JP4099135B2 - 反射ミラーの製造方法 - Google Patents
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Description
以下、この発明による実施の形態1を図1ないし図8について説明する。なお、各図を通じて同一符合は同一もしくは相当部分を示すものとする。
図1に示すように、被加工物であるプリント基板2の穴あけ加工用のレーザ加工機には、レーザ発振器1から出射された加工用のレーザビーム(光路)6を加工位置に振るためのX軸の反射ミラー100およびY軸の反射ミラー200と、集光レンズ(f−θレンズと記述するか、あるいは「エフシータレンズ」と呼ばれる)5、および図示しないがその他導光のための反射光学系を有している。上記X軸の反射ミラー100はX軸のスキャナ3に、Y軸の反射ミラー200はY軸のスキャナ4にそれぞれ固定されている。この光学系において、穴あけの加工速度(単位時間あたりの加工穴の数)を決めるのが上記反射ミラー100、200の回転軸(X軸、およびY軸)回りの揺動速度である。
Δd=ΦMAX−ΦMINをいう。
更に追加した実験結果などを含む上記した一連の実験結果から、炭化物系セラミックスを用いて1000Hz程度以上(概略800〜1000Hz以上)の高速揺動運動させる反射ミラーを構成する場合にはリブが反射面の裏面全体を仕切ってできた平面部の形状の縦横比率に適正範囲があることが分かった。
なお、SiCの反射面に金を蒸着する際、SiC素地との密着力を確保するために、SiC面にクロムを蒸着してから金を蒸着することも有効である。
この発明の実施の形態2による反射ミラーとして、炭化硼素系セラミックス、例えば炭化硼素(B4C)と硼化クロム(CrB2)の複合物、炭化硼素(B4C)と硼化チタン(TiB2)の複合物、あるいは炭化硼素(B4C)と窒化アルミ(AlN)の複合物などからなる複合材料系の炭化硼素系セラミックス材料を用いた他は、実施の形態1で示した方法と同様の方法により反射ミラー(図示省略)を得た。この反射ミラーは上記実施の形態1に示すSiCセラミックス材料などを使用して得られた反射ミラーと同等以上の性能を有するものであった。
図9はこの発明の実施の形態3による反射ミラーの背面部を示す斜視図である。この反射ミラー200は、炭化硼素(B4C)と硼化クロム(CrB2)の複合材料、あるいは炭化硼素(B4C)と硼化チタン(TiB2)の複合材料などの炭化硼素系セラミックスからなるものであり、特にこれらの炭化硼素系セラミックス材料が若干の電気伝導性を有することから、図9に示す曲面を有する背面部の補強構造部220の一部または全部を放電加工により加工したものである。
次に、この発明の実施の形態4によるスキャンミラーとして用いる反射ミラーの製造方法について説明する。上記実施の形態1では研磨による反射面の加工方法は加工反力が大きいことから研磨面の平面度が得にくいことについても述べたが、この実施の形態4は、反射ミラーの平面度を確保する手段として、加工反力の小さい切削加工を用いて反射面を加工して反射ミラーを製造する方法を提供するものである。
Claims (1)
- 表面に反射面が形成された基体部と、この基体部の裏面に設けられ該基体部の歪みを防ぐ補強構造部とが一体に形成された反射ミラーにおいて、上記基体部および補強構造部の構成材が炭化硼素(B 4 C)と硼化クロム(CrB 2 )の複合体、または炭化硼素(B 4 C)と硼化チタン(TiB 2 )の複合体であることを特徴とする反射ミラーを製造する方法であって、炭化硼素(B4C)と硼化クロム(CrB2)の複合体、または炭化硼素(B4C)と硼化チタン(TiB2)の複合体から、上記反射ミラーを構成する補強構造部を放電加工により成形する工程、上記補強構造部の反対側の反射面となる面を必要な面粗さに光学研磨する工程を含むことを特徴とする反射ミラーの製造方法。
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CN104204900A (zh) * | 2012-03-23 | 2014-12-10 | 松下电器产业株式会社 | 扫描反射镜以及扫描型图像显示装置 |
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Families Citing this family (12)
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JP2005164878A (ja) * | 2003-12-02 | 2005-06-23 | Tadahiro Omi | 露光装置 |
US7453617B2 (en) * | 2004-08-18 | 2008-11-18 | Lg Electronics Inc. | Scanning device and fabrication method thereof |
JP4522315B2 (ja) * | 2005-04-28 | 2010-08-11 | 三菱電機株式会社 | スキャンミラー、その製造方法およびレーザ加工機 |
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JP2017129650A (ja) * | 2016-01-19 | 2017-07-27 | 株式会社ディスコ | 走査用ミラー |
DE102018205786A1 (de) * | 2018-04-17 | 2019-10-17 | Trumpf Laser Gmbh | Scannerspiegel, Scannereinrichtung und Bestrahlungseinrichtung |
JP2020052231A (ja) * | 2018-09-27 | 2020-04-02 | 住友重機械工業株式会社 | ガルバノスキャナ用ミラー |
US11226438B2 (en) | 2018-10-03 | 2022-01-18 | Corning Incorporated | Reflective optical element |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013184868A (ja) * | 2012-03-09 | 2013-09-19 | Mitsubishi Electric Corp | 炭化ホウ素−二ホウ化チタンセラミックス並びにレーザ加工装置用反射ミラー及びその製造方法 |
CN104204900A (zh) * | 2012-03-23 | 2014-12-10 | 松下电器产业株式会社 | 扫描反射镜以及扫描型图像显示装置 |
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