JP4063746B2 - 新規なチオウレタン骨格を有する(メタ)アクリレート - Google Patents
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Description
1.一般式(1)で表される新規(メタ)アクリレート。
(式中、連結基R1は脂肪族残基、芳香族残基、脂環族残基、複素環残基、もしくは、鎖中に酸素原子、硫黄原子、窒素原子、芳香環、脂肪族環または複素環を有する脂肪族残基を表し、X1はC(=O)O(CH2)1〜4基、C=O基、Ph−C(CH3)2基(ここでPhはフェニレン基を示す)を表し、X2はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、n1は1〜4の整数を表す。)
2.一般式(1)におけるX1がC(=O)O(CH2)2基、連結基R1が(2)〜(6)のいずれかで表される基である1記載の新規(メタ)アクリレート。
(式中、X3は水素原子またはメチル基を表し、X4、X5は酸素原子または硫黄原子を表し、X6は水素原子、メチル基またはエチル基を表し、n2は1〜5の整数、n3は0〜2の整数、n4〜n9はそれぞれ0または1の整数を表す)
3.チオールと光重合性モノイソシアネートとのチオウレタン化反応により得られる1記載の新規(メタ)アクリレート。
4.一般式(7)で表される新規(メタ)アクリレート。
(式中、連結基R2、R3は脂肪族残基、芳香族残基、脂環族残基、複素環残基、もしくは、鎖中に酸素原子、硫黄原子、窒素原子、芳香環、脂肪族環または複素環を有する脂肪族残基を表し、X6はC(=O)O(CH2)1〜4基、C=O基、Ph−C(CH3)2基(ここでPhはフェニレン基を示す)を表し、X7はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、n10は1〜4の整数を表し、n11は1または2の整数を表し、n12は1〜3の整数を表す。)
5.一般式(7)におけるX6がC(=O)O(CH2)2基、連結基R2が式(2)または式(3)のいずれかで表される基であることを特徴とする4記載の新規(メタ)アクリレート。
6.分子内に2個以上のメルカプト基を有するポリチオール、光重合性モノイソシアネート、光重合性基を有さないイソシアネートのチオウレタン化反応から得られる4記載の新規(メタ)アクリレート。
7.ポリチオールの少なくとも一方のメルカプト基を残すよう光重合性モノイソシアネート(メタ)アクリレートとのモル比を調整し反応させた後、残りの未反応メルカプト基と光重合性基を有さないイソシアネートを反応させることを特徴とする4〜5のいずれかに記載の新規(メタ)アクリレートの製造方法。
8.1〜6のいずれかに記載の新規(メタ)アクリレートを含有することを特徴とするハードコート剤。
9.1〜6のいずれかに記載の新規(メタ)アクリレートよりなる光学材料。
に関する。
本発明の一般式(1)
(式中、連結基R1は脂肪族残基、芳香族残基、脂環族残基、複素環残基、もしくは、鎖中に酸素原子、硫黄原子、窒素原子、芳香環、脂肪族環または複素環を有する脂肪族残基を表し、X1はC(=O)O(CH2)1〜4基、C=O基、Ph−C(CH3)2基(ここでPhはフェニレン基を示す)を表し、X2はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、n1は1〜4の整数を表す。)
で表される新規(メタ)アクリレートにおいて、連結基R1は脂肪族残基、芳香族残基、脂環族残基、複素環残基、もしくは、鎖中に酸素原子、硫黄原子、窒素原子、芳香環、脂肪族環または複素環を有する脂肪族残基を表し、X1はC(=O)O(CH2)1〜4基、C=O基、Ph−C(CH3)2基(ここでPhはフェニレン基を示す)を表し、X2はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、n1は1〜4の整数を表す。
(式中、X3は水素原子またはメチル基を表し、X4、X5は酸素原子または硫黄原子を表し、X6は水素原子、メチル基またはエチル基を表し、n2は1〜5の整数、n3は0〜2の整数、n4〜n9はそれぞれ0または1の整数を表す)
また本発明の一般式(7)
(式中、連結基R2、R3は脂肪族残基、芳香族残基、脂環族残基、複素環残基、もしくは、鎖中に酸素原子、硫黄原子、窒素原子、芳香環、脂肪族環または複素環を有する脂肪族残基を表し、X6はC(=O)OCH2CH2基、C=O基、Ph−C(CH3)2基(ここでPhはフェニレン基を示す)を表し、X7はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、n10は1〜4の整数を表し、n11は1または2の整数を表し、n12は1〜3の整数を表す。)
で表される新規(メタ)アクリレートにおいて、連結基R2、R3は脂肪族残基、芳香族残基、脂環族残基、複素環残基、もしくは、鎖中に酸素原子、硫黄原子、窒素原子、芳香環、脂肪族環または複素環を有する脂肪族残基を表し、X6はC(=O)OCH2CH2基、C=O基、Ph−C(CH3)2基(ここでPhはフェニレン基を示す)を表し、X7はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、n10は1〜4の整数を表し、n11は1または2の整数を表し、n12は1〜3の整数を表す。
一般式(1)で表される(メタ)アクリレート得るためには、チオール(メタ)アクリレートのメルカプト基と光重合性モノイソシアネート(メタ)アクリレートのイソシアネート基のモル比が0.8〜1.2になるように調製する。0.8以下または1.2以上の場合、反応終了後も好ましくない副反応が進行しゲル化する可能性がある。
一般式(7)で表される(メタ)アクリレートを得るための好ましい手順としては、まずポリチオールの少なくとも一方のメルカプト基を残すよう光重合性モノイソシアネート(メタ)アクリレートとのモル比を調整し反応させる。
一般式(1)で表されるチオ(メタ)アクリレート(メタ)アクリレートの製造に用いられるチオール(メタ)アクリレートは、特に限定されるものではないが、好ましくは脂肪族残基、芳香族残基、脂環族残基、複素環残基、もしくは、鎖中に酸素原子、硫黄原子、芳香環、脂肪族環または複素環を有する脂肪族残基を有し、かつ、メルカプト基を1つ以上有する(メタ)アクリレートである。具体的には、モノチオール(メタ)アクリレートとして、メチルメルカプタン、エチルメルカプタン、プロピルメルカプタン、ブチルメルカプタン、アミルメルカプタン、ヘキシルメルカプタン、ヘプチルメルカプタン、オクチルメルカプタン、ノニルメルカプタン、シクロペンチルメルカプタン、シクロヘキシルメルカプタン、フルフリルメルカプタン、チオフェノール、チオクレゾール、エチルチオフェノール、ベンジルメルカプタン、
ポリチオール(メタ)アクリレートとして、1,2−エタンジチオール、1,2−プロパンジチオール、1,3−プロパンジチオール、1,4−ブタンジチール、1,6−ヘキサンジチオール、1,2,3−プロパントリチオール、1,1−シクロヘキサンジチオール、1,2−シクロヘキサンジチオール、ビシクロ〔2,2,1〕ヘプタ−exo−cis−2,3−ジチオール、1,1−ビス(メルカプトメチル)シクロヘキサン、ジエチレングリコールビス(2−メルカプトアセテート)、ジエチレングリコールビス(3−メルカプトプロピオネート)、ビス(2−メルカプトエチル)エーテル、エチレングリコールビス(2−メルカプトアセテート)、エチレングリコールビス(3−メルカプトプロピオネート)、トリメチロールプロパンビス(2−メルカプトアセテート)、トリメチロールプロパンビス(3−メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(2−メルカプトアセテート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトプロピオネート)、
1,2−ジメルカプトベンゼン、1,3−ジメルカプトベンゼン、1,4−ジメルカプトベンゼン、1,2−ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,3−ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,4−ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2−ビス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,3−ビス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,4−ビス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,2−ビス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,3−ビス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,4−ビス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,2,3−トリメルカプトベンゼン、1,2,4−トリメルカプトベンゼン、1,3,5−トリメルカプトベンゼン、1,2,3−トリス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,4−トリス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,3,5−トリス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,3−トリス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,4−トリス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,3,5−トリス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,3−トリス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,2,4−トリス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,3,5−トリス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、
1,2,3,4−テトラメルカプトベンゼン、1,2,3,5−テトラメルカプトベンゼン、1,2,4,5−テトラメルカプトベンゼン、1,2,3,4−テトラキス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,3,5−テトラキス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,4,5−テトラキス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,3,4−テトラキス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,3,5−テトラキス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,4,5−テトラキス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,3,4−テトラキス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,2,3,5−テトラキス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,2,4,5−テトラキス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、2,2’−ジメルカプトビフェニル、4,4’−チオビス−ベンゼンチオール、4,4’−ジメルカプトビフェニル、4,4’−ジメルカプトビベンジル、2,5−トルエンジチオール、3,4−トルエンジチオール、1,4−ナフタレンジチオール、1,5−ナフタレンジチオール、2,6−ナフタレンジチオール、2,7−ナフタレンジチオール、2,4−ジメチルベンゼン−1,3−ジチオール、4,5−ジメチルベンゼン−1,3−ジチオール、9,10−アントラセンジメタンチオール、
・ 2−ビス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,3−ビス(2−メルカプトエ
チルチオ)ベンゼン、1,4−ビス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2−ビス(2−メルカプトエチルチオメチル)ベンゼン、1,3−ビス(2−メルカプトエチルチオメチル)ベンゼン、1,4−ビス(2−メルカプトエチルチオメチル)ベンゼン、1,2,3−トリス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2,4−トリス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,3,5−トリス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2,3,4−テトラキス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2,3,5−テトラキス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2,4,5−テトラキス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド、ビス(2−メルカプトエチルチオ)メタン、1,2−ビス(2−メルカプトエチルチオ)エタン、1,3−ビス(2−メルカプトエチルチオ)プロパン、1,2,3−トリス(2−メルカプトエチルチオ)プロパン、テトラキス(2−メルカプトエチルチオメチル)メタン、1,2−ビス(2−メルカプトエチルチオ)プロパンチオール、2,5−ジメルカプト−1,4−ジチアン、ビス(2−メルカプトエチル)ジスルフィド、3,4−チオフェンジチオール、1,2−ビス(2−メルカプトエチル)チオ−3−メルカプトプロパン、ビス−(2−メルカプトエチルチオ−3−メルカプトプロパン)スルフィド等が挙げられる。
この生成物のIR分析、NMR分析を行い(メタ)アクリレート化合物(11)が得られていることを確認した。
IR:1680cm−1:チオウレタン基、3300〜3400cm−1:−NH−
1H−核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶媒、TMS基準)σ(ppm)
8.00(s、2H、−NH−)、5.00〜7.00(m、4H、C=CH 2 cis/trans)、4.00〜4.50(t、4H、NH―CH 2 CH 2)、3.00〜4.00(m、4H、NH―CH 2 CH2、またはm、8H、SCH 2 CH 2 S)、1.9〜2.0(m、6H、CCH 3 =CH2)
その後、実施例1と同様の方法により、生成物(化合物(12))を回収した。
IR:1680cm−1:チオウレタン基、3300〜3400cm−1:−NH−
1H−核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶媒、TMS基準)σ(ppm)
8.00(s、3H、−NH−)、5.00〜7.00(m、6H、C=CH 2 cis/trans)、4.00〜4.50(t、6H、NH―CH 2 CH 2)、2.50〜4.00(m、6H、NH―CH 2 CH2、またはm、8H、SCH 2 CH 2 S、またはm、5H、
SCH 2CH(S)CH 2S)、1.9〜2.0(m、9H、C(CH 3 )=CH2)
IR:1680cm−1:チオウレタン基、3300〜3400cm−1:−NH−
1H−核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶媒、TMS基準)σ(ppm)
8.00(s、2H、−NH−)、6.8〜7.2(m、4H、C6 H 4)、5.00〜7.00(m、4H、C=CH 2 cis/trans)、4.00〜4.50(t、4H、NH―CH 2 CH 2)、3.00〜4.00(m、4H、NH―CH 2 CH2)、1.9〜2.0(m、6H、C(CH 3 )=CH2)
IR:1680cm−1:チオウレタン基、3300〜3400cm−1:−NH−
1H−核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶媒、TMS基準)σ(ppm)
8.00(s、2H、−NH−)、5.00〜7.00(m、4H、C=CH 2 cis/trans)、4.00〜4.50(t、4H、NH―CH 2 CH 2)、3.00〜4.00(m、4H、NH―CH 2 CH2、またはm、4H、SCH 2 CH 2 S)、1.9〜2.0(m、6H、C(CH 3 )=CH2)
IR:1680cm−1:チオウレタン基、3300〜3400cm−1:−NH−
1H−核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶媒、TMS基準)σ(ppm)
8.00(s、4H、−NH−)、5.00〜7.00(m、8H、C=CH 2 cis/trans)、4.00〜4.50(t、4H、NH―CH 2 CH 2)、2.50〜4.00(m、8H、NH―CH 2 CH2、またはm、8H、SCH 2 CH 2 S、またはm、10H、SCH 2CHCH 2S)、1.9〜2.0(m、12H、CCH 3 =CH2)
つづいて、この反応液にイソホロンジイソシアネート(東京化成工業製)7.2g(0.0324)を30分かけて滴下し、40℃のまま反応を行った。10時間後さらに60℃まで昇温しイソシアネート基とSH基に起因する吸収を確認しながら反応を継続した。それぞれの吸収が完全に認められなくなった時点を反応の終点とした。その後、実施例1と同様の方法により、生成物(化合物(17))を回収した。
IR:1680cm−1:チオウレタン基、3300〜3400cm−1:−NH−
1H−核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶媒、TMS基準)σ(ppm)
8.00(s、4H、−NH−)、5.00〜7.00(m、4H、C=CH 2 cis/trans)、4.00〜4.50(t、4H、NH―CH 2 CH 2)、2.50〜4.00(m、4H、NH―CH 2 CH2、またはm、16H、SCH 2 CH 2 S、またはm、2H、NHCH 2−シクロ環、またはm、1H、NH−CH)、1.9〜2.0(w、6H、CCH 3 =CH2、またはs、6H、シクロ環−H 2、またはm、9H、シクロ環−CH 3)
つづいて、この反応液にノルボルナンジソシアネート(NBDI 三井化学社製 2,5−NBDIと2,6−NBDIの混合物)6.7g(0.0324)を30分かけて滴下し、40℃のまま反応を行った。10時間後さらに60℃まで昇温しイソシアネート基とSH基に起因する吸収を確認しながら反応を継続した。それぞれの吸収が完全に認められなくなった時点を反応の終点とした。その後、実施例1と同様の方法により、生成物(化合物(18))を回収した。
IR:1680cm−1:チオウレタン基、3300〜3400cm−1:−NH−
1H−核磁気共鳴スペクトル(CDCl3溶媒、TMS基準)σ(ppm)
8.00(s、4H、−NH−)、5.00〜7.00(m、4H、C=CH 2 cis/trans)、4.00〜4.50(t、4H、NH―CH 2 CH 2)、2.50〜4.00(m、4H、NH―CH 2 CH2、またはm、16H、SCH 2 CH 2 S、またはm、4H、NHCH 2−ノルボルナン)、1.9〜2.5(w、6H、CCH 3 =CH2、またはs、4H、ノルボルナン−H、またはm、6H、ノルボルナン―H 2)
000番スチールウールで表面を擦ったが、傷は見られなかった。また、JIS−K5400に沿って碁盤目密着テープ剥離(100目)を行ったが、剥離は見られなかった(100/100)。
000番スチールウールで表面を擦ったが、傷は見られなかった。また、JIS−K5400に沿って碁盤目密着テープ剥離(100目)を行ったが、剥離は見られなかった(100/100)。
実施例8において、実施例1の化合物をペンタエリスリトールトリアクリレートに変更する以外同様の方法でコーティング用組成物を調整した。このコーティング組成物を、チオウレタン系レンズ用モノマー(三井化学社製 製品名:MR−7)を熱硬化させることにより得た5mm厚平板上に、スピンコート・紫外線硬化させ、2μmのコーティング層を得た。
000番スチールウールで表面を擦ったが、傷は見られなかった。一方、JIS−K5400に沿って碁盤目密着テープ剥離(100目)を行ったところコート層が完全に剥離していた(0/100)。
Claims (6)
- チオールと光重合性モノイソシアネートとのチオウレタン化反応により得られる請求項1記載の新規(メタ)アクリレート。
- 分子内に2個以上のメルカプト基を有するポリチオール、光重合性モノイソシアネート、光重合性基を有さないイソシアネートのチオウレタン化反応から得られる請求項3記載の新規(メタ)アクリレート。
- ポリチオールの少なくとも一方のメルカプト基を残すよう光重合性モノイソシアネート(メタ)アクリレートとのモル比を調整し反応させた後、残りの未反応メルカプト基と光重合性基を有さないイソシアネートを反応させることを特徴とする請求項3に記載の新規(メタ)アクリレートの製造方法。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の新規(メタ)アクリレートを含有することを特徴とするハードコート剤。
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