用基板を用いて、描画によりその潜像が形成された際に、基準となる位置合せ用マークを配するコーナー部がステージ上の所定の方向になるように、描画用基板をステージ上に置いた第１の場合と、更に、前記描画用基板をステージ上で９０度回転した第２の場合の、いずれの場合においても、前記基準となる位置合せ用マークの位置を、描画用基板の該基準となる位置合せ用マークを配するコーナー部の各側面から所定の範囲内に制御することができるようにして、絵柄の長手方向が露光光である集束ビームのスキャン方向に一致するように、第１の場合と、第２の場合とのいずれかを選択して、大型のフォトマスクを作製するための描画を行なうレーザ露光装置であって、第１の場合に、前記コーナー部付近で、該コーナーを挟む２つの側面の各側面に直交する方向の位置をそれぞれ測定でき、且つ、前記２つの側面のいずれか一方については、離れた２点で、それぞれ、その側面に直交する方向の位置を測定でき、第１の測定データを得る第１の位置センサーを備え、第２の場合に、９０度回転した描画用基板の前記基準となる位置合せ用マークを配するコーナー部付近で、該コーナーを挟む２つの側面の各側面に直交する方向の位置をそれぞれ測定でき、且つ、前記２つの側面のいずれか一方については、離れた２点で、それぞれ、その側面に直交する方向の位置を測定でき、第２の測定データを得る第２の位置センサーを備え、第１の場合には、第１の位置センサーの測定により得られる第１の測定データを基に、第２の場合には、第２の位置センサーの測定により得られる第２の測定データを基に、それぞれ、レーザ露光装置のＸ−Ｙ座表系に対する描画用基板の回転量と該座標系の基準位置とを求め、前記描画用基板の基準となる位置合せ用マークをそのコーナーの各側面からそれぞれ所定の範囲内に制御するものであることを特徴とするものである。
そして、上記において、第１の位置センサーと第２の位置センサーとが、描画用ヘッドと一体的に固定されているものであることを特徴とするものである。
そしてまた、上記において、第１の位置センサーと第２の位置センサーとが、ジョイスティック型の接触型位置センサーであることを特徴とするものである。
尚、ここで、９０度回転とは、プラス９０度回転、マイナス９０度回転のいずれか一方を言う。
【００１２】
本発明に係るレーザ描画方法は、描画ヘッドを所定の方向であるＸ方向に直線的に移動させながら、且つ露光光である集束レーザビームをＸ方向と直交する方向であるＹ方向に所定幅でスキャンして露光描画する操作を、前記スキャン幅に対応した所定幅でステージをＹ方向に順次ステップ移動させて行ない、所望の領域を描画用のデータに基づき描画する方式のレーザ露光装置を用いた、大型のフォトマスクを作製するための描画方法であって、絵柄の長手方向が、描画用基板の長辺方向あるいは短辺方向である場合、絵柄の長手方向が露光光である集束ビームのスキャン方向に一致するように、描画用基板をステージ上に載置した状態で、位置センサーにより、描画によりその潜像が形成された際に、基準となる位置合せ用マークを配するコーナー部を挟む２つの側面の各側面に直交する方向の位置をそれぞれ測定し、且つ、前記２つの側面のいずれか一方については、離れた２点で、それぞれ、その側面に直交する方向の位置を測定して、測定データを得て、得られた測定データを基に、レーザ露光装置のＸ−Ｙ座表系に対する描画用基板の回転量と該座標系の基準位置とを求めるものであることを特徴とするものである。
【００１３】
【作用】
本発明の大型のフォトマスク用レーザ露光装置は、このような構成にすることにより、描画ヘッドを所定の方向であるＸ方向に直線的に移動させながら、且つ露光光である集束レーザビームをＸ方向と直交する方向であるＹ方向に所定幅でスキャンして露光描画する操作を、前記スキャン幅に対応した所定幅でステージをＹ方向に順次ステップ移動させて行ない、所望の領域を描画用のデータに基づき描画する方式の、大型のフォトマスクを作製するための描画を行なうレーザ露光装置で、絵柄によらずエッジ品質を良く形成できるレーザ露光装置の提供を可能としている。
具体的には、描画によりその潜像が形成された際に、基準となる位置合せ用マークを配するコーナー部がステージ上の所定の方向になるように、描画用基板をステージ上に置いた第１の場合に、前記コーナー部付近で、該コーナーを挟む２つの側面の各側面に直交する方向の位置をそれぞれ測定でき、且つ、前記２つの側面のいずれか一方については、離れた２点で、それぞれ、その側面に直交する方向の位置を測定でき、第１の測定データを得る第１の位置センサーを備え、
