JP4232480B2 - 貴金属コート銀微粒子分散液の製造方法と透明導電層形成用塗布液および透明導電性基材と表示装置 - Google Patents

貴金属コート銀微粒子分散液の製造方法と透明導電層形成用塗布液および透明導電性基材と表示装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4232480B2
JP4232480B2 JP2003045596A JP2003045596A JP4232480B2 JP 4232480 B2 JP4232480 B2 JP 4232480B2 JP 2003045596 A JP2003045596 A JP 2003045596A JP 2003045596 A JP2003045596 A JP 2003045596A JP 4232480 B2 JP4232480 B2 JP 4232480B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fine particles
transparent conductive
conductive layer
coated silver
silver fine
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2003045596A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2004281056A (ja
Inventor
雅也 行延
有希子 末兼
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Mining Co Ltd filed Critical Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority to JP2003045596A priority Critical patent/JP4232480B2/ja
Priority to US10/390,593 priority patent/US7053126B2/en
Priority to CNB031082033A priority patent/CN1254336C/zh
Publication of JP2004281056A publication Critical patent/JP2004281056A/ja
Priority to US11/127,253 priority patent/US20050199860A1/en
Priority to US11/127,252 priority patent/US20050214522A1/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4232480B2 publication Critical patent/JP4232480B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J13/00Colloid chemistry, e.g. the production of colloidal materials or their solutions, not otherwise provided for; Making microcapsules or microballoons
    • B01J13/0004Preparation of sols
    • B01J13/0043Preparation of sols containing elemental metal
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F1/00Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
    • B22F1/05Metallic powder characterised by the size or surface area of the particles
    • B22F1/054Nanosized particles
    • B22F1/0545Dispersions or suspensions of nanosized particles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F1/00Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
    • B22F1/14Treatment of metallic powder
    • B22F1/148Agglomerating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/20Conductive material dispersed in non-conductive organic material
    • H01B1/22Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising metals or alloys
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B22CASTING; POWDER METALLURGY
    • B22FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
    • B22F2998/00Supplementary information concerning processes or compositions relating to powder metallurgy
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2323/00Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
    • C09K2323/06Substrate layer characterised by chemical composition
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/12All metal or with adjacent metals
    • Y10T428/12493Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
    • Y10T428/12771Transition metal-base component
    • Y10T428/12861Group VIII or IB metal-base component
    • Y10T428/12889Au-base component
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
    • Y10T428/24917Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.] including metal layer
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/25Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/29Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
    • Y10T428/2982Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
    • Y10T428/2991Coated

