JP4207422B2 - ハニカム成形体の製造方法及び製造装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【技術分野】
本発明は，ハニカム成形体の製造方法及び製造装置に関する。
【０００２】
【従来技術】
従来，自動車の排ガス浄化装置の触媒担体としては，一般的に，セル壁厚さ０．３０〜０．１５ｍｍ，外周スキン部の厚さ０．３〜１．０ｍｍのセラミック製のハニカム成形体が用いられていた。
上記ハニカム成形体を製造するに当たっては，粘土質のハニカム成形体を押出成形し，このハニカム成形体を乾燥した後，焼成する。このとき，上記乾燥工程を効率的に実施するために，その前工程の押出成形工程において押出成形したハニカム成形体をパレット等に一時保管して一定数量を確保した後，乾燥工程を実施するのが一般的である。
【０００３】
【解決しようとする課題】
しかしながら，近年の排ガス浄化性能向上等のニーズを受けて開発されたセル壁厚さが薄いハニカム成形体においては自然乾燥が速く，上記保管中に，セル壁等の変形，しわ，割れ等が発生するという問題を生じている。
【０００４】
本発明は，かかる従来の問題点に鑑みてなされたもので，セル壁をハニカム状に配して多数のセルを設けたセラミック製のハニカム成形体の製造において，上記セル壁等の変形，しわ，割れ等を生じにくいハニカム成形体の製造方法及びその製造装置を提供しようとするものである。
【０００５】
【課題の解決手段】
第１の発明は，セル壁をハニカム状に配して多数のセルを設けたセラミック製のハニカム成形体を製造する方法において，
粘土質のハニカム成形体を押出成形する押出成形工程と，
周波数１０００〜１００００ＭＨｚ領域のマイクロ波を照射することにより，上記ハニカム成形体を加熱して，乾燥する乾燥工程と，
上記押出成形工程と上記乾燥工程との間において，上記ハニカム成形体を高湿度雰囲気内に保持する保管工程とを有し，
該保管工程は，アキュムレータ機能を有しており，上記保管工程に供給される上記ハニカム成形体の供給数と，上記保管工程から搬出される上記ハニカム成形体の搬出数との不一致を調整し，
上記保管工程において規定数量の上記ハニカム成形体が保管された場合には，上記保管工程から上記乾燥工程に上記ハニカム成形体を一定の間隔で搬出し，上記保管工程において一定の間隔で上記乾燥工程に搬出することのできる上記ハニカム成形体が無くなった場合には，上記乾燥工程にある全ての上記ハニカム成形体の搬出が終わるまで，上記保管工程から上記乾燥工程への上記ハニカム成形体の搬出を行わないようにすることを特徴とするハニカム成形体の製造方法である（請求項１）。
【０００６】
上記第１の発明においては，上記押出成形工程によって得られた上記粘土質のハニカム成形体を上記乾燥工程に搬入するまでの間に上記保管工程を積極的に設け，該保管工程において，上記ハニカム成形体を高湿度雰囲気内に保持する。
【０００７】
上記高湿度雰囲気内では，上記ハニカム成形体から外部への水分の放散量を低く抑えることができる。そのため，上記押出成形後，乾燥装置に搬入するまでの間において，上記ハニカム成形体に含まれる水分量が大きく減少することがない。それ故，上記保管工程で保持された上記ハニカム成形体では，乾燥の進行が抑制され，乾燥収縮が生じにくい。
【０００８】
したがって，押出成形後乾燥前において，上記粘土質のハニカム成形体のセル壁等の変形，しわ，割れ等のトラブルを回避することができる。
そしてそれ故，上記保管工程後に実施する乾燥工程，焼成工程などを介して得られるハニカム成形体は，セル壁等の変形，割れ等のない優れた品質を有するものとなる。
【０００９】
このように，上記第１の発明によれば，セル壁をハニカム状に配して多数のセルを設けたセラミック製のハニカム成形体の製造において，上記セル壁等の変形，しわ，割れ等を生じにくいハニカム成形体の製造方法を提供することができる。
【００１０】
第２の発明は，セル壁をハニカム状に配して多数のセルを設けたハニカム成形体の製造装置であって，
粘土質のハニカム成形体を押出成形する押出成形装置と，
周波数１０００〜１００００ＭＨｚの領域のマイクロ波を照射することにより，上記ハニカム成形体を加熱して，乾燥する乾燥装置と，
上記押出成形装置が押出成形した上記ハニカム成形体を上記乾燥装置へ搬入するまでの間において，上記ハニカム成形体を高湿度雰囲気内に保持する保管装置とを有し，
該保管装置は，上記ハニカム成形体を搬送するアキュームコンベアを有しており，上記保管装置に供給される上記ハニカム成形体の供給数と，上記保管装置から搬出される上記ハニカム成形体の搬出数との不一致を調整できるよう構成されており，
上記保管装置において規定数量の上記ハニカム成形体が保管された場合には，上記保管装置から上記乾燥装置に上記ハニカム成形体を一定の間隔で搬出し，上記保管装置において一定の間隔で上記乾燥装置に搬出することのできる上記ハニカム成形体が無くなった場合には，上記乾燥装置にある全ての上記ハニカム成形体の搬出が終わるまで，上記保管装置から上記乾燥装置への上記ハニカム成形体の搬出を行わないようにするよう構成されていることを特徴とするハニカム成形体の製造装置である（請求項８）。
【００１１】
上記第２の発明においては，上記押出成形装置によって得られた上記ハニカム成形体を上記乾燥装置に搬入するまでの間において，上記ハニカム成形体を高湿度雰囲気内に保持するための上記保管装置を有する。
【００１２】
上記保管装置を用いれば，保管中の上記ハニカム成形体から外部へ放散する水分量を低く抑えることができる。そのため，上記押出成形後，乾燥装置に搬入するまでの間において，上記ハニカム成形体に含まれる水分量が大きく減少することがない。それ故，上記保管装置で保持された上記ハニカム成形体では，乾燥の進行が抑制され，乾燥収縮が生じにくい。
したがって，上記保管装置を用いて保管した上記ハニカム成形体は，セル壁等の変形，しわ，割れ等が少ない非常に優れた品質を有するものとなる。
【００１３】
このように，上記第２の発明によれば，セル壁をハニカム状に配して多数のセルを設けたセラミック製のハニカム成形体の製造において，上記セル壁等の変形，しわ，割れ等を生じにくいハニカム成形体の製造装置を提供することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
