JP4281293B2 - 電気光学装置の製造方法及び電気光学装置の製造装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、携帯電話などの携帯機器、パーソナルコンピュータ又はテレビなどのディスプレイとして特に好適に用いられる電気光学装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置の製造装置及び電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、有機ＥＬ装置の製造工程においては、有機ＥＬ基板を封止するために、接着剤で有機ＥＬ基板に封止基板を貼り合わせている。この封止工程では、有機ＥＬ基板と封止基板の間隙を制御するために接着剤にギャップ剤を混入し、封止基板を圧着してもギャップ剤の径以上には接着剤がなす接着層の厚さが小さくならないようにして、接着層の厚みを所望の一定値にしようとしている。そして、封止基板を圧着して、接着層が一定量つぶれた時点で紫外線または加熱により接着剤を硬化させている。
このような、従来の２つの基板の間隔をギャップ剤で制御する方法は、液晶パネルの製造工程でも用いられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の２つの基板の間隙を制御する方法では、接着剤の中にギャップ剤を混入させなければならないので、１）ギャップ剤によって製造コストが上がる、２）接着剤を吐出するノズルにギャップ剤が詰まる、３）２つの基板の間隙を正確に制御することができないなどの問題点を有していた。
【０００４】
本発明は、電気光学装置の構成要素となる２つの基板の間隙、又は２つの基板を接着する接着層の厚さを正確に制御することを可能とする電気光学装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置の製造装置及び電子機器の提供を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記した目的を達成するために、本発明の電気光学装置は、第１基板と、前記第１基板に接着された透明な板状部材からなる第２基板とを少なくとも有してなる電気光学装置であって、前記第１基板と前記第２基板は、接着層を介して接着されているとともに、前記第１基板と前記第２基板の間に空洞を有して接着されており、前記空洞内には、前記接着層の厚さの測定に用いられる測定面が設けられてなることを特徴とする。
このような装置によれば、当該電気光学装置の製造時において、測定面を用いて、第１基板と第２基板を接着する接着層の厚さを測定することができるので、接着層の厚さ（第１基板と第２基板の間隔）を所望の厚さとした電気光学装置とすることが可能となる。したがって、このような装置によれば、製品寿命を長くすることが可能となる。
また、このような装置によれば、接着層をなす接着剤の中にギャップ剤を混入させる必要がないので、ギャップ剤に関して製造コストを低減することができ、接着剤を吐出するノズルにギャップ剤が詰まることを防止することができる。
【０００６】
また、本発明の電気光学装置は、前記測定面には接着剤が付着されていないことが好ましい。
このような装置によれば、測定面を用いて、接着層の厚さを正確に測定することができる。
【０００７】
また、本発明の電気光学装置は、前記測定面が前記第２基板における前記第１基板に対峙する面の少なくとも一部として設けられていることが好ましい。
このような装置によれば、測定面を用いて第１基板と第２基板の間隔を測定することが可能となり、これをもって第１基板と第２基板を接着する接着層の厚さを測定することが可能となるので、製造コストを低減させながら接着層の厚さを所望の厚さとした電気光学装置とすることが可能となる。
【０００８】
また、本発明の電気光学装置は、前記測定面に対峙する前記第１基板の面での反射率が９０パーセント以下の部分を有することが好ましい。
このような装置によれば、測定面で反射された光と、当該測定面に対峙する第１基板の面で反射された光との干渉を用いて接着層の厚さを計測することが可能となるので、接着層の厚さを極めて精密に測定することが可能となり、接着層の厚さ（第１基板と第２基板の間隔）を正確に所望の厚さとした電気光学装置とすることが可能となる。したがって、このような装置によれば、製品寿命をさらに長くすることが可能となる。
【０００９】
また、本発明の電気光学装置は、前記測定面が前記接着層と前記第２基板との接着面の高さに対して略同一の高さに位置するように設けられていることが好ましい。
このような装置によれば、測定面を用いて測定する間隔（実際の測定値）と接着層の厚さとが略同一となるので、接着層の厚さをより正確に測定することが可能となる。
【００１０】
また、本発明の電気光学装置は、接着面と前記測定面の高さの差が１００マイクロメートル以下であることが好ましい。
このような装置によれば、測定面を用いて測定する間隔（実際の測定値）と接着層の厚さとの差を１００マイクロメートル以下にすることが可能となるので、接着層の厚さを正確に測定することが可能となる。
【００１１】
また、本発明の電気光学装置は、前記測定面が平滑化処理されていることが好ましい。
このような装置によれば、測定面で反射された光と、当該測定面に対峙する第１基板の面で反射された光との干渉を用いて接着層の厚さを計測することが可能となるので、接着層の厚さを極めて精密に測定することが可能となる。
【００１２】
また、本発明の電気光学装置は、前記測定面が前記第２基板における前記第１基板に対峙する面に設けられた凸形状部位の一部に設けられていることが好ましい。
このような装置によれば、当該電気光学装置の製造時において、第１基板と第２基板を接着する接着層をなす接着剤が測定面に侵入することを防止できるので、測定面を用いて接着層の厚さを正確に計測することが可能となる。
【００１３】
また、本発明の電気光学装置は、前記測定面が４箇所以上設けられていることが好ましい。
このような装置によれば、接着層が第１基板又は第２基板の周辺近傍に配置された場合などにおいて、その接着層の略全範囲についてその厚さを正確に測定することが可能となり、製品寿命を長くすることが可能となる。
【００１４】