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
  • Manufacturing Of Electric Cables (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、溶媒中に貴金属コート銀微粒子が分散された貴金属コート銀微粒子分散液の製造方法に係り、特に、上記貴金属コート銀微粒子が溶媒中において鎖状凝集体を構成している貴金属コート銀微粒子分散液の製造方法とこの方法により得られる透明導電層形成用塗布液および透明導電層形成用塗布液を適用して得られる透明導電性基材とこの透明導電性基材が組み込まれた表示装置の改良に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
【0003】
【特許文献1】
特開平8−77832号公報(段落番号0018)
【特許文献2】
特開平9−55175号公報(請求項4、段落番号0012)
【特許文献3】
特開平9−115438号公報(段落番号0007)
【特許文献4】
特開平10−1777号公報(段落番号0013)
【特許文献5】
特開平10−142401号公報(段落番号0011)
【特許文献6】
特開平10−182191号公報(段落番号0026、段落番号0038)
【特許文献7】
特開平10−110123号公報(請求項1、段落番号0023、段落番号0027−0028)
【特許文献8】
特開2002−38053号公報(請求項1、段落番号0030)
【特許文献9】
特開2000−124662号公報(請求項1、段落番号0012−0013)
【特許文献10】
特開平11−329071号公報(請求項1、段落番号0011−0012)
【特許文献11】
特開2000−196287号公報(請求項1、段落番号0025−0035)
【特許文献12】
特開平11−228872号公報
【特許文献13】
特開2000−268639号公報
【非特許文献1】
工業材料;Vol.44,No.9,1996,p68−71
【0004】
現在、コンピュータディスプレイ等として用いられている陰極線管(ブラウン管とも称する:CRT)では、表示画面が見易く、視覚疲労を感じさせないこと等が要求されている。更に、最近ではCRTから発生する低周波電磁波の人体に対する悪影響が懸念され、このような電磁波が外部に漏洩しないことが望まれている。このような漏洩電磁波に対しては、ディスプレイの前面板表面に透明導電層を形成することにより防止することが可能である。例えば、CRTの漏洩電磁波防止(電界シールド)用として、少なくとも106 Ω/□以下、好ましくは5×103 Ω/□以下、さらに好ましくは103 Ω/□以下である低抵抗の透明導電層を前面板表面に形成することが要求されている。
【0005】
そして、上記低抵抗の透明導電膜としてこれまでにいくつかの提案がなされており、例えば、インジウム錫酸化物(ITO)等の導電性酸化物微粒子や金属微粒子が溶媒中に分散された透明導電層形成用塗布液を、CRTの前面ガラス(前面板)にスピンコート法等で塗布しかつ乾燥させた後、200℃程度の温度で焼成して上記透明導電層を形成する方法、塩化錫の高温化学気相成長法(CVD)により、上記前面ガラス(前面板)に透明導電酸化錫膜(ネサ膜)を形成する方法、インジウム錫酸化物、酸窒化チタン等のスパッタリング法により上記前面ガラス(前面板)に透明導電膜を形成する方法、等の方法が提案されている。
【0006】
透明導電層形成用塗布液を用いる最初の方法は、CVD法やスパッタ法等で透明導電膜を形成する後者の方法に較べてはるかに簡便でかつ製造コストも低いため極めて有利な方法であった。
【0007】
但し、透明導電層形成用塗布液を用いる最初の方法において、透明導電層形成用塗布液としてインジウム錫酸化物(ITO)等の導電性酸化物微粒子が適用された場合、得られる透明導電層の表面抵抗が104〜106Ω/□と高いため、漏洩電界を遮蔽するには充分でなかった。
【0008】
一方、金属微粒子が適用された透明導電層形成用塗布液では、上記ITOを用いた塗布液に比べ、若干、膜の透過率が低くなるものの102〜103Ω/□という低抵抗の透明導電層が得られるため、今後、有望な方法であると思われる。
【0009】
そして、透明導電層形成用塗布液に適用される金属微粒子としては、特許文献1や特許文献2などに示されているように、空気中で酸化され難い、銀、金、白金、パラジウム、ロジウム、ルテニウム等の貴金属が提案されている。尚、上記特許文献では、貴金属以外の金属微粒子、例えば、鉄、ニッケル、コバルト等の微粒子も適用可能と記載されているが、実際には、大気雰囲気下でこれ等金属微粒子の表面に酸化物被膜が必ず形成されてしまうため、透明導電層として良好な導電性を得ることは難しい。
【0010】
また、表示画面を見易くするために、例えば、CRTにおいては前面板表面に防眩処理を施して画面の反射を抑えることも行われている。
【0011】
この防眩処理は、微細な凹凸を設けて表面の拡散反射を増加させる方法によってもなされるが、この方法を用いた場合、解像度が低下して画質が落ちるためあまり好ましいとはいえない。
【0012】
従って、むしろ反射光が入射光に対して破壊的干渉を生ずるように、透明被膜の屈折率と膜厚とを制御する干渉法によって防眩処理を行うことが好ましい。
【0013】
このような干渉法により低反射効果を得るため、一般的には高屈折率膜と低屈折率膜の光学膜厚をそれぞれ1/4λと1/4λ(λ:波長)、あるいは1/2λと1/4λに設定した二層構造膜が採用されており、前述のインジウム錫酸化物(ITO)微粒子からなる膜もこの種の高屈折率膜として用いられている。
【0014】
尚、金属においては、光学定数(n−ik、n:屈折率,i2=−1、k:消衰係数)の内、nの値は小さいがkの値が大きいため、金属微粒子からなる透明導電層を用いた場合でも、ITO(高屈折率膜)と同様に、二層構造膜で光の干渉による反射防止効果が得られる。
【0015】
更に、この種の透明導電層が形成された透明導電性基材には、上述した良好な導電性、低反射率等の特性に加えて、近年、CRT画面の平面化に伴いその透過率を100%より低い所定範囲(具体的には40〜95%、一般的には40〜75%)に調整して画像のコントラストを向上させる特性も要請されており、この要請に対処するため上記透明導電層形成用塗布液に着色顔料微粒子等を配合することも行われている。
【0016】
尚、平面CRTにおいて低透過率の透明導電層を形成しているのは以下の理由による。すなわち、平面CRTのフェースパネル(前面パネル)においては、パネルの外表面が平面で内面は曲率を有する構造になっているため、フェースパネルの厚みが画面中央部と周辺部で異なり、従来の着色ガラス(例えば、セミティントガラス、透過率:約53%)をパネルガラスに用いた場合、輝度の面内不均一を生じる。そこで、高透過率パネルガラスと着色顔料微粒子等を配合した低透過率の透明導電層を組合わせることで輝度の面内均一性とコントラスト向上(透過率を低下させるとコントラストは向上する)を両立させるためであった。
【0017】
但し、有色顔料微粒子等の添加により透明導電層の導電性が若干低下し易くなるという問題もあった。
【0018】
ところで、金属微粒子が適用された導電層は、本来、金属が可視光線に対し透明でないことから、上述した透明導電層における高透過率と低抵抗を両立させるためには、できるだけ少量の金属微粒子が透明導電層内において効率よく導電パスを形成していることが望ましい。つまり、溶媒と金属微粒子を主成分とする一般的な透明導電層形成用塗布液を基板上に塗布しかつ乾燥させて得られる導電層の構造として、金属微粒子の層に微小な空孔が導入された構造、すなわち網目状(ネットワーク)構造を有することが必要である。
【0019】
このような網目状構造が形成されると低抵抗かつ高透過率の透明導電層が得られるが、これは、金属微粒子から成る網目状部分が導電パスとして機能する一方、網目状構造において形成された穴の部分が光線透過率を向上させる機能を果たすためと考えられている。
【0020】
そして、金属微粒子の上記網目状構造を形成させる手法としては、大別すると以下の方法が挙げられる。
(1)透明導電層形成用塗布液の塗布かつ乾燥の製膜過程において金属微粒子同士を凝集させることで網目状構造を形成させる方法。
【0021】
すなわち、金属微粒子は酸化物微粒子等に比べて凝集し易いため、透明導電層形成用塗布液の溶剤組成等を適宜選定することによって、塗布かつ乾燥の製膜過程において必然的にある程度の金属微粒子同士の凝集が起きて上記網目状構造を得る方法(特許文献3、特許文献4、特許文献5、特許文献6等参照)。
【0022】
透明導電層形成用塗布液に、凝集誘因剤、凝集促進高沸点溶剤等を更に添加し、塗布かつ乾燥過程において積極的に金属微粒子同士の凝集を促進させて網目状構造を得る方法(特許文献7、特許文献8等参照)。
(2)金属微粒子の凝集体が分散された透明導電層形成用塗布液を塗布かつ乾燥させることによって金属微粒子の網目状構造を形成させる方法。
【0023】
すなわち、金属微粒子の1次粒子を均一に単分散させずに小さな孔を持つ形で集合させた金属微粒子の分散液を用いる方法(非特許文献1参照)。
【0024】
金属微粒子が鎖状に凝集した鎖状凝集体を予め分散させた透明導電層形成用塗布液を用いる方法(特許文献9参照)。
【0025】
そして、これ等(1)と(2)の方法を比べると、(2)の方法は透明導電層形成用塗布液において金属微粒子の凝集体が予め完成されていることから、発達した網目状構造の形成が容易となる利点を有している。
【0026】
その反面、透明導電層形成用塗布液のろ過処理時においてフィルターが目詰まりを起こし易かったり、金属微粒子の凝集が進み過ぎると塗膜欠陥を生ずる等の別な問題が生じる。
【0027】
但し、透明導電層形成用塗布液中に予め形成されている金属微粒子の凝集体について、その分散安定性が十分高く、かつ、凝集体のサイズが数百ミクロン以下に制御されていれば、良好な導電性を有する透明導電層を形成できるという観点からは好ましい方法ではある。
【0028】
ここで、(2)の方法において、透明導電層形成用塗布液(あるいは透明導電層形成用塗布液の製造に用いられる金属微粒子分散液)中において、予め金属微粒子の凝集体を形成させる方法として、例えば、特許文献9、特許文献10、特許文献11に記載された以下の(a)〜(e)の方法が知られている。
(a)金属微粒子の分散液に、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩、アンモニウム塩等の水溶性塩、若しくは、塩酸、硝酸、りん酸、酢酸等の酸、あるいは、苛性ソーダ、アンモニア等のアルカリを加えて金属微粒子の分散性を不安定にし、金属微粒子の凝集体を形成する方法。
(b)透明導電層形成用塗布液に分散されている金属微粒子を金属塩の水溶液から調製する段階で、水溶液のpH等を所定の範囲に制御して、金属微粒子の凝集体を形成する方法。
(c)金属微粒子の分散液を分散溶媒の沸点以下である数十度の温度に数時間〜数十時間保持して、金属微粒子の凝集体を形成する方法。
(d)金属微粒子の分散液にアルコール等の有機化合物を添加し分散溶媒の極性を制御することで、金属微粒子の凝集体を形成する方法。
(e)金属微粒子の分散液にサンドミル法、衝撃分散法等のメカニカル分散処理を行い、金属微粒子の凝集体を形成する方法。
【0029】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記(a)〜(d)の方法において、(a)と(d)の方法は、金属微粒子の分散安定性を低下させて(系のゼータ電位は低下し安定性が低下)凝集体を形成させる方法のため、そのまま放置すると金属微粒子は不安定なままで凝集が徐々に進行してしまうことから実用的でない。そこで、系の安定性を高めるために不安定化要因[(a)の方法では水溶性塩、酸、アルカリ等、(d)の方法ではアルコール等の有機化合物]を取除く必要があるが、この工程が煩雑で好ましい方法ではなかった。
【0030】
また、(c)の方法は、金属微粒子の分散液を加熱保持するだけで良く簡便な方法ではあるが、もともと数十度の加温で凝集体が形成されるような透明導電層形成用塗布液は、含まれる金属微粒子自体の分散安定性が高いとは言えず、従って形成された凝集体の分散安定性も低いという問題があった。反対に、金属微粒子自体の分散安定性が高い場合は、数十度の加温で凝集体を形成するために長時間を要するためやはり実用的とは言えなかった。
【0031】
また、(b)の方法は、金属微粒子における金属塩水溶液からの調製段階で金属微粒子の凝集体を形成する方法のため、その後における透明導電層形成用塗布液を調製するための濃縮工程などで凝集体同士の凝集・沈殿等が起こる問題があり、さらに金属微粒子の凝集状態を予め決めておく必要があることから金属微粒子の凝集状態を後の段階で自由に変えることができない不自由さがあった。
【0032】
更に、(e)の方法は、金属微粒子の凝集体形成にメカニカル分散処理を施す方法のため、高価な処理装置が必要となりかつ処理工程も簡便とは言えない問題点があった。
【0033】
本発明は、この様な問題点に着目してなされたもので、その課題とするところは、金属微粒子の凝集体が分散された透明導電層形成用塗布液[すなわち、上記(2)の方法]を前提とし、この透明導電層形成用塗布液に適用される貴金属コート銀微粒子分散液を簡便かつ安価に製造できる貴金属コート銀微粒子分散液の製造方法を提供し、合わせて高透過率と低反射率特性に優れかつ良好な導電性を有する透明導電層を透明基板上に形成することができしかも保存安定性にも優れた透明導電層形成用塗布液を提供すると共に、この透明導電層形成用塗布液を用いて形成される透明導電性基材と表示装置を提供することにある。
【0034】
【課題を解決するための手段】
すなわち、請求項1に係る発明は、
溶媒とこの溶媒に分散された平均粒径1〜100nmの貴金属コート銀微粒子を含有し、かつ、上記貴金属コート銀微粒子における複数の一次粒子が鎖状に凝集して鎖状凝集体を構成している貴金属コート銀微粒子分散液の製造方法を前提とし、
上記貴金属コート銀微粒子が、銀微粒子の表面に金単体がコーティングされた銀微粒子により構成されると共に、
貴金属コート銀微粒子の一次粒子が溶媒に単分散された分散液にヒドラジン溶液を加えて分散液内における貴金属コート銀微粒子の分散性を不安定化させ、貴金属コート銀微粒子における複数の一次粒子を鎖状に凝集させて鎖状凝集体の分散液を得る凝集工程と、
得られた鎖状凝集体の分散液に過酸化水素溶液を加えて上記ヒドラジンを分解かつ除去し、分散液内における上記鎖状凝集体の分散性を安定化させる安定化工程、
の各工程を具備することを特徴とする。
【0036】
次に、請求項2〜5に係る発明は上記貴金属コート銀微粒子分散液の製造方法によって得られる透明導電層形成用塗布液を特定した発明に関する。
【0037】
すなわち、請求項に係る発明は、
請求項1記載の貴金属コート銀微粒子分散液の製造方法により得られる透明導電層形成用塗布液を前提とし、
上記貴金属コート銀微粒子が、銀微粒子の表面に金単体がコーティングされた銀微粒子により構成されると共に、溶媒とこの溶媒に分散された上記貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体を含有し、貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体は、複数の平均粒径1〜100nmの一次粒子が鎖状に凝集してなり、かつ、その平均長さが5〜500nmであることを特徴とする。
【0038】
また、請求項に係る発明は、
請求項2に記載の発明に係る透明導電層形成用塗布液を前提とし、
0.1〜10重量%の貴金属コート銀微粒子と、1〜50重量%の水分を含むことを特徴とし、
請求項に係る発明は、
請求項2または3に記載の発明に係る透明導電層形成用塗布液を前提とし、
