JP4004161B2 - Transparent laminate and display filter using the same - Google Patents
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Description
【０００１】
本発明は、ディスプレイ用フィルターに関し、さらに詳しくは、可視光線反射率、透過率に優れ、プラズマディスプレイから発生する、健康に害をなすといわれている電磁波を遮蔽する電磁波シールド能、及び、周辺電子機器の誤操作をまねく近赤外線を遮蔽する近赤外線カット能を有し、ディスプレイの輝度・色調・コントラスト・視認性を損なわない、優れた可視光線反射率、透過率、色調を有する低コストのディスプレイ用フィルターに関する。
【０００２】
【従来の技術】
社会が高度に情報化されてくるにしたがって、光エレクトロニクス関連部品、機器は著しく進歩、普及している。そのなかでディスプレイはテレビジョン用、パーソナルコンピューター用等として著しく普及し、また、その薄型化、大型薄型化が進んでいる。近年、大型の薄型テレビ、薄型ディスプレイ用途等に、プラズマディスプレイが注目され、すでに市場に出始めている。しかしプラズマディスプレイは、その構造や動作原理上、強度の漏洩電磁界が発生する。近年、漏洩電磁界の人体や他の機器に与える影響が取り沙汰されるようなっており、例えば日本のＶＣＣＩ（Voluntary Control Council for Interference by data processing equipment electronic office machine ）による基準値内に抑えることが必要となってきている。
【０００３】
またプラズマディスプレイは、近赤外線光を発し、コードレスフォン等の周辺電子機器に作用して誤動作を引き起こす問題が生じている。特に問題になる波長としてリモコンや伝送系光通信に使用されている820 ｎｍと880 ｎｍ、980 ｎｍが挙げられる。そのため、近赤外領域である800 〜1000ｎｍの波長領域の光を実用上問題ないレベルまでカットする必要がある。
【０００４】
近赤外線カット能に関しては、従来、近赤外線吸収色素を用いて近赤外吸収フィルターを作製することが知られている。しかしながら、近赤外線吸収色素は、湿度、熱、光といった環境による劣化が生じ、経時とともに近赤外線カット能や光学フィルターの透過色といった光学特性の変化が生じてしまう問題があった。プラズマディスプレイは、強度かつ広い近赤外線波長領域に渡って問題となる近赤外線を発するため、広い波長領域に渡って近赤外領域の吸収率の大きい近赤外吸収フィルターを使用する必要があるが、問題とならない程度まで近赤外線の透過率を下げるためには、光学フィルターに含有させる色素の量を増やさなければならず、それに伴う、可視光線透過率の低下も問題であった。
【０００５】
プラズマディスプレイ用フィルターは、プラズマディスプレイから放射される近赤外線、電磁波を遮断するためにはディスプレイの前面に設置するため、可視光線の透過率が低いと、画像の鮮明さが低下することになる。また、プラズマディスプレイは、その輝度の低さが問題の一つとされており、前面に設置するディスプレイ用フィルターには、その輝度を著しく損なわない可視光線透過率が要求される。一般に、ディスプレイ用フィルターの可視光線透過率は高い程良く、少なくとも４０％以上、好ましくは５０％以上、さらに好ましくは６０％以上必要である。
【０００６】
また、漏洩電磁界（電磁波）を遮蔽するには、ディスプレイ表面を導電性の高い導電物でおおう必要がある。一般にアースした金属メッシュまたは、合成樹脂または金属繊維のメッシュに金属被覆したものを用いるが、これらの方法は、ディスプレイから発する光を透過しない部分が生じたり、モワレ発生、歩留りの悪さによるコスト高などが問題となる。そこでＩＴＯ（Indium Tin Oxide）に代表される透明導電膜を電磁波シールド層に用いる場合がある。透明導電膜としては、金、銀、銅、白金、パラジウムなどの金属薄膜、酸化インジウム、酸化第２スズ、酸化亜鉛等の酸化物半導体薄膜、金属薄膜と高屈折率透明薄膜を交互に積層した多層薄膜がある。この中で、金属薄膜は、導電性は得られるが、広い波長領域にわたる金属の反射及び吸収により可視光線透過率の高いものは得られない。また、酸化物半導体薄膜は金属薄膜に比べ透明性に優れるが導電性に劣り、また近赤外線の反射能は乏しい。
【０００７】
これらに対し、金属薄膜と高屈折率透明薄膜を積層した多層の透明導電膜は、銀などの金属の持つ導電性及び光学的特性と、高屈折率透明薄膜の、ある波長領域における金属による反射の防止により、導電性、近赤外線カット能、可視光線透過率のいずれにおいても好ましい特性を有している。
【０００８】
しかしながら、多層の透明導電膜は、特に金属薄膜に銀を用いた場合は、その耐環境性が問題となるため、透明導電膜上にさらに、その耐環境性を付加すべく保護層を設ける必要があった。しかし、保護層を設けると、部材数が増加しコストが上がるだけではなく、ディスプレイ用フィルターの可視光線反射率が増加し、その視認性が低下するという問題があった。可視光線反射率の増加は、光の入射媒質（空気や真空）を１として設計したものが、保護層などの隣接層の形成により入射媒質の屈折率が変化してしまうためや、貼り合わせ等による部材間の反射界面が増加すること等による。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、上記従来技術に鑑み、可視光線反射率、透過率に優れ、プラズマディスプレイから発生する、健康に害をなすといわれている電磁波を遮蔽する電磁波シールド能、及び、周辺電子機器の誤動作をまねく近赤外線を遮断する近赤外線カット能を有し、ディスプレイの輝度・色調・コントラスト・視認性を損なわない、優れた可視光線反射率、透過率、色調を有する低コストのディスプレイ用フィルターを提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の問題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、プラズマディスプレイから発生する非常に強度な電磁波を遮蔽し、さらには、プラズマディスプレイの発する強度の近赤外線光を周辺機器誤動作が起こらない程度に抑止することができ、さらにまた画像の視認性を損なわない、低い可視光線反射率と高い光線透過率を有する低コストのディスプレイ用フィルターを得るためには、薄膜形成面の可視光線反射率が１．５％以下、面抵抗１〜１０Ω／□の透明積層体が必要であることを見い出し、本発明に到った。
【００１１】
すなわち、本発明は、（１）透明基体（Ａ）の少なくとも一方の主面上に透明導電膜（Ｇ）を形成した透明積層体を含み、且つ、次の条件（１）〜（４）をすべて満たすディスプレイ用フィルター。
（１）該透明導電膜（Ｇ）が、
高屈折率透明薄膜層（Ｂ）および金属薄膜層（Ｃ）が順次、（Ｂ）／（Ｃ）を繰返し単位として１〜４回繰り返し積層され、
さらにその上に少なくとも該高屈折率透明薄膜層（Ｂ）が積層されたものであり、かつ
該金属薄膜層（Ｃ）の少なくとも１層は合金層である。
（２）該透明積層体の該透明導電膜（Ｇ）が形成された側の表面の面抵抗が、１〜１０Ω／□である。
（３）該透明基体（Ａ）の膜厚（ａ）、該高屈折率透明薄膜層（Ｂ）の膜厚（ｂ）、該金属薄膜層（Ｃ）の膜厚（ｃ）が、
光の入射媒質を空気として、該透明基体（Ａ）および各層の屈折率および消光係数を用いたベクトル法またはアドミッタンス図を用いる算出方法に依り、該透明積層体の該透明導電膜（Ｇ）が形成された側の表面の可視光線反射率が１．５％以下の値をとる、ａ、ｂ、ｃの組合せから選択されたものである。（但し、１０（μｍ）＜ａ＜２５０（μｍ）、５（ｎｍ）≦ｂ≦２００（ｎｍ）、４（ｎｍ）≦ｃ≦３０（ｎｍ））
（４）該透明積層体の該透明導電膜（Ｇ）が形成された側に反射防止性を有する機能透明層（Ｄ）を設けていない、
（２）透明基体（Ａ）の少なくとも一方の主面上に、防眩性、帯電防止性、ハードコート性、防汚性およびアンチニュートンリング性から選ばれた少なくとも１つの機能を有する機能性透明層（Ｄ）、透明導電膜（Ｇ）を順に形成した透明積層体を含むことを特徴とする（１）に記載のディスプレイ用フィルター、
（３）透明基体（Ａ）の、透明導電膜（Ｇ）が形成されていない面に、反射防止性、防眩性、反射防止防眩性、帯電防止性、ハードコート性、防汚性およびアンチニュートンリング性から選ばれた少なくとも１つの機能を有する機能性透明層（Ｄ）を形成したことを特徴とする（１）または（２）に記載のディスプレイ用フィルター、
（４）透明基体(Ａ)及び／又は機能性透明層（Ｄ）が色素を含有することを特徴とする（１）乃至（３）のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター、
（５）透明支持体（Ｅ）が粘着材（Ｆ）を介して、該透明基体（Ａ）の透明導電膜（Ｇ）が形成されていない側に設けられていることを特徴とする（１）乃至（４）のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター、
（６）周縁部に電極が形成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター、
（７）機能性透明層（Ｄ）が、直接または粘着材（Ｆ）を介して形成されていることを特徴とする（１）乃至（６）のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター、
（８）透明基体（Ａ）、機能性透明層（Ｄ）、透明支持体（Ｅ）および粘着材（Ｆ）の少なくとも１つが色素を含有することを特徴とする（１）乃至（７）のいずれかに記載のディスプレイ用フィルター、
（９）透明導電膜（Ｇ）／透明基体（Ａ）／機能性透明層（Ｄ）、透明導電膜（Ｇ）／透明基体（Ａ）／粘着材（Ｆ）／機能性透明層（Ｄ）、透明導電膜（Ｇ）／透明基体（Ａ）／粘着材（Ｆ）／透明支持体（Ｅ）／機能性透明層（Ｄ）および、透明導電膜（Ｇ）／透明基体（Ａ）／粘着材（Ｆ）／透明支持体（Ｅ）／粘着材（Ｆ）／機能性透明層（Ｄ）のいずれかの構成であることを特徴とする（１）乃至（８）のいずれかに記載のディスプレイ用フィルターに関するものである。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明のディスプレイ用フィルターは、透明基体（Ａ）の少なくとも一方の主面上に、または透明基体（Ａ）に機能性透明（Ｄ）を形成した面上に、高屈折率透明薄膜層（Ｂ）および主として銀からなる金属薄膜層（Ｃ）が順次、（Ｂ）／（Ｃ）を繰返し単位として１〜４回繰り返し積層され、さらにその上に少なくとも該高屈折率透明薄膜層（Ｂ）が積層されて透明導電膜が形成された透明積層体を使用し、面抵抗が１〜１０Ω／□、薄膜形成面の可視光線反射率が１．５％以下であるものである。
【００１３】
透明基体（Ａ）としては、ガラス、石英等の無機化合物成形物と透明な有機高分子成形物があげられるが、高分子成形物は軽く割れにくいため、より好適に使用できる。高分子成形物は可視波長領域において透明であればよく、その種類を具体的にあげれば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン６等のポリアミド、ポリイミド、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリウレタン、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂、ポリ塩化ビニル等のビニル化合物、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン等のビニリデン化合物、フッ化ビニリデン／トリフルオロエチレン共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重体等のビニル化合物又はフッ素系化合物の共重合体、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これら透明な高分子成形物は、主面が平滑であれば板（シート）状であってもフィルム状であってもよい。シート状の高分子成形物を基体として用いた場合には、基体が寸法安定性と機械的強度に優れているため、寸法安定性と機械的強度に優れる透明積層体が得られ、特にそれが要求される場合には好適に使用できる。また透明な高分子フィルムは可撓性を有しており透明導電膜をロール・ツー・ロール法で連続的に形成することができるため、これを使用した場合には効率よく、また、長尺大面積に透明積層体を生産できることや、フィルム状の透明積層体をディスプレイのガラスやディスプレイ用フィルターのガラス支持体に貼り付けることによりガラス破損時の飛散防止になることから、これもまた好適に使用できる。この場合フィルムの厚さは通常１０〜２５０μｍのものが用いられる。フィルムの厚さが１０μｍ以下では、基材としての機械的強度に不足し、２５０μｍ以上では可撓性が不足するためフィルムをロールで巻きとって利用するのに適さない。
【００１４】
これらの基体はその表面に予めスパッタリング処理、コロナ処理、火炎処理、紫外線照射、電子線照射などのエッチング処理や、下塗り処理を施してこの上に形成される薄膜の透明基体（Ａ）に対する密着性を向上させる処理を施してもよい。透明基体（Ａ）と薄膜の間に任意の金属などの無機物層を形成してもよい。また、薄膜を成膜する前に、必要に応じて溶剤洗浄や超音波洗浄などの防塵処理を施してもよい。
【００１５】
ＶＣＣＩにおいては、工業用途の規制値を示すClass Ｉでは放射電界強度５０ｄＢμＶ／ｍ未満であり、家庭用途の規制値を示すClass IIでは４０ｄＢμＶ／ｍ未満であるが、プラズマディスプレイの放射電界強度は２０〜９０ＭＨｚ帯域内で、対角２０インチ型程度で４０ｄＢμＶ／ｍ、対角４０インチ型程度で５０ｄＢμＶ／ｍを越えているため、このままでは使用できない。プラズマディスプレイの放射電界強度は、その画面の大きさ及び輝度、すなわち、消費電力が大きいほど、強く、シールド効果の高い電磁波シールド材が必要である。
【００１６】
本発明者らは、プラズマディスプレイに必要な電磁波シールド能を有するには、電磁波シールド体となる透明積層体が、面抵抗１０Ω／□以下の低抵抗な導電性を有し、電磁波反射のための反射界面を多く有していることが必要なことを見出した。
【００１７】
また、プラズマディスプレイの発する強度の近赤外線を実用上問題とならないレベルまで遮断するには、ディスプレイ用フィルターの８００〜１０００ｎｍの近赤外線波長領域の光線透過率が２０％以下であるのが好ましいことを見いだしたが、部材数低減の要求や色素を用いた近赤外線吸収の限界から透明導電膜が近赤外線カット能を持つことが望ましい。近赤外線カットには、金属の自由電子による反射を用いることができるが、金属薄膜層を厚くすると前述したように可視光線透過率も低くなり、薄くすると近赤外線の反射が弱くなる。そこで、ある厚さの金属薄膜層を高屈折率透明薄膜層で挟み込んだ積層構造を１段以上重ねることにより、可視光線透過率を高くし、かつ全体の金属薄膜層の厚さを増やすことができ、また、層数及び／またはそれぞれの層の厚さを制御することにより可視光線透過率、可視光線反射率、近赤外線の透過率、透過色、反射色をある範囲で変化させることができる。可視光線反射率が高いと、画面への照明器具等の映り込みが大きくなり、視認性が低下する。反射色も目立たない、白色、青色、紫色系が好ましい。このためにも、光学的に設計、制御しやすい多層積層が好ましくなる。
【００１８】
従って、プラズマディスプレイに好適に用いることができる電磁波シールド能、近赤外線カット能を有するディスプレイ用フィルターには、電磁波吸収のための高い導電性と電磁波反射のための反射界面を多く有し、かつ近赤外線を反射する、金属薄膜と高屈折率透明薄膜を積層した透明導電膜が好適である。
【００１９】
以下、多層薄膜とは、特に記載がない限り、金属薄膜層を高屈折率透明薄膜層で挟み込んだ積層構造を１段以上重ねた多層積層の透明導電膜を示す。
可視光線透過率が低いと、ディスプレイ設置時に画像の鮮明さが低下するため、ディスプレイ用フィルターの可視光線透過率は高い方が良く、少なくとも４０％以上、好ましくは５０％以上、さらに好ましくは７０％以上必要である。従って、透明積層体の可視光線透過率は、少なくとも５０％以上、好ましくは６０％以上、さらに好ましくは７０％以上必要である。また、ディスプレイの発光輝度が高いと、コントラストをあげるために、ディスプレイ用フィルターはニュートラル・デンシティ（ＮＤ）ＮＤフィルターの役割も果たすことが好ましい場合もあり、この場合はディスプレイ用フィルターの可視光線透過率は８０％以下であることを要求される。
なお、本発明における可視光線透過率、可視光線反射率とは、透過率及び反射率の波長依存性からＪＩＳ（Ｒ−３１０６）に従って計算されるものである。
【００２０】
金属薄膜の材料としては、銀が、導電性、赤外線反射性および多層積層したときの可視光線透過性に優れているため好適である。しかし、銀は化学的、物理的安定性に欠け、環境中の汚染物質、水蒸気、熱、光等によって凝集等を起こし劣化する。複数の金属薄膜層（Ｃ）を有し、その全金属薄膜層が銀からなる場合、優れた導電性および光学特性を有する透明積層体が得られるが、耐環境性が十分ではない。そのため、透明導電膜上にその耐環境性を付加すべく保護層を設ける必要があるが、保護層を設けると、部材数が増加しコストが上がるだけではなく、ディスプレイ用フィルターの可視光線反射率が増加し、その視認性が低下するという問題がある。この可視光線反射率の増加は、光の入射媒質（空気や真空）を１として設計したものが、保護層などの隣接層の形成により入射媒質の屈折率が変化してしまうためや、貼り合わせ等による部材間の反射界面が増加すること等による。
【００２１】
本発明者らは、鋭意検討の結果、金、白金、パラジウム、銅、インジウム、スズ等の環境に安定な金属を銀に一種以上含んだ合金や、金、パラジウム等の安定な金属を金属薄膜に使用すれば、耐環境性を有し、保護層を設ける必要がないことを見いだした。
特に銀に金を含んだ合金は耐環境性に優れ、また、銀にパラジウムを含んだ合金は耐環境性が優れる上に、多層薄膜の透過色の緑色〜黄緑色が弱くなるので好適である。ここで、銀を含む合金の、銀の含有率は、特に限定されるものではないが銀薄膜の導電性、光学特性と大きく変わらないことが望ましく、５０重量％以上１００重量％未満程度である。しかしながら、銀に他の金属を添加すると、その優れた導電性、光学特性を阻害する。従って、複数の金属薄膜層を有する場合は、可能であれば少なくとも１つの層は銀を用いることや、基体から見て最初の層及び／又は最外層にある金属薄膜層のみを合金にすることが望ましい。
【００２２】
保護層を設ける必要がないので、透明導電膜自体が反射防止膜であれば、可視光線反射率の低いディスプレイ用フィルターが得られる。ディスプレイ用フィルターの可視光線反射率が高いと外光反射が大きくなり画像の視認性が低下する。従って、ディスプレイ用フィルターの両面に反射防止処理や防眩処理や反射防止防眩処理を施す必要があるが、透明積層体自体が反射防止層となれば、これら処理はディスプレイ用フィルターの一方の主面だけで済み、貼り合わせ界面低減による反射低減及び部材数低減による低コスト化を行うことができるのである。
【００２３】
透明導電膜を多層薄膜とすることは、透明積層体を反射防止層とするのにも好適である。
すなわち、透明基体（Ａ）の一方の主面上に高屈折率透明薄膜層（Ｂ）、銀又は銀を含む合金の薄膜層（Ｃ）の順に、（Ｂ）／（Ｃ）を繰り返し単位として１〜４回繰り返し積層し、さらにその上に少なくとも高屈折率透明薄膜層（Ｂ）を積層することによって、可視光線反射率、電磁波シールド能のための低抵抗性、近赤外線カット能、可視光線透過率に優れた透明積層体が得られるのである。つまり、（Ａ）／（Ｂ）／（Ｃ）／（Ｂ）、または、（Ａ）／（Ｂ）／（Ｃ）／（Ｂ）／（Ｃ）／（Ｂ）、または、（Ａ）／（Ｂ）／（Ｃ）／（Ｂ）／（Ｃ）／（Ｂ）／（Ｃ）／（Ｂ）、または、（Ａ）／（Ｂ）／（Ｃ）／（Ｂ）／（Ｃ）／（Ｂ）／（Ｃ）／（Ｂ）／（Ｃ）／（Ｂ）である。繰り返し積層数が５回以上だと生産装置の制限、生産性の問題が大きくなり、また、可視光線透過率が低くなり、さらには色調が劣るために色素による調色が多く必要となってさらに可視光線透過率が低下する。
【００２４】
生産装置の制限等により、繰り返し回数が１回及至２回の透明積層体しか得られないが、さらに強度な電磁波や近赤外線を遮断する必要がある場合や、繰り返し回数が３回及至４回の透明積層体は得られないが、さらに強度な電磁波や近赤外線を遮断する必要がある場合、上記透明積層体を２枚以上重ねる等して、２つ以上の透明積層体を有するディスプレイ用フィルターとすることもできる。
【００２５】
金属薄膜層（Ｃ）の厚さは導電性、光学特性等から光学設計的かつ実験的に求められ、透明導電層が要求特性を持てば特に限定されるものではないが、導電性等から薄膜が島状構造ではなく連続状態であることが必要なので４ｎｍ以上であることが望ましく、金属薄膜層が厚すぎると透明性や反射率が問題になるので３０ｎｍ以下が望ましい。金属薄膜層が複数ある場合は、各層が全て同じ厚さ、材料でなくともよい。金属薄膜層の形成には、スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、メッキ等、従来公知の方法のいずれでも採用できる。
【００２６】
高屈折率透明薄膜層（Ｂ）を形成する透明薄膜としては、可視域において透明性を有し、金属薄膜層における可視域における光線反射を防止する効果を有するものであれば特に限定されるものではないが、可視光線に対する屈折率が１．６以上、好ましくは１．７以上の屈折率の高い材料が用いられる。このような透明薄膜を形成する具体的な材料としては、インジウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス、スズ、亜鉛、アンチモン、タンタル、セリウム、ネオジウム、ランタン、トリウム、マグネシウム、ガリウム等の酸化物、または、これら酸化物の混合物や、硫化亜鉛などが挙げられる。これら酸化物あるいは硫化物は、金属と酸素あるいは硫黄と化学量論的な組成にズレがあっても、光学特性を大きく変えない範囲であるならば差し支えない。なかでも、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化インジウムと酸化スズの混合物（ＩＴＯ）は、透明性、屈折率に加えて、成膜速度が速く金属薄膜層との密着性等が良好であることから好適に使用できる。高屈折率透明薄膜層の厚さは、透明基体の光学特性、銀又は銀を含む合金の薄膜層の厚さ、光学特性、および、透明薄膜層の屈折率等から光学設計的かつ実験的に求められ、特に限定されるものではないが、５ｎｍ以上、２００ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下である。また、高屈折率透明薄膜第１層・・・第ｎ＋１層（ｎ＝１〜４）は、同じ厚さとは限らず、同じ透明薄膜材料でなくともよい。高屈折率透明薄膜層の形成には、スパッタリング、イオンプレーティング、イオンビームアシスト、真空蒸着、湿式塗工等、従来公知の方法のいずれでも採用できる。
【００２７】
上記透明積層体の耐環境性を向上させるために、透明導電膜の表面に、導電性、光学特性を損なわない程度に任意の保護層を設けてもよい。また、金属薄膜層の耐環境性や金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層との密着性等を向上させるため、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層の間に、導電性、光学特性を損なわない程度に任意の無機物層を形成してもよい。具体的な材料としては銅、ニッケル、クロム、金、白金、亜鉛、ジルコニウム、チタン、タングステン、スズ、パラジウム等、あるいはこれらの材料の２種類以上からなる合金があげられる。その厚さは、好ましくは０．０２ｎｍ〜２ｎｍ程度である。
【００２８】
所望の光学特性の透明積層体を得るには、得ようとする電磁波シールド能の為の導電性と耐環境性、つまり、金属薄膜材料・厚さを勘案して、透明基体（Ａ）および薄膜材料の光学定数（屈折率、消光係数）を用いたベクトル法、アドミッタンス図を用いる方法等を使った光学設計を行い、各層の薄膜材料及び、層数、膜厚等を決定する。この際、光の入射媒質は空気（屈折率１）として設計を行い、薄膜形成面の可視光線反射率が極力低くなるようにして反射防止膜としての機能を有するようにする。反射色も目立たない、白色、青色、紫色系にするのが好ましい。光学定数は、エリプソメトリー（楕円偏光解析法）やアッベ屈折計により測定できる。
また、光学特性を観察しながら、層数、膜厚等を制御して成膜を行うこともできる。
【００２９】
上記の方法により形成した、透明導電膜の原子組成は、オージェ電子分光法（ＡＥＳ）、誘導結合プラズマ法（ＩＣＰ）、ラザフォード後方散乱法（ＲＢＳ）等により測定できる。また、層構成および膜厚は、オージェ電子分光の深さ方向観察、透過型電子顕微鏡による断面観察等により測定できる。また膜厚は、成膜条件と成膜速度の関係をあらかじめ明らかにした上で成膜を行うことや、水晶振動子等を用いた成膜中の膜厚モニタリングにより、制御される。
【００３０】
本発明のディスプレイ用フィルターは本発明の透明導電膜を反射防止層として使用する。従って、透明導電膜はディスプレイ用フィルターの一方の主面の最表面となる。しかし透明導電膜は耐擦傷性や防汚性も劣るため、ディスプレイに装着したときに、人やものが触れない内側、つまりディスプレイ側とするのが好適である。このように用いる場合、その耐環境性は、装着した状態で実用上問題がなければ良いので、評価もまた、このように透明導電膜面を内側に装着して行う。透明導電膜が耐環境性や耐擦傷性に優れるか、また、必要とされないときは、この限りではなく、人側最表面であっても良いが、透明基体（Ａ）と透明導電膜の間にその耐擦傷性を向上させるべくハードコート性を有する後述の機能性透明層（Ｄ）を形成したり、表面に透明導電膜の導電性、光学特性を妨げない程度の防汚処理を行うのが好適である。
【００３１】
また、ディスプレイ用フィルターは、その主面とディスプレイ表面を密着させて使用すると、ディスプレイ表面とディスプレイ用フィルターの密着度が部分によって異なるために、それによって生じる間隙を原因とするニュートンリングが発生することがあり、それによりディスプレイの視認性が低下してしまう。そのため、密着させる場合は機能性透明層（Ｄ）がアンチニュートンリング性を有している必要があるが、透明導電膜上に形成するとその反射防止性等の光学特性を損なうことになる。そのため、本発明のディスプレイ用フィルターは、その透明導電膜がディスプレイ側にある場合は、ディスプレイ表面から０．２ｍｍ〜１０ｍｍ平行に離して装着する必要がある。透明導電膜が耐環境性や耐擦傷性に優れるか、また、必要とされないときは、この限りではなく、ディスプレイ用フィルターの人側最表面に形成されている場合は、ディスプレイ用フィルターのディスプレイ側の面にアンチニュートンリング性を有する機能性透明層（Ｄ）を形成して、ディスプレイ表面と密着させることができる。密着させることができると、薄型を利点とするプラズマディスプレイに好適なのである。
【００３２】
透明積層体は、透明基体（Ａ）に高分子フィルムを用いた場合、強度やディスプレイとの貼り合わせ時の平面性、設置方法の問題から、主面の平滑な板状の透明支持体（Ｅ）と貼り合わせて用いることが望ましい。貼り合わせは、透明支持体（Ｅ）の主面と、透明積層体の薄膜形成面でない主面を粘着材（Ｆ）を介して行う。透明支持体（Ｅ）としては、機械的強度や、軽さ、割れにくさから、可視域において透明なプラスチック板が望ましいが、熱による変形等の少ない熱的安定性からガラス板も好適に使用できる。プラスチック板の具体例を挙げると、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）をはじめとするアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、透明ＡＢＳ樹脂等が使用できるが、これらの樹脂に限定されるものではない。特にＰＭＭＡはその広い波長領域での高透明性と機械的強度の高さから好適にしようできる。プラスチック板の厚みは十分な機械的強度と、たわまずに平面性を維持する剛性が得られればよく、特に限定されるものではないが、通常１ｍｍ〜１０ｍｍ程度である。ガラス板を透明支持体（Ｅ）として使用する場合は、機械的強度を付加するために化学強化加工または風冷強化加工を行った半強化ガラス板または強化ガラス板を用いることが望ましい。プラスチック板の厚みは十分な機械的強度と、たわまずに平面性を維持する剛性が得られればよく、特に限定されるものではないが、通常１ｍｍ〜１０ｍｍ程度であり、軽さと割れ難さ、歪みの少なさの点からは、２ｍｍ〜３．５ｍｍの半強化ガラスまたは強化ガラスが好ましい。
【００３３】
本発明においての貼り合わせ（ラミネート）には、任意の透明な粘着材（Ｆ）を使用できる。具体的にはアクリル系接着剤、シリコン系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリビニルブチラール接着剤（ＰＶＢ）、エチレン−酢酸ビニル系接着剤（ＥＶＡ）等、ポリビニルエーテル、飽和無定形ポリエステル、メラミン樹脂等が挙げられる。この際肝要なことはディスプレイからの光線透過部である中心部分に用いられる粘着材は可視光線に対して充分透明である必要がある。粘着材は、実用上の接着強度があればシート状のものでも液状のものでもよい。粘着材は感圧型接着剤でシート状のものが好適に使用できる。シート状粘着材貼り付け後または接着材塗布後に各部材をラミネートすることによって貼り合わせを行う。液状のものは塗布、貼り合わせ後に室温放置または加熱により硬化する接着剤である。塗布方法としては、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等が挙げられるが、接着剤の種類、粘度、塗布量等から考慮、選定される。粘着材もしくは接着剤層の厚みは、特に限定されるものではないが、０．５μｍ〜５０μｍ、好ましくは１μｍ〜３０μｍである。粘着材を形成される面、貼り合わせられる面は、予め易接着コートまたはコロナ放電処理などの易接着処理により濡れ性を向上させておくことが好適である。さらに、粘着材を用いて貼り合わせた後は、貼り合わせ時に部材間に入り込んだ空気を脱泡または、粘着材に固溶させ、さらには部材間の密着力を向上させる為に、できれば加圧、加温の条件で養生を行うことが肝要である。このとき、加圧条件としては数気圧〜２０気圧以下程度、加温条件としては各部材の耐熱性に依るが、室温以上８０℃以下程度であるが、これらに特に制限を受けない。
本発明における粘着材（Ｆ）とは、透明な粘着材、接着剤層、粘着剤層である。
【００３４】
本発明のディスプレイ用フィルターには、要求される機能に応じて、反射防止性、防眩性、反射防止防眩性、帯電防止性、ハードコート性、防汚性、アンチニュートンリング性のいずれか一つ以上の機能を有し且つ可視光線を透過する機能性透明層（Ｄ）が、形成される必要がある。一つの機能性透明層（Ｄ）が、複数の機能を有している場合は、構成部材数または構成層数が減ることにより工程、コスト、部材間の界面反射を減じることができるから好適である。ディスプレイ用フィルターは、機能性透明層（Ｄ）を複数有しても良い。
【００３５】
本発明における機能性透明層（Ｄ）は、上記各機能を一つ以上有する機能膜そのものでも、機能膜を塗布または印刷または従来公知の各種成膜法により形成した透明な基体でも、各機能を有する透明な基体でも良い。機能膜そのものの場合は、機能性透明層（Ｄ）を形成する透明基体（Ａ）または透明支持体（Ｅ）の主面に塗布または印刷または従来公知の各種成膜法により直接形成し、機能膜を形成した透明な基体、各機能を有する透明な基体の場合は、粘着材（Ｆ）を介して透明基体（Ａ）または透明支持体（Ｅ）の主面に貼り付けても良い。これらの作成方法は特に制限を受けない。
【００３６】
ディスプレイへの照明器具等の映り込みによって表示画面が見づらくなってしまうため、反射防止膜でもある透明導電膜が形成されていない他方の主面、つまり、ディスプレイ用フィルターの人側すなわち装着したときのディスプレイ本体側の反対側の面にも、外光反射を抑制するための反射防止（ＡＲ：アンチリフレクション）性または防眩（ＡＧ：アンチグレア）性または反射防止防眩（ＡＲＡＧ）性を有する機能性透明層（Ｄ）を形成することが必要である。また、ＡＲまたはＡＲＡＧによる外光反射反射防止抑制は、ディスプレイ用フィルターの光線透過率を向上させることができる。
【００３７】
反射防止性を有する機能性透明層（Ｄ）は、反射防止膜を形成する基体の光学特性を考慮し、前述したような光学設計によって反射防止膜の構成要素及び各構成要素の膜厚を決定する。具体的には、可視域において屈折率が１．５以下、好適には１．４以と低い、フッ素系透明高分子樹脂やフッ化マグネシウム、シリコン系樹脂や酸化珪素の薄膜等を例えば１／４波長の光学膜厚で単層形成したもの、屈折率の異なる、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機化合物またはシリコン系樹脂やアクリル樹脂、フッ素系樹脂等の有機化合物の薄膜を基体から見て高屈折率層、低屈折率層の順に２層以上多層積層したものがある。単層形成したものは、製造が容易であるが、反射防止性が多層積層に比べ劣る。４層積層したものは、広い波長領域にわたって反射防止性を有し、基体の光学特性による光学設計の制限が少ない。これらの無機化合物薄膜の成膜には、スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、湿式塗工等、従来公知の方法のいずれでも採用できる。有機化合物薄膜の成膜には、湿式塗工等、従来公知の方法を採用できる。
【００３８】
防眩性を有する機能性透明層（Ｄ）は、０．１μｍ〜１０μｍ程度の微少な凹凸の表面状態を有する可視光線に対して透明な層である。具体的には、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型又は光硬化型樹脂に、シリカ、有機珪素化合物、メラミン、アクリル等の無機化合物または有機化合物の粒子を分散させインキ化したものを、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等によって基体上に塗布、硬化させる。粒子の平均粒径は、１〜４０μmである。または、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型又は光硬化型樹脂を基体に塗布し、所望のヘイズを有する型を押しつけ硬化することによっても防眩能を得ることができる。さらには、例えばガラス板をフッ酸等でエッチングするように、基体を薬剤処理することによっても防眩性を得ることができる。この場合は、処理時間、薬剤のエッチング性により、ヘイズを調節する事ができる。要は適当な凹凸を有することが重要であり、必ずしも上記方法に限定されるものではない。防眩性を有する機能性透明層（Ｄ）のヘイズは0.5%以上20%以下であり、好ましくは1%以上10%以下である。ヘイズが小さすぎると不十分であり、ヘイズが大きすぎると平行光線透過率が低くなり、ディスプレイの視認性が悪くなる。
【００３９】
ディスプレイ用フィルターをディスプレイ本体に密着させずに離して装着する場合、ヘイズが大きすぎると、画像の拡散によるボケが生じる場合がある。この場合は、防眩性を維持し、且つ、ディスプレイから適当距離離しても画像のボケのないヘイズのものを選択することが肝要である。
【００４０】
アンチニュートンリング（ＡＮ）性を有する機能性透明層（Ｄ）は、防眩性を有する機能性透明層（Ｄ）と同じく、要は０．１μｍ〜１０μｍ程度の微少な凹凸の表面状態を有する可視光線に対して透明な層であって、その作製方法も同様である。アンチニュートンリング性を有する層は防眩性を有する。
【００４１】
反射防止防眩性を有する機能性透明層（Ｄ）は、防眩性を有する膜または基体上に前述の反射防止膜を形成することによって得られる。この際、防眩性を有する膜が高屈折率の膜である場合、反射防止膜が単層でも比較的高い反射防止性を付与することができる。また同様にアンチニュートンリング性を有することもできる。
【００４２】
ディスプレイ用フィルターに耐擦傷性を付加させるために、特にディスプレイ用フィルターの人側表面や透明積層体も透明基体（Ａ）と透明導電膜の間に、光学特性をはじめとするディスプレイ用フィルターの特性を損なわない程度にハードコート性を有する機能性透明層（Ｄ）を形成しても良い。ハードコート膜としてはアクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型又は光硬化型樹脂等が挙げられるが、その種類も形成方法も特に限定されない。これら膜の厚さは１〜１００μｍ程度である。ハードコート膜が反射防止性を有する透明機能層（Ｄ）の高屈折率層または低屈折率層に用いられたり、ハードコート膜上に反射防止膜が形成されて、機能性透明層（Ｄ）が反射防止性とハードコート性の両方を有しても良い。また、透明積層体の反射防止設計にハードコート膜の屈折率を考慮すると良い。同様にアンチニュートンリング性及び／または防眩性とハードコート性の両方を有しても良い。この場合はハードコート膜が粒子が分散される等して凹凸を有すれば良いし、その上に反射防止膜が形成されれば反射防止防眩性とハードコート性の両方有する機能性透明層（Ｄ）が得られる。
【００４３】
さらに、ディスプレイ用フィルターには、静電気帯電によりホコリが付着しやすく、また、人体が接触したときに放電して電気ショックを受けることがあるため、帯電防止処理が必要とされる場合がある。従って、ディスプレイ用フィルターに静電防止能を付与するために、光学フィルターの表面に帯電防止能を有する機能性透明層（Ｄ）として導電層を設けても良い。この場合に必要とされる導電性は面抵抗で１０11Ω／□程度以下であれば良いが、ディスプレイ画面の透明性や解像度を損なうものであってはならない。導電層としてはＩＴＯをはじめとする公知の透明導電膜やＩＴＯ超微粒子や酸化スズ超微粒子をはじめとする導電性超微粒子を分散させた導電膜が挙げられる。
【００４４】
また、先述した反射防止性、防眩性、反射防止防眩性、ハードコート性、アンチニュートンリング性のいずれか一つ以上の機能を有した機能性透明層（Ｄ）の構成中に導電膜を有していると好適である。
例えば、色度補正能があり、反射防止性、ハードコート性、帯電防止性を有する機能性透明層（Ｄ）としては、色素含有のポリエチレンテレフタレートフィルム／ハードコート膜／ＩＴＯ／含ケイ素化合物／ＩＴＯ／含ケイ素化合物、等があげられ、反射防止防眩性、アンチニュートンリング性、ハードコート性、帯電防止性を有する機能性透明層（Ｄ）としては、ＩＴＯ微粒子分散ハードコート膜／含ケイ素化合物化合物、トリアセチルセルロースフィルム／ＩＴＯ微粒子分散ハードコート膜／含ケイ素化合物化合物、等があげられる。
【００４５】
さらに、指紋等の汚れ防止や汚れが付いたときに簡単に取り除くことができるよう、ディスプレイ用フィルター表面に防汚性を付与しても良い。この為には、少なくとも防汚性を有する機能性透明層（Ｄ）をディスプレイ用フィルターの最表面に形成する。防汚性を有するものとしては、水及び／または油脂に対して非濡性を有するものであって、例えばフッ素化合物やケイ素化合物が挙げられる。反射防止性や帯電防止性等の他の機能に併せる際には、それら機能を妨げるものであってはならない。この場合、反射防止膜の構成材料に低屈折率であるフッ素化合物を使用することや、フッ素系有機分子を１〜数分子、最表面にコートすることによって、反射防止性や帯電防止性を維持しつつ防汚性を付与することができる。例えば、防汚性、反射防止性、ハードコート性、帯電防止性、ガスバリア性を有する機能性透明層（Ｆ）としては、ハードコート膜／ＩＴＯ／含ケイ素化合物／ＩＴＯ／含ケイ素化合物／フッ素系有機分子の単分子コート膜、等があげられる。
【００４６】
機能性透明層（Ｄ）として、フッ素系有機分子１〜数分子からなる機能性透明層（Ｄ）や、ＩＴＯ薄膜などの透明導電性薄膜を適切な光学膜厚つけた保護層（バリアー層）以外は、本発明の透明積層体及び／またはディスプレイ用フィルターの透明導電膜上には形成されない。本発明の透明導電膜は反射防止性、導電性に優れるため、それを妨げる層を形成しない。
【００４７】
多層薄膜は、可視光線透過率・可視光線反射率を重視すると、一般に透過色調に劣る。ディスプレイ用フィルターの透過色は、ディスプレイの色調・コントラスト等に大きく影響し、特に緑色は不適であり、また、プラズマディスプレイは青色発光が緑色及び赤色発光より弱いことから、ニュートラルグレー、または、ニュートラルブルーであることが要求される。
【００４８】
金属薄膜の総膜厚が大きくなる程、多層薄膜の色調は、ディスプレイ発光色の色純度やコントラストを低下させる緑色〜黄緑色になる傾向がある。特に金属薄膜に銀を用いた場合、高い導電性と近赤外線カット能を得るために銀の薄膜層を厚くするほど、緑色が強くなる。また、多層薄膜の耐環境性を向上させるために、金属薄膜層に例えば銀ではなく金と銀の合金を用いると、金の可視部短波長領域の吸収により透過スペクトルのプロファイルが狭くなり、緑色〜黄緑色になる傾向が強くなる。透過色を合わせようとすると、反射率・反射色が不適なものとなってしまうことがある。積層数を多くすることによって、可視光線反射率を重視しつつ、プロファイルが緑色に極端なピークを持たないようにすることも出来るが、特に金属薄膜の総膜厚が厚い場合は、それでも可視部短波長領域・長波長領域で金属薄膜層の反射防止が弱いことにより、この領域の透過は緑色〜黄緑色の透過に比べ低くなり、透過色は視感度の高い緑色〜黄緑色になる。
【００４９】
つまり、プラズマディスプレイ用フィルターとして用いるのに好適な多層薄膜は、高い導電性・低い近赤外線透過率が要求されるため、透過色のハンターのクロマティクネス指数ａが負の値であり、クロマティクネス指数ｂは正の値の傾向にあり、すなわち、緑色〜黄緑色となる。
【００５０】
従って、色度補正層を適宜設けて、透明導電膜の透過色を補色によって打ち消し、ディスプレイ用フィルターを、好適なニュートラルグレー、または、ニュートラルブルーとすることが肝要なのである。つまり、ディスプレイ用フィルターの透過色の、ａが０に近く、ｂが０に近いまたは０以下であれば、ニュートラルグレーまたはブルーグレーとなる。しかし、透明導電膜を、色度補正層によってａ，ｂ共に０に非常に近い値、またはｂを極端に負の値にすることは、ディスプレイフィルターの透過率を大きく損ない、ひいてはディスプレイの輝度を低下させる。また、ａをある程度の正の値まで補正してしまうと、透過率が低下する上に、光学フィルターが赤色味を帯びてきて目に優しくない。プラズマディスプレイの発光は赤色が最も強いため、赤色の透過率は青色、緑色の透過率以下でも良い。
【００５１】
すなわち、透過色のａが−８〜２，ｂが−８〜５の範囲であることを特徴とするディスプレイ用フィルターが、プラズマディスプレイ用途として、透過率及び色調に優れ、これを用いればディスプレイの発光輝度を著しく低下させず、発光色の色純度やコントラストの維持または向上に優れている。
【００５２】
さらに、透過色のａが−５〜０，ｂが−６〜２の範囲であることを特徴とするディスプレイ用フィルターが、プラズマディスプレイ用途として、さらに透過率及び色調に優れ、これを用いればディスプレイの発光輝度を著しく低下させず、発光色の色純度やコントラストの維持または向上にさらに優れている。
さらに透明導電膜は、プラズマディスプレイ用途とするに十分な電磁波シールド能、近赤外線カット能を有し、多量の色度補正による透過率の大幅な減少が無いようにするには、その透過色のａが−１８〜−０．５、ｂが−２〜１２であることが必要であり、また、電磁波シールド能、近赤外線カット能の要求が低く、透過率・色調をさらに重視したいときは、透明導電膜の透過色のａが−１３〜−１、ｂが０〜１０であること好適である。
【００５３】
色度補正層は、透明導電膜の補色であればよく、透明導電膜の緑色〜緑黄色〜黄色に対し、赤〜紫〜青色、すなわち、透過色のａが正の値である必要があり、ｂは負の値であることが好適である。その透過色の範囲は、得ようとする透過率・透過色を有する光学フィルターの透過率・透過色（クロマティクネス指数ａ，ｂ）と、要求される電磁波シールド能・近赤外線カット能を有する透明導電膜の透過率・色調（クロマティクネス指数ａ，ｂ）を考慮して決定すればよい。すなわち、色度補正層の透過色のａが２〜１８、ｂが−２０〜２であれば良い。
【００５４】
また、透過率を重視したり、電磁波シールド能、近赤外線カット能の要求が低く、透明導電層の透過色のａが−１３〜−１、ｂが０〜１０である場合は、色度補正層の透過色のａが１〜１０、ｂが−１０〜０であれば良い。
【００５５】
色度補正層としては、（１）可視領域に吸収波長を有する有機色素を少なくとも１種類以上、透明な樹脂に混錬させたプラスチック板、高分子フィルム、（２）可視領域に吸収波長を有する有機色素を少なくとも１種類以上、樹脂または樹脂モノマー／有機系溶媒の樹脂濃厚液に分散・溶解させ、キャスティング法により作製したプラスチック板、高分子フィルム、（３）可視領域に吸収波長を有する有機色素を少なくとも１種類以上を、樹脂バインダーと有機系溶媒に加え、塗料とし、透明な基体上にコーティングしたもの、（４）可視領域に吸収波長を有する有機色素を少なくとも１種類以上を含有する透明な粘着材、（５）ガラスに金属イオンまたはコロイドを含む色ガラス、のいずれか一つ以上選択できる。
本発明でいう含有とは、基材または塗膜等の層または粘着材の内部に含有されることは勿論、基材または層の表面に塗布した状態を意味する。
【００５６】
有機色素は可視領域に吸収波長を有する一般の染料または顔料で良く、その種類は特に限定されるものではないが、例えばアントラキノン系やフタロシアニン系等の一般に市販されている有機色素があげられる。その種類・濃度は、有機色素の吸収波長・吸収係数、透明導電層の色調及びディスプレイ用フィルターに要求される色調・可視光線透過率、そして分散させる媒体または塗膜の種類・厚さから決まり、特に限定されるものではない。可視領域において異なる吸収波長を有する有機色素２種類以上を一つの媒体または塗膜に含有させても良い。
【００５７】
透明導電膜に多層薄膜を用いるため、電磁波シールド能に加え、近赤外線カット能を有しているが、より高い近赤外線カット能が必要である場合は、色素に近赤外線吸収色素を１種類以上併用して良い。近赤外線吸収色素は、透明導電層の近赤外線カット能を補填し、プラズマディスプレイの発する強度の近赤外線を充分実用的になる程度に吸収するものであれば、特に限定されるものではなく、濃度も限定されるものではない。
本発明で言うところの色素とは、上記の有機色素及び色ガラスを着色せしめる微量含有物を示す。
【００５８】
上記の色度補正層の形態（１）〜（５）は、色素を含有する透明基体（Ａ）、または、色素を含有する透明支持体（Ｅ）、色素を含有する粘着材（Ｆ）、色素を含有する機能性透明層（Ｄ）のいずれか１つ以上の形態をもって、本発明のディスプレイ用フィルターに使用できる。上記形態の２つ以上の組み合わせをまとめて色度補正層としても良い。
【００５９】
色素を含有する後述の機能性透明層（Ｄ）は、色素を含有し且つ各機能を有する膜でも、色素を含有し且つ各機能を有する膜が透明成形物上に形成されていても、各機能を有する膜が色素を含有する透明成形物上に形成されていていても良い。色素を含有する透明成形物としては、透明プラスチック板、透明高分子フィルム、ガラス等が挙げられる。
【００６０】
まず、樹脂に色素を混練し、加熱成形する（１）の方法において、樹脂材料としては、プラスチック板または高分子フィルムにした場合にできるだけ透明性の高いものが好ましく、具体例として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン６等のポリアミド、ポリイミド、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリウレタン、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂、ポリ塩化ビニル等のビニル化合物、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン等のビニリデン化合物、フッ化ビニリデン／トリフルオロエチレン共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重体等のビニル化合物又はフッ素系化合物の共重合体、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等を挙げることが出来るが、これらの樹脂に限定されるものではない。
【００６１】
作製方法としては、用いる色素、ベース高分子によって、加工温度、フィルム化条件等が多少異なるが、通常(i)色素を、ベース高分子の粉体或いはペレットに添加し、１５０〜３５０℃に加熱、溶解させた後、成形してプラスチック板を作製する方法、(ii)押し出し機によりフィルム化する方法、(iii)押し出し機により原反を作製し、３０〜１２０℃で２〜５倍に、１軸乃至は２軸に延伸して１０〜２００μｍ厚のフィルムにする方法、等が挙げられる。なお、混練する際に、可塑剤等の通常の樹脂成型に用いる添加剤を加えてもよい。色素の添加量は、色素の吸収係数、作製する高分子成形体の厚み、目的の吸収強度、目的の可視光透過率等によって異なるが、通常、ベース高分子成形体の重量に対して１ｐｐｍ〜２０％である。
【００６２】
（２）のキャスティング法は、樹脂または樹脂モノマーを有機系溶媒に溶解させた樹脂濃厚液に、色素を添加・溶解させ、必要であれば可塑剤、重合開始剤、酸化防止剤を加え、必要とする面状態を有する金型やドラム上へ流し込み、溶剤揮発・乾燥または重合・溶剤揮発・乾燥させることにより、プラスチック板、高分子フィルムを得る。通常、脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、芳香族エステル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変成樹脂（ＰＶＢ、ＥＶＡ等）或いはそれらの共重合樹脂の樹脂モノマーを用いる。
【００６３】
溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶媒、あるいはそれらの混合物系等を用いる。
【００６４】
色素の濃度は、色素の吸収係数、板またはフィルムの厚み、目的の吸収強度、目的の可視光透過率等によって異なるが、樹脂モノマーの重量に対して、通常、１ｐｐｍ〜２０％である。
また、樹脂濃度は、塗料全体に対して、通常、１〜９０％である。
【００６５】
塗料化してコーティングする（３）の方法としては、色素をバインダー樹脂及び有機系溶媒に溶解させて塗料化する方法、未着色のアクリルエマルジョン塗料に色素を微粉砕（５０〜５００ｎｍ）したものを分散させてアクリルエマルジョン系水性塗料とする方法、等がある。前者の方法では、通常、脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、芳香族エステル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変成樹脂（ＰＶＢ、ＥＶＡ等）或いはそれらの共重合樹脂をバインダー樹脂として用いる。
溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶媒、あるいはそれらの混合物系等を用いる。
【００６６】
色素の濃度は、色素の吸収係数、コーティングの厚み、目的の吸収強度、目的の可視光透過率等によって異なるが、バインダー樹脂の重量に対して、通常、０．１〜３０％である。
【００６７】
また、バインダー樹脂濃度は、塗料全体に対して、通常、１〜５０％である。アクリルエマルジョン系水系塗料の場合も同様に、未着色のアクリルエマルジョン塗料に色素を微粉砕（５０〜５００ｎｍ）したものを分散させて得られる。塗料中には、酸化防止剤等の通常塗料に用いるような添加物を加えてもよい。
【００６８】
上記の方法で作製した塗料は、透明高分子フィルム、透明樹脂、透明ガラス等の上にバーコーダー、ブレードコーター、スピンコーター、リバースコーター、ダイコーター、或いはスプレー等の従来公知のコーティングをして、色素を含有する基材を作製する。
【００６９】
コーティング面を保護するために保護層を設けたり、コーティング面を保護するようにコーティング面に光学フィルターの他の構成部材を貼り合わせても良い。色素を含有する粘着材（４）は、アクリル系接着剤、シリコン系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリビニルブチラール接着剤（ＰＶＢ）、エチレン−酢酸ビニル系接着剤（ＥＶＡ）等、ポリビニルエーテル、飽和無定形ポリエステル、メラミン樹脂等のシート状または液状の粘着材または接着剤に色素を１０ｐｐｍ〜３０％添加したものである。作製する際に、接着剤の溶剤に有機色素を分散・溶解させれば良く、溶剤としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶剤、あるいはそれらの混合物系等を用いることができるが特に限定されるものではない。また、その濃度も特に限定されるものではなく、色素の吸収係数、粘着材の厚み、目的の吸収強度、目的の可視光透過率等によって異なるが、塗工・乾燥後の粘着材層において１０（ｗｔ）ｐｐｍ〜３０（ｗｔ）％程度となれば良い。この色素を含有する粘着材（Ｆ）はディスプレイ用フィルターの各部材の貼り合わせに用いることができる。
【００７０】
色ガラス（５）は着色ガラスであり、コバルト、銅、クロム等の遷移金属イオンを含有する青〜青緑〜黄緑色の着色ガラス、金、セレンのコロイドを含む赤色の着色ガラス、金属の硫化物コロイドを含む褐色の着色ガラスが挙げられる。色調・濃さは、選択する微量含有物の種類及び含有量、ガラス組成、溶融温度、溶融雰囲気によって変わるが、これら条件は、透明導電層の色調及び光学フィルターに要求される色調・可視光線透過率から決まるものであり、特に限定されるものではない。
【００７１】
色素含有のディスプレイ用フィルターの耐光性を上げるために紫外線吸収剤を含有した透明フィルム（ＵＶカットフィルム）を貼りつけることもできるし、紫外線吸収剤を色素と共に含有させることもできる。紫外線吸収剤の種類、濃度は特に限定されない。
【００７２】
また、電磁波シールドを必要とする機器には、機器のケース内部に金属層を設けたり、ケースに導電性材料を使用して電波を遮断する。ディスプレイの如く透明性が必要である場合には、透明導電膜を形成した窓状のディスプレイ用フィルターを設置する。電磁波は導電層において吸収されたのち電荷を誘起するため、アースをとることによって電荷を逃がさないと、再び電磁波シールド体がアンテナとなって電磁波を発振し電磁波シールド能が低下する。従って、電磁波シールド性を付与したディスプレイ用フィルターとディスプレイ本体のケース内部の導電部がオーミックにコンタクトしている必要がある。
【００７３】
電気的接触を良好とするために、透明導電膜上に電極を形成する。電極形状は特に限定しないが、光学フィルターと機器の間に、電磁波の漏洩する隙間が存在しないことが肝要である。従って、透明導電膜上且つ周縁部に連続的に、電極を形成すると好適である。すなわち、ディスプレイからの光線透過部である中心部分を除いて、枠状に、平面な金属を含む電極を形成する。電極が形成される面は、ディスプレイセットのアース位置及び／またはディスプレイ用フィルターの取り付け方向によって決められ、設置されたときの人側の面であってもディスプレイ側の面であっても良い。
【００７４】
電極に用いる材料は、導電性、耐触性および透明導電膜との密着性等の点から、銀、金、銅、白金、ニッケル、アルミニウム、クロム、鉄、亜鉛、カーボン等の単体もしくは２種以上からなる合金や、合成樹脂とこれら単体または合金の混合物、もしくは、ホウケイ酸ガラスとこれら単体または合金の混合物からなるペーストを使用できる。電極形成にはメッキ法、真空蒸着法、スパッタ法など、ペーストといったものは印刷、塗工する方法など従来公知の方法を採用できる。また市販の導電性テープも好適に使用できる。電極の厚さは、これもまた特に限定されるものではないが、数μｍ〜数ｍｍ程度である。
【００７５】
また、電極を形成しなくても、本発明の光学フィルターは、色調、近赤外線カット性に優れているため、ＮＤフィルターや近赤外線カットフィルターとしても好適に使用できる。
本発明のディスプレイ用フィルターは、ディスプレイに装着したとき、装着用冶具、電極部分等が視認者から見えないようにするために、任意の額縁印刷を施して良い。印刷形状、印刷面、印刷色、印刷方法は特に特定されるものではない。また、ディスプレイに装着するための穴加工やコーナ処理等の加工を施しても良い。
【００７６】
本発明のディスプレイ用フィルターは、反射防止性と耐環境性を特徴とするため、その透明導電膜上に保護層を設ける必要なく、反射防止性を有する機能性透明層（Ｄ）も設ける必要がない。そのため、本発明のディスプレイ用フィルターは主として以下の構成で用いられる。
【００７７】
透明積層体の構成が透明導電膜／透明基体（Ａ）である場合
（１）透明導電膜／透明基体（Ａ）／機能性透明層（Ｄ）
（２）透明導電膜／透明基体（Ａ）／粘着材（Ｆ）／機能性透明層（Ｄ）
（１）は透明基体（Ａ）の裏面に直接機能性透明層が形成されている場合であり、（２）は粘着材（Ｆ）を介して貼り合わせられている場合である。
【００７８】
透明支持体（Ｅ）を用いる場合
（３）透明導電膜／透明基体（Ａ）／粘着材（Ｆ）／透明支持体（Ｅ）／機能性透明層（Ｄ）
（４）透明導電膜／透明基体（Ａ）／粘着材（Ｆ）／透明支持体（Ｅ）／粘着材（Ｆ）／機能性透明層（Ｄ）
（３）は透明支持体（Ｅ）の裏面に直接機能性透明層が形成されている場合であり、（４）は粘着材（Ｆ）を介して貼り合わせられている場合である。
【００７９】
透明積層体の構成が透明導電膜／機能性透明層（Ｄ）／透明基体（Ａ）であっても、透明導電膜／透明基体（Ａ）／機能性透明層（Ｄ）であっても、透明導電膜／機能性透明層（Ｄ）／透明基体（Ａ）／機能性透明層（Ｄ）であっても良い。また、透明導電膜上には、前述したように、その導電性・反射防止性を妨げない機能性透明層（Ｄ）を設けても良い。この場合用いることができるのは、先述した防汚コート層や透明導電性薄膜によるバリアー層である。
【００８０】
本発明のディスプレイ用フィルターは、耐環境性、反射防止性に優れており、さらにまた、プラズマディスプレイから発生する健康に害をなすといわれている電磁波を遮断する電磁波シールド能に優れ、さらに、プラズマディスプレイからでる８００〜１０００ｎｍ付近の近赤外線線を効率よくカットするため、周辺電子機器のリモコン、伝送系光通信等が使用する波長に悪影響を与えず、それらの誤動作を防ぐことができる。また、低コスト作製でき、電磁波シールド能、近赤外線カット能に加え、耐候性・耐環境性に優れ、反射防止性及び／または防眩性、アンチニュートンリング性、耐擦傷性、防汚性、帯電防止性等を兼ね備えている。
【００８１】
【実施例】
つぎに、本発明を実施例により具体的に説明する。本発明はこれらによりなんら制限されるものではない。
実施例中及び比較例中の透明積層体の透明導電膜は、基材の一方の主面にマグネトロンＤＣスパッタリング法により成膜した。薄膜の厚さは、成膜条件から求めた値であり、実際に測定した膜厚ではない。
【００８２】
高屈折率薄膜層（Ｂ）であるＩＴＯ薄膜は、ターゲットに酸化インジウム・酸化スズ焼結体（組成比Ｉｎ2 Ｏ3 ：ＳｎＯ2 ＝９０：１０ｗｔ％））を、スパッタガスにアルゴン・酸素混合ガス（全圧２６６mPa ：酸素分圧５mPa ）を用いて成膜した。
高屈折率薄膜層（Ｂ）であるＳｎＯ2 薄膜は、ターゲットに酸化スズ焼結体を、スパッタガスにアルゴン・酸素混合ガス（全圧２６６mPa ：酸素分圧５mPa ）を用いて成膜した。
【００８３】
銀または銀を含む合金の薄膜層（Ｃ）である銀薄膜は、ターゲットに銀を、スパッタガスにアルゴンガス（全圧２６６mPa ）を用いて成膜した。
銀または銀を含む合金の薄膜層（Ｃ）である銀−パラジウム合金薄膜は、ターゲットに銀−パラジウム合金（パラジウム１０ｗｔ％）を、スパッタガスにアルゴンガス（全圧２６６mPa ）を用いて成膜した。
銀または銀を含む合金の薄膜層（Ｃ）である銀−金合金薄膜は、ターゲットに銀−金合金（金１０ｗｔ％）を、スパッタガスにアルゴンガス（全圧２６６mPa ）を用いて成膜した。
【００８４】
［実施例１］
２軸延伸ポリエチレンテレフタレート（以下ＰＥＴ）フィルム（厚さ：７５μｍ）を透明基体（Ａ）としてその一方の主面に、ＰＥＴフィルムから順にＩＴＯ薄膜（膜厚：４５ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１０ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：８０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１３ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：８０ｎｍ）、銀−金合金薄膜（膜厚：１４ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：８０ｎｍ）、銀−金合金薄膜（膜厚：１４ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：４５ｎｍ）の計９層の本発明の透明積層体を作製した。
【００８５】
［比較例１］
ＰＥＴフィルム（厚さ：７５μｍ）を透明基体（Ａ）としてその一方の主面に、ＰＥＴフィルムから順にＩＴＯ薄膜（膜厚：４５ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１０ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：８０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１７ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：８０ｎｍ）、銀−金合金薄膜（膜厚：１６ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：８０ｎｍ）、銀−金合金薄膜（膜厚：９ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：４５ｎｍ）の計９層透明積層体を作製した。
【００８６】
［比較例２］
ＰＥＴフィルム（厚さ：７５μｍ）を透明基体（Ａ）としてその一方の主面に、ＰＥＴフィルムから順にＩＴＯ薄膜（膜厚：４５ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１０ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：８０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１３ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：８０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１３ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：８０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１４ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：４５ｎｍ）の計９層の本発明の透明積層体を作製した。
【００８７】
［実施例２］
ＰＥＴフィルム（厚さ：７５μｍ）を透明基体（Ａ）としてその一方の主面に、ＰＥＴフィルムから順にＩＴＯ薄膜（膜厚：４０ｎｍ）、銀−パラジウム合金薄膜（膜厚：１０ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：８０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１４ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：８０ｎｍ）、銀−パラジウム合金薄膜（膜厚：１３ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：４０ｎｍ）の計７層の本発明の透明積層体を作製した。
本発明の透明積層体の一例を示す断面図として、図１に示した。
【００８８】
［比較例３］
ＰＥＴフィルム（厚さ：７５μｍ）を透明基体（Ａ）としてその一方の主面に、ＰＥＴフィルムから順にＩＴＯ薄膜（膜厚：４０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：９ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：７５ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１３ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：７５ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１４ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：４０ｎｍ）の計７層の透明積層体を作製した。
【００８９】
［実施例３］
ＰＥＴフィルム（厚さ：７５μｍ）を透明基体（Ａ）としてその一方の主面に、アルコキシランを氷酢酸で加水分解したものにシリコーン系表面平滑剤を加えたコート液を、グラビアコーターにて塗工・１２０℃の熱硬化によって色素入りハードコート膜（膜厚：５μｍ、鉛筆硬度：３Ｈ）を形成し、さらにその上から順にＩＴＯ薄膜（膜厚：４０ｎｍ）、銀−パラジウム合金薄膜（膜厚：８ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：８０ｎｍ）、銀−パラジウム合金薄膜（膜厚：１２ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：４０ｎｍ）の、機能性透明層（Ｄ）として色素を含有するハードコート膜を有する、計５層の本発明の透明積層体を作製した。
【００９０】
［比較例４］
ＰＥＴフィルムから順にＩＴＯ薄膜（膜厚：３５ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：８ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：７５ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１３ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：４０ｎｍ）とした以外は、実施例３と同様に色素を含有するハードコート膜を有する計５層の透明積層体を作製した。
【００９１】
［実施例４］
風冷強化ガラス（厚さ：２．８ｍｍ）を透明基体（Ａ）としてその一方の主面に、ガラスから順にＩＴＯ薄膜（膜厚：４０ｎｍ）、銀−金合金薄膜（膜厚：１０ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：４５ｎｍ）の計３層の本発明の透明積層体を作製した。
【００９２】
［比較例５］
風冷強化ガラス（厚さ：２．８ｍｍ）を透明基体（Ａ）としてその一方の主面に、ガラスから順にＩＴＯ薄膜（膜厚：４０ｎｍ）、銀−金合金薄膜（膜厚：１３ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：４０ｎｍ）の計３層の透明積層体を作製した。
【００９３】
また、上記実施例及び比較例の透明積層体を用いて以下の実施例及び比較例のディスプレイ用フィルターを作製した。
尚、反射防止膜面の片面の可視光線反射率（Ｒvis）の求め方は、まず測定対象物の小辺を切り出し、反射防止膜が形成されていない面をサンドペーパーで荒らした後、艶消し黒スプレーしてこの面の反射を無くし、反射積分球（光線入射角度６゜）を用いた（株）日立製作所製分光光度計（Ｕ−３４００）により可視領域の全光線反射率を測定し、ここで求められた反射率からＪＩＳ Ｒ３１０６に従って計算した。さらにまた、防汚性の評価は、表面を指で触れ人脂を付けた後、布で軽く拭き取れるかどうかで判断した。
【００９４】
［実施例５］
酢酸エチル／トルエン（５０：５０ｗｔ％）溶剤に三井化学（株）製色素ＭＳ−Ｒｅｄ−Ｇ、三井化学（株）製色素ＰＳ−Ｖｉｏｌｅｔ−ＲＣを分散・溶解させアクリル系粘着剤の希釈液とし、アクリル系粘着剤／色素入り希釈液（８０：２０ｗｔ％）を混合した状態でそれぞれの濃度が、３５０(wt)ppm 、６００(wt)ppm となるように調製した。作製したをアクリル系粘着剤／色素入り希釈液コンマコーターにより離型フィルムに乾燥膜厚２５μｍに塗工の後、乾燥、粘着面に離型フィルムをラミネートして、離型フィルムに挟み込まれた色素を含有する粘着材（Ｆ）（粘着材１）を得た。
【００９５】
トリアセチルセルロース（以下ＴＡＣ）フィルム（厚さ：８０μｍ）の一方の主面に多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を加えグラビアコーターにて塗工・紫外線硬化によってハードコート膜（膜厚：３μｍ）を形成し、その上に含フッ素有機化合物溶液をマイクログラビアコーターにて塗工・９０℃乾燥・熱硬化させ、屈折率１．４の反射防止膜（膜厚：１００ｎｍ）を形成し、ハードコート性（ＪＩＳ Ｋ５４００準拠の鉛筆硬度：Ｈ）、反射防止性（反射防止膜面の片面のＲvis：１．２％）、防汚性を有する機能性透明層（Ｄ）として反射防止フィルム１を得た。反射防止フィルム１の他方の主面に、上記粘着材１と同様に色素を入れないで粘着剤／希釈液を塗工・乾燥させ、厚さ２５μｍの粘着材（Ｆ）（粘着材１）を形成し、さらに離型フィルムをラミネートした。
透明支持体（Ｄ）として、厚さ３ｍｍ、１０００ｍｍ×６００ｍｍの風冷強化ガラスを用いた。
【００９６】
ロール状の実施例１の透明積層体の薄膜が形成されていない面に、ロール状の離型フィルムに挟み込まれた色素を含有する粘着材１を、片面の離型フィルムを剥離しながら連続的にラミネート（貼合）し、透明導電膜／ＰＥＴフィルム／色素入り粘着材／離型フィルムのロールを得た。これを風冷強化ガラスの一方の主面に、離型フィルムを剥しながらラミネートした。さらに他方の主面に粘着材付きの反射防止フィルム１を同様にラミネートした。
さらに、剥きだしの導電部の周縁部、幅２２ｍｍの範囲に、銀ペースト（三井化学（株）製ＭＳＰ−６００Ｆ）をスクリーン印刷し、乾燥させ厚さ１５μｍの電極を形成し、本発明のディスプレイ用フィルターを作製した。
本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示す平面図として、電極形成面から見た平面図を図２に示した。
実施例５の断面を、本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示す断面図として、図３に示した。
【００９７】
［比較例６］
透明積層体に比較例１の透明積層体を用いた以外は、実施例５と同様にディスプレイ用フィルターを作製した。
【００９８】
［実施例６］
実施例５記載の粘着材２を同様に実施例２の透明積層体の薄膜が形成されていない面にラミネートし、粘着材（Ｆ）付きの透明積層体のロールを得た。
色素を含有する透明支持体（Ｅ）として、有機色素と紫外線吸収剤を添加してキャスティング法により作製した厚さ３ｍｍのポリメチルメタクリレート（以下ＰＭＭＡ）板を得た。ＰＭＭＡ板の含有する色素は、ＭＳ−Ｒｅｄ−Ｇ、ＰＳ−Ｖｉｏｌｅｔ−ＲＣがそれぞれ、１．７（ｗｔ）ｐｐｍ、４．２（ｗｔ）ｐｐｍである。この一方の主面に、多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を添加、さらに有機シリカ微粒子（平均粒径：１５μｍ）を分散させたコート液を、ディッピング法により塗工・紫外線硬化させ、防眩性（ヘーズメーター測定のヘーズ値：２％）とハードコート性（鉛筆硬度：２Ｈ）を有する機能性透明層（Ｄ）としてアンチグレア層（膜厚：２μｍ）を形成し、１０００ｍｍ×６００ｍｍのアンチグレア付きのＰＭＭＡ板を作製した。
ロール状の粘着材付き透明積層体をＰＭＭＡ板のアンチグレア層が形成されていない面に、離型フィルムを剥しながらラミネートした。
さらに、実施例５と同様に銀ペーストをスクリーン印刷・乾燥させ厚さ１５μｍの電極を形成し、本発明のディスプレイ用フィルターを作製した。
実施例６の断面を、本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示す断面図として、図４に示した。
【００９９】
［実施例７］
実施例５記載の粘着材２を同様に実施例３の透明積層体の薄膜が形成されていない面にラミネートし、粘着材（Ｆ）付きの透明積層体のロールを得た。
透明支持体（Ｄ）として、厚さ３ｍｍ、１０００ｍｍ×６００ｍｍの化学強化ガラスを用いた。化学強化ガラスの一方の主面に、オルトケイ酸テトラエチル／エタノール／水（重量比１：２０：４）の溶液にアンモニアを触媒として微量加え混合し、ディッピング法（精密引き上げ）によりコートした後、２００℃で焼成して反射防止性（反射防止膜面の片面のＲvis ：０．７％）を有する機能性透明層（Ｄ）として反射防止膜を形成し、ＡＲガラスを得た。
【０１００】
ＡＲガラスの反射防止膜が形成されていない面に、実施例５と同様に粘着材付きの透明積層体をラミネートした。
さらに、実施例５と同様に銀ペーストをスクリーン印刷・乾燥させ厚さ１５μｍの電極を形成し、本発明のディスプレイ用フィルターを作製した。
実施例７の断面を、本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示す断面図として、図５に示した。
【０１０１】
［実施例８］
ＰＥＴフィルム（厚さ：１００μｍ）の一方の主面にアルコキシランを氷酢酸で加水分解したものにシリコーン系表面平滑剤を加えたコート液を、グラビアコーターにて塗工・１２０℃の熱硬化によってハードコート膜（膜厚：５μｍ）を形成し、その上にＩＴＯ薄膜（膜厚：７０ｎｍ）、ＳｉＯ2 薄膜（膜厚：９０ｎｍ）の順にスパッタリング法によって２層系反射防止膜を形成し、ハードコート性（鉛筆硬度：３Ｈ）、反射防止性（反射防止膜面の片面のＲvis ：０．８％）、帯電防止性（表面抵抗：２×１０5 Ω／□）、防汚性を有する機能性透明層（Ｆ）である反射防止フィルム２を得た。実施例５と同様に粘着材（Ｅ）付きの反射防止フィルム２のロールを得た。
【０１０２】
１０００ｍｍ×６００ｍｍの実施例４の透明積層体の透明導電膜が形成されていない面に、実施例５と同様に粘着材（Ｆ）付きの反射防止フィルム２をラミネートした。
さらに、実施例５と同様に銀ペーストをスクリーン印刷・乾燥させ厚さ１５μｍの電極を形成し、本発明のディスプレイ用フィルターを作製した。
実施例８の断面を、本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示す断面図として、図６に示した。
【０１０３】
［比較例７］
透明積層体に比較例５の透明積層体を用いた以外は、実施例８と同様にディスプレイ用フィルターを作製した。
【０１０４】
以上のようにして作製した実施例１〜４の本発明の透明積層体及び比較例１〜５の透明積層体の耐環境性、透明導電膜面の可視光線反射率、面抵抗、実施例５〜８の本発明のディスプレイ用フィルター及び比較例６〜７のディスプレイ用フィルターの可視光線透過率、透過色度、可視光線反射率、近赤外線透過率及びプラズマディスプレイに装着したときの画像特性を以下の方法で評価した。
【０１０５】
１）透明積層体の耐環境性
実施例１〜４及び比較例１〜５において、透明積層体を３００ｍｍ×３００ｍｍに切り出し、外形寸法が３００ｍｍ×３００ｍｍで深さ５０ｍｍのステンレス（厚さ１０ｍｍ）の枠に一方だけ厚さ５ｍｍのステンレス製の底を溶接した箱に、両面テープをもって透明積層体で箱に蓋した。この際、透明導電膜面を内側になるようにし、模擬的にプラズマディスプレイセットに取り付けた状態にした。この透明積層体で蓋された箱を、６０℃で湿度９５％以上の恒温恒湿槽に入れ、透明導電膜の劣化による白点の発生の有無と、発生時間を調べた。白点が２００時間以上発生しなければ、実用的に使用できる。透明積層体で蓋された箱の中は、６０℃で湿度５０％以上だった。
【０１０６】
２）透明積層体の可視光線反射率（Ｒvis）
実施例１〜４及び比較例１〜５において、透明導電膜が形成されていない面をサンドペーパーで荒らした後、艶消し黒スプレーしてこの面の反射を無くし、反射積分球（光線入射角度６゜）を用いた（株）日立製作所製分光光度計（Ｕ−３４００）により可視領域の全光線反射率を測定し、ここで求められた反射率からＪＩＳ Ｒ３１０６に従って計算した。
【０１０７】
３）透明積層体の面抵抗
実施例１〜４及び比較例１〜５において、透明導電膜面の面抵抗を、四探針測定法（プローブ間隔１ｍｍ）により測定した。
【０１０８】
４）ディスプレイ用フィルターの可視光線透過率（Ｔvis）及び透過色度（ハンターのクロマティクネス指数ａ、ｂ）
実施例５〜８及び比較例６〜７において、測定対象物の透光部を小片に切り出すか、同じ構成の小片サンプルを作製し、（株）日立製作所製分光光度計（U-3400）の反射積分球（光線入射角度６°）の入射口にサンプルを固定し、３００〜８００nmにおける測定対象物の全光線透過率を測定した。ここで求めた全光線透過率からＪＩＳ Ｒ３１０６に従ってＴvis を、ＪＩＳ Ｚ８７２２、ＪＩＳＺ８７３０に従ってディスプレイ用フィルターの透過色度（Ｃ光源）を計算した。
【０１０９】
５）ディスプレイ用フィルターの近赤外線透過率（Ｔ850 ｎｍ、Ｔ950 ｎｍ）
実施例５〜８及び比較例６〜７において、測定対象物の透光部を小片に切り出すか、同じ構成の小片サンプルを作製し、（株）日立製作所製分光光度計（U-3400）により８５０nm、９５０nmの近赤外線透過率Ｔ850 ｎｍ、Ｔ950 ｎｍ（平行光線透過率）を測定した。
【０１１０】
６）ディスプレイ用フィルターの可視光線反射率（Ｒvis ）
実施例５〜８及び比較例６〜７において、測定対象物の透光部を小片に切り出すか、同じ構成の小片サンプルを作製し、反射積分球（光線入射角度６°）を用いて（株）日立製作所製分光光度計（U-3400）により３００〜８００nmにおける測定対象物両面の全光線反射率を測定した。ここで求めた反射率からＪＩＳ Ｒ３１０６に従ってＲvis を計算した。
【０１１１】
７）ディスプレイ用フィルターの画像特性
実施例５〜８及び比較例６〜７のディスプレイ用フィルターを４２型プラズマディスプレイの前面に装着し、輝度、色調、コントラスト、視認性を、良：○、やや良（やや劣る）：△、不良：×で判断した。×が一つ以上あるとディスプレイ用フィルターとして不適である。装着は、電極形成面すなわち透明導電膜側をプラズマディスプレイ側として、プラズマディスプレイパネル画面から２ｍｍ離して平行に設置した。視認性は、外光反射、ギラツキによる画像の視認性の低下の有無を判断した。
以上の結果を表１及び表２に掲げる。
【０１１２】
【表１】
表１から明らかなように、実施例１〜４及び比較例１、５は耐環境性評価において２００時間以上であり、耐環境性に優れている。また、有する銀の膜厚が厚いほど、耐環境性が低下することが判る。ただし、銀と金または銀とパラジウムの合金を用いることによって、面抵抗は上昇することも判る。比較例１及び比較例５は、耐環境性に優れているが、各層の膜厚が適切でないために、他に比べて可視光線反射率が高いものとなっている。
【０１１４】
【表２】
表２から明らかなように、比較例６及び比較例７は薄膜形成面の可視光線反射率が高い比較例１及び比較例５の透明積層体を使用しているため、可視光線反射率が高く視認性が劣っている。また、用いた透明積層体の面抵抗が低いほど、近赤外線カット能に優れているのが判る。可視光線透過率は、積層数が多いほど低くなることは判るが、合金薄膜に銀−パラジウム合金を用いたり、色素により調色することによっても可視光線透過率が低くなる。また、合金薄膜に銀−金合金を用いると透過色度のａ値が小さくなるが、積層数が少ない場合は特に要求される色調が厳しくなければ調色は不要である。実施例８及び比較例７は、可視光線透過率が高く、透過色度のａ値が小さいためコントラストが若干劣っている。実施例７のディスプレイ用フィルターは、透過色度、可視光線透過率、可視光線反射率のいずれも優れており、画像特性が良いことが判る。
さらにまた、本発明のディスプレイ用フィルターは、機能性透明層に各機能を持たせることによって、耐擦傷性及び／または防汚性及び／または帯電防止性に優れている。
【０１１６】
【発明の効果】
以上のごとく、本発明によれば、優れた可視光線反射率、可視光線透過率を有し、保護層を必要としない耐環境性に優れた透明積層体を提供でき、本発明の透明積層体を用いれば、プラズマディスプレイの輝度・色調・コントラスト・視認性を損なわない又は向上させる、優れた可視光線反射率、可視光線透過率、透過色を有し、さらにはプラズマディスプレイから発する強度の電磁波を遮蔽でき、周辺電子機器の誤動作を誘発する近赤外線のカット能を有する、耐候性・耐環境性、帯電防止性、耐擦傷性、防汚性等に優れた低コストのディスプレイ用フィルターを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本願の透明積層体の一例を示す断面図である。
【図２】 本願のディスプレイ用フィルターの一例を示す平面図である。
【図３】 本願のディスプレイ用フィルターの一例を示す断面図である。
【図４】 本願のディスプレイ用フィルターの一例を示す断面図である。
【図５】 本願のディスプレイ用フィルターの一例を示す断面図である。
【図６】 本願のディスプレイ用フィルターの一例を示す断面図である。
【符号の説明】
００ ディスプレイ画面
０１ ディスプレイ用フィルターの透光部
１０ 透明導電膜
１１ 高屈折率透明薄膜層（Ｂ）
１２ 金属薄膜層（Ｃ）
２０ 透明基体（Ａ）
３０ 粘着材（Ｆ）
３１ 色素を含有する粘着材（Ｆ）
４０ 透明支持体（Ｅ）
４１ 色素を含有する透明支持体（Ｅ）
５０ 電極
６０ 反射防止性、ハードコート性、防汚性を有する機能性透明層（Ｄ）
６１ 防汚性を有する反射防止膜
６２ ハードコート膜
６３ ６２、６１が形成される透明な基材
７０ アンチグレア層（防眩性、ハードコート性を有する機能性透明層（Ｄ））
８０ ハードコート膜（ハードコート性を有する機能性透明層（Ｄ））
９０ 反射防止膜（反射防止性を有する機能性透明層（Ｄ））
１００ 反射防止性、帯電防止性、ハードコート性を有する機能性透明層（Ｄ）１０１ ハードコート膜
１０２ 帯電防止性を有する反射防止膜
１０３ １０２、１０１が形成される透明な基材[0001]
The present inventionDisplay filterIn more detail, the near-infrared rays have excellent visible light reflectance and transmittance, electromagnetic shielding ability to shield the electromagnetic waves generated from the plasma display, which are said to be harmful to health, and misoperation of peripheral electronic devices. The present invention relates to a low-cost display filter having excellent visible light reflectance, transmittance, and color tone that has a near-infrared cutting ability for shielding light and does not impair the luminance, color tone, contrast, and visibility of the display.
[0002]
[Prior art]
As society becomes highly information-oriented, optoelectronic components and equipment are remarkably advanced and popularized. Among them, displays are remarkably widespread for televisions, personal computers, and the like, and their thickness and size have been reduced. In recent years, plasma displays have been attracting attention for large thin TVs, thin display applications, and the like, and have already begun to appear on the market. However, the plasma display generates a strong leakage electromagnetic field due to its structure and operating principle. In recent years, the effects of leakage electromagnetic fields on the human body and other equipment are being taken into account, and for example, it is necessary to keep them within the standard values of the Japanese VCCI (Voluntary Control Council for Interference by Data Processing Equipment Electronic Office Machine). It has become.
[0003]
In addition, the plasma display emits near infrared light and acts on peripheral electronic devices such as a cordless phone to cause a malfunction. Wavelengths that are particularly problematic include 820 nm, 880 nm, and 980 nm, which are used for remote control and transmission optical communication. Therefore, it is necessary to cut light in the wavelength region of 800 to 1000 nm, which is the near infrared region, to a level that does not cause a problem in practice.
[0004]
Regarding the near-infrared cutting ability, it is conventionally known to produce a near-infrared absorption filter using a near-infrared absorbing dye. However, the near-infrared absorbing dye has a problem that deterioration due to the environment such as humidity, heat, and light occurs, and optical characteristics such as near-infrared cutting ability and optical filter transmission color change with time. Since the plasma display emits near-infrared rays that are problematic and intensify over a wide near-infrared wavelength region, it is necessary to use a near-infrared absorption filter having a large absorptance in the near-infrared region over a wide wavelength region. In order to reduce the near-infrared transmittance to such an extent that it does not become a problem, the amount of the dye contained in the optical filter must be increased, and the accompanying decrease in the visible light transmittance has also been a problem.
[0005]
Since the filter for plasma display is installed in front of the display in order to block near infrared rays and electromagnetic waves radiated from the plasma display, if the transmittance of visible light is low, the sharpness of the image is lowered. In addition, low brightness of the plasma display is one of the problems, and the display filter installed on the front surface is required to have visible light transmittance that does not significantly impair the brightness. In general, the higher the visible light transmittance of the display filter, the better. At least 40% or more, preferably 50% or more, more preferably 60% or more is required.
[0006]
In order to shield leakage electromagnetic fields (electromagnetic waves), it is necessary to cover the display surface with a highly conductive material. Generally, a metal mesh that is grounded or a metal mesh coated with a synthetic resin or metal fiber is used. However, these methods produce parts that do not transmit light emitted from the display, cause moire, and increase costs due to poor yield. Is a problem. Therefore, a transparent conductive film typified by ITO (Indium Tin Oxide) may be used for the electromagnetic shielding layer. As the transparent conductive film, metal thin films such as gold, silver, copper, platinum and palladium, oxide semiconductor thin films such as indium oxide, stannic oxide and zinc oxide, metal thin films and high refractive index transparent thin films were alternately laminated. There are multilayer thin films. Among them, the metal thin film can obtain conductivity, but a metal thin film having high visible light transmittance cannot be obtained due to reflection and absorption of the metal over a wide wavelength region. In addition, an oxide semiconductor thin film is more transparent than a metal thin film, but is poor in conductivity, and has poor near-infrared reflectivity.
[0007]
In contrast, a multilayer transparent conductive film in which a metal thin film and a high-refractive-index transparent thin film are stacked is a conductive and optical property of a metal such as silver, and reflection of the high-refractive-index transparent thin film by a metal in a certain wavelength region. Therefore, it has preferable characteristics in all of conductivity, near infrared ray cutting ability, and visible light transmittance.
[0008]
However, the multilayer transparent conductive film has a problem with its environmental resistance, particularly when silver is used for the metal thin film. Therefore, it is necessary to further provide a protective layer on the transparent conductive film to add the environmental resistance. was there. However, when the protective layer is provided, there is a problem that not only the number of members is increased and the cost is increased, but also the visible light reflectance of the display filter is increased, and the visibility is lowered. The increase in the visible light reflectivity is such that the light incident medium (air or vacuum) is designed as 1, but the refractive index of the incident medium changes due to the formation of an adjacent layer such as a protective layer, bonding, etc. This is due to an increase in the reflective interface between the members.
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention is to provide an electromagnetic shielding ability that shields electromagnetic waves that are said to be harmful to health and that is excellent in visible light reflectance and transmittance in view of the above prior art, and that is generated from a plasma display, and peripheral electronic devices Near-infrared cut ability to block near-infrared rays that lead to malfunctionHaveDoes not impair the brightness, color tone, contrast, and visibility of the display,An object of the present invention is to provide a low-cost display filter having excellent visible light reflectance, transmittance, and color tone.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have shielded extremely strong electromagnetic waves generated from the plasma display, and further, transmitted near-infrared light emitted from the plasma display to peripheral devices. In order to obtain a low-cost display filter having low visible light reflectance and high light transmittance that can be suppressed to the extent that malfunction does not occur and that does not impair image visibility, The present inventors have found that a transparent laminate having a visible light reflectance of 1.5% or less and a surface resistance of 1 to 10Ω / □ is necessary, and have reached the present invention.
[0011]
That is, the present invention includes (1) a transparent laminate in which a transparent conductive film (G) is formed on at least one main surface of a transparent substrate (A).And satisfy all the following conditions (1) to (4)Display filter.
(1)The transparent conductive film (G)
The high refractive index transparent thin film layer (B) and the metal thin film layer (C) are sequentially laminated one to four times with (B) / (C) as a repeating unit,
Further, at least the high refractive index transparent thin film layer (B) is laminated thereon, and
At least one layer of the metal thin film layer (C) is an alloy layer.The
(2)The surface resistance of the surface of the transparent laminate on which the transparent conductive film (G) is formed is 1 to 10Ω / □.It is.
(3) The film thickness (a) of the transparent substrate (A), the film thickness (b) of the high refractive index transparent thin film layer (B), and the film thickness (c) of the metal thin film layer (C) are:
The transparent conductive film (G) of the transparent laminate is formed by a vector method using the refractive index and extinction coefficient of the transparent substrate (A) and each layer, or a calculation method using an admittance diagram, where the light incident medium is air. The visible light reflectance of the surface on the formed side is selected from a combination of a, b, and c that takes a value of 1.5% or less. (However, 10 (μm) <a <250 (μm), 5 (nm) ≦ b ≦ 200 (nm), 4 (nm) ≦ c ≦ 30 (nm))
(4) No functional transparent layer (D) having antireflection properties is provided on the side of the transparent laminate on which the transparent conductive film (G) is formed,
(2) On at least one main surface of the transparent substrate (A),Antiglare,Includes a transparent laminate in which a functional transparent layer (D) having at least one function selected from antistatic properties, hard coat properties, antifouling properties and anti-Newton ring properties, and a transparent conductive film (G) are formed in this order.As described in (1)Display filter,
(3) On the surface of the transparent substrate (A) where the transparent conductive film (G) is not formed,It has at least one function selected from antireflection properties, antiglare properties, antireflection antiglare properties, antistatic properties, hard coat properties, antifouling properties, and anti-Newton ring properties.The display filter according to (1) or (2), wherein the functional transparent layer (D) is formed,
(4) The display substrate according to any one of (1) to (3), wherein the transparent substrate (A) and / or the functional transparent layer (D) contains a dye,
(5) The transparent support (E) is provided on the side of the transparent substrate (A) where the transparent conductive film (G) is not formed via the adhesive (F) (1) ) To (4) display filter,
(6) The display filter according to any one of
(7) The display transparent filter according to any one of (1) to (6), wherein the functional transparent layer (D) is formed directly or via an adhesive material (F),
(8) At least one of the transparent substrate (A), the functional transparent layer (D), the transparent support (E), and the adhesive material (F) contains a pigment, (1) to (7) The display filter according to any one of the above,
(9) Transparent conductive film (G) / transparent substrate (A) / functional transparent layer (D), transparent conductive film (G) / transparent substrate (A) / adhesive material (F) / functional transparent layer (D) Transparent conductive film (G) / transparent substrate (A) / adhesive material (F) / transparent support (E) / functional transparent layer (D) and transparent conductive film (G) / transparent substrate (A) / adhesive The structure according to any one of (1) to (8), wherein the structure is any one of material (F) / transparent support (E) / adhesive material (F) / functional transparent layer (D). The present invention relates to a display filter.
[0012]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Of the present inventionDisplay filterConsists of a high refractive index transparent thin film layer (B) and mainly silver on at least one main surface of the transparent substrate (A) or on the surface of the transparent substrate (A) on which the functional transparency (D) is formed. The metal thin film layer (C) is sequentially laminated one to four times with (B) / (C) as a repeating unit, and at least the high refractive index transparent thin film layer (B) is further laminated thereon to form a transparent conductive film Is used, the sheet resistance is 1 to 10Ω / □, and the visible light reflectance of the thin film forming surface is 1.5% or less.
[0013]
Examples of the transparent substrate (A) include inorganic compound moldings such as glass and quartz and transparent organic polymer moldings, but polymer moldings can be used more suitably because they are light and difficult to break. The polymer molding may be transparent in the visible wavelength region, and specific examples thereof include polyethylene terephthalate, polyethersulfone, polystyrene, polyethylene naphthalate, polyarylate, polyetheretherketone, polycarbonate, polyethylene, Polyamides such as polypropylene and
[0014]
The surface of these substrates is subjected to etching treatment such as sputtering treatment, corona treatment, flame treatment, ultraviolet ray irradiation, electron beam irradiation, etc. and undercoating treatment, and the adhesion of the thin film formed thereon to the transparent substrate (A). You may perform the process which improves. An inorganic layer such as an arbitrary metal may be formed between the transparent substrate (A) and the thin film. In addition, before the thin film is formed, a dustproof treatment such as solvent cleaning or ultrasonic cleaning may be performed as necessary.
[0015]
In VCCI, the radiation field strength of Class I indicating the regulation value for industrial use is less than 50 dBμV / m, and in Class II indicating the regulation value for home use, it is less than 40 dBμV / m, but the radiation field strength of the plasma display is 20 Within the band of ~ 90 MHz, the diagonal of about 20 inches type exceeds 40 dBμV / m, and the diagonal of about 40 inches type exceeds 50 dBμV / m, so it cannot be used as it is. The radiated electric field intensity of a plasma display requires an electromagnetic shielding material that is stronger and has a higher shielding effect as the screen size and brightness, that is, power consumption increases.
[0016]
In order to have an electromagnetic wave shielding capability necessary for a plasma display, the present inventors have a low resistance conductivity with a surface resistance of 10 Ω / □ or less, and the electromagnetic wave reflection body has a low resistance for electromagnetic wave reflection. It has been found that it is necessary to have many reflective interfaces.
[0017]
Further, in order to block the near-infrared light emitted by the plasma display to a level that does not cause a problem in practice, it is preferable that the light transmittance in the near-infrared wavelength region of 800 to 1000 nm of the display filter is 20% or less. As has been found, it is desirable that the transparent conductive film has a near-infrared cutting ability because of the demand for reducing the number of members and the limit of near-infrared absorption using a pigment. In the near-infrared cut, reflection by free electrons of metal can be used. However, when the metal thin film layer is thickened, the visible light transmittance is lowered as described above, and when the metal thin film is thinned, the reflection of near-infrared light is weakened. Therefore, the visible light transmittance can be increased and the thickness of the entire metal thin film layer can be increased by stacking one or more layers of a laminated structure in which a metal thin film layer of a certain thickness is sandwiched between high refractive index transparent thin film layers. In addition, by controlling the number of layers and / or the thickness of each layer, the visible light transmittance, visible light reflectance, near infrared transmittance, transmitted color, and reflected color can be changed within a certain range. . When the visible light reflectance is high, the reflection of a lighting device or the like on the screen increases, and the visibility decreases. White, blue and purple are preferred because the reflected color is not noticeable. For this reason, a multilayer stack that is easy to optically design and control is preferable.
[0018]
Therefore, a display filter having electromagnetic wave shielding ability and near infrared ray cutting ability that can be suitably used for a plasma display has a high conductivity for electromagnetic wave absorption and many reflective interfaces for electromagnetic wave reflection. A transparent conductive film that reflects infrared rays and is laminated with a metal thin film and a high refractive index transparent thin film is suitable.
[0019]
Hereinafter, unless otherwise specified, the multilayer thin film refers to a multilayered transparent conductive film in which a laminated structure in which a metal thin film layer is sandwiched between high refractive index transparent thin film layers is stacked one or more layers.
If the visible light transmittance is low, the sharpness of the image is lowered when the display is installed. Therefore, the visible light transmittance of the display filter is preferably high, and is at least 40% or more, preferably 50% or more, more preferably 70%. This is necessary. Accordingly, the visible light transmittance of the transparent laminate needs to be at least 50% or more, preferably 60% or more, and more preferably 70% or more. In addition, in order to increase the contrast when the luminance of the display is high, it may be preferable that the display filter also serves as a neutral density (ND) ND filter. In this case, the visible light transmittance of the display filter Is required to be 80% or less.
The visible light transmittance and the visible light reflectance in the present invention are calculated according to JIS (R-3106) from the wavelength dependency of the transmittance and the reflectance.
[0020]
As a material for the metal thin film, silver is preferable because it is excellent in conductivity, infrared reflectivity, and visible light transmittance when multilayered. However, silver lacks chemical and physical stability and deteriorates due to aggregation and the like caused by pollutants in the environment, water vapor, heat, light, and the like. When it has a plurality of metal thin film layers (C) and the all metal thin film layers are made of silver, a transparent laminate having excellent electrical conductivity and optical properties can be obtained, but the environmental resistance is not sufficient. Therefore, it is necessary to provide a protective layer on the transparent conductive film in order to add environmental resistance. However, the provision of the protective layer not only increases the number of members and increases the cost, but also the visible light reflectance of the display filter. There is a problem that the visibility increases and the visibility decreases. The increase in visible light reflectivity is due to the fact that the light incident medium (air or vacuum) is designed as 1, but the refractive index of the incident medium changes due to the formation of an adjacent layer such as a protective layer. This is due to an increase in the reflective interface between the members.
[0021]
As a result of intensive studies, the inventors have found that an alloy containing one or more kinds of environmentally stable metals such as gold, platinum, palladium, copper, indium, and tin, or a metal thin film containing a stable metal such as gold or palladium. It has been found that it has environmental resistance and it is not necessary to provide a protective layer.
In particular, an alloy containing gold in silver is excellent in environmental resistance, and an alloy containing palladium in silver is excellent in environmental resistance and is preferable because the green to yellowish green color of the multilayer thin film is weakened. . Here, the silver content of the alloy containing silver is not particularly limited, but is desirably not significantly different from the conductivity and optical characteristics of the silver thin film, and is about 50 wt% or more and less than 100 wt%. . However, when other metals are added to silver, its excellent conductivity and optical properties are impaired. Therefore, in the case of having a plurality of metal thin film layers, if possible, use at least one layer of silver, or alloy only the metal thin film layer in the first layer and / or the outermost layer as viewed from the substrate. Is desirable.
[0022]
Since it is not necessary to provide a protective layer, if the transparent conductive film itself is an antireflection film, a display filter having a low visible light reflectance can be obtained. When the visible light reflectance of the display filter is high, the external light reflection is increased and the visibility of the image is lowered. Accordingly, it is necessary to apply antireflection treatment, antiglare treatment and antireflection antiglare treatment on both sides of the display filter. However, if the transparent laminate itself becomes an antireflection layer, these treatments are one of the main components of the display filter. Only the surface is sufficient, and the cost can be reduced by reducing reflection by reducing the bonding interface and reducing the number of members.
[0023]
Making the transparent conductive film into a multilayer thin film is also suitable for making the transparent laminate into an antireflection layer.
That is, on one main surface of the transparent substrate (A), the high refractive index transparent thin film layer (B), and the thin film layer (C) of silver or an alloy containing silver are used in the order of (B) / (C). By laminating 1 to 4 times repeatedly and further laminating at least a high refractive index transparent thin film layer (B) thereon, visible light reflectivity, low resistance for electromagnetic wave shielding ability, near infrared cut ability, visible light A transparent laminate having excellent transmittance can be obtained. That is, (A) / (B) / (C) / (B), (A) / (B) / (C) / (B) / (C) / (B), or (A) / (B) / (C) / (B) / (C) / (B) / (C) / (B) or (A) / (B) / (C) / (B) / (C) / (B) / (C) / (B) / (C) / (B). If the number of repeated layers is 5 times or more, there will be a problem in production equipment limitations and productivity, and the visible light transmittance will be low and the color tone will be inferior. Visible light transmittance decreases.
[0024]
Due to the limitations of production equipment etc., only a transparent laminate having a repetition number of 1 to 2 times can be obtained. However, when it is necessary to block stronger electromagnetic waves and near infrared rays, the number of repetitions is 3 to 4 times. A transparent laminate cannot be obtained, but when it is necessary to block stronger electromagnetic waves and near infrared rays, a display filter having two or more transparent laminates, for example, by stacking two or more of the transparent laminates, You can also
[0025]
The thickness of the metal thin film layer (C) is optically designed and experimentally determined from conductivity, optical characteristics, etc., and is not particularly limited as long as the transparent conductive layer has the required characteristics. However, if the metal thin film layer is too thick, transparency and reflectivity become a problem, so 30 nm or less is desirable. When there are a plurality of metal thin film layers, all the layers need not have the same thickness and material. For the formation of the metal thin film layer, any conventionally known method such as sputtering, ion plating, vacuum deposition, or plating can be employed.
[0026]
The transparent thin film forming the high refractive index transparent thin film layer (B) is not particularly limited as long as it has transparency in the visible range and has an effect of preventing light reflection in the visible range in the metal thin film layer. However, a high refractive index material having a refractive index with respect to visible light of 1.6 or more, preferably 1.7 or more is used. Specific materials for forming such a transparent thin film include oxides such as indium, titanium, zirconium, bismuth, tin, zinc, antimony, tantalum, cerium, neodymium, lanthanum, thorium, magnesium, gallium, or the like. Examples thereof include a mixture of oxides and zinc sulfide. These oxides or sulfides can be used as long as they do not significantly change the optical characteristics even if the stoichiometric composition of metal and oxygen or sulfur is different. Among them, zinc oxide, titanium oxide, indium oxide, tin oxide, and a mixture of indium oxide and tin oxide (ITO) have high film formation speed and adhesion to the metal thin film layer in addition to transparency and refractive index. Since it is favorable, it can be suitably used. The thickness of the high refractive index transparent thin film layer is optically designed and experimentally determined from the optical characteristics of the transparent substrate, the thickness of the thin film layer of silver or an alloy containing silver, the optical characteristics, and the refractive index of the transparent thin film layer. Although it is calculated | required and it does not specifically limit, It is preferable that they are 5 nm or more and 200 nm or less, More preferably, they are 10 nm or more and 100 nm or less. Moreover, the high refractive index transparent thin film first layer... N + 1 layer (n = 1 to 4) is not limited to the same thickness, and may not be the same transparent thin film material. For the formation of the high refractive index transparent thin film layer, any of conventionally known methods such as sputtering, ion plating, ion beam assist, vacuum deposition, and wet coating can be employed.
[0027]
In order to improve the environmental resistance of the transparent laminate, an arbitrary protective layer may be provided on the surface of the transparent conductive film to the extent that the conductivity and optical properties are not impaired. In addition, in order to improve the environmental resistance of the metal thin film layer and the adhesion between the metal thin film layer and the high refractive index transparent thin film layer, electrical conductivity and optical characteristics are improved between the metal thin film layer and the high refractive index transparent thin film layer. You may form arbitrary inorganic substance layers to such an extent that it does not impair. Specific examples of the material include copper, nickel, chromium, gold, platinum, zinc, zirconium, titanium, tungsten, tin, palladium, and the like, or an alloy composed of two or more of these materials. The thickness is preferably about 0.02 nm to 2 nm.
[0028]
In order to obtain a transparent laminate having desired optical characteristics, the transparent substrate (A) and the thin film are considered in consideration of the conductivity and environmental resistance for the electromagnetic shielding ability to be obtained, that is, the metal thin film material and thickness. Optical design using a vector method using the optical constants (refractive index, extinction coefficient) of the material, a method using an admittance diagram, etc. is performed, and the thin film material, number of layers, film thickness, etc. of each layer are determined. At this time, the light incident medium is designed as air (refractive index 1), and the visible light reflectance of the thin film forming surface is made as low as possible so as to function as an antireflection film. It is preferable to use a white, blue, or purple color that does not make the reflected color stand out. The optical constant can be measured by ellipsometry (elliptical ellipsometry) or Abbe refractometer.
In addition, film formation can be performed while controlling the number of layers, film thickness, and the like while observing optical characteristics.
[0029]
The atomic composition of the transparent conductive film formed by the above method can be measured by Auger electron spectroscopy (AES), inductively coupled plasma method (ICP), Rutherford backscattering method (RBS), or the like. The layer structure and film thickness can be measured by observation in the depth direction of Auger electron spectroscopy, cross-sectional observation using a transmission electron microscope, or the like. The film thickness is controlled by performing the film formation after clarifying the relationship between the film formation conditions and the film formation speed in advance, or by monitoring the film thickness during film formation using a crystal resonator or the like.
[0030]
The display filter of the present invention is the same as that of the present invention.Transparent conductive filmIs used as an antireflection layer. Therefore, the transparent conductive film is the outermost surface of one main surface of the display filter. However, since the transparent conductive film is inferior in scratch resistance and antifouling properties, it is preferable that the transparent conductive film be on the inner side where a person or object does not touch when it is attached to the display, that is, on the display side. When used in this way, the environmental resistance is good if there is no practical problem in the mounted state. Therefore, the evaluation is also performed with the transparent conductive film surface mounted on the inside in this way. When the transparent conductive film is excellent in environmental resistance and scratch resistance, or when it is not required, it is not limited to this, but it may be the outermost surface on the human side, but between the transparent substrate (A) and the transparent conductive film. In order to improve the scratch resistance, a later-described functional transparent layer (D) having a hard coat property is formed, or antifouling treatment is performed on the surface so as not to disturb the conductivity and optical characteristics of the transparent conductive film. Is preferred.
[0031]
In addition, if the main surface of the display filter and the display surface are used in close contact, the degree of adhesion between the display surface and the display filter varies depending on the part, and Newton rings due to the gaps generated thereby may occur. And this reduces the visibility of the display. For this reason, the functional transparent layer (D) needs to have anti-Newton ring property in the case of close contact, but if formed on the transparent conductive film, the optical properties such as antireflection properties are impaired. Therefore, when the transparent conductive film is on the display side, the display filter of the present invention needs to be mounted in parallel with a distance of 0.2 mm to 10 mm from the display surface. If the transparent conductive film is excellent in environmental resistance and scratch resistance, and is not required, this is not the case. If it is formed on the outermost surface of the display filter, the display side of the display filter A functional transparent layer (D) having an anti-Newton ring property can be formed on the surface of the display and adhered to the display surface. If it can be closely attached, it is suitable for a plasma display having an advantage of being thin.
[0032]
When a polymer film is used for the transparent substrate (A), the transparent laminate is a plate-like transparent support (E with a smooth main surface) due to problems of strength, flatness when bonded to a display, and installation method. It is desirable to use it by laminating. Bonding is performed via the adhesive (F) on the main surface of the transparent support (E) and the main surface that is not the thin film forming surface of the transparent laminate. As the transparent support (E), a transparent plastic plate is desirable in the visible range because of its mechanical strength, lightness, and resistance to cracking, but a glass plate is also preferably used because of its thermal stability with little deformation due to heat. it can. Specific examples of the plastic plate include acrylic resin such as polymethyl methacrylate (PMMA), polycarbonate resin, transparent ABS resin and the like, but are not limited to these resins. In particular, PMMA can be preferably used because of its high transparency in a wide wavelength region and high mechanical strength. The thickness of the plastic plate is not particularly limited as long as sufficient mechanical strength and rigidity to maintain flatness without bending are obtained, but it is usually about 1 mm to 10 mm. When a glass plate is used as the transparent support (E), it is desirable to use a semi-tempered glass plate or a tempered glass plate that has been subjected to chemical strengthening or air-cooling strengthening to add mechanical strength. The thickness of the plastic plate is not particularly limited as long as sufficient mechanical strength and rigidity to maintain flatness without bending are obtained. Usually, the thickness is about 1 mm to 10 mm, and it is light and difficult to break. From the viewpoint of low distortion, semi-tempered glass or tempered glass of 2 mm to 3.5 mm is preferable.
[0033]
Arbitrary transparent adhesive material (F) can be used for bonding (laminate) in the present invention. Specifically, acrylic adhesives, silicon adhesives, urethane adhesives, polyvinyl butyral adhesives (PVB), ethylene-vinyl acetate adhesives (EVA), etc., polyvinyl ether, saturated amorphous polyester, melamine resins, etc. Is mentioned. In this case, it is important that the adhesive material used in the central portion, which is a light transmitting portion from the display, needs to be sufficiently transparent to visible light. The adhesive material may be in the form of a sheet or liquid as long as it has practical adhesive strength. The pressure-sensitive adhesive can be suitably used as a pressure-sensitive adhesive. Bonding is performed by laminating each member after applying the sheet-like adhesive material or after applying the adhesive. The liquid material is an adhesive that is cured by being left at room temperature or heated after coating and bonding. Examples of the coating method include a bar coating method, a reverse coating method, a gravure coating method, a die coating method, and a roll coating method, and are selected in consideration of the type of adhesive, viscosity, coating amount, and the like. Although the thickness of an adhesive material or an adhesive bond layer is not specifically limited, It is 0.5 micrometer-50 micrometers, Preferably it is 1 micrometer-30 micrometers. It is preferable that the surface on which the adhesive material is formed and the surface to be bonded are previously improved in wettability by an easy adhesion treatment such as an easy adhesion coat or a corona discharge treatment. Furthermore, after bonding using an adhesive material, pressurize, if possible, to defoam air that has entered between the members at the time of bonding or to dissolve the air in the adhesive material and to further improve the adhesion between the members. It is important to cure under the condition of heating. At this time, the pressurizing condition is about several atmospheres to 20 atmospheres or less, and the heating condition depends on the heat resistance of each member, but is about room temperature to about 80 ° C., but is not particularly limited thereto.
The pressure-sensitive adhesive material (F) in the present invention is a transparent pressure-sensitive adhesive material, an adhesive layer, and a pressure-sensitive adhesive layer.
[0034]
Of the present inventionDisplay filterDepending on the required function, it has one or more of antireflection, antiglare, antireflection, antistatic, antistatic, hard coat, antifouling, and anti-Newton ring functions. A functional transparent layer (D) that has visible light and transmits visible light needs to be formed. When one functional transparent layer (D) has a plurality of functions, it is preferable because the number of constituent members or the number of constituent layers can be reduced to reduce process, cost, and interface reflection between members. is there.Display filterMay have a plurality of functional transparent layers (D).
[0035]
The functional transparent layer (D) according to the present invention has the functions of the functional film itself having one or more of the above functions, or a transparent substrate formed by coating or printing the functional film or various conventionally known film forming methods. It may be a transparent substrate. In the case of the functional film itself, the functional film is directly formed on the main surface of the transparent substrate (A) or transparent support (E) for forming the functional transparent layer (D) by coating or printing or various conventionally known film forming methods. In the case of a transparent substrate on which a film is formed or a transparent substrate having various functions, it may be attached to the main surface of the transparent substrate (A) or the transparent support (E) via an adhesive material (F). These production methods are not particularly limited.
[0036]
Since the display screen is difficult to see due to the reflection of lighting fixtures etc. on the display, the other main surface on which the transparent conductive film that is also an antireflection film is not formed, that is, when the display filter is installed on the human side, that is, when it is worn Functionality having anti-reflection (AR: anti-reflection) or anti-glare (AG: anti-glare) or anti-reflection / anti-glare (ARAG) properties to suppress external light reflection on the surface opposite to the display body It is necessary to form a transparent layer (D). Further, the suppression of reflection and reflection of external light by AR or ARAG can improve the light transmittance of the display filter.
[0037]
The functional transparent layer (D) having antireflection properties determines the components of the antireflection film and the film thickness of each component by the optical design as described above in consideration of the optical characteristics of the substrate on which the antireflection film is formed. To do. Specifically, a fluorine-containing transparent polymer resin, magnesium fluoride, a silicon-based resin, a silicon oxide thin film, or the like having a refractive index of 1.5 or less, preferably 1.4 or less in the visible region is used. Single layer formed with optical film thickness of 4 wavelengths, different refractive index, metal oxide, fluoride, silicide, boride, carbide, nitride, sulfide and other inorganic compounds or silicon-based resins and acrylic resins, There is a thin film of an organic compound such as a fluorine-based resin in which two or more layers are laminated in the order of a high refractive index layer and a low refractive index layer when viewed from the substrate. A single layer formed is easy to manufacture, but the antireflection property is inferior to that of a multilayer stack. A laminate of four layers has antireflection properties over a wide wavelength region, and there are few optical design restrictions due to the optical characteristics of the substrate. For the formation of these inorganic compound thin films, any of conventionally known methods such as sputtering, ion plating, vacuum deposition, and wet coating can be employed. A conventionally known method such as wet coating can be employed for forming the organic compound thin film.
[0038]
The functional transparent layer (D) having an antiglare property is a layer transparent to visible light having a minute uneven surface state of about 0.1 μm to 10 μm. Specifically, acrylic resin, silicon resin, melamine resin, urethane resin, alkyd resin, thermosetting resin such as fluorine resin, photocurable resin, silica, organic silicon compound, melamine, acrylic, etc. Inorganic particles or organic compound particles dispersed in an ink are coated and cured on a substrate by a bar coating method, a reverse coating method, a gravure coating method, a die coating method, a roll coating method or the like. The average particle diameter of the particles is 1 to 40 μm. Alternatively, a thermosetting or photocurable resin such as an acrylic resin, silicon resin, melamine resin, urethane resin, alkyd resin, or fluorine resin is applied to the substrate, and the mold having the desired haze is pressed and cured. By doing so, the antiglare ability can be obtained. Furthermore, the antiglare property can also be obtained by treating the substrate with a chemical agent such as etching a glass plate with hydrofluoric acid or the like. In this case, the haze can be adjusted by the processing time and the etching property of the chemical. In short, it is important to have appropriate irregularities and is not necessarily limited to the above method. The haze of the functional transparent layer (D) having antiglare properties is 0.5% or more and 20% or less, preferably 1% or more and 10% or less. When the haze is too small, it is insufficient, and when the haze is too large, the parallel light transmittance is lowered, and the visibility of the display is deteriorated.
[0039]
When the display filter is mounted apart from the display main body without being adhered, if the haze is too large, blur due to image diffusion may occur. In this case, it is important to select a haze that maintains anti-glare properties and does not blur the image even if it is separated from the display by an appropriate distance.
[0040]
The functional transparent layer (D) having anti-Newton ring (AN) property has the surface state of minute irregularities of about 0.1 μm to 10 μm in the same manner as the functional transparent layer (D) having anti-glare property. It is a layer transparent to visible light, and its production method is also the same. The layer having anti-Newton ring properties has anti-glare properties.
[0041]
The functional transparent layer (D) having antireflection antiglare property can be obtained by forming the above-described antireflection film on a film having antiglare property or a substrate. At this time, when the antiglare film is a high refractive index film, a relatively high antireflection property can be imparted even if the antireflection film is a single layer. Similarly, it can have anti-Newton ring property.
[0042]
Display filterIn order to add scratch resistance, the surface of the display filter, especially the human side surface and the transparent laminate, do not impair the characteristics of the display filter, including the optical characteristics, between the transparent substrate (A) and the transparent conductive film. You may form the functional transparent layer (D) which has a hard-coat property to such an extent. Examples of the hard coat film include thermosetting or photocurable resins such as acrylic resins, silicon resins, melamine resins, urethane resins, alkyd resins, and fluorine resins. There is no particular limitation. The thickness of these films is about 1 to 100 μm. The functional transparent layer (D) in which the hard coat film is used for a high refractive index layer or a low refractive index layer of the transparent functional layer (D) having antireflection properties, or an antireflection film is formed on the hard coat film. May have both antireflection properties and hard coat properties. In addition, it is preferable to consider the refractive index of the hard coat film in the antireflection design of the transparent laminate. Similarly, it may have both anti-Newton ring properties and / or antiglare properties and hard coat properties. In this case, it is sufficient that the hard coat film has irregularities such as particles dispersed, and if an antireflection film is formed thereon, a functional transparent layer having both an antireflection antiglare property and a hard coat property. (D) is obtained.
[0043]
Further, the display filter is likely to be attached with dust due to electrostatic charging, and may be subjected to an electric shock when discharged by contact with a human body, so that an antistatic treatment may be required. Therefore, in order to impart antistatic ability to the display filter, a conductive layer may be provided as a functional transparent layer (D) having antistatic ability on the surface of the optical filter. The electrical conductivity required in this case is a sheet resistance of 1011It should be about Ω / □ or less, but it should not impair the transparency and resolution of the display screen. Examples of the conductive layer include known transparent conductive films such as ITO, and conductive films in which conductive ultrafine particles such as ITO ultrafine particles and tin oxide ultrafine particles are dispersed.
[0044]
In addition, a conductive film is formed during the construction of the functional transparent layer (D) having any one or more of the above-described antireflection properties, antiglare properties, antireflection antiglare properties, hard coat properties, and anti-Newton ring properties. It is preferable to have
For example, as a functional transparent layer (D) having chromaticity correcting ability and having antireflection properties, hard coat properties, and antistatic properties, a dye-containing polyethylene terephthalate film / hard coat film / ITO / silicon-containing compound / ITO As the functional transparent layer (D) having antireflection antiglare property, anti-Newton ring property, hard coat property, and antistatic property, ITO fine particle dispersed hard coat film / silicon compound Compound, triacetyl cellulose film / ITO fine particle-dispersed hard coat film / silicon-containing compound compound, and the like.
[0045]
Further, the surface of the display filter may be imparted with antifouling property so that it can be easily removed when it is smudged or smudged. For this purpose, a functional transparent layer (D) having at least antifouling properties is formed on the outermost surface of the display filter. As for what has antifouling property, it has non-wetting property with respect to water and / or fats and oils, for example, a fluorine compound and a silicon compound are mentioned. When combined with other functions such as antireflection and antistatic properties, the functions should not be hindered. In this case, anti-reflective properties and anti-static properties are maintained by using a fluorine compound with a low refractive index as the constituent material of the anti-reflective film, or by coating the outermost surface with one or more fluorinated organic molecules. In addition, antifouling properties can be imparted. For example, as the functional transparent layer (F) having antifouling property, antireflection property, hard coat property, antistatic property, gas barrier property, hard coat film / ITO / silicon-containing compound / ITO / silicon-containing compound / fluorine type Examples thereof include a monomolecular coat film of organic molecules.
[0046]
As the functional transparent layer (D), a functional transparent layer (D) composed of one or several fluorine-based organic molecules, or a protective layer (barrier layer) having a transparent conductive thin film such as an ITO thin film with an appropriate optical film thickness. Other than that, it is not formed on the transparent conductive film of the transparent laminate and / or display filter of the present invention. Since the transparent conductive film of the present invention is excellent in antireflection properties and conductivity, a layer that prevents it is not formed.
[0047]
Multilayer thin films generally have poor transmission color tone when the visible light transmittance and the visible light reflectance are emphasized. The transmitted color of the display filter greatly affects the color tone, contrast, etc. of the display, especially green is unsuitable, and since the blue light emission of the plasma display is weaker than the green and red light emission, neutral gray or neutral blue It is required to be.
[0048]
As the total film thickness of the metal thin film increases, the color tone of the multilayer thin film tends to become green to yellow-green, which lowers the color purity and contrast of the display emission color. In particular, when silver is used for the metal thin film, the green color becomes stronger as the silver thin film layer is made thicker in order to obtain high conductivity and near-infrared cutting ability. In order to improve the environmental resistance of the multilayer thin film, if the metal thin film layer is made of, for example, an alloy of gold and silver instead of silver, the profile of the transmission spectrum becomes narrow due to absorption in the visible short wavelength region of gold. ~ The tendency to become yellowish green becomes strong. When trying to match the transmitted colors, the reflectance and the reflected color may become inappropriate. By increasing the number of layers, the visible light reflectance can be emphasized and the profile can be made green so that it does not have an extreme peak. However, especially when the total thickness of the metal thin film is thick, the visible region is still visible. Due to the weak antireflection of the metal thin film layer in the short wavelength region and the long wavelength region, the transmission in this region is lower than the transmission of green to yellow-green, and the transmitted color is green to yellow-green with high visibility.
[0049]
In other words, a multilayer thin film suitable for use as a filter for a plasma display is required to have high conductivity and low near-infrared transmittance. Therefore, the chromaticness index a of the transmission color hunter has a negative value, and the chromaticness index b tends to have a positive value, that is, green to yellowish green.
[0050]
Accordingly, it is important to appropriately provide a chromaticity correction layer, cancel the transmitted color of the transparent conductive film with a complementary color, and set the display filter to a suitable neutral gray or neutral blue. That is, if the transmission color of the display filter is a close to 0 and b close to 0 or less than 0, the color is neutral gray or blue gray. However, if the transparent conductive film is made a value that is very close to 0 for both a and b by the chromaticity correction layer, or if b is extremely negative, the transmittance of the display filter is greatly impaired, and the brightness of the display is consequently reduced. Reduce. Further, if a is corrected to a certain positive value, the transmittance is lowered, and the optical filter is tinged with red and unfriendly to the eyes. Since the plasma display emits the strongest red light, the red transmittance may be less than the blue and green transmittances.
[0051]
That is, a display filter characterized in that the transmission color a is in the range of −8 to 2 and b is in the range of −8 to 5 is excellent in transmittance and color tone for plasma display applications. It is excellent in maintaining or improving the color purity and contrast of the emitted color without significantly reducing the luminance.
[0052]
Furthermore, a display filter characterized in that the transmission color a is in the range of -5 to 0 and b is in the range of -6 to 2, and is excellent in transmittance and color tone for plasma display applications. The light emission luminance is not significantly reduced, and it is further excellent in maintaining or improving the color purity and contrast of the emitted color.
Furthermore, the transparent conductive film has sufficient electromagnetic shielding ability and near-infrared cutting ability to be used for plasma displays, and in order to prevent a significant decrease in transmittance due to a large amount of chromaticity correction, When a is required to be −18 to −0.5 and b is −2 to 12, and the requirements for electromagnetic wave shielding ability and near-infrared cutting ability are low, and it is desired to further emphasize transmittance and color tone, It is preferable that the transparent color a of the transparent conductive film is -13 to -1, and b is 0 to 10.
[0053]
The chromaticity correction layer may be a complementary color of the transparent conductive film, and the green to green-yellow to yellow of the transparent conductive film needs to have a positive value for red to purple to blue, that is, the transmitted color a. b is preferably a negative value. The range of the transmitted color is the transmittance / transmitted color (chromaticness index a, b) of the optical filter having the transmittance / transmitted color to be obtained, and the transparency having the required electromagnetic wave shielding ability / near infrared cutting ability. What is necessary is just to determine in consideration of the transmittance | permeability and color tone (chromaticness index a, b) of an electrically conductive film. That is, the transmitted color a of the chromaticity correction layer may be 2 to 18, and b may be -20 to 2.
[0054]
Further, when importance is attached to the transmittance, the requirements for electromagnetic wave shielding ability and near-infrared cutting ability are low, and the transparent color a of the transparent conductive layer is -13 to -1, and b is 0 to 10, chromaticity correction It is sufficient that the transparent color a of the layer is 1 to 10 and b is -10 to 0.
[0055]
As the chromaticity correction layer, (1) a plastic plate or polymer film in which at least one organic dye having an absorption wavelength in the visible region is kneaded with a transparent resin, and (2) an absorption wavelength in the visible region. At least one or more types of organic dyes, a plastic plate or polymer film prepared by dispersing and dissolving in a resin or a resin thick resin / resin monomer / organic solvent, and (3) an organic dye having an absorption wavelength in the visible region At least one kind added to a resin binder and an organic solvent to form a paint and coated on a transparent substrate, (4) a transparent containing at least one kind of organic dye having an absorption wavelength in the visible region One or more of an adhesive material and (5) colored glass containing metal ions or colloids can be selected.
The term “inclusion” as used in the present invention means that it is contained in a layer such as a base material or a coating film or an adhesive material, and of course, is applied to the surface of the base material or layer.
[0056]
The organic dye may be a general dye or pigment having an absorption wavelength in the visible region, and the kind thereof is not particularly limited, and examples thereof include commercially available organic dyes such as anthraquinone and phthalocyanine. The type and concentration are determined by the absorption wavelength and absorption coefficient of the organic dye, the color tone of the transparent conductive layer and the color tone and visible light transmittance required for the display filter, and the type and thickness of the medium or coating to be dispersed. It is not particularly limited. Two or more organic dyes having different absorption wavelengths in the visible region may be contained in one medium or coating film.
[0057]
Since a multilayer thin film is used for the transparent conductive film, it has a near infrared ray cutting ability in addition to the electromagnetic wave shielding ability, but when a higher near infrared ray cutting ability is required, one or more kinds of near infrared absorbing dyes are used as the dye. May be used together. The near-infrared absorbing dye is not particularly limited as long as it compensates for the near-infrared cutting ability of the transparent conductive layer and absorbs the near-infrared light emitted by the plasma display to a sufficiently practical level. Is not limited.
The dye as referred to in the present invention refers to a trace amount containing the above-mentioned organic dye and colored glass.
[0058]
The forms (1) to (5) of the chromaticity correction layer include a transparent substrate (A) containing a dye, a transparent support (E) containing a dye, an adhesive (F) containing a dye, Any one or more forms of the functional transparent layer (D) containing a dye can be used for the display filter of the present invention. Two or more combinations of the above forms may be combined into a chromaticity correction layer.
[0059]
The functional transparent layer (D) described later containing a dye is a film containing a dye and having each function, even if a film containing a dye and having each function is formed on a transparent molded product, A film having a function may be formed on a transparent molded product containing a pigment. Examples of the transparent molded product containing a pigment include a transparent plastic plate, a transparent polymer film, and glass.
[0060]
First, in the method of (1) in which a pigment is kneaded into a resin and heat-molded, the resin material is preferably as transparent as possible when it is made into a plastic plate or a polymer film. Specific examples include polyethylene terephthalate, Polyethersulfone, polystyrene, polyethylene naphthalate, polyarylate, polyetheretherketone, polycarbonate, polyethylene, polypropylene,
[0061]
The preparation method varies slightly depending on the dye and base polymer used, but the processing temperature, filming conditions, etc. are slightly different. Usually, (i) the dye is added to the base polymer powder or pellet and heated to 150-350 ° C. , A method of forming a plastic plate by dissolving after being dissolved, (ii) a method of forming a film with an extruder, (iii) preparing an original fabric with an extruder, 2 to 5 times at 30 to 120 ° C, Examples thereof include a method of stretching uniaxially or biaxially to form a film having a thickness of 10 to 200 μm. When kneading, an additive used for ordinary resin molding such as a plasticizer may be added. The addition amount of the dye varies depending on the absorption coefficient of the dye, the thickness of the polymer molded body to be produced, the target absorption strength, the target visible light transmittance, etc., but is usually 1 ppm to the weight of the base polymer molded body. 20%.
[0062]
The casting method (2) requires adding and dissolving a dye in a resin concentrate obtained by dissolving a resin or resin monomer in an organic solvent, and adding a plasticizer, a polymerization initiator, and an antioxidant if necessary. The plastic plate and the polymer film are obtained by pouring onto a mold or drum having a surface state as follows, and solvent evaporation / drying or polymerization / solvent evaporation / drying. Usually, aliphatic ester resins, acrylic resins, melamine resins, urethane resins, aromatic ester resins, polycarbonate resins, aliphatic polyolefin resins, aromatic polyolefin resins, polyvinyl resins, polyvinyl alcohol resins, polyvinyl modified resins ( PVB, EVA, etc.) or a resin monomer of a copolymer resin thereof is used.
[0063]
As the solvent, a halogen-based, alcohol-based, ketone-based, ester-based, aliphatic hydrocarbon-based, aromatic hydrocarbon-based, ether-based solvent, or a mixture thereof is used.
[0064]
The concentration of the dye varies depending on the absorption coefficient of the dye, the thickness of the plate or film, the target absorption intensity, the target visible light transmittance, and the like, but is usually 1 ppm to 20% with respect to the weight of the resin monomer.
The resin concentration is usually 1 to 90% with respect to the entire paint.
[0065]
The method of coating and coating (3) is a method in which a pigment is dissolved in a binder resin and an organic solvent to form a coating, or a pigment that has been finely pulverized (50 to 500 nm) in an uncolored acrylic emulsion paint is dispersed. And an acrylic emulsion-based water-based paint. In the former method, usually, an aliphatic ester resin, an acrylic resin, a melamine resin, a urethane resin, an aromatic ester resin, a polycarbonate resin, an aliphatic polyolefin resin, an aromatic polyolefin resin, a polyvinyl resin, a polyvinyl alcohol resin, Polyvinyl modified resins (PVB, EVA, etc.) or copolymer resins thereof are used as the binder resin.
As the solvent, a halogen-based, alcohol-based, ketone-based, ester-based, aliphatic hydrocarbon-based, aromatic hydrocarbon-based, ether-based solvent, or a mixture thereof is used.
[0066]
The concentration of the dye varies depending on the absorption coefficient of the dye, the thickness of the coating, the target absorption intensity, the target visible light transmittance, and the like, but is usually 0.1 to 30% with respect to the weight of the binder resin.
[0067]
Moreover, binder resin density | concentration is 1-50% normally with respect to the whole coating material. Similarly, in the case of an acrylic emulsion water-based paint, it can be obtained by dispersing a finely pulverized pigment (50 to 500 nm) in an uncolored acrylic emulsion paint. In the coating material, additives such as antioxidants used in ordinary coating materials may be added.
[0068]
The coating material produced by the above method has a conventionally known coating such as a bar coder, blade coater, spin coater, reverse coater, die coater, or spray on a transparent polymer film, transparent resin, transparent glass, etc. A substrate containing a dye is prepared.
[0069]
A protective layer may be provided to protect the coating surface, or other components of the optical filter may be bonded to the coating surface so as to protect the coating surface. Adhesives (4) containing a pigment are acrylic adhesives, silicone adhesives, urethane adhesives, polyvinyl butyral adhesives (PVB), ethylene-vinyl acetate adhesives (EVA), etc., polyvinyl ether, saturated A pigment is added to 10 ppm to 30% of a sheet-like or liquid pressure-sensitive adhesive material or adhesive such as amorphous polyester or melamine resin. It is only necessary to disperse and dissolve the organic dye in the solvent of the adhesive at the time of production. Examples of the solvent include halogen-based, alcohol-based, ketone-based, ester-based, aliphatic hydrocarbon-based, aromatic hydrocarbon-based, ether A system solvent or a mixture system thereof can be used, but is not particularly limited. Further, the concentration is not particularly limited, and varies depending on the absorption coefficient of the dye, the thickness of the adhesive material, the target absorption strength, the target visible light transmittance, etc., but it is 10 in the adhesive layer after coating and drying. It may be about (wt) ppm to 30 (wt)%. The pressure-sensitive adhesive material (F) containing this pigment can be used for bonding each member of the display filter.
[0070]
The colored glass (5) is a colored glass, a blue-blue-green-yellow-green colored glass containing transition metal ions such as cobalt, copper, chromium, etc., a red colored glass containing gold, selenium colloid, and metal sulfide. A brown colored glass containing a product colloid is exemplified. The color tone / darkness varies depending on the type and content of the trace amount selected, the glass composition, the melting temperature, and the melting atmosphere, but these conditions are the color tone of the transparent conductive layer and the color tone / visible light transmission required for the optical filter. It is determined from the rate and is not particularly limited.
[0071]
In order to increase the light resistance of the dye-containing display filter, a transparent film (UV cut film) containing an ultraviolet absorber can be attached, or an ultraviolet absorber can be contained together with the pigment. The type and concentration of the ultraviolet absorber are not particularly limited.
[0072]
For devices that require electromagnetic shielding, a metal layer is provided inside the device case, or a radio wave is blocked by using a conductive material for the case. When transparency is required as in a display, a window-shaped display filter having a transparent conductive film is provided. Since the electromagnetic wave induces an electric charge after it is absorbed in the conductive layer, if the electric charge is not released by taking the ground, the electromagnetic wave shielding body again becomes an antenna to oscillate the electromagnetic wave and the electromagnetic wave shielding ability is lowered. Accordingly, it is necessary that the display filter provided with the electromagnetic wave shielding property and the conductive portion inside the case of the display main body are in ohmic contact.
[0073]
In order to improve electrical contact, an electrode is formed on the transparent conductive film. The electrode shape is not particularly limited, but it is important that there is no gap through which electromagnetic waves leak between the optical filter and the device. Therefore, it is preferable to form electrodes continuously on the transparent conductive film and on the peripheral edge. That is, an electrode including a flat metal is formed in a frame shape except for a central portion which is a light transmission portion from the display. The surface on which the electrode is formed is determined by the ground position of the display set and / or the direction in which the display filter is attached, and may be the surface on the human side or the surface on the display side when installed.
[0074]
The materials used for the electrodes are single or two kinds such as silver, gold, copper, platinum, nickel, aluminum, chromium, iron, zinc, carbon, etc. from the viewpoint of conductivity, contact resistance and adhesion to the transparent conductive film. An alloy made of the above, a synthetic resin and a single substance or a mixture of these alloys, or a paste made of borosilicate glass and a single substance or a mixture of these alloys can be used. For the electrode formation, a conventionally known method such as a plating method, a vacuum evaporation method, a sputtering method, a paste method, or a printing or coating method can be employed. Moreover, a commercially available conductive tape can also be used conveniently. The thickness of the electrode is not particularly limited, but is about several μm to several mm.
[0075]
Even if no electrode is formed, the optical filter of the present invention is excellent in color tone and near-infrared cutability, and therefore can be suitably used as an ND filter or a near-infrared cut filter.
The display filter of the present invention may be subjected to arbitrary frame printing so that the mounting jig, the electrode portion and the like are not visible to the viewer when mounted on the display. The printing shape, printing surface, printing color, and printing method are not particularly specified. Further, processing such as hole processing and corner processing for mounting on the display may be performed.
[0076]
Of the present inventionDisplay filterSince it is characterized by antireflection and environmental resistance, it is not necessary to provide a protective layer on the transparent conductive film, and it is not necessary to provide a functional transparent layer (D) having antireflection properties. Therefore, the display filter of the present invention is mainly used in the following configuration.
[0077]
When the structure of the transparent laminate is a transparent conductive film / transparent substrate (A)
(1) Transparent conductive film / transparent substrate (A) / functional transparent layer (D)
(2) Transparent conductive film / transparent substrate (A) / adhesive material (F) / functional transparent layer (D)
(1) is a case where a functional transparent layer is directly formed on the back surface of the transparent substrate (A), and (2) is a case where the transparent substrate (A) is bonded via an adhesive (F).
[0078]
When using a transparent support (E)
(3) Transparent conductive film / transparent substrate (A) / adhesive material (F) / transparent support (E) / functional transparent layer (D)
(4) Transparent conductive film / transparent substrate (A) / adhesive material (F) / transparent support (E) / adhesive material (F) / functional transparent layer (D)
(3) is a case where a functional transparent layer is directly formed on the back surface of the transparent support (E), and (4) is a case where the transparent support (E) is bonded via an adhesive (F).
[0079]
Even if the structure of the transparent laminate is transparent conductive film / functional transparent layer (D) / transparent substrate (A), transparent conductive film / transparent substrate (A) / functional transparent layer (D), It may be transparent conductive film / functional transparent layer (D) / transparent substrate (A) / functional transparent layer (D). Moreover, you may provide the functional transparent layer (D) which does not disturb the electroconductivity and antireflection property on a transparent conductive film as mentioned above. In this case, the barrier layer made of the antifouling coating layer or the transparent conductive thin film can be used.
[0080]
Of the present inventionDisplay filterIs excellent in environmental resistance and anti-reflective properties, and also has excellent electromagnetic shielding ability to block electromagnetic waves that are said to be harmful to health generated from plasma displays,Plasma displaySince near-infrared rays in the vicinity of 800 to 1000 nm are efficiently cut, the wavelength used by the remote control of peripheral electronic devices, transmission optical communication, etc. is not adversely affected, and malfunctions thereof can be prevented.Also,Can be manufactured at low cost, in addition to electromagnetic wave shielding ability and near infrared ray cutting ability, excellent weather resistance / environment resistance, anti-reflection and / or anti-glare property, anti-Newton ring property, scratch resistance, anti-fouling property, anti-static property It has sex and so on.
[0081]
【Example】
Next, the present invention will be specifically described with reference to examples. The present invention is not limited by these.
In the examples and comparative examples, the transparent conductive film of the transparent laminate was formed on one main surface of the substrate by magnetron DC sputtering. The thickness of the thin film is a value obtained from the film forming conditions, and is not an actually measured film thickness.
[0082]
The ITO thin film, which is the high refractive index thin film layer (B), has an indium oxide / tin oxide sintered body (composition ratio In) as a target.2OThree: SnO2= 90: 10 wt%)) using a mixed gas of argon and oxygen (total pressure 266 mPa: oxygen
SnO which is a high refractive index thin film layer (B)2The thin film was formed using a tin oxide sintered body as a target and an argon / oxygen mixed gas (total pressure 266 mPa: oxygen
[0083]
A silver thin film, which is a thin film layer (C) of silver or an alloy containing silver, was formed using silver as a target and argon gas (total pressure 266 mPa) as a sputtering gas.
A silver-palladium alloy thin film, which is a thin film layer (C) of silver or an alloy containing silver, was formed using a silver-palladium alloy (
A silver-gold alloy thin film, which is a thin film layer (C) of silver or an alloy containing silver, was formed using a silver-gold alloy (
[0084]
[Example 1]
A biaxially stretched polyethylene terephthalate (hereinafter referred to as PET) film (thickness: 75 μm) is used as a transparent substrate (A). ), ITO thin film (film thickness: 80 nm), silver thin film (film thickness: 13 nm), ITO thin film (film thickness: 80 nm), silver-gold alloy thin film (film thickness: 14 nm), ITO thin film (film thickness: 80 nm), A total of 9 layers of the transparent laminate of the present invention were produced, including a silver-gold alloy thin film (film thickness: 14 nm) and an ITO thin film (film thickness: 45 nm).