また、本発明の電気光学装置は、前記第１基板及び前記第２基板が四角形状をしており、前記測定面は、前記四角形状の四隅それぞれに設けられていることが好ましい。
このような装置によれば、接着層が第１基板又は第２基板の周辺近傍に配置された場合に、その接着層の略全範囲についてその厚さを正確に測定することが可能となる。
【００１５】
また、本発明の電気光学装置は、前記第１基板と前記第２基板との間に、電極と、発光層とを有することすることが好ましい。
このような装置によれば、電気光学装置としての有機ＥＬ装置（エレクトロ・ルミネッセンス装置）について、発光層（有機ＥＬ素子層）を第２基板（封止基板）、接着層及び第１基板で精密に封止することができ、有機ＥＬ装置の製造コストを低減化しながら製品寿命を延ばすことが可能となる。
【００１６】
また、本発明の電気光学装置は、前記空洞内に、少なくとも乾燥手段または脱酸素手段が配置されていることが好ましい。
このような装置によれば、空洞内を長期にわたって乾燥等させておくことが可能となり、長期にわたって安定した発光特性を維持する有機ＥＬ装置となることが可能となる。
【００１７】
また、本発明の電気光学装置は、前記電気光学装置は、マトリクス状に形成された複数の走査線及び複数のデータ線と、前記走査線とデータ線に接続されたスイッチング手段と、前記スイッチング手段に接続された画素電極とを有するこが好ましい。
このような装置によれば、電気光学装置としての液晶装置や有機ＥＬ装置の構成要素を第１基板及び第２基板として、その第１基板又は第２基板にマトリクス状に形成された複数の走査線及び複数のデータ線と、前記走査線とデータ線に接続されたスイッチング手段と、前記スイッチング手段に接続された画素電極とを形成しておくことで、液晶装置や有機ＥＬ装置の製造コストを低減化しながら製品寿命を延ばすことが可能となる。
【００１８】
また、本発明の電子機器は、前記電気光学装置を備えたことを特徴とする。
本発明によれば、電子機器の製造コストを低減化しながら製品寿命を延ばすことが可能となる。
【００１９】
また、本発明の電気光学装置の製造装置は、前記電気光学装置を製造するときに用いられる電気光学装置の製造装置であって、前記接着層の厚さを測定する計測手段と、前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方を押す圧着手段と、前記計測手段が測定した結果に応じて前記圧着手段の動作を制御するコントローラとを有することを特徴とする。
このような電気光学装置の製造装置によれば、接着層の厚さを所望の一定値とした電気光学装置を製造できるので、製造コストを低減化しながら、寿命の長い電気光学装置を製造することができる。
【００２０】
また、本発明の電気光学装置の製造装置は、電気光学装置を製造するときに用いられる電気光学装置の製造装置であって、前記第２基板における前記第１基板に対峙する面の少なくとも一部を測定面として、当該測定面で反射された光と、当該測定面に対峙する前記第１基板の面で反射された光との干渉を用いて前記接着層の厚さを計測する計測手段と、前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方を押す圧着手段と、前記計測手段が測定した結果に応じて前記圧着手段の動作を制御するコントローラとを有することを特徴とする。
このような電気光学装置の製造装置によれば、接着層の厚さをさらに正確に所望の一定値とした電気光学装置を製造できるので、製造コストを低減化しながら、表示均一性が良く、寿命の長い電気光学装置を製造することができる。
【００２１】
また、本発明の電気光学装置の製造装置は、前記電気光学装置を製造するときに用いられる電気光学装置の製造装置であって、顕微鏡光学系を前記第１基板の所定面に焦点を合わせた状態と、前記顕微鏡光学系を前記第２基板の所定面または前記測定面のいずれかに焦点を合わせた状態との差を用いて前記接着層の厚さを測定する測定手段と、前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方を押す圧着手段と、前記計測手段が測定した結果に応じて前記圧着手段の動作を制御するコントローラとを有することを特徴とする。
このような電気光学装置の製造装置によれば、顕微鏡光学系を用いて接着層の厚さを正確に測定しながら製造できるので、接着層の厚さを正確に所望の一定値とした電気光学装置を製造でき、製造コストを低減化しながら、表示均一性が良く、寿命の長い電気光学装置を製造することができる。
【００２２】
また、本発明の電気光学装置の製造装置は、前記第１基板の所定面、前記第２基板の所定面及び前記測定面のうちの少なくとも１つに、前記焦点を合わせるときに用いられる所望のパターンが形成されていることが好ましい。
このような電気光学装置の製造装置によれば、顕微鏡光学系の焦点をパターンが形成されている面に合わせることが容易になるので、より迅速且つ正確に、接着層の厚さを測定しながら製造することができる。
【００２３】
また、本発明の電気光学装置の製造装置は、前記計測手段が前記圧着手段で押されている箇所の近傍における前記接着層の厚さを測定することが好ましい。
このような電気光学装置の製造装置によれば、接着層の厚さを調整することがさらに容易となるので、接着層の厚さをさらに正確に所望の一定値とした電気光学装置を製造できる。
【００２４】
また、本発明の電気光学装置の製造装置は、前記圧着手段が複数の箇所を押すものであり、前記計測手段は、前記圧着手段で押されている複数の箇所それぞれの近傍における前記接着剤の厚さを測定するものからなり、前記コントローラは、前記計測手段による複数の箇所それぞれの測定値が所望の値となるように、前記圧着手段の動作を制御するものからなることが好ましい。
このような電気光学装置の製造装置によれば、接着層の厚さを自動的にかつ正確に調整することが可能となり、電気光学装置の製造コストを低減化しながら均一な表示性能で、製品寿命を延ばすことが可能となる。