上記貴金属コート銀微粒子100重量部に対して、1〜100重量の範囲の有色顔料微粒子を含むことを特徴とし、
請求項に係る発明は、
請求項4に記載の発明に係る透明導電層形成用塗布液を前提とし、
上記有色顔料微粒子が、カーボン、チタンブラック、窒化チタン、複合酸化物顔料、コバルトバイオレット、モリブデンオレンジ、群青、紺青、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン系顔料、イソインドリノン系顔料、アゾ系顔料およびフタロシアニン系顔料から選択された1種以上の微粒子、若しくはその表面が酸化ケイ素でコーティングされた微粒子であることを特徴とするものである。
【0039】
次に、請求項6〜7に係る発明は上記透明導電層形成用塗布液を用いて得られる透明導電性基材と表示装置を特定した発明に関する。
【0040】
すなわち、請求項に係る発明は、
透明導電性基材を前提とし、
請求項2〜5のいずれかに記載の透明導電層形成用塗布液を用いて透明基板上に形成された透明導電層と、この透明導電層上に無機バインダーを含有する透明コート層形成用塗布液を用いて形成された透明コート層とで構成される透明2層膜を有することを特徴とし、
請求項に係る発明は、
装置本体とこの前面側に配置された前面板とを備える表示装置を前提とし、
上記前面板として請求項に記載の透明導電性基材がその透明2層膜を外面にして組込まれていることを特徴とするものである。
【0041】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
【0042】
まず、本発明は、溶媒に貴金属コート銀微粒子が単分散した貴金属コート銀微粒子の分散液にヒドラジン(N24)溶液を添加すると、貴金属コート銀微粒子の分散安定性が低下(系のゼータ電位[絶対値]は低下)し上記貴金属コート銀微粒子が鎖状に凝集して貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体を生じること、更に、過酸化水素(H22)溶液を添加すると、過酸化水素の作用で上記ヒドラジンが分解かつ除去されて上記鎖状凝集体の凝集状態は保たれたままその分散安定性が再度向上(系のゼータ電位[絶対値]は増加)すること、かつ、これら一連の反応が以下の化学式(1)に示されるように、反応生成物が水(H2O)および窒素ガス(N2)だけで不純物イオンの副生がないことを見出して完成されている。
【0043】
24+2H22→4H2O+N2↑ (1)
そして、貴金属コート銀微粒子が鎖状凝集体を構成している本発明に係る貴金属コート銀微粒子分散液の具体的な調製方法としては、例えば、ガラス、プラスチック容器等に入れられた貴金属コート銀微粒子が単分散した分散液を攪拌機等で攪拌しながら、上記ヒドラジン溶液および過酸化水素溶液をそれぞれ添加するだけでよい。尚、これら溶液の添加は、スポイトあるいはポンプ等を用い徐々に行うことが好ましい。特に、ヒドラジン溶液については、貴金属コート銀微粒子が単分散した分散液へ一度に添加した場合、一部の貴金属コート銀微粒子に過剰な凝集が生ずる可能性があり好ましくない。
【0044】
ここで、ヒドラジン溶液の添加により上記貴金属コート銀微粒子の凝集が起こる理由については定かでないが、ヒドラジンのアルカリイオンとしての作用あるいは還元剤として系の酸化還元電位を低下させる作用により、貴金属コート銀微粒子の分散安定性が低下するためと考えられる。
【0045】
また、上記ヒドラジン溶液としては、ヒドラジンあるいはヒドラジン一水和物(N24・H2O)の水溶液若しくは有機溶液、水−有機溶剤の混合溶液が適用され、また、過酸化水素溶液としては、過酸化水素の水溶液若しくは有機溶液、水−有機溶剤の混合溶液が適用される。
【0046】
次に、ヒドラジン溶液の添加量は、貴金属コート銀微粒子の濃度および目的とする貴金属コート銀微粒子の凝集度合いに応じて任意に設定される。例えば、貴金属コート銀微粒子濃度が1〜2重量%の貴金属コート銀微粒子の分散液の場合、好ましくは貴金属コート銀微粒子の分散液に対しヒドラジンとして10〜500ppmがよく、20〜200ppmが更に好ましい。10ppmより少ないと貴金属コート銀微粒子の凝集が不十分なことがあり、500ppmを超えると貴金属コート銀微粒子の凝集が進み過ぎるため実用的でない。他方、過酸化水素溶液の添加量は、添加されたヒドラジンを分解できる量であればよく、上記した化学式(1)の反応におけるヒドラジンに対する化学量論的な値が好ましい。但し、過酸化水素は自己分解(水と酸素ガスに分解)を起こし易いため、例えば、上記化学量論的な値の1.5倍程度の過剰量を用いても支障はない。
【0047】
また、本発明の製造方法で得られる貴金属コート銀微粒子における鎖状凝集体の凝集状態は、上述したようにヒドラジン溶液の添加量で自由に制御可能であるが、ヒドラジン溶液を添加した後の過酸化水素溶液を添加するまでの時間(保持時間)と温度(保持温度)によっても制御することが可能である。これは、ヒドラジンによる貴金属コート銀微粒子の分散不安定化状態が過酸化水素を添加するまで持続されるためである。但し、実用性を考慮すると、上記保持時間は数分〜1時間程度(好ましくは数分〜20分程度)、保持温度は室温(例えば25℃)に設定した上で、ヒドラジン溶液の添加量を増減させることにより、上記鎖状凝集体の凝集状態を制御することが望ましい。
【0048】
ここで、本発明に係る貴金属コート銀微粒子分散液は、その主な用途として透明基板上に透明導電層を形成する透明導電層形成用塗布液を前提にしていることから、貴金属コート銀微粒子分散液中の貴金属コート銀微粒子の平均粒径は1〜100nmであることが必要である(請求項1)。1nm未満の場合、この微粒子の製造が困難であると同時に塗料化において分散も容易でなく実用的でないからである。また、100nmを超えると、形成された透明導電層の可視光線の散乱が大きくなり(つまり膜のヘイズ値が高くなり)実用的ではないからである。尚、ここで言う平均粒径とは、透過電子顕微鏡(TEM)で観察される凝集体を構成する一次粒子の平均粒径を示している。
【0049】
また、上記貴金属コート銀微粒子としては、銀微粒子表面が、金、銀、白金、パラジウム、ロジウム、ルテニウムから選択された貴金属によりコーティングされた銀微粒子を適用することができる。
【0050】
ここで、銀、金、白金、ロジウム、ルテニウム、パラジウムなどの比抵抗を比較した場合、白金、ロジウム、ルテニウム、パラジウムの比抵抗は、それぞれ10.6、4.51、7.6、10.8μΩ・cmで、銀、金の1.62、2.2μΩ・cmに比べて高いため、表面抵抗の低い透明導電層を形成するには銀微粒子や金微粒子を適用した方が有利と考えられる。
【0051】
但し、銀微粒子が適用された場合、硫化や食塩水による劣化が激しいという耐候性の面から用途が制限され、他方、金微粒子、白金微粒子、ロジウム微粒子、ルテニウム微粒子、パラジウム微粒子等が適用された場合には上記耐候性の問題はなくなるがコスト面を考慮すると必ずしも最適とは言えない。
【0052】
そこで、耐候性とコストの両条件を満たす微粒子として、金、銀、白金、パラジウム、ロジウム、ルテニウムから選択された貴金属により銀微粒子表面がコーティングされた貴金属コート銀微粒子が挙げられ、特に、本発明においては金単体で銀微粒子表面をコーティングした貴金属コート銀微粒子が適用される(請求項1)。尚、本発明者等は、貴金属コート銀微粒子を適用した透明導電層形成用塗液とその製造方法を既に提案している(特許文献12、特許文献13参照)。
【0053】
ここで、本発明に係る貴金属コート銀微粒子分散液をその主な用途である透明導電層形成用塗布液として適用する場合、透明導電層形成用塗布液に含まれる金属微粒子が上記貴金属コート銀微粒子でなく、例えば、2種類以上の貴金属微粒子が混合された混合微粒子であると以下のような不具合を生ずることがある。
【0054】
すなわち、透明導電層形成用塗布液に含まれる金属微粒子として2種類以上の貴金属微粒子を組合わせて適用した場合、各貴金属微粒子を鎖状に凝集させた後に個々の分散液を混合するか、個々の貴金属微粒子が単分散された各分散液を混合した後に凝集処理を行っても、凝集体を構成する各々の一次粒子は1種類の貴金属からなるため、各貴金属微粒子は凝集体中で偏在し易い。
【0055】
このため、上記混合微粒子が適用された透明導電層形成用塗布液を用いて透明導電層を形成した際には、混合微粒子を構成する各貴金属は透明導電層中に均一に存在せず、それぞれの貴金属微粒子が集まった部分が生じ、形成した透明導電層の特性に悪影響を与えることがある。例えば、銀微粒子が集まった部分は、その部分だけが特に耐候性が悪くなり、全体の耐候性評価に悪影響を与えてしまう可能性がある。また、銀に比べて比抵抗の高い貴金属が集まった部分があると全体の表面抵抗値が高くなる。
【0056】
そこで、本発明に係る透明導電層形成用塗布液においても、透明導電層形成用塗布液に含まれる微粒子は、金単体で銀微粒子表面をコーティングした貴金属コート銀微粒子であることを要する(請求項)。
【0057】
尚、透明導電層形成用塗布液に含まれる微粒子が貴金属コート銀微粒子である場合、この透明導電層形成用塗布液により形成された透明導電層内においては、製膜過程における加熱処理により貴金属コート銀微粒子のコート層と銀微粒子界面で合金化が起こり、上記コート層がのみによって構成されているとは限らない場合が存在する。但し、この場合でも、各貴金属コート銀微粒子の各々のコート層が同じ成分である金と銀の合金で構成されることになるため、上述した偏在に伴う弊害が生ずることがない。
【0058】
次に、本発明に係る貴金属コート銀微粒子分散液は、その主な用途である透明導電層形成用塗布液として適用する場合、上記分散液がそのまま透明基板上に塗布できる塗布液の状態(すなわち、貴金属コート銀微粒子における鎖状凝集体の濃度、溶媒組成等が透明導電層形成用の塗布液に調整されており、この塗布液を用いれば透明基板上に透明導電層が直接形成される)でも良いし、あるいは、高濃度の鎖状凝集体を有する分散液の状態でも良い。後者の場合、高濃度の鎖状凝集体が分散された分散液に有機溶剤等を添加して成分調整(貴金属コート銀微粒子における鎖状凝集体の濃度、水分濃度、各種有機溶剤濃度等)を行うことで、透明基板上に透明導電層が直接形成される濃度の塗布液とすることができる。
【0059】
また、貴金属コート銀微粒子分散液を透明導電層形成用塗布液として適用する場合、透明導電層形成用塗布液に有色顔料微粒子を添加してもよい(請求項)。有色顔料微粒子を配合した場合、透明導電層が形成された透明導電性基材の透過率を100%より低い所定の範囲(40〜95%、一般的には40〜75%)に調整できるため、良好な導電性、低反射率等の諸特性に加え、その画像のコントラストを向上させて表示画面を更に見易くさせること、あるいは前述のCRT画面の平面化に伴う要求に対応することが可能となる。
【0060】
尚、本発明に係る貴金属コート銀微粒子分散液を適用した透明導電層形成用塗布液においてはその塗布液内において貴金属コート銀微粒子が鎖状凝集体を構成しており、この塗布液により形成される透明導電層内においては貴金属コート銀微粒子の良好な網目状構造が実現されるため、上記有色顔料微粒子の添加に伴う透明導電層の導電性に支障を来たすことも少ない。
【0061】
そして、上記有色顔料微粒子には、例えば、カーボン、チタンブラック、窒化チタン、複合酸化物顔料、コバルトバイオレット、モリブデンオレンジ、群青、紺青、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン系顔料、イソインドリノン系顔料、アゾ系顔料およびフタロシアニン系顔料から選択された1種以上の微粒子、若しくはその表面が酸化ケイ素でコーティングされた有色顔料微粒子を用いることができる(請求項)。
【0062】
以下、本発明に係る貴金属コート銀微粒子分散液の製造方法をより詳細に説明する。
【0063】
まず、既知の方法[例えば、Carey−Lea法、Am.J.Sci.、37、47(1889)、Am.J.Sci.、38(1889)]により銀微粒子のコロイド分散液を調製する。すなわち、硝酸銀水溶液に、硫酸鉄(II)水溶液とクエン酸ナトリウム水溶液の混合液を加えて反応させ、沈降物を濾過・洗浄した後、純水を加えることにより簡単に銀微粒子のコロイド分散液(Ag:0.1〜10重量%)が調製される。この銀微粒子のコロイド分散液の調製方法は、平均粒径1〜100nmの銀微粒子が分散されたものであれば任意でありかつこれに限定されるものではない。
【0064】
次に、得られた銀微粒子のコロイド分散液に、還元剤を含む溶液、および、下記(A)の溶液をそれぞれ別々に滴下して加えることで銀微粒子の表面に金単体をコーティングし、貴金属コート銀微粒子のコロイド状分散液を得ることができる(貴金属コート銀微粒子調製工程)。
(A)アルカリ金属の金酸塩溶液
尚、この貴金属コート銀微粒子調製工程で、必要により、銀微粒子のコロイド分散液、還元剤を含む溶液、(A)の溶液の少なくともいずれか一つ、または、それぞれに少量の分散剤を加えてもよい。
【0065】
以上のようにして得られた貴金属コート銀微粒子のコロイド状分散液は、この後、透析、電気透析、イオン交換、限外濾過等の脱塩処理方法により分散液内の電解質濃度を下げることが好ましい。これは、電解質濃度を下げないとコロイドは電解質で一般に凝集してしまうからであり、この現象は、Schulze−Hardy則としても知られている。
【0066】
次に、脱塩処理された貴金属コート銀微粒子のコロイド状分散液を濃縮処理すると貴金属コート銀微粒子が高濃度で単分散した分散液が得られる。
【0067】
この貴金属コート銀微粒子が高濃度で単分散した分散液に、ヒドラジン溶液を添加して貴金属コート銀微粒子を凝集させ、その後、例えば、室温で数分〜1時間程度保持した後、過酸化水素溶液を添加することで、貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体が高濃度で分散した貴金属コート銀微粒子分散液が得られる。
【0068】
尚、本発明に係る貴金属コート銀微粒子分散液を透明導電層形成用塗布液として適用する場合、上記鎖状凝集体の平均長さは5〜500nmであることを必要とする(請求項)。5nm未満だと、透明導電層の網目状構造の形成を促進させる働きが不十分であり、500nmを超えると、貴金属コート銀微粒子(鎖状凝集体)が不安定になって更に凝集し易くなるからである。
【0069】
次に、貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体が高濃度で分散した貴金属コート銀微粒子分散液に有機溶剤等を添加して成分調整(微粒子濃度、水分濃度、高沸点有機溶剤濃度等)を行えば、貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体を含有する透明導電層形成用塗布液が得られる。
【0070】
尚、上記貴金属コート銀微粒子のコロイド状分散液における濃縮処理は、減圧エバポレーター、限外濾過等の常用の方法で行うことができ、この濃縮度合いによって貴金属コート銀微粒子分散液中の水分濃度を、所定の範囲に制御することができる。
【0071】
ここで、本発明に係る貴金属コート銀微粒子分散液を透明導電層形成用塗布液として適用する場合、透明導電層形成用塗布液の組成として、0.1〜10重量%の貴金属コート銀微粒子(鎖状凝集体)と、1〜50重量%の水分を含むように成分調整させることが好ましい(請求項)。貴金属コート銀微粒子(鎖状凝集体)が0.1重量%未満では十分な導電性能が得られず、反対に10重量%を超えると貴金属コート銀微粒子(鎖状凝集体)が不安定になって更に凝集し易くなる。また、水分濃度が1重量%よりも少ない場合、つまり貴金属コート銀微粒子が単分散した分散液の濃縮度を大幅に高めた後に凝集処理を行った場合は、上述と同様に貴金属コート銀微粒子(鎖状凝集体)の濃度が高くなり過ぎるため、貴金属コート銀微粒子(鎖状凝集体)が不安定になって更に凝集し易くなり、50重量%を超えると透明導電層形成用塗布液の塗布性が著しく悪化する。
