JP4112112B2 - 変位測定装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、光による三角測量を利用して測定対象面上で光を走査させて前記測定対象面の変位量を非接触で測定する変位測定装置に係り、特に受光素子の応答特性の影響を排除して高速かつ正確な変位量が得られる変位測定装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
光を用いて測定対象面の高さ変位(凹凸)を測定する場合、図11に示すように、投光器51からレーザビームを測定対象物52の表面に照射し、その照射点Pの像Kを結像レンズ53によって受光素子54の受光面上に結像させる三角測量方法による変位測定装置が用いられている。
この受光素子54は、受光面54a上の結像点がKの位置からK’,K”へ移動する移動量に対応した信号を出力するように構成されている。受光素子54は、図11に示すように、結像レンズ53の光軸に対し傾いて配置されており、受光面54aのどの位置に対しても結像するようになっている。
【0003】
この変位測定装置では、測定対象物52の表面の凹凸(変位)により照射点Pが高さ方向に移動して照射点P’又は照射点P”に位置する。これにより、受光素子54の受光面54aの結像点Kが結像点K’又は結像点K”の位置に移動する。受光素子54からの信号も結像点Kの移動量に応じて変化する。この信号の変化量から測定対象面の高さ方向(Z)の変位を検出することができる。なお、装置は、高さ方向Zの変位測定に所定限度の測定範囲を有している。測定範囲は、上限位置RUと下限位置RLとの間であり、測定対象物52の表面がこの測定範囲RU,RL間に位置していればこの測定対象物52表面の変位量を測定できる。
【0004】
また、図12は走査型の変位測定装置60を示す斜視図である。
この走査型の変位測定装置60の投光系は、光源61と振動ミラー型等の偏向装置62と収束レンズ63で構成されている。光源61から照射される照射光は、偏向装置62によって一定角度内の範囲で偏向される。偏向された照射光は、収束レンズ63によってその光軸が一平面上で平行に移動する。そして、その照射光は、測定台71上に載置されている測定対象物70の表面70aに所定の入射角度により照射される。照射光により形成された照射点Pは、直線的に往復走査又は片道走査される。
【0005】
照射光は照射点Pの位置で受光系に正反射される。照射点Pの像は、第1円筒面レンズ(シリンドリカルレンズ)64及び第2円筒面レンズ65によって受光素子66の受光面66aに結像される。この変位測定装置60では、測定対象面70aが鏡面のように反射率が高い場合は、照射点Pで反射される光の殆どが、照射点Pを対称にして入射角度と同じ角度で受光系に反射される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、測定対象面70aが粗面の場合は反射率が低い。この場合は、受光系に円筒面レンズ64,65を用いた従来の走査型の変位測定装置60では、照射点Pからの反射光が散乱して受光面66aに結像されると、受光素子66の受光面66aの像がぼけてしまい、測定精度が著しく低下するという問題点があった。
【0007】
即ち、円筒面レンズ64,65は、基本的にレンズ円筒面の周方向に対してのみ収束性を示し、他の方向には収束性はない。このため、図13(a)に示すように、照射点Pで反射した測定光のうち、第1円筒面レンズ64の円筒面の周方向に拡がった散乱光は、第1円筒面レンズ64で収束されて第2円筒面レンズ65に入射される。そして、第2円筒面レンズ65で受光素子66の受光面66aの中心へ向かうように偏向されて、受光面66a上に結像点Kを形成する。
【0008】
また、図13(b)に示すように、照射点Pで反射した測定光のうち、第1円筒面レンズ64の円筒面の軸方向に拡がった散乱光は、第1円筒面レンズ64では全く収束されずに拡がったままで第2円筒面レンズ65へ入射される。このため、受光素子66の受光面66a上の結像点Kは、受光面66aの幅方向に伸びた直線になる。
【0009】
しかも、照射点Pの像を焦点距離の短い第1円筒面レンズ64だけで絞り込むようにしている。このため、第1円筒面レンズ64の収差により、受光素子66の受光面66a上の像Kにおける、図14に示す横長の長円状の短い径方向を、小さく絞り込むことができない。これにより、受光素子66から出力される信号の変動が大きくなり、測定表面の変位を高い精度で測定することができない問題点を生じる。
