JP3834479B2 - Filter for plasma display, display device and manufacturing method thereof - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）の画面上に設置され、プラズマディスプレイ画面から発生する電磁波のうち可視光以外の電磁波を遮蔽可能なフィルタ特性、及び／又は可視光スペクトルを補正可能なフィルタ特性を有するプラズマディスプレイ用フィルタ、並びに該フィルタを搭載した表示装置及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
社会の高度情報化に伴って、光エレクトロニクス関連の部品、機器は著しく進歩、普及している。そのなかでも、ディスプレイはテレビジョン用、パーソナルコンピューター用等として著しく普及し、その薄型化、大型化が要望されている。大型の薄型ディスプレイとしてプラズマディスプレイが注目されている。プラズマディスプレイは、その構造や動作原理上、表示画面から強度の漏洩電磁界、近赤外線を発生する。
【０００３】
近年、電子機器からの漏洩電磁波が人体や他の機器に与える影響について取り沙汰されるようになっており、例えば、漏洩電磁波を、日本のＶＣＣＩ（Voluntary Control Council for Interference by data processing equipment electronic office machine）による基準値内に抑えることが必要となる。
【０００４】
また、ディスプレイ画面からの近赤外線は、コードレスフォン等の周辺電子機器に作用して誤動作を引き起こす可能性がある。リモコンや伝送系光通信では波長８２０ｎｍ，８８０ｎｍ，９８０ｎｍ等の近赤外線が使用されているため、近赤外領域である８００〜１１００ｎｍの波長領域の光を実用上問題ないレベルまで抑圧する必要がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
近赤外線のカットに関して、従来、近赤外線吸収色素を用いて作製された近赤外吸収フィルターを用いることが知られている。しかしながら、近赤外線吸収色素は、湿度、熱、光といった環境による劣化を受けやすく、色素を用いた近赤外吸収フィルタは経時とともに近赤外線カット能の低下、フィルタの透過色の変化、等の光学特性の変化を生じる傾向がある。
【０００６】
特にプラズマディスプレイでは、広い波長領域に渡って強度の近赤外線が発生するため、広い波長領域に渡って近赤外領域の吸収率の大きい近赤外吸収フィルタを使用する必要がある。従来の近赤外線吸収フィルタでは可視光線透過率が低いものしか実現していない。
【０００７】
一方、漏洩電磁波のカットに関して、ディスプレイ画面の表面を導電性の高い導電物で覆う必要がある。この方法として透明導電層が用いられるが、この透明導電層は、導電性メッシュと透明導電性薄膜の２つに大別される。導電性メッシュには、アースした金属メッシュ、合成繊維または金属繊維のメッシュに金属被覆したもの、または、金属膜を形成後に格子パターン状にエッチング処理したエッチング膜等が用いられる。
【０００８】
導電性メッシュの代わりに、金属薄膜や酸化物半導体薄膜等から成る透明導電性薄膜を電磁波シールド層として用いる方法がある。金属薄膜は、良好な導電性は得られるが、広い波長領域にわたる金属の反射及び吸収により可視光線透過率の高いものは得られない。酸化物半導体薄膜は、金属薄膜に比べ透明性に優れるものの、導電性に劣り、しかも、近赤外線の反射能は乏しい。上記したように、漏洩電磁界のカットを目的とした透明導電層には、そのシールド性能を重視する場合には導電性メッシュが、コスト性を重視する場合には、透明導電性薄膜をそれぞれ用いる場合が多い。
【０００９】
また、ディスプレイの色純度を改善する試みとして色素を用いる方法が、例えば、特開昭５８−１５３９０４号、特開昭６０−２２１０２号、特開昭５９−２２１９４３号等に記載されている。特開昭５８−１５３９０４号は、プラズマ表示パネル（プラズマディスプレイパネル）への適用について言及している。
【００１０】
しかしながら、これらの先行技術には、プラズマディスプレイパネルに用いる際に必須となる電磁波シールドとしての透明導電層と、色素との組み合わせについては何ら言及がなく、用いる色素についての具体的な言及もない。
【００１１】
プラズマディスプレイ用フィルタは、ディスプレイと別体に形成し、ディスプレイの前面板として、近赤外線、電磁波遮蔽、表示画面の保護を目的に設置することが考えられる。しかしながら、前面板方式は、その構成部材数・製造工程数が多いためコストが高くなり、薄型・軽量化が困難になる。
【００１２】
さらに、プラズマディスプレイ表示部の表面反射は一般に低減されておらず、ガラス基板の反射率を有しているので、熱設計等の観点から前面板を表示部と離して設置する場合には、ディスプレイ表面の外光反射と前面板の外光反射により、反射映像が二重以上になってしまい、ディスプレイの視認性を低下させることがある。また、プラズマディスプレイは、画面表面におけるガラスの反射や蛍光体の反射により、明所コントラストが低く、加えて発光の色再現範囲が狭いという特性を有する。
【００１３】
一方、前面板を除去し、ディスプレイパネル上に光学フィルムを直接貼合わせることが特開平１０−１５６９９１、特開平１０−１８８８２２、２０００−９８１３１などで提案されている。しかしながら、これらの先行技術はいずれも、透明高分子フィルム全体の合計厚さに対する規定はなく、また耐衝撃性の付与について具体的な言及はなされていない。
【００１４】
一方、特開平１０−２１１６６８では、外部からの衝撃を吸収するために、直接貼合わせ用の光学フィルムを厚さ１ｍｍ以上の透明高分子シートに積層して使用するとの提案がある。しかしながら、厚さ１ｍｍ以上の透明高分子シートは、ロール形態からの連続貼合わせ工程やディスプレイへの直接貼合わせは実用上困難であり、実施例でも厚さ３ｍｍのアクリルシートに貼合わせていることから、枚葉貼合わせ型の従来前面板型フィルターの改良を意図したものであることは明らかである。
【００１５】
一般に、本発明の利用分野における各機能を有した透明高分子フィルムは、ロール形態にて使用されているが、作業効率などの観点から、通常厚さ７５〜１００μｍのものが使われる。従って、単純に機能を有する２枚の透明高分子フィルムを貼合わせた場合、その厚さ合計は０．３ｍｍに満たない。また、反射防止フィルムでは、一部厚さ１８８μｍのものも利用されているが、ベースフィルムはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）であり、好適に用いられるベースフィルム厚さ８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）に比べ反射防止性が劣るため、フィルム同士の貼合わせ用にこれが積極的に用いられることはない。
【００１６】
また、ディスプレイパネル本体に直接フィルムを貼合わせる場合には、ディスプレイ自体が高価であるため、不具合発生時のフィルム剥離処理が不可欠となるが、この作業性については上記先行特許では言及されていない。また、ディスプレイへのフィルム貼合わせに関しては、既に液晶ディスプレイやフラットテレビなどにおいて実施されているが、プラズマディスプレイでは面積が大幅に大きくなることから、既存のディスプレイ以上に、剥離に力を必要とするため手間がかかる、ディスプレイ表面上への糊残りが発生しやすいなど、作業上の問題がある。
【００１７】
また、電磁波シールド体においては、電磁波を電流として外部に取り出す電極を用いて、透明導電層と外部との導通を得なければならない。その手法としては、透明導電層上に保護などの目的でフィルムを貼合わせる際に、フィルターの周囲に当該層が一部露出するようにして貼合わせ、この部分を電極として外部との導通を行う部位とすることが挙げられる。従来、前面板へのフィルム貼付けによって得られる電磁波シールド体は、この手法によって外部との導通を得ていた。透明導電層を露出させるための方法としては、透明導電層上に貼合わせるフィルムの面積を透明導電層の面積より少し小さくする等の方法が行われていた。
【００１８】
この方法を用いると剛性の高い板等に透明導電層を有するフィルムを枚葉でまず貼付け、さらにそれよりも面積が小さい保護フィルムを枚葉で貼合わせるという２回の枚葉貼合わせ作業が必要であるため、生産性に問題がある。
【００１９】
また、従来前面板へのフィルム貼付けによって得られる電磁波シールド体においては、全周部分に電極を設けていた。この方法を用いると電極形成作業を枚葉で行う必要があり、生産性に問題がある。
【００２０】
本発明の目的は、上記従来技術に鑑み、電磁波シールド能や近赤外線カット能、画質改善能などの所望のフィルタ特性を有し、低コスト、軽量薄型化、パネル保護性、不具合発生時の作業性、生産性の向上などの改善を図ることができるプラズマディスプレイ用フィルタ、並びに該フィルタを搭載した表示装置及びその製造方法を提供することである。
【００２１】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の問題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、1)プラズマディスプレイから発生する非常に強度な電磁波を遮蔽するには、面抵抗０．０１〜３０Ω／□の透明導電層が必要であること、2)このような透明導電層を備えた電磁波シールド体をプラズマディスプレイ表面に直接形成することによって、電磁波シールド能、近赤外線カット能、画像・視認性・コストに優れるプラズマディスプレイを用いた表示装置が得られること、3)特定の層構成を有し、色素を含有し、且つ、可視光線透過率が３０〜８５％である調光フィルムをディスプレイ表面に直接形成することによって、画像・視認性・コストに優れるディスプレイを用いた表示装置が得られること、4)光学フィルターを構成する透明高分子高分子フィルムの合計厚さを０．３ｍｍ以上とし、それをディスプレイ前面に直接貼合わせることで、軽量薄型化とパネル保護性を両立した上に、作業性の向上が得られること、5)電極を形成位置を制限し、例えば長方形の光学フィルターの場合、一組の向かい合う２辺のみに電極を形成すること及び電極の形状を工夫することにより、高い生産効率を有するロールツーロール方式で電極形成を行なうことができること、等を見出し、本発明に至った。
【００２２】
本発明は、プラズマディスプレイ画面に接着可能で、所定のフィルタ特性を有するプラズマディスプレイ用フィルタであって、
外気側に設けられ、反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）と、
プラズマディスプレイ側に設けられ、画面に接着するための透明粘着層（Ｃ）と、
機能性透明層（Ａ）と透明粘着層（Ｃ）との間に基体として設けられた高分子フィルム（Ｂ）とを備え、
機能性透明層（Ａ）、高分子フィルム（Ｂ）および透明粘着層（Ｃ）のうち少なくとも１つの層に、波長５７０〜６０５ｎｍの範囲に吸収極大を有する色素が含有され、
前記色素は、下記の化学式（１）で表されるテトラアザポルフィリン化合物であることを特徴とするプラズマディスプレイ用フィルタである。
【化２】
【００２３】
また本発明は、機能性透明層（Ａ）と高分子フィルム（Ｂ）との間、及び／又は高分子フィルム（Ｂ）と透明粘着層（Ｃ）との間に設けられ、０．０１〜３０Ω／□の面抵抗を有する透明導電層（Ｄ）を備えることが好ましい。
【００２４】
また本発明は、透明導電層（Ｄ）の一部もしくは全てが、導電性メッシュで構成されることが好ましい。
【００２５】
また本発明は、透明導電層（Ｄ）は、高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）及び金属薄膜層（Ｄｍ）の組合せ（Ｄｔ）／（Ｄｍ）を繰り返し単位として２回〜４回繰り返して積層され、さらにその上に高屈折率薄膜層（Ｄｔ）が積層されて構成されることが好ましい。
【００２６】
また本発明は、複数の高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）のうち少なくとも一つの層が、インジウム、スズ及び亜鉛のいずれか１種以上を主成分とする酸化物で形成されることが好ましい。
【００２７】
また本発明は、複数の金属薄膜層（Ｄｍ）のうち少なくとも一つの層が、銀又は銀合金で形成されることが好ましい。
【００２８】
また本発明は、機能性透明層（Ａ）は、ハードコート性、静電気防止性、防汚性、ガスバリア性および紫外線カット性のうち少なくとも１つの機能をさらに有することが好ましい。
【００２９】
また本発明は、機能性透明層（Ａ）と高分子フィルム（Ｂ）との間に、粘着層（Ｅ）が設けられることが好ましい。
【００３０】
また本発明は、高分子フィルム（Ｂ）の両面または片面に、ハードコート層（Ｆ）が形成されることが好ましい。
【００３６】
また本発明は、波長８００〜１１００ｎｍの範囲に吸収極大を有する近赤外線吸収色素が含有されることが好ましい。
【００３７】
また本発明は、機能性透明層（Ａ）の表面において、可視光線反射率が２％以下であることが好ましい。
【００３８】
また本発明は、３０〜８５％の可視光線透過率を有することが好ましい。
また本発明は、波長８００〜１１００ｎｍにおける透過率極小が２０％以下であることが好ましい。
【００４０】
また本発明は、色素が含有可能な厚さ嵩上げ用の高分子フィルムを備えることが好ましい。
【００４１】
また本発明は、透明導電層（Ｄ）と電気接続する電極が形成されることが好ましい。
【００４２】
また本発明は、フィルタの周縁部に、透明導電層（Ｄ）と電気接続する電極が周方向に沿って連続的に形成されることが好ましい。
【００４３】
また本発明は、一部露出した導通部に電極が形成されることが好ましい。
また本発明は、フィルタ形状が長方形であり、対向した２つの周辺に電極が形成されることが好ましい。
【００４４】
また本発明は、フィルタの周縁端面に、透明導電層（Ｄ）と電気接続する電極が形成されることが好ましい。
【００４５】
また本発明は、フィルタの厚さ方向に沿って最表面から少なくとも透明導電層（Ｄ）に連通する連通孔が形成され、
該連通孔の内部に、透明導電層（Ｄ）と電気接続する電極が形成されることが好ましい。
【００４６】
また本発明は、透明導電層（Ｄ）とこれに隣接する層との間に導電性テープが介在することが好ましい。
【００４７】
また本発明は、画像を表示するためのプラズマディスプレイと、
プラズマディスプレイ画面に設けられ、上記のプラズマディスプレイ用フィルタとを備えることを特徴する表示装置である。
【００４８】
また本発明は、上記のプラズマディスプレイ用フィルタを備える表示装置の製造方法であって、
表示装置のプラズマディスプレイ画面に、上記のプラズマディスプレイ用フィルタを透明粘着層（Ｃ）を介して貼合わせる工程と、
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）の電極とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法である。
【００４９】
また本発明は、上記のプラズマディスプレイ用フィルタを備える表示装置の製造方法であって、
表示装置のプラズマディスプレイ画面に、高分子フィルム（Ｂ）、透明導電層（Ｄ）、および透明粘着層（Ｃ）を含む積層フィルタを透明粘着層（Ｃ）を介して貼合わせる工程と、
該積層フィルタの上に、直接又は第２の粘着層を介して、反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）を配置する工程と、
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法である。
【００５０】
また本発明は、上記のプラズマディスプレイ用フィルタを備える表示装置の製造方法であって、
表示装置のプラズマディスプレイ画面に、透明粘着層（Ｃ）を配置する工程と、
高分子フィルム（Ｂ）、透明導電層（Ｄ）、および反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）を含む積層フィルタを、前記透明粘着層（Ｃ）を介して貼合わせる工程と、
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法である。
【００５１】
また本発明は、上記のプラズマディスプレイ用フィルタを備える表示装置の製造方法であって、
表示装置のプラズマディスプレイ画面に、透明粘着層（Ｃ）を配置する工程と、
高分子フィルム（Ｂ）および、透明導電層（Ｄ）を含む積層フィルタを、前記透明粘着層（Ｃ）を介して貼合わせる工程と、
該積層フィルタの上に、直接又は第２の粘着層を介して、反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）を配置する工程と、
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法である。
【００５２】
【発明の実施の形態】
本発明に係るディスプレイ用フィルタは、波長５７０〜６０５ｎｍの範囲に吸収極大を有する色素を含有することによって、ディスプレイ画面の可視光スペクトルを補正するフィルタ特性を有する調光フィルムとして機能する。
【００５３】
また、本発明に係るディスプレイ用フィルタは、面抵抗０．０１〜３０Ω／□の透明導電層を備えることによって、ディスプレイ画面からの電磁波を遮断するフィルタ特性を有する電磁波シールド体として機能する。
【００５４】
また、本発明に係るディスプレイ用フィルタは、波長８００〜１１００ｎｍの範囲に吸収極大を有する近赤外線吸収色素を含有することによって、ディスプレイ画面からの近赤外線を遮断するフィルタ特性を有する近赤外線フィルタとして機能する。
【００５５】
これらの機能を有するディスプレイ用フィルタをプラズマディスプレイ等のディスプレイ表面に直接貼付けることによって、低コスト、軽量薄型化、パネル保護性、不具合発生時の作業性、生産性の向上などの改善を図ることができる。
【００５６】
本発明に係る電磁波シールド体は、少なくとも、高分子フィルム（Ｂ）の一方の主面上に形成した少なくとも面抵抗０．０１〜３０Ω／□の透明導電層（Ｄ）と、高分子フィルム（Ｂ）の他方の主面上に形成される透明粘着層（Ｃ）を有し、さらに該透明導電層（Ｄ）上に導通部、及び、直接又は透明粘着層を介して形成された機能性透明層（Ａ）を有する。
【００５７】
また、本発明に係る電磁波シールド体は、少なくとも、高分子フィルム（Ｂ）の一方の主面上に形成された少なくとも面抵抗０．０１〜３０Ω／□の透明導電層（Ｄ）と、高分子フィルム（Ｂ）の他方の主面上に形成された機能性透明層（Ａ）とを有し、さらに、該透明導電層（Ｄ）上に、導電性粘着層および透明粘着層（Ｃ）を有する。
【００５８】
また、本発明に係る電磁波シールド体は、少なくとも、高分子フィルム（Ｂ）、該高分子フィルム（Ｂ）の一方の主面上に形成された少なくとも面抵抗０．０１〜３０Ω／□の透明導電層（Ｄ）、透明粘着層（Ｃ）、高分子フィルム（Ｂ）の他方の主面上に形成された機能性透明層（Ａ）、を有する。
【００５９】
また、本発明に係る調光フィルムは、少なくとも、高分子フィルム（Ｂ）、該高分子フィルム（Ｂ）の一方の主面上に形成された反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）、該高分子フィルム（Ｂ）の他方の主面上に形成された透明粘着層（Ｃ）を有し、且つ、色素を含有し、可視光線透過率が５５〜９０％である。
【００６０】
１．高分子フィルム（Ｂ）
高分子フィルム（Ｂ）は、フィルタの基体として機能し、例えば透明導電層（Ｄ）を形成するための基体であり、しかも、本発明のディスプレイ用フィルタはディスプレイ表面に直接形成されるものであるため、透明な高分子フィルムが用いられる。
【００６１】
高分子フィルム（Ｂ）としては、可視波長領域において透明であればよい。具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン６等のポリアミド、ポリイミド、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリウレタン、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂、ポリ塩化ビニル等のビニル化合物、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン等のビニリデン化合物、フッ化ビニリデン／トリフルオロエチレン共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重体等のビニル化合物又はフッ素系化合物の共重合体、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００６２】
高分子フィルムは、通常、厚み１０〜２５０μｍである。薄すぎるとフィルタをディスプレイ表面に直接形成するのが困難であり、可撓性が制限される。従って、高分子フィルム（Ｂ）の厚さは、５０μｍ以上、好ましくは７５μｍ以上が好適である。また、厚さ２５０μｍ以上では可撓性が不足しすぎて、フィルムをロールで巻きとって利用するのに適さないことがある。また、本発明分野のように、高い透明性が要求される分野では、高分子フィルムの厚さ１００μｍ程度のものが広く用いられている。
【００６３】
本発明で用いる透明な高分子フィルムは可撓性を有しており、透明導電膜をロールツーロール法で連続的に形成することができるため、効率よく、また、長尺大面積の透明積層体を生産することができる。さらに、フィルム状のフィルタは、ディスプレイ表面に、ラミネートにより容易に直接形成することができる。さらに、ディスプレイ表面に直接貼合された高分子フィルムを基体とするフィルタは、ディスプレイの基板ガラスが破損したときのガラス飛散を防止することができ、好適である。
【００６４】
本発明においては、高分子フィルム（Ｂ）の表面を、スパッタリング処理、コロナ処理、火炎処理、紫外線照射、電子線照射などのエッチング処理や、下塗り処理により、その上に形成される透明導電層（Ｄ）の高分子フィルム（Ｂ）に対する密着性を予め向上させてもよい。また、高分子フィルム（Ｂ）と透明導電層（Ｄ）の間に任意の金属などの無機物層を形成してもよく、透明導電膜を成膜する前に、必要に応じて溶剤洗浄や超音波洗浄などの防塵処理を施してもよい。
【００６５】
また、透明積層体の耐擦傷性を向上させるために、高分子フィルム（Ｂ）の少なくとも一方の主面にハードコート層（Ｆ）が形成されていても良い。
【００６６】
２．ハードコート層（Ｆ）
ハードコート層（Ｆ）となるハードコート膜としては、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型又は光硬化型樹脂等が挙げられるが、その種類も形成方法も特に限定されない。これら膜の厚さは、１〜１００μｍ程度である。また、ハードコート層（Ｆ）には後述の色素を１種以上含有させることが出来る。
【００６７】
３．透明導電層（Ｄ）
本発明の電磁波シールド体では、高分子フィルム（Ｂ）の一方の主面上に透明導電層（Ｄ）が形成される。本発明における透明導電層（Ｄ）とは、単層または多層薄膜からなる透明導電膜である。なお、本発明では、高分子フィルム（Ｂ）の主面上に透明導電層（Ｄ）を形成したものを透明積層体（Ｈ）という。
【００６８】
単層の透明導電膜としては、前述した金属メッシュや導電性格子状パターン膜などの導電性メッシュ、金属薄膜や酸化物半導体薄膜などの透明導電性薄膜がある。
【００６９】
多層の透明導電膜としては、金属薄膜と高屈折率透明薄膜を積層した多層薄膜がある。金属薄膜と高屈折率透明薄膜を積層した多層薄膜は、銀などの金属の持つ導電性及びその自由電子による近赤外線反射特性と、ある波長領域における金属による反射の高屈折率透明薄膜による防止により、導電性、近赤外線カット能、可視光線透過率のいずれにおいても好ましい特性を有している。
【００７０】
電磁波シールド能、近赤外線カット能を有するディスプレイ用フィルタを得るためには、電磁波吸収のための高い導電性と電磁波反射のための反射界面を多く有する金属薄膜と高屈折率透明薄膜を積層した多層薄膜が好適である。
【００７１】
ところで、ＶＣＣＩにおいては、業務用途の規制値を示すClass A では放射電界強度５０ｄＢμＶ／ｍ未満であり、民生用途の規制値を示すClass B では４０ｄＢμＶ／ｍ未満である。しかし、プラズマディスプレイの放射電界強度は２０〜９０ＭＨｚ帯域内で、対角２０インチ型程度で４０ｄＢμＶ／ｍ、対角４０インチ型程度で５０ｄＢμＶ／ｍを越えている。このため、そのままでは家庭用途には使用できない。
【００７２】
プラズマディスプレイの放射電界強度は、その画面の大きさ及び消費電力が大きいほど強く、シールド効果の高い電磁波シールド材が必要である。
【００７３】
本発明者らは、鋭意検討の結果、高い可視光線透過率と低い可視光線反射率に加え、プラズマディスプレイに必要な電磁波シールド能を有するには、透明導電層（Ｄ）が、面抵抗０．０１〜３０Ω／□、より好ましくは０．１〜１５Ω／□、さらに好ましくは０．１〜５Ω／□の低抵抗な導電性を有していることが必要なことを見出した。本発明における可視光線透過率、可視光線反射率とは、透過率及び反射率の波長依存性からＪＩＳ（Ｒ−３１０６）に従って計算される。
【００７４】
また、本発明者らは、プラズマディスプレイの発する強度の近赤外線を実用上問題とならないレベルまで遮断するには、ディスプレイ用フィルターの近赤外線波長領域８００〜１１００ｎｍにおける光線透過率極小を２０％以下にすることが必要であること、この要求を満たすためには、部材数低減の要求や色素を用いた近赤外線吸収の限界から、透明導電層自体が近赤外線カット性を持つことが必要であること、を見出した。透明導電層で近赤外線をカットするには、金属の自由電子による反射を利用することができる。
【００７５】
金属薄膜層は厚くすると可視光線透過率が低くなり、薄くすると近赤外線の反射が弱くなる。しかし、ある厚さの金属薄膜層を高屈折率透明薄膜層で挟み込んだ積層構造を１段以上重ねることにより、可視光線透過率を高くし、かつ全体的な金属薄膜層の厚さを増やすことが可能である。また、層数及び／又はそれぞれの層の厚さを制御することにより可視光線透過率、可視光線反射率、近赤外線の透過率、透過色、反射色をある範囲で変化させることも可能である。
【００７６】
一般に、可視光線反射率が高いと画面への照明器具等の映り込みが大きくなり、表示部表面の反射を防止する効果が低下し、視認性とコントラストが低下するようになる。また、反射色としては、白色、青色、紫色系の目立たない色が好ましい。これらのことから、透明導電層は、光学的に設計、制御しやすい多層積層が好ましくなる。
【００７７】
本発明の電磁波シールド体においては、高分子フィルム（Ｂ）の一方の主面上に多層薄膜の透明導電層（Ｄ）を形成した透明積層体（Ｈ）を用いることが好ましい。
【００７８】
本発明において好ましい透明導電層（Ｄ）は、高分子フィルム（Ｂ）の一方の主面上に、高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）、金属薄膜層（Ｄｍ）の順に、（Ｄｔ）／（Ｄｍ）を繰り返し単位として２〜４回繰り返し積層され、さらにその上に少なくとも高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）を積層して形成され、該透明導電層の面抵抗が０．１〜５Ω／□であることを特徴とし、電磁波シールド能のための低抵抗性、近赤外線カット能、透明性、可視光線反射率に優れた性能を有する。なお、本発明において、多層薄膜とは、特に記載がない限り、金属薄膜層を高屈折率透明薄膜層で挟み込んだ積層構造を１段以上重ねた多層積層の透明導電膜のことをいう。