[0085]
[Comparative Example 1]
A PET film (thickness: 75 μm) as a transparent substrate (A), on one main surface thereof, in order from the PET film, an ITO thin film (film thickness: 45 nm), a silver thin film (film thickness: 10 nm), an ITO thin film (film thickness: 80 nm), silver thin film (film thickness: 17 nm), ITO thin film (film thickness: 80 nm), silver-gold alloy thin film (film thickness: 16 nm), ITO thin film (film thickness: 80 nm), silver-gold alloy thin film (film thickness) : 9 nm) and a total of 9 transparent laminates of ITO thin film (film thickness: 45 nm) were produced.
[0086]
[Comparative Example 2]
A PET film (thickness: 75 μm) as a transparent substrate (A), on one main surface thereof, in order from the PET film, an ITO thin film (film thickness: 45 nm), a silver thin film (film thickness: 10 nm), an ITO thin film (film thickness: 80 nm), silver thin film (film thickness: 13 nm), ITO thin film (film thickness: 80 nm), silver thin film (film thickness: 13 nm), ITO thin film (film thickness: 80 nm), silver thin film (film thickness: 14 nm), ITO thin film A total of 9 layers of the transparent laminate of the present invention (film thickness: 45 nm) were produced.
[0087]
[Example 2]
A PET film (thickness: 75 μm) as a transparent substrate (A) has an ITO thin film (film thickness: 40 nm), a silver-palladium alloy thin film (film thickness: 10 nm), an ITO thin film (in order from the PET film) on one main surface. 7 layers in total: film thickness: 80 nm, silver thin film (film thickness: 14 nm), ITO thin film (film thickness: 80 nm), silver-palladium alloy thin film (film thickness: 13 nm), ITO thin film (film thickness: 40 nm) A transparent laminate of the invention was prepared.
FIG. 1 shows a cross-sectional view showing an example of the transparent laminate of the present invention.
[0088]
[Comparative Example 3]
A PET film (thickness: 75 μm) is used as a transparent substrate (A), and an ITO thin film (film thickness: 40 nm), a silver thin film (film thickness: 9 nm), an ITO thin film (film thickness: A total of seven transparent laminates were prepared: 75 nm), silver thin film (film thickness: 13 nm), ITO thin film (film thickness: 75 nm), silver thin film (film thickness: 14 nm), and ITO thin film (film thickness: 40 nm).
[0089]
[Example 3]
Using a PET film (thickness: 75 μm) as a transparent substrate (A), a coating liquid obtained by hydrolyzing alkoxysilane with glacial acetic acid and adding a silicone-based surface smoothing agent to one main surface is applied with a gravure coater. Work ・ Dye-containing hard coat film (film thickness: 5 μm, pencil hardness: 3H) is formed by thermosetting at 120 ° C., and ITO thin film (film thickness: 40 nm) and silver-palladium alloy thin film (film thickness) in that order. : 8 nm), ITO thin film (film thickness: 80 nm), silver-palladium alloy thin film (film thickness: 12 nm), ITO thin film (film thickness: 40 nm), and a hard coat film containing a dye as the functional transparent layer (D) A total of 5 layers of the transparent laminate of the present invention were prepared.
[0090]
[Comparative Example 4]
In order from the PET film, an ITO thin film (film thickness: 35 nm), a silver thin film (film thickness: 8 nm), an ITO thin film (film thickness: 75 nm), a silver thin film (film thickness: 13 nm), and an ITO thin film (film thickness: 40 nm) were used. Except for the above, a transparent laminate having a total of 5 layers having a hard coat film containing a dye was produced in the same manner as in Example 3.
[0091]
[Example 4]
Air-cooled tempered glass (thickness: 2.8 mm) as a transparent substrate (A), on one main surface thereof, in order from the glass ITO thin film (film thickness: 40 nm), silver-gold alloy thin film (film thickness: 10 nm), The transparent laminated body of this invention of a total of 3 layers of ITO thin film (film thickness: 45 nm) was produced.
[0092]
[Comparative Example 5]
Air-cooled tempered glass (thickness: 2.8 mm) as a transparent substrate (A), on one main surface thereof, in order from the glass ITO thin film (film thickness: 40 nm), silver-gold alloy thin film (film thickness: 13 nm), A total of three transparent laminates of ITO thin films (film thickness: 40 nm) were produced.
[0093]
Moreover, the filter for displays of the following Examples and Comparative Examples was produced using the transparent laminated body of the said Example and Comparative Example.
The method for obtaining the visible light reflectance (Rvis) of one surface of the antireflection film is to first cut out a small side of the measurement object, roughen the surface on which the antireflection film is not formed with sandpaper, and then matte Black reflection is used to eliminate reflection on this surface, and the total light reflectance in the visible region is measured with a spectrophotometer (U-3400) manufactured by Hitachi, Ltd. using a reflection integrating sphere (
[0094]
[Example 5]
Dye MS-Red-G made by Mitsui Chemicals Co., Ltd. and dye PS-Violet-RC made by Mitsui Chemicals Co., Ltd. were dispersed and dissolved in a solvent of ethyl acetate / toluene (50:50 wt%) to prepare a diluted solution of an acrylic adhesive. In the state where the acrylic pressure-sensitive adhesive / pigment-containing diluted solution (80:20 wt%) was mixed, the respective concentrations were adjusted to 350 (wt) ppm and 600 (wt) ppm. The prepared pigment was coated on a release film with a acrylic comma-seated / diluted liquid comma coater to a dry film thickness of 25 μm, then dried, laminated with a release film on the adhesive surface, and the pigment sandwiched between the release films An adhesive material (F) (adhesive material 1) containing
[0095]
A photopolymerization initiator is added to one main surface of a triacetyl cellulose (hereinafter TAC) film (thickness: 80 μm) and a photopolymerization initiator is added to the polyfunctional methacrylate resin. A fluorine-containing organic compound solution is coated on a microgravure coater, dried at 90 ° C. and thermally cured to form an antireflective film (thickness: 100 nm) with a refractive index of 1.4, and then a hard coat The
As the transparent support (D), air-cooled tempered glass having a thickness of 3 mm and 1000 mm × 600 mm was used.
[0096]
The adhesive 1 containing the pigment sandwiched between the roll-shaped release films is continuously applied to the surface of the roll-shaped Example 1 where the thin film of the transparent laminate is not formed, while peeling the release film on one side. Were laminated (bonded) to obtain a roll of transparent conductive film / PET film / dye-containing adhesive / release film. This was laminated on one main surface of the air-cooled tempered glass while peeling the release film. Furthermore, the
Further, a silver paste (MSP-600F manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) is screen-printed on the peripheral portion of the exposed conductive portion and a width of 22 mm, and dried to form an electrode having a thickness of 15 μm. A filter was prepared.
As a plan view showing an example of the display filter of the present invention, a plan view seen from the electrode forming surface is shown in FIG.
The cross section of Example 5 is shown in FIG. 3 as a cross sectional view showing an example of the display filter of the present invention.
[0097]
[Comparative Example 6]
A display filter was produced in the same manner as in Example 5 except that the transparent laminate of Comparative Example 1 was used as the transparent laminate.
[0098]
[Example 6]
Similarly, the pressure-sensitive
As a transparent support (E) containing a dye, a polymethyl methacrylate (hereinafter referred to as PMMA) plate having a thickness of 3 mm produced by a casting method by adding an organic dye and an ultraviolet absorber was obtained. The pigments contained in the PMMA plate are 1.7 (wt) ppm and 4.2 (wt) ppm for MS-Red-G and PS-Violet-RC, respectively. On one of the main surfaces, a coating solution in which a photopolymerization initiator is added to a polyfunctional methacrylate resin and organic silica fine particles (average particle size: 15 μm) are dispersed is applied and UV-cured by a dipping method to prevent anti-glare. An anti-glare layer (film thickness: 2 μm) is formed as a functional transparent layer (D) having the properties (haze value of haze meter measurement: 2%) and hard coat properties (pencil hardness: 2H), with an anti-glare of 1000 mm × 600 mm A PMMA plate was prepared.
A roll-shaped transparent laminate with an adhesive was laminated on the surface of the PMMA plate where the antiglare layer was not formed while peeling the release film.
Further, a silver paste was screen-printed and dried in the same manner as in Example 5 to form an electrode having a thickness of 15 μm, thereby producing a display filter of the present invention.
The cross section of Example 6 is shown in FIG. 4 as a cross sectional view showing an example of the display filter of the present invention.
[0099]
[Example 7]
Similarly, the pressure-sensitive
As the transparent support (D), chemically tempered glass having a thickness of 3 mm and 1000 mm × 600 mm was used. One main surface of the chemically tempered glass was coated with a solution of tetraethyl orthosilicate / ethanol / water (weight ratio 1: 20: 4) by adding a small amount of ammonia as a catalyst, followed by coating by dipping (precise lifting). An antireflection film was formed as a functional transparent layer (D) having antireflection properties (Rvis on one side of the antireflection film surface: 0.7%) by baking at 0 ° C., thereby obtaining an AR glass.
[0100]
A transparent laminate with an adhesive material was laminated on the surface of the AR glass where the antireflection film was not formed, in the same manner as in Example 5.
Further, a silver paste was screen-printed and dried in the same manner as in Example 5 to form an electrode having a thickness of 15 μm, thereby producing a display filter of the present invention.
The cross section of Example 7 is shown in FIG. 5 as a cross sectional view showing an example of the display filter of the present invention.
[0101]
[Example 8]
A coating liquid in which a silicone-based surface smoothing agent is added to one main surface of a PET film (thickness: 100 μm) hydrolyzed with alkoxysilane with glacial acetic acid is coated with a gravure coater and thermally cured at 120 ° C. A hard coat film (film thickness: 5 μm) is formed, on which an ITO thin film (film thickness: 70 nm), SiO2A two-layer antireflection film is formed by sputtering in the order of thin film (film thickness: 90 nm), hard coat property (pencil hardness: 3H), antireflection property (Rvis on one side of antireflection film surface: 0.8%) Antistatic property (surface resistance: 2 × 10FiveΩ / □), an
[0102]
In the same manner as in Example 5, the
Further, a silver paste was screen-printed and dried in the same manner as in Example 5 to form an electrode having a thickness of 15 μm, thereby producing a display filter of the present invention.
The cross section of Example 8 is shown in FIG. 6 as a cross sectional view showing an example of the display filter of the present invention.
[0103]
[Comparative Example 7]
A display filter was produced in the same manner as in Example 8 except that the transparent laminate of Comparative Example 5 was used as the transparent laminate.
[0104]
Environmental resistance of the transparent laminates of the present invention of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 5 produced as described above, visible light reflectance of the transparent conductive film surface, surface resistance, Example 5 The visible light transmittance, transmission chromaticity, visible light reflectance, near-infrared transmittance, and image characteristics when mounted on a plasma display of the display filter of the present invention of -8 and the display filter of Comparative Examples 6-7 are as follows: The method was evaluated.
[0105]
1) Environmental resistance of transparent laminates
In Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 5, the transparent laminate was cut out to 300 mm × 300 mm, and the outer dimension was 300 mm × 300 mm and a stainless steel frame having a thickness of 50 mm (
[0106]
2) Visible light reflectance (Rvis) of transparent laminate
In Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 5, after the surface on which the transparent conductive film is not formed is roughened with sandpaper, matte black spraying is performed to eliminate reflection on this surface, and a reflection integrating sphere (light incident angle) The total light reflectance in the visible region was measured with a spectrophotometer (U-3400) manufactured by Hitachi, Ltd. using 6 °), and calculated from the reflectance obtained here according to JIS R3106.
[0107]
3) Surface resistance of transparent laminate
In Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 5, the surface resistance of the transparent conductive film surface was measured by a four-probe measurement method (probe
[0108]
4) Visible light transmittance (Tvis) and transmission chromaticity of the filter for display (Hunter's chromaticness index a, b)
In Examples 5 to 8 and Comparative Examples 6 to 7, the translucent part of the measurement object was cut into small pieces or a small piece sample having the same configuration was prepared, and the spectrophotometer (U-3400) manufactured by Hitachi, Ltd. The sample was fixed to the entrance of the reflection integrating sphere (
[0109]
5) Near-infrared transmittance of display filter (T850 nm, T950 nm)
In Examples 5 to 8 and Comparative Examples 6 to 7, the translucent part of the measurement object is cut into small pieces or a small piece sample having the same configuration is prepared, and a spectrophotometer (U-3400) manufactured by Hitachi, Ltd. is used. Near-infrared transmittance T850 nm and T950 nm (parallel light transmittance) at 850 nm and 950 nm were measured.
[0110]
6) Visible light reflectance of display filter (Rvis)
In Examples 5 to 8 and Comparative Examples 6 to 7, the translucent part of the measurement object is cut into small pieces or a small piece sample having the same configuration is prepared using a reflection integrating sphere (
[0111]
7) Image characteristics of display filter
The display filters of Examples 5 to 8 and Comparative Examples 6 to 7 are mounted on the front surface of a 42-inch plasma display, and brightness, color tone, contrast, and visibility are good: ○, slightly good (slightly inferior): Δ, poor : Judged by ×. If there is more than one x, it is not suitable as a display filter. For mounting, the electrode forming surface, that is, the transparent conductive film side was set as the plasma display side, and 2 mm away from the plasma display panel screen was installed in parallel. Visibility was determined based on whether or not the visibility of the image was reduced due to external light reflection and glare.
The above results are listed in Tables 1 and 2.
[0112]
[Table 1]
As is apparent from Table 1, Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 5 have an environmental resistance of 200 hours or more, and are excellent in environmental resistance. Moreover, it turns out that environmental resistance falls, so that the film thickness of silver which has is thick. However, it can also be seen that the sheet resistance increases by using an alloy of silver and gold or silver and palladium. Although Comparative Example 1 and Comparative Example 5 are excellent in environmental resistance, since the thickness of each layer is not appropriate, the visible light reflectance is higher than others.
[0114]
[Table 2]
As apparent from Table 2, Comparative Example 6 and Comparative Example 7 use the transparent laminates of Comparative Example 1 and Comparative Example 5 having a high visible light reflectance on the thin film forming surface, so that the visible light reflectance is high. Visibility is poor. Moreover, it turns out that the near-infrared cut ability is excellent, so that the surface resistance of the used transparent laminated body is low. Although it can be seen that the visible light transmittance decreases as the number of layers increases, the visible light transmittance also decreases when a silver-palladium alloy is used for the alloy thin film or the color is adjusted with a pigment. Further, when a silver-gold alloy is used for the alloy thin film, the a value of the transmission chromaticity becomes small. However, when the number of laminated layers is small, the toning is not required unless the required color tone is strict. In Example 8 and Comparative Example 7, the visible light transmittance is high and the a value of transmission chromaticity is small, so the contrast is slightly inferior. It can be seen that the display filter of Example 7 is excellent in transmission chromaticity, visible light transmittance, and visible light reflectance, and has good image characteristics.
Furthermore, the display filter of the present invention is excellent in scratch resistance and / or antifouling property and / or antistatic property by imparting each function to the functional transparent layer.
[0116]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a transparent laminate having excellent visible light reflectance, visible light transmittance, and excellent environmental resistance that does not require a protective layer. Can improve the brightness, color tone, contrast, and visibility of the plasma display, have excellent visible light reflectivity, visible light transmittance, transmitted color, and further generate electromagnetic waves with intensity emitted from the plasma display. Providing a low-cost display filter with excellent weather resistance, environmental resistance, antistatic properties, scratch resistance, antifouling properties, etc. that can be shielded and has the ability to cut near infrared rays that can cause malfunction of peripheral electronic devices. .
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a transparent laminate of the present application.
FIG. 2 is a plan view showing an example of the display filter of the present application.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of a display filter of the present application.
FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of a display filter of the present application.
FIG. 5 is a cross-sectional view showing an example of the display filter of the present application.
FIG. 6 is a cross-sectional view showing an example of a display filter of the present application.
[Explanation of symbols]
00 display screen
01 Translucent part of display filter
10 Transparent conductive film
11 High refractive index transparent thin film layer (B)
12 Metal thin film layer (C)
20 Transparent substrate (A)
30 Adhesive (F)
31 Adhesive material containing pigment (F)
40 Transparent support (E)
41 Transparent support (E) containing a dye
50 electrodes
60 Functional transparent layer (D) having antireflection, hard coat, and antifouling properties
61 Anti-reflective coating with antifouling property
62 Hard coat film
63 Transparent substrate on which 62, 61 is formed
70 Anti-glare layer (functional transparent layer (D) with anti-glare and hard coat properties)
80 Hard coat film (functional transparent layer (D) having hard coat properties)
90 Antireflection film (functional transparent layer (D) having antireflection properties)
100 Functional Transparent Layer (D) 101 Hard Coat Film Having Antireflection Property, Antistatic Property, and Hard Coat Property
102 Antireflection film having antistatic property
103 Transparent substrate on which 102 and 101 are formed
Claims (9)
（１）該透明導電膜（Ｇ）が、
高屈折率透明薄膜層（Ｂ）および金属薄膜層（Ｃ）が順次、（Ｂ）／（Ｃ）を繰返し単位として１〜４回繰り返し積層され、
さらにその上に少なくとも該高屈折率透明薄膜層（Ｂ）が積層されたものであり、かつ
該金属薄膜層（Ｃ）の少なくとも１層は合金層である。
（２）該透明積層体の該透明導電膜（Ｇ）が形成された側の表面の面抵抗が、１〜１０Ω／□である。
（３）該透明基体（Ａ）の膜厚（ａ）、該高屈折率透明薄膜層（Ｂ）の膜厚（ｂ）、該金属薄膜層（Ｃ）の膜厚（ｃ）が、
光の入射媒質を空気として、該透明基体（Ａ）および各層の屈折率および消光係数を用いたベクトル法またはアドミッタンス図を用いる算出方法に依り、該透明積層体の該透明導電膜（Ｇ）が形成された側の表面の可視光線反射率が１．５％以下の値をとる、ａ、ｂ、ｃの組合せから選択されたものである。（但し、１０（μｍ）＜ａ＜２５０（μｍ）、５（ｎｍ）≦ｂ≦２００（ｎｍ）、４（ｎｍ）≦ｃ≦３０（ｎｍ））
（４）該透明積層体の該透明導電膜（Ｇ）が形成された側に反射防止性を有する機能透明層（Ｄ）を設けていない。 Look including a transparent laminate to form a transparent conductive film (G) on at least one major surface of the transparent substrate (A), and a filter for a display that satisfies all of the following conditions (1) to (4).
(1) The transparent conductive film (G)
The high refractive index transparent thin film layer (B) and the metal thin film layer (C) are sequentially laminated one to four times with (B) / (C) as a repeating unit,
It is intended even at least the high refractive index transparent film layer (B) is laminated thereon, and at least one layer of the metal thin film layer (C) Ru alloy layer der.
(2) The surface resistance of the surface of the transparent laminate on which the transparent conductive film (G) is formed is 1 to 10 Ω / □ .
(3) The film thickness (a) of the transparent substrate (A), the film thickness (b) of the high refractive index transparent thin film layer (B), and the film thickness (c) of the metal thin film layer (C) are:
The transparent conductive film (G) of the transparent laminate is formed by a vector method using the refractive index and extinction coefficient of the transparent substrate (A) and each layer, or a calculation method using an admittance diagram, where the light incident medium is air. The visible light reflectance of the surface on the formed side is selected from a combination of a, b, and c that takes a value of 1.5% or less. (However, 10 (μm) <a <250 (μm), 5 (nm) ≦ b ≦ 200 (nm), 4 (nm) ≦ c ≦ 30 (nm))
(4) The functional transparent layer (D) which has antireflective property is not provided in the side in which this transparent conductive film (G) was formed of this transparent laminated body.
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