【0010】
また、上記の走査型の構成においては、測定表面を高速に走査するため新たな問題が生じた。
変位測定装置は、予め高さ方向(Z)に測定範囲RU,RLが定められているため、測定表面がこの測定範囲を越えると、受光素子54,66の受光面から外れた位置に結像点Kが作られることになる。
ここで、受光側の光学系で受光素子54,66の受光面上の所定範囲内にのみ結像点Kが作られるよう製造することはできない。
受光素子54,66は、受光面の端部で応答性が劣る特性を有している。以下、図11の構成の受光素子54を例に用いて説明する。
【0011】
例えば、半導体素子であるBGAの半田ボールの変位量を測定する等の場合には、BGAの半田ボールの頂点部分での変位量を正確に測定するために変位測定装置の高さを調整しておく。すると、BGAの底部(即ち、半導体素子の面)が測定範囲から外れた位置となることがある。
このような場合、走査型の構成であると、照射点Pの位置が短時間で測定範囲から外れ、また、復帰することとなる。対応して受光素子54の受光面54a上では結像点KがZ方向における端部位置54bを高速に通過することになる。
これにより、受光素子54の受光面54aの端部位置54bを結像点Kが通過した際に出力される誤差を含む検出信号が、受光面54a上で正確に検出された変位量の検出信号に影響を与え、結果として変位測定精度を向上できない問題が生じた。
【0012】
図15は、受光素子54の受光面54aを示す図である。
受光素子54は、受光面54a上に一対の細長い電極54A,54Bが配置される。通常、この電極54A,54B同士の内側の有効エリア(図中範囲L21で記載)内に結像点Kが作られれば変位量を正確に検出できる。
この電極54A,54Bは、受光面54aの端部54eから所定距離内側に形成されており、電極54A,54Bの外側の部分(端部位置54b)に結像点Kが作られると、前述した応答性が劣り変位量に誤差を含む検出信号が出力されてしまう。
【0013】
装置が走査型でない場合にあっては、この端部位置54bで検出された変位量が測定範囲外であると判断して使用しない等の対処が可能である。
しかし、走査型の構成であると、前述したように、BGAの半田ボールの測定のように照射光がRU,又はRLの外側になる場合は、受光素子54の端部位置54bを光が瞬間に通過することになる。このように端部位置54bを通過した際に出力された検出信号は応答性が劣り、有効エリアの範囲L21内で検出された際の検出信号を鈍らせる如く影響を与える。上記BGAの具体的では、測定範囲外であるBGA底部での変位量の検出信号によって測定したいBGA頂点部の変位量が正確に得られないことがあった。
【0014】
図16は、使用している受光素子の光入射位置による応答性の違いを示す図である。仮に(a)のような変調光(変調周波数は例えば10kHz)が入射した場合、その検出信号(図は受光素子出力A+Bの波形;受光量に相当する)は、有効受光面上に入射した場合の応答(b)に比べ、端部に入射した場合には(c)のように立ち上がり、下がり共に時間のかかった(なまった)応答となる。この部分では、正しい変位測定結果を得ることができない。立ち上がり、立ち下がりに要している時間は現状のデータサンプリングピッチ;83nsピッチ;12Mサンプル/s)の200〜300データ分に相当し、測定結果に大きな影響を与えている。
【0015】
上記のように受光素子の端部位置で応答性が低下する問題は、受光素子から出力される変位量のデータを電気的処理で解消することはできない。
また、図15に図示したが、受光素子54の受光面54a上では、四方の端部位置がいずれも同様に応答特性が劣り、上記Z方向の端部位置54bに加えて、走査方向Xに対応した端部位置54dについても同様に応答性が劣る特性を保有している。(図15には、この端部位置54b,54dを斜線で示した。)
そして、近年の変位測定装置は、次第に走査速度が高速化されてきており、この走査速度の高速化によって、上記受光素子の応答性に係る問題が表出してきたためこの解決策が求められていた。
【0016】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、測定範囲を越えた測定や光の走査に起因して光が受光素子の端部位置を通過しても、受光素子の端部位置での劣特性の影響を受けることなく、測定対象面の変位を高速なまま高精度に測定できる変位測定装置を提供することにある。