【0072】
また、本発明に係る貴金属コート銀微粒子分散液に用いられる有機溶剤としては特に制限はなく、透明導電層形成用塗布液として用いられた場合の塗布方法や製膜条件により適宜に選定される。例えば、メタノール(MA)、エタノール(EA)、1−プロパノール(NPA)、イソプロパノール(IPA)、ブタノール、ペンタノール、ベンジルアルコール、ジアセトンアルコール等のアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルプロピルケトン、メチルイソブチルケトン(MIBK)、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン系溶媒、エチレングリコールモノメチルエーテル(MCS)、エチレングリコールモノエチルエーテル(ECS)、エチレングリコールイソプロピルエーテル(IPC)、プロピレングリコールメチルエーテル(PGM)、プロピレングリコールエチルエーテル(PE)、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート(PGM−AC)、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート(PE−AC)等のグリコール誘導体、フォルムアミド(FA)、N−メチルフォルムアミド、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルフォキシド(DMSO)、N−メチル−2−ピロリドン(NMP)等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【0074】
次に、本発明に係る貴金属コート銀微粒子分散液が適用された透明導電層形成用塗布液を用いて、例えば、透明基板、および、この透明基板上に順次形成された透明導電層と透明コート層から成る透明2層膜とでその主要部が構成される透明導電性基材(請求項)を得ることができる。
【0075】
そして、透明基板上に透明2層膜を形成するには以下の方法でこれを行うことができる。すなわち、貴金属コート銀微粒子が鎖状に凝集した鎖状凝集体を含有する透明導電層形成用塗布液を、ガラス基板、プラスチック基板等の透明基板上にスピンコート、スプレーコート、ワイヤーバーコート、ドクターブレードコート等の手法にて塗布し、必要に応じて乾燥した後、例えばシリカゾル等の無機バインダーを含有する透明コート層形成用塗布液を上述した手法によりオーバーコートする。
【0076】
次に、例えば50〜350℃程度の温度で加熱処理を施し透明コート層形成用塗布液の硬化を行って上記透明2層膜を形成する。
【0077】
そして、貴金属コート銀微粒子が鎖状に凝集した鎖状凝集体を含有する本発明に係る透明導電層形成用塗布液を用いた場合、個々の貴金属コート銀微粒子が凝集していない従来の透明導電層形成用塗布液を適用した場合と比較し、透明導電層内において貴金属コート銀微粒子が効率よく導電パスを形成できるため極めて良好な導電性を有する透明導電層を得ることが可能となる。言い換えれば、貴金属コート銀微粒子が鎖状に凝集した鎖状凝集体を含有する透明導電層形成用塗布液では、貴金属コート銀微粒子の含有量を大幅に低下させても、従来の透明導電層形成用塗布液を用いた場合と同程度の導電性を有する透明導電層が得られるため、透明導電層形成用塗布液の価格を大幅に低下させることが可能となる。
【0078】
また、本発明に係る透明導電層形成用塗布液に有色顔料微粒子(若しくは有色顔料微粒子が分散された分散液)を配合した場合でも、凝集していない貴金属コート銀微粒子を含有する従来の透明導電層形成用塗布液を適用した場合と比較して、より高濃度の有色顔料微粒子を添加することが可能となり、透過率の調整が容易になると同時に貴金属コート銀微粒子の含有量を大幅に低下させ、透明導電層形成用塗布液の価格を大幅に低下させることも可能となる。
【0079】
尚、上述した貴金属コート銀微粒子のコロイド状分散液の製造時において脱塩処理を施した理由と同様の理由から、透明導電層形成用塗布液内に配合する有色顔料微粒子の分散液についてもその脱塩を十分に行っておくことが望ましい。
【0080】
また、シリカゾル等の無機バインダーを含有する透明コート層形成用塗布液を上述した手法によりオーバーコートした際、予め形成された貴金属コート銀微粒子層における網目状構造の穴の部分に、オーバーコートしたシリカゾル液(このシリカゾル液は加熱処理により酸化ケイ素を主成分とするバインダーマトリックスとなる)がしみ込むことで、透過率の向上、導電性の向上が同時に達成される。
【0081】
また、網目状構造の上記穴の部分を介して、透明基板と酸化珪素等のバインダーマトリックスとの接触面積が増大するため透明基板とバインダーマトリックスの結合が強くなり、強度の向上も図られる。
【0082】
更に、貴金属コート銀微粒子が酸化ケイ素を主成分とするバインダーマトリックス中に分散された透明導電層の光学定数(n−ik)において、屈折率nはさほど大きくないが消衰係数kが大きいため、上記透明導電層と透明コート層の透明2層膜構造により、透明2層膜の反射率を大幅に低下できる。
【0083】
尚、透明コート層形成用塗布液に含まれる上記シリカゾルとしては、オルトアルキルシリケートに水や酸触媒を加えて加水分解し、脱水縮重合を進ませた重合物、あるいは既に4〜5量体まで重合を進ませた市販のアルキルシリケート溶液を、さらに加水分解と脱水縮重合を進行させた重合物等を利用することができる。尚、脱水縮重合が進行すると、溶液粘度が上昇して最終的には固化してしまうので、脱水縮重合の度合いについては、ガラス基板やプラスチック基板などの透明基板上に塗布可能な上限粘度以下のところに調整する。但し、脱水縮重合の度合いは上記上限粘度以下のレベルであれば特に指定されないが、膜強度、耐候性等を考慮すると重量平均分子量で500から3000程度が好ましい。そして、アルキルシリケート加水分解重合物は、透明2層膜の加熱焼成時に脱水縮重合反応がほぼ完結して、硬いシリケート膜(酸化ケイ素を主成分とする膜)になる。
【0084】
尚、上記シリカゾルに、弗化マグネシウム微粒子、アルミナゾル、チタニアゾル、ジルコニアゾル等を加え、透明コート層の屈折率を調節して透明2層膜の反射率を変えることも可能である。
【0085】
このように本発明に係る製造方法で得られた貴金属コート銀微粒子分散液を透明導電層形成用塗布液として適用した場合、形成される透明導電層は、高透過率、低反射率の諸特性に加えて、極めて良好な導電性を有するため、この透明導電層を具備する透明導電性基材について、例えば、上述したブラウン管(CRT)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、蛍光表示管(VFD)、フィールドエミッションディスプレイ(FED)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、液晶ディスプレイ(LCD)等表示装置における前面板等に用いることができる。
【0086】
更に、透明導電層形成用塗布液に有色顔料微粒子を配合することにより、良好な導電性、低反射率等の諸特性に加え、透明導電膜の透過率を自由に調整することができるため、例えば、表示装置における画像のコントラストを向上させて表示画面を見易くさせたり、上述したCRT画面の平面化に伴う要求に対応することが可能となる。
【0087】
【実施例】
以下、本発明の実施例を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。また、本文中の「%」は、透過率、反射率、ヘイズ値の(%)を除いて「重量%」を示し、また「部」は「重量部」を示している。
【0088】
[実施例1]
前述のCarey−Lea法により銀微粒子のコロイド分散液を調製した。
【0089】
具体的には、9%硝酸銀水溶液330gに、23%硫酸鉄(II)水溶液390gと37.5%クエン酸ナトリウム水溶液480gの混合液を加えた後、沈降物をろ過・洗浄した後、純水を加えて、銀微粒子のコロイド分散液(Ag:0.15%)を調製した。
【0090】
この銀微粒子のコロイド分散液600gに、ヒドラジン1水和物(N24・H2O)の1%水溶液80.0gを加えて攪拌しながら、金酸カリウム[KAu(OH)4]水溶液(Au:0.075%)4800gと1%高分子分散剤水溶液2.0gの混合液を加え、金単体がコーティングされた貴金属コート銀微粒子のコロイド分散液を得た。
【0091】
この貴金属コート銀微粒子のコロイド分散液をイオン交換樹脂(三菱化学社製商品名ダイヤイオンSK1B,SA20AP)で脱塩した後、限外ろ過を行い、貴金属コート銀微粒子のコロイド分散液の濃縮を行った。得られた液にエタノール(EA)を加えて貴金属コート銀微粒子が高濃度に単分散された分散液(Ag−Au:1.6%、水:20.0%、EA:78.4%、)(B液)を得た。
【0092】
次に、B液60gを攪拌しながら、ヒドラジン水溶液(N24・H2O:0.75%)0.8g(1.6%のAg−Au分散液に対しヒドラジンが100ppmに相当)を1分間かけて添加した後、室温で15分間保持し、さらに過酸化水素水溶液(H22:1.5%)0.6gを1分間かけて添加することで、貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体が高濃度に分散された実施例1に係る貴金属コート銀微粒子分散液(C液)を得た。
【0093】
尚、貴金属コート銀微粒子が高濃度に単分散された上記分散液(B液)にヒドラジン溶液を添加した際の貴金属コート銀微粒子における分散安定性の低下、および、貴金属コート銀微粒子が凝集した分散液に過酸化水素溶液を添加した際の鎖状凝集体における分散安定性の向上は、各分散液のゼータ電位の測定値から科学的に確認されている。
【0094】
次に、得られた実施例1に係る貴金属コート銀微粒子分散液(C液)に、アセトン、エタノール(EA)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)、ジアセトンアルコール(DAA)、ホルムアミド(FA)を加え、貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体を含有し透明導電層の形成に直接適用される濃度に調製された実施例1に係る透明導電層形成用塗布液(Ag:0.03%、Au:0.12%、水:1.9%、アセトン:40%、EA:37.9%、PGM:15%、DAA:5%、FA:0.03%)を得た。
【0095】
尚、この透明導電層形成用塗布液を透過電子顕微鏡で観察したところ、貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体は、一次粒径6nm程度の貴金属コート銀微粒子が数珠状に連なり、かつ、一部分岐した形状[長さ:100〜300nm(個々の鎖状凝集体における長さの最大値)、平均長さ:200nm]を有していた。
【0096】
次に、貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体を含有する透明導電層形成用塗布液を濾過精度(ポアサイズ):5μmフィルターで濾過した後、35℃に加熱されたガラス基板(厚さ3mmのソーダライムガラス)上に、スピンコート(90rpm,10秒間−120rpm、80秒間)し、続けて、シリカゾル液をスピンコート(150rpm、60秒間)し、更に、180℃、20分間硬化させて、貴金属コート銀微粒子を含有する透明導電層と、酸化ケイ素を主成分とするシリケート膜から成る透明コート層とで構成された透明2層膜付きのガラス基板、すなわち、実施例1に係る透明導電性基材を得た。
【0097】
尚、上記ガラス基板は、使用前に酸化セリウム系研磨剤で研磨処理し、純水による洗浄・乾燥後、35℃に加熱して用いた。
【0098】
ここで、上記シリカゾル液は、メチルシリケート51(コルコート社製商品名)を19.6部、エタノール57.8部、1%硝酸水溶液7.9部、純水14.7部を用いて、SiO2 (酸化ケイ素)固形分濃度が10%で、重量平均分子量が1050のもの(シリカゾル液:D液)を調製し、最終的に、SiO2 固形分濃度が0.8%となるようにイソプロピルアルコール(IPA)とn−ブタノール(NBA)の混合物(IPA/NBA=3/1)により希釈して得ている。
【0099】
そして、ガラス基板上に形成された透明2層膜の膜特性(表面抵抗、可視光線透過率、ヘイズ値、ボトム反射率/ボトム波長)を以下の表1に示す。尚、上記ボトム反射率とは透明導電性基材の反射プロファイルにおいて極小の反射率をいい、ボトム波長とは反射率が極小における波長を意味している。
【0100】
尚、表1において透明基板(ガラス基板)を含まない透明2層膜だけの(可視光線)透過率は、以下の様にして求められている。すなわち、
透明基板を含まない透明2層膜だけの透過率(%)
=[(透明基板ごと測定した透過率)/(透明基板の透過率)]×100
ここで、本明細書においては、特に言及しない限り、透過率としては、透明基板を含まない透明2層膜だけの可視光線透過率の値を用いている。
【0101】
また、透明2層膜の表面抵抗は、三菱化学(株)製の表面抵抗計ロレスタAP(MCP−T400)を用い測定した。ヘイズ値と可視光線透過率は、村上色彩技術研究所製のヘイズメーター(HR−200)を用いて測定した。反射率は、日立製作所(株)製の分光光度計(U−4000)を用いて測定した。また、貴金属コート銀微粒子における鎖状凝集体の形状、粒子サイズ(長さ)は日本電子製の透過電子顕微鏡で評価している。
【0102】
[実施例2]
窒化チタン(TiN)微粒子(ネツレン株式会社製)5gと上記シリカゾル液(D液)5gを純水20gおよびエタノール70gと混合し、ジルコニアビーズと共にペイントシェーカー分散を行った後、上記イオン交換樹脂で脱塩して表面が酸化ケイ素でコーティングされた分散粒径85nmの酸化ケイ素コート窒化チタン微粒子の分散液(E液)を得た。
【0103】
次に、実施例1に係る貴金属コート銀微粒子分散液(C液)に、上記E液、アセトン、エタノール(EA)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)、ジアセトンアルコール(DAA)、ホルムアミド(FA)を加え、貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体と窒化チタン微粒子を含有し透明導電層の形成に直接適用される濃度に調製された実施例2に係る透明導電層形成用塗布液(Ag:0.04%、Au:0.16%、TiN:0.15%、水:3.1%、アセトン: 40%、EA:36.5%、PGM:15%、DAA:5%、FA:0.03%)を得た。
【0104】
この透明導電層形成用塗布液を透過電子顕微鏡で観察したところ、窒化チタン微粒子の平均粒径は、20nmであった。
【0105】
そして、この透明導電層形成用塗液を用いた以外は、実施例1と同様に行い、貴金属コート銀微粒子と窒化チタン微粒子を含有する透明導電層と、酸化ケイ素を主成分とするシリケート膜から成る透明コート層とで構成された透明2層膜付きのガラス基板、すなわち、実施例2に係る透明導電性基材を得た。
【0106】
ガラス基板上に形成された透明2層膜の上記膜特性(表面抵抗、可視光線透過率、ヘイズ値、ボトム反射率/ボトム波長)を以下の表1に示す。
【0107】
[比較例1]
実施例1におけるB液(貴金属コート銀微粒子が高濃度に単分散された分散液)に、アセトン、エタノール(EA)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)、ジアセトンアルコール(DAA)、フォルムアミド(FA)を加え、個々の微粒子が凝集していない貴金属コート銀微粒子を含有し透明導電層の形成に直接適用される濃度に調製された比較例1に係る透明導電層形成用塗布液(Ag:0.03%、Au:0.12%、水:1.9%、アセトン:40%、EA:37.9%、PGM:15%、DAA:5%、FA:0.03%)を得た。
