JP4275733B2 - ピロロピリミジンおよびその製造法 - Google Patents

Description

本発明は７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン誘導体および製造法およびその製造のための新規中間体、そのような誘導体を含む医薬製剤および医薬としてのそのような誘導体の使用および医薬の製造におけるその使用に関する。
本発明の化合物は、式Ｉ

〔式中、Ｒ₁およびＲ₂は互いに独立して、低級アルキル；モノハロ−、ジハロ−またはトリハロ−低級アルキル；低級アルコキシ；非置換またはハロゲン、モノハロ−、ジハロ−またはトリハロ−低級アルキル、カルバモイル−メトキシ、カルボキシ−メトキシ、ベンジルオキシカルボニル−メトキシ、低級アルコキシカルボニル−メトキシ、フェニル、アミノ、アミノ−低級アルキル、低級アルカノイルアミノ、低級アルコキシカルボニルアミノ、フェニル−低級アルコキシカルボニルアミノ、フロイル、チエニルカルボニル、Ｎ−低級アルキルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキル−アミノ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルカノイルオキシ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、カルバモイル、Ｎ−低級アルキル−カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキル−カルバモイル、シアノ、アミジノ、Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’−ジ−低級アルキルアミノメチリデン）−アミノ、Ｎ−（（Ｎ’，Ｎ’−ジ−低級アルキルアミノ）−（低級アルキル）−メチリデン）−アミノ、グアニジノ、ウレイド、Ｎ³−低級アルキルウレイド、Ｎ³，Ｎ³−ジ−低級アルキルウレイド、チオウレイド、Ｎ³−低級アルキルチオウレイド、Ｎ³，Ｎ³−ジ−低級アルキルチオウレイド、低級アルカンスルホニルアミノ、非置換またはベンゼンまたはナフタレン環を低級アルキル−置換されているベンゼン−またはナフタレン−スルホニルアミノ、アジドもしくはニトロにより置換されているフェニル；水素；非置換またはハロ−または低級アルキル−置換ピリジル；Ｎ−ベンジル−ピリドニウム；ナフチル；シアノ；カルボキシ；低級アルコキシカルボニル；カルバモイル；Ｎ−低級アルキル−カルバモイル；Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキルカルバモイル；Ｎ−ベンジル−カルバモイル；ホルミル；低級アルカノイル；低級アルケニル；低級アルケニルオキシ；またはハロゲン、アミノ、低級アルキルアミノ、ピペラジノ、ジ−低級アルキルアミノ、フェニルアミノまたはフェニル（それぞれ非置換またはフェニル部分をハロゲン、低級アルキル、ヒドロキシ、低級アルカノイルオキシ、低級アルコキシ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、カルバモイル、Ｎ−低級アルキル−カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキル−カルバモイル、シアノ、アミジノ、アミノ、アミノ−低級アルキル、低級アルカノイルアミノ、低級アルキルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキルアミノまたはトリフルオロメチルにより置換されている）、ヒドロキシ、低級アルコキシ、シアノ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、カルバモイル、Ｎ−低級アルキル−カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキル−カルバモイル、メルカプトまたは式Ｒ₅−Ｓ（Ｏ_q）−（式中、Ｒ₅は低級アルキルおよびqは０、１または２）により置換されている低級アルキルであるか、または
Ｒ₁とＲ₂が共に非置換または低級アルキルにより置換されている２から５炭素原子を有するアルキレン鎖を形成する、
Ｑは環窒素原子を経由して結合し、式ＩＡ