【0017】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の変位測定装置は、請求項1記載のように、測定対象面上にあてる照射光を走査し、受光素子の受光面上に形成された結像点の検出位置に基づき、前記測定対象面の変位量を非接触で測定する変位測定装置において、
照射光を屈曲させて一定の振り幅で走査させる偏向装置を備え前記走査した照射光を前記測定対象面上に照射して照射点を形成する投光手段と、
前記照射点からの測定光を受光素子の受光面上で受光して結像点を形成する受光手段とを有し、
該受光手段は、
光軸廻りに均等な結像特性を有する複数の集光レンズ部が前記照射光の走査方向に沿って構成され、前記測定光を収束させるレンズアレイと、
光軸廻りに均等な結像特性を有し、前記収束された測定光を前記受光面上に前記結像点を形成させる結像レンズを備え、
前記受光素子の受光面には、前記照射光の走査に対応した該受光面上での光の移動方向両端部であって応答性の劣る部分に、前記受光手段による前記光の集束特性に応じて予め設定される隣接した結像点のスポット間隔に対応した所定幅の開口範囲内で前記光の結像点を形成させ、前記スポット間隔を越えた箇所に対応する前記受光面の端部位置では前記光を遮蔽するマスク部が形成されていることを特徴とする。
【0018】
また、請求項2記載の発明は、請求項1記載の変位測定装置において、前記受光素子の受光面には、前記測定対象面の前記変位量の変化による前記光の結像点の移動方向両端部であって応答性の劣る部分に、それぞれ所定幅で前記光を遮蔽する他のマスク部を形成したことを特徴とする。
【0022】
また、請求項3記載のように、前記マスク部は、前記受光素子の受光面上に光を遮蔽する部材を塗布あるいは貼付して形成することができる。
【0023】
また、請求項4記載のように、前記マスク部は、前記受光素子の受光面上に設けられた透明板の内面又は外面に光を遮蔽する部材を塗布あるいは貼付して形成してもよい。
【0024】
上記構成によれば、受光素子の端部には、変位量の変化による前記光の結像点の移動方向両端部と、予め設定される変位量の測定範囲に対応した所定長さの開口範囲内で前記光の結像点を形成させ前記測定範囲を越えた箇所に対応する前記受光面の端部位置に、それぞれ所定幅で前記光を遮蔽するマスク部が形成されている。
これにより、光を高速に走査して変位量を測定する際に、短時間で変位量が測定範囲を越えたとき、及びこの光の走査が受光素子の端部位置を通過する際、この光を遮蔽するため、応答性の劣るこの端部位置の検出信号を出力することなく、良好な受光範囲の検出信号のみ出力することができ、走査速度が高速であっても正確な変位量を得られるようになる。
【0025】
【発明の実施の形態】
〔第1実施形態〕
図1及び図2に示すように、変位測定装置1は、投光手段2から照射される照射光を、測定対象物の測定対象面30a上で走査し、その反射光を受光手段6で受光するものである。測定対象物30は、測定台31に載置されている。
投光手段2は、レーザダイオード等の光源3と、回転ミラー型,振動ミラー型又はポリゴンミラー型等の偏向装置4と、偏向装置4から出射した光を測定対象面上に収束させる収束レンズ5で構成されている。
【0026】
偏向装置4は、照射光を測定対象面30a上に斜め入射させる位置に配置される。偏向装置4は、光源3から入射された照射光を屈曲させ、一定の振り幅で照射光をX方向に走査する。
収束レンズ5は、その長手方向を走査方向Xと一致させて、偏向装置4から出射された光の光路上に配置される。収束レンズ5は、偏向装置4で走査された照射光を収束させて、光軸が平行移動するビームを測定対象面30aに出射する。
測定対象面上では、照射光により照射点Pが形成される。
【0027】
受光手段6は、レンズアレイ7と、光軸廻りに均等な結像特性を有する結象レンズ8と、受光素子9で構成されている。受光手段6は反射光の光路上に配置される。
レンズアレイ7は、複数(図1では6個)の集光レンズ部7a〜7fが走査方向Xに沿って所定ピッチを有して一列に並んだ状態で構成されている。各集光レンズ部7a〜7fは、照射光の走査幅より小さい寸法で、合成樹脂又はガラスで形成されてレンズアレイ7を構成する。各集光レンズ部7a〜7fの焦点距離f1(たとえば20mm)は互いに等しく、その各光軸はそれぞれ平行である。各集光レンズ部7a〜7fは、光軸廻りに均等な結像特性を有するレンズ部となっている。