更に、前記描画用基板をステージ上で９０度回転した第２の場合に、９０度回転した描画用基板の前記基準となる位置合せ用マークを配するコーナー部付近で、該コーナーを挟む２つの側面の各側面に直交する方向の位置をそれぞれ測定でき、且つ、前記２つの側面のいずれか一方については、離れた２点で、それぞれ、その側面に直交する方向の位置を測定でき、第２の測定データを得る第２の位置センサーを備えていることにより、これを達成している。
特に、第１の位置センサーと第２の位置センサーとが、一体的に描画ヘッドに固定されているものであることにより、センサー位置と露光光である集束レーザビームとの相対位置を一意的に決めることができる。
第１の位置センサーと第２の位置センサーとしては、ジョイスティック型の接触型位置センサーが挙げられる。
【００１４】
本発明に係るレーザ描画方法は、このような構成にすることにより、描画ヘッドを所定の方向であるＸ方向に直線的に移動させながら、且つ露光光である集束レーザビームをＸ方向と直交する方向であるＹ方向に所定幅でスキャンして露光描画する操作を、前記スキャン幅に対応した所定幅でステージをＹ方向に順次ステップ移動させて行ない、所望の領域を描画用のデータに基づき描画する方式のレーザ露光装置を用いた、大型のフォトマスクを作製するための描画方法で、絵柄によらずエッジ品質を良く形成できるレーザ露光方法の提供を可能としている。
【００１５】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態例を、図に基づいて説明する。
図１（ａ）は本発明の大型のフォトマスク用レーザ露光装置の実施の形態例の特徴部である位置センサ固定箇所近辺を示した上面図で、図１（ｂ）は図１（ａ）のＡ１−Ａ２における概略断面図で、図２は図１に示す実施の形態例における描画を説明するための図である。
図１、図２において、１１０は描画ヘッド（露光ヘッドとも言う）、１２０は固定部（搬送器とも言う）、１３０はレール、１３１は電動リニアモータ、１４０はステージ、１５０は描画用基板、１９０は第１の位置センサー、１９１は第２の位置センサー、１９５は棒部、２５０は描画用基板、２６０Ａはステージの位置、２８０は単面の絵柄部、２８１〜２８４は位置合せ用マーク、２８０Ａ〜２８０Ｄは側面である。
【００１６】
以下、本発明の大型のフォトマスク用レーザ露光装置の実施の形態例を、図１に基づいて説明する。
尚、本例の大型のフォトマスク用レーザ露光装置の動作説明（図２参照）を以って、本発明のレーザ描画方法の実施の形態例の説明に代える。
本例の大型のフォトマスク用レーザ露光装置は、図６に示す、描画ヘッドを所定の方向であるＸ方向に直線的に移動させながら、且つ露光光である集束レーザビームをＸ方向と直交する方向であるＹ方向に所定幅でスキャンして露光描画する操作を、前記スキャン幅に対応した所定幅でステージをＹ方向に順次ステップ移動させて行ない、所望の領域を描画用のデータに基づき描画する方式の、大型のフォトマスクを作製するための描画を行なうレーザ露光装置で、第１の位置センサー１９０、第２の位置センサー１９１を有すること以外は、基本的に図６に示す構造と同じである。
図６に示す装置としては、例えば、マイクロニック・レーザシステムズ・エイビー社製のものが市販されてているので、ここでは、図６に示すレーザ露光装置と、その動作を、簡単に説明するに止める。
図６に示すレーザ露光装置は、電動リニアモータ１３１にて、レール１３０に沿いＸ方向に移動できる固定部１２０に一体的に固定され、固定部１２０とともにレール１３０に沿いＸ方向に移動できる描画ヘッド部１１０と、その上に描画用基板１５０載置固定し、所定のピッチでＹ方向にステップ移動できるステージ１４０とを備え、露光光（以下、集束レーザビームとも言う）１６１は、レーザ源１８１から光学系（１８２ａ、１８３（１８２ｂ）、１８２ｃを経て、描画用ヘッド１１０から描画用基板１５０へ照射される。
先にも述べたように、描画用ヘッド１１０をＸ移動させながら露光光である集束レーザビーム１６１をスキャンして、所定のスキャン幅領域１７１を選択露光するもので、ステージ１４０により、スキャン幅領域１７１の幅に対応させた所定ピッチでＹ方向に描画用基板１５０を順次ステップ移動して、描画用基板３５０の所定領域全域を、露光用のデータ（以下、描画用データとも言う）にしたがい選択露光する。
尚、図６中、１１０は描画ヘッド部、１１１は拡張部材、１１２は集束用光学部材、１２０は固定部（搬送器とも言う）、１３０はレール、１３１は電動リニアモータ、１４０はステージ、１４５はステージ保持部、１５０は描画用基板、１６０はレーザ光、１６１は露光光（集束レーザビームとも言う）、１７１はスキャン幅領域、１８１はレーザ源、１８２ａ〜１８２ｃはプリズム、１８３は拡大光学部材である。
【００１７】
本例の大型のフォトマスク用レーザ露光装置においては、図１（ａ）に示すように、第１の位置センサー１９０と第２の位置センサー１９１とを、固定部１２０の下部に配設しているものであり、これにより、第１の位置センサーと第２の位置センサーとが、描画用ヘッドと一体的に固定されている。
第１の位置センサー１９０は、ジョイスティック型の接触型位置センサーである。
第１の位置センサーと第２の位置センサーともに、図１（ｂ）に示すように、棒部１９５により描画用基板１５０の側面に接触し、棒部１９５が所定値分だけ変位することにより、接触を認識するものである。
【００１８】
本例の場合、描画によりその潜像が形成された際に、基準となる位置合せ用マークを配するコーナー部がステージ上の所定の方向になるように、描画用基板をステージ上に置いた第１の場合に、前記コーナー部付近で、該コーナーを挟む２つの側面の各側面に直交する方向の位置をそれぞれ測定でき、且つ、前記２つの側面のいずれか一方については、離れた２点で、それぞれ、その側面に直交する方向の位置を測定でき、第１の測定データを得る第１の位置センサー１９０を備え、更に、前記描画用基板をステージ上で９０度回転した第２の場合に、９０度回転した描画用基板の前記基準となる位置合せ用マークを配するコーナー部付近で、該コーナーを挟む２つの側面の各側面に直交する方向の位置をそれぞれ測定でき、且つ、前記２つの側面のいずれか一方については、離れた２点で、それぞれ、その側面に直交する方向の位置を測定でき、第２の測定データを得る第２の位置センサー１９１を備えており、第１の場合には、第１の位置センサーの測定により得られる第１の測定データを基に、第２の場合には、第２の位置センサーの測定により得られる第２の測定データを基に、それぞれ、レーザ露光装置のＸ−Ｙ座表系に対する描画用基板の回転量と該座標系の基準位置とを求めるものである。
【００１９】
例えば、図２（ａ）に示すように、描画によりその潜像が形成された際に、基準となる位置合せ用マーク２８１を配するコーナー部がステージ上の所定の方向（ここではＸマイナス方向、Ｙマイナス方向）になるように、描画用基板をステージ上に置いた第１の場合には、第１の位置センサー１９０により、固定部１２０、ステージ１４０を位置位置させて、側面２８０Ａの２点Ｐ１、Ｐ２のＹ方向位置、側面２８０Ｂの１点Ｐ３のＸ方向位置を検出する。
これは、上記第１の場合に相当する。
また、例えば、図２（ｂ）に示すように、基準となる位置合せ用マーク２８１を配するコーナー部がステージ上の所定の方向（ここではＸプラス方向、Ｙマイナス方向）になるように、描画用基板をステージ上に置いた第２の場合には、第２の位置センサー１９０により、固定部１２０、ステージ１４０を位置位置させて、側面２８０Ａの１点Ｐ４のＸ方向位置、側面２８０Ｂの２点Ｐ５、Ｐ６のＹ方向位置を検出する。
これは、上記第２の場合に相当する。
このように、第１の場合には、第１の位置センサーの測定により得られる第１の測定データを基に、第２の場合には、第２の位置センサーの測定により得られる第２の測定データを基に、それぞれ、レーザ露光装置のＸ−Ｙ座表系に対する描画用基板の回転量と該座標系の基準位置とを求めるものである。
【００２０】
本例では、第１の位置センサーと第２の位置センサーとを別体のものとしたが、例えば、Ｘ＋向き、Ｙ＋向き、Ｘ−向き、Ｙ−向きの４つの向きに、位置検出できるジョイスティック型の接触型位置センサーを、用い、１つの位置センサーで、第１の位置センサー、第２の位置センサーを兼ねさせてもよい。
【００２１】
【発明の効果】
本発明は、上記のように、描画ヘッドを所定の方向であるＸ方向に直線的に移動させながら、且つ露光光である集束レーザビームをＸ方向と直交する方向であるＹ方向に所定幅でスキャンして露光描画する操作を、前記スキャン幅に対応した所定幅でステージをＹ方向に順次ステップ移動させて行ない、所望の領域を描画用のデータに基づき描画する方式の、大型のフォトマスクを作製するための描画を行なうレーザ露光装置で、絵柄によらずエッジ品質を良く形成できるレーザ露光装置の提供を可能とし、同時に、絵柄によらずエッジ品質を良く形成できるレーザ露光方法の提供を可能とした。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１（ａ）は本発明の大型のフォトマスク用レーザ露光装置の実施の形態例の特徴部である位置センサ固定箇所近辺を示した上面図で、図１（ｂ）は図１（ａ）のＡ１−Ａ２における概略断面図である。
