JPH04235558A - 露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、とくに大型の基板に
パターンを露光するのに好適する露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】露光装置にはマスクと基板とを数十ミク
ロンのギャップで近接させて露光するプロミキシミテイ
型露光装置、小型のマスクで大型基板上を細かく分割露
光していくステッパ型露光装置、マスクと基板との間に
光学系を設け、円弧照明により基板の一括露光を行う反
射ミラー型投影露光装置などが知られている。

【０００３】上記プロミキシミテイ型露光装置は基板が
大きくなる程、ギャップの設定が難しく、また解像力は
ギャップに依存するため１０〜３０ミクロンと低い。上
記ステッパ型露光装置は解像力も高く大型基板に対応可
能であるが、スループットが悪く、各露光パターン間で
面つぎを必要とするため、面つぎ部で露光パターンの劣
化を招く。

【０００４】それに対して上記反射ミラー型投影露光装
置は上記プロミキシミテイ型露光装置や上記ステッパ型
露光装置のような問題がないため、大型の基板の露光に
適する。図６は反射ミラー型投影露光装置の基本的構成
を示す。すなわち、同図中１はマスクである。このマス
ク１は円弧スリット状の照明光Ｌによって照射される。 このマスク１を透過した照明光Ｌは折返しミラー２の第
１の反射面２ａに入射してほぼ直角方向に反射する。こ
の照明光Ｌの反射方向には凹面ミラー３が配設されてい
る。この凹面ミラー３で反射した照明光Ｌは凸面ミラー
４で反射して折返し、再び凹面ミラー３で反射してから
上記折返しミラー２の第２の反射面２ｂで反射する。こ
の第２の反射面２ｂで反射した照明光は基板５を照射す
る。それによって、上記マスク１のパターンが上記基板
５に投影されることになる。

【０００５】このような構成の反射ミラー型投影露光装
置において、マスク１のパターン全体を基板５に投影す
るには、上記マスク１と基板５とを位置合せしたのち、
これらを同方向に同時に移動させなければならない。そ
のため、上記マスク１、基板５は同一のステージに保持
され、このスキャニングステージを駆動するようにして
いる。しかしながら、スキャニングステージを駆動機構
によって駆動する場合、このスキャニングステージが駆
動方向および直交する方向に対してねじれ（たとえばヨ
ーイング等）を起こすことが避けられないから、それに
よってスキャニングステージの駆動方向および直交する
方向の一端側と他端側とでずれが生じる。つまり、スキ
ャニングステージの一端側に設けられたマスク１と基板
５との間にずれが生じ、基板５に転写されるマスク１の
パターンに歪みが生じることになる。

【０００６】スキャニングステージの移動精度を補償す
るため、スキャニングステージを空気静圧軸受でガイド
し、その軸受圧力を変化させてスキャニングステージの
移動精度を確保するようにしたものがある。しかしなが
ら、空気静圧軸受を用いて空気の圧力を制御する方法は
、空気が圧縮性であることにより、細かな制御を精度よ
く行うことが難しいばかりか、１つの軸受の制御が他の
軸受へも影響を与える（軸干渉がある）ため、精度向上
に限界が生じる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】このように、従来の露
光装置は、スキャニングステージを駆動することによっ
てマスクと基板との間にずれが生じ、そのずれによって
基板に転写されるパターンに歪みや倍率誤差が発生する
ということが避けられなかった。

【０００８】この発明は上記事情にもとずきなされたも
ので、その目的とするところは、スキャニングステージ
を駆動することによって生じるマスクと基板との間のず
れを除去し、マスクパターンの転写精度の向上を計るこ
とができるようにした露光装置を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】この発明は、スキャニン
グステージと、このスキャニングステージを所定方向に
駆動する第１の駆動機構と、この第１の駆動機構により
駆動される上記スキャニングステージの駆動方向と直交
する方向の一端側に設けられ基板を保持する第１の保持
部および他端側に設けられマスクを保持する第２の保持
部と、上記基板とマスクとの間に設けられ上記マスクに
入射した照明光を上記基板に導く光学手段と、上記基板
あるいはマスクの少なくとも一方を上記スキャニングス
テージ上においてスキャニングステージの駆動方向およ
び直交する方向または少なくとも一方向に駆動する第２
の駆動機構と、上記スキャニングステージが上記第１の
駆動機構により駆動されることで生じる上記スキャニン
グステージの駆動方向および直交する方向または少なく
とも一方向における上記基板とマスクとの間の相対的ず
れ量を測定する測定手段と、この測定手段からの測定値
に応じて上記基板とマスクとの間の相対的ずれがなくな
るよう上記第２の駆動機構を駆動制御する制御手段とを
具備したことを特徴とする。