上記第１の発明において好ましい形態について説明する。
上記保管工程においては，上記ハニカム成形体を湿度が７０％以上の高湿度雰囲気内に保持することが好ましい（請求項２）。
この場合には，上記ハニカム成形体を飽和水蒸気状態に近い雰囲気で保持することができるため，上記ハニカム成形体に含まれる水分は外部へ放散しにくい。そのため，上記のごとく，上記保管工程で保持された上記ハニカム成形体では，乾燥の進行が抑制されて乾燥収縮が生じにくい。それ故，セル壁等の変形，しわ，割れ等が発生しにくい。
【００１５】
一方，７０％未満の場合には，上記乾燥抑制効果が低くなってしまう。
また，上記高湿度雰囲気の湿度としては高いほどより好ましく，８０％以上，あるいは過飽和状態でもよい。
【００１６】
次に，上記ハニカム成形体は，その側面外周を覆う外周スキン部を有しており，該外周スキン部の厚さが０．５ｍｍ以下であることが好ましい（請求項３）。
この場合には，上記ハニカム成形体は非常に脆弱であり，特に上記乾燥収縮によるハニカム成形体の外周スキンの変形，破れ等が生じやすい。そのため，上記第１の発明の方法により得られる作用効果が特に有効である。
【００１７】
次に，上記ハニカム成形体は，上記セル壁の厚さが０．１２５ｍｍ以下であることが好ましい（請求項４）。
この場合には，上記ハニカム成形体は非常に脆弱であり，特に上記乾燥収縮によるハニカム成形体のセル壁の変形，破れ等が生じやすい。そのため，上記第１の発明の方法により得られる作用効果が特に有効である。
【００１８】
次に，上記保管工程においては，上記ハニカム成形体を水分遮閉体により覆って，上記ハニカム成形体から放散する水分を上記水分遮閉体の内部に留めることにより，上記高湿度雰囲気を形成することもできる（請求項５）。
この場合には，上記ハニカム成形体から放散される水分量を一定以下に抑えることができ，一定の乾燥抑制効果が達成できる。それ故，このような状態で保管した上記ハニカム成形体においては，乾燥が進行せず，セル壁等の変形，しわ，割れ等が生じにくい。
【００１９】
なお，上記水分遮閉体としては，樹脂製のラップシートのほか，上記ハニカム成形体を囲い込むことができるように成形されたスポンジ等が考えられる。上記ハニカム成形体と外部との間の水分の行き来を遮断できる材質によるものであれば良い。
また，このような材質からなる水分遮閉体を，上記ハニカム成形体に密着させることが好ましい。上記ハニカム成形体と水分遮閉体との隙間の空間の体積を小さいほど，少ない水分放散量で上記高湿度雰囲気が形成でき，効果的である。
【００２０】
次に，上記保管工程においては，常温ミストあるいは高温蒸気を供給することにより，上記高湿度雰囲気を形成することもできる（請求項６）。
このように常温ミストあるいは高温上記を供給することによれば，積極的に湿度を制御することも可能となり，上記高湿度雰囲気を安定的に形成することができる。それ故，上記高湿度雰囲気で保管されたハニカム成形体においては適度な湿度状態を維持することができ，上記第１の発明による効果が特に有効となる。
【００２１】
次に，上記乾燥工程は，周波数１０００〜１００００ＭＨｚ領域のマイクロ波を照射することにより上記ハニカム成形体を加熱して，乾燥する工程である。
上記マイクロ波は，導波管を通じて導くことが可能であり，被加熱物の近傍に電極を設ける必要がない。そのため，上記粘土質のハニカム成形体の周囲を高湿度雰囲気とした状態で加熱，乾燥することができる。
上記ハニカム成形体を高湿度雰囲気内でマイクロ波乾燥する場合には，急激な乾燥が回避でき，上記セル壁等の変形，しわ，割れ等の発生を抑えることができる。
【００２２】
したがって，上記保管工程において良質な品質を維持しながら保管した上記ハニカム成形体を，上記乾燥工程においても，さらに，その良好な品質を維持しながら乾燥することができる。
【００２３】
次に，上記粘土質のハニカム成形体は，コージェライト，ＳｉＣ，Ｓｉ_３Ｎ_４またはムライトからなることが好ましい（請求項７）。
この場合には，押出成形後の上記粘土質のハニカム成形体は軟弱であり，上記のごとく，乾燥収縮によるハニカム成形体の外周スキンの変形，破れ等が生じやすい。そのため，上記第１の発明の方法により得られる作用効果が特に有効である。
【００２４】
次に，上記保管工程は，アキュムレータ機能を有しており，上記保管工程に供給される上記ハニカム成形体の供給数と，上記保管工程から搬出される上記ハニカム成形体の搬出数との不一致を調整する。
【００２５】
ここで，上記アキュムレータ機能とは，上記供給数が上記搬出数よりも多い場合に上記ハニカム成形体を上記保管工程に蓄えると共に，上記供給数が上記搬出数よりも少ない場合には上記蓄えられたハニカム成形体を搬出する機能である。
【００２６】
この場合には，定常的あるいは一時的に，上記供給数と上記搬出数が異なっていても，上記保管工程のアキュムレータ機能がその違いを吸収することができる。そのため，上記保管工程の前工程と後工程とを相互に依存させる必要がない。それ故，上記前工程と後工程とを独立して実施でき，それぞれの工程を常に，効率的に実施することができる。
したがって，セル壁等の変形，しわ，割れ等のない優れた品質の上記ハニカム成形体を，さらに，効率化された製造工程によって製造できる。
【００２７】
さらに，上記第２の発明において好ましい形態について説明する。
上記保管装置は，上記ハニカム成形体を湿度が７０％以上の高湿度雰囲気内に保持するよう構成されていることが好ましい（請求項９）。
この場合には，上記ハニカム成形体を飽和水蒸気状態に近い雰囲気で保持できるため，上記ハニカム成形体に含まれる水分は外部へ放散しにくい。
そのため，上記したごとく，上記ハニカム成形体では乾燥を抑制することができ，セル壁等の変形，しわ，割れ等が生じにくい。
【００２８】
一方，７０％未満の場合には，上記乾燥抑制効果が低くなってしまう。
なお，上記高湿度雰囲気の湿度としては高いほどより好ましく，８０％以上，あるいは過飽和状態でもよい。
【００２９】
次に，上記保管装置は，上記ハニカム成形体と外部との間に配置する水分遮閉体を有することが好ましい（請求項１０）。
この場合には，上記ハニカム成形体から放散した水分が，ハニカム成形体の周囲に高湿度雰囲気を形成する。そのため，上記ハニカム成形体においては，乾燥の進行が抑制され，セル壁等の変形，しわ，割れ等の発生を抑えることができる。
【００３０】
なお，上記水分遮閉体としては，樹脂製のラップシートのほか，上記ハニカム成形体を囲い込むことができるように成形されたスポンジ等が考えられる。上記ハニカム成形体と外部との間の水分の行き来を遮断できる材質によるものであれば良い。
また，水分遮閉体と上記ハニカム成形体の間に形成される隙間を小さくするとより効果的である。
【００３１】
次に，上記保管装置は，上記ハニカム成形体を収納する保管槽と，該保管槽内を高湿度雰囲気とする加湿装置とを有することが好ましい（請求項１１）。
加湿装置によれば，高湿度雰囲気を積極的に制御することもできる。上記保管装置によって保管されたハニカム成形体においては，適度な湿度状態を維持することができ，上記第２の発明による効果が特に有効となる。
【００３２】
次に，上記加湿装置は，常温ミストあるいは高温蒸気を供給するよう構成されていることが好ましい（請求項１２）。
この場合には，比較的簡便な構成の加湿装置によって，上記保管槽の内部を効率的に高湿度雰囲気とすることができる。
【００３３】
なお，上記常温ミストを発生する方式としては，超音波，遠心力を利用した方法がある。また，上記高温蒸気を供給する方式としては，ボイラー，工場スチーム等による方法が考えられる。
【００３４】
次に，上記乾燥装置は，周波数１０００〜１００００ＭＨｚの領域のマイクロ波を照射して上記粘土質のハニカム成形体を加熱して，乾燥するよう構成されている。
上記マイクロ波は，導波管を通じて導くことが可能であり，被加熱物の近傍に電極を設ける必要がない。それ故，比較的簡便な構成の乾燥装置によって，高湿度雰囲気内での乾燥を実施することができる。
【００３５】
したがって，上記乾燥装置によれば，上記保管装置を用いて良好に維持された上記ハニカム成形体の品質を，さらに，維持しながら，上記ハニカム成形体を乾燥することができる。
【００３６】
次に，上記保管装置は，上記ハニカム成形体を搬送するアキュームコンベアを有しており，上記保管装置に供給される上記ハニカム成形体の供給数と，上記保管装置から搬出される上記ハニカム成形体の搬出数との不一致を調整できるよう構成されている。
【００３７】
ここで，上記アキュームコンベアとは，上記アキュームレータ機能を有するコンベアである。また，繰り返しになるが，アキュームレータ機能とは，上記のごとく，上記供給数が上記搬出数よりも多い場合に上記ハニカム成形体を上記保管工程に蓄えると共に，上記供給数が上記搬出数よりも少ない場合には上記蓄えられた上記ハニカム成形体を搬出する機能である。
【００３８】
この場合には，上記したのと同様に，定常的あるいは一時的に，上記供給数と上記搬出数が異なっていても，上記アキュムレータコンベアがその違いを吸収することができる。そのため，上記保管装置の前工程と後工程とを，相互に依存させて実施する必要がない。それ故，上記前工程と後工程とを独立して実施することができ，それぞれの工程を常に，効率的に実施することができる。
したがって，上記保管装置を含むハニカム成形体の製造装置においては，セル壁等の変形，しわ，割れ等のない優れた品質の上記ハニカム成形体を，さらに，効率化された製造工程によって製造できる。
【００３９】
次に，上記保管装置は，該保管装置内でのハニカム成形体の有無又は個数を確認するためのセンサーを有しており，該センサーにより検出したハニカム成形体の有無又は個数に基づく情報を上記乾燥装置に伝達するよう構成されていることが好ましい（請求項１３）。
【００４０】
この場合には，上記保管装置に保管する上記ハニカム成形体の個数や有無に連動して，上記乾燥装置を，常に，効率的な状態で動作させることができる。そのため，上記乾燥装置において，各ハニカム成形体の乾燥を効率よく均一に実施することができる。
【００４１】
次に，上記保管装置は，該保管装置内でのハニカム成形体の有無又は個数を確認するためのセンサーを有しており，該センサーにより検出したハニカム成形体の有無又は個数に基づく情報を上記押出成形装置に伝達するよう構成されていることが好ましい（請求項１４）。
【００４２】
この場合には，上記保管装置に保管する上記ハニカム成形体の個数や有無に連動して，上記押出成形装置を，常に，最適な状態で動作させることができる。そのため，上記押出成形装置において，上記ハニカム成形体の作製を効率よく実施することができる。
【００４３】
次に，上記ハニカム成形体の有無を確認するセンサーとしては，光電管，レーザあるいはタッチ式センサーを用いることが好ましい（請求項１５）。
この場合には，安定して上記ハニカム成形体を検出することができる。
【００４４】
【実施例】
（参考例１）
本発明の実施例にかかるハニカム成形体の製造方法について，図１〜図３を用いて説明する。
本例は，セル壁をハニカム状に配して多数のセルを設けたセラミック製のハニカム成形体を製造する方法である。本例の製造方法は，粘土質のハニカム成形体を押出成形する押出成形工程と，上記ハニカム成形体を乾燥する乾燥工程と，上記押出成形工程と上記乾燥工程との間において，上記ハニカム成形体を高湿度雰囲気内に保持する保管工程とを有する。以下，これを詳しく説明する。
【００４５】
本例において製造するハニカム成形体1は，図３に示すごとく，厚さｔ１が０．１１５ｍｍのセル壁１１をハニカム状に配してなる多数のセル１０と，厚さｔ２が０．３ｍｍの円筒状の外周スキン部１２とを有するものである。なお，上記セル形状，全体形状は用途に合わせて変更可能である。
【００４６】
そして，本例では，上記製造方法を実施するに当たり，図１のごとく構成した製造装置１００を用いた。
上記製造装置１００は，図１に示すごとく，保管装置２と乾燥装置３と図示しない押出成形装置とにより構成したものである。上記押出成形装置としては，プランジャー式，オーガ式等による装置があるが，本例ではオーガ式のものを用いた（図示略）。
【００４７】
また，上記保管装置２は，上記粘土質のハニカム成形体１を収納する保管槽２０と，該保管槽２０内を湿度７０％以上の高湿度雰囲気とする保管槽加湿装置２２と，搬送トレイ５に載置した上記ハニカム成形体１を搬送するアキュームコンベア２４とを有する。さらに，上記アキュームコンベア２４上において，上記ハニカム成形体１の有無を検出する中光電管２８及び後光電管２９と，上記ハニカム成形体１を停留させるストッパ２３とを有する。
【００４８】
上記保管槽２０は，複数個のハニカム成形体１を同時に保管できる大きさを有している。
そして，上記保管槽２０の側壁２０３の前後２カ所には，保管槽加湿装置２２としてのボイラーから延設され分岐した２本の蒸気配管２２０が接続され開口している。この開口部が蒸気導入口２２１である。この蒸気導入口２２１から導入される蒸気は，上記のごとくボイラーより送られる高温蒸気であり，その温度は８０℃以上である。
【００４９】
また，上記アキュームコンベア２４は，複数の円筒ローラ２４１よりなる。各円筒ローラ２４１は，その軸方向が地面と水平かつ，搬送方向と直交する状態で取り付けられている。そして，上記アキュームコンベア２４は，このような円筒ローラ２４１が，上記入口部２０１から出口部２０２まで一列に並べられたものである。さらに，各円筒ローラ２４１は，図示しないモータによって連結され，図１に示すごとく，矢印Ｒ方向に回転する。
【００５０】
上記アキュームコンベア２４は，上記回転する円筒ローラ２４１の外周面と，上記搬送トレイ５との間に生じる摩擦力によって，上記ハニカム成形体１を搬送するよう構成されている。ここで，上記円筒ローラ２４１の外周面には，滑らかな面が形成されており，上記アキュームコンベア２４上において上記ハニカム成形体１を停留させることが容易であるように構成されている。
【００５１】
本例では，上記ストッパ２３が，上記ハニカム成形体１の搬送状態と停留状態とを切り替える。図１に示すごとく，上記ストッパ２３は，上記出口部２０２付近において上方に向けて突出し，上記搬送トレイ５の搬送方向にある側面に当たるよう構成してある。
【００５２】
また，上記中光電管２８は，上記保管槽２０の中央付近において，上記ハニカム成形体１の有無を検出するセンサーである。上記中光電管２８が遮光された場合，上記ハニカム成形体１が，上記保管槽２０の中央付近に「有る」ことを検出するよう構成されている。
上記後光電管２９は，上記保管槽２０の出口部２０２において，上記ハニカム成形体１の有無を検出するセンサーである。上記後光電管２８が遮光された場合，上記ハニカム成形体１が，上記保管槽２０の出口部２０２に「有る」ことを検出するよう構成されている。
【００５３】
さらに，乾燥装置３は，図１に示すごとく，上記ハニカム成形体１を収納する乾燥槽３０と，該乾燥槽３０内を湿度７０％以上の高湿度雰囲気とする乾燥槽加湿装置３２と，マイクロ波を上記乾燥槽３０内に供給するマイクロ波発生装置３４と，上記搬送トレイ５に載置したハニカム成形体１を一定の速度で搬送するベルトコンベア３９とを有する。
【００５４】
上記のごとく，本例では，上記乾燥槽３０は，上記ベルトコンベア３９によって搬送される最大１０個の上記ハニカム成形体１を同時に収納できる大きさを有している。
そして，一方の側壁３０３の前後上下の４角部分に，４つのマイクロ波発生装置３４からそれぞれ延設された導波管３４０が接続されて開口している。この開口部がマイクロ波導入口３４１である。本例では，周波数２４５０ＭＨｚ領域のマイクロ波によって，ハニカム成形体１を加熱して乾燥することとした。
【００５５】
なお，本例を実施するに当たっては，予め，上記乾燥装置３の適切なマイクロ波出力値を調べた。その結果，図２に示すごとく，乾燥層３０内のハニカム成形体１の数量に応じてマイクロ波の出力値を設定するのが適切であると判明した。
【００５６】
また，側壁３０３の前後２ヵ所には，加湿装置３２としてのボイラーから延設され分岐した２本の蒸気配管３２０が接続され開口している。この開口部が蒸気導入口３２１である。この蒸気導入口３２１から導入される蒸気は，上記のごとくボイラーより送られてくる高温蒸気であり，その温度は８０℃以上である。
そして，上記ベルトコンベア３９は，上記保管装置２と同様，ハニカム成形体１を載置した搬送トレイ５を搬送するように構成されている。したがって，本例では，上記保管装置２から，ハニカム成形体１と搬送トレイ５とを一体的に搬出し，そのまま乾燥装置３へ搬入することができる。
【００５７】
また，上記乾燥装置３は，その入口部３０１と上記保管装置２の出口部２０２とが対向するように設置してあり，上記アキュームコンベア２４とベルトコンベア３９とがわずかな隙間をもって対峙している。そのため，アキュームコンベア２４で搬送されて保管槽２０から搬出される上記ハニカム成形体１は，連続的にベルトコンベア３９に載り移ることができる。
【００５８】
上記のごとく，構成された製造装置１００を用いて，上記ハニカム成形体１を製造するに当たっては，まず，主にコーディエライトとなるセラミック原料粉１００重量部に対して，有機バインダー５重量部と，水１５重量部とを添加して混練し，粘土状のセラミック原料を作製した。
【００５９】
次に，押出成形装置（図示略）を用いて，上記押出成形工程を実施する。該押出成形工程においては，このセラミック原料をハニカム成形型より押し出すと共に順次所定長さに切断し，粘土質のハニカム成形体１を成形する。そして，上記手順を繰り返し実施して，粘土質のハニカム成形体１を連続的に成形する。
【００６０】
次に，図1に示すごとく，保管装置２を用いて，上記保管工程を実施する。上記保管装置２は，押出成形された粘土質のハニカム成形体１を搬送トレイ５に立てた状態で保管するとともに，後工程にある乾燥装置３へ搬出する。即ち，まず，図１に示すごとく，各ハニカム成形体１を搬送トレイ５上に載置して順次アキュームコンベア２４上に載せる。
ここで，本例では，搬送トレイ５として，誘電損失が０．１以下，気孔率が１０％以上，断面開口面積比が５０％以上の多孔質のセラミックス，本例ではコーディエライト製のものを使用した。なお，この材質は，尿素樹脂，その他のものに変更することもできる。
【００６１】
このとき，上記搬送トレイ５上において，上記ハニカム成形体１のセル１０が鉛直方向に連通するように載置した。これにより，上記ハニカム成形体１に作用する重力は，全てのセル壁によって均等に負担されることになる。それ故，押出成形された粘土質で軟弱なハニカム成形体１であっても，自重による変形を防止することができる。
【００６２】
そして，上記ハニカム成形体１は搬送トレイ５に載置された状態で保管槽２０内に送入され，上記アキュームコンベア２４に載って，上記保管槽２０の入口部２０１側から出口部２０２側に向けて搬送される。
上記のごとく，保管槽２０内には，上記保管槽加湿装置２２から高温蒸気が導入してあり，湿度７０％以上（本例では８０％以上）の飽和水蒸気状態に近い高湿度雰囲気が形成されている。このような雰囲気内で保管した上記ハニカム成形体１にあっては，含有水分が外部へ放散しにくい。そのため，上記ハニカム成形体１を，保湿しながら保管することができる。
【００６３】
それ故，保管中の上記ハニカム成形体１について，乾燥の進行が抑制され，乾燥収縮に起因したセル壁及び外周スキン部の変形，しわ，割れ等が生じない。
したがって，上記保管工程においては，上記ハニカム成形体１の良好な品質を維持したまま保管することができる。
【００６４】
そして，上記ハニカム成形体１は，上記保管槽２０の出口部２０２まで搬送されると，上記搬送トレイ５が上記ストッパ２３に当接し，停留する。
一方，上記押出成形装置は連続的にハニカム成形体１の供給するため，上記保管槽２０内において，次々にハニカム成形体１が停留する。そして，停留したハニカム成形体１は，上記アキュームコンベア２４上で行列を形成し，上記保管槽２０の入口部２０１に向って連なっていく。
【００６５】
上記のごとく，次々に上記ハニカム成形体１が停留すると，やがて，上記行列の後端にあるハニカム成形体１が上記中光電管２８を遮光する。そうすると，保管装置２は，上記保管槽２０内に規定数量のハニカム成形体１が保管されたと判断して，上記ハニカム成形体１の搬出を開始する。
なお，本例では，上記規定数量が，後述する乾燥槽３０の収容個数である１０個となるように，上記中光電管２８の位置を設定した。上記のごとく，規定数量を設定することにより，上記乾燥工程を少なくとも一定の間，連続運転することができ，効率が良い。
【００６６】
具体的には，まず，上記ストッパ２３を操作して，上記ハニカム成形体１を１個搬出した後，上記ストッパ２３を元の位置に戻して残りの上記ハニカム成形体１を，再び停留させる。
そして，上記後光電管２９による検出結果を参照し，上記ハニカム成形体１が「有る」ことを確認できた場合には，さらに，上記ハニカム成形体１を１個搬出するという一連の手順を，一定の間隔で繰り返し実施する。上記のごとく，上記アキュームコンベア２４が上記アキュームレータ機能を実現する結果，上記ハニカム成形体１を，一定の間隔で上記乾燥工程へ搬入することができる。
【００６７】
次に，図1に示すごとく，乾燥装置３を用いて，上記乾燥工程を実施し，上記ハニカム成形体１を乾燥する。
まず，上記保管装置２から搬出されたハニカム成形体１は，上記のごとく，アキュームコンベア２４に対峙して配置したベルトコンベア３９にそのまま載り移る。そして，ベルトコンベア３９に載ったハニカム成形体１は，そのベルト３９１の送りと共に上記乾燥槽３０へ送入される。
【００６８】
そして，上記保管装置２が，上記のごとく，一定の間隔で連続的に上記ハニカム成形体１を搬出するに伴い，各ハニカム成形体１は，順次，ベルトコンベア３９に載り移り，上記乾燥槽３０へ送入される。
そして，乾燥槽３０内に送入された各ハニカム成形体１は，ベルトコンベア３９の動きに伴って，入口部３０１から出口部３０２に移動しながら，順次，マイクロ波を照射されて加熱，乾燥する。
【００６９】
ここで，図２に示すごとく，マイクロ波の出力値を設定した。特に，上記乾燥工程へのハニカム成形体１の搬入開始時，搬入終了時においては，上記乾燥槽３０内の上記ハニカム成形体１の数量が変動する。この場合においては，上記乾燥槽３０内のハニカム成形体の数量に応じて，マイクロ波出力値を調整した。
【００７０】
上記のごとく，上記ハニカム成形体１を乾燥する際，上記搬送トレイ５上において，ハニカム成形体１のセル１０が鉛直方向に連通するように載置している。これにより，各ハニカム成形体１は，そのセル１０が鉛直方向に開口すると共に，上記搬送トレイ５にある気孔と連通状態となる。したがって，上記マイクロ波による乾燥を効率よく実施することができる。
【００７１】
また，上記のごとく，上記乾燥槽３０内は，上記加湿装置３２から導入される高温蒸気によって湿度が７０％以上（本例では８０％以上），温度が８０℃以上の高湿度雰囲気となっている。そのため，乾燥槽３０内において上記マイクロ波を照射される上記ハニカム成形体１は，セル壁１１及び外周スキン部１２の変形，しわ，割れ等を発生を防止しつつ急速に乾燥される。
そして，上記ハニカム成形体１は，上記のごとく，マイクロ波を照射され，乾燥した後，上記乾燥槽３０の出口部から搬出される。
【００７２】
以上のように，本例のハニカム成形体１の製造装置を利用すれば，上記保管工程において，押出成形後の良好な品質を維持しながらハニカム成形体１を保管することができる。それ故，後工程である乾燥工程に搬入されるハニカム成形体１は，良好な品質を有するものである。さらに，上記乾燥工程において，その良好な品質をさらに維持しながら，上記ハニカム成形体１を乾燥することができる。
【００７３】
また，本例の上記保管装置２は，上記のごとく，アキュームレータ機能を有している。該アキュームレータ機能によれば，上記保管装置２は，上記乾燥装置３に対して，一定の間隔で上記ハニカム成形体１を供給することができる。それ故，本例の上記乾燥装置３においては，各ハニカム成形体１に上記マイクロ波を均一に照射することができる。
【００７４】
さらに，本例によれば，定常的に，あるいは一時的に上記保管装置２に上記ハニカム成形体１が供給される供給数と，上記保管装置２から搬出する搬出数が相違する場合であっても，上記アキュームレータ機能がその相違を吸収することができる。それ故，本例の製造装置１００によれば，上記乾燥装置３と上記押出成形装置の運転状態を相互に依存させる必要がなく，独立して運転することができる。したがって，上記製造装置１００によれば，上記ハニカム成形体１の製造を非常に効率的に実施することができる。
以上のように，本例によれば，外周スキン部１２の割れ，しわ等がない良好な品質のハニカム成形体１を，効率良く製造することができる。
【００７５】
（実施例１）
本例では，図４に示すごとく，実施例１における製造装置１００に代えて，製造装置１０１を用いて，上記ハニカム成形体１（図３参照）を製造した。
上記製造装置１０１には，実施例１の製造装置１００を基にして，保管装置４に前光電管４７を設け，保管装置４が，押出成形装置及び乾燥装置５と信号線によって接続され協調して動作しうる構成を追加してある。
【００７６】
上記前光電管４７は，上記保管槽４０の入口部４０１において，上記ハニカム成形体１の有無を検出するセンサーである。本例では，上記保管装置４は，上記前光電管４７，中光電管４８及び後光電管４９の検出結果に基づく信号を上記押出成形装置及び上記乾燥装置５に伝達するように構成した。そして，上記押出成形装置（図示略）及び上記乾燥装置５は，上記信号に基づいて制御しうるように構成されている。
その他の構成は，参考例１における製造装置１００と同様である。
【００７７】
以上のように構成された保管装置４を用いて，上記押出成形されたハニカム成形体１を保管するに当たっては，まず，上記中光電管４８の検出状況を参照する。上記ハニカム成形体１が「無」であれば，上記保管装置４は，「供給要求」信号を出力する。そして，該「供給要求」信号を入力した上記押出成形装置が，上記ハニカム成形体１の連続的な成形を開始する。
【００７８】
そして，図１に示すごとく，上記押出成形された各ハニカム成形体１を搬送トレイ５上に載置したうえ，上記保管装置４に順次，供給する。
そして，上記行列の後端のハニカム成形体１が，上記中光電管４８を遮断するに至る。ここで，保管装置４は，上記保管槽４０内に規定数量のハニカム成形体１が保管されたと判断して，「準備完了」信号を出力する。一方，後述するごとく，上記「準備完了」信号を入力した上記乾燥装置５は，一定の間隔で「要求」信号を出力する。
【００７９】
上記「要求」信号を入力した保管装置４は，上記後光電管４９による検出状況を参照する。そして，上記ハニカム成形体１が「有る」場合には，ストッパ４３を操作して，ハニカム成形体１を１個，搬出する。
上記保管装置４は，以上のごとく，「要求」信号の入力から搬出までの一連の手順を繰り返し実施し，乾燥装置５からの「要求」信号に対して一定の間隔で乾燥装置５に搬出することのできる保管槽４０内のハニカム成形体１が無くなるまで行う。
そして，後光電管４９がハニカム成形体１が「無い」と検出するに至ったとき，上記乾燥装置５に上記「搬出停止」信号を出力する。
【００８０】
一方，上記押出成形装置によるハニカム成形体１の供給数が，乾燥装置５の処理数を，定常的あるいは一時的に上回っている場合には，保管槽４０内にハニカム成形体１が満載される場合がある。このような場合，上記ハニカム成形体１が形成する上記行列が伸びて，後端にあるハニカム成形体１が上記前光電管４７を遮断するに至る。
この場合には，保管装置４は，押出成形装置による供給が過剰であると判断して，「供給停止」信号を出力する。そして，該「供給停止」信号を入力した上記押出成形装置は，上記ハニカム成形体１の押出成形を中断する。
【００８１】
次に，図1に示すごとく，乾燥装置５を用いて，乾燥工程を実施する。
まず，上記乾燥槽５０内に上記高温高湿度雰囲気を形成して保持し，上記保管装置４が上記「準備完了」信号を出力するまで，その状態を維持しながら待機する。ここで，この運転状態を「待機状態」とした。
繰り返しになるが，上記「準備完了」信号とは，上記保管装置４が，規定数量のハニカム成形体１を保管したときに出力する信号である。
【００８２】
そして，上記乾燥装置５が上記「準備完了」信号を入力した場合には，ベルトコンベア３９の定速運転を開始する。そして，上記保管装置２に対して「要求」信号を出力する。一方，該「要求」信号を入力した保管装置２は，上記のごとく，上記搬送トレイ５に載置したハニカム成形体１を１個，搬出し，上記乾燥槽５０へ送入する。
その後，上記乾燥装置５は，上記「要求」信号を出力して，ハニカム成形体１を搬入し，搬送するという一連の動作を，一定の間隔で繰り返し実施する。ここで，この運転状態を「立ち上がり状態」とした。
【００８３】
一方，上記保管装置４において，乾燥装置５からの「要求」信号に対して一定の間隔で乾燥装置５に搬出することのできる保管槽２０内のハニカム成形体１が無くなった場合には，上記「搬出停止」信号を出力する。
上記「搬出停止」信号を入力した乾燥装置５は，乾燥槽５０内にある全てのハニカム成形体１の搬出が終わるまで，新たなハニカム成形体１の受け入れを停止する。そして，上記ハニカム成形体１を全て搬出した上記乾燥装置５は，上記ベルトコンベア５９を停止する。ここで，この運転状態を「立下がり状態」とした。そして，上記保管槽５０内が空になった後，上記待機状態へ移行する。
【００８４】
以上のごとく，本例の製造装置によれば，上記保管装置２が，アキュームレータ機能を有するのに加えて，上記保管槽４０内のハニカム成形体１の数量に応じた信号を出力する。そして，上記押出成形装置及び乾燥装置５は，上記信号によって制御され，運転状態を変更する。
そのため，本例では，上記押出成形装置，保管装置２及び乾燥装置３が協調して動作し，上記ハニカム成形体１を連続的かつ一体的に製造することができる。それ故，本例の製造装置によれば，さらに効率よく良好な品質のハニカム成形体１を製造することができる。
上記以外の作用効果については，参考例１と同様である。
【００８５】
（実施例２）
本例は，実施例１の乾燥装置５のマイクロ波出力を自動的に制御した例である。以下，この内容について説明する。
実施例１で説明したごとく，上記乾燥装置５は，上記保管装置２が出力する信号に呼応して，待機状態，立ち上がり状態，定常運転状態，立下がり状態，再び待機状態という運転状態サイクルを繰り返し実施する。
【００８６】
本例では，実施例１の乾燥装置５に基づいて，上記保管槽５０内の上記ハニカム成形体１の数量を計数するカウンター機能と，計数された数量によってマイクロ波の出力値を制御しうる構成を追加したものである。
上記カウンター機能は，上記「準備完了」を受けてリセットし，その後，上記保管槽５０の許容数量を上限として，カウントアップすると共に，上記「搬出停止」信号を受けてカウントダウンする。ここで，上記カウントアップ及びカウントダウンする周期は，上記ベルトコンベア５９の搬送周期と同一である。
このようなカウンター機能によれば，上記乾燥装置５の全ての運転状態において，上記乾燥槽５０内の上記ハニカム成形体１の数量を正確に把握することができる。
【００８７】
また，本例を実施するに当たっては，予め，図２に示したマイクロ波出力値に基づいて，図５に示すごとく，乾燥装置３の上記運転状態サイクルに対するマイクロ波出力値スケジュール化した。ここで，図４のグラフにおいては，横軸として乾燥装置３の運転状態サイクルを示し，目盛りには上記搬送周期を示している。そして，縦軸としては設定すべきマイクロ波出力値を示している。
そして，上記乾燥装置５を用いて，上記ハニカム成形体１を乾燥するにあたっては，図５に示すごとく，上記乾燥装置５の上記運転状態に応じて，上記マイクロ波の出力値を自動的に制御した。
【００８８】
以上のごとく，上記乾燥装置５を含む上記ハニカム成形体１の製造装置によれば，マイクロ波出力値の制御を含めて，上記ハニカム成形体１の製造工程を効率的かつ自動的に実施することができる。
それ故，乾燥槽３０に搬入された全てのハニカム成形体１を均一かつ適切に乾燥することができるとともに，乾燥装置３を非常に効率的に運転することができる。
上記以外の構成及び作用効果については，実施例１と同様である。
【００８９】
（参考例２）
本例では，図６に示すごとく，実施例１における保管装置に代えて，ポリ塩化ビニリデン樹脂製のラップシート７０に包んだうえ，パレット形状の容器に並べて保管した。また，図７に示すごとく，参考例１における乾燥装置に代えて，バッチ式の乾燥装置６を用いて乾燥した例である。即ち，本例では，押出成形工程から保管工程を経て乾燥工程に至る製造工程が連続的に実施される参考例１とは異なり，上記各工程を個別に実施した。
【００９０】
上記ラップシート７０としては，ポリプロピレン，ナイロン等のラップシートを用いることができるが，本例では，ポリ塩化ビニリデン樹脂製のラップシートを適用した。さらに，上記ラップシート７０に替えて，上記ハニカム成形体１を囲うように成形されたスポンジ等を適用することも考えられる。上記ハニカム成形体１と外部との間の水分の行き来を遮断できる材質によるものであれば良く，テフロン（登録商標）などの材質を用いることができる。
【００９１】
また，上記乾燥装置６は，ハニカム成形体１を収納する乾燥槽６０と，該乾燥槽６０内を湿度が７０％以上の高湿度雰囲気とする加湿装置６２と，周波数２４５０ＭＨｚ領域のマイクロ波を上記乾燥槽６０内に供給するマイクロ波発生装置６４とを有する。
【００９２】
上記乾燥槽６０内には，保管トレイ５０に載置されたハニカム成形体１を最大５個支持できる受け台６８を設けてある。この受け台６８は上下方向に貫通する貫通穴を複数有し通気性を有している。
また，乾燥槽６０の一方の側壁６０３の左右上下の４角部分に，４つのマイクロ波発生装置６４からそれぞれ延設された導波管６４０が接続されて開口している。この開口部がマイクロ波導入口６４１である。また，乾燥槽６０には図示しない入口部を有し，上記ハニカム成形体１を出し入れできるようになっている。
【００９３】
また，側壁６０３の左右２カ所には，加湿装置６２としてのボイラーから延設され分岐した２本の蒸気配管６２０が接続され開口している。この開口部が蒸気導入口６２１である。この蒸気導入口６２１から導入される蒸気は，上記のごとくボイラーより送られる高温蒸気であり，その温度は８０℃以上である。
【００９４】
上記構成において，本例の保管工程では，まず，保管トレイ５０に載置した上記ハニカム成形体１をラップシート７０に包み込む。ここで，上記ラップシート７０の内外が連通しないように，上記ハニカム成形体１の全体を包み込む。
そして，上記ラップシート７０で包み込んだハニカム成形体１をパレット形状の容器（図示略）に並べて，保管する。本例では，上記ハニカム成形体１を並べた上記パレット形状の容器を直射日光の当たらない状態で保管した。
【００９５】
次に，図７に示すごとく，バッチ式の乾燥装置６を用いて，上記乾燥工程を実施した。まず，図５に示すごとく，上記ラップシート７０に包まれた上記ハニカム成形体１を取り出す。そして，上記保管トレイ５に載置した状態のままハニカム成形体１を上記受け台６８上に配置する。
この状態で，乾燥槽６０内に加湿装置６２から高温蒸気を導入して湿度７０％以上の高湿度雰囲気を形成すると共に，マイクロ波発生装置６４からマイクロ波を導入してマイクロ波加熱を行う。
【００９６】
このとき，本例では，上記乾燥槽６０に投入したハニカム成形体の数量に応じて，上記乾燥装置３でのマイクロ波照射出力を変更した。具体的には，図８に示すグラフに基づいてマイクロ波照射出力を設定した。グラフにおいて，横軸は乾燥槽３０内のハニカム成形体１の個数を示し，縦軸は適正なマイクロ波照射出力を示している。
【００９７】
以上のごとく，上記押出成形後のハニカム成形体１を上記ラップシート７０に包み込むことにより，上記ハニカム成形体から放散した水分は，ラップシート７０と上記ハニカム成形体１との間に形成された隙間の空間に留められる。そして，該空間には，高湿度雰囲気が形成される。そのため，上記ハニカム成形体１を高湿度雰囲気内に保持することができ，参考例１と同様に，乾燥の進行を抑制して乾燥収縮が生じにくくするという作用効果を得ることができる。
【００９８】
したがって，乾燥槽６０内において，上記ハニカム成形体１は上記マイクロ波を照射され，セル壁１１及び外周スキン部１２の変形，しわ，割れ等を発生を防止しつつ急速に乾燥される。
なお，上記ラップシート７０とハニカム成形体１との隙間の空間の体積が小さくなるように，上記ラップシート７０を上記ハニカム成形体に密着させれば，上記ハニカム成形体の乾燥抑制効果を，さらに高めることができる。
【００９９】
また，以上のごとく，上記乾燥槽６０内の上記ハニカム成形体１の数量に応じてマイクロ波出力値を設定することで，上記ハニカム成形体１の過剰加熱を防止できる。
このように，本例によれば，良好な品質のハニカム成形体１を非常に効率よく製造することができる。特に，０．１１５ｍｍ厚のセル壁をハニカム状に配した多数のセルと０．３ｍｍ厚の外周スキン部からなる非常に弱いセラミック製のハニカム成形体の製造においても，上記セル壁及び外周スキン部の変形，しわ，割れ等がない良好な品質のハニカム成形体１を効率的かつ比較的小規模な製造装置によって製造することができる。
上記以外の構成及び作用効果については，参考例１と同様である。
【図面の簡単な説明】
【図１】 参考例１における，保管装置及び乾燥装置の構成を示す説明図。
【図２】 参考例１の乾燥装置における，ハニカム成形体の数量に対する適切なマイクロ波出力の関係を示すグラフ。
【図３】 参考例１における，（ａ）ハニカム成形体の斜視図，（ｂ）セル壁厚さを示す説明図。
【図４】 実施例１における，保管装置及び乾燥装置の構成を示す説明図。
【図５】 実施例２の乾燥装置における，運転状態サイクルに対するマイクロ波出力値スケジュールを示すグラフ。
【図６】 参考例２における，ハニカム成形体を包むラップシートを示す説明図。
【図７】 参考例２における，乾燥装置の構成を示す説明図。
【図８】 参考例２の乾燥装置における，ハニカム成形体の数量に対する適切なマイクロ波出力の関係を示すグラフ。
【符号の説明】
１．．．ハニカム成形体，
１０．．．セル，
１１．．．セル壁，
１２．．．外周スキン，
２，４．．．保管装置，
２０，４０．．．保管槽，
２２，４２．．．保管槽加湿装置，
３，５，６．．．乾燥装置，
３０，５０，６０．．．乾燥槽，
３２，５２，６２．．．乾燥槽加湿装置，
３４，５４，６４．．．マイクロ波発生装置，
５．．．搬送トレイ，
５０．．．保管トレイ，

Claims (15)

1. セル壁をハニカム状に配して多数のセルを設けたセラミック製のハニカム成形体を製造する方法において，
   粘土質のハニカム成形体を押出成形する押出成形工程と，
   周波数１０００〜１００００ＭＨｚ領域のマイクロ波を照射することにより，上記ハニカム成形体を加熱して，乾燥する乾燥工程と，
   上記押出成形工程と上記乾燥工程との間において，上記ハニカム成形体を高湿度雰囲気内に保持する保管工程とを有し，
   該保管工程は，アキュムレータ機能を有しており，上記保管工程に供給される上記ハニカム成形体の供給数と，上記保管工程から搬出される上記ハニカム成形体の搬出数との不一致を調整し，
   上記保管工程において規定数量の上記ハニカム成形体が保管された場合には，上記保管工程から上記乾燥工程に上記ハニカム成形体を一定の間隔で搬出し，上記保管工程において一定の間隔で上記乾燥工程に搬出することのできる上記ハニカム成形体が無くなった場合には，上記乾燥工程にある全ての上記ハニカム成形体の搬出が終わるまで，上記保管工程から上記乾燥工程への上記ハニカム成形体の搬出を行わないようにすることを特徴とするハニカム成形体の製造方法。
2. 請求項１において，上記保管工程においては，上記ハニカム成形体を湿度が７０％以上の高湿度雰囲気内に保持することを特徴とするハニカム成形体の製造方法。
3. 請求項１又は２において，上記ハニカム成形体は，その側面外周を覆う外周スキン部を有しており，該外周スキン部の厚さが０．５ｍｍ以下であることを特徴とするハニカム成形体の製造方法。
4. 請求項１〜３のいずれか１項において，上記ハニカム成形体は，上記セル壁の厚さが０．１２５ｍｍ以下であることを特徴とするハニカム成形体の製造方法。
5. 請求項１〜４のいずれか１項において，上記保管工程においては，上記ハニカム成形体を水分遮閉体により覆って，上記ハニカム成形体から放散する水分を上記水分遮閉体の内部に留めることにより，上記高湿度雰囲気を形成することを特徴とするハニカム成形体の製造方法。
6. 請求項１〜４のいずれか１項において，上記保管工程においては，常温ミストあるいは高温蒸気を供給することにより，上記高湿度雰囲気を形成することを特徴とするハニカム成形体の製造方法。
7. 請求項１〜６のいずれか１項において，上記粘土質のハニカム成形体は，コージェライト，ＳｉＣ，Ｓｉ _３ Ｎ _４ またはムライトからなることを特徴とするハニカム成形体の製造方法。
8. セル壁をハニカム状に配して多数のセルを設けたハニカム成形体の製造装置であって，
   粘土質のハニカム成形体を押出成形する押出成形装置と，
   周波数１０００〜１００００ＭＨｚの領域のマイクロ波を照射することにより，上記ハニカム成形体を加熱して，乾燥する乾燥装置と，
   上記押出成形装置が押出成形した上記ハニカム成形体を上記乾燥装置へ搬入するまでの間において，上記ハニカム成形体を高湿度雰囲気内に保持する保管装置とを有し，
   該保管装置は，上記ハニカム成形体を搬送するアキュームコンベアを有しており，上記保管装置に供給される上記ハニカム成形体の供給数と，上記保管装置から搬出される上記ハニカム成形体の搬出数との不一致を調整できるよう構成されており，
   上記保管装置において規定数量の上記ハニカム成形体が保管された場合には，上記保管装置から上記乾燥装置に上記ハニカム成形体を一定の間隔で搬出し，上記保管装置において一定の間隔で上記乾燥装置に搬出することのできる上記ハニカム成形体が無くなった場合には，上記乾燥装置にある全ての上記ハニカム成形体の搬出が終わるまで，上記保管装置から上記乾燥装置への上記ハニカム成形体の搬出を行わないようにするよう構成されて いることを特徴とするハニカム成形体の製造装置。
9. 請求項８において，上記保管装置は，上記ハニカム成形体を湿度が７０％以上の高湿度雰囲気内に保持するよう構成されていることを特徴とするハニカム成形体の製造装置。
10. 請求項８又は９において，上記保管装置は，上記ハニカム成形体と外部との間に配置する水分遮閉体を有することを特徴とするハニカム成形体の製造装置。
11. 請求項８又は９において，上記保管装置は，上記ハニカム成形体を収納する保管槽と，該保管槽内を高湿度雰囲気とする加湿装置とを有することを特徴とするハニカム成形体の製造装置。
12. 請求項１１において，上記加湿装置は，常温ミストあるいは高温蒸気を供給するよう構成されていることを特徴とするハニカム成形体の製造装置。
13. 請求項８〜１２のいずれか１項において，上記保管装置は，該保管装置内でのハニカム成形体の有無又は個数を確認するためのセンサーを有しており，該センサーにより検出したハニカム成形体の有無又は個数に基づく情報を上記乾燥装置に伝達するよう構成されていることを特徴とするハニカム成形体の製造装置。
14. 請求項８〜１３のいずれか１項において，上記保管装置は，該保管装置内でのハニカム成形体の有無又は個数を確認するためのセンサーを有しており，該センサーにより検出したハニカム成形体の有無又は個数に基づく情報を上記押出成形装置に伝達するよう構成されていることを特徴とするハニカム成形体の製造装置。
15. 請求項１３または１４において，上記ハニカム成形体の有無を確認するセンサーとしては，光電管，レーザあるいはタッチ式センサーを用いることを特徴とするハニカム成形体の製造装置。

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