【００２５】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、第１基板と、前記第１基板に接着された透明な板状部材からなる第２基板とを少なくとも有してなる電気光学装置の製造方法であって、前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方に接着剤を塗布する工程と、前記接着剤を塗布した部位が前記第１基板と前記第２に挟まれて接着層を形成するように、前記第１基板に前記第２基板を配置する工程と、前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方を押して、前記第１基板に前記第２基板を押し付ける工程と、前記押し付ける工程において、前記接着層の厚さを逐次測定する工程とを有することを特徴とする。
このような電気光学装置の製造方法によれば、接着層の厚さを逐次測定し、その測定値に基づいて第１基板に第２基板を押し付ける力を制御することで、接着層の厚さを所望の厚さとした電気光学装置を製造することが可能となり、例えば有機ＥＬ装置の場合は製品寿命が長く、また液晶装置の場合は表示ムラの無い電気光学装置を製造することが可能となる。
また、このような製造方法によれば、接着層をなす接着剤の中にギャップ剤を混入させる必要がないので、製造コストを低減することができ、接着剤を吐出するノズルにギャップ剤が詰まることを防止することもできる。
【００２６】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記接着層の厚さが前記第２基板における前記第１基板に対峙する面の少なくとも一部を測定面として、当該測定面で反射された光と、当該測定面に対峙する前記第１基板の面で反射された光との干渉を用いて計測されることが好ましい。
このような電気光学装置の製造方法によれば、接着層の厚さをさらに正確に所望の一定値とした電気光学装置を製造できるので、製造コストを低減化しながら、均一な表示性能で、寿命の長い電気光学装置を製造することができる。
【００２７】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記接着層の厚さを、顕微鏡光学系を前記第１基板の所定面に焦点を合わせた状態と、前記顕微鏡光学系を前記第２基板の所定面に焦点を合わせた状態との差を用いて計測することが好ましい。
このような電気光学装置の製造方法によれば、顕微鏡光学系を用いて接着層の厚さを正確に測定しながら電気光学装置の製造をすることができるので、接着層の厚さを正確に所望の一定値とした電気光学装置を製造でき、製造コストを低減化しながら、表示均一性が良く、寿命の長い電気光学装置を製造することができる。
【００２８】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記押し付ける工程において前記接着層が所望の厚さになるまで押し付けることが好ましい。
このような電気光学装置の製造方法によれば、接着層の厚さを正確に所望の一定値とした電気光学装置を製造できる。
【００２９】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記接着層が所望の厚さになった状態で前記接着剤を硬化させる工程を有することが好ましい。
このような電気光学装置の製造方法によれば、接着層の厚さを正確に所望の一定値とした電気光学装置を製造できる。
【００３０】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記接着剤を塗布する工程において、前記測定面を除く部位であって、前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方における基板外縁及び該基板外縁の周辺部位に前記接着剤を塗布することが好ましい。
このような電気光学装置の製造方法によれば、前記第１基板、前記第２基板及び接着層で囲まれた部位を密閉することができ、かつ、長期にわたってその密閉状態を維持することが可能となる。
【００３１】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記接着層の厚さを逐次測定する工程において、前記押し付ける工程で押されている箇所の近傍における前記接着剤の厚さを測定することが好ましい。
このような電気光学装置の製造方法によれば、接着層の厚さを正確に所望の一定値とした電気光学装置を製造できる。
【００３２】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記接着層の厚さを逐次測定する工程において、逐次測定した該接着層の厚さを表示することが好ましい。
このような電気光学装置の製造方法によれば、製造時において接着層の厚さを確認することが可能となる。
【００３３】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記第２基板には前記測定面が複数設けられており、前記押し付ける工程では、前記複数の測定面それぞれでの前記接着層の厚さが略同一となるように、前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方における前記複数の測定面それぞれの近傍を押すことが好ましい。
このような電気光学装置の製造方法によれば、接着層が第１基板又は第２基板の周辺近傍に配置された場合などにおいて、その接着層の略全範囲についてその厚さを正確に調整することが可能となり、均一な表示性能で製品寿命を長くすることが可能となる。
【００３４】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記配置する工程において、前記第１基板と前記第２基板の間に空洞が形成され、当該空洞内に少なくとも乾燥手段または脱酸素手段のいずれかを配置することが好ましい。
このような電気光学装置の製造方法によれば、空洞内が長期にわたって乾燥している電気光学装置を製造することが可能となり、長期にわたって安定した発光特性を維持する有機ＥＬ装置を製造することが可能となる。
【００３５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る電気光学装置及びその製造方法について、図１乃至図８に基づいて説明する。本実施形態では、電気光学装置として有機ＥＬ装置を挙げて説明するが、本発明はこれに限定されるものではなく、液晶装置に本発明を適用することもできる。
【００３６】
（電気光学装置の構成）
図１は、本実施形態に係る電気光学装置を示す概略断面図である。