【0028】
結像レンズ8は、反射光の走査幅寸法(たとえば36mm)より大きい径を有する。結像レンズ8は、その光軸と反射光の光路が一致するように配置されている。結像レンズ8の入射面は各集光レンズ部7a〜7fと対面しており、出射面は受光面と対面している。結像レンズ8は、入射面に入射した反射光を光軸廻りに均等に絞込み、受光素子9の受光面9a上に一点に結像させる。なお、結像レンズ8の入射面は、球面,非球面を問わない。また、反射光が入射する範囲に対応した部分のみを切り出した形状にしてもよい。
【0029】
受光素子9は、矩形状の受光面9aを有する。受光面9aの中心は結像レンズ8の光軸と交わっている。受光素子9は、結像レンズ8の焦点距離f2離れた位置に配置されている。受光面9aの走査方向Xと平行な受光幅wは、1個の集光レンズ部7a(〜7f)の走査方向Xの幅tに、集光レンズ部7a〜7fの焦点距離f1と結像レンズ8の焦点距離f2の比(倍率)f2/f1を乗じた値よりも大きく設定されている。たとえば、1個の集光レンズ部7aの走査方向Xの幅が6mmで、倍率4のときは受光面9aの走査方向Xの幅wは24mmよりも大きい。
【0030】
受光面9a上に結像された像(結像点K)は、測定対象面30aの変位により、この受光面9a上での走査方向x(受光面9aの幅方向)と直交する方向z(縦方向)に移動するようになっている。この縦方向zは、測定対象面30aの変位に伴い、結像位置が結像レンズ8の光軸方向に移動するのに対応させるため、水平方向に対し図2に示すような所定の傾きをもって配置されている。
【0031】
図3は、受光素子9を示す平面図である。
図3(a)に示すように、受光素子9は縦方向zに長さL2を有し、縦方向の両端部にはそれぞれ幅方向xに沿って互いが平行な電極9A,9Bが設けられる。これら電極9A,9B間の受光範囲L21に結像点Kが結像されると、この結像位置に対応して一対の検出信号A,Bが出力される。
測定対象面30aがレンズアレイ7に近づくと、相対的に検出信号Aが大きくなり、検出信号Bが小さくなる。一方、測定対象面30aがレンズアレイ7から遠ざかると、相対的に検出信号Bが大きくなり、検出信号Aが小さくなる。
【0032】
受光素子9の受光面9a上の受光範囲L21は、測定範囲(上限位置RU、下限位置RL)の距離に対応している。測定対象面30aが上下限の測定範囲RU,RL内(図11参照)に位置していれば、この測定対象面30aの変位量を示す検出信号が正確な値で出力される。
なお、これら受光面9aの縦方向zの長さL2、測定範囲RU,RL間の距離(測定対象面30aの測定可能な高さ方向Zの距離範囲)、受光側の光学系7,8の焦点距離と倍率、はそれぞれが相互に関係している。例えば、装置に用いる受光素子と測定範囲に合わせた受光の光学系を作成するようになっている。
【0033】
装置は、受光面9aの受光範囲L21の範囲内に測定範囲(上限位置RU,下限位置RL)がいずれも位置するよう各部を設定する。そしてこの受光素子9には、縦方向zの長さL2方向の端部位置9cに幅L23を有して前述した応答性が劣る部分が存在している。
【0034】
この受光面9a上で縦方向zの長さL2方向の端部位置9cには、電極9A,9Bと受光面9aの端部9eとの間にマスク部20を形成する。
図3(b)に示すように、このマスク部20は、端部位置9c及び電極9A,9B上をいずれも覆う略長方形状に設けられる。
これら一対のマスク部20の一端部20a,20a同士間の間隔(開口範囲)L22は、前記測定範囲に対応して設定する。図示の例では、この開口範囲L22は、受光素子9の受光範囲L21よりも若干短い距離に設定されている。
【0035】
マスク部20は、受光面9a上に光を透過及び反射しない材質(例えば、遮光性インキ等)を塗布、あるいはシートを貼付して形成する。あるいは、受光面9a上には所定厚さを有するガラス等の透明体が設けられるため、この透明体の表面又は裏面にマスク部20を設けた構成とすれば、透明体での光の屈折を防げ、開口範囲L22をより厳密に設定できる。
【0036】
受光素子9から出力される検出信号A,Bは、図4に示すような変位演算手段に出力される。変位演算手段10には、検出信号A,Bを電流/電圧変換する一対の電流電圧変換部I/Vが設けられている。各電流電圧変換部I/Vで変換された検出信号A,Bはそれぞれ加算部12と減算部13に出力される。
加算部12では検出信号A,Bが加算され、加算信号を出力する。減算部13では検出信号A,Bが減算され、減算信号を出力する。
