JP2005064391A - 光学部材の冷却方法、冷却装置、露光装置、及び、デバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
光学部材を、振動・位置安定性の悪化・面形状の劣化等の外乱を露光に影響させずに効率よくかつ充分に冷却することができ、高精度に回路パターンを露光転写することができてウエハの不良率を低減し、また高性能のウエハを作成することができる光学部材の冷却方法を提供すること。
【解決手段】
この光学部材の冷却方法はEUV光2eが照射される反射ミラー3aを冷却するための冷却方法であって、非露光時に反射ミラー3aを冷却するために所定の密閉空間26aにエタノール27が充填された蓄熱体26を冷却し、露光時に蓄熱体26を冷却しないことを特徴とする方法である。
【選択図】 図3
Description
以下、本発明の実施の形態を図面に基づきつつ説明する。図1は、本発明の実施の形態1に係る光学部材の冷却方法を用いた露光装置1の露光部全体の構成を模式的に示す概略図である。この露光装置1は、露光光源にEUV光2eを用いた走査露光方式の縮小投影露光装置であり、EUV光(露光光源光)2eを発する光源としてのEUV光源2・照明光学系3・反射型レチクル(以下、単にレチクルという。)4・レチクルステージ5・レチクルチャック9・投影光学系6・位置測定装置としてのレチクル用レーザ干渉計7a及びウエハ用レーザ干渉計7b・ウエハ12・ウエハ微動ステージ(以下、ウエハステージという。)13・ウエハチャック14・アライメント検出手段15・フォーカス位置検出手段16・真空系17等を有して大略構成される。
図7に、本実施の形態1において露光装置1で露光を行いつつ反射ミラー3aの冷却を行った際の結果を示す。図に示すように、露光が開始されると反射ミラー3aの温度は若干上昇するものの、蓄熱体26内のエタノールの蒸発が生じて蓄熱体26の温度が所定の温度範囲内に保たれるため、反射ミラー3aの温度は再びその後一定温度となる。
図8に、本発明の実施の形態2に係る光学部材の冷却方法を用いた露光装置の反射ミラー近傍を拡大した図を示す。なお、実施の形態1と同様の構成については、同様の引用符号を付し、その説明を省略する。
図9に、本発明の実施の形態3に係る光学部材の冷却方法を用いた露光装置の反射ミラー近傍を拡大した図を示す。なお、実施の形態1と同様の構成については、同様の引用符号を付し、その説明を省略する。
図10に、本発明の実施の形態4に係る光学部材の冷却方法を用いた露光装置のウエハ近傍を拡大した図を示す。なお、実施の形態1と同様の構成については、同様の引用符号を付し、その説明を省略する。本実施の形態4は、この発明をウエハの冷却に適用したものである。
2e:EUV光(露光光源光)
3a:反射ミラー(光学部材)
4:反射型レチクル
5:レチクルステージ
6a,6b,6c,6d:ミラー
9:レチクルチャック
11a;ペルチェ素子
11b:ペルチェ制御装置(駆動手段)
12:ウエハ(被処理体)
13:ウエハ微動ステージ
14:ウエハチャック(保持手段)
19:温度センサ(温度計測手段)
24:冷却装置
25:ミラーホルダ(保持手段)
26:蓄熱体
26a:密閉空間
27:冷媒
28:冷却配管(補助冷却手段の一部)
30:バルブ制御装置(補助冷却手段制御装置)
31:圧力計(圧力計測手段)
32:ベローズ
33:ベローズ制御手段
35:冷却プレート
Claims (15)
- 露光光源光が照射される光学部材を冷却するための光学部材の冷却方法であって、
非露光時には前記光学部材を冷却するために所定の密閉空間に冷媒が充填された蓄熱体を冷却し、露光時には該蓄熱体を冷却しないことを特徴とする光学部材の冷却方法。 - 前記冷媒が所定温度において相変化可能であり、かつ前記露光時には前記冷媒の相変化に伴う吸熱により前記光学部材を冷却することを特徴とする請求項1に記載の光学部材の冷却方法。
- 前記相変化が、液相と気相との間の相変化であることを特徴とする請求項2に記載の光学部材の冷却方法。
- 前記相変化が、固相と液相との間の相変化であることを特徴とする請求項2に記載の光学部材の冷却方法。
- 前記密閉空間の空間容積が可変であることを特徴とする請求項1に記載の光学部材の冷却方法。
- 前記密閉空間内の圧力を圧力計測手段によって計測しつつその計測値に基づいて該密閉空間の空間容積を制御することを特徴とする請求項5に記載の光学部材の冷却方法。
- 前記光学部材の温度を温度計測手段によって計測しつつその計測値に基づいて該密閉空間の空間容積を制御することを特徴とする請求項5に記載の光学部材の冷却方法。
- 露光光源光が照射される光学部材を冷却するために所定の密閉空間に所定温度において相変化可能な冷媒が充填されて構成された蓄熱体と、
該蓄熱体を冷却する補助冷却手段と、
非露光時に前記補助冷却手段が前記蓄熱体を冷却し、かつ、露光時に前記補助冷却手段が該蓄熱体を冷却しないように該補助冷却手段を制御する補助冷却手段制御装置と、
を備えたことを特徴とする光学部材の冷却装置。 - 前記密閉空間に液相及び気相の前記冷媒が充填されていることを特徴とする請求項8に記載の光学部材の冷却装置。
- 前記密閉空間に固相及び液相の前記冷媒が充填されていることを特徴とする請求項8に記載の光学部材の冷却装置。
- 前記密閉空間の圧力を計測する圧力計測手段と、該圧力計測手段による計測結果に基づいて該密閉空間の空間容積を制御する容積制御手段とを備えたことを特徴とする請求項8に記載の光学部材の冷却装置。
- 前記光学部材の温度を計測する温度計測手段と、該温度計測手段による計測結果に基づいて該密閉空間の空間容積を制御する容積制御手段とを備えたことを特徴とする請求項8に記載の光学部材の冷却装置。
- 前記光学部材から吸熱を行うとともに前記蓄熱体に排熱を行うペルチェ素子と、非露光時に前記ペルチェ素子を駆動するとともに露光時に該ペルチェ素子を非駆動とする駆動手段とを備えたことを特徴とする請求項8に記載の光学部材の冷却装置。
- 露光光源と、
該露光光源より発せられた光源光を被処理体に導くための光学部材と、
該光学部材の冷却装置とを有し、
該光学部材の冷却装置が、前記露光光源光が照射される光学部材を冷却するために所定の密閉空間に所定温度において相変化可能な冷媒が充填されて構成された蓄熱体と、
該蓄熱体を冷却する補助冷却手段と、
非露光時に前記補助冷却手段が前記蓄熱体を冷却し、かつ、露光時に前記補助冷却手段が該蓄熱体を冷却しないように該補助冷却手段を制御する補助冷却手段制御装置と、
を備えていることを特徴とする露光装置。 - 請求項14に記載の露光装置によって前記被処理体を投影露光する工程と、前記投影露光された被処理体に所定のプロセスを行う工程とを有するデバイスの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003295566A JP4262031B2 (ja) | 2003-08-19 | 2003-08-19 | 露光装置及びデバイスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003295566A JP4262031B2 (ja) | 2003-08-19 | 2003-08-19 | 露光装置及びデバイスの製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005064391A true JP2005064391A (ja) | 2005-03-10 |
JP2005064391A5 JP2005064391A5 (ja) | 2006-09-21 |
JP4262031B2 JP4262031B2 (ja) | 2009-05-13 |
Family
ID=34371768
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003295566A Expired - Fee Related JP4262031B2 (ja) | 2003-08-19 | 2003-08-19 | 露光装置及びデバイスの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP7155148B2 (ja) | 2017-04-11 | 2022-10-18 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置および冷却方法 |
US11720034B2 (en) | 2017-04-11 | 2023-08-08 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and cooling method |
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JP4262031B2 (ja) | 2009-05-13 |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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