【0108】
そして、この透明導電層形成用塗布液を用いた以外は、実施例1と同様に行い、貴金属コート銀微粒子を含有する透明導電層と、酸化ケイ素を主成分とするシリケート膜から成る透明コート層とで構成された透明2層膜付きのガラス基板、すなわち、比較例1に係る透明導電性基材を得た。
【0109】
ガラス基板上に形成された透明2層膜の上記膜特性(表面抵抗、可視光線透過率、ヘイズ値、ボトム反射率/ボトム波長)を以下の表1に示す。
【0110】
[比較例2]
実施例1におけるB液(貴金属コート銀微粒子が高濃度に単分散された分散液)と実施例2におけるE液(酸化ケイ素コート窒化チタン微粒子の分散液)を用いて、個々の微粒子が凝集していない貴金属コート銀微粒子と窒化チタン微粒子を含有し透明導電層の形成に直接適用される濃度に調製された比較例2に係る透明導電層形成用塗布液(Ag:0.04%、Au:0.16%、TiN:0.15%、水:3.1%、アセトン: 40%、EA:36.5%、PGM:15%、DAA:5%、FA:0.03%)を得た。
【0111】
そして、この透明導電層形成用塗布液を用いた以外は、実施例2と同様に行い、貴金属コート銀微粒子および窒化チタン微粒子を含有する透明導電層と、酸化ケイ素を主成分とするシリケート膜から成る透明コート層とで構成された透明2層膜付きのガラス基板、すなわち、比較例2に係る透明導電性基材を得た。
【0112】
ガラス基板上に形成された透明2層膜の上記膜特性(表面抵抗、可視光線透過率、ヘイズ値、ボトム反射率/ボトム波長)を以下の表1に示す。
【0113】
【表1】
Figure 0004232480
『分散液の安定性試験』
実施例1および実施例2において、貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体が高濃度で分散された貴金属コート銀微粒子分散液(C液)を室温に2週間放置し、その後、透明導電層の形成に適した濃度に調製した以外は各実施例と同様に行い、貴金属コート銀微粒子を含有する透明導電層と、酸化ケイ素を主成分とするシリケート膜から成る透明コート層とで構成された透明2層膜付きのガラス基板を得た。
【0114】
これらガラス基板上に形成された透明2層膜の上記膜特性は、実施例1および実施例2のものと同等であった。
【0115】
『評 価』
1.表1に示された結果から以下のことが確認される。
【0116】
まず、個々の微粒子が凝集していない貴金属コート銀微粒子を含有する透明導電層形成用塗布液が適用された比較例1および比較例2に係る透明2層膜の表面抵抗が>106(Ω/□)であるのに対し、実施例1および実施例2に係る透明2層膜の表面抵抗は870(Ω/□)〜965(Ω/□)と導電性に優れており、本発明により著しい膜特性の向上をもたらしていることが確認される。
【0117】
この事実は別の観点からすると、比較例1および比較例2の凝集していない貴金属コート銀微粒子を含有する透明導電層形成用塗布液では、実用的な膜抵抗値(数kΩ/□程度以下)を得るために塗布液中の貴金属コート銀微粒子の含有量を大幅に増加させる必要があるのに対し、貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体が分散された実施例1および実施例2の透明導電層形成用塗布液では貴金属の含有量を0.15〜0.2%と低く設定することができる。
【0118】
従って、本発明に係る貴金属コート銀微粒子分散液の製造方法は、上述した従来法に較べてその製造工程が簡便であるだけでなく、安価な透明導電層形成用塗布液を提供でき利点も有している。
【0119】
2.また、分散液の安定性試験の結果から、貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体が高濃度に分散された貴金属コート銀微粒子分散液は、室温に2週間放置されても透明導電層形成用塗布液用として劣化がみられず、優れた保存安定性を有していることが確認される。
【0120】
すなわち、上述した従来法に較べて本発明に係る貴金属コート銀微粒子分散液の製造方法の優位性が確認できる。
【0121】
[実施例3]
実施例1のB液を得る方法と同様の方法にて、貴金属コート銀微粒子が高濃度に単分散された分散液(Ag−Au:1.6%、水:20.0%、EA:78.4%)(F液)を得た。
【0122】
次に、このF液60gを攪拌しながら、ヒドラジン水溶液(N24・H2O:0.5%)0.8g(1.6%のAg−Au分散液に対しヒドラジンが67ppmに相当)を1分間かけて添加した後、室温で15分間保持し、さらに過酸化水素水溶液(H22:1.0%)0.6gを1分間かけて添加することで、貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体が高濃度で分散された実施例3に係る貴金属コート銀微粒子分散液(G液)を得た。
【0123】
このG液に、エタノール(EA)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)、ジアセトンアルコール(DAA)、ホルムアミド(FA)を加え、貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体を含有し透明導電層の形成に直接適用される濃度に調製された実施例3に係る透明導電層形成用塗布液(Ag:0.08%、Au:0.32%、水:10%、EA:54.5%、PGM:25%、DAA:10%、FA:0.1%)を得た。
【0124】
尚、この透明導電層形成用塗布液を透過電子顕微鏡で観察したところ、貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体は、一次粒径6nm程度の貴金属コート銀微粒子が数珠状に連なり、かつ、一部分岐した形状[長さ:20〜100nm(個々の鎖状凝集体における長さの最大値)、平均長さ:50nm]を有していた。
【0125】
次に、35℃に加熱されたガラス基板(厚さ3mmのソーダライムガラス)上に、スピンコート(90rpm,10秒間−130rpm,80秒間)し、続けて、実施例1のシリカゾル液(上記D液を希釈し、最終的にSiO2固形分濃度を0.8%にしたもの)をスピンコート(150rpm,60秒間)した以外は、実施例1と同様に行い、貴金属コート銀微粒子を含有する透明導電層と、酸化ケイ素を主成分とするシリケート膜から成る透明コート層とで構成された透明2層膜付きのガラス基板、すなわち、実施例3に係る透明導電性基材を得た。
【0126】
そして、ガラス基板上に形成された透明2層膜の膜特性(表面抵抗、可視光線透過率、ヘイズ値)を以下の表2に示す。
【0127】
[実施例4]
実施例3のG液(貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体が高濃度で分散された貴金属コート銀微粒子分散液)に、エタノール(EA)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)、ジアセトンアルコール(DAA)、ホルムアミド(FA)を加え、貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体を含有し透明導電層の形成に直接適用される濃度に調製された実施例4に係る透明導電層形成用塗布液(Ag:0.04%、Au:0.16%、水:10%、EA:54.5%、PGM:25%、DAA:10%、FA:0.1%)を得た。
【0128】
そして、この透明導電層形成用塗布液を用いた以外は実施例3と同様に行ない、貴金属コート銀微粒子を含有する透明導電層と、酸化ケイ素を主成分とするシリケート膜から成る透明コート層とで構成された透明2層膜付きのガラス基板、すなわち、実施例4に係る透明導電性基材を得た。
【0129】
尚、ガラス基板上に形成された透明2層膜の膜特性(表面抵抗、可視光線透過率、ヘイズ値)を以下の表2に示す。
【0130】
[実施例5]
実施例3のF液(貴金属コート銀微粒子が高濃度に単分散された分散液)60gを攪拌しながら、ヒドラジン水溶液(N24・H2O:0.75%)0.8g(1.6%のAg−Au分散液に対してヒドラジンが100ppmに相当)を1分間かけて添加した後、室温で15分間保持し、さらに過酸化水素水溶液(H22:1.5%)0.6gを1分間かけて添加することで、貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体が高濃度で分散された実施例5に係る貴金属コート銀微粒子分散液(H液)を得た。
【0131】
尚、上記貴金属コート銀微粒子が高濃度に単分散された分散液(F液)にヒドラジン溶液を添加した際の貴金属コート銀微粒子における分散安定性の低下、および、貴金属コート銀微粒子が凝集した分散液に過酸化水素溶液を添加した際の鎖状凝集体における分散安定性の向上は、各分散液のゼータ電位の測定値から科学的に確認されている。
【0132】
次に、このH液に、エタノール(EA)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)、ジアセトンアルコール(DAA)、ホルムアミド(FA)を加え、貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体を含有し透明導電層の形成に直接適用される濃度に調製された実施例5に係る透明導電層形成用塗布液(Ag:0.08%、Au:0.32%、水:10%、EA:54.5%、PGM:25%、DAA:10%、FA:0.1%)を得た。
【0133】
尚、この透明導電層形成用塗布液を透過電子顕微鏡で観察したところ、貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体は、一次粒径6nm程度の貴金属コート銀微粒子が数珠状に連なり、かつ、一部分岐した形状[長さ:100〜500nm(個々の鎖状凝集体における長さの最大値)、平均長さ:250nm]を有していた。
【0134】
次に、35℃に加熱されたガラス基板(厚さ3mmのソーダライムガラス)上に、この透明導電層形成用塗布液を用いた以外は実施例3と同様に行ない、貴金属コート銀微粒子を含有する透明導電層と、酸化ケイ素を主成分とするシリケート膜から成る透明コート層とで構成された透明2層膜付きのガラス基板、すなわち、実施例5に係る透明導電性基材を得た。
【0135】
そして、ガラス基板上に形成された透明2層膜の膜特性(表面抵抗、可視光線透過率、ヘイズ値)を以下の表2に示す。
【0136】
[実施例6]
実施例5のH液(貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体が高濃度で分散された貴金属コート銀微粒子分散液)に、エタノール(EA)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)、ジアセトンアルコール(DAA)、ホルムアミド(FA)を加え、貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体を含有し透明導電層の形成に直接適用される濃度に調製された実施例6に係る透明導電層形成用塗布液(Ag:0.04%、Au:0.16%、水:10%、EA:54.5%、PGM:25%、DAA:10%、FA:0.1%)を得た。
【0137】
そして、この透明導電層形成用塗布液を用いた以外は実施例3と同様に行ない、貴金属コート銀微粒子を含有する透明導電層と、酸化ケイ素を主成分とするシリケート膜から成る透明コート層とで構成された透明2層膜付きのガラス基板、すなわち、実施例6に係る透明導電性基材を得た。
【0138】
尚、ガラス基板上に形成された透明2層膜の膜特性(表面抵抗、可視光線透過率、ヘイズ値)を以下の表2に示す。
【0139】
[比較例3]
実施例3のF液(貴金属コート銀微粒子が高濃度に単分散された分散液)に、エタノール(EA)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)、ジアセトンアルコール(DAA)、ホルムアミド(FA)を加え、個々の微粒子が凝集していない貴金属コート銀微粒子を含有し透明導電層の形成に直接適用される濃度に調製された比較例3に係る透明導電層形成用塗布液(Ag:0.08%、Au:0.32%、水:10%、EA:54.5%、PGM:25%、DAA:10%、FA:0.1%)を得た。
【0140】
そして、この透明導電層形成用塗布液を用いた以外は実施例3と同様に行ない、貴金属コート銀微粒子を含有する透明導電層と、酸化ケイ素を主成分とするシリケート膜から成る透明コート層とで構成された透明2層膜付きのガラス基板、すなわち、比較例3に係る透明導電性基材を得た。
【0141】
尚、ガラス基板上に形成された透明2層膜の膜特性(表面抵抗、可視光線透過率、ヘイズ値)を以下の表2に示す。
【0142】
[比較例4]
実施例3の上記F液に、エタノール(EA)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)、ジアセトンアルコール(DAA)、ホルムアミド(FA)を加え、個々の微粒子が凝集していない貴金属コート銀微粒子を含有し透明導電層の形成に直接適用される濃度に調製された比較例4に係る透明導電層形成用塗布液(Ag:0.04%、Au:0.16%、水:10%、EA:54.5%、PGM:25%、DAA:10%、FA:0.1%)を得た。
【0143】
そして、この透明導電層形成用塗布液を用いた以外は実施例3と同様に行ない、貴金属コート銀微粒子を含有する透明導電層と、酸化ケイ素を主成分とするシリケート膜から成る透明コート層とで構成された透明2層膜付きのガラス基板、すなわち、比較例4に係る透明導電性基材を得た。
【0144】
尚、ガラス基板上に形成された透明2層膜の膜特性(表面抵抗、可視光線透過率、ヘイズ値)を以下の表2に示す。
【0145】
[実施例7]
実施例3のG液(貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体が高濃度で分散された貴金属コート銀微粒子分散液)に、実施例2のE液(酸化ケイ素コート窒化チタン微粒子の分散液)、アセトン、エタノール(EA)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)、ジアセトンアルコール(DAA)、ホルムアミド(FA)を加え、貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体と窒化チタン微粒子を含有し透明導電層の形成に直接適用される濃度に調製された実施例7に係る透明導電層形成用塗布液(Ag:0.072%、Au:0.288%、TiN:0.09%、水:10%、アセトン:40%、EA:29.52%、PGM:15%、DAA:5%、FA:0.03%)を得た。
【0146】
そして、この透明導電層形成用塗布液を用いた以外は実施例3と同様に行ない、貴金属コート銀微粒子と窒化チタン微粒子を含有する透明導電層と、酸化ケイ素を主成分とするシリケート膜から成る透明コート層とで構成された透明2層膜付きのガラス基板、すなわち、実施例7に係る透明導電性基材を得た。
【0147】
尚、ガラス基板上に形成された透明2層膜の膜特性(表面抵抗、可視光線透過率、ヘイズ値)を以下の表3に示す。
【0148】
[実施例8]
実施例3の上記G液に実施例2のE液、アセトン、エタノール(EA)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)、ジアセトンアルコール(DAA)、ホルムアミド(FA)を加え、貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体と窒化チタン微粒子を含有し透明導電層の形成に直接適用される濃度に調製された実施例8に係る透明導電層形成用塗布液(Ag:0.052%、Au:0.208%、TiN:0.13%、水:10%、アセトン:40%、EA:29.58%、PGM:15%、DAA:5%、FA:0.03%)を得た。