加算信号及び減算信号は除算部14に入力されて除算され、変位信号Dを出力するようになっている。
【0037】
次に、本実施の形態の作用について、図1〜図6を用いて説明する。光源3から照射された照射光は、偏向装置4により屈曲され、所定のストロークで走査される。
走査された照射光は収束レンズ5に入射され、測定対象面30a上に照射点Pを形成し、この測定対象面30a上で走査方向Xに平行に移動するビームとなる。照射光は照射点Pごとに反射又は散乱し、その反射,散乱光(測定光)は受光手段6側へ出射される。
【0038】
図5(a)に示すように、照射点Pが走査されて、レンズアレイ7の一端にある集光レンズ部7aに対向する位置に移動する。この照射点から反射,散乱した光(測定光)は、集光レンズ部7aによってほぼ平行なビームとなって収束する。収束された測定光は、結像レンズ8の光軸に対し角度のある状態で結像レンズに入射される。
【0039】
結像レンズ8は、集光レンズ部7aに入射された測定光を、向きを変えて受光素子9の受光面9aの一端側の位置に結像させる。図6(a)に示すように、側方からみても、照射点Pから反射,散乱する光は、集光レンズ部7a〜7eによってほぼ平行に収束され、結像レンズ8によって受光素子9の受光面9a上に結像される。
【0040】
このため、受光素子9の受光面9aには、照射点Pの高さに正確に対応した位置に点状の像Ka(結像点)が形成される。受光素子9は、受光面9aの縦方向zでの結像点Kの位置に対応した検出信号A,Bを電極から出力する。なお、照射点Pから他の集光レンズ部7b〜7fに入射する測定光も収束されて結像レンズ8に入射される。しかし、これらの光は受光素子9の受光面9a上には結像されない。
【0041】
また、照射点の走査によって、図5(b)に示すように、照射点Pはレンズアレイ7の集光レンズ部7aの光軸と交わる位置に移動する。この照射点Pから反射,散乱した光(測定光)は、主に集光レンズ部7aによってほぼ平行なビームに収束される。収束された測定光は、結像レンズ8の光軸と平行な状態で入射される。このため、照射点Pの像Kaは、受光素子9の受光面9aの幅方向xのほぼ中心位置に形成される。
【0042】
更に、照射点の走査によって図5(c)に示すように、照射点は、レンズアレイ7の集光レンズ部7aに対向する範囲内で、その光軸に対し隣の集光レンズ部7b寄りに移動する。すると、この照射点Pから反射,散乱した光(測定光)は、主に集光レンズ部7aによって収束され、結像レンズ8の光軸に対し図5(a)の場合と逆の角度をもって結像レンズに入射される。このため、結像レンズ8は、受光素子9の受光面9aの幅方向xの他端側の位置で点状の像Kaを形成する。
【0043】
このように、照射点Pが集光レンズ部7aに対向する範囲内で移動すると、受光素子9の受光面9a上の像Kaの位置は、受光面9aの幅方向xの一端部から他端部(図面上では上から下)に移動することになる。
また、照射点の走査にともなって、例えば図6(b)に示すように照射点PがP’のように高さ方向にδだけ移動すると、受光素子9の受光面9a上の像がK’のように縦方向zに移動し、その位置に対応する検出信号A,Bが出力される。そして、この検出信号A,Bから照射点P’の高さ、照射点Pの高さとの差δが判り、測定対象面30aの変位量が得られる。
【0044】
そして、図5(d)に示すように、照射点Pが幅方向xへの走査で集光レンズ部7aと集光レンズ部7bの境界部に対向する位置に来ると、その照射点Pからの光は、隣接する2つの集光レンズ部7a,7bによってそれぞれほぼ平行なビームに集束されて結像レンズ8に入射される。このため、受光素子9の受光面9aの幅方向の両端に像Ka,Kbがつくられるが、この2つの結像点Ka,Kbの受光面9aの縦方向xの位置はともに等しいので、受光素子9からは像が1つの場合と同様にその縦方向xの位置に対応した検出信号が出力される。
【0045】
照射点Pが更に幅方向xに走査されると、図5(e)に示すように、照射点Pが集光レンズ部7bに対向する範囲内まで移動する。すると、照射点Pから反射、散乱した光(測定光)は、主に集光レンズ部7bによって収束され、その光軸に対し角度のある状態で結像レンズ8に入射される。そして、結像レンズ8は、受光素子9の受光面9aの幅方向xの一端側の位置で点状の像Kbをつくる。
【0046】