【００１０】

【作用】上記の構成において、スキャニングステージが
駆動されることで基板とマスクとの間に相対的なずれが
生じると、そのずれが測定手段によって測定されること
で、その測定値に応じて第２の駆動機構が駆動され、上
記ずれが除去される。

【００１１】

【実施例】以下、図面を参照してこの発明の実施例を説
明する。

【００１２】図１はこの発明の一実施例に係る露光装置
の構成を示す斜視図である。この露光装置はスキャンニ
ングステージ１１を備えている。このスキャニングステ
ージ１１は長手方向両側面および上面が開口した中空直
方体状に形成されていて、下面の長手方向両端部にはそ
れぞれ断面ほぼコ字状をなした空気静圧軸受１２がスキ
ャニングステージ１１の幅方向に沿って設けられている
。これら空気静圧軸受１２は平行に離間対向して配設さ
れた一対のガイド体１３に非接触状態でスライド自在に
嵌挿されている。すなわち、スキャニングステージ１１
は、上記一対のガイド体１３に空気圧によって非接触状
態で支持されている。

【００１３】上記一対のガイド体１３間には、ガイド体
１３と平行に駆動ねじ１４が設けられている。この駆動
ねじ１４は両端部が一対の受け部１５（一方のみ図示）
によって回転自在に支持され、中途部は上記スキャニン
グステージ１１の下面に設けられた図示しない連結部に
螺合されているとともに、他端は第１の駆動機構を構成
するメインモータ１６に連結されている。駆動ねじ１４
はメインモータ１６によって回転駆動される。それによ
って、スキャニングステージ１１は一対のガイド体１３
に沿って駆動される。スキャニングステージ１１のガイ
ド体１３に沿う駆動方向をＸ方向とする。

【００１４】上記スキャニングステージ１１の上記メイ
ンモータ１６による駆動方向と直交する方向の一方の側
壁１１ａ内面には、第１のＹステージモータ１７によっ
てスキャニングステージ１１の高さ方向（この方向をＹ
方向とする）に駆動される第１のＹステージ１８が一側
面をスライド自在に接合させて設けられている。この第
１のＹステージ１８の他側面にはＸステージ１９が一側
面をスライド自在に接合させて設けられている。このＸ
ステージ１９はＸステージモータ２１によって上記第１
のＹステージ１８の駆動方向と直交するＸ方向、つまり
メインモータ１６によるスキャニングステージ１１の駆
動方向と同方向に駆動されるようになっている。このＸ
ステージ１９の他側面には、フォーカス調整するために
上記Ｙ方向とＸ方向とがなす平面と直交するＺ方向に図
示せぬ駆動源によって微小駆動されるＺチルトステージ
２２が一側面を対向させて設けられている。このＺチル
トステージ２２の他側面には、この面と直交する方向を
回転中心軸とするθ方向に回転自在な第１の保持部とし
ての第１のθテーブル２３が一側面を接合させて設けら
れている。この第１のθテーブル２３は、第１のθモー
タ２４によってθ方向に回転駆動されるようになってい
る。上記θテーブル２３の他側面には大型の基板２５が
たとえば真空吸着などの手段によって吸着保持され、こ
の基板２５には後述するマスク３１のパターンが転写さ
れるようになっている。

【００１５】上記スキャニングステージ１１の他方の側
壁１１ｂの外面には第２のＹモータ２６によってＹ方向
に駆動される第２のＹステージ２７が一側面を接合させ
て設けられている。この第２のＹステージ２７の他側面
には第２のθモータ２８によってθ方向に回転駆動され
る第２の保持部としての第２のθテーブル２９が設けら
れている。このθテーブル２９の他側面には所定のパタ
ーンが形成された上記マスク３１が真空吸着などの手段
によって保持されている。上記第２のθテーブル２９、
第２のＹステージ２７および上記スキャニングステージ
１１の他方の側壁１１ｂの上記マスク３１のパターンが
形成された部分と対応する部分には、光が透過する開口
３２（第２のθテーブル２９の開口３２だけ図示）が穿
設されている。

【００１６】上記スキャニングステージ１１の長手方向
中央部分、つまり第１のθテーブル２３に保持された上
記基板２５と上記第２のθテーブル２９に保持されたマ
スク３１との間には断面台形状をなし、両側がそれぞれ
第１、第２の反射面３３ａ、３３ｂに形成された折返し
ミラー３３が配置されている。この折返しミラー３３の
第１の反射面３３ａにはマスク３１の高さ方向（Ｙ方向
）ほぼ全長を照射する断面が円弧スリット状に形成され
たｇ線やｉ線などの波長の短い照明光Ｌが上記マスク３
１を透過して入射する。第１の反射面３３ａで反射した
照明光Ｌは、上記折返しミラー３３と対向して配置され
た凹面ミラー３４で反射する。この凹面ミラー３４と上
記折返しミラー３３との間には凸面ミラー３５が配設さ
れている。上記凹面ミラー３４で反射した照明光Ｌは上
記凸面ミラー３５で反射したのち、再び上記凹面ミラー
３４で反射して折返しミラー３３の第２の反射面３３ｂ
に入射して上記第１のθテーブル２３に保持された基板
２５を照射する。それによって、上記基板２５には上記
マスク３２のパターンが転写される。

【００１７】なお、上記折返しミラー３３、凹面ミラー
３４および凸面ミラー３５は、スキャニングステージ１
１の移動に連動しないよう図示しない固定部に固定して
設けられ、これらの対向間隔が常に一定に保たれるよう
になっている。

【００１８】上記メインモータ１６、第１のＹステージ
モータ１７、Ｘステージモータ２１、第１のθモータ２
３、第２のＹモータ２６および第２のθモータ２８は駆
動制御部３６に接続され、この駆動制御部３６からの駆
動信号に応じて作動するようになっている。この駆動制
御部３６には設定部としてのＣＰＵ３７が接続され、こ
のＣＰＵ３７からの信号によって上記駆動制御部３６か
ら駆動信号が出力されるようになっている。

【００１９】スキャニングステージ１１がメインモータ
１６によってＸ方向に駆動されると、このスキャニング
ステージ１１がＹ軸を回転中心として回転することで生
じる基板２５とマスク３１との間のＸ方向に沿うずれ量
（以下ヨーイングずれ量という）と、駆動ねじ１４（Ｘ
軸）を回転中心として回転することで生じるＹ方向に沿
う基板２５とマスク３１とのずれ量（以下ローリングず
れ量という）とが図２に示す光学測定装置３８によって
測定される。なお、図２においては、測定状態を分かり
易くするため、第１図に比べて基板２５とマスク３１と
の位置関係が逆になっている。

【００２０】すなわち、上記光学測定装置３８はスキャ
ニングステージ１１の長手方向一端側に設置されたレー
ザヘッド４１を有する。このレーザヘッド４１から出力
されたレーザ光Ｒは、第１の反射体４２で上記スキャニ
ングステージ１１の長手方向と平行な方向に進路変更さ
れる。進路変更されたレーザ光Ｒは、Ｚチルドステージ
２２のＹ方向に沿う側面と対向する位置で第１のビーム
スプリッタ４３によって垂直方向に上方に反射する光Ｒ
１　と直進方向に透過する光Ｒ２　とに分割される。

【００２１】上記第１のビームスプリッタ４３で反射し
た光Ｒ１　は第２のビームスプリッタ４４によって水平
方向に反射する第１の反射光Ｒ１２と、垂直方向に透過
する第１の透過光Ｒ１３とに分割される。第１の反射光
Ｒ１２は第１のＸインタフェロメータ４５に入射する。 このインタフェロメータ４５から出射する第１の反射光
Ｒ１２は上記Ｚチルドステージ２２のＹ方向に沿う上記
側面に設けられた第１のＸミラー４６に入射する。この
第１のＸミラー４６で反射した第１の反射光Ｒ１２は上
記第１のＸインタフェロメータ４５を介して第１のＸレ
シーバ４７に受光される。それによって、上記Ｚチルド
ステージ２２のＸ方向の変位量、つまり基板２５のＸ方
向の座標Ｘｐ　が光干渉によって測定され、その測定値
は測長器４８に入力される。

【００２２】上記第１の透過光Ｒ１３は第２の反射体５
１で水平方向に反射して第１のＹインタフェロメータ５
２に入射する。この第１のインタフェロメータ５２から
出射する第１の透過光Ｒ１３は上記Ｚチルドステージ２
２のＸ方向に沿う上端面に設けられた第１のＹミラー５
３に入射する。この第１のＹミラー５３で反射した第１
の透過光Ｒ１３は上記第１のＹインタフェロメータ５２
を介して第１のＹレシーバ５４に受光される。それによ
って、上記Ｚチルドステージ２２のＹ方向の変位量であ
る基板２５のＹ方向の座標Ｙｐ　が測定され、その測定
値は上記測長器４８に入力される。