【0149】
そして、この透明導電層形成用塗布液を用いた以外は実施例3と同様に行ない、貴金属コート銀微粒子と窒化チタン微粒子を含有する透明導電層と、酸化ケイ素を主成分とするシリケート膜から成る透明コート層とで構成された透明2層膜付きのガラス基板、すなわち、実施例8に係る透明導電性基材を得た。
【0150】
尚、ガラス基板上に形成された透明2層膜の膜特性(表面抵抗、可視光線透過率、ヘイズ値)を以下の表3に示す。
【0151】
[実施例9]
実施例5のH液(貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体が高濃度で分散された貴金属コート銀微粒子分散液)に、実施例2の上記E液、アセトン、エタノール(EA)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)、ジアセトンアルコール(DAA)、ホルムアミド(FA)を加え、貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体と窒化チタン微粒子を含有し透明導電層の形成に直接適用される濃度に調製された実施例9に係る透明導電層形成用塗布液(Ag:0.072%、Au:0.288%、TiN:0.09%、水:10%、アセトン:40%、EA:29.52%、PGM:15%、DAA:5%、FA:0.03%)を得た。
【0152】
そして、この透明導電層形成用塗布液を用いた以外は実施例3と同様に行ない、貴金属コート銀微粒子と窒化チタン微粒子を含有する透明導電層と、酸化ケイ素を主成分とするシリケート膜から成る透明コート層とで構成された透明2層膜付きのガラス基板、すなわち、実施例9に係る透明導電性基材を得た。
【0153】
尚、ガラス基板上に形成された透明2層膜の膜特性(表面抵抗、可視光線透過率、ヘイズ値)を以下の表3に示す。
【0154】
[実施例10]
実施例5の上記H液に、実施例2のE液、アセトン、エタノール(EA)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)、ジアセトンアルコール(DAA)、ホルムアミド(FA)を加え、貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体と窒化チタン微粒子を含有し透明導電層の形成に直接適用される濃度に調製された実施例10に係る透明導電層形成用塗布液(Ag:0.052%、Au:0.208%、TiN:0.13%、水:10%、アセトン:40%、EA:29.58%、PGM:15%、DAA:5%、FA:0.03%)を得た。
【0155】
そして、この透明導電層形成用塗布液を用いた以外は実施例3と同様に行ない、貴金属コート銀微粒子と窒化チタン微粒子を含有する透明導電層と、酸化ケイ素を主成分とするシリケート膜から成る透明コート層とで構成された透明2層膜付きのガラス基板、すなわち、実施例10に係る透明導電性基材を得た。
【0156】
尚、ガラス基板上に形成された透明2層膜の膜特性(表面抵抗、可視光線透過率、ヘイズ値)を以下の表3に示す。
【0157】
[実施例11]
実施例5の上記H液に、実施例2のE液、アセトン、エタノール(EA)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)、ジアセトンアルコール(DAA)、ホルムアミド(FA)を加え、貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体と窒化チタン微粒子を含有し透明導電層の形成に直接適用される濃度に調製された実施例11に係る透明導電層形成用塗布液(Ag:0.04%、Au:0.16%、TiN:0.14%、水:10%、アセトン:40%、EA:29.63%、PGM:15%、DAA:5%、FA:0.03%)を得た。
【0158】
そして、この透明導電層形成用塗布液を用いた以外は実施例3と同様に行ない、貴金属コート銀微粒子と窒化チタン微粒子を含有する透明導電層と、酸化ケイ素を主成分とするシリケート膜から成る透明コート層とで構成された透明2層膜付きのガラス基板、すなわち、実施例11に係る透明導電性基材を得た。
【0159】
尚、ガラス基板上に形成された透明2層膜の膜特性(表面抵抗、可視光線透過率、ヘイズ値)を以下の表3に示す。
【0160】
[実施例12]
平均粒径20nmの青系顔料微粒子[フタロシアニンブルー#5203、大日精化工業(株)社製]1gと上記D液(シリカゾル液)2gをエタノール97gと混合し、ジルコニアビーズと共にペイントシェーカー分散を行った後、上述したイオン交換樹脂で脱塩し、分散粒径99nmの酸化ケイ素コートフタロシアニンブルー微粒子分散液(I液)を得た。
【0161】
尚、酸化ケイ素コートフタロシアニンブルー微粒子のTEM観察を行なったところ、フタロシアニンブルー微粒子に酸化ケイ素がコーティングされていることが確認された。
【0162】
次に、赤系顔料微粒子[キナクリドン#44、大日精化工業(株)社製]5gと分散剤0.5gをジアセトンアルコール(DAA)94.5gと混合した後、ジルコニアビーズと共にペイントシェーカー分散を行い、分散粒径135nmの赤系顔料微粒子分散液(J液)を得た。
【0163】
次に、実施例5のH液(貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体が高濃度で分散された貴金属コート銀微粒子分散液)に、上記I液、および、J液、エタノール(EA)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)、ジアセトンアルコール(DAA)、ホルムアミド(FA)を加え、貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体、フタロシアニンブルー微粒子、キナクリドン微粒子を含有し透明導電層の形成に直接適用される濃度に調製された実施例12に係る透明導電層形成用塗布液(Ag:0.06%、Au:0.24%、フタロシアニンブルー:0.04%、キナクリドン:0.1%、水:6.5%、EA:63.0%、PGM:20%、DAA:10%、FA:0.05%)を得た。
【0164】
そして、この透明導電層形成用塗布液を用いた以外は実施例3と同様に行ない、貴金属コート銀微粒子とフタロシアニンブルー微粒子並びにキナクリドン微粒子を含有する透明導電層と、酸化ケイ素を主成分とするシリケート膜から成る透明コート層とで構成された透明2層膜付きのガラス基板、すなわち、実施例12に係る透明導電性基材を得た。
【0165】
尚、ガラス基板上に形成された透明2層膜の膜特性(表面抵抗、可視光線透過率、ヘイズ値)を以下の表3に示す。
【0166】
[比較例5]
実施例3のF液(貴金属コート銀微粒子が高濃度に単分散された分散液)に、実施例2のE液(酸化ケイ素コート窒化チタン微粒子の分散液)、アセトン、エタノール(EA)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)、ジアセトンアルコール(DAA)、ホルムアミド(FA)を加え、個々の微粒子が凝集していない貴金属コート銀微粒子と窒化チタン微粒子を含有し透明導電層の形成に直接適用される濃度に調製された比較例5に係る透明導電層形成用塗布液(Ag:0.072%、Au:0.288%、TiN:0.09%、水:10%、アセトン:40%、EA:29.52%、PGM:15%、DAA:5%、FA:0.03%)を得た。
【0167】
そして、この透明導電層形成用塗布液を用いた以外は実施例3と同様に行ない、貴金属コート銀微粒子と窒化チタン微粒子を含有する透明導電層と、酸化ケイ素を主成分とするシリケート膜から成る透明コート層とで構成された透明2層膜付きのガラス基板、すなわち、比較例5に係る透明導電性基材を得た。
【0168】
尚、ガラス基板上に形成された透明2層膜の膜特性(表面抵抗、可視光線透過率、ヘイズ値)を以下の表3に示す。
【0169】
[比較例6]
実施例3のF液(貴金属コート銀微粒子が高濃度に単分散された分散液)に、実施例2のE液(酸化ケイ素コート窒化チタン微粒子の分散液)、アセトン、エタノール(EA)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)、ジアセトンアルコール(DAA)、ホルムアミド(FA)を加え、個々の微粒子が凝集していない貴金属コート銀微粒子と窒化チタン微粒子を含有し透明導電層の形成に直接適用される濃度に調製された比較例6に係る透明導電層形成用塗布液(Ag:0.052%、Au:0.208%、TiN:0.13%、水:10%、アセトン:40%、EA:29.58%、PGM:15%、DAA:5%、FA:0.03%)を得た。
【0170】
そして、この透明導電層形成用塗布液を用いた以外は実施例3と同様に行ない、貴金属コート銀微粒子と窒化チタン微粒子を含有する透明導電層と、酸化ケイ素を主成分とするシリケート膜から成る透明コート層とで構成された透明2層膜付きのガラス基板、すなわち、比較例6に係る透明導電性基材を得た。
【0171】
尚、ガラス基板上に形成された透明2層膜の膜特性(表面抵抗、可視光線透過率、ヘイズ値)を以下の表3に示す。
【0172】
[比較例7]
実施例3のF液(貴金属コート銀微粒子が高濃度に単分散された分散液)に、実施例2のE液(酸化ケイ素コート窒化チタン微粒子の分散液)、アセトン、エタノール(EA)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)、ジアセトンアルコール(DAA)、ホルムアミド(FA)を加え、個々の微粒子が凝集していない貴金属コート銀微粒子と窒化チタン微粒子を含有し透明導電層の形成に直接適用される濃度に調製された比較例7係る透明導電層形成用塗布液(Ag:0.04%、Au:0.16%、TiN:0.14%、水:10%、アセトン:40%、EA:29.63%、PGM:15%、DAA:5%、FA:0.03%)を得た。
【0173】
そして、この透明導電層形成用塗布液を用いた以外は実施例3と同様に行ない、貴金属コート銀微粒子と窒化チタン微粒子を含有する透明導電層と、酸化ケイ素を主成分とするシリケート膜から成る透明コート層とで構成された透明2層膜付きのガラス基板、すなわち、比較例7に係る透明導電性基材を得た。
【0174】
尚、ガラス基板上に形成された透明2層膜の膜特性(表面抵抗、可視光線透過率、ヘイズ値)を以下の表3に示す。
【0175】
[比較例8]
実施例12において、実施例5のH液(貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体が高濃度で分散された貴金属コート銀微粒子分散液)に代えて実施例3のF液(貴金属コート銀微粒子が高濃度に単分散された分散液)を用い、個々の微粒子が凝集していない貴金属コート銀微粒子とフタロシアニンブルー微粒子並びにキナクリドン微粒子を含有し透明導電層の形成に直接適用される濃度に調製された比較例8係る透明導電層形成用塗布液(Ag:0.06%、Au:0.24%、フタロシアニンブルー:0.04%、キナクリドン:0.1%、水:6.5%、EA:63.0%、PGM:20%、DAA:10%、FA:0.05%)を得た。
【0176】
そして、この透明導電層形成用塗布液を用いた以外は実施例12と同様に行ない、貴金属コート銀微粒子とフタロシアニンブルー微粒子並びにキナクリドン微粒子を含有する透明導電層と、酸化ケイ素を主成分とするシリケート膜から成る透明コート層とで構成された透明2層膜付きのガラス基板、すなわち、比較例8に係る透明導電性基材を得た。
【0177】
尚、ガラス基板上に形成された透明2層膜の膜特性(表面抵抗、可視光線透過率、ヘイズ値)を以下の表3に示す。
【0178】
【表2】
Figure 0004232480
【0179】
【表3】
Figure 0004232480
『評 価』
1.表2に示された結果から以下のことが確認される。
【0180】
まず、比較例3および実施例3,5に係る透明2層膜に示すように、透明導電層形成用塗布液中の貴金属コート銀微粒子含有量が比較的高い(0.4%)場合、比較例3に係る透明2層膜の表面抵抗(280Ω/□)に対し、実施例3、5に係る透明2層膜の表面抵抗は250Ω/□、190Ω/□であり、顕著ではないがその表面抵抗は明らかに低くなっており、導電性に改善が見られることが分かる。
【0181】
また、比較例4および実施例4,6に係る透明2層膜に示すように、透明導電層形成用塗布液中の貴金属コート銀微粒子含有量を低減した(0.2%)場合、比較例4に係る透明2層膜の表面抵抗が>106Ω/□であるのに対し、実施例4および6に係る透明2層膜の表面抵抗はそれぞれ4000Ω/□、1000Ω/□と著しい改善がみられることが分かる。
【0182】
また、実施例3(67ppm)と実施例5(100ppm)、および、実施例4(67ppm)と実施例6(100ppm)との比較から確認されるように、凝集処理の際に添加するヒドラジンの量を変えることで表面抵抗の調整が可能であることも分かる。
【0183】
これ等の結果は、実用的な膜抵抗値(数kΩ/□以下)を得るための塗布液中の貴金属コート銀微粒子含有量について、貴金属コート銀微粒子を鎖状に凝集させて鎖状凝集体とすることにより大幅に低下させることが可能となり、安価な透明導電層形成用塗布液の供給が可能となっていることも示している。
【0184】
2.次に、表3に示された結果から以下のことが確認される。
【0185】
すなわち、比較例5〜8に係る透明2層膜の表面抵抗に対して、実施例7〜12に係る透明2層膜は、塗布液中における貴金属コート銀微粒子の含有量が少なく、かつ、有色顔料の含有量が多くても実用的な膜抵抗値を得られることが分かる。
【0186】
【発明の効果】
請求項1に記載の発明に係る貴金属コート銀微粒子分散液の製造方法によれば、
高透過率と低反射率特性に優れかつ良好な導電性を有する透明導電層を形成することができしかも保存安定性にも優れた透明導電層形成用塗布液に適用可能な貴金属コート銀微粒子分散液を簡便かつ安価に製造できる効果を有する。
【0187】
次に、請求項2または3に記載の発明に係る透明導電層形成用塗布液によれば、
銀微粒子の表面に金単体がコーティングされた貴金属コート銀微粒子を一次粒子とし、この微粒子を鎖状に凝集させておくことによって、透明導電層形成用塗布液中の貴金属コート銀微粒子の含有量が少ない場合であっても、高透過率・低反射等の諸特性に加えて極めて良好な導電性を有する透明導電層の形成が可能で、かつ、保存安定性にも優れた効果を有する。
【0188】
また、請求項4または5に記載の発明に係る透明導電層形成用塗布液によれば、
有色顔料微粒子を含有させて透明導電膜の透過率を自由に設定した場合であっても、その良好な導電性を損なうことなく、低反射率等の諸特性に加え、その画像のコントラストを向上させて表示画面を更に見易くさせること、あるいはCRT画面の平面化に伴う要求に対応することが可能となる効果を有する。
【0189】
更に、請求項6に記載の発明に係る透明導電性基材によれば、
請求項2〜5のいずれかに記載の透明導電層形成用塗布液を用いて透明基板上に形成された透明導電層とこの透明導電層上に無機バインダーを含有する透明コート層形成用塗布液を用いて形成された透明コート層とで構成される透明2層膜を有しているため、高透過率・低反射等の諸特性に加えて極めて良好な導電性を有する効果を有する。
【0190】
また、請求項7に記載の発明に係る表示装置によれば、
前面板として請求項6に記載の透明導電性基材がその透明2層膜を外面にして組み込まれているため、電界シールド効果並びに表示画面の表面反射を抑制できる効果を有する。