本電気光学装置は、有機ＥＬ装置をなすものであり、透明な板状部材からなる封止基板１（第２基板）と、封止基板１によって片方の面側が封止される基板５（第１基板）とを有してなるものである。ここで、基板５には、透明電極、有機ＥＬ層及び対向電極（反射性陰極）を含んでなる有機ＥＬ素子層４が形成されている。そして、有機ＥＬ素子層４が封止基板１によって封止されている。また、封止基板１と基板５とは、接着剤を硬化させて形成した接着層３を介して固着されている。
【００３７】
さらに、封止基板１には、凸形状の突端面からなる測定面６が複数形成されている。測定面６は、基板５の上面を基準とした高さであって、封止基板１と接着層３との接触面である接着面７の高さと略同一の高さに、該基板５の上面と平行に形成されている。測定面６は、接着層３の厚さ（換言すれば、封止基板１と基板５の間隔）の測定に用いられる。
【００３８】
測定面６としては、図２に示す測定面６’ように、接着面７の高さに対して所望の値Ｔだけ異なった高さ、すなわち封止基板１の上面又は底面を基準として、接着面７の高さと所望の値Ｔだけ異なった高さに形成してもよい。こうすると、接着層３の厚さは、基板５の上面と測定面６間の距離（測定値）から所望の値Ｔだけ差し引いた（又は加えた）値となる。
【００３９】
ここで、所望の値Ｔは、１００μｍ以下であることが好ましい。これは、接着層３の厚さが通常５μｍ程度となり、測定面６，６’と測定面６，６’に対峙する基板５の面ａとの間隔を測定することで、この接着層３の厚さを測定して接着層３の厚さを調整しているからである。すなわち、接着層３の厚さからあまりにも異なる値に所望の値Ｔを設定すると、接着層３の厚さを正確に測定することが困難となるからである。
接着層３の厚さは、後述の製造方法の説明で具体的に説明するように、封止基板１側又は基板５側から所定の計測光を放射する光干渉膜厚計で測定する。
【００４０】
また、封止基板１と基板５は、封止基板１と基板５の間（具体的には基板５の有機ＥＬ素子層４の陰極上）に空洞を形成して接着されている。そして、この空洞内に測定面６が設けられている。ここで、空洞内の基板５の有機ＥＬ素子層４から隔離された位置に乾燥剤（乾燥手段）３を配置するのが好ましい。本実施形態では、封止基板１の空洞側の面に乾燥剤３を固着させている。乾燥剤３としては、例えば、固形平型のものを用い、接着剤、粘着剤又は両面テープで封止基板１に固定する。空洞内に乾燥剤３の代わりに脱酸素剤（脱酸素手段）を配置してもよい。または、乾燥剤３と脱酸素剤との両方を配置してもよい。
【００４１】
接着層３を形成する接着剤には、熱硬化型又は紫外線硬化型のものを用いることができるが、接着層３の厚さを管理しながら所望の厚さまで封止基板１と基板５を押し合わせた時に間を置かずに硬化させるため、紫外線硬化型のほうが好ましい。有機ＥＬ素子層４としては、低分子ＥＬ又は高分子ＥＬのどちらでも用いることができる。基板５は、透明な部材であればよく、ガラスに限らず、プラスチックなどを用いてもよい。
【００４２】
図３は、封止基板１の平面図である。この図に示すように、封止基板１は長方形をしており、測定面６が封止基板１の四隅に１つづつ配置されている。なお、ザグリ面８は、封止基板１において、封止基板１の一方面における周辺近傍に設けた接着面７と測定面６とを残して、削り下げた面である。
図４は、他の形態に係る封止基板１’の平面図である。封止基板１’では、接着層３の厚さ管理についてさらに精度を上げるために、封止基板１の四隅と、封止基板１の各辺とに１つづつ測定面６を配置している。
【００４３】
図１に示す有機ＥＬ装置における測定面６’に対峙する基板５の面ａの部位は、反射率が９０パーセント以下であることが好ましい。これは、基板５の面ａの反射率が９０パーセントを超えると、光干渉膜厚計から放射された光のうち基板５の面ａで反射される光の量が、測定面６で反射される光の量に比べて過大となり、光干渉膜厚計での正確な計測が困難となるからである。
【００４４】
そこで、例えば、基板５としてガラス基板を用い、基板５における測定面６に対向する部分の面ａにはガラス基板上にＩＴＯ（Indium Tin Oxide：インジウム錫酸化物）を形成しておく。
また、測定面６を鏡面処理することで、封止基板側１からみた測定面６における反射率を３０パーセント程度とすることが好ましい。
これらにより、封止基板１の測定面６と有機ＥＬ素子層４を作り込んだ基板５の面ａとの間隙距離を光干渉膜厚計により測定できる。
比較として、ＩＴＯの替わりにアルミニウム（例えば、反射率が９６パーセント）を基板５の面ａの部分のガラス基板上に製膜すると、光干渉が反射に埋もれてしまい、うまく測定できなくなる。
電気光学装置として有機ＥＬ装置を例にあげたが、本構成は液晶装置においても適当可能である。液晶装置の場合、第1基板と第２基板との間に、液晶が封入される。
【００４５】
（電気光学装置の製造方法）
次に、上記有機ＥＬ装置の製造方法について説明する。
本製造方法は、接着剤を塗布する第１工程と、基板をアライメントする第２工程と、基板を押す第３工程と、接着層３の厚さを測定する第４工程と、基板を押す量を制御する第５工程と、接着剤を硬化させる第６工程とからなる。
図５は第１工程の説明図であり、図６は第２〜第５工程の説明図であり、図７及び図８は第６工程の説明図である。
【００４６】
第１工程では、有機ＥＬ素子層４を形成させた基板５又は封止基板１における測定面６を除いた基板周辺部（図３又は図４の接着面７の部位）に、接着剤を塗布する。この第１工程の具体例について、図５を参照して説明する。
まず、図５に示すように、有機ＥＬ素子層４を形成した基板５を不活性ガス雰囲気（例えば、窒素）中で搬送し、不活性ガス雰囲気中において、ディスペンサー２１を用いて基板５上に紫外線硬化型の接着剤２２を塗布する。接着剤２２を塗布するパターンについては、基板５と封止基板１を張り合わせた時に、内部のガスを逃がすためのガス抜き口２３を空けておく必要がある。
なお、基板５ではなく、封止基板１の接着面７に接着剤２２を塗布してもよい。また、接着剤２２としては、熱硬化型の接着剤を用いることもできる。
【００４７】
第２工程では、基板５に封止基板１をアライメントする。すなわち、第２工程では、接着剤２２を塗布した部位が基板５と封止基板１に挟まれて接着層３を形成するように、基板５に対して封止基板１を配置する。具体的には、図６に示すように、定盤１３上に基板５を配置して、乾燥剤２が取り付けられた封止基板１を基板５上の所定の場所にアライメントする。