以下同様に、照射点Pがレンズアレイ7の走査方向幅(ここでは36mm)を走査される間に、結像点Kは、各集光レンズ部7a〜7fごとに受光面9aの幅方向xの一端から他端まで移動する。これと同時に、測定対象面30aの変位に応じて結像点Kは受光面9a上で縦方向zに移動する。
そして受光素子9から、測定対象面30aの高さ変位に正確に対応した一対の検出信号A,Bが変位演算手段10に出力される。検出信号A,Bは、図4に示すように、電流電圧変換部I/Vにより、それぞれ電圧変換される。変換された検出信号A,Bは、ともに加算部12と減算部13に出力される。そして、加減演算後、加算部12から加算信号、減算部13から減算信号が出力され、除算部14で除算されて変位信号Dを出力する。
【0047】
この変位信号Dに基づいて各測定対象面30aの変位を測定することができる。また、照射光の走査範囲より径が大きい1つの光軸廻りに均等な結像特性を有する集光レンズのみで照射点からの測定光をほぼ平行に収束して結像レンズへ出射する従来の方式に比べて、受光面9aの幅が小さい受光素子9を用いることができるようになる。
つまり、この種の受光素子9は、その面積が大きい程、応答速度が遅くなることが知られている。上記実施形態のように、小さな複数の集光レンズ部7a〜7fで照射点Pからの測定光を収束するように構成することで、受光面9aの幅方向xが小さく応答速度の速い受光素子9を用いることができる。これにより、走査速度を上げて受光素子9の信号出力に対する処理速度を上げることができ、測定時間を短縮することが可能となる。
【0048】
そして、上記説明による走査型の変位測定においては、測定対象面30aの段差(凹凸)が大きい場合、この測定対象面30aが短時間のうちに測定範囲RU,RLを越え、また、測定範囲内に復帰する場合がある。
しかし、上記受光素子9の受光面9aは、マスク部20により測定範囲RU,RLに対応した開口範囲L22が設定されている。
【0049】
このため、例え測定対象面30aの高さ方向Zの位置が測定範囲を越えても、受光素子9の受光面9a上の結像点Kは、このマスク部20上に位置し、受光面9a(端部位置9b)への入射を遮蔽することができる。この際、受光素子9は検出信号A,Bを出力しない。
これにより、受光素子9の縦方向zの端部位置9bでの劣る応答性に起因する検出精度低下を未然に防止できる。
【0050】
〔第2実施形態〕
以下に説明する第2実施形態は、上記構成のレンズアレイ7を用いた構成において、受光素子9の幅方向xでの応答特性の劣化を防止しようとするものである。
【0051】
この受光素子9の受光面9a上では、上記走査によって結像点Kが幅方向xに移動する。
図7(a)に示すように、この結像点K(Ka,Kb)のスポット間隔Sdは、レンズアレイ7の各集光レンズ部7a〜7fの配列ピッチと、受光側の光学系(レンズアレイ7,結像レンズ8)の倍率によって決まる。
【0052】
この結像点Kのスポット間隔Sdは、受光素子9の受光面9aの幅方向xの幅wより小さくなるよう設定されており、受光面9a上で集光レンズ7a〜7fのうち、測定点Pが隣接する任意の2つの集光レンズ(例えば7a,7b)の境界面近くにあるときは、隣接する任意の2つの集光レンズ(例えば7a,7b)による結像点Ka,Kbが同時に存在するようになっている。
【0053】
受光素子9は、この幅方向xに関しても両端の端部位置9dに幅w23を有して応答性が劣る部分が存在している。
幅w21で示した部分が応答性の問題なく使用することができる受光範囲となっている。
【0054】
図8は、受光素子9の受光面9a上での結像点Kの移動状態を示す動作図である。同図は、上記第1実施形態の図5で説明した動作に、受光素子9の実際的な配置を記載し、受光面9a上での結像点Kの移動状態を示したものである。
図8(a)〜(e)に示すように、測定対象面30a上での照射点Pの走査に応じて、受光面9a上では結像点Kが幅方向xに移動していく。
レンズアレイ7は、複数の集光レンズ7a〜7fを有するため、隣接する集光レンズの結像点Ka〜Kfが上記スポット間隔Sdを有して移動する。
【0055】
この走査の際、各結像点K(Ka〜Kf)は、それぞれ受光面9aの端部位置9dを通過することになる。
したがって、図8(c)の如く、結像点Kaが受光範囲w21に位置している際に、結像点Kbが応答性の劣る端部位置9dに位置する状態が生じる。同様に、図8(d)のようにこの後、結像点Kbが受光範囲w21に位置している際に、結像点Kaが応答性の劣る端部位置9dに位置する状態となる。