Claims (7)

  1. 溶媒とこの溶媒に分散された平均粒径1〜100nmの貴金属コート銀微粒子を含有し、かつ、上記貴金属コート銀微粒子における複数の一次粒子が鎖状に凝集して鎖状凝集体を構成している貴金属コート銀微粒子分散液の製造方法において、
    上記貴金属コート銀微粒子が、銀微粒子の表面に金単体がコーティングされた銀微粒子により構成されると共に、
    貴金属コート銀微粒子の一次粒子が溶媒に単分散された分散液にヒドラジン溶液を加えて分散液内における貴金属コート銀微粒子の分散性を不安定化させ、貴金属コート銀微粒子における複数の一次粒子を鎖状に凝集させて鎖状凝集体の分散液を得る凝集工程と、
    得られた鎖状凝集体の分散液に過酸化水素溶液を加えて上記ヒドラジンを分解かつ除去し、分散液内における上記鎖状凝集体の分散性を安定化させる安定化工程、
    の各工程を具備することを特徴とする貴金属コート銀微粒子分散液の製造方法。
  2. 請求項1記載の貴金属コート銀微粒子分散液の製造方法により得られる透明導電層形成用塗布液において、
    上記貴金属コート銀微粒子が、銀微粒子の表面に金単体がコーティングされた銀微粒子により構成されると共に、溶媒とこの溶媒に分散された上記貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体を含有し、貴金属コート銀微粒子の鎖状凝集体は、複数の平均粒径1〜100nmの一次粒子が鎖状に凝集してなり、かつ、その平均長さが5〜500nmであることを特徴とする透明導電層形成用塗布液。
  3. 0.1〜10重量%の貴金属コート銀微粒子と、1〜50重量%の水分を含むことを特徴とする請求項2に記載の透明導電層形成用塗布液。
  4. 上記貴金属コート銀微粒子100重量部に対して、1〜100重量部の範囲の有色顔料微粒子を含むことを特徴とする請求項2または3に記載の透明導電層形成用塗布液。
  5. 上記有色顔料微粒子が、カーボン、チタンブラック、窒化チタン、複合酸化物顔料、コバルトバイオレット、モリブデンオレンジ、群青、紺青、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン系顔料、イソインドリノン系顔料、アゾ系顔料およびフタロシアニン系顔料から選択された1種以上の微粒子、若しくはその表面が酸化ケイ素でコーティングされた微粒子であることを特徴とする請求項4に記載の透明導電層形成用塗布液。
  6. 請求項5のいずれかに記載の透明導電層形成用塗布液を用いて透明基板上に形成された透明導電層と、この透明導電層上に無機バインダーを含有する透明コート層形成用塗布液を用いて形成された透明コート層とで構成される透明2層膜を有することを特徴とする透明導電性基材。
  7. 装置本体とこの前面側に配置された前面板とを備える表示装置において、
    上記前面板として請求項に記載の透明導電性基材がその透明2層膜を外面にして組込まれていることを特徴とする表示装置。
JP2003045596A 2002-03-25 2003-02-24 貴金属コート銀微粒子分散液の製造方法と透明導電層形成用塗布液および透明導電性基材と表示装置 Expired - Fee Related JP4232480B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003045596A JP4232480B2 (ja) 2002-03-25 2003-02-24 貴金属コート銀微粒子分散液の製造方法と透明導電層形成用塗布液および透明導電性基材と表示装置
US10/390,593 US7053126B2 (en) 2002-03-25 2003-03-19 Process for producing noble-metal type fine-particle dispersion, coating liquid for forming transparent conductive layer, transparent conductive layered structure and display device
CNB031082033A CN1254336C (zh) 2002-03-25 2003-03-25 贵金属型微粒子分散液的制造方法及其用途
US11/127,253 US20050199860A1 (en) 2002-03-25 2005-05-12 Process for producing noble-metal type fine-particle dispersion, coating liquid for forming transparent conductive layer, transparent conductive layered structure and display device
US11/127,252 US20050214522A1 (en) 2002-03-25 2005-05-12 Process for producing noble-metal type fine-particle dispersion, coating liquid for forming transparent conductive layer, transparent conductive layered structure and display device