（式中、ｍおよびｎは互いに独立して０から３、
Ｒ₃およびＲ₄は互いに独立して低級アルキル；アミノ−低級アルキル；Ｎ−低級アルキル−アミノ−低級アルキル；Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキルアミノ−低級アルキル；低級アルケニル；低級アルキニル；トリ−低級アルキルシラニル−低級アルキニル；モノハロ−、ジハロ−またはトリハロ−低級アルキル；ハロゲン；ニトロ；ヒドロキシ；低級アルコキシ；低級アルカノイルオキシ；イソチオシアナート；非置換またはハロゲン、ニトロ、トリハロ−低級アルキル、ヒドロキシまたは低級アルキルにより置換されているフェニル；チエニル；非置換またはフェニル環をハロゲン、ニトロ、トリハロ−低級アルキル、ヒドロキシまたは低級アルキルにより置換されているフェニル−低級アルコキシ；カルボキシ；低級アルコキシカルボニル；カルバモイル；Ｎ−低級アルキルカルバモイル；Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキルカルバモイル；シアノ；アミノ；Ｎ−低級アルキルアミノ；Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキルアミノ；アジド；非置換またはベンゼン環をハロゲン、ニトロ、トリ−ハロ−低級アルキル、ヒドロキシまたは低級アルキルにより置換されているベンゾイルアミノ；低級アルカノイルアミノ；モノハロ−、ジハロ−またはトリハロ−低級アルキルカルボニルアミノ；低級アルカンスルホニルアミノ；トリハロ−低級アルカンスルホニルアミノ；低級アルキルチオ；低級アルキルスルフィニル；低級アルカンスルホニル；ピロル−１−イル；ピペリジン−１−イル；ピロリジン−１−イルおよび低級アルカノイルであるか、または二つの基Ｒ₃が共に、または二つの基Ｒ₄が共に低級アルキレンジオキシ；
Ａを記した環は５から９環原子を有し、少なくとも一つの飽和結合を有するヘテロシクロルであり、ＯおよびＳから選択される更なるヘテロ原子が、結合窒素原子に加えて存在することが可能である；
Ｂを記した環系は、５から９炭素原子を有する遊離またはベンゾ−、チエノ−、フロ−、ピロロ−またはジヒドロピロロ−融合炭素環であり、環Ａと融合し、不飽和であるか、部分的に飽和または全部飽和されていてもよい；そして
環システムＡとＢの間の平衡した点線で示した結合は、一重または二重結合である）
を有するヘテロシクリル〕
の化合物および少なくとも一つの塩形成基が存在する場合、その塩に関する。
上記および下記で使用する“低級”なる用語は、最大７まで（７を含む）、特に最大４まで（４を含む）炭素原子、および特に（逆に示されない限り）１または２炭素原子を有する基を意味する。
式Ｉの化合物が不整中心を有する場合、エナンチオマーの混合物の形であり得、数個の不整中心が存在する場合、ジアステレオ異性体混合物の形であり得る；二重結合が存在する場合、シス／トランス異性体が可能である。式Ｉの化合物は好ましくは純粋異性体である。
置換基が定義されていない炭素原子は、水素原子に結合している；置換基の数が変わるとき、炭素原子は、該炭素原子が中性であり、完全な電子オクテットをもたらすような数の、置換基および水素原子を有する。
低級アルキルは好ましくはｎ−ブチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、エチルまたは特にメチルである。
ハロゲンは、臭素、ヨウ素または好ましくはフッ素または特に塩素である。
モノハロ−、ジハロ−またはトリハロ−低級アルキルは特にトリフルオロメチルである。
低級アルコキシは、特にメトキシである。
モノハロ−、ジハロ−またはトリハロ−低級アルキルは特にモノフルオロ−、ジフルオロ−または（特に）トリフルオロ−メチルである。
低級アルコキシカルボニル−メトキシは特にメトキシカルボニル−メトキシである。
アミノ−低級アルキルは特にアミノメチルである。
フェニル−置換フェニルＲ₁またはＲ₂は、例えば、ビフェニリル、特に４−ビフェニリルである。
低級アルカノイルアミノは特にアセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ｎ−ブチリルアミノまたはイソブチリルアミノである。
低級アルコキシカルボニルアミノは特にメトキシカルボニルアミノまたはより特別にはtert−ブトキシカルボニルアミノである。
フェニル−低級アルコキシカルボニルアミノは好ましくはベンジルオキシカルボニルアミノである。
フロイルは特にフラン−２−カルボニルである。
チエニルカルボニルは特にチエニル−２−カルボニルである。
低級アルキルアミノは、例えば、プロピルアミノ、エチルアミノまたは特にメチルアミノである。
Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキルアミノは特にジメチルアミノである。
低級アルカノイルオキシは特にアセトキシである。
低級アルコキシカルボニルは特にtert−ブトキシカルボニルまたはより特別にはメトキシカルボニルである。
Ｎ−低級アルキル−カルバモイルは、例えば、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−（ｎ−ブチル）−カルバモイルまたはＮ−（２−メチル−ブト−１−イル）−カルバモイルである。
Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキル−カルバモイルは、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチル−カルバモイルである。
Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’−ジ−低級アルキルアミノ−メチリデン）−アミノは特にＮ−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルアミノ−メチリデン）−アミノである。
Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’−ジ−低級アルキルアミノ）−（低級アルキル）メチリデン）−アミノは特にＮ−（（Ｎ’，Ｎ’−ジ−メチルアミノ）−（イソプロピルアミノ）メチリデン）−アミノである。
Ｎ³−低級アルキルウレイドは特にＮ³−メチルウレイド（ＣＨ₃−Ｈ−（Ｃ＝Ｏ）−ＮＨ−）である。
Ｎ³，Ｎ³−ジ−低級アルキルウレイドは特にＮ³，Ｎ³−ジメチルウレイド（［（ＣＨ₃）₂−Ｎ−（Ｃ＝Ｏ）−ＮＨ−）である。
Ｎ³−低級アルキルチオウレイドは特にＮ³−メチルチオウレイド（ＣＨ₃−ＮＨ−（Ｃ＝Ｓ）−ＮＨ−）である。
Ｎ³，Ｎ³−ジ−低級アルキルチオウレイドは特にＮ³，Ｎ³−ジメチルチオウレイド（［（ＣＨ₃）₂−Ｎ−（Ｃ＝Ｓ）−ＮＨ−）である。
低級アルカンスルホニルアミノは特にＮ−メタンスルホニルアミノ（ＣＨ₃−（Ｓ｛＝Ｏ｝₂）−ＮＨ−）である。
非置換またはベンゼンまたはナフタレン環で低級アルキル−置換されているベンゼン−またはナフタレン−スルホニルアミノは特に４−トルエンスルホニルアミノまたはベンゼンスルホニル−アミノである。
置換フェニルＲ₁またはＲ₂は、１個またはそれ以上の置換基を有し得るが、好ましくは３置換基を超えず、それらは互いに同一または異なり得る。好ましくは、置換フェニルＲ₁またはＲ₂は、オルト−位または、好ましくは、メタ−またはパラ−位に唯一の置換基を有する。置換フェニルＲ₁またはＲ₂は好ましくは非置換フェニルである。
非置換またはハロ−または低級アルキル−置換ピリジルは特に２−ピリジルである。
Ｎ−ベンジル−ピリドニウムは特にＮ−ベンジル−ピリドニウム−２−イルである。
ナフチルは、例えば、２−ナフチルである。
低級アルカノイルは、例えば、イソブチリル、ブチリル、プロピオニルまたは特にアセチルである。
アミノ−低級アルキルは特に３−アミノプロピルである。
Ｎ−低級アルキル−アミノ−低級アルキルは特に３−（Ｎ−メチルアミノ）−プロピルである。
Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキルアミノ−低級アルキルは特に３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−プロピルである。
低級アルケニルは、好ましくは２から７個、特に２から４個の炭素原子を有し、好ましくはビニル、プロプ−１−エニルまたはプロプ−２−エニル（アリル）である。
低級アルケニルオキシは、例えば、ビニルオキシ、プロプ−１−エニルオキシまたはプロプ−２−エニルオキシ（アリルオキシ）である。
置換低級アルキルＲ₁またはＲ₂は、１個またはそれ以上の置換基を有し得るが、好ましくは３置換基を越えず、それらは同一または異なり得る。好ましくは、置換低級アルキルＲ₁またはＲ₂唯一の置換基を有する。
非置換またはフェニル部分をハロゲン、低級アルキル、ヒドロキシ、低級アルカノイルオキシ、低級アルコキシ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、カルバモイル、Ｎ−低級アルキル−カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキル−カルバモイル、シアノ、アミジノ、アミノ、アミノ−低級アルキル、低級アルカノイルアミノ、低級アルキルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキルアミノまたはトリフルオロメチルで置換されているフェニルアミノまたはフェニルにより置換されている低級アルキルは、特にこの方法でメチル置換されており、好ましくはアニリノ−メチルまたは４−メトキシアニリノ−メチル、または３−または４−アミノフェニル−メチルである。
式Ｒ₅−Ｓ（Ｏ_q）−（式中、Ｒ₅は低級アルキルおよびqは０、１または２である）により置換されている低級アルキルＲ₁またはＲ₂は、特にメタンスルホニル−メチルである。
Ｒ₁とＲ₂と共に形成され、非置換または低級アルキルにより置換されている２から５炭素原子を有するアルキレン鎖は、好ましくはプロピレンまたはブチレンである。
Ｒ₁およびＲ₂が非置換または置換アルキレン鎖以外の記載された基である、式Ｉの化合物が好ましい。
好ましくは二つの基Ｒ₁およびＲ₂は互いに独立して低級アルキル、またはＲ₂は上記のように非置換または置換フェニルであるが、Ｒ₁は水素または低級アルキル、特にメチルでもある。特に好ましい式Ｉの化合物において、Ｒ₁はメチルおよびＲ₂はメチル；またはＲ₁は水素またはメチルでもあり、Ｒ₂は非置換または特にアミノ、ニトロまたはメトキシにより置換されたフェニル、特に４−アミノフェニル、４−ニトロフェニルまたは４−メトキシフェニルである。
窒素原子を介して結合している式ＩＡのヘテロシクリルにおいて、mおよびnは互いに独立して０から３；好ましくはmは０または１およびnは０から３；および特に：n＋m＝０から３、およびより特別には：m＝０およびn＝０または１である。
低級アルキニルは特にＣ₂−Ｃ₇アルキニル、好ましくはエチニルのようなＣ₂−Ｃ₄アルキニルである。
トリ−低級アルキルシラニル−低級アルキニルは特にトリメチルシラニルエチニルである。
非置換またはハロゲン、ニトロ、トリハロ−低級アルキル、ヒドロキシまたは低級アルキルにより置換されているフェニルは、互いに独立して選択できる、記載の置換基を１個またはそれ以上、特に３個含むが、好ましくは１個の置換基を含む。非置換フェニルが好ましい。
チエニルは特に２−チエニルである。
非置換またはフェニル環をハロゲン、ニトロ、トリハロ−低級アルキル、ヒドロキシまたは低級アルキルにより置換されているフェニル−低級アルコキシは特にベンジルオキシである。
非置換またはベンゼン環をハロゲン、ニトロ、トリハロ−低級アルキル、ヒドロキシまたは低級アルキルで置換されているベンゾイルアミノは特に非置換ベンゾイルアミノである。
モノハロ−、ジハロ−またはトリハロ−低級アルキルカルボニルアミノは特にトリフルオロアセチルアミノである。
トリハロ−低級アルカンスルホニルアミノは特にトリフルオロメタンスルホニルアミノである。
低級アルキルチオは特にメチルチオである。
低級アルキルスルフィニル（低級アルキル−（Ｓ＝Ｏ）−）は特にメチル−またはエチル−スルフィニルである。
低級アルカンスルホニルは好ましくはメタンスルホニルである。
二つの基Ｒ₃により、または二つの基Ｒ₄により形成された低級アルキレンジオキシは、好ましくは二つの隣接した環原子を経由して結合し、特にメチレンジオキシである。低級アルキレンジオキシは特に二つの基Ｒ₄により形成される。
Ａで示した環は、５から９個の環原子を有し、少なくとも一つの飽和結合を有するヘテロシクリルであり、更に、結合窒素原子に加えてＯおよびＳから選択される更なる環ヘテロ原子が存在できる；好ましくは、結合窒素原子に加えて更なるヘテロ原子を含まない５−から８−員環、例えば２，３−ジヒドロピロル−１−イル、１，２，３，４−テトラヒドロピリジン−１−イル、２，３，４，５−テトラヒドロアゼピン−１−イルまたは１，２，３，４，５，６−ヘキサヒドロアゾシン−１−イルである。
Ｂで示した環系は、遊離またはベンゾ−、チエノ−、フロ−、ピロロ−またはジヒドロピロロ−融合炭素環式環であり、５から９個、好ましくは６個の炭素原子を有し、環Ａに（環を完全にする二つの隣接原子を介して）融合し、不飽和、部分的にまたは完全に飽和であり得、特にベンゾ、ナフト、ピロロ−融合ベンゾまたは２，３−ジヒドロピロロ−融合ベンゾである。
Ｑは特に２，３−ジヒドロインドール−１−イル、１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−１−イル、２，３，４，５−テトラヒドロ−１Ｈ−ベンゾ［ｂ］アゼピン−１−イル、１，２，３，４，５，６−ヘキサヒドロベンゾ［ｂ］アゾシン−１−イル、２，３，６，７，８，９−ヘキサヒドロ−１Ｈ−ベンゾ［ｇ］インドール−１−イル、１，２，３，５−テトラヒドロピロロ［２，３−f］インドル−１−イルまたは１，２，３，５，６，７−ヘキサヒドロ−ピロロ［２，３−ｆ］インドール−１−イルであり、それぞれ非置換または独立して低級アルキル、Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキルアミノ−低級アルキル、低級アルキニル、トリ−低級アルキルシラニル−低級アルキニル、ハロゲン、ニトロ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、イソチオシアナート、非置換フェニル、非置換フェニル−低級アルコキシ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、アミノ、アジド、低級アルカノイルアミノ、トリハロ−低級アルキルカルボニルアミノ、ピロル−１−イルおよびピロリジン−１−イルからなる群から選択される１から３個の基Ｒ₃またはＲ₄もしくはＲ₃とＲ₄、または二つの基Ｒ₄により形成され、隣接環原子に結合する低級アルキレンジオキシで置換されている；Ｑは特に２，３−ジヒドロインドール−１−イル、６−クロロ−２，３−ジヒドロインドール−１−イル、６−ブロモ−２，３−ジヒドロインドール−１−イル、６−メチル−２，３−ジヒドロインドール−１−イルまたは１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−１−イルである。
ＡおよびＢで示す環系の間の平衡した点線で示される結合は一重結合または二重結合であり、好ましくは二重結合である。
式Ｉの化合物の塩は、特に有機酸または無機酸との酸付加塩、特に薬理学的に許容される、非毒性塩である。適当な無機塩は、例えば、炭酸（好ましくはカーボネートまたはビカーボネートの形）；塩酸のようなヒドロハロ酸；硫酸；またはリン酸である。適当な有機酸は、例えば、カルボン酸、ホスホン酸、スルホン酸またはスルファミン酸、例えば酢酸、プロピオン酸、オクタン酸、デカン酸、ドデカン酸、グリコール酸、乳酸、２−ヒドロキシ酪酸、グルコン酸、グルコースモノカルボン酸、ギ酸、コハク酸、アジピン酸、ピメール酸、スベリン酸、アゼラン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、グルカール酸、ガラクタリン酸、グルタミン酸、アスパラギン酸、Ｎ−メチルグリシン、アセチルアミノ酢酸、Ｎ−アセチルアスパラギン酸またはＮ−アセチルシステインのようなアミノ酸、ピルビン酸、アセト酢酸、ホスホセリン、２−または３−グリセロリン酸、グルコース−６−リン酸、グルコース−１−リン酸、フルクトース−１，６−ビスリン酸、マレイン酸、ヒドロキシマレイン酸、メチルマレイン酸、シクロヘキサンカルボン酸、アダマンタンカルボン酸、安息香酸、サリチル酸、１−または３−ヒドロキシナフチル−２−カルボン酸、３，４，５−トリメトキシ安息香酸、２−フェノキシ安息香酸、２−アセトキシ安息香酸、４−アミノサリチル酸、フタル酸、フェニル酢酸、マンデル酸、桂皮酸、グルクロン酸、ガラクツロン酸、メタン−またはエタン−スルホン酸、２−ヒドロキシエタンスルホン酸、エタン−１，２−ジスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、２−ナフタレンスルホン酸、１，５−ナフタレン−ジスルホン酸、２−、３−または４−メチルベンゼンスルホン酸、メチル硫酸、エチル硫酸、ドデシル硫酸、Ｎ−シクロヘキシルスルファミン酸、Ｎ−メチル−、Ｎ−エチル−またはＮ−プロピル−スルファミン酸、またはアスコルビン酸のような他の有機プロトン性酸である。
少なくとも一つの遊離カルボキシ基を有する式Ｉの化合物は、アルカリ金属金属またはアルカリ土類金属塩のような、分子内塩または金属またはアンモニウム塩、例えばナトリウム、カリウム、マグネシウムまたはカルシウム塩またはアンモニアまたは３級モノアミン、例えばトリエチルアミンまたはトリ（２−ヒドロキシエチル）アミンのような適当な有機アミンとのアンモニウム塩、またはヘテロ環式塩基、例えばＮ−エチルピペリジンまたはＮ，Ｎ’−ジメチル−ピペラジンを形成できる。
単離または精製目的のために、薬理学的に許容されない塩、例えばピクリン酸または過塩素酸の使用もまた可能である。薬理学的に許容され、（使用する用量で）非毒性である塩のみが治療的に使用され、従って好ましい。
新規化合物（特に式Ｉ）の遊離形と、新規化合物の精製またはその同定の中間体として使用できるその塩を含む塩形の密接な関係の結果、上記および下記の遊離化合物に関する記載は、対応する塩、および溶媒和物、例えば、水和物も適当な場合、および好都合な場合、含むことは理解される。
式Ｉの化合物は、有効な薬理学的に許容される特性を示す。特に、それらは特異的阻害活性を示し、それが薬理学的興味である。それらは特にチロシンプロテインキナーゼの阻害剤および／または（更に）セリン／スレオニンプロテインキナーゼ阻害剤として作用する；それらは、例えば、上皮成長因子（ＥＧＦ）およびc-erbＢ２キナーゼの受容体のチロシンキナーゼ作用を強力に阻害する。それらの受容体特異的酵素活性は、ヒト細胞、特に上皮細胞、免疫系の細胞ならびに中枢および末梢神経系細胞を含む多くの哺乳類細胞の信号伝達に重要な役割を担う。例えば、種々の細胞タイプにおける受容体関連チロシンプロテインキナーゼ（ＥＧＦ−Ｒ−ＰＴＫ）のＥＧＦ−誘導活性は、細胞分割および従って、細胞集団の増加に必須である。ＥＧＦ−受容体特異的チロシンキナーゼ阻害剤の投与は、従って、細胞の複製を阻害する。同じことが、上記および下記の他のプロテインキナーゼでも同様にあてはまる。
ＥＧＦ−受容体−特異的チロシンプロテインキナーゼ（ＥＧＦ−Ｒ−ＰＴＫ）の阻害は既知の方法を使用して、例えばＥＧＦ受容体の組み換え細胞内ドメイン（ＥＧＦ−Ｒ ＩＣＤ；、例えば、Ｅ．ＭcＧlynn et al，Ｅurop．Ｊ．Ｂiochem．２０７、２６５−２７５（１９９２）参照）を使用して、証明できる。式Ｉの化合物は、酵素活性を阻害剤なしのコントロールと比較して５０％（ＩＣ₅₀）、例えば０．００１から２０μＭ、特に０．０１から５μＭの濃度で阻害する。
ＥＧＦ受容体のＥＧＦ−刺激細胞性チロシンリン酸化における式Ｉの化合物の作用は、ヒトＡ４３１上皮細胞癌細胞で、Ｕ．Trinks，et al，Ｊ．Ｍed．Ｃhem．３７（７）、１０１５−１０２７（１９９４）により記載のELISAの手段で測定できる。この試験（ＥＧＦＲ−ＥＬＩＳＡ）において、式Ｉの化合物は、ナノモルからマイクロモルの濃度で阻害を示す。
休止ＢＡＬＢ／c３Ｔ３細胞のＥＧＦによる刺激は、急速なc−fos mＲＮＡの発現をもたらす。細胞のＥＧＦ刺激前の式Ｉの化合物による前処理は、c−fos発現の阻害ができる。試験法は、Ｕ．Ｔrinks et al，Ｊ．Ｍed．Ｃhem．３７（７）、１０１５−１０２７（１９９４）に記載のものと同様である。
マイクロモル範囲で、式Ｉの化合物はまた、例えば、ＥＧＦ−依存的細胞系、例えば類上皮ＢＡＬＢ／cマウスケラチン生成細胞系（Ｗeissmann，Ｂ．Ａ．，およびＡaronson、Ｓ．Ａ．、Ｃell ３２、５９９（１９８３）参照）またはＥＧＦ−依存的上皮細胞の標準源として有用であることが認められている（Ｃarpenter，Ｇ．，およびＺendegni，Ｊ．Ａnal．Ｂiochem．１５３，２７９−２８２（１９８５）参照）Ａ４３１細胞系の細胞生育の阻害も示す。既知の試験法において（Ｍeyer et al，Ｉnt．Ｊ．Ｃancer ４３，８５１（１９８９）参照）、式Ｉの化合物の阻害活性は簡単に、下記のように測定される：ＢＡＬＢ／ＭＫ細胞（１００００／マイクロタイタープレートウェル）を９６−ウェルマイクロタイタープレートに移す。試験化合物（ＤＭＳＯに溶解）を連続した濃度（連続希釈）で添加しＤＭＳＯの最終濃度が１％（v/v）を超えないようにする。添加の後、プレートを３日間インキュベートし、その間、試験化合物なしのコントロール培養は少なくとも３回の細胞分割が可能である。ＭＫ細胞の生育は、メチレンブルー染色の手段により測定する：インキュベーションの後、細胞をグルタールアルデヒドで固定し、０．０５％メチレンブルーで染色する。洗浄段階の後、染色液を３％ＨＣｌで溶出させ、マイクロタイタープレートのウェルあたりの光学密度をＴitertek multiskanを使用してで６８５nmで行う。ＩＣ₅₀値を、式
ＩＣ₅₀＝［（ＯＤ_試験−ＯＤ_開始）／（ＯＤ_{コントロール}−ＯＤ_開始）］×１００
のコンピューター補助システムの手段により得る。
これらの実験のＩＣ₅₀値は、阻害剤なしのコントロールと比較して、細胞の数の５０％減少をもたらす使用試験化合物の濃度と定義される。式Ｉの化合物は、マイクロモル範囲で阻害作用を有し、特に０．１から５０μＭのＩＣ₅₀を有する。
式Ｉの化合物はまた、例えば、下記に記載の試験で示されるように腫瘍細胞の生育をインビボで阻害できる：試験は、ヒト類上皮癌Ａ４３１（ＡＴＣＣ Ｎo．ＣＲＬ１５５５；アメリカン・タイプ・カルチャー・コレクション、ロックビル、メリーランド、ＵＳＡ；Ｓanton，Ｊ．Ｂ．，et al．、Ｃancer Ｒesearch ４６、４７０１−４７０５（１９８６）およびＯzawa，Ｓ．，et al、Ｉnt．Ｊ．Ｃancer ４０、７０６−７１０（１９８７）参照）の生育の阻害を基にしており、それをメスＢＡＬＢ／c裸マウス（Ｂomholtgard、Ｄenmark）に移植する。この癌は、ＥＧＦ受容体の発現の程度と相関した生育を示す。本実験において、インビボで生育した約１cm³容量の腫瘍を外科的に滅菌条件下で実験動物から除く。これらの腫瘍を粉砕し、１０容量（ｗ／v）のリン酸緩衝食塩水に懸濁する。懸濁液を動物の左横腹にs.c.（０．２ml／マウス、リン酸緩衝食塩水中）で注射する。あるいは、０．２mlリン酸緩衝食塩水のインビトロ培養由来の１×１０⁶細胞を注射できる。式Ｉの試験化合物での処理は、腫瘍が４−５mmの直径に達した時、移植後５または７日後に開始する。使用する試験化合物は、（異なる動物群に異なる容量）1日１回、連続１５日投与する。腫瘍生育を互いに垂直3軸に沿って腫瘍の直径を測定することにより決定する。腫瘍の容量を、既知の式p×Ｌ×Ｄ²／６（Ｅvans，Ｂ．Ｄ．，et al、Ｂrit．Ｊ．Ｃancer ４５、４６６−４８８（１９８２）参照）を使用して計算する。結果は、処置／コントロール割合（Ｔ／Ｃ×１００＝Ｔ／Ｃ％）として示す。
ＥＧＦ受容体チロシンプロテインキナーゼの阻害に加えて、またはその変わりに、式Ｉの化合物は、栄養要求因子により介在される信号伝達に関与する他のチロシンプロテインキナーゼ、例えば、特にv−ablキナーゼ（ＩＣ₅₀が例えば、０．０１から５μＭ）のようなablキナーゼ、特にc−srcキナーゼ（ＩＣ₅₀、例えば、０．０１から１０μＭ）、およびまたlckおよびfynのようなsrcキナーゼファミリーのキナーゼ；ＥＧＦファミリーの他のキナーゼ、例えばc−erbＢ２キナーゼ（ＨＥＲ−２）、c−erbＢ３キナーゼ、c−erbＢ４キナーゼ；ＰＤＧＦチロシンプロテインキナーゼファミリーのメンバー、例えば、ＰＤＧＦ受容体、ＣＳＦ−１、Ｋit、ＶＥＧＦ−ＲおよびＦＧＦ−Ｒ；およびインシュリン様成長因子受容体キナーゼ（lＧＦ−１−キナーゼ）、およびまたセリン／スレオニンキナーゼ、例えばプロテインキナーゼＣも阻害し、この全てはヒト細胞を含む哺乳類細胞の増殖調節および形質転換に役割を担う。最後に、式Ｉの化合物はまた血管形成の阻害にも使用できる。
上記のv−ablチロシンキナーゼの阻害は、Ｎ．Ｌydon et al，Ｏncogene Ｒesearch ５、１６１−１７３（１９９０）およびＪ．Ｆ．Ｇeissler et al，Ｃancer Ｒesearch ５２，４４９２−４４９８（１９９２）の方法に従って、［Ｖal⁵］−アンギオテンシンIIおよび［γ−³²Ｐ］−ＡＴＰを基質として使用して測定する。
c−erbＢ２チロシンキナーゼ（ＨＥＲ−２）の阻害は、例えば、ＥＧＦ−Ｒ−ＰＴＫ（Ｃ．Ｈouse et al、Ｅurop．Ｊ．Ｂiochem．１４０，３６３−３６７（１９８４）に使用した方法と同様にして測定できる。c−erbＢ２キナーゼは単離でき、それ自体既知のプロトコールに従って、例えばＴ．Ａkiyama et al，Ｓcience ２３２、１６４４（１９８６）に従って、その活性を測定できる。
上皮成長因子（ＥＧＦ）受容体でチロシンキナーゼ活性を阻害する、または更に他の記載チロシンプロテインキナーゼまたはセリン／スレオニンキナーゼも阻害できる式Ｉの化合物は、従って、例えば、良性または悪性腫瘍（例えば、腎臓、肝臓、副腎、膀胱、乳、胃、卵巣、大腸、直腸、前立腺、膵臓、肺、膣または甲状腺の癌、肉腫、グリア芽細胞腫ならびに多くの頭頚腫瘍）の処置に使用できる。それらは、腫瘍の縮小をもたらすか、または腫瘍転移の形成および転移癌（微小も）の成長を抑制する。より具体的に、それらは上皮過増殖（乾癬）、前立腺肥大、腫瘍形成（特に上皮性性質の）、例えば乳癌の処置において、および白血病の処置において使用できる。式Ｉの化合物を、数個または特に、個々のチロシンプロテインキナーゼおよび／または（更に）セリン／スレオニンプロテインキナーゼが関与する限り、免疫系の疾患の処置にも使用することが可能である；式Ｉの化合物は、少なくともひとつのチロシンプロテインキナーゼおよび／または（更に）セリン／スレオニンプロテインキナーゼが関与する、中枢または末梢神経系の疾患の処置にもまた使用できる。
一般に、本発明はまた式Ｉの化合物の、該プロテインキナーゼの阻害における使用にも関する。
本発明の化合物はそれ自体でまたは他の薬理学的に活性な物質と組み合わせて、例えばポリアミン生合成の酵素の阻害剤、プロテインキナーゼＣの阻害剤、他のチロシンキナーゼの阻害剤、サイトカイン、負の増殖調節剤、例えばＴＧＦ−βまたはＩＦＮ−β、アロマターゼ阻害剤、アンチオエストロゲンおよび／または静細胞剤と共に使用できる。
下記の本発明の好ましい主題において、適当および簡便である場合、より一般的な定義に代えて、最初により具体的な記載を使用できる。
式中、Ｒ₁およびＲ₂が互いに独立して低級アルキル；モノハロ−、ジハロ−またはトリハロ−低級アルキル；低級アルコキシ；非置換またはハロゲン、モノハロ−、ジハロ−またはトリハロ−低級アルキル、カルバモイル−メトキシ、カルボキシ−メトキシ、ベンジルオキシカルボニル−メトキシ、低級アルコキシカルボニル−メトキシ、フェニル、アミノ、アミノ−低級アルキル、低級アルカノイルアミノ、低級アルコキシカルボニルアミノ、フェニル−低級アルコキシカルボニルアミノ、フロイル、チエニルカルボニル、Ｎ−低級アルキルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキルアミノ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルカノイルオキシ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、カルバモイル、Ｎ−低級アルキル−カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキル−カルバモイル、シアノ、アミジノ、Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’−ジ−低級アルキルアミノメチリデン）−アミノ、Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’−ジ−低級アルキルアミノ）−（低級アルキル）−メチリデン）−アミノ、グアニジノ、ウレイド、Ｎ³−低級アルキルウレイド、Ｎ³，Ｎ³−ジ−低級アルキルウレイド、チオウレイド、Ｎ³−低級アルキルチオウレイド、Ｎ³，Ｎ³−ジ−低級アルキルチオウレイド、低級アルカンスルホニルアミノ、非置換またはベンゼンまたはナフタレン環を低級アルキル−置換されているベンゼン−またはナフタレン−スルホニルアミノ、アジドまたはニトロにより置換されているフェニル；水素；非置換またはハロ−または低級アルキル−置換ピリジル；Ｎ−ベンジル−ピリドニウム；ナフチル；シアノ；カルボキシ；低級アルコキシカルボニル；カルバモイル；Ｎ−低級アルキル−カルバモイル；Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキル−カルバモイル；Ｎ−ベンジル−カルバモイル；ホルミル；低級アルカノイル；低級アルケニル；低級アルケニルオキシ；またはハロゲン、アミノ、低級アルキルアミノ、ピペラジノ、ジ−低級アルキルアミノ、フェニルアミノまたはフェニル（フェニル部分は、それぞれ非置換またはハロゲン、低級アルキル、ヒドロキシ、低級アルカノイルオキシ、低級アルコキシ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、カルバモイル、Ｎ−低級アルキル−カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキル−カルバモイル、シアノ、アミジノ、アミノ、アミノ−低級アルキル、低級アルカノイルアミノ、低級アルキルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキルアミノまたはトリフルオロメチルにより置換されている）、ヒドロキシ、低級アルコキシ、シアノ、カルボキシ、低級アルコキシ−カルボニル、カルバモイル、Ｎ−低級アルキル−カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキル−カルバモイル、メルカプトまたは式Ｒ₅−Ｓ（Ｏ_q）−（式中、Ｒ₅は低級アルキルおよびqは０、１または２）により置換されている低級アルキル、そして
Ｑは２，３−ジヒドロインドール−１−イル；および好ましくは１，２，３，４−テトラ−ヒドロキノリン−１−イル、２，３，４，５−テトラヒドロ−１Ｈ−ベンゾ［ｂ］アゼピン−１−イル、１，２，３，４，５，６−ヘキサヒドロベンゾ−［ｂ］アゾシン−１−イル、２，３，６，７，８，９−ヘキサヒドロ−１Ｈ−ベンゾ［ｇ］インドール−１−イル、１，２，３，５−テトラヒドロピロロ［２，３−f］インドール−１−イルおよび１，２，３，５，６，７−ヘキサヒドロ−ピロロ［２，３−f］インドール−１−イルから選択される式ＩＡの基；記載の基は、非置換または互いに独立して選択された低級アルキル、Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキルアミノ−低級アルキル、低級アルキニル、トリ−低級アルキルシラニル−低級アルキニル、ハロゲン、ニトロ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、イソチオシアナート、非置換フェニル、非置換フェニル−低級アルコキシ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、アミノ、アジド、低級アルカノイルアミノ、トリハロ低級アルキルカルボニルアミノ、ピロル−１−イルおよびピロリジン−１−イルから選択された１から３個（即ちｍ＋ｎ＝０から３）の基Ｒ₃またはＲ₄もしくはＲ₃およびＲ₄で置換されるかまたは二つの基Ｒ₄から形成され、隣接環原子に結合している低級アルキレンジオキシにより置換されている；Ｑは特に２，３−ジヒドロインドール−１−イル、６−クロロ−２，３−ジヒドロインドール−１−イル、６−ブロモ−２，３−ジヒドロインドール−１−イル、６−メチル−２，３−ジヒドロ−インドール−１−イルまたはより特別には１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−１−イルである；
式Ｉの化合物、または少なくとも一つの塩形成基が存在する場合、その塩が好ましい。
式中、Ｒ₁およびＲ₂が互いに独立して、水素、メチルのような低級アルキル、および非置換またはハロゲン、モノハロ−、ジハロ−またはトリハロ−低級アルキル、カルバモイル−メトキシ、カルボキシ−メトキシ、ベンジルオキシカルボニル−メトキシ、低級アルコキシカルボニル−メトキシ、フェニル、アミノ、アミノ−低級アルキル、低級アルカノイルアミノ、低級アルコキシカルボニルアミノ、フェニル−低級アルコキシカルボニルアミノ、フロイル、チエニルカルボニル、Ｎ−低級アルキルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキルアミノ、ヒドロキシ、低級アルカノイルオキシ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、カルバモイル、Ｎ−低級アルキル−カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキル−カルバモイル、シアノ、アミジノ、Ｎ−（Ｎ’，Ｎ−ジ−低級アルキルアミノメチリデン）−アミノ、Ｎ−（（Ｎ’，Ｎ’−ジ−低級アルキルアミノ）−（低級アルキル）−メチリデン）アミノ、グアニジノ、ウレイド、Ｎ³−低級アルキルウレイド、Ｎ³，Ｎ³−ジ−低級アルキルウレイド、チオウレイド、Ｎ³−低級アルキルチオウレイド、Ｎ³，Ｎ³−ジ−低級アルキルチオウレイド、低級アルカンスルホニルアミノ、非置換またはベンゼンまたはナフタレン部分を低級アルキル−置換されているベンゼン−またはナフタレン−スルホニルアミノ、アジドまたはニトロにより置換されているフェニル、そして
Ｑは２，３−ジヒドロインドール−１−イル；および好ましくは１，２，３，４−テトラ−ヒドロキノリン−１−イル、２，３，４，５−テトラヒドロ−１Ｈ−ベンゾ［ｂ］アゼピン−１−イル、１，２，３，４，５，６−ヘキサヒドロベンゾ−［ｂ］アゾシン−１−イル、２，３，６，７，８，９−ヘキサヒドロ−１Ｈ−ベンゾ［ｇ］イントール−１−イル、１，２，３，５−テトラヒドロピロロ−［２，３−f］インドール−１−イルおよび１，２，３，５，６，７−ヘキサヒドロ−ピロロ［２，３−f］インドール−１−イルからなる群から選択される式ＩＡの化合物；記載の基は、それぞれ非置換または互いに独立して低級アルキル、Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキルアミノ−低級アルキル、低級アルキニル、トリ−低級アルキルシラニル−低級アルキニル、ハロゲン、ニトロ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、イソチオシアナート、非置換フェニル、非置換フェニル−低級アルコキシ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、アミノ、アジド、低級アルカノイルアミノ、トリハロ−低級アルキルカルボニルアミノ、ピロル−１−イルおよびピロリジン−１−イルからなる群から選択される１から３個の基Ｒ₃またはＲ₄もしくはＲ₃およびＲ₄で置換されるか、または二つの基Ｒ₄により形成され、隣接環原子に結合している低級アルキレンジオキシにより置換される；Ｑは特に２，３−ジヒドロインドール−１−イル、６−クロロ−２，３−ジヒドロインドール−１−イル、６−ブロモ−２，３−ジヒドロインドール−１−イル、６−メチル−２，３−ジヒドロインドール−１−イルまたは特に１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−１−イル
である式Ｉの化合物またはその塩が特に好ましい。
式中、二つの基Ｒ₁およびＲ₂が互いに独立して低級アルキル、好ましくはそれぞれメチル；またはＲ₁は水素そしてＲ₂は非置換または特にアミノ、ニトロまたはメトキシにより置換されているフェニル、特に４−アミノフェニル、４−ニトロフェニルまたは４−メトキシフェニル；そして
Ｑは２，３−ジヒドロインドール−１−イル、６−クロロ−２，３−ジヒドロインドール−１−イル、６−ブロモ−２，３−ジヒドロインドール−１−イル、６−メチル−２，３−ジヒドロインドール−１−イルまたは特に１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−１−イル；
である化合物が非常に好ましい。
実施例に記載の式Ｉの化合物および薬理学的に許容されるその塩が最も好ましい。
式Ｉの化合物およびその塩は、それ自体既知の方法で製造される。本発明の方法は下記の通りである：
a）式II

〔式中、Ｘは適当な脱離基、Ｚは水素または１−アリール−低級アルキルそして他の置換基は、上記式Ｉに関して定義の通り、基Ｒ₁およびＲ₂に存在する遊離官能基は、必要であれば容易に除去できる保護基により保護する〕
のピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン誘導体を、式III
Ｑ−Ｈ （III）
〔式中、Ｑは上記式Ｉで定義の通り、基Ｑに存在する遊離官能基は、必要であれば容易に除去できる保護基により保護する〕
のアザ化合物と反応させ、保護基および存在する場合、１−アリール−低級アルキル基Ｚを除去する、または
b）式IV

〔式中、Ｚ’は１−アリール−低級アルキルおよびＲ₁およびＲ₂は上記式Ｉで定義の通り、基Ｒ₁およびＲ₂に存在する遊離官能基は、必要であれば、容易に除去できる保護基で保護する〕
のピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン−４−オン誘導体を、脱水剤および３級アミン（これは、好ましくは強酸との塩の形である）の存在下、上記式IIIのアザ化合物と反応させ、存在する保護基を除去する；
そして、必要であれば、変法a）およびb）を行った後、式Ｉの化合物を異なる式Ｉの化合物に変換する；および／または、必要であれば、塩の形成のために、得られた遊離の式Ｉの化合物を塩に変換するか、または、必要であれば、遊離化合物の製造のために、得られた塩の化合物を遊離化合物に変換する；または、式Ｉの入手可能な塩を、式Ｉの異なる塩に変換する。
好ましい方法の詳細な説明
上記の方法を、より詳細に下記に示す（Ｇerman Ｏffenlegungsschrift Ｎo．３０３６３９０、１９８２年５月１３日発行、Ａ．Ｊorgensen et al，Ｊ．Ｈeterocycl．Ｃhem．２２、８５９［１９８５］もまた参照）。以下のより詳細な記載において、特記しない限り、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｑ、Ｒ₃およびＲ₄および変数ｍおよびｎは式Ｉで定義の意味である。
一般的注意：
式Ｉの最終生産物は、他の式Ｉの最終生産物の製造のための出発物質中の保護基としても使用できる置換基を含み得る。本明細書の範囲において、内容が他のことを示さない限り、“保護基”なる用語は、使用する所望の式Ｉの最終生産物の構成要素ではない容易に除去できる基のみを意味するために使用する。
工程a）
式IIの化合物において、適当な脱離基Ｘは好ましくは臭素、ヨウ素または特に塩素のようなハロゲンである。１−アリール−低級アルキルＺは、好ましくは、特に１−フェニルエチルまたはより特別にはベンジルのような１−フェニル−低級アルキルである。
必要であれば、容易に除去できる保護基により保護する基Ｒ₁およびＲ₂およびまたＱに存在する遊離官能基は、特にアミノまたは低級アルキルアミノ、またはヒドロキシでもある。
保護基およびそれらを導入および除去する方法は、例えば、“Ｐrotective Ｇroups in Ｏrganic Ｃhemistry”、Ｐlenum Ｐress、Ｌondon、Ｎew Ｙork １９７３、および“Ｍethoden der organischen Ｃhemie”、Ｈouben−Ｗeyl、第４版、Ｖol．１５／１、Ｇeorg−Ｔhieme−Ｖerlag、Ｓtuttgart １９７４、およびＴheodora Ｗ．Ｇreene、“Ｐrotective Ｇroups in Ｏrganic Ｓynthesis”、Ｊohn Ｗiley＆Ｓons、Ｎew Ｙork １９８１に記載されている。容易に除去でき、即ち、望ましくない副反応なしに、例えば、加溶媒分解、還元、光分解または生理学的条件下で行うことが保護基の特徴である。
保護アミノ基は、例えば、容易に開裂できるアシルアミノ、アリールメチルアミノ、エーテル化メルカプトアミノまたは２−アシル−低級アルコ−１−エニルアミノ基である。
このようなアシルアミノ基において、アシルは、例えば、例えば、１８までの炭素原子を有する有機カルボン酸のアシル基、特に非置換または置換、例えばハロ−またはアリール−置換、アルカンカルボン酸または非置換または置換、例えばハロ−、低級アルコキシ−またはニトロ−置換、安息香酸、またはカルボン酸セミエステルである。このようなアシル基は、例えば、ホルミル、アセチルまたはプロピオニルのような低級アルカノイル、２−ハロアセチル、特に２−クロロ−、２−ブロモ−、２−ヨード−、２，２，２−トリフルオロ−または２，２，２−トリクロロ−アセチルのようなハロ−低級アルカノイル、非置換または置換、例えばハロ−、低級アルコキシ−またはニトロ−置換、ベンゾイル、例えばベンゾイル、４−クロロベンゾイル、４−メトキシベンゾイルまたは４−ニトロベンゾイル、または低級アルキル基の１位が分枝であるか、または１位または２位を適当に置換された低級アルコキシカルボニル、特にtert−低級アルコキシカルボニル、例えばtert−ブトキシカルボニル、非置換または置換ベンジルオキシカルボニル、好ましくは非置換または、例えば、低級アルキル、特にtert−ブチルのようなtert−低級アルキル、メトキシのような低級アルコキシ、ヒドロキシ、塩素のようなハロゲン、および／またはニトロによりモノ−またはポリ−置換されているフェニルである１個または２個のアリール基を有するアリールメトキシカルボニル、例えば４−ニトロベンジルオキシカルボニル、または置換ジフェニルメトキシカルボニル、例えばベンズヒドロキシカルボニルまたはジ（４−メトキシフェニル）−メトキシカルボニル、アロイルメトキシカルボニル（ここで、アロイル基は好ましくは非置換または臭素のようなハロゲンにより置換されているベンゾイル、例えばフェナシルオキシカルボニル）、２−ハロ−低級アルコキシカルボニル、例えば２，２，２−トリクロロ−エトキシカルボニル、２−ブロモエトキシカルボニルまたは２−ヨードエトキシカルボニル、または２−（トリ置換シリル）−エトキシカルボニル、ここで、置換基は互いに非置換または、例えば低級アルキル−、低級アルコキシ−、アリール−、ハロ−またはニトロ−置換された、１５炭素原子までを有する脂肪族、アラリファティック、環状脂肪族または芳香族炭化水素、例えば、対応する非置換または置換低級アルキル、フェニル−低級アルキル、シクロアルキルまたはフェニル、例えば２−トリメチルシリルエトキシカルボニルまたは２−（ジ−ｎ−ブチル−メチル−シリル）−エトキシカルボニルのような２−トリ−低級アルキルシリル−エトキシカルボニル、または２−トリアリールシリル−エトキシカルボニル、例えば２−トリフェニルシリルエトキシカルボニルである。
モノ−、ジ−または特にトリ−アリールメチルアミノ基であるアリールメチルアミノ基において、アリール基は特に非置換または置換フェニル基である。このような基は、例えば、ベンジル−、ジフェニルメチル−または特にトリチル−アミノである。
このような基により保護されているアミノ基のエーテル化メルカプト基は、特にアリールチオまたはアリール−低級アルキルチオ（ここで、アリールは特に非置換または、例えばメチルまたはtert−ブチルのような低級アルキル、メトキシのような低級アルコキシ、塩素のようなハロゲンおよび／またはニトロにより置換されているフェニルである）である。このようなアミノ−保護基の一つは、例えば、４−ニトロフェニルチオである。
アミノ−保護基として使用できる２−アシル−低級アルコ−１−エン−１−イル基において、アシルは、例えば、低級アルカンカルボン酸、非置換または、例えば、メチルまたはtert−ブチルのような低級アルキル、メトキシのような低級アルコキシ、塩素のようなハロゲンおよび／またはニトロにより置換されている安息香酸、または特にカルボン酸低級アルキルセミエステルのようなカルボン酸セミエステルの対応する基である。このような保護基は、特に１−低級アルカノイル−プロプ−１−エン−２−イル、例えば１−アセチル−プロプ−１−エン−２−イル、または１−エトキシカルボニル−プロプ−１−エン−２−イルのような１−低級アルコキシカルボニル−プロプ−１−エン−２−イルである。
好ましいアミノ−保護基は、カルボン酸セミエステル、特にtert−ブチルオキシカルボニル、非置換または例えば、示すように置換された、ベンジルオキシカルボニル、例えば４−ニトロ−ベンジルオキシカルボニル、またはジフェニルメトキシカルボニル、または２，２，２−トリクロロエトキシカルボニルのような２−ハロ−低級アルコキシカルボニルのアシル基、およびまたトリチルまたはホルミルである。
式IIの誘導体と式IIIのアザ化合物の間の反応は、適当には不活性極性溶媒、特にアルコール、例えばメタノール、プロパノール、イソプロパノールまたは特にエタノールまたはｎ−ブタノールのような低級アルカノールである。ある場合、１，３−ジメチル−３，４，５，６−テトラヒドロ−２（１Ｈ）−ピリミジノン（ＤＭＰＵ）のような溶解剤の添加が、有利である。反応は上昇した温度、例えば７０から１５０℃の範囲の温度で、好ましくは還流条件下で行う。立体的に妨害された式IIIの化合物（例えば２−低級アルキル−インドリン）を使用するこれらの化合物の製造のために、tert−ブタノールまたはジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドまたはＮ−メチルピロリジン−２−オンのような非プロトン性溶媒の、溶媒としての使用が好ましい。必要であれば、塩基、例えばアルカリ金属またはアルカリ土類金属炭酸塩またはヒドロキシド、またはピリジン、２，６−ルチジン、コリジン、Ｎ−メチル−モルホリン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、４−ジメチルアミノピリジンまたはＮ，Ｎ−ジメチル−アニリンのような３級窒素塩基を添加する。
式IIの化合物中のＺが１−アリール−低級アルキルである場合、この基は式Ｉの化合物の得られる前駆体で除去される（窒素原子上の水素原子の代わりのＺと共に）。これは、例えば、塩酸、リン酸またはポリリン酸のようなプロトン性酸と、２０℃から１５０℃の好ましい温度で、所望により水の存在下（これは特にＺ＝１−フェニルエチルで好ましい）処理することにより行う；または好ましくはルイス酸、特にＡlＣl₃、と芳香族溶媒中、特にベンゼンおよび／またはトルエン中、上昇した温度で、特に還流下行う［これは、特にＺ＝ベンジルの時好ましい；Ｃhem．Ｐharm．Ｂull．３９（５）、１１５２（１９９１）の類似工程もまた参照］。
保護基の除去
式Ｉの所望の最終生産物の構成要素ではない保護基の除去は、それ自体既知の方法、例えば加溶媒分解、特に加水分解、アルコール分解または酸分解、または還元の手段、特に水素化分解または化学的還元により、所望により段階的にまたは同時に行う。除去は、好ましくは上記の標準文献に記載の方法に従って、またはそれと類似に行う。
保護アミノ基は、例えば、例えば、それ自体既知の方法で、保護基の性質に依存して、種々の方法で、好ましくは加溶媒分解または還元により、遊離できる。２−ハロ−低級アルコキシカルボニルアミノ（適当な２−ブロモ−低級アルコキシカルボニルアミノ基の２−ヨード−低級アルコキシカルボニルアミノ基への変換後）、アロイルメトキシ−カルボニルアミノまたは４−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノは、例えば、水性酢酸のような適当なカルボン酸の存在下、亜鉛のような適当な化学的還元剤で開裂できる。アロイルメトキシカルボニルアミノはまた、求核性の、好ましくは塩形成性試薬、例えばナトリウムチオ−フェノラートでの処理により、および４−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノはまたアルカリ金属ジチオナイト、例えばナトリウムジチオナイトでの処理により開裂できる。非置換または置換ジフェニルメトキシ−カルボニルアミノ、tert−低級アルコキシカルボニルアミノまたは２−トリ置換シリルエトキシカルボニルアミノは、適当な酸、例えばギ酸またはトリフルオロ酢酸で開裂できる；非置換または置換ベンジルオキシカルボニルアミノは、例えば、水素化分解の手段により、即ち、パラジウム触媒のような適当な水素化触媒の存在下、水素で処理することにより開裂できる；非置換または置換トリアリール−メチルアミノまたはホルミルアミノは、例えば、無機酸、例えば塩酸、または有機酸、例えばギ酸、酢酸またはトリフルオロ酢酸のような酸との、適当な場合、水の存在下での処理により、および有機シリル基により保護されているアミノ基は、例えば、加水分解またはアルコール分解により遊離できる。２−ハロアセチル、例えば２−クロロアセチルにより保護されているアミノ基は、塩基存在下、チオウレアでの処理により、またはチオウレアのアルカリ金属チオレートのようなチオレート塩での処理、続く得られる縮合生産物のアルコール分解または加水分解のような加溶媒分解により遊離できる。２−置換シリルエトキシカルボニルにより保護されているアミノ基は、フッ素アニオンを形成するフッ化水素酸の塩での処理により、遊離アミノ基にまた変換できる。
工程b）
式IVの１−アリール−低級アルキルＺ’は特に１−フェニルエチルおよびまたベンジルである。
式IVの化合物は、互変異性体の平衡（ラクタム／ラクチム形）であり、ラクタム形（式IV）が優勢であると考えられる。式IVは二つの可能な形を示すために使用する。
ラクチムは式IVa

〔式中、基は式IVの化合物で定義した意味である〕
を有する。
使用する脱水剤は、強化学脱水剤、より具体的には五酸化リン（Ｐ₄Ｏ₁₀）である。
適当な３級アミンは特に互いに独立してアルキル、特にメチルまたはエチルのような低級アルキルおよび３から７個の炭素原子を有するシクロアルキル、特にシクロヘキシル、例えばＮ，Ｎ−ジ−メチル−Ｎ−シクロヘキシルアミン、Ｎ−エチル−Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミンまたはトリエチルアミンで置換されたアンモニア、またはピリジン、Ｎ−メチルモルホリンまたは４−ジメチルアミノピリジンでもある。
３級アミンは好ましくは強酸、好ましくは硫酸、リン酸または特に塩化水素のような水素化ハライドとの塩である。
式IVのピロロ−ピリミジノン化合物と、式IIIのアザ化合物の間の反応は、上昇した温度、例えば２００から２５０℃で行う。
付加的工程
所望である付加的工程において、反応に関与することを意図しない出発物質の官能基は、非保護であるかまたは保護形であり得る；例えばそれらは上記の１個またはそれ以上の保護基で保護し得る。保護基は、最終生産物から、“保護基の除去”の標題の元に述べた方法の一つに従って、同時にまたは連続して除去し得る。
式Ｉの化合物の異なる式Ｉの化合物への変換は、特に式Ｉの置換基の変換におり行う。
例えば、式中、Ｒ₁はジメチルアミノ−メチルおよび他の置換基は上記式Ｉの化合物で定義した意味である式Ｉの化合物の製造のために、対応するＲ₁は水素および他の置換基は上記式Ｉの化合物で定義した意味であり、存在する更なる遊離官能基は必要であれば容易に除去できる保護基により保護されている式Ｉの化合物をＮ，Ｎ−ジ−メチル−メチレンイモニウムヨウジドと反応させ、存在する保護基を除去する。反応は、適当な不活性溶媒、例えば特にテトラヒドロフランのような環状エーテルのような適当なエーテル中、除湿して、上昇した温度で、好ましくは還流下行う。
式中、少なくとも一つの基Ｒ₁およびＲ₂はヒドロキシ−置換フェニルおよび／または少なくとも一つの基Ｒ₃およびＲ₄はヒドロキシおよび他の基は上記式Ｉで定義した意味である式Ｉの製造のために、対応する式中、少なくとも一つの基Ｒ₁およびＲ₂は低級アルコキシ−置換、特にメトキシ−置換、フェニルおよび／または少なくとも一つの基Ｒ₃およびＲ₄は低級アルコキシおよび他の置換基は上記式Ｉで定義の意味であり、存在する更なる遊離基を必要であれば容易に除去できる保護基で保護している式Ｉの化合物をボロントリブロミドまたはアルミニウム（III）クロライドと反応させ、存在する保護基を除去することも可能である。反応は、適当な不活性溶媒、例えば特に塩化メチレンのような適当なハロゲン化炭化水素中、除湿して約−２０℃から＋５０℃の温度範囲で、好ましくは氷冷しながら、または室温で行う。
少なくとも一つの基Ｒ₁およびＲ₂はアミノ−置換アミノおよび／または少なくとも一つの基Ｒ₃およびＲ₄はアミノおよび他の置換基は上記式Ｉの化合物で定義の意味である式Ｉの製造のために、少なくとも一つの基Ｒ₁およびＲ₂はニトロ−置換フェニルおよび／または少なくとも一つの基Ｒ₃およびＲ₄はニトロおよび他の置換基は上記式Ｉの化合物について定義の意味であり、存在する遊離官能基を必要により容易に除去できる保護基で保護している式Ｉの化合物を、触媒的に水素化し、存在する保護基を除去できる。水素化は好ましくは上昇した圧力下でまたは特に通常の圧力下で、特にラネイ・ニッケルのような適当な水素化触媒存在下、好ましくはテトラヒドロフランおよびメタノールの混合物ような適当な環状エーテルおよび適当な低級アルカノールの混合物のような溶媒または溶媒混合物中、約０℃から＋５０℃の範囲の温度、好ましくは室温で行う。
少なくとも一つの基Ｒ₁およびＲ₂はＮ−（Ｎ’，Ｎ’−ジ−低級アルキルアミノメチリデン）−アミノまたはＮ−（Ｎ’，Ｎ’−ジ−低級アルキルアミノ）−（低級アルキル）−メチリデン）アミノにより置換されているフェニルおよび他の置換基は上記式Ｉの化合物で定義の意味である式Ｉの化合物の合成のために、対応する少なくとも一つの基Ｒ₁およびＲ₂はアミノ−置換フェニルおよび他の置換基は上記式Ｉの化合物で定義の意味であり、存在する更なる遊離官能基は必要により容易に除去される保護基で保護されている式Ｉの化合物を、Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキルホルムアミドジエチルアセタール、特にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチル−アセタール、またはＮ，Ｎ−ジ−低級アルキル−低級アルキルカルボン酸アミドジエチルアセタール、特にＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドジメチルアセタールと、不活性溶媒中、例えばトルエン中反応させ、存在する保護基を除去できる。
式Ｒ₅−Ｓ（Ｏ_q）−（式中、Ｒ₅は低級アルキルおよびqは０）の基で置換されている低級アルキルＲ₁またはＲ₂、または低級アルキルチオＲ₃またはＲ₄を、対応するＲ₅−Ｓ（Ｏ_q）−（式中、qは１または２）に、これを低級アルキルスルフィニルまたは低級アルカンスルホニルに、それぞれ、対応するチオ化合物を、例えば過酸化水素、３−クロロ過安息香酸、過ギ酸または過酢酸のような過酸、カリウム過酸化モノリン酸カリウムのようなアルカリ金属過酸化硫酸、三酸化クロムまたはガス状酸素と、白金存在下、酸化することにより変換できる。酸化はできるだけ緩和な条件下で、過酸化を避けるために化学量論的量を使用して行う。適当な溶媒は特に塩化メチレン、クロロホルム、アセトン、テトラヒドロフランまたはtert−ブチルメチルエーテルであり、温度は好ましくは−３０から５０℃、好ましくは１８から２８℃の範囲、例えば室温である。スルフィニル化合物の製造のために、酢酸またはエタノールのような極性溶媒中、好ましくは、メタ過ヨウ素酸ナトリウムまたはメタ過ヨウ素酸カリウムのような緩和な酸化剤を使用することが可能である。
式中、Ｒ₁および／またはＲ₂はシアノまたはシアノ−Ｃ₁−Ｃ₆アルキルで置換されているフェニルである式Ｉの化合物から、対応するシアノ−低級アルキルフェニル化合物を、例えば触媒的水素化により、好ましくは例えばラネイ・ニッケルまたは特にラネイ・ウシバラニッケル存在下、メタノールのようなアルコール中、好ましくは２０から１００℃、好ましくは約９０℃で、上昇した水素圧、例えば１から１５ＭＰa（約１０から１５０atm）、または適当な溶媒中、特にジエチルエーテルのようなエーテル中水素化リチウムアルミニウムのような水素化錯体と、好ましくは還流下、還元することにより得られる。
式中、Ｒ₁および／またはＲ₂はシアノ−置換フェニルである式Ｉの化合物から、対応するアミジンを、アンモニアによるアンモニア分解によりまたは、ニトリル出発物質およびアルコールの混合物への乾燥塩化水素の添加および続くアンモニアでの処理によるイミノエステルの形成を経由したピナー開裂（アルキルイミデート）により（Ｃhem．Ｂer．１０，１８８９（１８７７）；Ｃhem．Ｂer．１１，４、１４７５（１８７８）またはＣhem．Ｂer．１６，３５２、１６４３（１８８３）参照）得ることができる。
式中、Ｒ₁および／またはＲ₂はアミノ−置換低級アルキルまたはアミノ−置換フェニルである式Ｉの化合物から、対応する１個またはそれ以上のアミノ基の場所が低級アルカノイル−アミノまたは（出発物質としてのアミノ−置換フェニルの場合）ウレイド、Ｎ³−低級アルキルウレイド、Ｎ³，Ｎ³−ジ−低級アルキルウレイド、低級アルカンスルホニルアミノ、または非置換またはベンゼンまたはナフタレン環を低級アルキル−置換されているベンゼン−またはナフタレン−スルホニルアミノに代わっている式Ｉの化合物を、慣用的条件下でアシルすることにより得ることが可能である。適当なアシル化剤は、例えば、アミノ基のアシル化に適当であるものに対応する試薬、例えばブロミドまたはクロライドのような対応するアシルハライド、対応する無水物または混合無水物、シアナート（ウレイド化合物の製造のために）、例えば対応するアルカリ金属シアナート、またはイソシアナートである。Ｎ−スルホニル化は、対応するスルホニルハライドまたは無水物で行うことができる。反応は、反応に不活性な溶媒中で行い、好ましくは−２０から約１２０℃、好ましくはほぼ室温で行う。
ヒドロキシを、カルバモイルまたは上記で定義の置換基で示されているように置換されているカルバモイルまたは低級アルカノイルオキシへ変換するために、対応するアシル化剤、例えば対応するハライド、無水物または混合無水物が適している。
反応条件はアミノ基のアシル化に関して上記のものと類似である。アシル化はその場所で、例えばカルボジイミドのような縮合剤の存在下で行うことも可能である。カルバモイルまたは置換カルバモイルの導入のために、対応するシアナートまたはアルキルイソシアナートを、典型的に適当な塩基の存在下で使用することも可能である。
式Ｉの化合物の置換基としての少なくとも一つのヒドロキシまたはアミノ基の低級アルコキシ、カルバモイルメトキシ、カルボキシメトキシ、ベンジルオキシカルボニル−メトキシ、低級アルコキシカルボニルメトキシまたは低級アルキルアミノへの変換のために、好ましくは適当な塩基存在下でのアルキル化が好ましい。適当なアルキル化剤は、例えば、対応するアルキルハライドであり、それは好ましくは１０から１４０℃の好ましい温度、特にほぼ室温で使用する。
これらのおよび他の変換は、１９９５年８月３１日発行のＷＯ９５／２３１４１にまた見ることができ、これを引用して本明細書に包含させる。
少なくとも一つの塩形成基を有する式Ｉの化合物の塩は、それ自体既知の方法で製造できる。例えば、式Ｉの化合物の酸付加塩は、例えば、酸または適当なアニオン交換試薬での処理により得られる。
塩は、遊離化合物に慣用的方法で、例えば適当な塩基性剤での処理により変換できる。
この方法で得られた遊離の式Ｉの化合物の酸付加塩での処理により、式Ｉの化合物の塩を他の塩に変換することが可能である。
立体異性混合物、例えばジアステレオ異性体の混合物、シス／トランス異性体またはエナンチオマーを、対応する異性体に、それ自体既知の適当な分離方法で分離できる。例えば、ジアステレオ異性体の混合物は、個々のジアステレオ異性体に分画的結晶化、クロマトグラフィー、溶媒分配等により分離できる。このような分離は、出発物質の一つの段階または式Ｉの化合物それ自体のいずれかで行うことができる。
出発物質
式IIの出発物質は新規であるか、既知であるかまたはそれ自体既知の方法により製造できる。それらは、Ｇerman Ｏffenlegungsschriften Ｎo．２８１８６７６（１９７９年１１月８日出版）およびＮo．３０３６３９０（１９８２年５月１３日出版）および欧州特許ＥＰ０６８２０２７（１９９５年１１月１５日出版）に記載のものと類似の方法により製造できる。
式中、Ｘは塩素である式IIの出発物質は、例えば、式中、Ｘはヒドロキシである式IIと類似の化合物から、オキシ塩化リン（ホスホリルクロライド、Ｐ（＝Ｏ）Ｃｌ₃）と、除湿しながら、還流温度で反応させることにより得られる。所望により、式中、Ｘは塩素である得られる式IIの出発物質の式IIIのアザ化合物との更なる反応を同じ容器内で行うことができ、即ちワンポット工程である。この目的のために、オキシ塩化リンとの反応混合物を反応が完了した時エバポレーションにより濃縮乾燥し、ｎ−ブタノールのような適当な溶媒でスラリーにし、更に式IIIのアザ化合物と反応させる。
式中、Ｘはヒドロキシである式IIと類似の化合物（即ち、式IVの化合物の異性体）を、例えば式Ｖ

〔式中、Ｚ’は１−アリール−低級アルキルおよび他の記号は上記で定義の意味〕の化合物から、好ましくは式Ｖに関して過剰に、例えば１０から３０倍モル過剰に使用するギ酸と、所望により、ジメチルホルムアミドのような不活性溶媒の存在下、上昇した温度、例えば８０℃から沸点で反応させて得る。
あるいは、式中、Ｘはヒドロキシおよび他の記号は上記で定義の意味である式IIと類似の化合物を、例えば、式VI

〔式中、Ｒ₆は特にエチルのような低級アルキル、および他の記号は上記で定義の意味〕
の化合物から、無水ジメチルホルムアミドおよびギ酸の混合物中の大過剰のホルムアミドとの反応により得る。反応を上昇した温度、例えば１００℃から１５０℃、および好ましくは保護的ガスの存在下で行う。
中間体として使用する式Ｖの１−（Ｚ’）−２−アミノ−３−シアノ−ピロールは、それ自体既知の刊行された方法に従って、良好な収率で製造できる［例えば、Ｒoth，Ｈ．Ｊ．およびＥger，Ｋ．，Ａrch．Ｐharmaz．３０８、１７９（１９７５）参照］。この目的のために、例えば、式VII

の化合物を式Ｚ’−ＮＨ₂のアミンと反応させて式VIII

の化合物を形成させ、それを次いで式ＣＨ₂（ＣＮ）₂のマロン酸ジニトリルで所望の式Ｖの中間体に変換させる。詳細において、アミンＺ’−ＮＨ₂との反応は、慣用的な縮合条件下、例えば触媒量の強酸、例えば塩酸またはp−トルエンスルホン酸存在下、上昇した温度（好ましくは沸点）で、適当な溶媒、例えばベンゼンまたはトルエン中、水を除きながら行い、対応する式VIIIのα−アミノケトンを得る。後者は単利しないが、熱い間に水の除去を続けながらマロン酸ジニトリルと直ちに縮合させ、必要に応じて少量のピペリジンのような塩基を添加して、式Ｖの化合物を製造する。
式中、Ｒ₂はＮ−ベンジル−ピリドニウム−２−イルおよび他の記号は上記で定義の意味である中間体として使用する式VIの化合物は、例えば、式中、Ｒ₂は水素および他の記号は上記で定義の意味である式VIの化合物をＮ−ベンジル−２−ブロモピリドニウムブロミドと特に塩化メチレンのようなハロゲン化炭化水素のような適当な溶媒中で反応させることにより得る。反応は好ましくは保護的ガス下、暗い中無水条件下で室温でまたは上昇した温度、例えば２０℃から８０℃で、および２，６−ジメチルピリジン（２，６−ルチジン）存在下で行う。式VIの他の化合物は、例えば、式IX

〔式中、Ｒ₆は上記で定義の意味〕
の２−アミジノ−酢酸低級アルキルエステルを式Ｘ

〔式中、記号は上記で定義の意味〕
の２−Ｘ−１−Ｒ₂−エタン−１−オンと反応させることにより得る。脱離基Ｘは好ましくは臭素である。反応を開始する前に、式IXの２−アミジノ−酢酸低級アルキルエステルを、特にその塩酸塩のようなその酸付加塩から、等モル量の特にナトリウムエタノラートのような塩基の助けを借りて、氷冷しながら離す。反応は適当な溶媒、特に好ましくはエタノールのような低級アルカノール中、０℃から５０℃の好ましい温度、特に室温で行う。
式IIIのアザ化合物は既知であるかまたはそれ自体既知の方法で製造できる；これらのいくつかは商品として入手可能である。
例えば、式IIIのアザ化合物は、１９９５年８月３１日に発行の国際出願ＷＯ９５／２３１４１（これを引用して本明細書に包含させる）に記載の方法の一つまたはその中に記載の引用文献に従って製造できる。
例えば、２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾキサジン誘導体は、Ｒ．Ｃ．Ｅlderfield et al．，Ｃhapter １２“Ｈeterocyelic Ｃompounds”、Ｖol．６、Ｒ．Ｃ．Ｅlderfield編、Ｊohn Ｗiley＆Ｓons、Ｉnc．、Ｎew Ｙork １９５７に従って製造できる；置換２，３−ジヒドロベンゾチアジニル化合物はＲ．Ｃ．Ｅlderfield et al、同本のＣhapter １３；１，２，３，４−テトラヒドロ−キノリンおよびその出発物質は“Ｃhemistry of Ｈeterocyelic Ｃompounds”、Ｖol．３２、Ｐarts１、２および３；Ｇ．Ｊones（編），Ｊohn Ｗiley＆Ｓons、Ｎew Ｙork １９７７：メタノール中の酸化プラチナ／水素を使用した対応するキノリンの触媒的還元による低級アルキルもしくは非置換または置換フェニルにより置換された１，２，３，４−テトラヒドロキノリン（Ｈonel et al、Ｊ．Ｃhem．Ｓoc．Ｐerkin Ｉ １９８０、１９３３−１９３９参照）；Ｇ．Ｒ．Ｐroctor、Ｃhapter II、Ｖol．４３、“Ｃhemistry of Ｈeterocyelic Ｃmpounds”、Ｐart １と同様にして置換２，３，４，５−テトラヒドロ−１Ｈ−ベンゾ［ｂ］アゼピン；Ａ．Ｒosowsky（編）、Ｗiley Ｉnterscience、Ｎew Ｙork １９８４；およびある２，３，４，５−テトラヒドロ−１Ｈ−ベンゾ［ｂ］アゼピンおよび１，２，３，４，５，６−ヘキサヒドロ−１Ｈ−ベンゾ［ｂ］アゾシンは対応する２，３，４，５−テトラヒドロ−１Ｈ−ベンゾ［ｂ］アゼピン−２−オンおよび１，２，３，４，５，６−ヘキサヒドロ−１Ｈ−ベンゾ［ｂ］アゾシン−２−オンの還元により（Ｈorning et al、Ｊ．Ａm．Ｃhem．Ｓoc．７４，５１５３（１９５２）およびＨuisgen et al、Ｌiebigs Ａm．Ｃhem．５８６、３０（１９５４）製造できる。
インドリンタイプの式IIIのアザ化合物は、それ自体既知の連続反応で製造できる。
例えば、式IIIのインドリン化合物を、特に対応するインドール出発物質の還元により得ることが可能である。この目的のために、置換基（Ｒ₃および／またはＲ₄）が非プロトン性または適当に保護されている対応するインドール前駆体をＺnＢＨ₄（ＺnＣl₂から製造、Ｇensler et al、Ｊ．Ａm．Ｃhem．Ｓoc．８２、６０７４−６０８１（１９６０）参照）と、ジエチルエーテルのようなエーテル性溶媒中、約１０から約４０℃、好ましくは室温で反応させる（Ｋorsuki et al、Ｈeterocyeles ２８、１７７１−１７７４（１９８７）参照）；またはインドール出発物質をボラン／ピリジン錯体（または他のボラン／tert−アミン錯体）とテトラヒドロフランのような溶媒の存在下または非存在下、約１０から３０℃、好ましくは室温で反応させ、次いで塩酸、トリフルオロ酢酸または酢酸のような酸での処理に付し、インドリン化合物を形成させる。
ある式IIIのインドリン化合物は、他のインドリン化合物から更なる修飾により製造できる。例えば、非置換または適当に置換された５−ヒドロキシインドリンを対応するインドリンから、ヒドロキシル化（Ｔeuber et al、Ｃhem．Ｂer．８９、４８９−５０８（１９５６）参照）および続く中間体５−ヒドロキシ−インドールの還元により５−ヒドロキシインドリンを形成することにより製造できる：水性リン酸緩衝液中のニトロソジスルホン酸カリウムを、非置換または適当に置換されたインドリンに、アセトン中、中性ｐＨで、約０から２５℃の温度で添加する；得られる５−ヒドロキシインドール誘導体を、次いでボラン／ピリジン／水性ＨＣｌと反応させ、５−ヒドロキシインドリン誘導体を形成させる。非置換または適当に置換されたブロモインドリン（例えば４−または６−位を臭素化）は、対応するインドリンから、臭素化により得ることができる（Ｍiyake et al．、Ｊ．Ｈet．Ｃhem．２０，３４９−３５２（１９８３）参照）。この方法は、大きな環系の臭素化（例えば１，２，３，４−テトラヒドロ−キノリン、２，３，４，５−テトラヒドロ−１Ｈ−ベンゾ［ｂ］アゼピンおよび１，２，３，４，５，６−ヘキサヒドロ−ベンゾ［ｂ］−アゾシン、特に５／７−、６／８−および７／９−位の）にも使用できる。この目的のために、一般的に非置換または適当に置換されたインドリンは、臭素を、硫化銀のような求ハロゲン試薬と、強酸条件下で、０から２５℃で反応させる。加えて、３−アルキル置換基ありまたはなしのあるインドリンは、対応する２−（２−ハロフェニル）アルキルアミン（独特許出願ＤＥ３４２４９００参照）から製造できる。更に、ヒドロキシアルキルインドリンは対応するカルボキシ前駆体またはそのエステルの還元により製造できる（Ｃorey et al、Ｊ．Ａm．Ｃhem．Ｓoc．９２（８）、２４７６−２４８８（１９７０）参照）。適当に置換された低級アルキル−、低級アルケニル−またはアリル−置換インドリンは、対応するトリアルキルシリル−保護４−、５−または６−ハロインドールから、ニッケル−ホスフィン触媒グリニヤール添加（Ｔamao et al、Ｂull．Ｃhem．Ｓoc．Ｊapan４９、１９５８−１９６９（１９７６）参照）により製造でき、この場合、インドリンは一般にtert−ブチル−ジメチル−シリルトリフレートとのハロゲン化溶媒中の３級アミン存在下での反応によりＮ−保護されている。Ｎ−シリル化ハロインドリンは次いで対応するアルキル−、アルケニル−またはアリル−グリニヤールと、エーテル性溶媒中、適当なニッケル−ホスフィン錯体（典型的にビス（トリフェニルホスフィン）ニッケル（II）ジクロライド）の存在下で反応させる。微量のトリフルオロ酢酸のような酸を含むメタノール、または適当な溶媒中のテトラヒドロフランのようなフッ素アニオンでの続く処理は、所望のインドリン誘導体を遊離させる。
加えて、４−、５−、６−または７−低級アルケニル−インドリンまたは遊離またはトリ−低級アルキルシリル−置換低級アルキニル−インドリンは、対応する４−、５−、６−または７−ハロインドリンのパラジウム触媒ビニル化またはアルキニル化により得ることができる（Ｋalinin、Ｓynthesis １９９２，４１３−４３２参照）。低級アルキニルインドリンの製造のために、対応するブロモ−またはヨード−インドリンを、還流下、適当な低級アルキンまたはトリメチルシリルアセチレンまたはその類似体と触媒量のＣuＩおよびＰd（ＰＰh₃）の存在下で反応させる。
３，３−ジメチルインドリンは、例えば、Ｎ−メチルアリルアセトアニリドのルイス酸介在環化、続く加水分解により製造できる（Ｓynthetic Ｃommunications ２５（２４）、４０２９−４０３３参照）。適当なルイス酸は、例えば、ＡlＣl₃である；加水分解は、例えば、塩化水素存在下で行う。
中間体として使用できる多くのインドリン、インドール、オクスインドールおよびイサチンの更なる製造法は、文献に見ることができる（“Ｈeterocyclic Ｃompounds with Ｉndole and Ｃarbazole Ｓystems”、Ｗ．Ｃ．ＳumpterおよびＦ．Ｍiller、“Ｃhemistry of Ｈeterocyclic Ｃompounds”、Ｖol．８、Ｉnterscience Ｐublishers Ｉnc．、Ｎew Ｙork １９５４およびその中の引用文献参照）。
他の出発化合物は既知であるか、それ自体既知の方法で製造できるか、または商品として入手可能である。
出発物質の製造に使用する反応条件は、特に明細書におよび特に実施例に記載の反応条件と類似である。
一般的処理条件
本明細書に記載の全処理工程はそれ自体既知の反応条件下で行うことができるが、好ましくは特記した条件下で、溶媒または稀釈剤、好ましくは使用する試薬またはそのための溶媒に不活性な溶媒または稀釈剤の非存在下または通常存在下で、反応および／または還元する反応物の性質に依存して、触媒、縮合剤または中和剤、例えばＨ⁺形のカチオン交換機のようなイオン交換機の存在下または非存在下で、通常または上昇した温度、例えば約−１００℃から約１９０℃、好ましくは約−８０℃から約１５０℃、例えば−８０℃から−６０℃の温度範囲、室温、−２０℃から４０℃またはほぼ使用する溶媒の沸点で、大気圧または密閉容器で、所望により加圧下で、および／または不活性雰囲気、例えばアルゴンまたは窒素雰囲気下で行う。
出発物質または中間体の場合、塩形成基が存在する場合、塩が存在し得る。塩はまたこのような化合物の反応中にも存在し得るが、但し反応には影響しない。
全ての反応段階において、形成される異性体混合物は個々の異性体、例えばジアステレオ異性体またはエナンチオマーに、または所望の異性体混合物、例えばラセミ体またはジアステレオ異性体混合物に、例えば“更なる処理段階”の標題の元に記載の方法と同様にして分離できる。
ある場合、例えば水素化の場合、例えば、個々の異性体がより容易に得られ得るように、立体選択的反応を行うことも可能である。
特定の反応に好ましい溶媒は、例えば、水、低級アルキル低級アルカノエートのようなエステル、例えば酢酸エチル、脂肪族エーテル、例えばジエチルエーテルのようなエーテル、または環状エーテル、例えばテトラヒドロフラン、ベンゼンまたはトルエンのような液体芳香族炭化水素、メタノール、エタノールまたは１−または２−プロパノールのようなアルコール、アセトニトリルのようなニトリル、塩化メチレンのようなハロゲン化炭化水素、ジメチルホルムアミドのような酸アミド、ヘテロ環式窒素塩基、例えばピリジンのような塩基、低級アルカン酸無水物、例えば酢酸無水物のようなカルボン酸無水物、シクロヘキサン、ヘキサンまたはイソペンタンのような環状、直鎖または分枝鎖炭化水素、またはこれらの溶媒の混合物、例えば水性溶液を含む群から、処理の過程で特記しない限り選択する。このような溶媒混合物は、例えばクロマトグラフィーまたは分配による後処理でも使用できる。
本発明は、任意の段階で中間体として得られる化合物を出発物質として使用し、残りの工程を行う方法か、または本工程を任意の段階で中断するか、または出発物質を反応条件下で形成するか、または反応性誘導体または塩の形で使用するか、または本発明の方法により得られる化合物を処理条件下で製造しその場で更に処理する形にも関し、上記で好ましい、より特に好ましいおよび／または非常に好ましいとして記載している化合物をもたらす出発物質の使用が好ましい。
式Ｉの化合物（およびまたその中間体）の製造は、好ましくは実施例に記載の処理および工程段階に従って行う。
塩を含む式Ｉの化合物は、溶媒和物、例えば水和物または、例えば、結晶化に使用した溶媒を含む結晶の形でも得られ得る。
医薬組成物、その製造および本発明の式Ｉの化合物の使用およびそれらの化合物を有効成分として含む組成物
本発明はまたは活性成分として式Ｉの化合物の一つを含む医薬組成物にも関し、それは特に最初に記載の疾病の処理に使用できる。温血動物、特にヒトへの経鼻、バッカル、直腸または特に経口投与のような経腸投与および静脈内、筋肉内または皮下投与のような非経口投与が特に好ましい。組成物は活性成分をそれ自体でまたは好ましくは薬理学的に許容される担体と共に含む。活性成分の投与量は処置すべき疾病、種、年齢、体重および個々の状態、個々の薬物動態データ、処置すべき疾病および投与形態に依存する。
本発明はまたヒトまたは動物の治療的処置の方法に使用するための医薬組成物、その製造法（特に腫瘍処置の薬剤として）および上記疾病、特に腫瘍疾病、より特別には上記の一つ、または乾癬の処置法に関する。
プロテインキナーゼの阻害に反応する疾病、特に乾癬または腫瘍疾患に罹患している温血動物、特にヒトの処置に適した、式Ｉの化合物または塩形成基が存在する場合、その塩をプロテインキナーゼを阻害する量、少なくとも一つの薬理学的に許容される担体と共に含む医薬組成物が好ましい。
医薬組成物は約１％から約９５％活性成分を含み、単一投与量形の投与形は好ましくは約２０％から約９０％活性成分および単一投与量形でない投与の形は好ましくは約５％から約２０％活性成分を含む。単位投与量形は、例えば、糖衣錠、錠剤、アンプル、バイアル、座薬またはカプセルである。他の投与の形は、例えば、軟膏、クリーム、泥膏、泡状物、チンキ、リップスティック、飴、スプレー、分散剤等である。例は約０．０５gから約１．０gの活性成分を含むカプセルである。
本発明の医薬組成物は、それ自体既知の方法で、例えば慣用の混合、顆粒化、砂糖付、溶解または凍結乾燥方法の手段により製造する。
活性成分の溶液および懸濁液または分散剤、特に等張性水性溶液、分散剤または懸濁液を好ましくは使用し、例えば活性成分を単独または、担体例えばマンニトールと一緒に含む凍結乾燥物の場合、このような溶液、懸濁液または分散剤を使用前に製造することも可能である。医薬組成物は滅菌し得および／または賦形剤、例えば防腐剤、安定化剤、湿潤剤および／または乳化剤、溶解剤、浸透圧を調節するための塩および／または緩衝液を含み得、それ自体既知の方法で、例えば慣用の溶解または凍結乾燥により製造する。このような溶液または懸濁液はナトリウムカルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、デキストラン、ポリビニルピロリドンまたはゼラチンのような粘性増加物質も含み得る。
油中の懸濁液は、油成分として通常の注射目的のための植物、合成または半合成油を含む。それらは、特に８から２２、特に１２から２２個の炭素原子を有する長鎖脂肪酸を酸成分として含む脂肪酸エステル、例えばラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸、または対応する不飽和酸、例えばオレイン酸、エライジン酸、エルカ酸、ブラシジン酸またはリノレン酸を、所望により抗酸化剤、例えばビタミンＥ、β−カロテンまたは３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシトルエンの添加とともに含むことを特記し得る。脂肪酸エステルのアルコール成分は最大６炭素原子を有し、モノ−またはポリ−ハイドリック、例えばモノ−、ジ−またはトリ−ハイドリックアルコール、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールまたはペンタノールまたはその異性体であるが、特にグリコールおよびグリセロールである。脂肪酸エステルの以下の例は従って：オレイン酸エチル、ミリスチン酸イソプロピル、パルミチン酸イソプロピル、