このように、結像点Kが受光素子9で応答性の劣る端部位置9dを通過すると、このとき、受光範囲w21で検出されていた結像点Kに基づく検出信号の出力に影響を与える。
【0056】
したがって、図7(b)に示すように、受光面9a上で幅方向xの端部位置9dには、前記幅w23を有する略長方形状のマスク部21を形成する。
これら一対のマスク部21の一端部21a,21a同士間の間隔(開口範囲)w22は、前記スポット間隔Sdに対応して設定している。図示の如く、この開口範囲w22は、受光素子9の受光範囲w21よりも若干短く、また、同時に2つの結像点K(Ka,Kb)を受光できる間隔に設定されている。
厳密には、受光範囲w21≧開口範囲w22≧(スポット間隔Sd+スポット径)に設定する。
【0057】
図9は、マスク部21を設けた状態での結像点Kの移動状態を示す図である。上述したマスク部21を設けることにより、受光素子9の受光面9aは、開口範囲w22部分でのみ光を受光することができる。マスク部21は、結像点がこのマスク部21上に位置している期間は、受光面9aへの入射を遮蔽し、受光素子9は検出信号A,Bを出力しない。
【0058】
図9(a)〜(e)の順で結像点Kは、幅方向xに沿って移動するが、図9(c)の如く、結像点Kaが開口範囲w22に位置している際に、結像点Kbが応答性の劣る端部位置9dに位置しても、受光面9aはこの結像点Kbの光を受光しない。同様に、図9(d)のようにこの後、結像点Kbが開口範囲w22に位置している際に、結像点Kaが応答性の劣る端部位置9dに位置しても、受光面9aはこの結像点Kaの光を受光しない。
これにより、受光素子9の幅方向xの端部位置9dでの劣る応答性に起因する検出精度の低下を未然に防止できる。
【0059】
図10は、上記各実施形態で説明したマスク部20,21を一体的に設けた構成である。
図示のように、マスク部23は、受光素子9の受光面9aの各辺に沿った四角な環状に形成してもよい。このマスク部23は、前述した開口範囲L22,w22を有して構成される。
このマスク部23を設けることにより、受光素子9の4辺それぞれの端部位置9c,9dでの劣る応答性の箇所に結像点Kを形成しないよう構成できる。そして、前述したレンズアレイ7を用いて光を高速に走査しても、また、測定対象面30aの変位量が測定範囲RU,RLを越え、復帰しても、受光素子9からは精度よい検出信号A,Bを得ることができ、高精度な変位量を得られるようになる。
【0060】
上記実施形態では、ビームの走査範囲が36mmに対して、6つの集光レンズ部7a〜7fを有するレンズアレイ7を用いた構成であったが、これは本発明を限定するものではない。例えば、集光レンズ部7a〜7fをより小さくすれば(例えば幅2mm)、受光素子9の受光面9aの幅方向xの幅をさらに小さくすることができるので、受光素子9の応答速度が上がりその結果、受光素子9から出力される検出信号に対する処理速度をさらに上げることができる。
【0061】
また、レンズアレイ7の各集光レンズ部7a〜7fの焦点距離f1と、結像レンズ8の焦点距離f2の比f2/f1を小さくすれば受光素子9の縦方向zの長さも小さくできる。一方、結像レンズ8の焦点距離f2を小さくすると、結像レンズ8の周辺部においては収差が増大し、集光レンズ部7a〜7fの幅が一定のまま焦点距離f1を大きくすると、集光レンズ部7a〜7fは暗くなり受光量が低下する。このため、測定対象面30aの表面状態や測定に要求される精度等に応じて、各レンズ7,8の外径、焦点距離等を決定すればよい。
【0062】
また、上記実施形態のレンズアレイ7は、複数の集光レンズ部7a〜7fが合成樹脂あるいはガラスで一体成形されたものを用いたが、個別につくられた複数の集光レンズ部7a〜7fを接着して一体化してもよく、また、各集光レンズ部7a〜7fを接着せずに隙間のない状態で一列に並べたものであってもよい。
また、上記実施形態では、結像レンズ8は、一方の面が実際に球面状に形成されているレンズを用いていたが、光をその光軸の周りに均等にしぼり込むことができる結像レンズであればよく、両面が球面または非球面のレンズを用いてもよい。
【0063】
【発明の効果】
本発明の変位測定装置によれば、測定対象面が測定範囲を越える際、受光素子の受光面上で光の結像点は変位量に対応して端部位置に移動するが、マスク部材はこの端部位置で光を遮蔽する構成であり、応答性の劣る端部位置では光を検出せず、正常に検出された検出信号に影響を与えないようにできる。
これにより、変位量が瞬間的に増減する場合であっても変位測定精度を維持して正確な変位量を得ることができるようになる。特に、光を高速走査する装置の場合、変位量が短時間で増減する為有効となる。
【0064】
また、測定対象面上で光を走査させると、この走査に対応して受光素子の受光面上で光の結像点が走査方向に対応して端部位置に移動するが、マスク部はこの端部位置で光を遮蔽する構成であり、応答性の劣る端部位置では光を検出せず、正常に検出された検出信号に影響を与えないようにできる。
これにより、光を高速走査させても変位測定精度を維持して正確な変位量を得ることができるようになる。
特に、受光系にレンズアレイを用いた構成により、結像点の収差を少なくして像がぼやけることなく結像でき、小型で応答性の良い受光素子を用いることができ、変位測定精度を向上できる等の効果を有する。加えて、このレンズアレイを用いた際に走査された光は受光素子の端部位置でマスク部材により遮蔽され、有効な開口範囲内でのみ光を受光する構成であるため、走査による高速測定の利点を活かし、測定精度を向上できるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の変位測定装置を示す斜視図。
【図2】同変位測定装置の側面図。
【図3】受光素子を示す平面図(その1)。
【図4】変位測定装置の変位演算手段を示すブロック図。
【図5】受光素子上での結像点の移動状態を示す図。
【図6】図5の側面図。
【図7】受光素子を示す平面図(その2)。
【図8】受光素子の端部位置での光の通過を説明するための図。
【図9】受光素子上のマスク部による光の遮蔽を説明するための図。
【図10】マスク部の他の構成例を示す図。
【図11】変位測定の原理を示す図。
【図12】従来の走査型の変位測定装置を示す斜視図。
【図13】従来装置の受光側での光の集束を示す図。
【図14】同従来装置の受光側での光の集束を示す図。
【図15】受光素子の端部位置での劣特性を説明するための平面図。
【図16】受光素子の端部位置での劣特性を説明するための図。
【符号の説明】
1…変位測定装置、2…投光手段、3…光源、4…偏向装置、5…収束レンズ、6…受光手段、7…レンズアレイ、7a〜7f…集光レンズ部、8…結像レンズ、9…受光素子、9a…受光面、9A,9B…電極、9c,9d…端部位置、20,21,23…マスク部、30…測定対象物、30a…測定対象面、X…測定対象面上での光の走査方向、x…受光面上での光の走査方向、Z…測定対象面の高さ方向、z…受光面での変位量に対応した光の移動方向、RU,RL…測定限度位置(上限位置、下限位置)。
Claims (4)
- 測定対象面上にあてる照射光を走査し、受光素子の受光面上に形成された結像点の検出位置に基づき、前記測定対象面の変位量を非接触で測定する変位測定装置において、
照射光を屈曲させて一定の振り幅で走査させる偏向装置を備え前記走査した照射光を前記測定対象面上に照射して照射点を形成する投光手段と、
前記照射点からの測定光を受光素子の受光面上で受光して結像点を形成する受光手段とを有し、
該受光手段は、
光軸廻りに均等な結像特性を有する複数の集光レンズ部が前記照射光の走査方向に沿って構成され、前記測定光を収束させるレンズアレイと、
光軸廻りに均等な結像特性を有し、前記収束された測定光を前記受光面上に前記結像点を形成させる結像レンズを備え、
前記受光素子の受光面には、前記照射光の走査に対応した該受光面上での光の移動方向両端部であって応答性の劣る部分に、前記受光手段による前記光の集束特性に応じて予め設定される隣接した結像点のスポット間隔に対応した所定幅の開口範囲内で前記光の結像点を形成させ、前記スポット間隔を越えた箇所に対応する前記受光面の端部位置では前記光を遮蔽するマスク部が形成されていることを特徴とする変位測定装置。 - 前記受光素子の受光面には、前記測定対象面の前記変位量の変化による前記光の結像点の移動方向両端部であって応答性の劣る部分に、それぞれ所定幅で前記光を遮蔽する他のマスク部を形成したことを特徴とする請求項1記載の変位測定装置。
- 前記マスク部は、前記受光素子の受光面上に光を遮蔽する部材を塗布あるいは貼付して形成されている請求項1乃至2のいずれかに記載の変位測定装置。
- 前記マスク部は、前記受光素子の受光面上に設けられた透明板の内面または外面に光を遮蔽する部材を塗布あるいは貼付して形成されている請求項1乃至2のいずれかに記載の変位測定装置。
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