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002083031 2002-03-25
JP2003011782 2003-01-21
JP2003045596A JP4232480B2 (ja) 2002-03-25 2003-02-24 貴金属コート銀微粒子分散液の製造方法と透明導電層形成用塗布液および透明導電性基材と表示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004281056A JP2004281056A (ja) 2004-10-07
JP4232480B2 true JP4232480B2 (ja) 2009-03-04

Family

ID=28046112

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003045596A Expired - Fee Related JP4232480B2 (ja) 2002-03-25 2003-02-24 貴金属コート銀微粒子分散液の製造方法と透明導電層形成用塗布液および透明導電性基材と表示装置

Country Status (3)

Country Link
US (3) US7053126B2 (ja)
JP (1) JP4232480B2 (ja)
CN (1) CN1254336C (ja)

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7601406B2 (en) * 2002-06-13 2009-10-13 Cima Nanotech Israel Ltd. Nano-powder-based coating and ink compositions
US7736693B2 (en) * 2002-06-13 2010-06-15 Cima Nanotech Israel Ltd. Nano-powder-based coating and ink compositions
US7566360B2 (en) * 2002-06-13 2009-07-28 Cima Nanotech Israel Ltd. Nano-powder-based coating and ink compositions
JPWO2004096470A1 (ja) * 2003-04-28 2006-07-13 住友金属鉱山株式会社 銀微粒子コロイド分散液の製造方法と銀微粒子コロイド分散液および銀導電膜
US7981505B2 (en) * 2004-06-24 2011-07-19 Ppg Industries Ohio, Inc. Coated articles and multi-layer coatings
WO2006135735A2 (en) * 2005-06-10 2006-12-21 Cima Nano Tech Israel Ltd. Enhanced transparent conductive coatings and methods for making them
JP4978844B2 (ja) * 2005-07-25 2012-07-18 住友金属鉱山株式会社 銅微粒子分散液及びその製造方法
TWI297513B (en) * 2005-10-06 2008-06-01 Ind Tech Res Inst Electrode and method for forming the same
US8093038B2 (en) * 2007-09-17 2012-01-10 Illinois Institute Of Technology Apparatus and method for encapsulating pancreatic cells
JP5570094B2 (ja) * 2007-11-12 2014-08-13 コニカミノルタ株式会社 金属ナノワイヤ、金属ナノワイヤの製造方法及び金属ナノワイヤを含む透明導電体
JP5472889B2 (ja) * 2007-11-26 2014-04-16 コニカミノルタ株式会社 金属ナノワイヤ、及び金属ナノワイヤを含む透明導電体
JP5424591B2 (ja) * 2008-07-29 2014-02-26 三菱マテリアル株式会社 黒色顔料分散液とその製造方法および用途
RU2542238C2 (ru) * 2009-03-24 2015-02-20 Басф Се Получение формованных металлических частиц и их применения
CN102714903B (zh) 2009-11-02 2016-08-10 耶路撒冷希伯来大学伊森姆研究发展有限公司 用于制造导电透明薄膜的方法与实现导电透明薄膜的装置
TWI573846B (zh) * 2010-03-09 2017-03-11 西瑪奈米技術以色列有限公司 形成具有燒結添加物之透明導電塗層的方法
KR101708361B1 (ko) * 2012-08-21 2017-02-20 삼성에스디아이 주식회사 복합 음극 활물질, 그 제조방법, 및 이를 포함하는 리튬 전지
WO2014167664A1 (ja) * 2013-04-10 2014-10-16 日東電工株式会社 光拡散素子および光拡散素子の製造方法
CN105665740A (zh) * 2016-02-01 2016-06-15 北京大学 大气压空气等离子体液相下合成胶体金纳米颗粒的方法
MX2019004496A (es) * 2016-11-02 2019-08-12 Dow Global Technologies Llc Composicion de recubrimiento.

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL7502841A (nl) * 1975-03-11 1976-09-14 Stamicarbon Werkwijze voor het vervaardigen van een metaal- elektrode.
GB1558762A (en) * 1975-07-04 1980-01-09 Johnson Matthey Co Ltd Metal or alloy coated powders
JP3302186B2 (ja) 1994-09-01 2002-07-15 触媒化成工業株式会社 透明導電性被膜付基材、その製造方法および該基材を備えた表示装置
JP3288557B2 (ja) 1995-08-11 2002-06-04 住友大阪セメント株式会社 透明性電磁波遮蔽膜付き陰極線管
JP3697760B2 (ja) 1995-10-20 2005-09-21 旭硝子株式会社 塗布液
JP3473272B2 (ja) 1996-06-10 2003-12-02 旭硝子株式会社 導電膜形成用塗布液および導電膜
JPH10110123A (ja) 1996-10-08 1998-04-28 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 透明導電膜形成用塗料およびその製造方法、透明導電低反射性膜およびその製造方法、ならびに透明導電低反射性膜付き表示装置
JPH10142401A (ja) 1996-11-07 1998-05-29 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 低反射透明導電膜とその製造方法および表示装置
JP3399270B2 (ja) 1996-12-25 2003-04-21 三菱マテリアル株式会社 透明導電膜およびその形成用組成物
JP4411672B2 (ja) 1997-10-23 2010-02-10 住友金属鉱山株式会社 透明導電層形成用塗布液とその製造方法
TW432397B (en) * 1997-10-23 2001-05-01 Sumitomo Metal Mining Co Transparent electro-conductive structure, progess for its production, transparent electro-conductive layer forming coating fluid used for its production, and process for preparing the coating fluid
JP3501942B2 (ja) 1998-05-11 2004-03-02 住友大阪セメント株式会社 透明導電膜形成用塗料、透明導電膜及び表示装置
JP2000124662A (ja) 1998-10-14 2000-04-28 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 透明導電膜および表示装置
JP4522505B2 (ja) 1998-12-28 2010-08-11 日揮触媒化成株式会社 透明導電性被膜形成用塗布液、透明導電性被膜付基材および表示装置
JP4035934B2 (ja) 1999-01-14 2008-01-23 住友金属鉱山株式会社 透明導電性基材とその製造方法および透明導電性基材の製造に用いられる透明導電層形成用塗液とその製造方法
US6447909B1 (en) * 1999-01-14 2002-09-10 Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. Transparent conductive layered structure and method of producing the same, and coating liquid for forming transparent conductive layer used in production of transparent conductive layered structure and method of producing the same
JP2002038053A (ja) 2000-07-25 2002-02-06 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 透明導電層形成用塗液
JP4479161B2 (ja) * 2002-03-25 2010-06-09 住友金属鉱山株式会社 透明導電膜とこの透明導電膜形成用塗布液および透明導電性積層構造体と表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20030180511A1 (en) 2003-09-25
JP2004281056A (ja) 2004-10-07
CN1446653A (zh) 2003-10-08
US7053126B2 (en) 2006-05-30
CN1254336C (zh) 2006-05-03
US20050199860A1 (en) 2005-09-15
US20050214522A1 (en) 2005-09-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4232480B2 (ja) 貴金属コート銀微粒子分散液の製造方法と透明導電層形成用塗布液および透明導電性基材と表示装置
JP4788852B2 (ja) 透明導電性基材とその製造方法およびこの製造方法に用いられる透明コート層形成用塗布液と透明導電性基材が適用された表示装置
KR100630595B1 (ko) 투명 도전성 기재 및 이의 제조방법, 및 투명 도전성 기재의 제조에 사용되는 투명 도전층 형성용 코팅액 및 이의 제조방법
JP4035934B2 (ja) 透明導電性基材とその製造方法および透明導電性基材の製造に用いられる透明導電層形成用塗液とその製造方法
US6569359B2 (en) Transparent conductive layer forming coating liquid containing formamide
JP4411672B2 (ja) 透明導電層形成用塗布液とその製造方法
JP3876811B2 (ja) 透明導電層形成用塗液の製造方法
JP2006032197A (ja) 透明2層膜とその製造方法
JP2005154453A (ja) 透明導電層形成用塗布液及び透明導電性基材
JP2000357414A (ja) 透明導電膜および表示装置
JP3501942B2 (ja) 透明導電膜形成用塗料、透明導電膜及び表示装置
JP4325201B2 (ja) 透明導電層形成用塗液及び透明導電膜
JP4225156B2 (ja) 透明導電膜形成用塗布液、透明導電膜及び表示装置
JP4258281B2 (ja) 透明導電層形成用塗液及びその製造方法
JP4420200B2 (ja) 透明導電層形成用塗布液の製造方法
JP2003132734A (ja) 透明導電層形成用塗液
JP3750461B2 (ja) 透明導電層形成用塗液と透明導電層および透明導電性基材
JP3975310B2 (ja) 透明導電性基材とその製造方法およびこの基材が適用された表示装置
JP2004335410A (ja) 透明導電層の形成方法
JP2002367428A (ja) 着色透明導電膜形成用塗布液、着色透明導電膜付き基体およびその製造方法、ならびに表示装置
JP2005100721A (ja) 透明導電性基材の製造方法及び該基材並びに表示装置
JP2004051746A (ja) 透明導電層形成用塗液
JP2002003746A (ja) 透明導電膜形成用塗料、透明導電膜および表示装置
JP2005209350A (ja) 透明導電膜及び透明導電膜の製造方法
JP2004175829A (ja) 透明コート層用着色分散液及び透明二層膜

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050905

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070904

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080827

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081022

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20081118

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20081201

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111219

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4232480

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121219

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131219

Year of fee payment: 5

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees