JP4262031B2 - 露光装置及びデバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
以下、本発明の実施の形態を図面に基づきつつ説明する。図1は、本発明の実施の形態1に係る光学部材の冷却方法を用いた露光装置1の露光部全体の構成を模式的に示す概略図である。この露光装置1は、露光光源にEUV光2eを用いた走査露光方式の縮小投影露光装置であり、EUV光(露光光源光)2eを発する光源としてのEUV光源2・照明光学系3・反射型レチクル(以下、単にレチクルという。)4・レチクルステージ5・レチクルチャック9・投影光学系6・位置測定装置としてのレチクル用レーザ干渉計7a及びウエハ用レーザ干渉計7b・ウエハ12・ウエハ微動ステージ(以下、ウエハステージという。)13・ウエハチャック14・アライメント検出手段15・フォーカス位置検出手段16・真空系17等を有して大略構成される。
図7に、本実施の形態1において露光装置1で露光を行いつつ反射ミラー3aの冷却を行った際の結果を示す。図に示すように、露光が開始されると反射ミラー3aの温度は若干上昇するものの、蓄熱体26内のエタノールの蒸発が生じて蓄熱体26の温度が所定の温度範囲内に保たれるため、反射ミラー3aの温度は再びその後一定温度となる。
図8に、本発明の実施の形態2に係る光学部材の冷却方法を用いた露光装置の反射ミラー近傍を拡大した図を示す。なお、実施の形態1と同様の構成については、同様の引用符号を付し、その説明を省略する。
図9に、本発明の実施の形態3に係る光学部材の冷却方法を用いた露光装置の反射ミラー近傍を拡大した図を示す。なお、実施の形態1と同様の構成については、同様の引用符号を付し、その説明を省略する。
図10に、本発明の実施の形態4に係る光学部材の冷却方法を用いた露光装置のウエハ近傍を拡大した図を示す。なお、実施の形態1と同様の構成については、同様の引用符号を付し、その説明を省略する。本実施の形態4は、この発明をウエハの冷却に適用したものである。
2e:EUV光(露光光源光)
3a:反射ミラー(光学部材)
4:反射型レチクル
5:レチクルステージ
6a,6b,6c,6d:ミラー
9:レチクルチャック
11a;ペルチェ素子
11b:ペルチェ制御装置(駆動手段)
12:ウエハ(被処理体)
13:ウエハ微動ステージ
14:ウエハチャック(保持手段)
19:温度センサ(温度計測手段)
24:冷却装置
25:ミラーホルダ(保持手段)
26:蓄熱体
26a:密閉空間
27:冷媒
28:冷却配管(補助冷却手段の一部)
30:バルブ制御装置(補助冷却手段制御装置)
31:圧力計(圧力計測手段)
32:ベローズ
33:ベローズ制御手段
35:冷却プレート
Claims (4)
- 光源からの光を用いて、マスクのパターンを被処理体に露光する露光装置において、
前記光源からの光が照射される部材と、
密閉空間に収納され、前記部材を冷却する冷媒と、
前記冷媒を冷却する冷却手段と、
前記密閉空間の容積を制御する制御手段と、
前記密閉空間の圧力を計測する圧力計測手段とを有し、
露光時において、
前記冷媒を冷却せずに、前記冷媒により前記部材を冷却し、
前記制御手段が前記圧力計測手段による計測結果に基づいて前記密閉空間の容積を制御することにより、前記密閉空間の圧力を一定にすることを特徴とする露光装置。 - 前記部材の温度を計測する温度計測手段を有し、
前記制御手段は、前記温度計測手段による計測結果に基づいて前記密閉空間の容積を制御することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記部材から吸熱を行うとともに前記冷媒に排熱を行うペルチェ素子と、
非露光時に前記ペルチェ素子を駆動するとともに露光時に該ペルチェ素子を非駆動とする駆動手段とを備えたことを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置。 - 請求項1乃至3のいずれか一項に記載の露光装置を用いて前記被処理体を露光する工程と、
該露光された被処理体を現像する工程とを有するデバイスの製造方法。
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