【００７９】
本発明の透明導電層において、繰り返し積層数は２回〜４回が好適である。つまり、高分子フィルム（Ｂ）の主面上に透明導電層を積層した本発明の透明積層体（Ｄ）は、（Ｂ）／（Ｄｔ）／（Ｄｍ）／（Ｄｔ）／（Ｄｍ）／（Ｄｔ）、または、（Ｂ）／（Ｄｔ）／（Ｄｍ）／（Ｄｔ）／（Ｄｍ）／（Ｄｔ）／（Ｄｍ）／（Ｄｔ）、または、（Ｂ）／（Ｄｔ）／（Ｄｍ）／（Ｄｔ）／（Ｄｍ）／（Ｄｔ）／（Ｄｍ）／（Ｄｔ）／（Ｄｍ）／（Ｄｔ）の層構成を有するものである。繰り返し積層数が５回以上では、生産装置の制限、生産性の問題が大きくなり、また、可視光線透過率の低下と可視光線反射率の増加が生じる傾向がある。また、繰り返し回数が１回であると、低抵抗性、近赤外線カット能と、可視光線反射率を同時に十分なものとすることが出来難い。
【００８０】
なお、繰り返し積層数が２回〜４回の多層薄膜において、近赤外線カット能、可視光線透過率、可視光線反射率を同時に、プラズマディスプレイに好適な特性とするには、その面抵抗が０．１〜５Ω／□であることを本発明者らは見出した。
【００８１】
なお、将来的にはプラズマディスプレイから放出される電磁波強度が低下することも想定される。その場合は、電磁波シールド体の面抵抗が５〜１５Ω／□でも充分な電磁波遮断特性を得ることができることが予想される。また、さらにプラズマディスプレイから放出される電磁波強度が低下することも想定される。その場合は、電磁波シールド体の面抵抗が１５〜３０Ω／□でも充分な電磁波遮断特性を得ることができるようになることが予想される。一方、放出される電磁波強度とは別の観点として、プラズマディスプレイの更なる大画面化、薄型化が求められる場合には、電磁波シールド体の面抵抗０．０１〜１Ω／□を求められることも想定される。
【００８２】
金属薄膜層（Ｄｍ）の材料としては、銀が、導電性、赤外線反射性および多層積層したときの可視光線透過性に優れているため、好適である。しかし、銀は化学的、物理的安定性に欠け、環境中の汚染物質、水蒸気、熱、光等によって劣化するため、銀に金、白金、パラジウム、銅、インジウム、スズ等の環境に安定な金属を一種以上加えた合金や、これら環境に安定な金属も好適に使用できる。特に金やパラジウムは耐環境性、光学特性に優れ好適である。
【００８３】
銀を含む合金中の銀の含有率は、特に限定されるものではないが、銀薄膜の導電性、光学特性と大きく変わらないことが望ましく、５０重量％以上、１００重量％未満程度である。しかしながら、銀に他の金属を添加すると、その優れた導電性、光学特性が阻害されるので、複数の金属薄膜層を有する場合は、可能であれば少なくとも１つの層は銀を合金にしないで用いることや、基体から見て最初の層及び／又は最外層にある金属薄膜層のみを合金にすることが望ましい。
【００８４】
金属薄膜層（Ｄｍ）の厚さは、導電性、光学特性等から光学設計的かつ実験的に求められ、透明導電層が要求特性を持てば特に限定されるものではないが、導電性等から薄膜が島状構造ではなく、連続状態であることが必要であり、４ｎｍ以上であることが望ましい。また、金属薄膜層が厚すぎると透明性が問題になるので３０ｎｍ以下が望ましい。金属薄膜層が複数ある場合は、各層が全て同じ厚さとは限らず、また、全て銀、あるいは、同じ銀を含む合金でなくともよい。
【００８５】
金属薄膜層（Ｄｍ）の形成方法には、スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、メッキ等、従来公知の方法のいずれでも採用できる。
【００８６】
高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）を形成する透明薄膜としては、可視領域において透明性を有し、金属薄膜層の可視領域における光線反射を防止する効果を有するものであれば特に限定されるものではないが、可視光線に対する屈折率が１．６以上、好ましくは１．８以上、さらに好ましくは２．０以上の屈折率の高い材料が用いられる。このような透明薄膜を形成する具体的な材料としては、インジウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス、スズ、亜鉛、アンチモン、タンタル、セリウム、ネオジウム、ランタン、トリウム、マグネシウム、ガリウム等の酸化物、または、これら酸化物の混合物や、硫化亜鉛などが挙げられる。
【００８７】
これら酸化物あるいは硫化物は、金属と、酸素原子あるいは硫黄原子との化学量論的な組成にズレがあっても、光学特性を大きく変えない範囲であるならば差し支えない。なかでも、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化インジウムや酸化インジウムと酸化スズの混合物（ＩＴＯ）は、透明性、屈折率に加えて、成膜速度が速く、金属薄膜層との密着性等が良好であることから好適に使用できる。
【００８８】
高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）の厚さは、高分子フィルム（Ｂ）〔透明基体ともいう〕の光学特性、金属薄膜層の厚さ、光学特性、および、透明薄膜層の屈折率等から光学設計的かつ実験的に求められ、特に限定されるものではないが、５ｎｍ以上、２００ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下である。また、高屈折率透明薄膜第１層…第（ｎ＋１）層（ｎ≧１）は、同じ厚さとは限らず、同じ透明薄膜材料でなくともよい。
【００８９】
高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）の形成方法には、スパッタリング、イオンプレーティング、イオンビームアシスト、真空蒸着、湿式塗工等、従来公知の方法のいずれでも採用できる。
【００９０】
上記の透明導電層（Ｄ）の耐環境性を向上させるために、透明導電層の表面に、導電性、光学特性を著しく損なわない程度に有機物又は無機物の任意の保護層を設けてもよい。また、金属薄膜層の耐環境性や金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層との密着性等を向上させるため、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層の間に、導電性、光学特性を損なわない程度に任意の無機物層を形成してもよい。これらの具体的な材料としては銅、ニッケル、クロム、金、白金、亜鉛、ジルコニウム、チタン、タングステン、スズ、パラジウム等、あるいはこれらの材料の２種類以上からなる合金があげられる。その厚さは、好ましくは、０．２ｎｍ〜２ｎｍ程度である。
【００９１】
所望の光学特性の透明導電層（Ｄ）を得るには、得ようとする電磁波シールド能の為の導電性、つまり、金属薄膜材料・厚さを勘案して、透明高分子フィルム（Ｂ）および薄膜材料の光学定数（屈折率、消光係数）を用いたベクトル法、アドミッタンス図を用いる方法等を使った光学設計を行い、各層の薄膜材料及び、層数、膜厚等を決定する。この際、透明導電層（Ｄ）上に形成される隣接層を考慮すると良い。このことは透明高分子フィルム（Ｂ）上に形成された透明導電層への光の入射媒質が、空気または真空等の屈折率１の入射媒質と違うために透過色（及び透過率、反射色、反射率）が変化するためである。すなわち、透明導電層（Ｄ）上に機能性透明層（Ａ）を形成する際に透明粘着層（Ｃ）を介する場合は、透明粘着層（Ｃ）の光学定数を考慮する設計を行う。また、透明導電層（Ｄ）上に機能性透明層（Ａ）を直接する場合は、透明導電層（Ｄ）と接する材料の光学定数を考慮する設計を行う。
【００９２】
上記のように、透明導電層（Ｄ）の設計を行なうことにより、高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）では高分子フィルム（Ｂ）から見て最下層と最上層がその間の層より薄く、金属薄膜層（Ｄｍ）では高分子フィルム（Ｂ）から見て最下層がその他の層より薄く、屈折率１．４５〜１．６５、消光係数ほぼ０の厚み１０〜５０μｍの粘着材が隣接層であるとき、透明積層体の反射が著しく増加しないこと、すなわち、隣接層形成による界面反射の増加が２％以下であることを見出した。
【００９３】
特に、繰り返し回数が３回、すなわち、計７層からなる透明導電層においては、３層の金属薄膜層（Ｄｍ）の真ん中の２番目の層が他の層より厚いと、前記の粘着材が隣接層であるときに、透明積層体の反射が著しく増加しないことを見出した。
【００９４】
なお、光学定数はエリプソメトリー（楕円偏光解析法）やアッベ屈折計により測定でき、また、光学特性を観察しながら、層数、膜厚等を制御して成膜を行うこともできる。
【００９５】
上記の方法により形成した透明導電層の原子組成は、オージェ電子分光法（ＡＥＳ）、誘導結合プラズマ法（ＩＣＰ）、ラザフォード後方散乱法（ＲＢＳ）等により測定できる。また、層構成および膜厚は、オージェ電子分光の深さ方向観察、透過型電子顕微鏡による断面観察等により測定できる。
【００９６】
なお、膜厚は、成膜条件と成膜速度の関係を予め明らかにした上で成膜を行うことや、水晶振動子等を用いた成膜中の膜厚モニタリングにより制御される。
【００９７】
以上述べた透明導電性薄膜を用いる方法のほか、導電性メッシュを透明導電層として用いる方法もある。導電性メッシュの一例として、以下の単層の金属メッシュについて述べるが、本発明における導電性メッシュはこれに限定されるものではない。
【００９８】
単層の金属メッシュは、高分子フィルム上に銅メッシュ層を形成したものが一般的である。通常は、高分子フィルム上に銅箔を貼合わせ、その後、メッシュ状に加工する。
【００９９】
本発明に用いられる銅箔は、圧延銅、電界銅とも使い得るが、金属層は多孔性のものが好ましく用いられ、その孔径は、０．５〜５μｍが好ましく、さらに好ましくは、０．５〜３μｍであり、さらに好ましくは０．５〜１μｍである。孔径がこれ以上大きくなるとパターニングの障害になるおそれがあり、また、これ以上小さな値になると、光線透過率の向上が期待しにくい。なお、銅箔のポロシティーとしては、０．０１〜２０％の範囲が好ましく、さらに好ましくは、０．０２〜５％である。本発明でいうポロシティーとは、体積Ｒとして、孔容積をＰとしたときに、Ｐ／Ｒで定義される値である。例えば、体積０．１ｃｃに対応する銅箔の孔容積を、水銀ポロシティーで測定したところ、０．００１ｃｃであったとすると、ポロシティーは１％ということができる。用いられる銅箔は、各種表面処理をされていても構わない。具体的に例示すれば、クロメート処理、粗面化処理、酸洗、ジンク・クロメート処理等である。
【０１００】
銅箔の厚さは３〜３０μｍが好ましく、より好ましくは５〜２０μｍ、さらに好ましくは７〜１０μｍである。この厚さより厚いとエッチングに時間を要するという問題があり、またこの厚さよりも薄いと電磁波シールド能に劣るという問題が発生する。
【０１０１】
光透過部分の開口率は６０％以上、９５％以下が好ましく、より好ましくは６５％以上、９０％以下、さらにより好ましくは７０％以上、８５％以下である。開口部の形状は、特に限定されるものではないが、正三角形、正四角形、正六角形、円形、長方形、菱形等に形がそろっており、面内に並んでいることが好ましい。光透過部分の開口部の代表的な大きさは、１辺もしくは直径が５〜２００μｍの範囲であることが好ましい。さらに好ましくは１０〜１５０μｍである。この値が大きすぎると、電磁波シールド能が低下し、また小さすぎるとディスプレイの画像に好ましくない影響を与える。また、開口部を形成しない部分の金属の幅は、５〜５０μｍが好ましい。すなわち、ピッチが１０〜２５０μｍであることが好ましい。この幅よりも細いと加工がきわめて困難になる一方、この幅より太いと画像に好ましくない影響を与える。
【０１０２】
光透過部分を有する金属層の実質的なシート抵抗とは、上記パターンよりも５倍以上大きな電極を用いて、上記パターンの繰り返し単位よりも５倍以上の電極間隔をもつ４端子法より測定したシート抵抗をいう。例えば、開口部の形状が１辺１００μｍの正方形で金属層の幅が２０μｍをもって規則的に正方形が並べられたものであればφ１ｍｍの電極を１ｍｍ間隔で並べて測定することができる。あるいはパターン形成したフィルムを短冊状に加工し、その長手方向の両端に電極を設けて、その抵抗を測り（Ｒ）、長手方向の長さａ、短手方向の長さｂとすると、実質的なシート抵抗＝Ｒ×ｂ／ａで求めることができる。このように測定された値は、０．０１Ω／□以上、０．５Ω／□以下が好ましく、より好ましくは０．０５Ω／□以上、０．３Ω／□以下である。この値よりも小さな値を得ようとすると膜が厚くなりすぎ、かつ開口部が充分取れなくなり、一方、これ以上大きな値にすると充分な電磁波シールド能を得ることができなくなる。
【０１０３】
銀箔を高分子フィルムにラミネートする方法としては、透明な接着剤を用いる。接着剤の種類としては、アクリル系、ウレタン系、シリコーン系、ポリエステル系等があるが、特に接着剤に限定はない。２液系及び熱硬化タイプが好適に使用される。なお、耐薬品性に優れた接着剤であることが好ましい。高分子フィルムに接着剤を塗布した後、銀箔と貼合わせることもできるし、銀箔に接着剤を貼合わせてもよい。
【０１０４】
光透過部分を形成する方法としては、印刷法やフォトレジスト法を用いることができる。印刷法では、マスク層を印刷レジスト材料を用いてスクリーン印刷法でパターン形成する方法が一般的である。フォトレジスト材料を用いる方法では、ロールコーティング法、スピンコーティング法、全面印刷法、転写法などで、金属箔上にフォトレジスト材料をべた形成し、フォトマスクを用いて露光現像してレジストのパターニングを行う。レジストパターニングを完成させた後、開口部とする金属部分を湿式エッチングで除去することで、所望の開口形状と開口率の、光透過部分を有する金属メッシュを得ることができる。
【０１０５】
４．透過特性
電磁波シールド体の透光部における可視光線透過率は、３０〜８５％が好ましい。更に好ましくは５０〜８０％である。３０％未満であると輝度が下がりすぎ視認性が悪くなる。また、コントラストを得るために、８５％以下、好ましくは８０％以下であることが必要とされることがある。
【０１０６】
また、調光フィルムにおいては可視光線透過率は、５５〜９０％が好ましい。さらに好ましくは６０〜８５％である。５５％未満であると輝度が下がり過ぎ視認性が悪くなる。また、コントラストを得るためには８５％以下、好ましくは８０％以下であることが必要とされることがある。
【０１０７】
なお、本発明における可視光線透過率（Ｔｖｉｓ）、可視光線反射率（Ｒｖｉｓ）とは、透過率及び反射率の波長依存性からＪＩＳ（Ｒ−３１０６）に従って計算される。
【０１０８】
５．色特性、色素
ところで、ディスプレイ用フィルタの透過色において、黄緑〜緑色味が強いと、ディスプレイのコントラストが低下し、さらには色純度が低くなり、白色表示も緑色がかったものになることがある。このことは、黄緑〜緑色である５５０ｎｍ前後の波長の光が最も視感度が高いことにもよる。
【０１０９】
多層薄膜は、可視光線透過率・可視光線反射率を重視すると、一般に透過色調に劣る。電磁波シールド能即ち導電性と、近赤外線カット能をあげるほど、金属薄膜の総膜厚が厚いことが必要となる。しかし、金属薄膜の総膜厚が大きくなる程、緑色〜黄緑色になる傾向がある。従って、プラズマディスプレイに用いる電磁波シールド体はその透過色がニュートラルグレーまたはブルーグレーであることが要求される。これは、緑色透過が強いことによるコントラスト低下や、赤色及び緑色発光色に比べ青色発光が弱いこと、標準白色より若干高めの色温度の白色が好まれること、等による。加えて、電磁波シールド体の透過特性は、プラズマディスプレイの白色表示の色度座標が極力、黒体軌跡に近いことが望ましい。
【０１１０】
多層薄膜を透明導電層（Ｄ）に用いた場合は、多層薄膜の色調を補正して電磁波シールド体の透過色をニュートラルグレーまたはブルーグレーにすることが肝要である。色調を補正するには可視波長領域に吸収のある色素を用いれば良い。例えば、透明導電層（Ｄ）の透過色に緑色味がある場合、赤色の色素を用いてグレーに補正し、透過色に黄色味がある場合は青〜紫の色素を用いて補正する。
【０１１１】
カラープラズマディスプレイでは、希ガスの直流または交流放電により発生する真空紫外光で励起発光する(Y,Gd,Eu)BO3等の赤色（Red）発光蛍光体、(Zn,Mn)2SiO4等の緑色（Green）発光蛍光体、(Ba,Eu)MgAl10O17:Eu 等の青色（Blue）発光蛍光体が、画素を構成する表示セルに形成されている。蛍光体は、色純度の他に放電セルへの塗布性、残光時間の短さ、発光効率、耐熱性等を指標に選定されており、実用化されている蛍光体はその色純度に改良を要するものが多い。特に赤色発光蛍光体の発光スペクトルは、波長５８０ｎｍから７００ｎｍ程度までにわたる数本の発光ピークを示しており、比較的強度な短波長側の発光ピークは黄〜オレンジ色の発光であるので赤色発光がオレンジに近い色純度の良くないものとなってしまう問題がある。希ガスにＸｅとＮｅの混合ガスを用いた場合、Ｎｅ励起状態の発光緩和によるオレンジ色発光も同様に色純度を落としてしまう。また、緑色発光、青色発光に関しても、そのピーク波長の位置、発光のブロードさが色純度を下げる要因となっている。
【０１１２】
色純度の高さは、例えば、国際照明委員会（ＣＩＥ）が定めた横軸色度ｘ、縦軸色度ｙで色相と彩度を表す座標系において、ＲＧＢ三色を頂点とした三角形の広さで示す色再現範囲の広さで表すことができる。色純度の低さからプラズマディスプレイの発光の色再現範囲は、ＮＴＳＣ（National Television System Committee）方式で定めているＲＧＢ三色の色度が示す色再現範囲より通常狭い。
【０１１３】
また、表示セル間での発光の滲み出しに加えて、各色の発光が広い範囲にわたって不必要な光を含んでおり、必要な発光が際立たないことは、色純度だけではなくプラズマディスプレイのコントラストを下げる要因にもなっている。さらに、プラズマディスプレイは一般に室内照明等による外光が存在する明時においては暗時に比べコントラストが悪くなる。これは、基板ガラス、蛍光体等が外光を反射し、不必要な光が必要な光を際立たせなくするために起きる。プラズマディスプレイパネルのコントラスト比は、暗示は１００〜２００、周囲照度100lx 程度の明時は１０〜３０であり、その向上が課題となっている。また、コントラストが低いことも色再現範囲を狭くしている要因である。
【０１１４】
コントラストを向上させるためにはディスプレイ前面にニュートラル・デンシティ（ＮＤ）フィルタの如く、可視波長領域全体の透過率を下げ、基板ガラス、蛍光体における外光反射等の透過を少なくする方法があるが、可視光線透過率が著しく低いと、輝度・画像の鮮明さが低下することになり、また、色純度の改善はあまり見られない。
【０１１５】
本発明者らは、カラープラズマディスプレイの発光色の色純度及びコントラストを向上させることは、発光色の色純度及びコントラストを下げる原因となる不要発光及び外光反射を低減することによって達成できることを見出した。
【０１１６】
また、本発明者らは、色素を用いることによって、電磁波シールド体をニュートラルグレーまたはニュートラルブルーに調色するだけではなく、発光色の色純度及びコントラストを下げる原因となる不要発光及び外光反射を低減できることを見出した。特に、赤色発光がオレンジに近いものは顕著であり、その原因である波長５８０ｎｍ〜６０５ｎｍの発光を低減することによって赤色発光の色純度を向上させることができることを見い出した。
【０１１７】
本発明のディスプレイ用フィルタにおいて、不要発光及び外光反射の低減は、波長５７０ｎｍ〜６０５ｎｍに吸収極大を有する色素をシールド体に含有させることによって行うことができる。この際、ディスプレイ用フィルタによって、赤色である発光ピークのある波長６１５ｎｍ〜６４０ｎｍの光線透過を著しく損なってしまわないことが必要である。
【０１１８】
一般に、色素はブロードな吸収範囲を有しており、所望の吸収ピークを有するものも、その裾の吸収により好適な波長の発光まで吸収してしまうことがある。Ｎｅによる発光が存在する場合は、オレンジ色発光の低減を行うこともできるため、ＲＧＢ表示セルからの発光の色純度が向上する。
【０１１９】
また、カラープラズマディスプレイの緑発光はブロードであり、そのピーク位置は、例えば、ＮＴＳＣ方式で要求される緑色より若干長波長側、すなわち黄緑側にあることがある。
【０１２０】
本発明者らは、波長５７０ｎｍ〜６０５ｎｍに吸収極大を有する色素の短波長側の吸収によって、緑色発光の長波長側を吸収して削り、さらに不要発光を削ること、及び／又は、ピークをシフトさせることによって色純度を向上できることを見出した。
【０１２１】
赤色発光、更に加えて緑色発光の色純度向上には、波長５７０ｎｍ〜６０５ｎｍに吸収極大を有する色素を用いることによって、波長５７０ｎｍ〜６０５ｎｍにおける電磁波シールド体の最低透過率が、必要な赤色発光のピーク位置での透過率に対して８０％以下であることが好適である。
【０１２２】
青色発光の色純度が低い場合は、赤色発光、緑色発光と同様に、不要発光を低減し、また、そのピーク波長をシフトさせ、青緑発光を吸収する色素を用いれば良い。さらに、色素による吸収は、外光の蛍光体への入射を低減することによって蛍光体での外光反射を低減させることができる。このことによってもまた色純度及びコントラストを向上させることができる。
【０１２３】
本発明のディスプレイ用フィルタに色素を含有させる方法としては、（１）透明な樹脂に少なくとも１種類以上の色素を混錬させた高分子フィルム、（２）樹脂または樹脂モノマー／有機系溶媒の樹脂濃厚液に少なくとも１種類以上の色素を分散・溶解させ、キャスティング法により作製した高分子フィルム、（３）樹脂バインダーと有機系溶媒に少なくとも１種類以上の色素を加え、塗料として透明な基体上にコーティングしたもの、（４）少なくとも１種類以上の色素を含有する透明な粘着材、のいずれか一つ以上の形態として用いる方法である。
【０１２４】
本発明でいう含有とは、基材または塗膜等の層または粘着材の内部に含有されることは勿論、基材または層の表面に塗布した状態をも意味する。
【０１２５】
色素は、可視領域に所望の吸収波長を有する一般の染料または顔料で良く、その種類は特に限定されるものではないが、例えば、アントラキノン系、フタロシアニン系、メチン系、アゾメチン系、オキサジン系、アゾ系、スチリル系、クマリン系、ポルフィリン系、ジベンゾフラノン系、ジケトピロロピロール系、ローダミン系、キサンテン系、ピロメテン系等の一般に市販もされている有機色素があげられる。その種類・濃度は、色素の吸収波長・吸収係数、透明導電層の色調及び電磁波シールド体に要求される透過特性・透過率、そして分散させる媒体または塗膜の種類・厚さから決まり、特に限定されるものではない。
【０１２６】
透明導電層（Ｄ）に多層薄膜を用いる場合、電磁波シールド能に加え、近赤外線カット能も有しているが、より高い近赤外線カット能が必要であったり、透明導電層が近赤外線カット能を有していない場合に、近赤外線カット能をディスプレイ用フィルターに付与するために、前記色素に近赤外線吸収色素を１種類以上併用しても良い。
【０１２７】
近赤外線吸収色素としては、透明導電層の近赤外線カット能を補填し、プラズマディスプレイの発する強度の近赤外線を充分実用的になる程度に吸収するものであれば、特に限定されるものではなく、濃度も限定されるものではない。近赤外線吸収色素としては、例えば、フタロシアニン系化合物、アントラキノン系化合物、ジチオール系化合物、ジイミニウム系化合物が挙げられる。
【０１２８】
プラズマディスプレイパネルはパネル表面の温度が高く、特に環境の温度が高いときは電磁波シールド体の温度も上がるため、本発明で用いる色素は、耐熱性、例えば、８０℃で分解等によって顕著に劣化しない耐熱性を有していることが好適である。
【０１２９】
また、色素によっては、耐熱性に加えて、耐光性に乏しいものもある。プラズマディスプレイの発光や外光の紫外線・可視光線による劣化が問題になる場合は、紫外線吸収剤を含む部材や紫外線を透過しない部材を用いることによって、色素の紫外線による劣化を低減すること、紫外線や可視光線による顕著な劣化がない色素を用いることが肝要である。熱、光に加えて、湿度や、これらの複合した環境においても同様である。色素が劣化すると電磁波シールド体の透過特性が変わってしまう。
【０１３０】
実際に、プラズマディスプレイパネルの表面温度が７０℃から８０℃になることは特開平８−２２０３０３号に明記されている。また、プラズマディスプレイパネルより発生する光は、例えば、３００ｃｄ／ｍ2と明記されており（富士通株式会社Ｉｍａｇｅ Ｓｉｔｅ カタログ ＡＤ２５−００００６１Ｃ Ｏｃｔ．１９９７Ｍ）、立体角を２πとして、これを２万時間照射すると、２π×２００００×３００＝３８００万（ｌｘ・時間）となることから、実用上数千万（ｌｘ・時間）程度の耐光性が必要になることが分かる。
【０１３１】
さらには、色素を媒体または塗膜中に分散させるために、適宜の溶媒への溶解性も重要である。異なる吸収波長を有する色素２種類以上を一つの媒体または塗膜に含有させても良い。
【０１３２】
本発明のディスプレイ用フィルタは、カラープラズマディスプレイの輝度・視認性を著しく損なわない優れた透過特性・透過率を有し、カラープラズマディスプレイの発光色の色純度及びコントラストを向上させることができる。本発明者らは、１種以上含有せしめる色素の、少なくとも一つがテトラアザポルフィリン化合物の場合には、特に低減したい５７０〜６０５ｎｍの不要発光の波長と同じか、または近い波長に主要吸収波長を有し、且つ、吸収波長巾が比較的狭いので、好適な発光を吸収してしまうことによる輝度の損失を少なくできることを見出し、優れた透過特性・透過率・発光色の色純度及びコントラストを向上させる能力が優れたディスプレイ用フィルタを得ることができた。
【０１３３】
本発明で用いるテトラアザポルフィリン化合物は、前記式（１）で示すことができる。以下、式（１）は、下記構造式（２）（化３）の様に略記する。
【０１３４】
【化３】
〔式（２）中、Ａm及びＡnは各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシル基、スルホン酸基、炭素数１〜２０のアルキル基、ハロゲノアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アリールオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アラルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルキルチオ基、又は、アリールチオ基を表し、ＡmとＡnは各々独立に連結基を介して、芳香族環を除く環を形成しても良く、Ｍは２個の水素原子、２価の金属原子、３価の１置換金属原子、４価の２置換金属原子、又は、オキシ金属原子を表す。〕
