JPWO2008041575A1 - ステージ装置および露光装置 - Google Patents
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Abstract
Description
さらに本発明は、そのステージ装置を用いる露光装置及びデバイス製造方法を提供することを目的とする。
図1は本発明の第1の実施形態のステージ装置50を示す。ステージ装置50は、露光ビームとして例えば荷電粒子線又はEUV光を用いる露光装置において、レチクル15(マスク)を保持して駆動するために使用される。以下、図1において、レチクル15を駆動するための案内面(後述の真空チャンバ1の摺動面1bに相当し、本実施形態ではほぼ水平面である)に垂直にZ軸(−Z方向が鉛直下方)を取り、その案内面内で図1の紙面に垂直にX軸を取り、図1の紙面に平行にY軸を取って説明する。本実施形態のステージ装置50を備える露光装置は、レチクルとレジスト(感光材料)が塗布されたウエハ(基板又は感応基板)とを所定の走査方向に同期して移動することによりウエハを露光する走査露光型であり、その走査方向は、図1ではY軸に平行な方向(Y方向)である。また、図1は、ステージ装置50のほぼ中央を通りZY平面に平行な面に沿って断面を取ったものである。
なお、カウンタマス11と粗微動一体テーブル13とを組み立てる際には、一例として、カウンタマス11からY方向リニアモータ固定子16を右方向に引き抜いた状態で、カウンタマス11の凹部11e内に、粗微動一体テーブル13の磁性体24及びY方向リニアモータ可動子17が固定された部分を配置する。この状態で、右側から凹部11eを横切るようにY方向リニアモータ固定子16を差し込み、一例として、Y方向リニアモータ固定子16のフランジ部をカウンタマス11の右側面にボルト(不図示)で固定すればよい。
(1)本実施形態のステージ装置50は、レチクル15を駆動するステージ装置であって、空間Aを形成するとともに、少なくとも一部に形成された開口部1aを有する真空チャンバ1と、レチクル15を保持する静電チャック14を有し、駆動時には静電チャック14が空間A内を移動するように構成された粗微動一体テーブル13と、開口部1aを覆うように配置され、粗微動一体テーブル13が駆動された時の反力によって移動可能なカウンタマス11と、カウンタマス11を収容する空間Bを形成するための真空カバー30と、を備え、空間Aの気圧と空間Bの気圧とを、空間A及び空間Bの外部の空間Cの気圧に対してそれぞれ所定の値に設定可能である。
さらに、一例として、粗微動一体テーブル13のレチクル15を保持する静電チャック14が配置される空間A、カウンタマス11と真空カバー30との間の空間B、及び真空カバー30の外側の大気圧の空間Cにかけて次第に気圧が高く設定される。従って、ステージ装置50の各構成部材及び/又は空間Aを区切る真空チャンバ1に対する気圧差が、真空カバー30(空間B)を設けない場合に比べて小さくなり、ステージ装置50の構成部材及び/又は真空チャンバ1の変形量が小さくなる。
(2)また、空間Bの気圧は、ほぼ1×10-4Torrから10Torrの間の低真空に設定されている。しかしながら、空間Bの気圧はその範囲に限定されることはない。ただし、空間Bの気圧がその上限より大きくなると、空間Bと空間Aとの気圧差が大きくなって、カウンタマス11及び/又は真空チャンバ1の変形量が大きくなる恐れがある。一方、空間Bの気圧がその下限より小さくなるようにしてもよい。例えば、空間Aと空間Bとの気圧が同じになるように設定することも可能である。この場合、空間Aと空間Bとの気圧差は小さくなって好ましいが、その分、空間Bの気圧を維持するための機構が複雑化する。
(3)なお、空間Bの気圧は、その外側の空間Cの気圧(ここでは大気圧)よりも低く、かつ空間Aの気圧よりも高いだけでもよく、特に圧力の値を特定しなくてもよい。この場合にも、空間Aと空間Bとの気圧差は、空間Aと大気圧との気圧差よりも小さくなるため、ステージ装置50の構成部材及び/又は真空チャンバ1の変形量が小さくなる。
(6)また、カウンタマス11に接続されてカウンタマス11に用力を供給するための配管群31及び配線32は、空間Bでのみカウンタマス11に接続される。この場合には、空間Bとレチクル15が配置される空間Aとは実質的に分離されているため、配管群31及び配線32から放出されるアウトガスがレチクル15が配置される空間Aに漏れ出て、空間A内の光学系(不図示)等に悪影響を与えることがない。
この場合、粗微動一体テーブル13を非接触にカウンタマス11に支持するための電磁コア12及び磁性体24よりなるZ・レベリング機構(支持機構)も備えられている。従って、走査露光時に例えばオートフォーカス方式で粗微動一体テーブル13(レチクル15)のZ方向の位置等の制御を行うこともできる。
(8)また、図1の実施形態では、カウンタマス11の案内面(摺動面1b)を真空チャンバ1と一体として形成しているため、構成が簡素である。しかしながら、例えば真空チャンバ1の外面に高平面度の案内部材を固定して、その案内部材(別部材)の上面をカウンタマス11の案内面としても構わない。