【００２３】上記第１のビームスプリッタ４３を透過し
た光Ｒ２　は上記第２のＹステージ２６のＹ方向に沿う
一側面と対応する位置で第３の反射体５５によって垂直
方向上方へ反射する。第３の反射体５５で反射した光Ｒ
２　は第３のビームスプリッタ５６で水平方向に反射す
る第２の反射光Ｒ２１と、垂直方向に透過する第２の透
過光Ｒ２２とに分割される。

【００２４】上記第２の反射光Ｒ２１は第２のＸインタ
フェロメータ５７に入射する。このインタフェロメータ
５７から出射する第２の反射光Ｒ１２は上記第２のＹス
テージ２６のＹ方向に沿う一側面に設けられた第２のＸ
ミラー５８に入射する。この第２のＸミラー５８で反射
した第２の反射光Ｒ１２は上記第２のＸインタフェロメ
ータ５７を介して第２のＸレシーバ５９に受光される。 それによって、上記第２のＹステージ２６のＸ方向の変
位量であるマスク３１のＸ方向の座標Ｘｍ　が測定され
、その測定値は上記測長器４８に入力される。

【００２５】上記第２の透過光Ｒ２２は第４の反射体６
１で水平方向に反射し、上記第２のＹステージ２６の上
端面に対応する位置で第２のＹインターフェロメータ６
２に入射する。このインタフェロメータ６２から出射す
る第２の透過光Ｒ２２は上記第２のＹステージ２６のＸ
方向に沿う上端面に設けられた第２のＹミラー６３に入
射する。この第２のＹミラー６３で反射した第２の透過
光Ｒ２２は上記第２のインタフェロメタ６２を介して第
２のＹレシーバ６４に受光される。それによって、上記
第２のＹステージ２６のＹ方向の変位量であるマスク３
１のＹ方向の座標Ｙｍが測定され、その測定値は上記測
長器４８に入力される。

【００２６】上記測長器４８では基板２５とマスク３１
とのＸ方向とＹ方向との座標の相対的ずれ量が求められ
る。すなわち、上記基板２５の上記マスク３１に対する
Ｘ方向の相対的ずれ量ΔＸｐ　は、（ΔＸｐ　＝Ｘｍ　
ーＸｐ　）で求められ、Ｙ方向のずれ量ΔＹｐ　は、（
ΔＹｐ　＝Ｙｍ　ーＹｐ　）で求められる。

【００２７】上記測長器４８で求められた上記基板２５
の上記マスク３１に対するＸ方向の相対的ずれ量ΔＸｐ
　と、Ｙ方向のずれ量ΔＹｐ　は上記ＣＰＵ３７に入力
される。ＣＰＵ３７では、上記測長器４８からのずれ量
ΔＸｐ、ΔＹｐ　を後述する補正係数Ａｘ　、Ａｙ　で
補正し、その補正された値が駆動信号となって上記駆動
制御部３６に入力される。この駆動制御部３６は、ＣＰ
Ｕ３７からの駆動信号にもとずいて上記Ｘステージモー
タ２１と第１のＹステージモータ１７とを上記ずれ量Δ
Ｘｐ　とΔＹｐ　とが０になるよう駆動する。それによ
って、Ｚ方向において相対向する基板２６とマスク３１
とのＸ方向とＹ方向との相対的なずれをなくすことがで
きるようになっている。

【００２８】上記補正係数Ａｘ　、Ａｙ　は、上記光学
測定装置３８の各部品のアライメントのずれによって生
じる測定誤差を補正するための係数である。したがって
、基板２５が実際に駆動されるＸ方向とＹ方向とのずれ
を補正するために駆動される駆動量ΔＸｐ’，ΔＹｐ’
は、ΔＸｐ’＝Ａｘ　・ΔＸｐ ΔＹｐ’　　＝Ａｙ　・ΔＹｐ

【００２９】となる。上記補正係数Ａｘ　，Ａｙ　は、
たとえばスキャニングステージ１１のＸ方向の駆動量が
０の状態で基板２５とマスク３１とのＸ方向とＹ方向と
の座標を測定し、そのときのずれ量が０となるように設
定すればよい。なお、上記第１のＹミラー５３と第２の
Ｙミラー６３の長さ寸法は、照明光Ｌが基板２５をＸ方
向に沿って照射する距離よりも長く設定されている。つ
ぎに、上記構成の露光装置の動作を第４図を参照しなが
ら説明する。