式（１）で示されるテトラアザポルフィリン化合物の具体例を次に述べる。式中、Ａ1〜Ａ8の具体例としては、各々独立に、水素原子；フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；ヒドロキシ基；アミノ基；カルボキシル基；スルホン酸基；メチル基、エチル基、n-プロピル基、iso-プロピル基、n-ブチル基、iso-ブチル基、sec-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、2-メチルブチル基、1-メチルブチル基、neo-ペンチル基、1,2-ジメチルプロピル基、1,1-ジメチルプロピル基、cyclo-ペンチル基、n-ヘキシル基、4-メチルペンチル基、3-メチルペンチル基、2-メチルペンチル基、1-メチルペンチル基、3,3-ジメチルブチル基、2,3-ジメチルブチル基、1,3-ジメチルブチル基、2,2-ジメチルブチル基、1,2-ジメチルブチル基、1,1-ジメチルブチル基、3-エチルブチル基、2-エチルブチル基、1-エチルブチル基、1,2,2-トリメチルブチル基、1,1,2-トリメチルブチル基、1-エチル-2-メチルプロピル基、cyclo-ヘキシル基、n-へプチル基、2-メチルヘキシル基、3-メチルヘキシル基、4-メチルヘキシル基、5-メチルヘキシル基、2,4-ジメチルペンチル基、n-オクチル基、2-エチルヘキシル基、2,5-ジメチルヘキシル基、2,5,5-トリメチルペンチル基、2,4-ジメチルヘキシル基、2,2,4-トリメチルペンチル基、n-ノニル基、3,5,5-トリメチルヘキシル基、n-デシル基、4-エチルオクチル基、4-エチル-4,5-ジメチルヘキシル基、n-ウンデシル基、n-ドデシル基、1,3,5,7-テトラメチルオクチル基、4-ブチルオクチル基、6,6-ジエチルオクチル基、n-トリデシル基、6-メチル-4-ブチルオクチル基、n-テトラデシル基、n-ペンタデシル基、3,5 -ジメチルヘプチル基、2,6-ジメチルヘプチル基、2,4-ジメチルヘプチル基、2,2,5,5-テトラメチルヘキシル基、1-cyclo-ペンチル-2,2-ジメチルプロピル基、1-cyclo-ヘキシル-2,2-ジメチルプロピル基等の炭素数１〜２０の直鎖、分岐又は環状のアルキル基；
クロロメチル基、ジクロロメチル基、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ノナフルオロブチル基等の炭素数１〜２０のハロゲノアルキル基；
メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、iso-プロポキシ基、n-ブトキシ基、iso-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、t-ブトキシ基、n-ペントキシ基、iso-ペントキシ基、neo-ペントキシ基、n-ヘキシルオキシ基、n-ドデシルオキシ基等の炭素数１〜２０のアルコキシ基；
メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、3-メトキシプロピルオキシ基、3-(iso- プロピルオキシ) プロピルオキシ基等の炭素数２〜２０のアルコキシアルコキシ基；
フェノキシ基、2-メチルフェノキシ基、4-メチルフェノキシ基、4-t-ブチルフェノキシ基、2-メトキシフェノキシ基、4-iso-プロピルフェノキシ基等の炭素数６〜２０のアリールオキシ基；
メチルアミノ基、エチルアミノ基、n-プロピルアミノ基、n-ブチルアミノ基、n-ヘキシルアミノ基等の炭素数１〜２０のモノアルキルアミノ基；
ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ-n- プロピルアミノ基、ジ-n- ブチルアミノ基、N-メチル-N-シクロヘキシルアミノ基等の炭素数２〜２０のジアルキルアミノ基；
ベンジル基、ニトロベンジル基、シアノベンジル基、ヒドロキシベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、ジクロロベンジル基、メトキシベンジル基、エトキシベンジル基、トリフルオロメチルベンジル基、ナフチルメチル基、ニトロナフチルメチル基、シアノナフチルメチル基、ヒドロキシナフチルメチル基、メチルナフチルメチル基、トリフルオロメチルナフチルメチル基等の炭素数７〜２０のアラルキル基；
フェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、ジクロロフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、N,N-ジメチルアミノフェニル 基、ナフチル基、ニトロナフチル基、シアノナフチル基、ヒドロキシナフチル基、メチルナフチル基、トリフルオロメチルナフチル基等の炭素数６〜２０のアリール基；
ピロリル基、チエニル基、フラニル基、オキサゾイル基、イソオキサゾイル基、オキサジアゾイル基、イミダゾイル基、ベンゾオキサゾイル基、ベンゾチアゾイル基、ベンゾイミダゾイル基、ベンゾフラニル基、インドイル基等のヘテロアリール基；
メチルチオ基、エチルチオ基、n-プロピルチオ基、iso-プロピルチオ基、n-ブチルチオ基、iso-ブチルチオ基、sec-ブチルチオ基、t-ブチルチオ基、n-ペンチルチオ基、iso-ペンチルチオ基、2-メチルブチルチオ基、1-メチルブチルチオ基、neo-ペンチルチオ基、1,2-ジメチルプロピルチオ基、1,1-ジメチルプロピルチオ基等の炭素数１〜２０のアルキルチオ基；
フェニルチオ基、4-メチルフェニルチオ基、2-メトキシフェニルチオ基、4-t-ブチルフェニルチオ基等の炭素数６〜２０のアリールチオ基などを挙げることができる。
【０１３６】
Ａ1とＡ2、Ａ3とＡ4、Ａ5とＡ6、Ａ7とＡ8が連結基を介して環を形成した例としては、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ（ＮＯ2 ）ＣＨ2−、−ＣＨ2 ＣＨ（ＣＨ3 ）ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ（Ｃｌ）ＣＨ2ＣＨ2 −等を挙げることができる。
【０１３７】
Ｍで示される２価金属の例としては、Ｃｕ、Ｚｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｍｎ，Ｓｎ，Ｍｇ，Ｈｇ，Ｃｄ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｂｅ，Ｃａ等が挙げられる。
【０１３８】
１置換の３価金属の例としては、Ａｌ−Ｆ，Ａｌ−Ｃｌ，Ａｌ−Ｂｒ，Ａｌ−Ｉ，Ｇａ−Ｆ，Ｇａ−Ｃｌ，Ｇａ−Ｂｒ，Ｇａ−Ｉ，Ｉｎ−Ｆ，ＩｎＣｌ，Ｉｎ−Ｂｒ，Ｉｎ−Ｉ，Ｔｌ−Ｆ，Ｔｌ−Ｃｌ，Ｔｌ−Ｂｒ，Ｔｌ−Ｉ，Ａｌ−Ｃ6 Ｈ5 ，Ａｌ−Ｃ6Ｈ4（ＣＨ3 ），Ｉｎ−Ｃ6Ｈ5 ，Ｉｎ−Ｃ6Ｈ4（ＣＨ3 ），Ｍｎ（ＯＨ），Ｍｎ（ＯＣ6Ｈ5 ），Ｍｎ［ＯＳｉ（ＣＨ3）3 ］，Ｆｅ−Ｃｌ，Ｒｕ−Ｃｌ等が挙げられる。
【０１３９】
２置換の４価金属の例としては、ＣｒＣｌ2 ，ＳｉＦ2 ，ＳｉＣｌ2 ，ＳｉＢｒ2 ，ＳｉＩ2 ，ＳｎＦ2 ，ＳｎＣｌ2 ，ＳｎＢｒ2 ，ＺｒＣｌ2 ，ＧｅＦ2 ，ＧｅＣｌ2 ，ＧｅＢｒ2 ，ＧｅＩ2 ，ＴｉＦ2 ，ＴｉＣｌ2 ，ＴｉＢｒ2 ，Ｓｉ（ＯＨ）2 ，Ｓｎ（ＯＨ）2 ，Ｇｅ（ＯＨ）2 ，Ｚｒ（ＯＨ）2 ，Ｍｎ（ＯＨ）2 ，ＴｉＡ2 ，ＣｒＡ2 ，ＳｉＡ2 ，ＳｎＡ2 ，ＧｅＡ2 ［但し、Ａはアルキル基、フェニル基、ナフチル基及びその誘導体を表す］、Ｓｉ（ＯＡ）2 ，Ｓｎ（ＯＡ）2 、Ｇｅ（ＯＡ）2 、Ｔｉ（ＯＡ）2 ，Ｃｒ（ＯＡ）2 ［但し、Ａはアルキル基、フェニル基、ナフチル基、トリアルキルシリル基、ジアルキルアルコキシシリル基及びその誘導体を表す］、Ｓｉ（ＳＡ）2 、Ｓｎ（ＳＡ）2 ，Ｇｅ（ＳＡ）2 ［但し、Ａはアルキル基、フェニル基、ナフチル基及びその誘導体を表す］等が挙げられる。
【０１４０】
オキシ金属の例としては、ＶＯ，ＭｎＯ，ＴｉＯ等が挙げられる。
好ましくは、Ｐｄ，Ｃｕ，Ｒｕ，Ｐｔ，Ｎｉ，Ｃｏ，Ｒｈ，Ｚｎ，ＶＯ，ＴｉＯ，Ｓｉ（Ｙ）2 ，Ｇｅ（Ｙ）2 （但し、Ｙはハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、ヒドロキシ基、アルキル基、アリール基、アルキルチオ基、アリールチオ基、トリアルキルシリルオキシ基、トリアルキルスズオキシオ基又はトリアルキルゲルマニウムオキシ基を表す）である。
【０１４１】
さらに好ましくは、Ｃｕ、ＶＯ、Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｃｏである。
本発明者らはさらに、式（１）のアザポルフィリン化合物が、例えば、テトラ−ｔ−ブチル−テトラアザポルフィリン錯体やテトラ−ｎｅｏ−ペンチル−テトラアザポルフィリン錯体であると、製造が比較的容易であること、溶媒への溶解性、錯体が安定であること、吸収特性に優れていること、ｔ−ブチル基やテトラ−ｎｅｏ−ペンチル基を付与した結果、錯体が立体性を持つことによって溶媒への溶解性が高くなり、色素を含有させやすくなることを見出し、優れた電磁波シールド体を得られることができた。
【０１４２】
本発明のディスプレイ用フィルタにおいては、前記の色素を含有させる方法（１）〜（４）は、色素を含有する高分子フィルム（Ｂ）、色素を含有する後述の透明粘着層（Ｃ）または第２の透明粘着層、色素を含有する後述の機能性透明層（Ａ）、色素を含有する前述のハードコート層（Ｆ）のいずれか１つ以上の層において実施することが出来る。色素を含有する後述の機能性透明層（Ａ）は、色素を含有し且つ各機能を有する膜でも、色素を含有し且つ各機能を有する膜が高分子フィルム上に形成されたものでも、各機能を有する膜が色素を含有する基材に形成されたもの、のいずれでも良い。
【０１４３】
なお、本発明では、異なる吸収波長を有する色素２種類以上を一つの媒体または塗膜に含有させてもよく、また色素層を２つ以上有していても良い。
【０１４４】
まず、樹脂に色素を混練し、加熱成形する（１）の方法について説明する。
樹脂材料としては、プラスチック板または高分子フィルムにした場合にできるだけ透明性の高いものが好ましく、具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン６等のポリアミド、ポリイミド、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリウレタン、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂、ポリ塩化ビニル等のビニル化合物、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン等のビニリデン化合物、フッ化ビニリデン／トリフルオロエチレン共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重体等のビニル化合物又はフッ素系化合物の共重合体、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等を挙げることが出来るが、これらの樹脂に限定されるものではない。
【０１４５】
作製方法としては、用いる色素、ベース高分子によって、加工温度、フィルム化条件等が多少異なるが、通常、(i) ベース高分子の粉体或いはペレットに色素を添加し、１５０〜３５０℃で加熱、溶解させた後、成形してプラスチック板を作製する方法、(ii)押し出し機によりフィルム化する方法、(iii)押し出し機により原反を作製し、３０〜１２０℃で２〜５倍に、１軸乃至は２軸に延伸して１０〜２００μｍ厚のフィルムにする方法、等が挙げられる。なお、混練する際に可塑剤等の通常の樹脂成型に用いる添加剤を加えてもよい。色素の添加量は、色素の吸収係数、作製する高分子成形体の厚み、目的の吸収強度、目的の透過特性・透過率等によって異なるが、通常、ベース高分子成形体の重量に対して１ｐｐｍ〜２０％である。
【０１４６】
（２）のキャスティング法では、樹脂または樹脂モノマーを有機系溶媒に溶解させた樹脂濃厚液に、色素を添加・溶解させ、必要であれば可塑剤、重合開始剤、酸化防止剤を加え、必要とする面状態を有する金型やドラム上へ流し込み、溶剤揮発・乾燥または重合・溶剤揮発・乾燥させることにより、プラスチック板、高分子フィルムを得る。
【０１４７】
通常、脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、芳香族エステル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変成樹脂（ＰＶＢ、ＥＶＡ等）或いはそれらの共重合樹脂の樹脂モノマーを用いる。溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶媒、あるいはそれらの混合物系等を用いる。
【０１４８】
色素の濃度は、色素の吸収係数、板またはフィルムの厚み、目的の吸収強度、目的の透過特性・透過率等によって異なるが、樹脂モノマーの重量に対して、通常、１ｐｐｍ〜２０％である。
【０１４９】
また、樹脂濃度は、塗料全体に対して、通常、１〜９０％である。
塗料化してコーティングする（３）の方法としては、色素をバインダー樹脂及び有機系溶媒に溶解させて塗料化する方法、未着色のアクリルエマルジョン塗料に色素を微粉砕（５０〜５００ｎｍ）したものを分散させてアクリルエマルジョン系水性塗料とする方法、等がある。
【０１５０】
前者の方法では、通常、脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、芳香族エステル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変成樹脂（ＰＶＢ、ＥＶＡ等）或いはそれらの共重合樹脂をバインダー樹脂として用いる。溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶媒、あるいはそれらの混合物系等を用いる。
【０１５１】
色素の濃度は、色素の吸収係数、コーティングの厚み、目的の吸収強度、目的の可視光透過率等によって異なるが、バインダー樹脂の重量に対して、通常、０．１〜３０％である。
【０１５２】
また、バインダー樹脂濃度は、塗料全体に対して、通常、１〜５０％である。後者のアクリルエマルジョン系水系塗料の場合も、前記と同様に、未着色のアクリルエマルジョン塗料に、色素を微粉砕（５０〜５００ｎｍ）したものを分散させて得られる。塗料中には、酸化防止剤等の通常塗料に用いるような添加物を加えてもよい。
【０１５３】
上記の方法で作製した塗料は、透明高分子フィルム、透明樹脂、透明ガラス等の上にバーコーダー、ブレードコーター、スピンコーター、リバースコーター、ダイコーター、或いはスプレー等の従来公知のコーティングをして、色素を含有する基材を作製する。
【０１５４】
コーティング面を保護するために保護層を設けたり、コーティング面を保護するようにコーティング面に、電磁波シールド体の他の構成部材を貼合わせても良い。
【０１５５】
色素を含有する粘着材として用いる方法（４）では、アクリル系接着剤、シリコン系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリビニルブチラール接着剤（ＰＶＢ）、エチレン−酢酸ビニル系接着剤（ＥＶＡ）等、ポリビニルエーテル、飽和無定形ポリエステル、メラミン樹脂等のシート状または液状の粘着材または接着剤に、色素を１０ｐｐｍ〜３０％添加して用いる。
【０１５６】
なお、これらの方法では、色素含有の電磁波シールド体の耐光性を上げるために紫外線吸収剤を色素と共に含有させることもできる。紫外線吸収剤の種類、濃度は特に限定されない。
【０１５７】
６．透明粘着層、導電性粘着層
本発明において、貼合わせ（ラミネート）は、任意の透明粘着層を介する。本発明の透明粘着層（Ｃ）などは、任意の透明な接着剤または粘着剤または粘着材からなる層である。具体的にはアクリル系接着剤、シリコン系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリビニルブチラール接着剤（ＰＶＢ）、エチレン−酢酸ビニル系接着剤（ＥＶＡ）等、ポリビニルエーテル、飽和無定形ポリエステル、メラミン樹脂等が挙げられる。この際肝要なことは、ディスプレイからの光線透過部である中心部分に用いられる粘着材は可視光線に対して充分透明である必要がある。
【０１５８】
導電性粘着層は、透明導電層（Ｄ）と表示装置のアース部（グランド導体）とを電気的に接続させるための粘着層であって、導電性が必要だが、透明である必要はない。電磁波シールド体は、透明導電層（Ｄ）と外部との電気的接続が必要であるので、透明粘着層は導電性粘着層による外部との電気的接続を著しく妨げてはならない。すなわち、透明導電層（Ｄ）上に透明粘着層が形成されていない導通部が必要である。例えば、透明粘着層は透明導電層（Ｄ）の周縁部を残すように形成し、導通部を残すことが肝要である。
【０１５９】
導電性粘着層に用いる導電性接着剤、導電性粘着材は、アクリル系接着剤、シリコン系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリビニルブチラール接着剤（ＰＶＢ）、エチレン−酢酸ビニル系接着剤（ＥＶＡ）等、ポリビニルエーテル、飽和無定形ポリエステル、メラミン樹脂等をベース剤として、導電性粒子としてカーボンやＣｕ，Ｎｉ，Ａｇ，Ｆｅ等の金属粒子を分散させたものである。分散粒子の導電性が低くて、かつ、粒子径が細かく且つ粒子数が多くて粒子同士の接触面積が広いと、導電性接着剤、導電性粘着材の体積固有抵抗が低くなり好適になる。用いることが出来る導電性接着剤、導電性粘着材の体積固有抵抗は１×１０ -4 〜１×１０ 3 Ω・ｃｍである。実用上の接着強度があればシート状のものでも液状のものでもよい。
【０１６０】
粘着材としては感圧型接着剤でシート状のものが好適に使用できる。シート状粘着材貼付け後または接着材塗布後にラミネートすることによって貼合わせを行う。
【０１６１】
液状のものは塗布、貼合わせ後に室温放置または加熱または紫外線照射により硬化する接着剤である。塗布方法としては、スクリーン印刷法、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等が挙げられるが、接着剤の種類、粘度、塗布量等から考慮、選定される。層の厚みは、特に限定されるものではないが、体積固有抵抗と必要な導電性を勘案して０．５μｍ〜５０μｍ、好ましくは１μｍ〜３０μｍである。また、両面ともに導電性を有する両面接着タイプの市販の導電性テープも好適に使用できる。この厚さもまた特に限定されるものではないが、数μｍ〜数ｍｍ程度である。
【０１６２】
粘着材は、実用上の接着強度があればシート状のものでも液状のものでもよい。粘着材は、感圧型接着剤でシート状のものが好適に使用できる。シート状粘着材貼付け後または接着材塗布後に、各部材をラミネートすることによって貼合わせを行う。
【０１６３】
液状のものは、塗布、貼合わせ後に、室温放置または加熱により硬化する接着剤である。
【０１６４】
塗布方法としては、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等が挙げられるが、接着剤の種類、粘度、塗布量等から考慮、選定される。
【０１６５】
層の厚みは、特に限定されるものではないが、０．５μｍ〜５０μｍ、好ましくは１μｍ〜３０μｍである。透明粘着層を形成される面、貼合わせられる面は、予め易接着コートまたはコロナ放電処理などの易接着処理により濡れ性を向上させておくことが好適である。
【０１６６】
さらに、透明粘着層を介して貼合わせた後は、貼合わせ時に部材間に入り込んだ空気を脱泡、または、粘着材に固溶させ、さらには部材間の密着力を向上させる為に、できれば加圧、加温の条件で養生を行うことが肝要である。このとき、加圧条件としては数気圧〜２０気圧以下程度、加温条件としては各部材の耐熱性に依るが、室温以上８０℃以下程度であるが、これらに特に制限を受けない。透明粘着層の少なくとも１つの層には色素を含有させることができる。
【０１６７】
７．機能性透明層（Ａ）
本発明のディスプレイ用フィルタには、ディスプレイへの設置方法や要求される機能に応じて、ハードコート性、反射防止性、防眩性、静電気防止性、防汚性、ガスバリア性、紫外線カット性のいずれか一つ以上の機能を有し、且つ、可視光線を透過する機能性透明層（Ａ）が直接または第２の透明粘着層を介して、透明導電層（Ｄ）の上に形成される。１つの機能性透明層（Ａ）が、複数の機能を有していることは好ましいことである。
【０１６８】
本発明における機能性透明層（Ａ）は、上記各機能を一つ以上有する機能膜そのものでも、機能膜を塗布または印刷または従来公知の各種成膜法により形成した透明な基体でも、各機能を有する透明な基体でも良い。
【０１６９】
機能膜そのものの場合は、機能性透明層（Ａ）を形成する透明導電層（Ｄ）の主面に塗布または印刷または従来公知の各種成膜法により直接形成する。
【０１７０】
機能膜を形成した透明な基体、各機能を有する透明な基体の場合は、粘着材または色素を含有する粘着材を介して透明導電層（Ｄ）の主面に貼付けても良い。これらの作製方法は特に制限を受けない。
【０１７１】
透明な基体は、透明な高分子フィルムであり、その種類、厚さも特に制限を受けないし、透明な基体に色素を含有させることもできる。機能性透明層（Ａ）が機能膜そのものでも、膜中に色素を含有させることができる。
【０１７２】
電磁波シールド体は、透明導電層（Ｄ）と外部との電気的接続が必要であるので、機能性透明層（Ａ）はこの電気的接続を妨げてはならない。すなわち、透明導電層（Ｄ）上に機能性透明層（Ａ）が形成されていない導通部が必要である。例えば、機能性透明層（Ａ）を透明導電層の周縁部を残すように形成し、この周辺部を導通部とすることができる。
【０１７３】
ディスプレイは、照明器具等の映り込みによって表示画面が見づらくなってしまうので、機能性透明層（Ａ）は、外光反射を抑制するための反射防止（ＡＲ：アンチリフレクション）性、防眩（ＡＧ：アンチグレア）性またはその両特性を備えた反射防止防眩（ＡＲＡＧ）性のいずれかの機能を有していることが必要である。電磁波シールド体表面の可視光線反射率が低いと、前述した通り、プラズマディスプレイの蛍光体への外光入射及び反射が低減し、映り込み防止だけではなく、コントラスト及び色純度向上につながる。
【０１７４】
反射防止（ＡＲ）性を有する機能性透明層（Ａ）は、反射防止膜を形成する基体の光学特性を考慮し、光学設計によって反射防止膜の構成要素及び各構成要素の膜厚を決定する。具体的には、可視域において屈折率が１．５以下、好適には１．４以下と低いフッ素系透明高分子樹脂やフッ化マグネシウム、シリコン系樹脂や酸化珪素の薄膜等を例えば１／４波長の光学膜厚で単層形成したもの、屈折率の異なる金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機化合物またはシリコン系樹脂やアクリル樹脂、フッ素系樹脂等の有機化合物の薄膜を基体から見て高屈折率層、低屈折率層の順に２層以上積層したものがある。
【０１７５】
単層形成したものは、製造が容易であるが、反射防止性が２層以上積層したものに比べ劣る。４層積層したものは、広い波長領域にわたって反射防止能を有し、基体の光学特性による光学設計の制限が少ない。
【０１７６】
これらの無機化合物薄膜の成膜には、スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、湿式塗工等、従来公知の方法のいずれでも採用できる。有機化合物薄膜の成膜には、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等の湿式塗工後に乾燥・硬化させる方法等、従来公知の方法を採用できる。
【０１７７】
反射防止性を有する機能性透明層（Ａ）の表面の可視光線反射率は２％以下、好ましくは１．３％以下、さらに好ましくは０．８％以下である。
【０１７８】
防眩（ＡＧ）性を有する機能性透明層（Ａ）は、０．１μｍ〜１０μｍ程度の微少な凹凸の表面状態を有する可視光線に対して透明な層を指している。具体的には、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型又は光硬化型樹脂に、シリカ、有機珪素化合物、メラミン、アクリル等の無機化合物または有機化合物の粒子を分散させインキ化したものを、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等によって基体上に塗布、硬化させる。粒子の平均粒径は、１〜４０μｍである。または、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型又は光硬化型樹脂を基体に塗布し、所望のヘイズまたは表面状態を有する型を押しつけ硬化することによっても防眩性を得ることができる。要は適当な凹凸を有することが重要であり、必ずしも上記方法に限定されるものではない。
【０１７９】
防眩性のヘイズは０．５％以上、２０％以下であり、好ましくは１％以上、１０％以下である。ヘイズが小さすぎると防眩性が不十分であり、ヘイズが大きすぎると平行光線透過率が低くなり、ディスプレイの視認性が悪くなる。
【０１８０】
反射防止防眩（ＡＲＡＧ）性を有する機能性透明層（Ａ）は、防眩性を有する膜または基体上に前述の反射防止膜を形成することによって得られる。この際、防眩性を有する膜が高屈折率の膜である場合、反射防止膜が単層でも比較的高い反射防止性を付与することができる。
【０１８１】
ＡＲまたはＡＲＡＧによる反射防止はディスプレイ用フィルタの光線透過率を向上させることができる。
【０１８２】
本発明のディスプレイ用フィルタは、透明粘着層（Ｃ）を介してディスプレイ表示部に貼合わせるため、表示部表面の基板ガラス反射が無くなる。従って、さらに加えて、ＡＲまたはＡＲＡＧの機能を有する機能性透明層（Ａ）を形成したフィルタは、その表面の反射も低く、ディスプレイのコントラスト及び色純度をさらに向上させることが出来る。ＡＲまたはＡＲＡＧの機能を有する機能性透明層（Ａ）の表面における可視光線反射率は２％以下、好ましくは１．３％以下、さらに好ましくは０．８％以下である。
【０１８３】
ディスプレイ用フィルタに耐擦傷性を付加させるために、機能性透明層（Ａ）がハードコート性を有していることも好適である。ハードコート膜としてはアクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型又は光硬化型樹脂等が挙げられるが、その種類も形成方法も特に限定されない。これら膜の厚さは、１〜１００μｍ程度である。ハードコート膜が反射防止性を有する透明機能層（Ａ）の高屈折率層または低屈折率層に用いられたり、ハードコート膜上に反射防止膜が形成されて、機能性透明層（Ａ）が反射防止性とハードコート性の両方を有しても良い。同様に防眩性とハードコート性の両方を有しても良い。この場合はハードコート膜が粒子の分散さ等により凹凸を有すれば良いし、その上に反射防止膜が形成されれば反射防止防眩性とハードコート性を両方有する機能性透明層（Ａ）が得られる。ハードコート性を有する機能性透明層（Ａ）の表面硬度は、ＪＩＳ（Ｋ―５４００）に従った鉛筆硬度が少なくともＨ、好ましくは２Ｈ、さらに好ましくは３Ｈ以上である。
【０１８４】
さらに、ディスプレイ用フィルタには、静電気帯電によりホコリが付着しやすく、また、人体が接触したときに放電して電気ショックを受けることがあるため、帯電防止処理が必要とされる場合がある。従って、静電気防止能を付与するために、機能性透明層（Ａ）が導電性を有していても良い。この場合に必要とされる導電性は面抵抗で１０11Ω／□程度以下であれば良いが、ディスプレイ画面の透明性や解像度を損なうものであってはならない。導電層としてはＩＴＯをはじめとする公知の透明導電膜やＩＴＯ超微粒子や酸化スズ超微粒子をはじめとする導電性超微粒子を分散させた導電膜が挙げられる。
【０１８５】
また、先述した反射防止性、防眩性、反射防止防眩性、ハードコート性のいずれか一つ以上の機能を有した機能性透明層（Ａ）を構成する層が導電性を有していると好適である。
【０１８６】