であるが、特に綿実油、アーモンド油、オリーブ油、ヒマシ油、ゴマ油、大豆油およびより特別にはピーナッツ油のような植物油である。
注射用組成物は、滅菌条件下で慣用的方法により製造する：同じことが、例えば、アンプルまたはバイアルへの組成物の挿入および容器の密封にも当てはまる。
経口投与用医薬組成物は、例えば、活性成分を１個またはそれ以上の固体担体とあわせ、所望により得られる混合物を顆粒化し、混合物または顆粒を処理し、必要であれば更なる賦形剤を添加して、錠剤または糖衣錠コアを形成する。
適当な担体は、特に糖、例えばラクトース、サッカロース、マンニトールまたはソルビトール、セルロース製剤のような糖および／またはリン酸カルシウム、例えば三リン酸カルシウムまたはリン酸水素カルシウムおよび澱粉、例えばコーン、小麦、米またはジャガイモ澱粉、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、カルボキシメチルセルロースナトリウムおよび／またはポリビニルピロリドンのような結合剤および／または必要であれば上記の澱粉およびまたカルボキシメチル澱粉のような崩壊剤、架橋ポリビニルピロリドンまたはアルギニン酸またはアルギニン酸ナトリウムのようなそれらの塩を含む。更なる賦形剤は、特に流動調節剤および滑沢剤、例えば珪酸、タルク、ステアリン酸またはステアリン酸マグネシウムまたはステアリン酸カルシウムのようなそれらの塩および／またはポリエチレングリコールまたはそれらの誘導体である。
糖衣錠コアは、適当なように、所望により腸溶コーティングし、とりわけアラビアガム、タルク、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコールおよび／または二酸化チタンを含み得る濃縮糖溶液、または腸溶コーティングのための適当な有機溶媒または溶媒混合物、アセチルセルロールフタレートまたはヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレートのような適当なセルロース調整物の溶液を使用する。着色剤または色素は、例えば同定目的のためにまたは活性成分の異なる容量を示すために錠剤または糖衣コーティングに添加し得る。
経口投与可能医薬組成物は、またゼラチンからなる乾燥充填カプセルおよびまたゼラチンおよびグリセロールまたはソルビトールのような可塑剤からなる軟、密封カプセルを含む。乾燥充填カプセルは、活性剤を、例えば、コーンスターチ、結合剤および／またはタルクまたはステアリン酸マグネシウムのような滑沢剤および所望により安定化剤の混合物中に顆粒の形で含み得る。軟カプセルにおいて、活性成分は好ましくは脂肪油、パラフィン油または液体ポリエチレングリコールまたはエチレンもしくはエチレンまたはプロピレングリコールの脂肪酸エステルのような適当な液体賦形剤中に溶解または懸濁し、その中に安定剤および界面活性剤、例えばポリエチレンソルビタン脂肪酸エステル型のものをまた添加し得る。
他の経口投与形は、例えば活性成分を、例えば、懸濁液形で、約５％から２０％、好ましくは約１０％の濃度で含むか、または例えば５または１０mlの測定で投与した場合、適当な単一量を提供する同様の濃度で含む慣用的方法で製造したシロップである。例えばミルク中のシェーキの製造のための粉末または液体濃縮剤もまた適当である。このような濃縮剤は単一投与量でパッケージし得る。
適当な経腸投与用医薬組成物は、例えば、活性成分および座薬基剤の組み合わせを含む座薬である。適当な座薬基剤は、例えば、天然または合成トリグリセリド、パラフィン炭化水素、ポリエチレングリコールまたは高級アルカノールである。
非経口投与のために、水溶性形、例えば水溶性塩の形の活性成分の水性溶液、または粘性増加物質、例えばナトリウムカルボキシメチルセルロース、ソルビトールおよび／またはデキストランおよび所望により安定化剤を含む水生注射用懸濁液が特に好ましい。活性成分は、所望により賦形剤と共に、凍結乾燥形でもあり得、適当な溶媒の添加により非経口投与の前に溶液にすることができる。
例えば、非経口投与のために使用されるような溶液は、また輸液としても使用できる。
好ましい防腐剤は、例えば、アスコルビン酸のような抗酸化剤、ソルビン酸または安息香酸のような殺微生物剤である。
軟膏は７０％までであるが、好ましくは２０から５０％までの水または水性相を含む水中油型エマルジョンである。脂肪相として適当なのは特に炭化水素、例えばＶaseline（登録商標）、パラフィン油または硬パラフィンであり、これらは水結合性能の改善のために好ましくは脂肪アルコールまたはそのエステル、例えばセチルアルコールまたは羊毛蝋のような羊毛蝋アルコールを含む。乳化剤は、ソルビタン脂肪酸エステル（Ｓpans（登録商標））、例えばソルビタンオレエートおよび／またはソルビタンイソステアレートのような対応する親油性物質である。水性相への添加剤は、例えば、ポリアルコール、例えばグリセロール、プロピレングリコール、ソルビトールおよび／またはポリエチレングリコールのような湿潤剤または防腐剤および香料である。
脂肪軟膏は無水であり、基剤物質として特に炭化水素、例えばパラフィン、Ｖaseline（登録商標）またはパラフィン油および天然または合成脂肪、例えばココナッツ脂肪酸トリグリセリドまたは好ましくは硬化油、例えば水素化ピーナッツ油またはヒマシ油およびグリセロールの脂肪酸部分エステル、例えばグリセロールモノ−および／またはジステアリン酸およびまた例えば脂肪アルコール、乳化剤および／または軟膏に関する水吸収を増加させるための添加剤を含む。
クリームは水中油型エマルジョンであり、５０％以上の水を含む。油状基材物質として、特に脂肪アルコール、例えばラウリルアルコール、セチルアルコールまたはステアリルアルコール、脂肪酸、例えばパルミチン酸またはステアリン酸、ワックスを溶解するための液体、例えばイソプロピルミリステート、羊毛蝋または蜜蝋および／または炭化水素、例えばＶaseline（登録商標）（ペトロラタム）またはパラフィン油を使用する。乳化剤として適当なのは、対応する非イオン性乳化剤、例えばポリグリセリン酸脂肪酸エステルまたはポリエチレンソルビタン脂肪酸エステル（Ｔweens（登録商標））のようなポリアルコールの脂肪酸エステルまたはそのエチレンオキシ付加物、またポリオキシエチレン脂肪アルコールエーテルまたは脂肪酸エステル、または脂肪アルコール硫酸のアルカリ金属塩、例えばラウリル硫酸ナトリウム、セチル硫酸ナトリウムまたはステアリル硫酸ナトリウムのような対応するイオン性乳化剤のような主に親水性特性を有する界面活性物質であり、これらは慣用的に脂肪アルコール、例えばセチルアルコールまたはステアリルアルコール存在下で使用される。水性相への添加剤は、とりわけクリームの乾燥を減じる試薬、例えばグリセロール、ソルビトール、プロピレングリコールおよび／またはポリエチレングリコールのようなポリアルコールおよびまたは防腐剤および香料である。
泥膏およびクリームおよび軟膏は、酸化金属、たとえば酸化チタンまたは酸化亜鉛およびまたタルクおよび／または珪酸アルミニウムのような分泌吸収粉末を含み、この目的は存在する湿気または分泌物に結合することである。
泡状物は加圧式容器から投与し、エアロゾル形の液体水中油型エマルジョンであり、クロロ−フルオロ低級アルカン、例えばジクロロジフルオロメタンおよびジクロロテトラフルオロエタンのような推進ハロゲン化炭化水素、または好ましくは非ハロゲン化ガス状炭化水素、空気、Ｎ₂Ｏまたは二酸化炭素を使用する。油相として、とりわけ上記のものが軟膏およびクリームに関連して使用され、および同様にそこに記載の添加剤も使用される。
チンキおよび溶液は、一般に水性エタノール性塩基を有し、それにとりわけ、ポリアルコール、例えばグリセロール、グリコールおよび／またはポリエチレングリコールが、蒸発を減少させるための加湿剤として、および低分子量ポリエチレングリコールを有する脂肪酸エステルのような脂肪貯蔵物質、すなわち、水性相に溶解する親油性物質が、エタノールにより皮膚から除かれる脂肪物質の変わりに添加され、必要であれば、他の賦形剤および添加剤も添加される。
本発明はまた上記病理学的状態、特に腫瘍疾患または乾癬、より具体的にプロテインキナーゼの阻害に反応するこのような疾病の処置の過程および方法にも関する。式Ｉの化合物は、予防的にまたは治療的に、それ自体または医薬組成物の形で、好ましくはこのような疾病に対する充分な量で、このような処置を必要とする温血動物、例えばヒトに投与され、使用する化合物は好ましくは医薬組成物の形である。このような処置において、体重約７０kgの個体は約０．１mgから約５ｇ、好ましくは約０．５ｇから約２ｇの本発明の化合物を毎日投与される。
以下の実施例は本発明の説明のために働くが、その範囲を限定するものではない。
使用する略名および略語は以下の意味を有する：
略語
abs. 完全（無水）
ＤＭＦ ジメチルホルムアミド
ＦＡＢ−ＭＳ 高速電子衝撃質量分析法
m.p. 融点
ＭＳ 質量分析法
Ｒｆ ＴＬＣにおける溶離剤に関する浸潤進行の比率
ＲＴ 室温
sat. 飽和
ＴＨＦ テトラヒドロフラン
ＴＬＣ 薄相クロマトグラフィー
注意：
特記されていない限り、“ヘキサン”はヘキサン異性体の混合物である。
実施例１：４−（２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−５，６−ジメチル−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン
アルゴン雰囲気下、５mlのabs．n−ブタノール中の０．２g（１．１mmol）の４−クロロ−５，６−ジメチル−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］−ピリミジン（Ｌiebigs Ａnn．Ｃhem．１９８６（９）、１４８５−１５０５；ＣＡＳ−Ｒeg．Ｎo．８２７０３−３８−６参照）および０．１５ml（１．３２mmol）の２，３−ジヒドロインドール（Ｆluka、Ｂuchs、Ｓwitzerland）を２時間、出発物質がＴＬＣで観察されなくなるまで加熱還流する。反応混合物を５０℃で真空蒸発させることにより濃縮する。茶色残渣３０mlの酢酸エチルに溶解し、１０mlの１Ｎ ＮaＯＨ溶液を添加する。有機相を分取し、少量の水で三回洗浄し、乾燥させ、蒸発乾固する。粗生産物を１０mlのＴＨＦに溶解し、ｎ−ヘキサンを結晶化が始まるまで添加する。攪拌を０℃で行い、生産物を吸引濾過し、高真空下で乾燥させる。純粋４−（２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−５，６−ジメチル−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジンを、２２０−２２１℃の融点を有する無色結晶として得る。ＦＡＢ−ＭＳ：（Ｍ＋Ｈ）⁺＝２６５（Ｃ₁₆Ｈ₁₆Ｎ₄に対応）；Ｒｆ値（トルエン−アセトン−４：６）＝０．４６。
実施例２：４−（６−クロロ−２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−５，６−ジメチル−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン
この生産物は、実施例１に記載のものと類似の方法で、４−クロロ−５，６−ジメチル−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジンおよび６−クロロ−２，３−ジヒドロインドール（１．１当量、Ｊ．Ｏrg．Ｃhem．５５（２）、５８０−５８４（１９９０）ＣＡＳ Ｒeg．Ｎo．５２５３７−００−５参照）から製造する。
実施例３：４−（６−ブロモ−２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−５，６−ジメチル−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン
この生産物は、実施例１に記載のものと類似の方法で、４−クロロ−５，６−ジメチル−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジンおよび６−ブロモ−２，３−ジヒドロインドール（１．１当量、ＷＯ９５／２３１４１；ＣＡＳ Ｒeg．Ｎo．６３８３９−２４−７）から製造する。
実施例４：４−（６−メチル−２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−５，６−ジメチル−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン
この生産物は、実施例１に記載のものと類似の方法で、４−クロロ−５，６−ジメチル−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジンおよび６−メチル−２，３−ジヒドロインドール（１．１当量、ＷＯ９５／２３１４１；ＣＡＳ Ｒeg．Ｎo．８６９１１−８２−２参照）から製造する。
実施例５：４−（１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−１−イル）−５，６−ジメチル−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン
この生産物は、実施例１に記載のものと類似の方法で、４−クロロ−５，６−ジメチル−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジンおよび１，２，３，４−テトラヒドロキノリン（４当量、Ｆluka、Ｂuchs、Ｓwitzerland）から製造する。Ｍ.p.：２６３−２６４℃；ＦＡＢ−ＭＳ：（Ｍ＋Ｈ）⁺＝２７９（Ｃ₁₇Ｈ₁₈Ｎ₄に対応）；Ｒｆ値（トルエン−アセトン−（４：６））＝０．２９。
実施例６：４−（２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−６−（４−ニトロ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン
窒素雰囲気下、１０mlのabs．ｎ−ブタノール中の０．５g（１．８２mmol）の４−クロロ−６−（４−ニトロ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ−［２，３−ｄ］ピリミジンおよび０．４３ml（２．１当量）の２，３−ジヒドロインドールを、１．５時間、ＴＬＣで出発物質がなくなるまで加熱還流し、所望の生産物が沈殿し、それを濾取する。茶色粗生産物を約２０mlの１Ｎ ＮaＯＨで約１５分間激しく攪拌し、懸濁液を吸引濾過し、残渣を水、ｎ−ブタノールおよびヘキサンで洗浄し、高真空下で乾燥する。４−（２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−６−（４−ニトロ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジンを、＞３００℃の融点を有するさび茶色の形で得る。ＦＡＢ−ＭＳ：（Ｍ＋Ｈ）⁺＝３５８（Ｃ₂₀Ｈ₁₅Ｎ₅Ｏ₂に対応）；Ｒｆ値（トルエン−アセトン−４：６）＝０．４０。
出発物質を下記のように製造する：
段階６．１：２−アミノ−３−エトキシカルボニル−５−（４−ニトロ−フェニル）−ピロル
乾燥三首フラスコ中、アルゴン下、７５mlのabs.エタノールおよび６．５g（３９０mmol）の２−アミジノ−酢酸エチルエステルヒドロクロライド［製造は：Ｌiebigs Ａnn．Ｃhem．、１８９５（１９７７）参照］を０−５℃に冷却し、２．６５g（３９０mmol）のナトリウムエタノラートを添加する。５ｇ（１９５mmol）の２−ブロモ−１−（４−ニトロ−フェニル）−エタン−１−オンを次いで添加し、混合物を室温に暖め、さらに４８時間攪拌する。反応混合物を水と酢酸エチルで分配する。酢酸エチル相を三回水および一回sat．ＮaＣl溶液で洗浄し、乾燥および濾過し、濾液をエバポレーションにより濃縮する。赤茶色残渣をヘキサン中でスラリーとし、表題化合物が粗生産物（純度９３％）の形で沈殿し、それを次の段階にさらに精製することなく使用する；ＭＳ：（Ｍ）⁺＝２７５。
段階６．２：４−ヒドロキシ−６−（４−ニトロ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン
２．５g（９７mmol）の２−アミノ−３−エトキシカルボニル−５−（４−ニトロ−フェニル）−ピロル、１９．４mlのホルムアミド、９．７mlのＤＭＦおよび３．１mlのギ酸を、１５０℃で２２時間攪拌する。１mlのイソプロパノールを温反応混合物に添加する。反応混合物を冷却した後、沈殿生産物を濾取し、三回、各１０mlのエタノールと、二回、各１０mlのイソプロパノールとおよび二回、各１０mlのヘキサンと吸引しながら洗浄する。表題化合物をさび茶色結晶の形で得、それを次段階に使用する；ＭＳ：（Ｍ）⁺＝２５６。
段階６．３：４−クロロ−６−（４−ニトロ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン
４−クロロ−６−（４−ニトロ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジンを、除湿しながら、４−ヒドロキシ−６−（４−ニトロ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジンを、過剰のＰＯＣｌ₃と沸点まで加熱することにより製造する。懸濁液を残量２０mlまで、エバポレーションにより濃縮する。残渣を少しずつ水に入れ、固体ＮaＨＣＯ₃で中和し、０．２リットルの酢酸エチルを添加する。濾過および熱ＴＨＦでの洗浄により、表題化合物、m.p.＞２８０℃を得る；ＦＡＢ−ＭＳ：（Ｍ＋Ｈ）⁺＝２７５。
実施例７：４−（２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−６−（４−アミノ−フェニル−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン
４００mgの４−（２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−６−（４−ニトロ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン（実施例６）を、メタノール／ＴＨＦ（３５：２０）中の１５０mgのラネイ・ニッケルで、ＲＴおよび定圧で１０時間水素化する。触媒を濾取し、溶液をエバポレーションにより濃縮する。残渣をＴＨＦに溶解し、生産物がヘキサンの添加により沈殿する。４−（２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−６−（４−アミノ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジンが無色粉末の形で得られる。Ｍ.p.＞３００℃；ＦＡＢ−ＭＳ：（Ｍ＋Ｈ）⁺＝３２８（Ｃ₂₀Ｈ₁₇Ｎ₅に対応）；Ｒｆ値（トルエン−アセトン−４：６）＝０．２１。
実施例８：４−（６−クロロ−２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−６−（４−ニトロ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］−ピリミジン
この生産物を、実施例６に記載のものと同様の方法で、４−クロロ−６−（４−ニトロ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジンおよび６−クロロ−２，３−ジヒドロインドール（１．１当量）から製造する。
実施例９：４−（６−クロロ−２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−６−（４−アミノ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］−ピリミジン
この生産物を、実施例７に記載のものと同様の方法で、４−（６−クロロ−２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−６−（４−ニトロ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］−ピリミジン（実施例８）のラネイ・ニッケルによる水素化により製造する。
実施例１０：４−（１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−１−イル）−６−（４−ニトロ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］−ピリミジン
この生産物は、実施例６に記載のものと類似の方法で、４−クロロ−６−（４−ニトロ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジンおよび１，２，３，４−テトラヒドロキノリン（２．１当量）から製造する。ＦＡＢ−ＭＳ：（Ｍ＋Ｈ）⁺＝３７２（Ｃ₂₁Ｈ₁₇Ｎ₅Ｏ₂に対応）；Ｒｆ値（トルエン−アセトン−４：６）＝０．３６。
実施例１１：４−（１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−１−イル）−６−（４−アミノ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン
この生産物を、実施例７に記載のものと同様の方法で、４−（１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−１−イル）−６−（４−ニトロ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］−ピリミジン（実施例１０）をラネイ・ニッケルで水素化して製造する。M.p.２４３−２４５℃：ＦＡＢ−ＭＳ：（Ｍ＋Ｈ）⁺＝３４２（Ｃ₂₁Ｈ₁₉Ｎ₅に対応）；Ｒｆ値（トルエン−アセトン−４：６）＝０．２５。
実施例１２：４−（２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−６−（４−メトキシ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］−ピリミジン
この生産物は、実施例１に記載のものと類似の方法で、４−クロロ−６−（４−メトキシ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジンおよび２，３−ジヒドロインドール（１．１当量）から製造する。M.p.＞３００℃；ＦＡＢ−ＭＳ：（Ｍ＋Ｈ）⁺＝３４３（Ｃ₂₁Ｈ₁₈Ｎ₄Ｏに対応）。
実施例１３：乾燥充填カプセル
それぞれ活性成分として０．２５gの前記実施例で述べた式Ｉの化合物の一つを含む５０００カプセルを下記のように製造する：
組成
活性成分 １２５０g
タルク １８０ｇ
小麦澱粉 １２０ｇ
ステアリン酸マグネシウム ８０g
ラクトース ２０ｇ
製造法：上記の粉末物質を０．６mmメッシュサイズのふるいを通す。０．３３g分の混合物を、カプセル充填機を使用してゼラチンカプセルに入れる。
実施例１４：軟カプセル
それぞれ活性成分として０．０５gの前記実施例で述べた式Ｉの化合物の一つを含む５０００軟ゼラチンカプセルを下記のように製造する：
組成
活性成分 ２５０ｇ
Ｌauroglykol ２リットル
製造法：粉末活性成分をＬauroglykol（登録商標）