【００３０】まず、ＣＰＵ３７にＸ方向とＹ方向との補
正係数Ａｘ　，Ａｙ　を設定したならば、基板２５とマ
スク３１とのアライメントを行う。つまり、第２のＹス
テージモータ２７と第２のθモータ２８とを駆動してマ
スク３１を所定の位置に位置決めしたならば、第１のＹ
ステージモータ１７、第１のＸステージモータ２１およ
びリットル１のθモータ２４を駆動して基板２５を上記
マスク３１に位置合せする。

【００３１】基板２５とマスク３１とのアライメントが
終了したならば、マスク３１から照明光Ｌが入射される
とともに、メインモータ１６が駆動されてスキャニング
ステージ１１が駆動ねじ１４によってＸ軸方向に沿って
駆動される。それによって、マスク３１のパターンが折
返しミラー３３、凹面ミラー３４および凸面ミラー３５
からなる光学手段を介して基板２５に照射されるから、
この基板２５に上記マスク３１のパターンが露光される
ことになる。

【００３２】スキャニングステージ１１がＸ軸方向に駆
動されると、光学測定装置３８の測長器４８によって基
板２５とマスク３１とのＸ方向とＹ方向との相対的ずれ
量が測定される。測長器４８によって測定された基板２
５とマスク３１とのＸ方向とＹ方向との座標のずれΔＸ
ｐ，ΔＹｐ　が測定されると、そのずれ量ΔＸｐ，ΔＹ
ｐ　が補正係数Ａｘ　、Ａｙ　で補正される。そして、
補正されたずれ量ΔＸｐ’，　ΔＹｐ’にもとずいて駆
動制御部３６によって基板２５を保持した第１のＹステ
ージ１８とＸステージ１９とが駆動されて上記ずれ量Δ
Ｘｐ’，　ΔＹｐ’が除去される。

【００３３】すなわち、スキャニングステージ１１をＸ
軸方向に沿って駆動することでこのスキャニングステー
ジ１１にヨーイングやローリングが生じ、基板２５とマ
スク３１との間にＸ方向とＹ方向とに沿うずれが生じて
も、ずれが生じると同時にそのことが光学測定装置３８
によって検出され、ＣＰＵ３７を介して駆動制御部３６
が駆動されることで補正される。したがって、上記基板
２５には、マスク３１のパターンをずれが生じることな
く転写することができる。

【００３４】図３はヨーイングの発生の説明図である。 すなわち、スキャニングステージ１１がＸ軸方向に沿う
駆動方向に対してＹ軸を回転中心として角度θｙ　で傾
いたとき、基板２５とマスク３１との間隔をｌとすると
、マスク３１側から入射する照明光Ｌは、基板２５上に
おける照射位置がΔＸｙ　ずれることになる。したがっ
て、このΔＸｙ　がヨーイング量となり、このヨーイン
グ量ΔＸｙ　は、（ΔＸｙ　＝ｌ・θｙ　）で求めるこ
とができる。

【００３５】なお、図示はしないが、ローリング量はス
キャニングステージ１１がＸ軸を回転中心としてＹ方向
に傾いたときに生じるずれであり、ヨーイング量と同様
にして求めることができる。また、各ステージのＸ，Ｙ
軸を測定する方向は特定されるものでない。

【００３６】一方、露光を何回も繰返すことで基板２５
に収縮などの熱変形が生じるから、その収縮などによる
パターンのずれの補正、つまり倍率補正をする必要があ
る。図４（ａ）〜（ｃ）はＸ軸方向の倍率補正の原理を
説明している。すなわち、照明光Ｌがマスク３１の一端
から他端を照射する間に、それぞれのＸ座標において、
基板２５のＸ方向の座標が所定の倍率補正量にもとずい
て補正される。それによって、図４（ａ）のごとくマス
ク３１の一端と基板２５の一端との間にΔＸｍのずれが
あっても、図４（ｃ）の時点では基板２５とマスク３１
との一端における相対的なずれΔＸｍ　が補正されるか
ら、露光を繰り返すことで基板２５が収縮などしても、
各露光工程におけるパターンのずれが補正されることに
なる。