【００４８】
第３工程では、封止基板１又は基板５を押すことで、基板５に封止基板１を圧着する。例えば、図６に示すように、圧着装置１１をなすマニピュレータで、封止基板１を基板５方向へ押す。ここで、圧着装置１１による押圧箇所は、複数であって、接着層３の近傍に、一定の間隔で配置するのが好ましい。これは、接着層３の全ての部位について、厚さを所望の一定値に均一化するための制御をし易くするためである。
【００４９】
第４工程では、第３工程の押圧を加えている期間において逐次、光干渉膜厚計３０によって接着層３の厚さ（膜厚）を測定する。ここで、光干渉膜厚計３０は、上記のように測定面６と測定面６に対峙する基板５の面ａ（図１参照）との間隔を測定する。したがって、測定面６が図３、図４に示すように複数設けられているときは、その複数の測定面６それぞれについて、光干渉膜厚計３０によって測定する。
【００５０】
接着層３の膜厚を測定する手段としては、光干渉膜厚計３０を用いる代わりに顕微鏡光学系を用いてもよい。具体的には、基板５の表面に焦点を合わせたときの顕微鏡光学系のレンズなどの位置（第１位置）と、封止基板１の測定面６に焦点を合わせたときの顕微鏡光学系のレンズなどの位置（第２位置）とを比較し、第１位置と第２位置の差を測定し、その差に基づいて接着層３の膜厚を測定する。ここで、顕微鏡光学系の焦点を合わせるために、測定面６及び基板５の表面には何らかのパターンを形成しておく。なお、顕微鏡光学系のレンズなどの位置を直接測定せずに、顕微鏡光学系の焦点を変化させる回転軸の回転量などを測定することで上記第１位置及び第２位置を測定してもよい。
また、第４工程及び下記第５工程では、測定された接着層３の膜厚を逐次表示することが好ましい。これにより、製造過程において接着層３の膜厚を確認することができるので、製造の初期段階における製造装置の調整が容易になるとともに、不良品の発生を低減することが可能となる。
【００５１】
第５工程では、第４工程で検出された接着層３の厚さの測定に基づいて、第３工程の押圧量を制御して、接着層３を膜厚にする。具体的には、コントローラ３２が光干渉膜厚計３０の測定値を逐次取り込み、その測定値（接着層の膜厚）が所望の膜厚（例えば、５μｍ）よりも厚い箇所については、その近傍の圧着装置３１を制御してさらに圧着させる。すなわち、コントローラ３２は、全ての光干渉膜厚計３０の測定値が所望の膜厚になるまで、その膜厚になっていない部位近傍の圧着装置３１を駆動させる。
光干渉膜厚計３０の配置は、封止基板１側に限らず、基板５側でもよい。また、圧着装置３１の配置も、封止基板１側に限らず、基板５側でもよい。
【００５２】
第６工程では、第５工程によって接着層３が所望の膜厚になった状態で、接着剤２２を接着剤を硬化させる。接着剤２２を硬化させるためには、図７に示すように、紫外線照射装置３４から放射された紫外線を接着剤２２に照射する。ここで、紫外線照射装置３４から放射された紫外線は、光ファイバー３５を伝導させて接着層３をなす接着剤２２まで導かれる。
【００５３】
また、第６工程としては、図８に示すように、透明定盤３３’上に基板５を載せて、有機ＥＬ素子層（例えば画素領域）をマスク１７で保護した状態で、紫外線３７を基板５の底面側（透明定盤３３’側）から照射して接着層３をなす接着剤２２を硬化させてもよい。
接着層３をなす接着剤２２として熱硬化型接着剤を用いる場合には、圧着装置３１で封止基板１又は基板５を押さえたまま、接着剤２２が硬化するまで放置する。
【００５４】
（電気光学装置の具体例）
以下、本実施形態の具体例に係る電気光学装置について図９を参照しながら説明する。図９は本実施形態の電気光学装置である有機ＥＬ装置の一例を示す断面図である。
図９において、有機ＥＬ装置５０は、光を透過可能な基板（光透過層、図１の基板５に相当）５２と、基板５２の一方の面側に設けられ一対の陰極（電極）５７及び陽極（電極）５８に挟持された有機エレクトロルミネッセンス材料からなる発光層５５と正孔輸送層５６とからなる有機ＥＬ素子（発光素子、図１の有機ＥＬ素子層に相当）５９と、封止基板３２０（図１の封止基板１に相当）を有している。
また、封止基板３２０には、図１の封止基板１と同様に、測定面６が設けられている。そして、封止基板３２０と基板５２上の陽極５８とは接着層３で接着されており、封止基板３２０及び接着層３によって有機ＥＬ素子５９が封止されている。
【００５５】
ここで、図９に示す有機ＥＬ装置５０は、発光層５５からの発光を基板５２側から装置外部に取り出す形態である。
そこで、有機ＥＬ装置５０の製造時において、光干渉膜厚計３０（図６参照）は、封止基板３２０側に限らず、基板５２側に配置してもよい。すなわち、光干渉膜厚計３０の測定光を基板５２側から測定面６に向けて放射して、接着層３の膜厚を測定してもよい。
【００５６】
基板５２の形成材料としては、光を透過可能な透明あるいは半透明材料、例えば、透明なガラス、石英、サファイア、あるいはポリエステル、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリエーテルケトンなどの透明な合成樹脂などが挙げられる。特に、基板５２の形成材料としては、安価なガラスが好適に用いられる。
一方、基板５２と反対側（封止基板３２０側）から発光を取り出す形態の場合には、基板５２は不透明であってもよく、その場合、アルミナ等のセラミック、ステンレス、シリコン等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したもの、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などを用いることができる。
【００５７】
陽極５８は、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide）等からなる透明電極であって光を透過可能である。正孔輸送層５６は、例えば、トリフェニルアミン誘導体（ＴＰＤ）、ピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体等からなる。具体的には、特開昭６３−７０２５７号、同６３−１７５８６０号公報、特開平２−１３５３５９号、同２−１３５３６１号、同２−２０９９８８号、同３−３７９９２号、同３−１５２１８４号公報に記載されているもの等が例示されるが、トリフェニルジアミン誘導体が好ましく、中でも４，４’−ビス（Ｎ（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ）ビフェニルが好適とされる。
【００５８】
なお、正孔輸送層に代えて正孔注入層を形成するようにしてもよく、さらに正孔注入層と正孔輸送層を両方形成するようにしてもよい。その場合、正孔注入層の形成材料としては、例えば銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）や、ポリテトラヒドロチオフェニルフェニレンであるポリフェニレンビニレン、１，１−ビス−（４−Ｎ，Ｎ−ジトリルアミノフェニル）シクロヘキサン、トリス（８−ヒドロキシキノリノール）アルミニウム等が挙げられるが、特に銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）を用いることができる。高分子系の正孔注入層の形成材料としては、例えばＰＥＤＯＴ（ポリエチレンジオキシチオフェン）ＰＳＳ（ポリスチレンスルホン酸）、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリアニリン、及びこれらの誘導体を用いるのが好ましい。
【００５９】
発光層５５の形成材料としては、低分子の有機発光色素や高分子発光体、すなわち各種の蛍光物質や燐光物質などの発光物質、Ａｌｑ₃（アルミキレート錯体）などの有機エレクトロルミネッセンス材料が使用可能である。発光物質となる共役系高分子の中ではアリーレンビニレン又はポリフルオレン構造を含むものなどが特に好ましい。低分子発光体では、例えばナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、ペリレン誘導体、ポリメチン系、キサテン系、クマリン系、シアニン系などの色素類、８−ヒドロキノリンおよびその誘導体の金属錯体、芳香族アミン、テトラフェニルシクロペンタジエン誘導体等、または特開昭５７−５１７８１、同５９−１９４３９３号公報等に記載されている公知のものが使用可能である。陰極７はカルシウム（Ｃａ）、アルミニウム（Ａｌ）やマグネシウム（Ｍｇ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）等からなる金属電極が好ましい。
【００６０】
なお、陰極５７と発光層５５との間に、電子輸送層や電子注入層を設けることができる。電子輸送層の形成材料としては、特に限定されることなく、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタンおよびその誘導体、ベンゾキノンおよびその誘導体、ナフトキノンおよびその誘導体、アントラキノンおよびその誘導体、テトラシアノアンスラキノジメタンおよびその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレンおよびその誘導体、ジフェノキノン誘導体、８−ヒドロキシキノリンおよびその誘導体の金属錯体等が例示される。具体的には、先の正孔輸送層の形成材料と同様に、特開昭６３−７０２５７号、同６３−１７５８６０号公報、特開平２−１３５３５９号、同２−１３５３６１号、同２−２０９９８８号、同３−３７９９２号、同３−１５２１８４号公報に記載されているもの等が例示され、特に２−（４−ビフェニリル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、ベンゾキノン、アントラキノン、トリス（８−キノリノール）アルミニウムが好適とされる。
【００６１】
図示しないが、本実施形態の有機ＥＬ装置５０はアクティブマトリクス型であり、実際には複数のデータ線と複数の走査線とが格子状に基板５２に配置される。そして、データ線や走査線に区画されたマトリクス状に配置された各画素毎に、従来は、スイッチングトランジスタやドライビングトランジスタ等の駆動用ＴＦＴを介して上記の有機ＥＬ素子５９が接続されている。そして、データ線や走査線を介して駆動信号が供給されると電極間に電流が流れ、有機ＥＬ素子５９の発光層５５が発光して基板５２の外面側に光が射出され、その画素が点灯する。
【００６２】
本実施形態の有機ＥＬ装置５０は、上記のように、接着層３を均一にかつ所望の厚さにすることができるので、製品寿命が長く、長期にわたって安定した発光特性（表示特性）を維持することができる。また、上記実施形態の製造方法によって、製造コストを従来のものよりも低減することができる。
【００６３】
図１０は本実施形態に係る電気光学装置を、有機エレクトロルミネッセンス素子を用いたアクティブマトリクス型の表示装置（電気光学装置）に適用した場合の一例を示すものである。
【００６４】
図１０中の有機ＥＬ装置Ｓ１は、図１における基板５上に形成された有機ＥＬ素子層４に相当し、回路図である図１０に示すように基板上に、複数の走査線１３１と、これら走査線１３１に対して交差する方向に延びる複数の信号線１３２と、これら信号線１３２に並列に延びる複数の共通給電線１３３とがそれぞれ配線されたもので、走査線１３１及び信号線１３２の各交点毎に、画素（画素領域素）ＡＲが設けられて構成されたものである。
【００６５】
信号線１３２に対しては、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン、アナログスイッチを備えるデータ線駆動回路３９０が設けられている。
一方、走査線１３１に対しては、シフトレジスタ及びレベルシフタを備える走査線駆動回路３８０が設けられている。また、画素領域ＡＲの各々には、走査線１３１を介して走査信号がゲート電極に供給される第１のトランジスタ３２２と、この第１のトランジスタ３２２を介して信号線１３２から供給される画像信号を保持する保持容量ｃａｐと、保持容量ｃａｐによって保持された画像信号がゲート電極に供給される第２のトランジスタ３２４と、この第２のトランジスタ３２４を介して共通給電線１３３に電気的に接続したときに共通給電線１３３から駆動電流が流れ込む画素電極３２３と、この画素電極（陽極）３２３と対向電極（陰極）２２２との間に挟み込まれる発光部（発光層）３６０とが設けられている。
【００６６】
このような構成のもとに、走査線１３１が駆動されて第１のトランジスタ３２２がオンとなると、そのときの信号線１３２の電位が保持容量ｃａｐに保持され、該保持容量ｃａｐの状態に応じて、第２のトランジスタ３２４の導通状態が決まる。そして、第２のトランジスタ３２４のチャネルを介して共通給電線１３３から画素電極３２３に電流が流れ、さらに発光層３６０を通じて対向電極２２２に電流が流れることにより、発光層３６０は、これを流れる電流量に応じて発光するようになる。
【００６７】
（電子機器）
上記実施形態の電気光学装置を備えた電子機器の例について説明する。
図１１は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図１１において、符号１０００は携帯電話本体を示し、符号１００１は上記の電気光学装置を用いた表示部を示している。
【００６８】
図１２は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図１２において、符号１１００は時計本体を示し、符号１１０１は上記の電気光学装置を用いた表示部を示している。
【００６９】
図１３は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図１３において、符号１２００は情報処理装置、符号１２０２はキーボードなどの入力部、符号１２０４は情報処理装置本体、符号１２０６は上記の電気光学装置を用いた表示部を示している。
【００７０】
図１１から図１３に示す電子機器は、上記実施形態の電気光学装置を備えているので、製品寿命が長く、長期にわたって安定した発光特性（表示特性）を維持することができる。また、上記実施形態の製造方法によって、製造コストを従来のものよりも低減することができる。
【００７１】
なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能であり、実施形態で挙げた具体的な材料や層構成などはほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。
【００７２】
【発明の効果】
以上の説明で明らかなように、本発明によれば、電気光学装置の構成要素となる２つの基板の間隙、又は２つの基板を接着する接着層の厚さを正確に制御することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の実施形態に係る電気光学装置を示す概略断面図である。
【図２】 同上の電気光学装置における測定面の他の形態を示す概略断面図である。
【図３】 同上の電気光学装置における封止基板の平面図である。
【図４】 同上の封止基板の他の形態を示す平面図である。
【図５】 本発明の実施形態に係る電気光学装置の製造方法の第１工程を示す説明図である。
【図６】 同上の製造方法における第２〜第５工程の説明図である。
【図７】 同上の製造方法における第６工程の説明図である。
【図８】 同上の第６工程の他の形態を示す説明図である。
【図９】 本実施形態の電気光学装置の具体例を示す概略断面図である。
【図１０】 アクティブマトリクス型の表示装置を示す回路図である。
【図１１】 本実施形態の電気光学装置を備えた電子機器の一例を示す図である。
【図１２】 本実施形態の電気光学装置を備えた電子機器の一例を示す図である。
【図１３】 本実施形態の電気光学装置を備えた電子機器の一例を示す図である。
【符号の説明】
１、１’ 封止基板
２ 乾燥剤
３ 接着層
４ 有機ＥＬ素子層
５ 基板
６、６’ 測定面
７ 接着面
８ ザグリ面
２１ ディスペンサー
２２ 接着剤
２３ ガス抜き口
３０ 光干渉膜厚計
３１ 圧着装置
３２ コントローラ
３３ 定盤
３３’ 透明定盤
３４ 紫外線照射装置
３５ 光ファイバー
３６ マスク
３７ 紫外線

Claims (26)

1. 第１基板と、前記第１基板に接着された板状部材からなる第２基板とを少なくとも有し、前記第１基板と前記第２基板は、接着層を介して接着されているとともに、前記第１基板と前記第２基板の間に空洞を有しており、前記空洞内には、前記接着層の厚さの測定に用いられる測定面を備えた電気光学装置を製造するときに用いられる電気光学装置の製造装置であって、
   顕微鏡光学系を前記第１基板の所定面に焦点を合わせた状態と、前記顕微鏡光学系を前記第２基板の所定面または前記測定面のいずれかに焦点を合わせた状態との差を用いて前記接着層の厚さを測定する測定手段と、
   前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方を押す圧着手段と、
   前記計測手段が測定した結果に応じて前記圧着手段の動作を制御するコントローラと
   を有することを特徴とする電気光学装置の製造装置。
2. 前記測定面には、接着剤が付着されていないことを特徴とする請求項１記載の電気光学装置の製造装置。
3. 前記測定面は、前記第２基板における前記第１基板に対峙する面の少なくとも一部として設けられていることを特徴とする請求項１又は２記載の電気光学装置の製造装置。
4. 前記測定面に対峙する前記第１基板の面は、反射率が９０パーセント以下の部分を有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造装置。
5. 前記測定面は、前記接着層と前記第２基板との接着面の高さに対して略同一の高さに位置するように設けられていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造装置。
6. 前記接着面と前記測定面の高さの差は、１００マイクロメートル以下であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造装置。
7. 前記測定面は、平滑化処理されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造装置。
8. 前記測定面は、前記第２基板における前記第１基板に対峙する面に設けられた凸形状部位の一部に設けられていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造装置。
9. 前記測定面は、４箇所以上設けられていることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造装置。