本発明の第2の実施形態につき図2を参照して説明する。本実施形態は、図1のステージ装置50を、露光ビームとしてEUV光を用いる露光装置(EUV露光装置)100に適用したものである。図2において、図1と同一の部材には同一の符号を付して、その詳細な説明を省略する。本実施形態では、そのEUV光として特に1〜50nm程度の波長の光が好ましい。
この実施形態の像光学システム101は、凹面の第1ミラー115a、凸面の第2ミラー115b、凸面の第3ミラー115c、及び凹面の第4ミラー115dよりなる4枚の反射ミラーから構成されている。各ミラー115a〜115dにはEUV光を反射する多層膜が形成されている。
(1)本実施形態の図2の露光装置100は、EUV光でレチクル15を介してウエハ71を露光する露光装置であって、レチクル15を駆動するために図1のステージ装置50を備えている。
この場合、図2において、ステージ装置50のカウンタマス11の上方に真空カバー30を配置しているため、真空隔壁を兼ねたカウンタマス11の内外での気圧差がほとんど無くなり、かつ大気圧が変動してもその気圧差は変動しないため、カウンタマス30の気圧差による変形が低減される。また、真空チャンバ1の摺動面1bも内外での気圧差が小さく、かつ一定になるため、気圧差による変形が低減される。従って、真空チャンバ1の摺動面1bとカウンタマス11の摺動面11aとの隙間は気圧差により変動することがなくなり、安定したカウンタマス11の移動が図れる。そのため、粗微動一体テーブル13の動きも円滑となり、レチクル15の高精度の駆動が可能となる。
従って、粗微動一体テーブル13及びカウンタマス11の移動を円滑に行うことが可能であり、レチクル15の駆動をより高精度に行うことができる。
以上、本発明を上述した実施形態によって説明してきたが、本発明の技術的範囲は上述した実施形態に限定されるものではなく、例えば、以下のような形態でも良い。
(2)上述の実施形態では、EUV露光装置に図1のステージ装置50を適用した例について説明したが、パターンを転写するエネルギ線は特に限定されず、光、紫外線、X線(軟X線等)、荷電粒子線(電子線、イオンビーム)等であっても良い。
(4)上述の実施形態では、図2の真空チャンバ1の上面にステージ装置50を装着したが、真空チャンバ1の側面又は下面にステージ装置50を装着してもよい。例えばステージ装置50によってウエハを駆動する場合には、ステージ装置50は真空チャンバ1の下面に装着される。
Claims (10)
- 物体を駆動するステージ装置であって、
第1空間を形成するとともに、少なくとも一部に形成された開口を有する第1部材と、
前記物体を保持する保持部を有し、駆動時には前記保持部が前記第1空間内を移動するように構成されたテーブルと、
前記開口を覆うように配置され、前記テーブルが駆動された時の反力によって移動可能な移動部材と、
前記移動部材を収容する第2空間を形成するための第2部材と、を備え、
前記第1空間の気圧と前記第2空間の気圧とを、前記第1空間および前記第2空間の外部の空間の気圧に対してそれぞれ所定の値に設定可能なステージ装置。 - 請求項1に記載のステージ装置において、
前記第2空間の気圧は、ほぼ1×10-4Torrから10Torrの間に設定されているステージ装置。 - 請求項1または請求項2に記載のステージ装置において、
前記第2空間の気圧は、前記第1空間の気圧よりも高く、大気圧よりも低く設定されているステージ装置。 - 請求項1から請求項3のいずれか一項に記載のステージ装置において、
前記第1部材と前記移動部材とによって、前記第1空間と前記第2空間とを互い独立した空間とするためのシール装置の少なくとも一部が形成されるステージ装置。 - 請求項4に記載のステージ装置において、
前記シール装置は、前記第1部材と前記移動部材との間に形成されるベアリングを有し、前記ベアリングは、前記第1部材の前記開口の周囲に形成された第1面と、前記第1面と対向するように前記移動部材に設けられた第2面とを含むステージ装置。 - 請求項1から請求項5のいずれか一項に記載のステージ装置において、
前記移動部材に接続されて該移動部材に用力を供給するための部材は、前記第2空間でのみ前記移動部材に接続されるステージ装置。 - 請求項1から請求項6のいずれか一項に記載のステージ装置において、
前記テーブルは、前記移動部材に対して非接触で駆動されるステージ装置。 - 露光ビームでマスクを介して基板を露光する露光装置であって、
前記マスクおよび前記基板の少なくとも一方を駆動するために、
請求項1から請求項7のいずれか一項に記載のステージ装置を備えた露光装置。 - 請求項8に記載の露光装置において、
前記ステージ装置の前記テーブルは、ほぼ水平面に沿って走査され、
前記ステージ装置の前記移動部材は、鉛直下方にある前記水平面にほぼ平行な案内面に沿って移動する露光装置。 - 請求項8または請求項9に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
前記露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
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