【００３７】この実施例におけるＸ方向の倍率補正量は
以下のごとく行われる。すなわち、各露光工程を開始す
る前に、基板２５とマスク３１との熱変形によるずれ量
が測定され、その測定値が倍率補正量としてＣＰＵ３７
に入力される。ＣＰＵ３７は、上記倍率補正量を所定の
Ｘ座標ごとに分割設定する。そして、スキャニングステ
ージ１１が上記所定のＸ座標に駆動されるごとに、その
座標における倍率補正量に応じてＸステージモータ２１
によって基板２５がＸ方向に駆動されて上記倍率補正が
行われる。

【００３８】なお、Ｙ方向の倍率補正は、基板２５の幅
の狭い方向となるため、Ｘ軸方向程、補正する必要が少
ないものの、その方向の倍率補正をする場合には、照明
光Ｌがマスク３１に入射する前に図示しない光学系でＹ
方向に拡大あるいは縮小すればよい。

【００３９】このように、スキャニングステージ１１の
駆動にともない生じるヨーイング方向とローリング方向
とのずれの補正および基板２５の熱変形による倍率補正
が行われながら照明光Ｌが基板２５のＸ方向に沿う全長
を照射すると、スキャニングステージ１１の駆動が停止
されて基板２５へのマスク３１のパターン露光が終了す
る。

【００４０】なお、上記一実施例ではヨーイング補正、
ローリング補正および倍率補正を行うのに基板２５をＸ
方向とＹ方向とに駆動したが、マスク３１をＹ方向だけ
でなく、Ｘ方向にも駆動できる構造にし、マスク３１を
Ｘ方向とＹ方向とに駆動して上記各補正を行うようにし
てもよく、あるいは基板２５とマスク３１との両者を駆
動して上記補正を行うようにしてもよい。

【００４１】また、上記一実施例では、ヨーイング補正
の他にローリング補正と倍率補正を行うようにしたが、
この発明の露光装置は少なくとも各補正が１つ以上が行
える構成であればよい。たとえばヨーイング補正だけの
場合、基板２５はＸ方向にだけ駆動される構成であれば
よく、また光学測定装置３８は基板２５とマスク３１と
のＸ方向のずれ量だけを測定できればよい。

【００４２】

【発明の効果】以上述べたようにこの発明によれば、ス
キャニングステージの駆動方向および直交する方向また
は少なくとも一方向の基板とマスクとの間に生じるずれ
を測定するとともに、その測定値に応じて上記マスクあ
るいは基板の少なくとも一方を駆動して上記ずれを除去
しながら露光するようにしたから、上記マスクのパター
ンを上記基板にずれが生じることなく精度よく露光する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係る露光装置の概略的構成
を示す斜視図。

【図２】同実施例における光学測定装置の概略的構成図
。

【図３】同実施例におけるヨーイングの補正原理の説明
図。

【図４】図４（ａ）〜（ｃ）は同実施例における倍率補
正原理の説明図。

【図５】同実施例におけるフローチャート。

【図６】反射ミラー型投影露光装置の原理の説明図。

【符号の説明】

１１…スキャニングステージ、１６…メインモータ（第
１の駆動機構）、２１…Ｘステージモータ（第２の駆動
機構）、２５…基板、３１…マスク、３３，３４，３５
…光学手段、３６…駆動制御部、３７…設定部（ＣＰＵ
）、３８…光学測定装置。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　スキャニングステージと、このスキャ
   ニングステージを所定方向に駆動する第１の駆動機構と
   、この第１の駆動機構により駆動される上記スキャニン
   グステージの駆動方向と直交する方向の一端側に設けら
   れ基板を保持する第１の保持部および他端側に設けられ
   マスクを保持する第２の保持部と、上記基板とマスクと
   の間に設けられ上記マスクに入射した照明光を上記基板
   に導く光学手段と、上記基板あるいはマスクの少なくと
   も一方を上記スキャニングステージ上においてスキャニ
   ングステージの駆動方向および直交する方向または少な
   くとも一方向に駆動する第２の駆動機構と、上記スキャ
   ニングステージが上記第１の駆動機構により駆動される
   ことで生じる上記スキャニングステージの駆動方向およ
   び直交する方向または少なくとも一方向における上記基
   板とマスクとの間の相対的ずれ量を測定する測定手段と
   、この測定手段からの測定値に応じて上記基板とマスク
   との間の相対的ずれがなくなるよう上記第２の駆動機構
   を駆動制御する制御手段とを具備したことを特徴とする
   露光装置。