【図２】図１に示す実施の形態例における描画を説明するための図である。
【図３】フォトマスクの絵柄と基準となる位置合せ用マークとの関係を説明するための図
【図４】フォトマスクの描画によるエッジ品質を説明するための図
【図５】従来の描画装置における位置センサーの検出を説明するための図
【図６】従来のレーザ露光装置を説明するための図
【符号の説明】
１１０ 描画ヘッド（露光ヘッドとも言う）
１１１ 拡張部材
１１２ 集束用光学部材
１２０ 固定部（搬送器とも言う）
１３０ レール
１３１ 電動リニアモータ
１４０ ステージ
１４５ ステージ保持部
１５０ 描画用基板
１６０ レーザ光
１６１ 露光光（集束レーザビームとも言う）
１７１ スキャン幅領域
１８１ レーザ源
１８２ａ〜１８２ｃ プリズム
１８３ 拡大光学部材
１９０ 第１の位置センサー
１９１ 第２の位置センサー
１９５ 棒部
２５０ 描画用基板
２６０Ａ ステージの位置
２８０ 単面の絵柄部
２８１〜２８４ 位置合せ用マーク
２８０Ａ〜２８０Ｄ 側面
３１０ フォトマスク
３１０ａ 描画用基板
３１０Ａ、３１０Ｂ 側面
３２０ 単面の絵柄部
３２１ ストライプ状絵柄
３２１Ｓ 各スキャンの描画領域
３３１〜３３４ 位置合せ用のマーク

Claims (3)

1. 描画ヘッドを所定の方向であるＸ方向に直線的に移動させながら、且つ露光光である集束レーザビームをＸ方向と直交する方向であるＹ方向に所定幅でスキャンして露光描画する操作を、前記スキャン幅に対応した所定幅でステージをＹ方向に順次ステップ移動させて行ない、所望の領域を描画用のデータに基づき描画する方式で、サイズ、形状にバラツキがある描画用基板を用いて、描画によりその潜像が形成された際に、基準となる位置合せ用マークを配するコーナー部がステージ上の所定の方向になるように、描画用基板をステージ上に置いた第１の場合と、更に、前記描画用基板をステージ上で９０度回転した第２の場合の、いずれの場合においても、前記基準となる位置合せ用マークの位置を、描画用基板の該基準となる位置合せ用マークを配するコーナー部の各側面から所定の範囲内に制御することができるようにして、絵柄の長手方向が露光光である集束ビームのスキャン方向に一致するように、第１の場合と、第２の場合とのいずれかを選択して、大型のフォトマスクを作製するための描画を行なうレーザ露光装置であって、第１の場合に、前記コーナー部付近で、該コーナーを挟む２つの側面の各側面に直交する方向の位置をそれぞれ測定でき、且つ、前記２つの側面のいずれか一方については、離れた２点で、それぞれ、その側面に直交する方向の位置を測定でき、第１の測定データを得る第１の位置センサーを備え、第２の場合に、９０度回転した描画用基板の前記基準となる位置合せ用マークを配するコーナー部付近で、該コーナーを挟む２つの側面の各側面に直交する方向の位置をそれぞれ測定でき、且つ、前記２つの側面のいずれか一方については、離れた２点で、それぞれ、その側面に直交する方向の位置を測定でき、第２の測定データを得る第２の位置センサーを備え、第１の場合には、第１の位置センサーの測定により得られる第１の測定データを基に、第２の場合には、第２の位置センサーの測定により得られる第２の測定データを基に、それぞれ、レーザ露光装置のＸ−Ｙ座表系に対する描画用基板の回転量と該座標系の基準位置とを求め、前記描画用基板の基準となる位置合せ用マークをそのコーナーの各側面からそれぞれ所定の範囲内に制御するものであることを特徴とする大型のフォトマスク用レーザ露光装置。
2. 請求項１において、第１の位置センサーと第２の位置センサーとが、描画用ヘッドと一体的に固定されているものであることを特徴とする大型のフォトマスク用レーザ露光装置。
3. 請求項１ないし２において、第１の位置センサーと第２の位置センサーとが、ジョイスティック型の接触型位置センサーであることを特徴とする大型のフォトマスク用レーザ露光装置。

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