に懸濁し、約１から３μmの粒子サイズまで、湿潤微粉砕機で挽く。０．４１９ｇ分の混合物を、カプセル充填機を使用して軟ゼラチンカプセルに充填する。
実施例１５：軟カプセル
それぞれ活性成分として０．０５gの前記実施例で述べた式Ｉの化合物の一つを含む５０００軟カプセルを下記の通り製造する：
組成
活性成分 ２５０ｇ
ＰＥＧ４００ １リットル
Ｔween８０ １リットル
製造法：粉末活性成分をＰＥＧ４００（約３８０から約４２０のＭrのポリエチレングリコール、Ｆluka、Ｓwitzerland）およびＴween（登録商標）８０（ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、Ａtlas Ｃhem．Ｉnd．，Ｉnc．，ＵＳＡ、Ｆluka、Ｓwitzerlandにより供給）に懸濁し、約１から３μmの粒子サイズまで湿潤微粉砕機で挽く。次いで、混合物の０．４３g分を、カプセル充填機を使用して軟ゼラチンカプセルに入れる。
実施例１６：ＥＧＦ−受容体−特異的チロシンキナーゼの阻害
上記方法に従って、ＥＧＦ受容体の組替え細胞内ドメイン（Ｅurop．Ｊ．Ｂiochem．２０７，２６５−２７５（１９９２））を使用して、以下のＩＣ₅₀値を得る：
化合物の実施例 ＩＣ₅₀（μＭ）
１ １．５６
５ ２．６９
７ ０．２１
１１ ０．０２６
実施例１７：ＭＫ（マウスケラチン生成細胞）細胞のインビトロでの成長阻害：
ＢＡＬＢ／ＭＫ細胞の式Ｉの化合物存在下での生育を上記方法に従って試験する。以下の阻害値（ＩＣ₅₀）を得る：
化合物の実施例 ＩＣ₅₀（μＭ）
７ １５．８
１１ ０．７６
実施例１８：v−ablキナーゼの阻害：
上記（Ｏncogene Ｒesearch ５、１６１−１７３（１９９０）およびＣancer Ｒesearch ５２，４４９２−４４９８（１９９２））の方法に従って、以下のＩＣ₅₀値を得る：
化合物の実施例 ＩＣ₅₀（μＭ）
７ ０．０７８
１１ ０．００２

Claims (10)

1. 【化１】
   式Ｉ
   

   

   ［式中、
   Ｒ₁ は、低級アルキル；モノハロ−、ジハロ−またはトリハロ−低級アルキル；低級アルコキシ；非置換またはハロゲン、モノハロ−、ジハロ−またはトリハロ−低級アルキル、カルバモイル−メトキシ、カルボキシ−メトキシ、ベンジルオキシカルボニル−メトキシ、低級アルコキシカルボニル−メトキシ、フェニル、アミノ、アミノ−低級アルキル、低級アルカノイルアミノ、低級アルコキシカルボニルアミノ、フェニル−低級アルコキシカルボニルアミノ、フロイル、チエニルカルボニル、Ｎ−低級アルキルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキル−アミノ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルカノイルオキシ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、カルバモイル、Ｎ−低級アルキル−カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキル−カルバモイル、シアノ、アミジノ、Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’−ジ−低級アルキルアミノメチリデン）−アミノ、Ｎ−（（Ｎ’，Ｎ’−ジ−低級アルキルアミノ）−（低級アルキル）−メチリデン）−アミノ、グアニジノ、ウレイド、Ｎ³−低級アルキルウレイド、Ｎ³，Ｎ³−ジ−低級アルキルウレイド、チオウレイド、Ｎ³−低級アルキルチオウレイド、Ｎ³，Ｎ³−ジ−低級アルキルチオウレイド、低級アルカンスルホニルアミノ、ベンゼン−またはナフタレン−スルホニルアミノ（ただし、ベンゼンまたはナフタレン環において低級アルキル置換されているか、または低級アルキル置換されていない）、アジドもしくはニトロにより置換されているフェニル；水素；非置換またはハロ−または低級アルキル−置換ピリジル；Ｎ−ベンジル−ピリドニル；ナフチル；シアノ；カルボキシ；低級アルコキシカルボニル；カルバモイル；Ｎ−低級アルキル−カルバモイル；Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキルカルバモイル；Ｎ−ベンジル−カルバモイル；ホルミル；低級アルカノイル；低級アルケニル；低級アルケニルオキシ；またはハロゲン、アミノ、低級アルキルアミノ、ピペラジノ、ジ−低級アルキルアミノ、フェニルアミノまたはフェニル（ただし、これらのフェニル部分はハロゲン、低級アルキル、ヒドロキシ、低級アルカノイルオキシ、低級アルコキシ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、カルバモイル、Ｎ−低級アルキル−カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキル−カルバモイル、シアノ、アミジノ、アミノ、アミノ−低級アルキル、低級アルカノイルアミノ、低級アルキルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキルアミノまたはトリフルオロメチルにより置換されているか、または置換されていない）、ヒドロキシ、低級アルコキシ、シアノ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、カルバモイル、Ｎ−低級アルキル−カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキル−カルバモイル、メルカプトまたは式Ｒ₅−Ｓ（Ｏ_q）−（式中、Ｒ₅は低級アルキルおよびｑは０、１または２）の基により置換されている低級アルキルであり、
   Ｒ ₂ は、低級アルキル；モノハロ−、ジハロ−またはトリハロ−低級アルキル；低級アルコキシ；非置換またはハロゲン、モノハロ−、ジハロ−またはトリハロ−低級アルキル、カルバモイル−メトキシ、カルボキシ−メトキシ、ベンジルオキシカルボニル−メトキシ、低級アルコキシカルボニル−メトキシ、フェニル、アミノ、アミノ−低級アルキル、低級アルカノイルアミノ、低級アルコキシカルボニルアミノ、フェニル−低級アルコキシカルボニルアミノ、フロイル、チエニルカルボニル、Ｎ−低級アルキルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキル−アミノ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、低級アルカノイルオキシ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、カルバモイル、Ｎ−低級アルキル−カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキル−カルバモイル、シアノ、アミジノ、Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’−ジ−低級アルキルアミノメチリデン）−アミノ、Ｎ−（（Ｎ’，Ｎ’−ジ−低級アルキルアミノ）−（低級アルキル）−メチリデン）−アミノ、グアニジノ、ウレイド、Ｎ ³ −低級アルキルウレイド、Ｎ ³ ，Ｎ ³ −ジ−低級アルキルウレイド、チオウレイド、Ｎ ³ −低級アルキルチオウレイド、Ｎ ³ ，Ｎ ³ −ジ−低級アルキルチオウレイド、低級アルカンスルホニルアミノ、ベンゼン−またはナフタレン−スルホニルアミノ（ただし、ベンゼンまたはナフタレン環において低級アルキル置換されているか、または低級アルキル置換されていない）、アジドもしくはニトロにより置換されているフェニル；非置換またはハロ−または低級アルキル−置換ピリジル；Ｎ−ベンジルピリドニル；ナフチル；シアノ；カルボキシ；低級アルコキシカルボニル；カルバモイル；Ｎ−低級アルキル−カルバモイル；Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキルカルバモイル；Ｎ−ベンジル−カルバモイル；ホルミル；低級アルカノイル；低級アルケニル；低級アルケニルオキシ；またはハロゲン、アミノ、低級アルキルアミノ、ピペラジノ、ジ−低級アルキルアミノ、フェニルアミノまたはフェニル（ただし、これらのフェニル部分はハロゲン、低級アルキル、ヒドロキシ、低級アルカノイルオキシ、低級アルコキシ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、カルバモイル、Ｎ−低級アルキル−カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキル−カルバモイル、シアノ、アミジノ、アミノ、アミノ−低級アルキル、低級アルカノイルアミノ、低級アルキルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキルアミノまたはトリフルオロメチルにより置換されているか、または置換されていない）、ヒドロキシ、低級アルコキシ、シアノ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、カルバモイル、Ｎ−低級アルキル−カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキル−カルバモイル、メルカプトまたは式Ｒ ₅ −Ｓ（Ｏ _q ）−（式中、Ｒ ₅ は低級アルキルおよびｑは０、１または２）の基により置換されている低級アルキルであり、そして
   Ｑは、２，３−ジヒドロインドール−１−イル、１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−１−イル、２，３，４，５−テトラヒドロ−１Ｈ−ベンゾ［ｂ］アゼピン−１−イル、１，２，３，４，５，６−ヘキサヒドロベンゾ［ｂ］アゾシン−１−イル、２，３，６，７，８，９−ヘキサヒドロ−１Ｈ−ベンゾ［ｇ］インドール−１−イル、１，２，３，５−テトラヒドロピロロ［２，３−ｆ］インドール−１−イルまたは１，２，３，５，６，７−ヘキサヒドロ−ピロロ［２，３−ｆ］インドール−１−イルであり、これらの基のそれぞれは非置換であるか、または互いに独立して低級アルキル、Ｎ，Ｎ−ジ−低級アルキルアミノ−低級アルキル、低級アルキニル、トリ−低級アルキルシラニル−低級アルキニル、ハロゲン、ニトロ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、イソチオシアナト、非置換フェニル、非置換フェニル−低級アルコキシ、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、アミノ、アジド、低級アルカノイルアミノ、トリハロ−低級アルキルカルボニルアミノ、ピロル−１−イルおよびピロリジン−１−イルからなる群から選択される１から３個の基により置換されているか、または二つの隣接環原子に結合する低級アルキレンジオキシで置換されている。］
   の化合物、または少なくとも一つの塩形成基が存在する場合、その塩。
2. Ｑが２，３−ジヒドロインドール−１−イル、６−クロロ−２，３−ジヒドロインドール−１−イル、６−ブロモ−２，３−ジヒドロインドール−１−イル、６−メチル−２，３−ジヒドロインドール−１−イルまたは１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−１−イルである、請求項１に記載の化合物、または少なくとも一つの塩形成基が存在する場合、その塩。
3. Ｒ ₁ およびＲ₂が互いに独立して低級アルキルであるか、またはＲ₁ が水素であって、Ｒ₂ が非置換またはアミノ、ニトロもしくはメトキンにより置換されているフェニルである、請求項１または２に記載の化合物、または少なくとも一つの塩形成基が存在する場合、その塩。
4. ４−（２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−５，６−ジメチル−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン、
   ４−（６−クロロ−２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−５，６−ジメチル−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン、
   ４−（６−ブロモ−２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−５，６−ジメチル−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン、
   ４−（６−メチル−２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−５，６−ジメチル−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン、
   ４−（１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−１−イル）−５，６−ジメチル−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン、
   ４−（２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−６−（４−ニトロ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン、
   ４−（２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−６−（４−アミノ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン、
   ４−（６−クロロ−２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−６−（４−ニトロ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］−ピリミジン、
   ４−（６−クロロ−２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−６−（４−アミノ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］−ピリミジン、
   ４−（１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−１−イル）−６−（４−ニトロ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン、
   ４−（１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−１−イル）−６−（４−アミノ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン、または
   ４−（２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−６−（４−メトキシ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］−ピリミジン
   である、請求項１から３のいずれかに記載の化合物、または少なくとも一つの塩形成基が存在する場合、その塩。
5. ４−（１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−１−イル）−５，６−ジメチル−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン、
   ４−（２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−６−（４−アミノ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン、
   ４−（１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−１−イル）−６−（４−アミノ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］−ピリミジン、または
   ４−（２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−６−（４−メトキシ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］−ピリミジン
   である、請求項４記載の化合物、または薬理学的に許容されるその塩。
6. ４−（６−クロロ−２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−５，６−ジメチル−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン、
   ４−（６−ブロモ−２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−５，６−ジメチル−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン、
   ４−（６−メチル−２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−５，６−ジメチル−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン、
   ４−（２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−６−（４−ニトロ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］−ピリミジン、
   ４−（６−クロロ−２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−６−（４−ニトロ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］−ピリミジン、
   ４−（６−クロロ−２，３−ジヒドロインドール−１−イル）−６−（４−アミノ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］−ピリミジン、または
   ４−（１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−１−イル）−６−（４−ニトロ−フェニル）−７Ｈ−ピロロ［２，３−ｄ］ピリミジン
   である、請求項４記載の化合物、または薬理学的に許容されるその塩。
7. 医薬として使用するための、請求項１から６のいずれかに記載の化合物、または薬理学的に許容されるその塩。
8. 請求項１から６のいずれかに記載の化合物、または薬理学的に許容されるその塩を、薬学的担体と共に含む、医薬組成物。
9. 腫瘍疾患または乾癬の処置に使用するための医薬組成物の製造における使用のための、請求項１から６のいずれかに記載の化合物、または薬理学的に許容されるその塩。
10. 請求項１から６のいずれかに記載の化合物、または薬理学的に許容されるその塩の、腫瘍疾患または乾癬の処置に使用するための医薬組成物の製造における使用。