また、多層薄膜に銀を用いた場合、銀は化学的、物理的安定性に欠け、環境中の汚染物質、水蒸気等によって劣化し、凝集、白化現象を起こすため、透明導電性積層体の薄膜形成面には、薄膜が使用環境中の汚染物質、水蒸気がさらされないように、ガスバリア性を有する機能性透明層（Ａ）で被覆することが肝要である。必要とされるガスバリア性は、透湿度で１０ｇ／ｍ2 ・ｄａｙ以下である。ガスバリア性を有する膜の具体例としては、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、酸化イットリウム、酸化マグネシウム等、またはこれらの混合物、またはこれらに他の元素を微量に添加した金属酸化物薄膜や、ポリ塩化ビニリデンほか、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、フッ素系樹脂等が挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。これら膜の厚さは、金属酸化物薄膜の場合、１０〜２００ｎｍ、樹脂の場合１〜１００μｍ程度であり、単層でも多層でも良いが、これもまた特に制限されるものではない。また、水蒸気透湿度が低い高分子フィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン、ポリ塩化ビニリデンや、塩化ビニリデンと塩化ビニル、塩化ビニリデンとアクリロニトリルの共重合物、フッ素系樹脂等が挙げられるが、透湿度が１０ｇ／ｍ2 ・ｄａｙ以下であれば特に限定されるものではない。透湿度が比較的高い場合でも、フィルムの厚みが増えることや適当な添加物を加えることにより、透湿度は低下する。
【０１８７】
また、先述した反射防止性、防眩性、反射防止防眩性、帯電防止性、アンチニュートンリング性、ハードコート性のいずれか一つ以上の機能を有した機能性透明層（Ａ）を構成する層がガスバリア性を有する膜であったり、全体または隣接する透明粘着層と併用で上記のガスバリア性を有していると、好適である。
【０１８８】
例えば、色素を含有する反射防止性、ハードコート性、帯電防止性、および、ガスバリア性を有する機能性透明層（Ａ）としては、色素含有のポリエチレンテレフタレートフィルム／ハードコート膜／ＩＴＯ／含ケイ素化合物／ＩＴＯ／含ケイ素化合物、等があげられる。
【０１８９】
また、反射防止防眩性、ハードコート性、帯電防止性、および、ガスバリア性を有する機能性透明層（Ａ）としては、トリアセチルセルロースフィルム／ＩＴＯ微粒子分散ハードコート膜／含ケイ素化合物化合物、等があげられる。
【０１９０】
さらに、指紋等の汚れ防止や汚れが付いたときに簡単に取り除くことができるよう、機能性透明層（Ａ）表面が防汚性を有していると良い。防汚性を有するものとしては、水及び／または油脂に対して非濡性を有するものであって、例えばフッ素化合物やケイ素化合物が挙げられる。反射防止性や帯電防止性等の他の機能と併せる際には、それら機能を妨げるものであってはならない。この場合、反射防止膜の構成材料に低屈折率であるフッ素化合物を使用することや、１〜数分子のフッ素系有機分子を最表面にコートすることによって、反射防止性や帯電防止性を維持しつつ防汚性を付与することができる。
【０１９１】
例えば、防汚性、反射防止性、ハードコート性、帯電防止性、および、ガスバリア性を有する機能性透明層（Ａ）としては、ハードコート膜／ＩＴＯ／含ケイ素化合物／ＩＴＯ／含ケイ素化合物／フッ素系有機分子の単分子コート膜、等があげられる。
【０１９２】
さらにまた、電磁波シールド体が含有する色素が、ディスプレイから放射される、または、外光が含む紫外線により劣化することを防ぐために、機能性透明層（Ａ）が、紫外線カット性を有していると良い。例えば、紫外線を吸収する無機薄膜単層または多層からなる反射防止膜、または、紫外線吸収剤を含有する機能性透明膜を形成する基材、ハードコート膜を有している機能性透明層（Ａ）である。紫外線吸収剤の種類、濃度は特に限定されない。
【０１９３】
また、透明粘着層のうち少なくとも１つの層は紫外線吸収剤を含有していても良い。
【０１９４】
紫外線カットする部材は、紫外線が入射する面と色素を含有する層の間に配されることが肝要であり、紫外線カット性は、色素の耐久性によって異なり特に限定されない。
【０１９５】
８．厚さ
「接着・粘着の辞典（朝倉書店）」によると、支持体の厚みと粘着力の関係について、「一般には、支持体の厚みが大きくなると曲げエネルギーが大きくなるので粘着力は大きくなるが、ある点から曲げモーメントなどの影響により粘着力は低下してくる」との記載がある。本発明者らは、透明高分子フィルムの全体厚を０．３ｍｍ以上とすることで、光学フィルターフィルムのガラス面からの剥離を容易に行うことができることを見出した。光学フィルターフィルムの剛性は主に透明高分子フィルムの厚さ合計によって支配されるため、本発明における効果は、上記曲げモーメントの効果によるものと推察される。また、光学フィルターフィルムの剛性が増すことにより、平均した力による連続的な剥離が可能となり、剥離中断点を起点とするガラス板への糊残りが生じることが少なくなる。
【０１９６】
さらには、透明高分子フィルムの厚さ合計を上げることによって耐衝撃性も向上する。透明高分子フィルムの厚さ合計が大きいほど、その耐衝撃性は向上するが、フィルムの積層枚数が多くなると生産効率が低くなる、その剛性が大幅増加することによりディスプレイへの直接貼合わせが困難になる。従って透明高分子フィルムの厚さ合計については特に指定はないが、０．３〜１．０ｍｍが好ましく、さらに好ましくは、０．４ｍｍ〜０．８ｍｍである。また、透明高分子フィルムの積層枚数についても特に指定はないが、２〜６枚が好ましく、さらに好ましくは２枚〜４枚である。
【０１９７】
図１２〜図１７は、本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【０１９８】
図１２において、透明粘着層３０、近赤外遮蔽機能を有する透明高分子フィルム（Ｂ）２３（１５０μｍ）、透明粘着層３０、反射防止機能を示す機能性透明層（Ａ）を有する透明高分子フィルム（Ｂ）２４（１８８μｍ）が順次積層されて、ディスプレイ用フィルタを構成する。
【０１９９】
図１３において、透明粘着層３０、嵩上げ用透明高分子フィルム（Ｂ）２５（２００μｍ）、透明粘着層３０、近赤外遮蔽機能を有する透明高分子フィルム（Ｂ）２３（７５μｍ）、透明粘着層３０、反射防止機能を示す機能性透明層（Ａ）を有する透明高分子フィルム（Ｂ）２４（８０μｍ）が順次積層されて、ディスプレイ用フィルタを構成する。
【０２００】
図１４において、透明粘着層３０、近赤外遮蔽機能を有する透明高分子フィルム（Ｂ）２３（７５μｍ）、透明粘着層３０、嵩上げ用透明高分子フィルム（Ｂ）２５（２００μｍ）、透明粘着層３０、反射防止機能を示す機能性透明層（Ａ）を有する透明高分子フィルム（Ｂ）２４（８０μｍ）が順次積層されて、ディスプレイ用フィルタを構成する。
【０２０１】
図１５において、透明粘着層３０、嵩上げ用透明高分子フィルム（Ｂ）２５（２００μｍ）、透明粘着層３０、反射防止機能を示す機能性透明層（Ａ）及び赤外線遮蔽機能を有する透明高分子フィルム（Ｂ）２６（１５０μｍ）が順次積層されて、ディスプレイ用フィルタを構成する。
【０２０２】
図１６において、透明粘着層３０、嵩上げ用透明高分子フィルム（Ｂ）２５（２００μｍ）、透明粘着層３０、電磁波遮蔽機能を示す透明導電層（Ｄ）を有する透明高分子フィルム（Ｂ）２３（７５μｍ）、透明粘着層３０、防眩性機能をを示す機能性透明層（Ａ）を有する透明高分子フィルム（Ｂ）２４（１５０μｍ）が順次積層され、透明高分子フィルム２３の上に電極５０が形成されてディスプレイ用フィルタを構成する。
【０２０３】
図１７において、透明粘着層３０、嵩上げ用透明高分子フィルム（Ｂ）２５（２００μｍ）、透明粘着層３０、反射防止機能を示す機能性透明層（Ａ）及び電磁波遮蔽機能を示す透明導電層（Ｄ）を有する透明高分子フィルム（Ｂ）２６（１８８μｍ）が順次積層され、透明高分子フィルム２５と２６の上に電極５０が形成されてディスプレイ用フィルタを構成する。
【０２０４】
図１８は、図１６に示した電磁波遮蔽機能を示す透明高分子フィルム（Ｂ）２３の構成を示す断面図である。高分子フィルム（Ｂ）２０の上に、電磁波遮蔽機能を示す透明導電層（Ｄ）１０が形成され、透明導電層（Ｄ）１０は、高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）１１と銀又は銀合金から成る金属薄膜層（Ｄｍ）１２とがＤｔ／Ｄｍ／Ｄｔ／Ｄｍ／Ｄｔの順で積層されて構成される。フィルタの裏面には透明粘着層３０が設けられ、ディスプレイ画面に接着可能になる。
【０２０５】
図１９は、図１７に示した電磁波遮蔽機能を示す透明高分子フィルム（Ｂ）２６の構成を示す断面図である。高分子フィルム（Ｂ）２０の上に、電磁波遮蔽機能を示す透明導電層（Ｄ）１０が形成され、透明導電層（Ｄ）１０は、高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）１１と銀又は銀合金から成る金属薄膜層（Ｄｍ）１２とがＤｔ／Ｄｍ／Ｄｔ／Ｄｍ／Ｄｔ／Ｄｍ／Ｄｔの順で積層されて構成される。高分子フィルム（Ｂ）２０の反対面には機能性透明層（Ａ）として反射防止膜６１が設けられる。フィルタの裏面には透明粘着層３０が設けられ、ディスプレイ画面に接着可能になる。
【０２０６】
図２０は、図１６または図１７に示したディスプレイ用フィルタの平面図である。フィルタの平面形状は長方形で、ディスプレイで表示された画像はフィルタ中央部を透過して観察される。フィルタの長辺および短辺を含む周辺部には透明導電層と電気接続された電極５０が形成され、電極５０はディスプレイのグランド端子に接続される。
【０２０７】
９．電極
電磁波シールドを必要とする機器には、機器のケース内部に金属層を設けたり、ケースに導電性材料を使用して電波を遮断する。ディスプレイ画面の如く透明性が必要である場合には、透明導電層を形成した窓状の電磁波シールド体を設置する。電磁波は導電層において吸収されたのち電荷を誘起するため、アースをとることによって電荷を逃がさないと、再び電磁波シールド体がアンテナとなって電磁波を発振し電磁波シールド能が低下する。従って、電磁波シールド体とディスプレイ本体のアース部が電気的に接続している必要がある。そのため、図３に示したように透明導電層（Ｄ）上に透明粘着層（Ｃ）及び機能性透明層（Ａ）が形成されている場合は、透明粘着層（Ｃ）及び機能性透明層（Ａ）は、導通部を残すように透明導電層（Ｄ）上に形成されることが好ましい。
【０２０８】
導通部の形状は特に限定しないが、電磁波シールド体とディスプレイ本体の間に、電磁波の漏洩する隙間が存在しないことが肝要である。
【０２０９】
本発明における電極とは、電磁波シールド体における外部との電気的導通部をいう。これは、透明導電層の剥き出し部でもよいし、剥き出し部の上部に、その保護と良好な電気的接触を目的として、導電性の金属ペーストを印刷したり、導電性テープ、導電性粘着材などの導電性材料を貼合わせてもよい。また、機能性透明層上に透明導電層と電気接続がとれる形で形成してもよい。以上のように、電極の形状や材料は特に限定しないが、透明導電層の剥き出し部を導電性材料で覆うように電極を形成することが好適である。
【０２１０】
但し、本発明における電極は、透明導電層を含む本発明のフィルムの断面部に導電性材料を接触させて得てもよい。断面部とは、透明導電層を含むフィルムの断面部は、少なくとも透明導電性層とそれを保護するためのフィルムが層状をなしていることが観察できるが、適当な導電性材料が透明導電層と断面部において接触していれば所望の電極を得ることができる。
【０２１１】
この場合に透明導電層上に形成される透明粘着層の端部が透明導電層の端部よりも内側に入り込んでいると、導電ペースト等を用いて電極を形成する場合にその隙間部分に導電ペーストが入り込み、透明導電層と電極との接触面積が増加するので好ましい。
【０２１２】
図２１〜図２５は、本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【０２１３】
図２１において、透明粘着層３０、透明高分子フィルム（Ｂ）２３、透明導電層（Ｄ）１０、機能性透明層（Ａ）である防眩性フィルム７１が順次積層され、透明導電層（Ｄ）１０の上に電極５０が形成されてディスプレイ用フィルタを構成する。
【０２１４】
図２２において、外気側からディスプレイ側に向かって、機能性透明層（Ａ）である防眩性フィルム７１、透明高分子フィルム（Ｂ）２３、透明導電層（Ｄ）１０が順次積層され、透明導電層（Ｄ）１０の周辺に電極５０が形成される。透明導電層（Ｄ）１０の裏面で、電極５０を除いた中央部には透明粘着層３０が設けられ、ディスプレイ画面に接着可能になる。
【０２１５】
図２３において、透明粘着層３０、透明高分子フィルム（Ｂ）２３、透明導電層（Ｄ）１０、機能性透明層（Ａ）である防眩性フィルム７１が順次積層され、積層体の側端面に電極５０が形成されてディスプレイ用フィルタを構成する。
【０２１６】
図２４において、透明粘着層３０、透明導電層（Ｄ）１０、透明高分子フィルム（Ｂ）２３、機能性透明層（Ａ）である防眩性フィルム７１が順次積層され、透明粘着層３０と透明導電層（Ｄ）１０との間に銅テープ等の導電テープ５１がフィルタ周辺部に介在して、透明導電層（Ｄ）１０の電気接続を確保している。
【０２１７】
図２５において、透明粘着層３０、透明導電層（Ｄ）１０、透明高分子フィルム（Ｂ）２３、機能性透明層（Ａ）である防眩性フィルム７１が順次積層され、フィルタの厚さ方向に貫通するスルーホール電極５２が形成され、透明導電層（Ｄ）１０の電気接続を確保している。
【０２１８】
図２６は、図２１〜図２５に示したディスプレイ用フィルタの平面図である。フィルタの平面形状は長方形で、ディスプレイで表示された画像はフィルタ中央部を透過して観察される。フィルタの２つの長辺には透明導電層と電気接続された電極５０、導電テープ５１又はスルーホール電極５２が形成され、これらの電極はディスプレイのグランド端子に接続される。なお、図２１〜図２５に示したディスプレイ用フィルタの電極は、もちろん図２０の平面図に示したように、フィルタの全周に配置されていてもよい。
【０２１９】
図２４に示したように透明導電層とその上に貼合わせる透明粘着層との間に銅テープのような導電テープを挟み込み、その導電テープの一部分を電磁波シールド体外部に引き出すことによって電極を形成しても良い。この場合、外部に引き出された導電性テープが実質的に電極となる。
【０２２０】
図２５に示したように透明導電層から電磁波シールド体最表面に通じるような隙間を設け、電極を形成しても良い。表面から見える隙間の形状には特に指定はなく、円形でもよいし、角型でも良い。また線状に形成されていても構わない。表面から見える個々の隙間の大きさにも特に指定はない。ただし、あまり大きすぎると視認部分にかかってしまうので好ましくない。隙間の形成位置は、視認部分を避ける位置であれば特に指定はない。必然的に端部から近い位置となる。形成する隙間の数にも特に制限はないが、全周に渡ってできるだけ多く形成されている方が電流の取り出し効率が上昇するので好ましい。隙間は透明導電層と電磁波シールド体最表面の間に設けられていれば良いが、形成する電極との接触面積を増やす観点から、透明導電層を貫通していることが好ましい。
【０２２１】
隙間を埋める部材に関しても特に指定はない。金属部材で埋めても良いし、導電性ペーストで埋めても良い。この場合、隙間を埋めた部材が実質的に電極となる。
【０２２２】
導通部は透明導電層（Ｄ）の周縁部に、且つ連続的に設けられていることが好適である。すなわち、ディスプレイの表示部である中心部分を除いて、枠状に、導通部が設けられていることが好ましい。
【０２２３】
但し、全周に導通部が形成されていなくとも一定の電磁波遮断能力はあるので、装置からの電磁波発生量と許容電磁波漏洩量とを総合的に考慮することによって、使用可能な場合も多い。
【０２２４】
例えば、長方形の向い合う辺のみに導電材料を付与し電極を形成する設計にすれば、ロールツーロール方式で電極を形成したり、ロール状態のまま電極を形成したりすることができるため、非常に生産効率良く光学フィルターを作製することができるので都合が良い。また、この手法は先に示した、電極として導電性テープを用いる場合においても利用することができる。
【０２２５】
長方形の向い合う２辺以外の部分に加えてさらに別の部分に電極が形成されていたり、向い合う２辺における一部分に電極が形成されていない部分が存在しても特に問題はない。
【０２２６】
導通部を覆う電極は、耐環境性及び耐擦傷性に劣る透明導電層（Ｄ）の保護にもなる。電極に用いる材料は、導電性、耐触性および透明導電膜との密着性等の点から、銀、金、銅、白金、ニッケル、アルミニウム、クロム、鉄、亜鉛、カーボン等の単体もしくは２種以上からなる合金や、合成樹脂とこれら単体または合金の混合物、もしくは、ホウケイ酸ガラスとこれら単体または合金の混合物からなるペーストを使用できる。電極形成にはメッキ法、真空蒸着法、スパッタ法など、ペーストといったものは印刷、塗工する方法など従来公知の方法を採用できる。
【０２２７】
用いる導電性材料は電気を通導することのできるものであれば特に指定はない。通常は、銀ペーストなどの導電性の材料をペースト状にした物が用いられる。
【０２２８】
電極の形成方法としては、ペースト状の物であれば断面部に塗布し乾燥させたりして行う。ロール状態のフィルムの側面に導電性材料を塗布しても良いし、ロールツーロールで繰り出しながら側面に塗布しても構わない。また、テープ状の導電性材料も用いることができる。
【０２２９】
また、透明支持基体に透明導電性薄膜層が形成された透明高分子フィルムを貼合わせた後に、断面部に塗布することもできる。
【０２３０】
塗布方法としては、効率および精度の観点から、スクリーン印刷法が用いられる場合が多い。
【０２３１】
また隙間を金属部材で埋めて電極を形成する場合は、電磁波シールド体自体には予め加工を施さなくても構わない。ねじ穴を形成した金属性のアースを予め表示装置の外周部分に準備しておき、金属性のアース部分を含めて、表示装置の表示部分に電磁波シールド体を貼付けた後に電磁波シールド体を貫通するようにして金属性アースのねじ穴に導電性のねじを埋め込めば良い。この場合導電性のねじが実質的に電極の役割を果たす。この手法を用いると電磁波シールド体をロールツーロール方式で生産性高く作製できるうえ、電磁波シールド体の全周部分に渡って電極を形成することも容易である。
【０２３２】
１０．電磁波シールド
電磁波シールド体と表示装置との間からの電磁波の漏れを最小限にするためには、電磁波シールド体の導電層と表示装置との間の絶縁空間をできるだけ減らすことが必要である。空気やその他絶縁物が隙間に介在しているとそこから電磁波が外部に漏れ出してしまい好ましくない。
【０２３３】
従来のように支持基体に透明導電性フィルムを貼合わせて電磁波シールド体を作製する場合は、透明導電層と表示装置との間に主に絶縁物である支持基体が存在することになり、透明導電層と表示装置との間を全周に渡って導電性を保つように接触させなければ、十分な電磁波遮断効果を得ることができなかった。このため、電磁波シールド体の製造工程においては、枚葉により透明支持基体に貼付けるという工程および枚葉で全外週部分に電極を形成するという作業が必要であった。
【０２３４】
本発明において、フィルム状態の電磁波シールド体を表示装置に直接貼付ける場合は、導電層と表示装置との距離が非常に近いため、絶縁空間を従来の手法に比較して大幅に狭くすることができるため、電極を全周部分に渡って形成せずとも十分な電磁波遮断効果を得ることできるので好ましい。このことは電磁波シールド体の透明導電層が表示装置側に形成されている場合に顕著である。すなわち長方形の２つの長辺のみに電極を形成することによって十分な電磁波遮断効果を得ることができる。その場合、製造手法として非常に生産性の高い手法であるロールツーロール法を用いることができるので非常に好適である。
【０２３５】
１１．表示装置及びその製造方法
本発明の表示装置は、装置の表示部に接着された、電磁波シールド体及び／又は調光フィルムとして機能するディスプレイ用フィルタを具備する。電磁波シールド体は、表示装置とを電気的に接触する。
【０２３６】
本発明に係る表示装置の製造方法は、主として以下の（１）〜（１０）の方法が挙げられるが、これに限定されるものではない。
【０２３７】
方法（１）：機能性透明層（Ａ）及び導通部（及び電極）／透明導電層（Ｄ）／高分子フィルム（Ｂ）（及びハードコート層（Ｆ））／透明粘着層（Ｃ）、または、機能性透明層（Ａ）及び導通部（及び電極）／透明粘着層（Ｃ）／透明導電層（Ｄ）／高分子フィルム（Ｂ）（及びハードコート層（Ｆ））／透明粘着層（Ｃ）である本発明の電磁波シールド体を表示装置の表示部に透明粘着層（Ｃ）を貼合わせ面にして、貼合わせる。
【０２３８】
貼合わせ後、本発明の電磁波シールド体の導通部または導通部上に形成された電極と表示装置本体の導通部すなわちアース部を、導電性テープまたは導電性接着剤または導電性塗料または導電性の成形部品をもって電気的に接続する。
【０２３９】
方法（２）：表示装置の表示部に、透明導電層（Ｄ）／高分子フィルム（Ｂ）（及びハードコート層（Ｆ））／透明粘着層（Ｃ）の順に構成される積層体を、透明粘着層（Ｃ）を貼合わせ面として、貼合わせた後、透明導電層（Ｄ）上に導通部を残して機能性透明層（Ａ）を直接または透明粘着層（Ｃ）を介して形成し、且つ、積層体の導通部と表示装置本体の導通部すなわちアース部を、導電性テープまたは導電性接着剤または導電性塗料または導電性の成形部品をもって電気的に接続する。
【０２４０】
方法（３）：表示装置の表示部に透明粘着層（Ｃ）を塗工または貼合し、機能性透明層（Ａ）及び導通部（及び電極）／透明導電層（Ｄ）／高分子フィルム（Ｂ）（及びハードコート層（Ｆ））の順に構成される積層体を、高分子フィルム（Ｂ）を貼合わせ面として、貼合わせた後、積層体の導通部と表示装置本体の導通部すなわちアース部を、導電性テープまたは導電性接着剤または導電性塗料または導電性の成形部品をもって電気的に接続する。
【０２４１】
方法（４）：表示装置の表示部に透明粘着層（Ｃ）を塗工または貼合し、透明導電層（Ｄ）／高分子フィルム（Ｂ）（及びハードコート層（Ｆ））の順に構成される透明積層体を高分子フィルム（Ｂ）を貼合わせ面として、貼合わせた後、透明導電層（Ｄ）上に導通部を残して機能性透明層（Ａ）を直接または第２の透明粘着層を介して形成し、且つ、積層体の導通部と表示装置本体の導通部すなわちアース部を、導電性テープまたは導電性接着剤または導電性塗料または導電性の成形部品をもって電気的に接続する。
【０２４２】
方法（５）：機能性透明層（Ａ）／高分子フィルム（Ｂ）／透明導電層（Ｄ）／透明粘着層（Ｃ）および導電性粘着層からなる電磁波シールド体を、表示装置の少なくとも表示部に透明粘着層（Ｃ）を貼合わせ面にし、且つ、表示装置の少なくともアース部に導電性粘着層を貼合わせ面にして貼合わせる。
【０２４３】
方法（６）：表示装置の少なくとも表示部、または、少なくとも透明導電層（Ｄ）／高分子フィルム（Ｂ）／機能性透明層（Ａ）の順に構成される積層体の透明導電層（Ｄ）上の透光部に透明粘着層（Ｃ）を形成し、また、表示装置の少なくともアース部、または、該積層体の透明導電層（Ｄ）上に導電性粘着層を形成した後、該積層体と表示装置を貼合わせる。
【０２４４】
方法（７）：機能性透明層（Ａ）／高分子フィルム（Ｂ）／透明導電層（Ｄ）／透明粘着層（Ｃ）および導電性粘着層からなり、端部において透明導電層（Ｄ）と高分子フィルム（Ｂ）の間に銅テープ等の導電性テープの一部分が挟み込まれている電磁波シールド体を、表示装置の少なくとも表示部に透明粘着層（Ｃ）を貼合わせ面にし、且つ、表示装置の少なくともアース部に導電性テープの外部露出部分を貼合わせる。
【０２４５】
方法（８）：表示装置の少なくとも表示部、または、少なくとも透明導電層（Ｄ）／高分子フィルム（Ｂ）／機能性透明層（Ａ）の順に構成され、端部において透明導電層（Ｄ）と高分子フィルム（Ｂ）の間に銅テープ等の導電性テープの一部分が挟み込まれている積層体の透明導電層（Ｄ）上の透光部に透明粘着層（Ｃ）を形成し、また、表示装置の少なくともアース部、または、該積層体の透明導電層（Ｄ）上に導電性粘着層を形成した後、該積層体と表示装置を貼合わせる。
【０２４６】
本発明の電磁波シールド体は、透過特性、透過率、可視光線反射率が優れているため、プラズマディスプレイに形成することにより、プラズマディスプレイの輝度を著しく損なわずに、その色純度及びコントラストを向上させることができる。さらにまた、プラズマディスプレイから発生する健康に害をなすといわれている電磁波を遮断する電磁波シールド能に優れ、さらに、プラズマディスプレイからでる８００〜１１００ｎｍ付近の近赤外線を効率よくカットするため、周辺電子機器のリモコン、伝送系光通信等が使用する波長に悪影響を与えず、それらの誤動作を防ぐことができる。また、耐候性・耐環境性に優れ、反射防止性及び／または防眩性、耐擦傷性、防汚性、帯電防止性等を兼ね備えており、低コストに提供できる。本発明の電磁波シールド体を具備せしめることにより、優れた特性を有するプラズマディスプレイを提供できる。
【０２４７】
本発明の電磁波シールド体は、光学特性、電磁波シールド能、近赤外線カット能に優れているので、プラズマディスプレイ以外の電磁波及び／又は近赤外線を発生するＦＥＤ（Fi eld Emission Display)、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube)等の各種ディスプレイに好適に使用できる。
【０２４８】
調光フィルムを具備した表示装置の製造方法に関しては、主として以下の２つの方法が挙げられるが、これに限定されるものではない。
【０２４９】
方法（９）：少なくとも機能性透明層（Ａ）／高分子フィルム（Ｂ）／透明粘着層（Ｃ）である本発明の調光フィルムを表示装置の少なくとも表示部に透明粘着層（Ｃ）を貼合わせ面として貼合わせる。
【０２５０】
方法（１０）：表示装置の少なくとも表示部に透明粘着層（Ｃ）を形成し、少なくとも透明導電層（Ｄ）／高分子フィルム（Ｂ）の順に構成される積層体の高分子フィルム（Ｂ）面を貼合わせ面として、表示装置と貼合わせる。
【０２５１】
本発明の調光フィルムは、透過特性、透過率、反射特性が優れているため、カラープラズマディスプレイ等のディスプレイの表示部に直接形成することにより、ディスプレイの輝度を著しく損なうことなく、その色純度及びコントラストを向上させることができる。また、耐擦傷性、防汚性、静電気防止性等を兼ね備えており、低コストに提供できる。
【０２５２】
また、本発明の調光フィルムを直接ディスプレイ表面に形成し具備せしめることにより、優れた特性を有する表示装置を提供できる。
【０２５３】
【実施例】
次に、本発明を実施例により具体的に説明する。本発明はこれらによりなんら制限されるものではない。
【０２５４】
実施例中の透明導電層（Ｄ）を構成する薄膜は、基材の一方の主面にマグネトロンＤＣスパッタリング法により成膜した。薄膜の厚さは、成膜条件から求めた値であり、実際に測定した膜厚ではない。
【０２５５】
高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）はＩＴＯ薄膜で形成され、ターゲットに酸化インジウム・酸化スズ焼結体（組成比Ｉｎ2Ｏ3：ＳｎＯ2＝９０：１０ｗｔ％）又は酸化スズ焼結体を、スパッタガスにアルゴン・酸素混合ガス（全圧２６６ｍＰａ：酸素分圧５ｍＰａ）を用いて成膜した。
【０２５６】
金属薄膜層（Ｄｍ）は銀薄膜又は銀−パラジウム合金薄膜で形成され、ターゲットに銀又は銀−パラジウム合金（パラジウム１０ｗｔ％）を、スパッタガスにアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いて成膜した。
【０２５７】
尚、透明導電層の面抵抗は、四探針測定法（プローブ間隔１ｍｍ）により測定した。また、表面の可視光線反射率（Ｒvis ）は、まず測定対象物の小辺を切り出し、透明粘着層を取り除いて高分子フィルム（Ｂ）側表面をサンドペーパーで荒らした後、艶消し黒スプレーしてこの面の反射を無くし、反射積分球（光線入射角度６゜）を用いた（株）日立製作所製分光光度計（Ｕ−３４００）により可視領域の全光線反射率を測定し、ここで求められた反射率からＪＩＳＲ３１０６に従って計算した。
【０２５８】
（実施例１）
２軸延伸ポリエチレンテレフタレート（以下ＰＥＴ）フィルム（厚さ：１８８μｍ）を高分子フィルム（Ｂ）としてその一方の主面に、ＰＥＴフィルムから順に、ＩＴＯ薄膜（膜厚：４０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１１ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：９５ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１４ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：９０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１２ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：４０ｎｍ）の計７層の透明導電層（Ｄ）を形成し、面抵抗２．２Ω／□の透明導電層（Ｄ）を有する透明積層体１を作製した。
【０２５９】
ＰＥＴフィルム／透明導電層の断面を、本発明における高分子フィルム（Ｂ）／透明導電層（Ｄ）の一例を示す断面図として、（図１）に示した。図１において、符号１０は透明導電層（Ｄ）、符号１１は高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）、符号１２は金属薄膜層（Ｄｍ）、符号２０は高分子フィルム（Ｂ）である。
【０２６０】
酢酸エチル／トルエン（５０：５０ｗｔ％）溶剤に有機色素を分散・溶解させ、アクリル系粘着剤の希釈液とした。アクリル系粘着剤／色素入り希釈液（８０：２０ｗｔ％）を混合し、コンマコーターにより透明積層体１の高分子フィルム（Ｂ）側の面に乾燥膜厚２５μｍに塗工の後、乾燥、粘着面に離型フィルムをラミネートして、離型フィルムと透明積層体の高分子フィルム（Ｂ）に挟み込まれた透明粘着層（Ｃ）（粘着材１）を形成した。なお、粘着材１の屈折率は１．５１、消光係数は０であった。
【０２６１】
有機色素としては、プラズマディスプレイが放射する不要発光を吸収させるための波長５９５ｎｍに吸収極大を有する三井化学（株) 製色素ＰＤ−３１９、及び白色発光の色度を補正するための三井化学（株) 製赤色色素ＰＳ−Ｒｅｄ−Ｇを用い、それぞれ乾燥した粘着材１の中に１１５０（ｗｔ）ｐｐｍ、１０５０（ｗｔ）ｐｐｍで含有されるようにアクリル系粘着剤／色素入り希釈液を調整した。なお、ＰＤ−３１９は下記式（３）（化４）で表されるテトラ−ｔ−ブチル−テトラアザポルフィリン・バナジル錯体である。
【０２６２】
【化４】
トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（厚さ：８０μｍ）の一方の主面に、多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を加え、さらにＩＴＯ微粒子（平均粒径：１０ｎｍ）を分散させたコート液をグラビアコーターにて塗工し、紫外線硬化によって導電性ハードコート膜（膜厚：３μｍ）を形成し、その上に含フッ素有機化合物溶液をマイクログラビアコーターにて塗工・９０℃乾燥・熱硬化させ、屈折率１．４の反射防止膜（膜厚：１００ｎｍ）を形成し、ハードコート性（ＪＩＳＫ５４００準拠の鉛筆硬度：２Ｈ）、ガスバリア性（ＡＳＴＭ−Ｅ９６準拠、１．８ｇ／ｍ2・ｄａｙ）、反射防止性（表面のＲvis ：１．０％）、帯電防止性（表面抵抗：７×１０9 Ω／□）、防汚性を有する機能性透明層（Ａ）として反射防止フィルム１を得た。反射防止フィルム１の他方の主面に、粘着材１と同様の素材で色素を入れない粘着剤／希釈液を塗工・乾燥させ、厚さ２５μｍの透明粘着層（粘着材２）を形成し、さらに離型フィルムをラミネートした。
【０２６４】
ロール状の透明積層体１／粘着材１／離型フィルムを９７０ｍｍ×５７０ｍｍの大きさに裁断し、ガラス製支持板に透明導電層（Ｄ）面を上にして固定した。さらに、ラミネーターを用いて、透明導電層（Ｄ）の周縁部２０ｍｍが剥き出しになるように導通部を残して、内側だけに反射防止フィルムをラミネートした。透明導電層（Ｄ）面から見た平面図を、本発明の電磁波シールド体の一例を示す平面図として、（図２）に示した。図２において、符号０２は電磁波シールド体の透光部、符号０３は電磁波シールド体の導通部である。
【０２６５】
さらに、透明導電層（Ｄ）の剥き出しの導通部を覆うように周縁部の幅２２ｍｍの範囲に、銀ペースト（三井化学（株）製ＭＳＰ−６００Ｆ）をスクリーン印刷し、乾燥させ厚さ１５μｍの電極を形成した。支持板からはずして、透明粘着層（Ｃ）面に離型フィルムを有する本発明の電磁波シールド体を作製した。
【０２６６】
さらに、該電磁波シールド体の離型フィルムを剥離して、プラズマディスプレイパネル前面（表示部９２０ｍｍ×５２０ｍｍ）に枚葉式ラミネーターを用いて貼合わせた後、６０℃、２×１０ 5 Ｐａの加圧加温条件下でオートクレーブ処理した。電磁波シールド体の電極部と該プラズマディスプレイパネルのアース部を、（株）寺岡製作所製・導電性銅箔粘着テープ（５１０ＦＲ）を用いて接続し、本発明の電磁波シールド体を具備する表示装置を得た。該電磁波シールド体の断面を、本発明の電磁波シールド体とその装着状態の一例を示す断面図として、（図３）に示した。図３において、符号００はディスプレイ表示部、符号１０は透明導電層（Ｄ）、符号２０は高分子フィルム（Ｂ）、符号３１は色素を含有する透明粘着層（Ｃ）、符号４０は透明粘着層（Ｅ）、符号５０は電極、符号６０は反射防止性、ハードコート性、ガスバリア性、静電気防止性、防汚性を有する機能性透明層（Ａ）、符号６１は防汚性を有する反射防止膜、符号６２は帯電防止性を有するハードコート膜、符号６３はハードコート膜６２及び反射防止膜６１が形成される透明な基材、符号８０は導電性銅箔粘着テープである。
【０２６７】
（参考例１）
ポリエチレンテレフタレートペレット１２０３（ユニチカ（株）製）に白色発光の色度を補正するための三井化学（株）製赤色色素ＰＳ−Ｒｅｄ−Ｇを０．０１ｗｔ％、同じく紫色色素ＰＳ−Ｖｉｏｌｅｔ−ＲＣを０．０１５ｗｔ％混合し、２６０〜２８０℃で溶融させ、押し出し機により厚み２００μｍのフィルムを作製した。その後、このフィルムを２軸延伸して、厚み１００μｍの色素を含有した色素入りＰＥＴフィルム〔高分子フィルム（Ｂ）〕を作製した。
【０２６８】
該ＰＥＴフィルムの一方の主面にアルコキシシランを氷酢酸で加水分解したものにシリコーン系表面平滑剤を加えたコート液を、グラビアコーターにて塗工・１２０℃の熱硬化によってハードコート膜（膜厚：１０μｍ、鉛筆硬度：３Ｈ）を形成し、ハードコート層（Ｆ）を形成した色素含有のＰＥＴフィルムを得た。該ハードコート層上に、順にＳｎＯ2 薄膜（膜厚：４０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：９ｎｍ）、ＳｎＯ2 薄膜（膜厚：８０ｎｍ）、銀−パラジウム合金薄膜（膜厚：１１ｎｍ）、ＳｎＯ2 薄膜（膜厚：４０ｎｍ）の計５層の面抵抗５．３Ω／□の透明導電層（Ｄ）を形成し、色素を含有するＰＥＴフィルム／ハードコート層（Ｆ）／透明導電層（Ｄ）である透明積層体２を作製した。
【０２６９】
透明積層体２のＰＥＴフィルム面に粘着材１と同様の素材で色素を入れない粘着剤／希釈液を塗工・乾燥させ、厚さ２５μｍの透明粘着層（Ｃ）（粘着材３）を形成し、さらに離型フィルムをラミネートした。
【０２７０】
ロール状の透明積層体２／粘着材３／離型フィルムを９７０ｍｍ×５７０ｍｍの大きさに裁断し、ガラス製支持板に透明導電層（Ｄ）面を上にして固定した。
【０２７１】
多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を添加、さらに有機シリカ微粒子（平均粒径：１５μｍ）を分散させた塗工液を調製した。
【０２７２】
透明導電層（Ｄ）の周縁部２０ｍｍが剥き出しになるように導通部を残して内側だけにフレキソ印刷した後、紫外線硬化し、防眩性（ヘーズメーター測定のヘーズ値：５％）、ハードコート性（鉛筆硬度：２Ｈ）を有する機能性透明層（Ａ）として、アンチグレア層を形成した。支持板からはずして、透明粘着層（Ｃ）面に離型フィルムを有する本発明の電磁波シールド体を作製した。
【０２７３】
さらに、該電磁波シールド体の離型フィルムを剥離して、プラズマディスプレイパネル前面（表示部９２０ｍｍ×５２０ｍｍ）に枚葉式ラミネーターを用いて貼合わせた後、６０℃、２×１０ 5 Ｐａの加圧加温条件下でオートクレーブ処理した。電磁波シールド体の導通部と該プラズマディスプレイパネルのアース部を、（株）寺岡製作所製・導電性銅箔粘着テープ（５１０ＦＲ）を用いて接続し、本発明の電磁波シールド体を具備する表示装置を得た。
【０２７４】
該電磁波シールド体の断面を、本発明の電磁波シールド体とその装着状態の一例を示す断面図として、（図４）に示した。図４において、符号００はディスプレイ表示部、符号１０は透明導電層（Ｄ）、符号２１は色素を含有する高分子フィルム（Ｂ）、符号２２はハードコート層（Ｆ）、符号３０は透明粘着層（Ｃ）、符号７０はアンチグレア層（防眩性、ハードコート性を有する機能性透明層（Ａ））、符号８０は導電性銅箔粘着テープである。
【０２７５】
（実施例２）
実施例１と同様に高分子フィルム（Ｂ）／透明導電層（Ｄ）積層体を作製した。
さらにロール状に巻き取られた上記ＰＥＴフィルム／透明導電層のＰＥＴフィルムの反対側主面に、機能性透明層（Ａ）として次の機能性透明膜１をロール・ツー・ロールで連続的に形成した。すなわち、多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を加え、さらにＩＴＯ微粒子（平均粒径：１０ｎｍ）を分散させたコート液をグラビアコーターにて塗工し、紫外線硬化によって導電性ハードコート膜（膜厚：３μｍ）を形成し、その上に含フッ素有機化合物溶液をマイクログラビアコーターにて塗工・９０℃乾燥・熱硬化させ、屈折率１．４の反射防止膜（膜厚：１００ｎｍ）を形成し、ハードコート性（ＪＩＳ Ｋ５４００準拠の鉛筆硬度：２Ｈ）、反射防止性（表面のＲvis ：０．９％）、帯電防止性（表面抵抗：７×１０9 Ω／□）、防汚性を有する機能性透明層（Ａ）を形成した。上記のロール状の機能性透明層（Ａ）／高分子フィルム（Ｂ）／透明導電層（Ｄ）を９７０ｍｍ×５７０ｍｍの大きさに裁断し、ガラス製支持板に透明導電層（Ｄ）面を上にして固定した。酢酸エチル／トルエン（５０：５０ｗｔ％）溶剤に有機色素を分散・溶解させ、アクリル系粘着剤の希釈液とした。アクリル系粘着剤／色素入り希釈液（８０：２０ｗｔ％）を混合し、バッチ式ダイコーターにより透明導電層（Ｄ）上に、周縁部２２ｍｍを除いて、乾燥膜厚２５μｍに塗工の後、乾燥させ、透明粘着層（Ｃ）として粘着材１を形成した。なお、粘着材１の屈折率は１．５１、消光係数は０であった。
【０２７６】
有機色素はプラズマディスプレイが放射する不要発光を吸収させるための波長５９５ｎｍに吸収極大を有する三井化学( 株) 製色素ＰＤ−３１９、及び、白色発光の色度を補正するための三井化学( 株) 製赤色色素ＰＳ−Ｒｅｄ−Ｇが、それぞれ乾燥した粘着材１の中で１１５０（ｗｔ）ｐｐｍ、１０５０（ｗｔ）ｐｐｍ含有するようにアクリル系粘着剤／色素入り希釈液を調整した。ＰＤ−３１９は式（３）（化５）で表されるテトラ−ｔ−ブチル−テトラアザポルフィリン・バナジル錯体である。
【０２７７】
【化５】
さらに、透明導電層（Ｄ）の剥き出しの導通部を覆うように、周縁部の幅２２ｍｍの範囲に、二液性常温硬化型接着剤（（株）スリーボンド製３３８１）をメタルマスクを用いて印刷し、乾燥させ厚さ２５μｍの導電性粘着層を形成した。
【０２７９】
支持体からはずして、透明粘着層（Ｃ）及び導電性粘着層面に離型フィルムをラミネートして、片面に離型フィルムを有する本発明の電磁波シールド体を作製した。
【０２８０】
さらに、該電磁波シールド体の離型フィルムを剥離して、プラズマディスプレイパネル前面（表示部９２０ｍｍ×５２０ｍｍ）に枚葉式ラミネーターを用いて貼合わせた。この際、少なくとも表示部に透明粘着層（Ｃ）部が、少なくともアース部に導電性粘着層を貼合わせるように位置合わせを行なった。貼合わせ後、６０℃、２×１０5 Ｐａの加圧加温条件下でオートクレーブ処理し、本発明の電磁波シールド体を具備する表示装置を得た。
【０２８１】
該電磁波シールド体の透明粘着層側から見た平面を、本発明の電磁波シールド体との一例を示す平面図として、（図５）に示した。図５において、符号３１は色素を含有する透明粘着層（Ｃ）、符号４１は導電性粘着層である。
【０２８２】
該電磁波シールド体の断面を、本発明の電磁波シールド体とその装着状態の一例を示す断面図として、（図６）に示した。図６において、符号００はディスプレイ表示部、符号１０は透明導電層（Ｄ）、符号２０は高分子フィルム（Ｂ）、符号３１は色素を含有する透明粘着層（Ｃ）、符号４１導電性粘着層、符号６０は反射防止性、ハードコート性、静電気防止性、防汚性を有する機能性透明層（Ａ）、符号６１は防汚性を有する反射防止膜、符号６２は帯電防止性を有するハードコート膜である。
【０２８３】
（参考例２）
参考例１と同様に高分子フィルム（Ｂ）を作製した。
ポリエチレンテレフタレートペレット１２０３（ユニチカ（株）製）に白色発光の色度を補正するための三井化学（株）製赤色色素ＰＳ−Ｒｅｄ−Ｇを０．０１ｗｔ％、同じく紫色色素ＰＳ−Ｖｉｏｌｅｔ−ＲＣを０．０１５ｗｔ％混合し、２６０〜２８０℃で溶融させ、押し出し機により厚み２００μｍのフィルムを作製した。その後、このフィルムを２軸延伸して、厚み１００μｍの色素を含有した高分子フィルム（Ｂ）である色素入りＰＥＴフィルムを作製した。
【０２８４】
該ＰＥＴフィルムの一方の主面に、順にＳｎＯ2 薄膜（膜厚：４０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：９ｎｍ）、ＳｎＯ2 薄膜（膜厚：８０ｎｍ）、銀−パラジウム合金薄膜（膜厚：１１ｎｍ）、ＳｎＯ2 薄膜（膜厚：４０ｎｍ）の計５層の面抵抗５．３Ω／□の透明導電層（Ｄ）を形成し、色素を含有するＰＥＴフィルム／透明導電層（Ｄ）である透明積層体２をロールツーロールで作製した。
【０２８５】
さらにロール状に巻き取られた上記ＰＥＴフィルム／透明導電層のＰＥＴフィルムの反対側主面に、機能性透明層（Ａ）として次の機能性透明膜２をロールツーロールで連続的に形成した。多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を添加、さらに有機シリカ微粒子（平均粒径：１５μｍ）を分散させた塗工液を調製し、塗工後、紫外線硬化させ、防眩性（ヘーズメーター測定のヘーズ値：５％）、ハードコート性（鉛筆硬度：２Ｈ）を有する機能性透明層（Ａ）として、アンチグレア層を形成した。
【０２８６】
上記のロール状の機能性透明層（Ａ）／高分子フィルム（Ｂ）／透明導電層（Ｄ）を９７０ｍｍ×５７０ｍｍの大きさに裁断し、ガラス製支持板に透明導電層（Ｄ）面を上にして固定した。
【０２８７】
実施例１の粘着材１と同様の素材で色素を入れない粘着材２を離型フィルム上に２５μｍ厚さに形成した。粘着材２／離型フィルムを、透明導電層上且つ周縁部２０ｍｍ残した内側に、粘着材２面を貼合わせ面として額縁貼りラミネーターを用いてラミネートした。さらに、透明導電層（Ｄ）の剥き出しの導通部を覆うように、周縁部の幅２０ｍｍの範囲に、導電性両面粘着テープ（寺岡製作所製ＷＭＦＴ７９１）を、片面の離型フィルムを剥離して貼った。
【０２８８】
支持体からはずして、片面に離型フィルムを有する本発明の電磁波シールド体を作製した。さらに、該電磁波シールド体の離型フィルムを剥離して、プラズマディスプレイパネル前面（表示部９２０ｍｍ×５２０ｍｍ）に枚葉式ラミネーターを用いて貼合わせた。この際、少なくとも表示部に透明粘着層（Ｃ）部が、少なくともアース部に導電性粘着層を貼合わせるように、位置合わせを行なった。貼合わせ後、６０℃、２×１０5 Ｐａの加圧加温条件下でオートクレーブ処理し、本発明の電磁波シールド体を具備する表示装置を得た。
【０２８９】
該電磁波シールド体の断面を、本発明の電磁波シールド体とその装着状態の一例を示す断面図として、（図７）に示した。図７において、符号００はディスプレイ表示部、符号１０は透明導電層（Ｄ）、符号２１は色素含有の高分子フィルム（Ｂ）、符号３０は透明粘着層（Ｃ）、符号４１は導電性粘着層、符号７０はアンチグレア層（防眩性、ハードコート性を有する機能性透明層（Ａ））である。
【０２９０】
（比較例１）
ＰＥＴフィルム（厚さ：１８８μｍ）を高分子フィルム（Ｂ）として、その一方の主面に、ＩＴＯ薄膜（膜厚：４００ｎｍ）からなる面抵抗１５Ω／□の透明導電層を形成し、透明積層体３を作製した。透明積層体３を用いて、色素を使用しないほかは、実施例１と同様に、電磁波シールド体を作製し、それを具備した表示装置を得た。
【０２９１】
以上のようにして得られた実施例１，２及び参考例１，２の電磁波シールド体を有する表示装置であるプラズマディスプレイについて、以下の評価を行った。
【０２９２】
１）電磁波シールド体の透過率
ミノルタ（株）製ＣＲＴカラーアナライザ（ＣＡ１００）を用いて、電磁波シールド体を形成する前後でのプラズマディスプレイの分光放射輝度を求め、形成後の輝度の、形成前の輝度に対する比を百分率で示した。
【０２９３】
２）プラズマディスプレイの明所コントラスト比（最高最低輝度比）
電磁波シールド体を形成する前後で評価した。周囲明るさ１００ｌｘの明時において、プラズマディスプレイパネルの白色表示時の最高輝度（ｃｄ／ｍ2 ）と黒色表示時の最低輝度（ｃｄ／ｍ2 ）を、ミノルタ（株）製の輝度計（ＬＳ−１１０）を用いて測定し、その比（最高輝度／最低輝度）を求めた。
【０２９４】
３）プラズマディスプレイの発光色の色純度
電磁波シールド体を形成する前後で評価した。プラズマディスプレイにディスプレイ用フィルターを装着しない場合と、実施例１のディスプレイ用フィルターを装着した場合について測定した。
白色（Ｗ）表示、赤色（Ｒ）表示、緑色（Ｇ）表示、青色（Ｂ）表示において、ミノルタ（株）製ＣＲＴカラーアナライザ（ＣＡ１００）を用いて、ＲＧＢ色度（ｘ，ｙ）及び白色の色度、色温度、黒体軌跡からの白色偏差を測定した。
ＰＤＰ発光の三原色がＮＴＳＣ方式で定めたＲＧＢ色の色再現範囲に近くなる程好ましい。また、ＰＤＰ発光の三原色をｘ−ｙ色度図上で結んだ三角形の面積の、ＮＴＳＣの色再現範囲の面積に対する比の百分率が１００％に近くなると、色再現範囲が広くなることを示す。
【０２９５】
４）電磁波シールド能
電磁波シールド体を形成していないプラズマディスプレイと実施例１，２、参考例１，２及び比較例１の電磁波シールド体を設けたプラズマディスプレイにおいて、以下の測定を行った。
ダイポールアンテナを表示部中心位置から面の垂線方向１０ｍの位置に設置し、アドバンテスト性スペクトラル・アナライザ（ＴＰ４１７２）で３０〜２３０ＭＨｚ帯域における放射電界強度を測定した。ＶＣＣＩの３ｍ法においては、この領域での許容値は、Class Ａで５０ｄＢμＶ／ｍ以下、 ClassＢで４０ｄＢμＶ／ｍ以下である。評価は３３ＭＨｚ、９０ＭＨｚで行った。
【０２９６】
５）電磁波シールド体の近赤外線透過率
実施例１，２、参考例１，２及び比較例１の電磁波シールド体を評価した。
電磁波シールド体の透光部を小片に切り出し、（株）日立製作所分光光度計（Ｕ−３４００）により、８００〜１０００ｎｍの平行光線透過率を測定し、８２０ｎｍ、８５０ｎｍ、９５０ｎｍにおける透過率を評価した。
【０２９７】
６）近赤外線カット能
電磁波シールド体を形成していないプラズマディスプレイと実施例１、参考例１及び比較例１の電磁波シールド体を設けたプラズマディスプレイにおいて、以下の測定を行った。
赤外線リモートコントローラーを使用する電子機器として家庭用ＶＴＲを０．２〜５ｍディスプレイから離して、その誤動作を確認した。誤動作がある場合は、その限界距離を求めた。実用的には、少なくとも３ｍ以下、好適には１．５ｍ以下である。
【０２９８】
実施例１の本発明の電磁波シールド体は、プラズマディスプレイ発光の透過率が可視光線透過率で５０％であり、不要発光がある波長５９５ｎｍに吸収極大を有する色素により、必要な発光のある波長６１０ｎｍの透過率に対する、５９５ｎｍの透過率の百分率は３８％であった。また、これを具備したプラズマディスプレイは、反射防止性を有する機能性透明層（Ａ）が形成されている電磁波シールド体を用いたことにより、ディスプレイ表面の反射を抑制されたこと、及び、電磁波シールド体の透過特性により、周囲照度１００ｌｘの条件下における明所コントラスト比が、電磁波シールド体を形成される前が２０であったのに対して４５に向上した。また、映り込みも少ないので、視認性の良いプラズマディスプレイが得られた。
【０２９９】
参考例１の本発明の電磁波シールド体はプラズマディスプレイ発光の透過率が可視光線透過率で５８％であり、映り込みも少ないので、視認性の良いプラズマディスプレイが得られた。明所コントラスト比は２０から３７に改善された。
【０３００】
実施例２の本発明の電磁波シールド体はプラズマディスプレイ発光の透過率が可視光線透過率で５８％であり、映り込みも少ないので、視認性の良いプラズマディスプレイが得られた。明所コントラスト比は２０から３７に改善された。
【０３０１】
参考例２の本発明の電磁波シールド体はプラズマディスプレイ発光の透過率が可視光線透過率で５９％であり、映り込みも少ないので、視認性の良いプラズマディスプレイが得られた。明所コントラスト比は２０から３７に改善された。
【０３０２】
（図８）に電磁波シールド体形成前後の色再現範囲を示すｘ−ｙ色度図を示した。（図８）はＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）に実施例１の電磁波シールド体を形成する前後の白色（Ｗ）、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）発光の色度をｘ−ｙ色度図にプロットしたものである。さらに目標とされるＮＴＳＣの色度も合わせてプロットした。
【０３０３】
白色は、好適な白色色度の軌跡である黒体軌跡と比較した位置で評価できる。本発明の電磁波シールド体を用いると、白色の色度偏差が少ないこと、また、実施例１の電磁波シールド体を形成する前より、色温度が高い位置にあることが判る。色温度はおよそ７０００Ｋからおよそ１００００Ｋに上昇した。
【０３０４】
また、ＲＧＢの点を結んだ三角形を図中に示した。ＮＴＳＣに近くなるほど好ましいといえる。実施例１の電磁波シールド体を用いることにより、赤色、緑色の色度がＮＴＳＣの示す色度に近づき、色再現範囲を示す三角形が大きくなっていることが判る。三角形の面積の、ＮＴＳＣが示す三角形の面積に対する百分率を求めたところ、実施例１の電磁波シールド体を形成する前が７４％であったのに対し、形成することによって８５％に改善できた。
また、上記の評価４）〜６）の結果を表１にまとめて示した。
【０３０５】
【表１】
表１より、本発明の電磁波シールド体を用いることにより、ＶＣＣＩ規格の ClassＢまたは ClassＡをクリアできることが判る。透明導電層の面抵抗が低い程電磁波シールド能に優れていた。
【０３０７】
また、本発明の電磁波シールド体を用いることにより、近赤外線カット能に優れていることが判る。金属薄膜と項屈折率透明薄膜を高後に積層した透明導電層を用いた本発明の電磁波シールド体は、近赤外線の透過率が低くて、近赤外線カット能に優れ、その透明導電層の面抵抗が低い程近赤外線カット能に優れていた。さらにまた、本発明の電磁波シールド体は、機能性透明層（Ｄ）に各機能を持たせることによって、耐環境性及び／または耐擦傷性及び／または防汚性及び／または静電気防止性に優れている。
【０３０８】
（実施例３）
トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（厚さ：８０μｍ）を高分子フィルム（Ｂ）として用い、その一方の主面に、機能性透明層（Ａ）として次の機能性透明膜１をロール・ツー・ロールで連続的に形成した。すなわち、多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を加え、さらにＩＴＯ微粒子（平均粒径：１０ｎｍ）を分散させたコート液をグラビアコーターにて塗工し、紫外線硬化によって導電性ハードコート膜（膜厚：３μｍ）を形成し、その上に含フッ素有機化合物溶液をマイクログラビアコーターにて塗工・９０℃乾燥・熱硬化させ、屈折率１．４の反射防止膜（膜厚：１００ｎｍ）を形成し、ハードコート性（ＪＩＳ Ｋ５４００準拠の鉛筆硬度：２Ｈ）、反射防止性（表面のＲvis ：０．９％）、帯電防止性（表面抵抗：７×１０9 Ω／□）、防汚性を有する機能性透明膜１を形成した。
【０３０９】
酢酸エチル／トルエン（５０：５０ｗｔ％）溶剤に有機色素を分散・溶解させ、アクリル系粘着剤の希釈液とした。アクリル系粘着剤／色素入り希釈液（８０：２０ｗｔ％）を混合し、機能性透明膜１／ＴＡＣフィルムのＴＡＣフィルム面上に、カンマコーターにより乾燥膜厚２５μｍに塗工後、乾燥させ、透明粘着層（Ｃ）として粘着材１を形成した。透明粘着層面に離型フィルムをラミネートしてロール状に巻き取り、透明粘着層面に離型フィルムを有するロール状の本発明の調光フィルムを得た。
【０３１０】
有機色素としては、プラズマディスプレイが放射する不要発光を吸収させるための波長５９５ｎｍに吸収極大を有する三井化学（株）製色素ＰＤ−３１９、及び白色発光の色度を補正するための三井化学（株）製赤色色素ＰＳ−Ｒｅｄ−Ｇを用い、それぞれ乾燥した粘着材１の中で１６５０（ｗｔ）ｐｐｍ、４５０（ｗｔ）ｐｐｍ含有するように、アクリル系粘着剤／色素入り希釈液を調整した。ＰＤ−３１９は式（３）（化６）のテトラ−ｔ−ブチル−テトラアザポルフィリン・バナジル錯体である。
【０３１１】
【化６】
さらに、該調光フィルムをシート状に裁断し、離型フィルムを剥離して、プラズマディスプレイパネル前面（表示部９２０ｍｍ×５２０ｍｍ）に枚葉式ラミネーターを用いて貼合わせた。この際、少なくとも表示部全体に透明粘着層（Ｃ）部を貼合わせるようにシート裁断、貼り位置合わせを行なった。貼合わせ後、６０℃、２×１０ 5 Ｐａの加圧加温条件下でオートクレーブ処理し、本発明の調光フィルムを具備する表示装置を得た。
【０３１３】
該調光フィルムの断面を、本発明の調光フィルムとその装着状態の一例を示す断面図として、（図９）に示した。図９において、符号００はディスプレイ表示部、符号２０は高分子フィルム（Ｂ）、符号３１は色素含有の透明粘着層（Ｃ）、符号６０は反射防止性、ハードコート性、静電気防止性、防汚性を有する機能性透明層（Ａ）、符号６１は防汚性を有する反射防止膜、符号６２は静電気防止性を有するハードコート膜である。
【０３１４】
（実施例４）
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）ペレット１２０３（ユニチカ（株）製）に、前記の式（３）で表わされる三井化学（株）製色素ＰＤ−３１９を０．０１８ｗｔ％、波長５８５ｎｍに吸収極大を有する三井化学（株）製色素ＰＤ−３１１を０．０１８ｗｔ％、白色発光の色度を補正するための三井化学（株）製赤色色素ＰＳ−Ｒｅｄ−Ｇを０．００４ｗｔ％混合し、２６０〜２８０℃で溶融させ、押し出し機により厚み２５０μｍのフィルムを作製した。その後、このフィルムを２軸延伸して、厚み１２５μｍの色素を含有した高分子フィルム（Ｂ）である色素入りＰＥＴフィルムを作製した。
ＰＤ−３１１は式（４）（化７）のテトラ−ｔ−ブチル−テトラアザポルフィリン・銅錯体である。
【０３１５】
【化７】
さらにロール状に巻き取られた上記ＰＥＴフィルムの一方の主面上に機能性透明層（Ａ）として次の機能性透明膜２をロールツーロールで連続的に形成した。すなわち、多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を添加、さらに有機シリカ微粒子（平均粒径：１５μｍ）を分散させた塗工液を調製し、塗工後、紫外線硬化させ、防眩性（ヘーズメーター測定のヘーズ値：５％）、ハードコート性（鉛筆硬度：２Ｈ）を有するアンチグレア層である機能性透明膜２を形成した。実施例１の粘着材１と同様の素材で色素を入れない粘着材２を機能性透明膜２／色素入りＰＥＴフィルムのＰＥＴフィルム面上に形成した。透明粘着層面に離型フィルムをラミネートしてロール状に巻き取り、透明粘着層面に離型フィルムを有するロール状の本発明の調光フィルムを得た。
【０３１７】
さらに、該調光フィルムをシート状に裁断し、離型フィルムを剥離して、プラズマディスプレイパネル前面（表示部９２０ｍｍ×５２０ｍｍ）に枚葉式ラミネーターを用いて貼合わせた。この際、少なくとも表示部全体に透明粘着層（Ｃ）部を貼合わせるようにシート裁断、貼り位置合わせを行なった。貼合わせ後、６０℃、２×１０5 Ｐａの加圧加温条件下でオートクレーブ処理し、本発明の調光フィルムを具備する表示装置を得た。
【０３１８】
該調光フィルムの断面を、本発明の調光フィルムとその装着状態の一例を示す断面図として、（図１０）に示した。図１０において、符号００はディスプレイ表示部、符号２１は色素を含有する高分子フィルム（Ｂ）、符号３０は透明粘着層（Ｃ）、符号７０はアンチグレア層（防眩性、ハードコート性を有する機能性透明層（Ａ）である。
【０３１９】
以上のようにして得られた実施例３及び４の本発明の調光フィルムを有する表示装置であるプラズマディスプレイは、調光フィルム形成前のプラズマディスプレイとともに、以下のように評価した。
【０３２０】
１）調光フィルムの透過率
ミノルタ（株）製ＣＲＴカラーアナライザ（ＣＡ１００）を用いて、調光フィルムを形成する前後でのプラズマディスプレイの分光放射輝度を求め、形成後の輝度の、形成前の輝度に対する比を百分率で示した。
【０３２１】
２）プラズマディスプレイの明所コントラスト比（最高最低輝度比）
調光フィルムを形成する前後で評価した。周囲明るさ１００ｌｘの明時において、プラズマディスプレイパネルの白色表示時の最高輝度（ｃｄ／ｍ2 ）と黒色表示時の最低輝度（ｃｄ／ｍ2 ）を、ミノルタ（株）製の輝度計（ＬＳ−１１０）を用いて測定し、その比（最高輝度／最低輝度）を求めた。
【０３２２】
３）プラズマディスプレイの発光色の色純度
調光フィルムを形成する前後で評価した。
白色（Ｗ）表示、赤色（Ｒ）表示、緑色（Ｇ）表示、青色（Ｂ）表示において、ミノルタ（株）製ＣＲＴカラーアナライザ（ＣＡ１００）を用いて、ＲＧＢ色度（ｘ，ｙ）及び白色の色度、色温度、黒体軌跡からの白色偏差を測定した。
ＰＤＰ発光の三原色がＮＴＳＣ方式で定めＲＧＢ色の色再現範囲に近くなる程好ましい。また、ＰＤＰ発光の三原色をｘｙ色度図上で結んだ三角形の面積の、ＮＴＳＣの色再現範囲の面責に対する比の百分率が１００％に近くなると、色再現範囲が広くなることを示す。
【０３２３】
実施例３の本発明の調光フィルムはプラズマディスプレイ発光の透過率が可視光線透過率で６９％であり、不要発光がある波長５９５ｎｍに吸収極大を有する色素により、必要な発光のある波長６１０ｎｍの透過率に対する５９５ｎｍの透過率の百分率は２１％であった。また、これを具備したプラズマディスプレイは、反射防止性を有する機能性透明層（Ａ）が形成されている調光フィルムを用いたことにより、ディスプレイ表面の反射を抑制されたこと、及び、調光フィルムの透過特性により、周囲照度１００ｌｘの条件下における明所コントラスト比が、調光フィルムを形成される前が２０であったのに対して４１に向上した。輝度も著しく損なわれておらず、映り込みも少ないので、視認性の良いプラズマディスプレイが得られた。さらに加えて赤色、緑色の発光の色純度が特に著しく改善された。緑色の発光の色純度改善は、５９５ｎｍ吸収色素の黄緑色発光の低減による。
【０３２４】
同じく、実施例４の本発明の調光フィルムは、プラズマディスプレイ発光の透過率が可視光線透過率で７０％であり、不要発光がある波長５９５ｎｍに吸収極大を有する色素と同じ波長５８５ｎｍに吸収極大を有する色素より、必要な発光のある波長６１０ｎｍの透過率に対する５９５ｎｍの透過率の百分率は３０％であった。また、これを具備したプラズマディスプレイは、調光フィルムの透過特性により、周囲照度１００ｌｘの条件下における明所コントラスト比が、調光フィルムを形成される前が２０であったのに対して３７に向上した。輝度も著しく損なわれておらず、映り込みも少ないので、視認性の良いプラズマディスプレイが得られた。さらに加えて赤色、緑色の発光の色純度が特に著しく改善された。緑色の発光の色純度改善は、５９５ｎｍ及び５８５ｎｍ吸収色素の黄緑色発光の低減による。特により短波長を吸収する５８５ｎｍ吸収色素により、その効果が大きかった。
【０３２５】
（図１１）に本発明の調光フィルム形成前後の色再現範囲を示すｘ−ｙ色度図を示した。
【０３２６】
（図１１）はＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）に実施例５の調光フィルムを形成する前後の白色（Ｗ）、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）発光の色度をｘ−ｙ色度図にプロットしたものである。さらに目標とされるＮＴＳＣの色度も合わせてプロットした。
【０３２７】
白色は、好適な白色色度の軌跡である黒体軌跡と比較した位置で評価できる。
本発明の電磁波シールド体を用いると、白色の色度偏差が少ないこと、また、実施例３または実施例４の調光フィルムを形成する前より、色温度が高い位置にあることが判る。色温度はおよそ７０００Ｋからおよそ９５００Ｋに上昇し、黒体軌跡からのずれを示す白色偏差もほぼ０であった。
【０３２８】
また、ＲＧＢの点を結んだ三角形を図中に示した。ＮＴＳＣに近くなるほど好ましいといえる。実施例３または実施例４の調光フィルムを用いることにより、赤色、緑色の色度がＮＴＳＣの示す色度に近づき、色再現範囲を示す三角形が大きくなっていることが判る。三角形の面積の、ＮＴＳＣが示す三角形の面積に対する百分率を求めたところ、実施例３の調光フィルムを形成する前が７４％であったのに対し、形成することによって８６％に改善できた。また、実施例４の調光フィルムを形成した場合は８８％に改善できた。
【０３２９】
さらにまた、本発明の調光フィルムは、機能性透明層（Ａ）に各機能を持たせることによって、耐擦傷性及び／または防汚性及び／または静電気防止性に優れている。
【０３３０】
（参考例３）
ポリエチレンテレフタレートペレット１２０３（ユニチカ（株）製）に近赤外吸収色素である三井化学（株）製ＳＩＲ−１２８、ＳＩＲ−１３０を各０．１５ｗｔ％混合し約２８０℃で溶融後、押出２軸延伸により厚さ１５０μｍの近赤外遮蔽フィルムを作製した。さらに、酢酸エチル／トルエン（５０：５０ｗｔ％）溶剤を希釈液として、アクリル系粘着剤と希釈液とを８０：２０の割合で混合し、近赤外遮蔽フィルム面上に、カンマコーターにより乾燥膜厚２５μｍに塗工後、乾燥させ、粘着材層を形成し離型フィルムをラミネートした。
【０３３１】
上記のように作製した近赤外遮蔽フィルム（Ｂ）の上に、ベースフィルム厚さ１８８μｍの反射防止フィルム（日本油脂製リアルック１２００）をラミネートし、長さ９６０ｍｍ×幅５５０ｍｍに裁断することによって、透明高分子フィルムの厚さ合計が０．３３８ｍｍとなる光学フィルターフィルムを得た。
【０３３２】
このフィルムを長さ９８０×幅５８０ｍｍ×厚さ２．５ｍｍの半強化ガラス板に貼合わせた。
【０３３３】
（参考例４）
ポリエチレンテレフタレートペレット１２０３（ユニチカ（株）製）に近赤外吸収色素である三井化学（株）製ＳＩＲ−１２８、ＳＩＲ−１３０を各０．３ｗｔ％混合し約２８０℃で溶融後、押出２軸延伸により厚さ７５μｍの近赤外遮蔽フィルムを作製した。さらに、酢酸エチル／トルエン（５０：５０ｗｔ％）溶剤を希釈液として、アクリル系粘着剤と希釈液とを８０：２０の割合で混合し、近赤外遮蔽フィルム面上に、カンマコーターにより乾燥膜厚２５μｍに塗工後、乾燥させ、粘着材層を形成し離型フィルムをラミネートした。
【０３３４】
また、近赤外吸収色素を加えずに、同様の手法を用いて、厚さ２００μｍの嵩上げ用透明高分子フィルムを作製した。
【０３３５】
近赤外遮蔽フィルムに、ベースフィルム厚さ８０μｍの反射防止フィルム（日本油脂製リアルック２２００）をラミネートし、長さ９６０ｍｍ×幅５５０ｍｍに裁断後、フィルム厚み２００μｍの嵩上げ用透明高分子フィルムの上に貼合わせた。これにより、透明高分子フィルムの合計厚さが、０．３５５ｍｍとなる光学フィルターフィルムを得た。このフィルムを長さ９８０×幅５８０ｍｍ×厚さ２．５ｍｍの半強化ガラス板に貼合わせた。
【０３３６】
（参考例５）
参考例３に示した厚さ１５０μｍの近赤外線遮蔽フィルムの主面上に機能性透明層（Ａ）として、次の機能性透明膜をロールツーロールで連続的に形成した。すなわち、多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を添加、さらに有機シリカ微粒子（平均粒径：１５μｍ）を分散させた塗工液を調製し、塗工後、紫外線硬化させ、防眩性（ヘーズメーター測定のヘーズ値：５％）、ハードコート性（鉛筆硬度：２Ｈ）を有する防眩性機能をもった機能性透明層を形成した。
【０３３７】
この近赤外遮蔽機能と防眩性機能を有する透明高分子フィルムに参考例４で示した厚さ２００μｍの嵩上げ用透明高分子フィルムをラミネートし、長さ９６０ｍｍ×幅５５０ｍｍに裁断することにより透明高分子フィルムの合計厚さが、０．３５０ｍｍとなる光学フィルターフィルムを得た。このフィルムを長さ９８０×幅５８０ｍｍ×厚さ２．５ｍｍの半強化ガラス板に貼合わせた。
【０３３８】
（実施例５）
押出２軸延伸によって厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを作製し、その一方の主面に、フィルムから順に、ＳｎＯ2 薄膜（膜厚：４０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：９ｎｍ）、ＳｎＯ2 薄膜（膜厚：８０ｎｍ）、銀−パラジウム合金薄膜（膜厚：１１ｎｍ）、ＳｎＯ2 薄膜（膜厚：４０ｎｍ）の計５層を形成し、面抵抗５．３Ω／□の透明導電性薄膜層（Ｄ）を持った電磁波遮蔽機能を有する透明高分子フィルムを作製した。
【０３３９】
上記の電磁波遮蔽フィルムに対し、以下の方法で粘着材層を形成した。
酢酸エチル／トルエン（５０：５０ｗｔ％）溶剤に有機色素を分散・溶解させ、アクリル系粘着剤の希釈液とした。有機色素は、プラズマディスプレイが放射する不要発光を吸収させるための波長５９５ｎｍに吸収極大を有する三井化学製色素ＰＤ−３１９、及び、白色発光の色度を補正するための三井化学製赤色色素ＰＳ−Ｒｅｄ−Ｇが、それぞれ乾燥した粘着材中で１１５０（ｗｔ）ｐｐｍ、１０５０（ｗｔ）ｐｐｍ含有するようにアクリル系粘着剤／色素入り希釈液を調整した。
【０３４０】
アクリル系粘着剤／色素入り希釈液（８０：２０ｗｔ％）を混合し、コンマコーターにより電磁波遮蔽フィルム側の面に乾燥膜厚２５μｍに塗工の後、乾燥、粘着面に離型フィルムをラミネートして、透明粘着層を形成した。
【０３４１】
このフィルムを参考例４に示した厚さ２００μｍの嵩上げ用透明高分子フィルムの上に透明導電性薄膜層を上にしてラミネートし、長さ９６０ｍｍ×幅５５０ｍｍに裁断した。
【０３４２】
さらにベースフィルム厚さ１８８μｍの反射防止フィルム（日本油脂製リアルック１２００）を長さ９２０ｍｍ×幅５１０ｍｍに裁断し、透明導電性薄膜層の周縁部２０ｍｍが剥き出しになるように反射防止フィルムを内貼りした。さらに、透明導電性薄膜層の剥き出しの導通部を覆うように周縁部の幅２２ｍｍの範囲に、銀ペースト（三井化学（株）製ＭＳＰ−６００Ｆ）をスクリーン印刷し、乾燥させ厚さ１５μｍの電極を形成した。これにより、透明高分子フィルムの合計厚さが、０．４６３ｍｍとなる光学フィルターフィルムを得た。このフィルムを長さ９８０×幅５８０ｍｍ×厚さ２．５ｍｍの半強化ガラス板に貼合わせた。
【０３４３】
（参考例６）
押出２軸延伸によって厚さ２００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを作製し、その一方の主面に、フィルムから順に、ＩＴＯ薄膜（膜厚：４０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１１ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：９５ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１４ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：９０ｎｍ）、銀薄膜（膜厚：１２ｎｍ）、ＩＴＯ薄膜（膜厚：４０ｎｍ）の計７層の透明導電性薄膜層（Ｄ）を形成し、面抵抗２．２Ω／□の透明導電層を有する電磁波遮蔽フィルムを作製した。
【０３４４】
さらに、この電磁波遮蔽フィルムの透明導電性薄膜層が形成されていない他方の主面に、次の機能性透明層をロールツーロールで連続的に形成した。すなわち、多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を加え、さらにＩＴＯ微粒子（平均粒径：１０ｎｍ）を分散させたコート液をグラビアコーターにて塗工し、紫外線硬化によって導電性ハードコート膜（膜厚：３μｍ）を形成し、その上に含フッ素有機化合物溶液をマイクログラビアコーターにて塗工・９０℃乾燥・熱硬化させ、屈折率１．４の反射防止膜（膜厚：１００ｎｍ）を形成し、ハードコート性（ＪＩＳＫ５４００準拠の鉛筆硬度：２Ｈ）、反射防止性（表面のＲvis ：０．９％）、帯電防止性（表面抵抗：７×１０9 Ω／□）、防汚性を有する機能性透明層を形成した。
【０３４５】
さらに、酢酸エチル／トルエン（５０：５０ｗｔ％）溶剤を希釈液として、アクリル系粘着剤と希釈液とを８０：２０の割合で混合し、透明導電層面上に、カンマコーターにより乾燥膜厚２５μｍに塗工後、乾燥させ、離型フィルムをラミネートし透明粘着材層を形成した。
【０３４６】
上記機能性透明層付電磁波遮蔽フィルムを長さ９２０ｍｍ×幅５１０ｍｍに裁断し、長さ９６０ｍｍ×幅５５０ｍｍに裁断した厚さ２００μｍの嵩上げ用透明高分子フィルムの上に、周縁部各２０ｍｍを残して内貼りした。
【０３４７】
さらに、透明導電層の厚さ断面導通部を覆うように周縁部の幅２２ｍｍの範囲に、銀ペースト（三井化学（株）製ＭＳＰ−６００Ｆ）をスクリーン印刷し、乾燥させ厚さ１５μｍの電極を形成した。これにより、透明高分子フィルムの合計厚さが、０．４ｍｍとなる光学フィルターフィルムを得た。このフィルムを長さ９８０×幅５８０ｍｍ×厚さ２．５ｍｍの半強化ガラス板に貼合わせた。
【０３４８】
（比較例２）
参考例５に示した厚さ１５０μｍの近赤外遮蔽フィルムと、ベースフィルム厚さ８０μｍの反射防止フィルムとを貼合わせ、フィルム全体厚さが、０．２３０ｍｍとなる光学フィルターフィルムを得た。このフィルムを長さ９８０×幅５８０ｍｍ×厚さ２．５ｍｍの半強化ガラス板に貼合わせた。
【０３４９】
（比較例３）
実施例５に示した厚さ７５μｍの電磁波遮蔽フィルムと、ベースフィルム厚さ１８８μｍの反射防止フィルムとを貼合わせ、フィルム全体厚さが、２６３μｍとなる光学フィルターフィルムを得た。このフィルムを長さ９８０×幅５８０ｍｍ×厚さ２．５ｍｍの半強化ガラス板に貼合わせた。
【０３５０】
上記のように、各光学フィルターフィルムをガラス板に貼合わせたサンプルについて、耐衝撃性の向上と剥離性、ガラス板への接着剤残り状態を調べた。
【０３５１】
耐衝撃試験は、ガラス板に貼合わせたフィルムサンプルを上面にして高さ１．５ｍから重さ５００ｇの鋼球を落下させ、基板ガラスの損傷状態を調べた。試験は各５枚実施した。
【０３５２】
剥離性とガラスへの糊残り試験については、光学フィルムをガラス板に貼合わせ後１時間経過ののち、フィルムをガラス板から剥離し、その状態を調べた。
以上の結果を表２に掲げた。
【０３５３】
【表２】
表２から分かるように、実施例５及び参考例４〜６において耐衝撃性、剥離性、ガラス板への糊残り状態が向上していることが判る。
【０３５５】
以上のように、本発明によれば、光学フィルターフィルムを構成する透明高分子高分子フィルムの合計厚さを０．３ｍｍ以上とすることで、ディスプレイパネルの保護機能及び作業性の向上が図れ、ディスプレイ前面に直接貼合わせる光学フィルターフィルムを提供することができる。
【０３５６】
（参考例７）
透明高分子フィルム（Ｂ）としてポリエチレンテレフタレートフィルム［巾５５８ｍｍ、長さ５００ｍ、厚さ７５μｍ］ロールを用意し、その一方の主面に、ロールコーターを用いて、直流マグネトロンスパッタリング法により、透明導電性薄膜層（Ｄ）を形成した。透明導電性薄膜層は、インジウムとスズとの酸化物からなる薄膜層（Ｄｔ）、銀薄膜層（Ｄｍ）をＢ／Ｄｔ［厚さ４０ｎｍ］／Ｄｍ［厚さ１５ｎｍ］／Ｄｔ［厚さ８０ｎｍ］／Ｄｍ［厚さ２０ｎｍ］／Ｄｔ［厚さ８０ｎｍ］／Ｄｍ［厚さ１５ｎｍ］／Ｄｔ［厚さ４０ｎｍ］／Ｄｍ［厚さ１５ｎｍ］／Ｄｔ［厚さ４０ｎｍ］なる順に積層してなる。インジウムとスズとの酸化物からなる薄膜層は、透明高屈折率薄膜層を、銀薄膜層は、銀または銀合金からなる金属薄膜層を構成する。インジウムとスズとの酸化物からなる薄膜層の形成には、ターゲットとして、酸化インジウム・酸化スズ焼結体［Ｉｎ2Ｏ3：ＳｎＯ2＝９０：１０（重量比）］、スパッタリングガスとしてアルゴン・酸素混合ガス（全圧２６６ｍＰａ、酸素分圧５ｍＰａ）を用いた。また、銀薄膜層の形成には、ターゲットとして銀を用い、スパッタガスにはアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いた。チタン層の形成には、ターゲットとしてチタンを用い、スパッタガスにアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いた。
【０３５７】
次に防眩性フィルム［巾５４８ｍｍ、長さ５００ｍ、厚さ１００μｍ］ロールを防眩性層と反対側に透明粘着材［厚さ１００μｍ］が貼付けられている状態で用意した。
【０３５８】
続いて、透明導電性薄膜フィルムの透明導電性薄膜層上に上記防眩性フィルムを透明粘着材を介してロールツーロール式に貼付け、１本のロールを作製した。透明導電性フィルムと防眩性フィルムの幅方向の中心位置が、一致するように行なった。さらにこの透明導電性薄膜フィルムと防眩性フィルムの貼合わせ体の防眩層と反対面にロールツーロール方式で透明粘着材［厚さ１００μｍ］を貼合わせた。続いてロール両端部の各５ｍｍ幅の透明導電性薄膜層部分にロールコート方式で銀ペーストを塗布した。ロールを送る速さは０．５ｍ／ｓとした。
【０３５９】
上記で得られたフィルムを９５８ｍｍの長さに切断し電磁波シールド体を作製した。図２１に断面図を示した。図２１において、符号２３は電磁波遮蔽機能を有する透明高分子フィルム（Ｂ）、符号３０は透明粘着層（Ｃ）、符号２４は機能透明層（Ａ）を有する透明高分子フィルム（Ｂ）である。
【０３６０】
その中で、電磁波シールド体１枚当りの、電極形成に要する時間を調べた。
続いてプラズマディスプレイパネル［ＮＥＣ製 ＰＸ−４２ＶＰ１］前面へ透明粘着層を介して、電磁波シールド体を取り付けた。
【０３６１】
視認面側に位置している電極へは、ディスプレイ外部に電流を取り出すように配線されている、平板上の金属部材を接しさせた。
【０３６２】
プラズマディスプレイパネルを動作させて、外部に放出される電磁波の強度をＦＣＣ規格 Ｐａｒｔ１５Ｊに基いて測定し、クラスＡ基準を満たしているかどうか調べた。図２２に断面図を示した。
【０３６３】
（参考例８）
防眩性フィルム［巾５５４ｍｍ、長さ５００ｍ、厚さ１００μｍ］のロールを用意し、その防眩性層と反対面に参考例７と同様に透明導電性薄膜層を形成した。続いて透明導電性薄膜層上にロールツーロール方式で透明粘着材［、巾５４８ｍｍ、厚さ１００μｍ］及び導電性粘着材［巾３ｍｍ、厚さ１００μｍ］を貼合わせた。導電性粘着材は、ロール両端部の位置に貼合わせ、それ以外の部分には、透明粘着材を貼合わせた。上記により、電磁波シールド体を作製した。
【０３６４】
プラズマディスプレイパネル［ＮＥＣ製 ＰＸ−４２ＶＰ１］前面へ電磁波シールド体を取りつけた。プラズマディスプレイパネルの２長辺には、予め端部に沿って６ｍｍ幅を銅箔テープを貼付けておいた。導電性粘着材と銅箔テープを合わせた部分が実質的電極になる。視認面側に位置している電極へは、ディスプレイ外部に電流を取り出すように配線されている、平板上の金属部材を接しさせた。その他は、参考例７と同様に実施した。
【０３６５】
（参考例９）
参考例７と同様に透明導電性薄膜フィルムを用意した。
【０３６６】
次に、防眩性フィルム［巾５５８ｍｍ、長さ５００ｍ、厚さ１００μｍ］ロールを用意し、透明導電性フィルムと防眩性フィルムの幅方向の中心位置が、一致するように行なった。さらにこの透明導電性薄膜フィルムと防眩性フィルムの貼合わせ体の防眩層と反対面にロールツーロール方式で透明粘着材［厚さ１００μｍ］を貼合わせた。
【０３６７】
ロール端面に銀ペーストを塗布した。上記により、電磁波シールド体を作製した。断面図を図２３に示した。
【０３６８】
その中で、電磁波シールド体１枚当りの、電極形成に要する時間を調べた。
続いてプラズマディスプレイパネル［ＮＥＣ製 ＰＸ−４２ＶＰ１］前面へ電磁波シールド体を取り付けた。電極へは、ディスプレイ外部に電流を取り出すように配線されている、平板状の金属部材を接しさせた。
【０３６９】
プラズマディスプレイバネルを動作させて、外部に放出される電磁波の強度をＦＣＣ規格 Ｐａｒｔ１５Ｊに基いて測定し、クラスＡ基準を満たしているかどうか調べた。
【０３７０】
（比較例４）
参考例７と同様に、透明高分子フィルム（Ｂ）としてポリエチレンテレフタレートフィルム［巾５５８ｍｍ、長さ５００ｍ、厚さ７５μｍ］ロールを用意し、その一方の主面に、透明導電性薄膜層を形成した。
【０３７１】
上記フィルムの透明導電性薄膜形成面と反対面にロールツーロール方式で透明粘着材［厚さ１００μｍ］を貼合わせた。
【０３７２】
さらに得られたフィルムを切断しながらガラス基板［大きさ５６０ｍｍ×９６０ｍｍ、厚さ３ｍｍ］に弱粘着材を介して貼合わせた。
【０３７３】
続いて、防眩性フィルム［巾５４８ｍｍ、長さ５００ｍ、厚さ１００μｍ］のロールを防眩性層と反対側に透明粘着材が貼付けられている状態で用意し、上記の貼合わせ体の透明導電性薄膜層上に切断しながら貼合わせた。この時、透明導電性薄膜層の外周部分より端部が５ｍｍ内側に位置するように貼合わせた。
【０３７４】
外周部分の透明導電性薄膜層剥き出し部分全周が覆われるようにスクリーン印刷法を用いて銀ペーストを塗布し、乾燥させた。乾燥後、ガラス基板より剥がした。上記により、電磁波シールド体を作製した。その他、参考例７と同様に実施した。
以上の結果を表３に掲げた。
【０３７５】
【表３】
表３から分かるように、全ての参考例において、電磁波遮断効果に関しては、比較例４に示した従来の場合と同様に問題がない。さらに電極形成に要する時間が大幅に短縮されており、生産するための効率が大幅に向上していることが分かる。
【０３７７】
（参考例１０）
透明高分子フィルム（Ｂ）としてポリエチレンテレフタレートフィルム［厚さ７５μｍ］の巾５６５ｍｍ、長さ５００ｍロールを用意し、その一方の主面に、ロールコーターを用いて、直流マグネトロンスパッタリング法により、透明導電層（Ｄ）を形成した。透明導電性薄膜層は、インジウムとスズとの酸化物からなる薄膜層（Ｄｔ）、銀薄膜層（Ｄｍ）をＢ／Ｄｔ［厚さ４０ｎｍ］／Ｄｍ［厚さ１５ｎｍ］／Ｄｔ［厚さ８０ｎｍ］／Ｄｍ［厚さ２０ｎｍ］／Ｄｔ［厚さ８０ｎｍ］／Ｄｍ［厚さ１５ｎｍ］／Ｄｔ［厚さ４０ｎｍ］／Ｄｍ［厚さ１５ｎｍ］／Ｄｔ［厚さ４０ｎｍ］なる順に積層してなる。インジウムとスズとの酸化物からなる薄膜層は、透明高屈折率薄膜層を、銀薄膜層は、銀または銀合金からなる金属薄膜層を構成する。インジウムとスズとの酸化物からなる薄膜層の形成には、ターゲットとして、酸化インジウム・酸化スズ焼結体［Ｉｎ2Ｏ3：ＳｎＯ2＝９０：１０（重量比）］、スパッタリングガスとしてアルゴン・酸素混合ガス（全圧２６６ｍＰａ、酸素分圧５ｍＰａ）を用いた。また、銀薄膜層の形成には、ターゲットとして銀を用い、スパッタガスにはアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いた。チタン層の形成には、ターゲットとしてチタンを用い、スパッタガスにアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いた。
【０３７８】
次に防眩性フィルムの巾５６５ｍｍ、長さ５００ｍロールを防眩性層と反対側に透明粘着材が貼付けられている状態で用意した。
【０３７９】
続いて、透明導電性薄膜フィルムの透明導電性薄膜層上に上記防眩性フィルムを透明粘着材を介してロールツーロール式に貼付け、１本のロールを作製した。さらにこの透明導電性薄膜フィルムと防眩性フィルムの貼合わせ体の防眩層と反対面にロールツーロール方式で透明粘着材を貼合わせた。
【０３８０】
上記で得られたフィルムを切断しながら透明支持基板に透明粘着材を介して貼合わせた。
【０３８１】
さらにフィルム側面が覆われるように端部全周にスクリーン印刷法を用いて銀ペーストを塗布し、乾燥させた。
【０３８２】
上記により、電磁波シールド体を作製した。断面図を図２３に示した。
電極上お互い最も遠い２点を選び、その間の抵抗値を調べた。
【０３８３】
また、電磁波シールド体１枚当りに要する貼合わせ時間を調べた。なお、透明導電性フィルムと防眩性フィルムとの光学フィルター１枚当りの貼合わせ時間は、全ロールツーロールでの全貼合わせ時間をそのロールから切り出すことができるフィルムの枚数で割ることによって求めた。
【０３８４】
（参考例１１）
防眩性フィルムの巾５６５ｍｍ、長さ５００ｍロールを用意し、その防眩性層と反対面に参考例１０と同様に透明導電性薄膜層を形成した。続いて透明導電性薄膜層上にロールツーロール方式で透明粘着材を貼合わせた。
【０３８５】
上記で得られたフィルムを切断しながら透明支持基板に透明粘着材を介して貼合わせた。
【０３８６】
さらにフィルム側面が覆われるように端部全周にスクリーン印刷法を用いて銀ペーストを塗布し、乾燥させた。上記により、電磁波シールド体を作製した。
【０３８７】
この時、電極上お互い最も遠い２点を選び、その間の抵抗値を調べた。
また、電磁波シールド体１枚当りに要する貼合わせ時間を調べた。
【０３８８】
（参考例１２）
防眩性フィルムの巾５６５ｍｍ、長さ５００ｍロールを用意し、その防眩性層と反対面に参考例１０と同様に透明導電性薄膜層を形成し、防眩性透明導電性フィルムの長さ５００ｍロールを作製した。
【０３８９】
銅テープ［巾１５ｍｍ、厚さ７５μｍ、長さ５００ｍ、片面に導電性粘着材付き］のロールを２本用意した。
【０３９０】
防眩性透明導電フィルムの両端部に銅テープを貼合わせた。防眩性透明導電性に形成されている透明導電層に銅テープの導電性粘着材が接するように貼合わせを行った。また、各銅テープと防眩性透明導電性フィルムとの重なり幅は１０ｍｍとなるようにした。貼合わせはロールツーロール方式で行った。
【０３９１】
透明粘着材［巾５７５ｍｍ、厚さ２５μｍ、長さ５００ｍ］のロールを用意した。銅テープが側面に貼合わせられている防眩性透明導電性フィルムにこの透明粘着材を貼合わせながら、さらに長さ９５８ｍｍのシートに裁断した。透明導電層及び銅テープの未粘着加工面に粘着材を貼合わせるようにした。貼合わせはロールツーロール方式で行った。上記により、電磁波シールド体を作製した。断面図を図２４に示した。
【０３９２】
この時、電極上お互い最も遠い２点を選び、その間の抵抗値を調べた。
また、電磁波シールド体１枚当りに要する貼合わせ時間を調べた。
【０３９３】
（参考例１３）
防眩性フィルムの巾５６５ｍｍ、長さ５００ｍロールを用意し、その防眩性層と反対面に実施例１７と同様に透明導電性薄膜層を形成した。続いて透明導電性薄膜層上にロールツーロール方式で透明粘着材を貼合わせながら、さらに長さ９５８ｍｍのシートに裁断し電磁波シールド体を作製した。
【０３９４】
ガラス基板［大きさ５４５ｍｍ×９６０ｍｍ、厚さ３ｍｍ］を用意し、その２長辺に銅板［大きさ１０ｍｍ×９６０ｍｍ、厚さ３ｍｍ］を設置した。その銅板には、ねじ留め用の穴をあけた。ねじ留め用の穴は３０ｍｍ間隔で長手方向の端より端まで形成した。このガラス板と銅板を併せた支持基体に電磁波シールド体を貼合わせた。銅板に形成されているねじ留め用の穴にねじを装着した。ねじの装着は、電磁波シールド体の最表面から電磁波シールド体を貫通させて行った。この時、このねじが実質上のスルーホール電極となる。上記により、電磁波シールド体を作製した。断面図を図２５に示した。
【０３９５】
この時、電極上お互い最も遠い２点を選び、その間の抵抗値を調べた。
また、電磁波シールド体１枚当りに要する貼合わせ時間を調べた。
【０３９６】
（比較例５）
参考例１１と同様に、透明高分子フィルム（Ｂ）としてポリエチレンテレフタレートフィルム（ 厚さ７５μｍ）の巾５６５ｍｍ、長さ５００ｍロールを用意し、その一方の主面に、透明導電性薄膜層を形成した。
【０３９７】
上記フィルムの透明導電性薄膜形成面と反対面にロールツーロール方式で透明粘着材を貼合わせた。
【０３９８】
さらに得られたフィルムを切断しながら透明支持基板に透明粘着材を介して貼合わせた。
【０３９９】
続いて、防眩性フィルムの巾５６５ｍｍ、長さ５００ｍロールを防眩性層と反対側に透明粘着材が貼付けられている状態で用意し、上記の貼合わせ体の透明導電性薄膜層上に切断しながら貼合わせた。この時、透明導電性薄膜層の外周部分より端部が５ｍｍ内側に位置するように貼合わせた。
【０４００】
外周部分の透明導電性薄膜層剥き出し部分全周が覆われるようにスクリーン印刷法を用いて銀ペーストを塗布し、乾燥させた。上記により、電磁波シールド体を作製した。
【０４０１】
この時、電極上お互い最も遠い２点を選び、その間の抵抗値を調べた。
また、電磁波シールド体１枚当りに要する貼合わせ時間を調べた。
以上の結果を表４に掲げた。
【０４０２】
【表４】
表４から分かるように、全ての参考例において、電極間の電気抵抗値は、比較例に示した、従来の電極形状のものに比較してほとんど低下していない。また、全ての参考例において、電磁波シールド体１枚当りのフィルム貼合わせ時間が大幅に短縮され、電磁波シールド体の生産効率が大幅に上昇していることが分かる。
【０４０４】
（実施例６）
以下の点を除いて実施例１と同様に実施した。
【０４０５】
透明積層体１を以下のとおり作製した。
ポリエチレンテレフタレートペレット１２０３（ユニチカ（株）製）に近赤外線を吸収する色素、三井化学（株）製ＳＩＲ１２８を０．２５重量％、ＳＩＲ１３０を０．２３重量％を混合し、２６０〜２８０℃で溶融させ、２軸延伸押し出し機により厚み１８８μｍの高分子フィルム（Ｂ）を作製した。
【０４０６】
上記で作製した高分子フィルム（Ｂ）の一方の主面に、架橋材を含むポリエステル系の接着剤を厚さ１０μｍに塗布した。次に厚さ７μｍ、孔径１μｍ、ポロシティー１２％の銀箔をラミネートした。なお、この銀箔の両主面には前もってモリブデンを厚み５０μｍとなるようにスパッタリング法により形成しておいた。次に熱硬化型のインキを用いて、スクリーン印刷にて金属層上に格子幅２０μｍ、目の大きさ１５０μｍ×１５０μｍの格子模様を印刷した。９０℃×５分の加熱によりインキを硬化させた後、塩化第２鉄水溶液によりインキにより保護されていない部分の金属層を除去し、次に、溶剤でインキを除去した。かくして図２７に示す模様の金属層をもつ、開口率７５％の積層体を得ることができた。可視光線の平均透過率を測定したところ、６７％であった。シート抵抗を測定したところ、０．１１Ω／□であった。
【０４０７】
（実施例７）
以下の点を除いて実施例２と同様に実施した。
【０４０８】
高分子フィルム（Ｂ）／透明導電層（Ｄ）を以下の手法で用意した。
ポリエチレンテレフタレートペレット１２０３（ユニチカ（株）製）に近赤外線を吸収する色素、三井化学（株）製ＳＩＲ１２８を０．２５重量％、ＳＩＲ１３０を０．２３重量％を混合し、２６０〜２８０℃で溶融させ、２軸延伸押し出し機により厚み１８８μｍの高分子フィルム（Ｂ）を作製した。
【０４０９】
上記で作製した高分子フィルム（Ｂ）の上に、アクリル系の接着剤で、厚さ７μｍ、孔径１μｍ、ポロシティー８％の銀箔をラミネートした。なお、この銀箔の両面にも前もってクロメート処理を行っておいた。次にアルカリ現像型のフォトレジストを銅層の上にコーティングし、プリベーク後にフォトマスクを用いて露光、現像して格子幅２５μｍ、目の大きさ１２５μｍ×１２５μｍの格子パターンを設けた後、塩化第２鉄水溶液によりレジストにより保護されていない部分の金属層をエッチングし、次にアルカリ溶液中でレジストを除去した。かくして図２７に示す模様の金属層をもつ、開口率６９％の積層体を得ることができた。可視光線透過率を測定したところ６５％、シート抵抗は０．０７Ω／□であった。
【０４１０】
表５により、本発明の電磁波シールド体を用いることにより、ＶＣＣＩ規格のClassＢまたはClassＡをクリアできることが判る。透明導電層の面抵抗が低いほど電磁波シールド能が優れていた。
【０４１１】
また本発明の電磁波シールド体を用いることにより、近赤外線カット能に優れることが判る。
【０４１２】
金属メッシュ層を用いた本発明の電磁波シールド体は、可視光透過性に優れ、電磁波シールド性、近赤外線シールド性に優れる。
【０４１３】
さらに本発明の電磁波シールド体は、機能性透明層（Ａ）に各機能を持たせることによって、耐環境性及び／又は耐擦傷性及び／又は防汚性及び／又は静電気防止性に優れている。
【０４１４】
【表５】
【発明の効果】
以上詳説したように本発明によれば、透過特性、透過率、反射特性が優れた調光フィルムとして機能するプラズマディスプレイ用フィルタを低コストに実現できる。これをプラズマディスプレイ等の表示装置の画面に直接形成することにより、プラズマディスプレイの輝度を著しく損なわずに、その色純度及びコントラストを向上させることができ、優れた画質を有する表示装置を実現できる。
【０４１６】
また、過特性、透過率、可視光線反射率に優れ、プラズマディスプレイ等の表示装置から発生する電磁波を遮断する電磁波シールド体として機能するプラズマディスプレイ用フィルタを低コストに実現できる。さらに、プラズマディスプレイからでる８００〜１０００ｎｍ付近の近赤外線線を効率よくカットするため、周辺電子機器のリモコン、伝送系光通信等が使用する波長に悪影響を与えず、それらの誤動作を防ぐことができる。また、耐候性・耐環境性に優れ、反射防止性及び／または防眩性、耐擦傷性、防汚性、帯電防止性等を兼ね備え、優れた画質を有する表示装置を実現できる。
【０４１８】
また、電磁波シールド体の電極形状を工夫することによって、充分な電磁波遮断効果をもち、しかも電極形成に要する時間が大幅に短縮されており、生産効率が大幅に向上する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明における高分子フィルム（Ｂ）／透明導電層（Ｄ）の一例を示す断面図である。
【図２】本発明の電磁波シールド体の一例を示す平面図である。
【図３】本発明の電磁波シールド体とその装着状態の一例（実施例１）を示す断面図である。
【図４】 本発明の電磁波シールド体とその装着状態の一例（参考例１）を示す断面図である。
【図５】本発明の電磁波シールド体の一例を示す平面図である。
【図６】 本発明の電磁波シールド体とその装着状態の一例（実施例２）を示す断面図である。
【図７】 本発明の電磁波シールド体とその装着状態の一例（参考例２）を示す断面図である。
【図８】電磁波シールド体形成前後の色再現範囲を示すｘ−ｙ色度図である。
【図９】 本発明の調光フィルムとその装着状態の一例（実施例３）を示す断面図である。
【図１０】 本発明の調光フィルムとその装着状態の一例（実施例４）を示す断面図である。
【図１１】調光フィルム形成前後の色再現範囲を示すｘ−ｙ色度図である。
【図１２】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図１３】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図１４】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図１５】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図１６】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図１７】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図１８】図１６に示した電磁波遮蔽機能を示す透明高分子フィルム（Ｂ）２３の構成を示す断面図である。
【図１９】図１７に示した電磁波遮蔽機能を示す透明高分子フィルム（Ｂ）２６の構成を示す断面図である。
【図２０】図１６または図１７に示したディスプレイ用フィルタの平面図である。
【図２１】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図２２】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図２３】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図２４】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図２５】本発明に係るディスプレイ用フィルタの構成例を示す断面図である。
【図２６】図２１〜図２５に示したディスプレイ用フィルタの平面図である。
【図２７】金属パターンの一例を示す図である。
【符号の説明】
００ ディスプレイ表示部
０１ ディスプレイのアース部
０２ 電磁波シールド体の透光部
０３ 電磁波シールド体の導通部
１０ 透明導電層（Ｄ）
１１ 高屈折率透明薄膜層（Ｄｔ）
１２ 金属薄膜層（Ｄｍ）
２０ 高分子フィルム（Ｂ）
２１ 色素含有の高分子フィルム（Ｂ）
２２ ハードコート層（Ｆ）
２３，２４，２６ 透明高分子フィルム（Ｂ）
２５ 嵩上げ用透明高分子フィルム（Ｂ）
３０ 透明粘着層（Ｃ）
３１ 色素含有の透明粘着層（Ｃ）
４０ 透明粘着層（Ｅ）
４１ 導電性粘着層
５０ 電極
５１ 導電テープ
５２ スルーホール電極
６０ 機能性透明層（Ａ）
６１ 反射防止膜
６２ ハードコート膜
６３ 透明な基材
７０ アンチグレア層（機能性透明層（Ａ））
７１ 防眩性フィルム
８０ 導電性銅箔粘着テープ
１１０ パターン化された導箔
１２０ 光透過部[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention,Plasma display (PDP))ofInstalled on the screen,plasmaIt has filter characteristics that can shield electromagnetic waves other than visible light among electromagnetic waves generated from the display screen, and / or filter characteristics that can correct the visible light spectrum.plasmaThe present invention relates to a display filter, a display device on which the filter is mounted, and a manufacturing method thereof.
[0002]
[Prior art]
With the advancement of sophistication in society, parts and equipment related to optoelectronics have been remarkably advanced and popularized. Among them, displays are remarkably widespread for televisions, personal computers, and the like, and there is a demand for thinner and larger displays. Plasma displays are attracting attention as large thin displays. The plasma display generates a strong leakage electromagnetic field and near infrared rays from the display screen due to its structure and operating principle.
[0003]
In recent years, the influence of leakage electromagnetic waves from electronic devices on the human body and other equipment has been investigated. For example, leakage electromagnetic waves are converted into Japanese VCCI (Voluntary Control Council for Interference by data processing equipment electronic office machine). It is necessary to keep it within the standard value.
[0004]
Moreover, near infrared rays from the display screen may act on peripheral electronic devices such as cordless phones and cause malfunctions. In the remote control and transmission optical communication, near infrared rays having wavelengths of 820 nm, 880 nm, 980 nm, and the like are used, so it is necessary to suppress light in the wavelength region of 800 to 1100 nm, which is the near infrared region, to a level at which there is no practical problem. .
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
Conventionally, it has been known to use a near-infrared absorption filter produced using a near-infrared absorbing dye for the near-infrared cut. However, near-infrared absorbing dyes are susceptible to deterioration due to environmental conditions such as humidity, heat, and light, and near-infrared absorbing filters using dyes have optical properties such as a decrease in near-infrared cutting ability and changes in the transmitted color of the filter over time. There is a tendency to cause changes in properties.
[0006]
Particularly in a plasma display, near-infrared light having a high intensity is generated over a wide wavelength region, so that it is necessary to use a near-infrared absorption filter having a large absorption rate in the near-infrared region over a wide wavelength region. Conventional near-infrared absorbing filters have only low visible light transmittance.
[0007]
On the other hand, it is necessary to cover the surface of the display screen with a highly conductive material for cutting off leakage electromagnetic waves. As this method, a transparent conductive layer is used, and this transparent conductive layer is roughly classified into a conductive mesh and a transparent conductive thin film. As the conductive mesh, a grounded metal mesh, a synthetic fiber or a metal fiber mesh coated with metal, an etching film etched into a lattice pattern after forming a metal film, or the like is used.
[0008]
There is a method in which a transparent conductive thin film made of a metal thin film, an oxide semiconductor thin film, or the like is used as an electromagnetic shielding layer instead of the conductive mesh. The metal thin film can obtain good conductivity, but cannot have high visible light transmittance due to reflection and absorption of the metal over a wide wavelength region. Although an oxide semiconductor thin film is superior to a metal thin film in transparency, it is inferior in conductivity and has poor near-infrared reflectivity. As described above, the transparent conductive layer for the purpose of cutting the leakage electromagnetic field uses a conductive mesh when the shielding performance is important, and a transparent conductive thin film when the cost is important. There are many cases.
[0009]
Further, methods for using a dye as an attempt to improve the color purity of a display are described in, for example, JP-A-58-153904, JP-A-60-22102, and JP-A-59-221943. Japanese Patent Laid-Open No. 58-153904 refers to application to a plasma display panel (plasma display panel).
[0010]
However, these prior arts have no mention of a combination of a transparent conductive layer as an electromagnetic wave shield that is essential for use in a plasma display panel and a dye, and there is no specific mention of a dye to be used.
[0011]
The plasma display filter may be formed separately from the display and installed as a front plate of the display for the purpose of protecting near-infrared rays, shielding electromagnetic waves, and protecting the display screen. However, since the front plate method has a large number of constituent members and manufacturing steps, the cost increases, and it is difficult to reduce the thickness and weight.
[0012]
Furthermore, since the surface reflection of the plasma display display part is not generally reduced and has the reflectance of the glass substrate, from the viewpoint of thermal design etc., when installing the front plate away from the display part, the display Due to the reflection of external light on the surface and external light reflection on the front plate, the reflected image may be doubled or more, which may reduce the visibility of the display. In addition, the plasma display has the characteristics that the bright place contrast is low due to the reflection of the glass and the reflection of the phosphor on the screen surface, and the color reproduction range of the emitted light is narrow.
[0013]
On the other hand, JP-A-10-156991, JP-A-10-188822, 2000-98131, etc. propose to remove the front plate and directly bond an optical film on the display panel. However, in any of these prior arts, there is no provision for the total thickness of the entire transparent polymer film, and no specific mention is made regarding imparting impact resistance.
[0014]
On the other hand, JP-A-10-21166In No. 8, there is a proposal to use an optical film for direct lamination laminated on a transparent polymer sheet having a thickness of 1 mm or more in order to absorb external impact. However, a transparent polymer sheet having a thickness of 1 mm or more is practically difficult to continuously bond from a roll form or directly to a display, and even in Examples, it is bonded to an acrylic sheet having a thickness of 3 mm. Therefore, it is clear that the present invention is intended to improve the conventional front plate type filter of the single wafer bonding type.