10. 前記第１基板及び前記第２基板は、四角形状をしており、
    前記測定面は、前記四角形状の四隅それぞれに設けられていることを特徴とする請求項９に記載の電気光学装置の製造装置。
11. 前記第１基板と前記第２基板との間に、電極と、発光層とを有することを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造装置。
12. 前記空洞内には、少なくとも乾燥手段または脱酸素手段のいずれかが配置されていることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造装置。
13. 前記電気光学装置は、マトリクス状に形成された複数の走査線及び複数のデータ線と、前記走査線とデータ線に接続されたスイッチング手段と、前記スイッチング手段に接続された画素電極とを有することを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造装置。
14. 前記測定手段では、前記第２基板における前記第１基板に対峙する面の少なくとも一部を測定面として、当該測定面で反射された光と、当該測定面に対峙する前記第１基板の面で反射された光との干渉を用いて前記接着層の厚さを測定することを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造装置。
15. 前記測定手段では、前記第１基板の所定面、前記第２基板の所定面及び前記測定面のうちの少なくとも１つには、前記焦点を合わせるときに用いられる所望のパターンが形成されていることを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造装置。
16. 前記測定手段は、前記圧着手段で押されている箇所の近傍における前記接着層の厚さを測定するものからなることを特徴とする請求項１乃至１５のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造装置。
17. 前記圧着手段は、複数の箇所を押すものであり、
    前記計測手段は、前記圧着手段で押されている複数の箇所それぞれの近傍における前記接着剤の厚さを測定するものからなり、
    前記コントローラは、前記計測手段による複数の箇所それぞれの測定値が所望の値となるように、前記圧着手段の動作を制御するものからなることを特徴とする請求項１乃至１６のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造装置。
18. 第１基板と、前記第１基板に接着された板状部材からなる第２基板とを少なくとも有してなる電気光学装置の製造方法であって、
    前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方に接着剤を塗布する工程と、
    前記接着剤を塗布した部位が前記第１基板と前記第２に挟まれて接着層を形成するように、前記第１基板に前記第２基板を配置する工程と、
    前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方を押して、前記第１基板に前記第２基板を押し付ける工程と、
    前記押し付ける工程において、前記接着層の厚さを逐次測定する工程と
    を有し、
    前記接着層の厚さは、顕微鏡光学系を前記第１基板の所定面に焦点を合わせた状態と、前記顕微鏡光学系を前記第２基板の所定面に焦点を合わせた状態との差を用いて測定することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
19. 前記接着層の厚さは、前記第２基板における前記第１基板に対峙する面の少なくとも一部を測定面として、当該測定面で反射された光と、
    当該測定面に対峙する前記第１基板の面で反射された光との干渉を用いて計測することを特徴とする請求項１８記載の電気光学装置の製造方法。
20. 前記押し付ける工程では、前記接着層が所望の厚さになるまで押し付けることを特徴とする請求項１８または１９に記載の電気光学装置の製造方法。
21. 前記電気光学装置の製造方法は、前記接着層が所望の厚さになった状態で前記接着剤を硬化させる工程を有することを特徴とする請求項２０に記載の電気光学装置の製造方法。
22. 前記接着剤を塗布する工程では、前記測定面を除く部位であって、前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方における基板外縁及び該基板外縁の周辺部位に前記接着剤を塗布することを特徴とする請求項１８乃至２１のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
23. 前記接着層の厚さを逐次測定する工程では、前記押し付ける工程で押されている箇所の近傍における前記接着剤の厚さを測定することを特徴とする請求項１８乃至２２のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
24. 前記接着層の厚さを逐次測定する工程では、逐次測定した該接着層の厚さを表示することを特徴とする請求項１８乃至２３のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
25. 前記第２基板には、前記測定面が複数設けられており、
    前記押し付ける工程では、前記複数の測定面それぞれでの前記接着層の厚さが略同一となるように、前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方における前記複数の測定面それぞれの近傍を押すことを特徴とする請求項１８乃至２４のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
26. 前記配置する工程では、前記第１基板と前記第２基板の間に空洞が形成され、当該空洞内に少なくとも乾燥手段または脱酸素手段のいずれかを配置することを特徴とする請求項１８乃至２５のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。

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