[0015]
In general, the transparent polymer film having each function in the application field of the present invention is used in the form of a roll, and from the viewpoint of work efficiency, a film having a thickness of 75 to 100 μm is usually used. Therefore, when two transparent polymer films having a simple function are bonded together, the total thickness is less than 0.3 mm. In addition, as for the antireflection film, one having a thickness of 188 μm is also used, but the base film is polyethylene terephthalate (PET), which is preferably compared to triacetyl cellulose (TAC) having a base film thickness of 80 μm. Since antireflective property is inferior, this is not actively used for bonding of films.
[0016]
In addition, when the film is directly bonded to the display panel main body, the display itself is expensive, and thus a film peeling process is indispensable when a problem occurs. However, this workability is not mentioned in the above prior patent. In addition, film bonding to displays has already been implemented in liquid crystal displays and flat TVs, but plasma displays require a greater force for peeling than existing displays because the area is significantly larger. For this reason, there are problems in terms of work, such as being troublesome and causing adhesive residue on the display surface to easily occur.
[0017]
Moreover, in the electromagnetic wave shield body, it is necessary to obtain electrical continuity between the transparent conductive layer and the outside by using an electrode for taking out electromagnetic waves as an electric current to the outside. As a technique, when a film is bonded on the transparent conductive layer for the purpose of protection, the layer is bonded so that a part of the layer is exposed around the filter, and this portion is used as an electrode to conduct to the outside. It is mentioned to be a part. Conventionally, an electromagnetic wave shield obtained by sticking a film to a front plate has obtained electrical continuity with the outside by this method. As a method for exposing the transparent conductive layer, a method of making the area of the film to be laminated on the transparent conductive layer slightly smaller than the area of the transparent conductive layer has been performed.
[0018]
If this method is used, a film having a transparent conductive layer on a rigid plate or the like is first pasted with a single sheet, and then a protective film with a smaller area is pasted with a single sheet. Therefore, there is a problem in productivity.
[0019]
Moreover, in the electromagnetic wave shield body obtained by sticking the film to the front plate conventionally, the electrode was provided in the perimeter part. When this method is used, it is necessary to perform the electrode forming operation on a single wafer, which causes a problem in productivity.
[0020]
The object of the present invention is to provide desired filter characteristics such as electromagnetic wave shielding ability, near infrared ray cutting ability, image quality improvement ability, etc. in view of the above prior art, low cost, light weight thinning, panel protection, work when trouble occurs To improve productivity and productivityplasmaIt is to provide a display filter, a display device on which the filter is mounted, and a manufacturing method thereof.
[0021]
[Means for Solving the Problems]
As a result of intensive studies in order to solve the above problems, the present inventors have as a result of 1) transparent shielding with a surface resistance of 0.01 to 30Ω / □ to shield extremely strong electromagnetic waves generated from a plasma display. A conductive layer is required. 2) By forming an electromagnetic wave shield with such a transparent conductive layer directly on the surface of the plasma display, it is excellent in electromagnetic wave shielding ability, near infrared ray cutting ability, image / visibility / cost. A display device using a plasma display can be obtained. 3) A light control film having a specific layer structure, containing a pigment and having a visible light transmittance of 30 to 85% is directly formed on the display surface. Therefore, it is possible to obtain a display device using a display excellent in image, visibility and cost, and 4) the total thickness of the transparent polymer film constituting the optical filter. It is 0.3 mm or more, and by attaching it directly to the front of the display, it is possible to improve workability while achieving both lightweight thinning and panel protection, 5) Limit the electrode formation position, for example In the case of a rectangular optical filter, it is possible to perform electrode formation by a roll-to-roll method having high production efficiency by forming electrodes only on a set of two opposite sides and devising the shape of the electrodes, etc. The headline, the present invention has been reached.
[0022]
The present inventionplasmaIt can be glued to the display screen and has predetermined filter characteristicsplasmaA display filter,
A functional transparent layer (A) provided on the outside air side and having antireflection properties and / or antiglare properties;
plasmaA transparent adhesive layer (C) provided on the display side for adhering to the screen;
A polymer film (B) provided as a substrate between the functional transparent layer (A) and the transparent adhesive layer (C);
At least one of the functional transparent layer (A), the polymer film (B), and the transparent adhesive layer (C) contains a dye having an absorption maximum in the wavelength range of 570 to 605 nm.,
The dye is a tetraazaporphyrin compound represented by the following chemical formula (1).It is characterized byplasmaThis is a display filter.
[Chemical 2]
[0023]
Moreover, this invention is provided between a functional transparent layer (A) and a polymer film (B), and / or between a polymer film (B) and a transparent adhesion layer (C), and 0.01- It is preferable to provide a transparent conductive layer (D) having a surface resistance of 30Ω / □.
[0024]
In the present invention, part or all of the transparent conductive layer (D) is preferably composed of a conductive mesh.
[0025]
In the present invention, the transparent conductive layer (D) is laminated by repeating the combination of the high refractive index transparent thin film layer (Dt) and the metal thin film layer (Dm) (Dt) / (Dm) 2-4 times. It is preferable that a high refractive index thin film layer (Dt) is further laminated thereon.
[0026]
In the present invention, it is preferable that at least one of the plurality of high-refractive-index transparent thin film layers (Dt) is formed of an oxide containing at least one of indium, tin, and zinc as a main component.
[0027]
In the present invention, it is preferable that at least one of the plurality of metal thin film layers (Dm) is formed of silver or a silver alloy.
[0028]
In the present invention, the functional transparent layer (A) preferably further has at least one function among hard coat properties, antistatic properties, antifouling properties, gas barrier properties, and ultraviolet cut properties.
[0029]
In the present invention, an adhesive layer (E) is preferably provided between the functional transparent layer (A) and the polymer film (B).
[0030]
In the present invention, it is preferable that the hard coat layer (F) is formed on both surfaces or one surface of the polymer film (B).
[0036]
MaThe present invention preferably contains a near-infrared absorbing dye having an absorption maximum in the wavelength range of 800 to 1100 nm.
[0037]
In the present invention, the visible light reflectance is preferably 2% or less on the surface of the functional transparent layer (A).
[0038]
The present invention preferably has a visible light transmittance of 30 to 85%.
In the present invention, it is preferable that the transmittance minimum at a wavelength of 800 to 1100 nm is 20% or less.
[0040]
Moreover, it is preferable that this invention is equipped with the polymer film for the thickness raising which can contain a pigment | dye.
[0041]
In the present invention, it is preferable that an electrode electrically connected to the transparent conductive layer (D) is formed.
[0042]
In the present invention, it is preferable that an electrode electrically connected to the transparent conductive layer (D) is continuously formed along the circumferential direction at the peripheral portion of the filter.
[0043]
Further, in the present invention, it is preferable that an electrode is formed on a partially exposed conductive portion.
Further, in the present invention, it is preferable that the filter shape is a rectangle, and electrodes are formed in two opposing peripheries.
[0044]
In the present invention, an electrode that is electrically connected to the transparent conductive layer (D) is preferably formed on the peripheral edge surface of the filter.
[0045]
In the present invention, a communication hole communicating with at least the transparent conductive layer (D) from the outermost surface along the thickness direction of the filter is formed,
It is preferable that an electrode electrically connected to the transparent conductive layer (D) is formed inside the communication hole.
[0046]
In the present invention, a conductive tape is preferably interposed between the transparent conductive layer (D) and a layer adjacent thereto.
[0047]
The present invention also provides an image displayplasmaDisplay,
plasmaProvided on the display screen,plasmaA display device comprising a display filter.
[0048]
The present invention also provides the above-mentionedplasmaA method of manufacturing a display device including a display filter,
Display deviceplasmaOn the display screen,plasmaBonding the display filter through the transparent adhesive layer (C);
And a step of electrically connecting a ground conductor of the display device and an electrode of the transparent conductive layer (D).
[0049]
The present invention also provides the above-mentionedplasmaA method of manufacturing a display device including a display filter,
Display deviceplasmaBonding a laminated filter including a polymer film (B), a transparent conductive layer (D), and a transparent adhesive layer (C) to the display screen via the transparent adhesive layer (C);
A step of disposing a functional transparent layer (A) having antireflection properties and / or antiglare properties directly or via the second adhesive layer on the multilayer filter;
A method for manufacturing a display device, comprising: electrically connecting a ground conductor of the display device and a transparent conductive layer (D).
[0050]
The present invention also provides the above-mentionedplasmaA method of manufacturing a display device including a display filter,
Display deviceplasmaPlacing a transparent adhesive layer (C) on the display screen;
A laminated filter including a polymer film (B), a transparent conductive layer (D), and a functional transparent layer (A) having antireflection properties and / or antiglare properties is pasted via the transparent adhesive layer (C). Combining the steps,
A method for manufacturing a display device, comprising: electrically connecting a ground conductor of the display device and a transparent conductive layer (D).
[0051]
The present invention also provides the above-mentionedplasmaA method of manufacturing a display device including a display filter,
Display deviceplasmaPlacing a transparent adhesive layer (C) on the display screen;
A step of laminating a polymer film (B) and a laminated filter including a transparent conductive layer (D) via the transparent adhesive layer (C);
A step of disposing a functional transparent layer (A) having antireflection properties and / or antiglare properties directly or via the second adhesive layer on the multilayer filter;
A method for manufacturing a display device, comprising: electrically connecting a ground conductor of the display device and a transparent conductive layer (D).
[0052]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The display filter according to the present invention functions as a light control film having a filter characteristic for correcting the visible light spectrum of the display screen by containing a dye having an absorption maximum in the wavelength range of 570 to 605 nm.
[0053]
Moreover, the display filter according to the present invention functions as an electromagnetic wave shielding body having a filter characteristic for blocking electromagnetic waves from the display screen by including a transparent conductive layer having a surface resistance of 0.01 to 30Ω / □.
[0054]
In addition, the display filter according to the present invention is a near-infrared absorbing dye having an absorption maximum in the wavelength range of 800 to 1100 nm.TheBy containing, it functions as a near-infrared filter having a filter characteristic that blocks near-infrared rays from the display screen.
[0055]
By attaching a display filter with these functions directly to the surface of a display such as a plasma display, improvements such as low cost, light weight and thinning, panel protection, workability in the event of a malfunction, and improvement in productivity can be achieved. Can do.
[0056]
The electromagnetic wave shielding body according to the present invention includes at least a transparent conductive layer (D) having a surface resistance of 0.01 to 30Ω / □ formed on one main surface of the polymer film (B), and a polymer film (B The transparent functional layer formed on the transparent conductive layer (D), directly or via the transparent adhesive layer, has a transparent adhesive layer (C) formed on the other main surface of It has a layer (A).
[0057]
The electromagnetic wave shielding body according to the present invention includes at least a transparent conductive layer (D) having a surface resistance of 0.01 to 30Ω / □ formed on one main surface of the polymer film (B), and a polymer. A functional transparent layer (A) formed on the other main surface of the film (B), and a conductive adhesive layer and a transparent adhesive layer (C) on the transparent conductive layer (D). Have.
[0058]
The electromagnetic wave shield according to the present invention includes at least a polymer film (B) and a transparent conductive material having a surface resistance of 0.01 to 30Ω / □ formed on one main surface of the polymer film (B). It has a functional transparent layer (A) formed on the other main surface of the layer (D), the transparent adhesive layer (C), and the polymer film (B).
[0059]
In addition, the light control film according to the present invention has at least a polymer film (B) and an antireflection and / or antiglare function formed on one main surface of the polymer film (B). It has a transparent layer (A), a transparent adhesive layer (C) formed on the other main surface of the polymer film (B), contains a pigment, and has a visible light transmittance of 55 to 90%. is there.
[0060]
1. Polymer film (B)
The polymer film (B) functions as a filter substrate, for example, a transparent conductive layer (DIn addition, since the display filter of the present invention is directly formed on the display surface, a transparent polymer film is used.
[0061]
The polymer film (B) may be transparent in the visible wavelength region. Specifically, polyethylene terephthalate, polyether sulfone, polystyrene, polyethylene naphthalate, polyarylate, polyether ether ketone, polycarbonate, polyethylene, polypropylene, nylon 6 and other cellulose resins, polyimide, triacetyl cellulose, and other cellulose-based resins, Polyurethane resins such as polyurethane and polytetrafluoroethylene, vinyl compounds such as polyvinyl chloride, polyacrylic acid, polyacrylic acid esters, polyacrylonitrile, addition polymers of vinyl compounds, polymethacrylic acid, polymethacrylic acid esters, polychlorinated Vinylidene compounds such as vinylidene, vinylidene fluoride / trifluoroethylene copolymers, vinyl compounds such as ethylene / vinyl acetate copolymers, or copolymers of fluorine compounds, polyester Polyethers such Ren'okishido, epoxy resins, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral and the like, but not limited thereto.
[0062]
The polymer film usually has a thickness of 10 to 250 μm. If it is too thin, it is difficult to form the filter directly on the display surface, which limits the flexibility. Therefore, the thickness of the polymer film (B) is 50 μm or more, preferably 75 μm or more. On the other hand, if the thickness is 250 μm or more, the flexibility may be insufficient and the film may be unsuitable for use by being wound with a roll. In the field where high transparency is required as in the field of the present invention, a polymer film having a thickness of about 100 μm is widely used.
[0063]
The transparent polymer film used in the present invention has flexibility, and a transparent conductive film can be continuously formed by a roll-to-roll method. The body can be produced. Furthermore, the film-like filter can be easily formed directly on the display surface by lamination. Furthermore, a filter based on a polymer film bonded directly to the display surface is suitable because it can prevent glass scattering when the substrate glass of the display is broken.
[0064]
In the present invention, the surface of the polymer film (B) is subjected to etching treatment such as sputtering treatment, corona treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, and undercoating treatment, and a transparent conductive layer ( The adhesion of D) to the polymer film (B) may be improved in advance. In addition, an inorganic material layer such as an arbitrary metal may be formed between the polymer film (B) and the transparent conductive layer (D). A dustproof treatment such as sonic cleaning may be applied.
[0065]
Moreover, in order to improve the scratch resistance of the transparent laminate, a hard coat layer (F) may be formed on at least one main surface of the polymer film (B).
[0066]
2. Hard coat layer (F)
Examples of the hard coat film serving as the hard coat layer (F) include thermosetting or photocurable resins such as acrylic resins, silicon resins, melamine resins, urethane resins, alkyd resins, and fluorine resins. However, the type and formation method are not particularly limited. The thickness of these films is about 1 to 100 μm. Further, the hard coat layer (F) can contain one or more dyes described later.
[0067]
3. Transparent conductive layer (D)
In the electromagnetic wave shielding body of the present invention, the transparent conductive layer (D) is formed on one main surface of the polymer film (B). The transparent conductive layer (D) in the present invention is a transparent conductive film comprising a single layer or a multilayer thin film. In addition, in this invention, what formed the transparent conductive layer (D) on the main surface of a polymer film (B) is called transparent laminated body (H).
[0068]
Examples of the single-layer transparent conductive film include conductive meshes such as the metal mesh and conductive lattice pattern film described above, and transparent conductive thin films such as metal thin films and oxide semiconductor thin films.
[0069]
As the multilayer transparent conductive film, there is a multilayer thin film in which a metal thin film and a high refractive index transparent thin film are laminated. A multilayer thin film composed of a metal thin film and a high refractive index transparent thin film is made possible by the conductivity of silver and other metals and its near-infrared reflection characteristics due to free electrons, and the high refractive index transparent thin film prevents reflection by metal in a certain wavelength region. , Conductivity, near-infrared cut ability, and visible light transmittance are preferable.
[0070]
In order to obtain a display filter with electromagnetic shielding ability and near-infrared cutting ability, a multi-layer consisting of a metal thin film with high conductivity for electromagnetic wave absorption and a reflective interface for electromagnetic wave reflection and a high refractive index transparent thin film A thin film is preferred.
[0071]
By the way, in VCCI, the radiated electric field strength is less than 50 dBμV / m in Class A indicating the regulation value for business use, and less than 40 dBμV / m in Class B indicating the regulation value for consumer use. However, the radiated electric field intensity of the plasma display is in the range of 20 to 90 MHz, exceeding 40 dBμV / m for a diagonal 20-inch type and exceeding 50 dBμV / m for a diagonal 40-inch type. For this reason, it cannot be used as it is for home use.
[0072]
The radiated electric field intensity of a plasma display increases as the screen size and power consumption increase, and an electromagnetic wave shielding material having a high shielding effect is required.
[0073]
As a result of intensive studies, the inventors of the present invention have a transparent conductive layer (D) having a surface resistance of 0. 10% in order to have an electromagnetic wave shielding ability necessary for a plasma display in addition to a high visible light transmittance and a low visible light reflectance. It has been found that it is necessary to have low resistance conductivity of 01 to 30Ω / □, more preferably 0.1 to 15Ω / □, and still more preferably 0.1 to 5Ω / □. The visible light transmittance and the visible light reflectance in the present invention are calculated according to JIS (R-3106) from the wavelength dependence of the transmittance and the reflectance.
[0074]
Moreover, the present inventors cut the light transmittance minimum in the near-infrared wavelength region 800 to 1100 nm of the display filter to 20% or less in order to block the near-infrared light emitted by the plasma display to a level that does not cause a problem in practice. In order to satisfy this requirement, the transparent conductive layer itself must have near-infrared cutability from the requirement of reducing the number of members and the limit of near-infrared absorption using pigments. , Found. In order to cut near-infrared rays with a transparent conductive layer, reflection by free electrons of metal can be used.
[0075]
When the metal thin film layer is thick, the visible light transmittance is low, and when it is thin, the near-infrared reflection is weak. However, the visible light transmittance is increased and the overall thickness of the metal thin film layer is increased by stacking one layer or more of a laminated structure in which a metal thin film layer of a certain thickness is sandwiched between high refractive index transparent thin film layers. Is possible. It is also possible to change the visible light transmittance, visible light reflectance, near infrared transmittance, transmitted color, and reflected color within a certain range by controlling the number of layers and / or the thickness of each layer. .
[0076]
In general, when the visible light reflectance is high, the reflection of a lighting fixture or the like on the screen increases, the effect of preventing reflection on the surface of the display unit is reduced, and visibility and contrast are reduced. Further, as the reflected color, white, blue, and purple-colored colors that are not conspicuous are preferable. For these reasons, the transparent conductive layer is preferably a multilayer stack that is easy to optically design and control.
[0077]
In the electromagnetic wave shielding body of the present invention, it is preferable to use a transparent laminate (H) in which a transparent conductive layer (D) of a multilayer thin film is formed on one main surface of the polymer film (B).
[0078]
In the present invention, a preferred transparent conductive layer (D) comprises (Dt) / (Dt) / (Dm) in order of a high refractive index transparent thin film layer (Dt) and a metal thin film layer (Dm) on one main surface of the polymer film (B). Dm) is repeated 2-4 times as a repeating unit, and is further formed by laminating at least a high refractive index transparent thin film layer (Dt) thereon, and the surface resistance of the transparent conductive layer is 0.1-5 Ω / □. It is characterized by being low resistance for electromagnetic wave shielding ability, near infrared ray cutting ability, transparency, and excellent performance in visible light reflectance. In the present invention, unless otherwise specified, the multilayer thin film refers to a multi-layered transparent conductive film in which a laminated structure in which a metal thin film layer is sandwiched between high refractive index transparent thin film layers is stacked one or more layers.
[0079]
In the transparent conductive layer of the present invention, the number of repeated laminations is preferably 2 to 4 times. That is, the transparent laminate (D) of the present invention in which a transparent conductive layer is laminated on the main surface of the polymer film (B) is (B) / (Dt) / (Dm) / (Dt) / (Dm) / (Dt) or (B) / (Dt) / (Dm) / (Dt) / (Dm) / (Dt) / (Dm) / (Dt) or (B) / (Dt) / (Dm ) / (Dt) / (Dm) / (Dt) / (Dm) / (Dt) / (Dm) / (Dt). If the number of laminated layers is 5 times or more, there is a tendency for production device limitations and productivity problems to increase, and a decrease in visible light transmittance and an increase in visible light reflectance. In addition, when the number of repetitions is one, it is difficult to achieve sufficient low resistance, near infrared ray cutting ability, and visible light reflectance at the same time.
[0080]
In addition, in a multilayer thin film having 2 to 4 repetitions of lamination, in order to make the near-infrared cut ability, visible light transmittance, and visible light reflectance suitable for a plasma display at the same time, the sheet resistance is 0. The present inventors have found that it is 1 to 5Ω / □.
[0081]
In the future, it is assumed that the intensity of electromagnetic waves emitted from the plasma display will decrease. In that case, it is expected that sufficient electromagnetic wave shielding characteristics can be obtained even when the surface resistance of the electromagnetic wave shield is 5 to 15Ω / □. It is also assumed that the electromagnetic wave intensity emitted from the plasma display is further reduced. In that case, it is expected that sufficient electromagnetic wave shielding characteristics can be obtained even when the surface resistance of the electromagnetic wave shield is 15 to 30Ω / □. On the other hand, as a viewpoint different from the electromagnetic wave intensity to be emitted, when further enlargement and thinning of the plasma display are required, the surface resistance of the electromagnetic wave shield body may be required to be 0.01 to 1Ω / □. is assumed.
[0082]
As a material for the metal thin film layer (Dm), silver is suitable because it is excellent in conductivity, infrared reflectivity, and visible light transmittance when multilayered. However, since silver lacks chemical and physical stability and deteriorates due to environmental pollutants, water vapor, heat, light, etc., it is stable to silver, gold, platinum, palladium, copper, indium, tin, etc. An alloy to which one or more metals are added and an environment-stable metal can also be suitably used. In particular, gold and palladium are excellent in environmental resistance and optical characteristics and are suitable.
[0083]
Although the silver content in the silver-containing alloy is not particularly limited, it is preferably not significantly different from the conductivity and optical characteristics of the silver thin film, and is about 50 wt% or more and less than 100 wt%. However, when other metals are added to silver, its excellent electrical conductivity and optical properties are hindered. Therefore, when having multiple metal thin film layers, at least one layer should not be alloyed with silver if possible. It is desirable to use it, or to alloy only the metal thin film layer in the first layer and / or the outermost layer as viewed from the substrate.
[0084]
The thickness of the metal thin film layer (Dm) is optically designed and experimentally determined from conductivity, optical characteristics, etc., and is not particularly limited as long as the transparent conductive layer has the required characteristics. The thin film needs to be in a continuous state, not an island structure, and is preferably 4 nm or more. Moreover, since transparency will become a problem when a metal thin film layer is too thick, 30 nm or less is desirable. When there are a plurality of metal thin film layers, all the layers are not necessarily the same thickness, and may not be all silver or an alloy containing the same silver.
[0085]
As a method for forming the metal thin film layer (Dm), any of conventionally known methods such as sputtering, ion plating, vacuum deposition, plating and the like can be adopted.
[0086]
The transparent thin film forming the high refractive index transparent thin film layer (Dt) is not particularly limited as long as it has transparency in the visible region and has the effect of preventing light reflection in the visible region of the metal thin film layer. However, a high refractive index material having a refractive index with respect to visible light of 1.6 or more, preferably 1.8 or more, more preferably 2.0 or more is used. Specific materials for forming such a transparent thin film include oxides such as indium, titanium, zirconium, bismuth, tin, zinc, antimony, tantalum, cerium, neodymium, lanthanum, thorium, magnesium, gallium, or the like. Examples thereof include a mixture of oxides and zinc sulfide.
[0087]
These oxides or sulfides can be used as long as they do not significantly change the optical characteristics even if the stoichiometric composition of the metal and oxygen atoms or sulfur atoms is different. Among them, zinc oxide, titanium oxide, indium oxide and a mixture of indium oxide and tin oxide (ITO) have high film formation speed and good adhesion to the metal thin film layer in addition to transparency and refractive index. Since it exists, it can be used conveniently.
[0088]
The thickness of the high refractive index transparent thin film layer (Dt) is determined from the optical properties of the polymer film (B) [also referred to as transparent substrate], the thickness of the metal thin film layer, the optical properties, the refractive index of the transparent thin film layer, etc. Although it is calculated | required optically and experimentally and it does not specifically limit, It is preferable that they are 5 nm or more and 200 nm or less, More preferably, they are 10 nm or more and 100 nm or less. Moreover, the high refractive index transparent thin film first layer... (N + 1) th layer (n ≧ 1) is not necessarily the same thickness, and may not be the same transparent thin film material.
[0089]
As a method for forming the high refractive index transparent thin film layer (Dt), any of conventionally known methods such as sputtering, ion plating, ion beam assist, vacuum deposition, and wet coating can be employed.
[0090]
In order to improve the environmental resistance of the transparent conductive layer (D), an organic or inorganic protective layer may be provided on the surface of the transparent conductive layer to such an extent that the conductivity and optical properties are not significantly impaired. In addition, in order to improve the environmental resistance of the metal thin film layer and the adhesion between the metal thin film layer and the high refractive index transparent thin film layer, electrical conductivity and optical characteristics are improved between the metal thin film layer and the high refractive index transparent thin film layer. You may form arbitrary inorganic substance layers to such an extent that it does not impair. Specific examples of these materials include copper, nickel, chromium, gold, platinum, zinc, zirconium, titanium, tungsten, tin, palladium, and the like, or alloys made of two or more of these materials. The thickness is preferably about 0.2 nm to 2 nm.
[0091]
In order to obtain the transparent conductive layer (D) having desired optical characteristics, the transparent polymer film (B) and the conductive material for the electromagnetic wave shielding ability to be obtained, ie, the metal thin film material and thickness are taken into consideration. Optical design using a vector method using the optical constants (refractive index, extinction coefficient) of the thin film material, a method using an admittance diagram, etc. is performed, and the thin film material, the number of layers, the film thickness, etc. of each layer are determined. At this time, an adjacent layer formed on the transparent conductive layer (D) may be considered. This is because the incident medium of light to the transparent conductive layer formed on the transparent polymer film (B) is different from the incident medium having a refractive index of 1 such as air or vacuum, so that the transmission color (and the transmittance, reflection color) This is because the reflectance changes. That is, when forming the functional transparent layer (A) on the transparent conductive layer (D), when the transparent adhesive layer (C) is interposed, the design is performed in consideration of the optical constant of the transparent adhesive layer (C). Moreover, when making a functional transparent layer (A) directly on a transparent conductive layer (D), the design which considers the optical constant of the material which touches a transparent conductive layer (D) is performed.
[0092]
As described above, by designing the transparent conductive layer (D), in the high refractive index transparent thin film layer (Dt), the lowermost layer and the uppermost layer are thinner than the layer between them when viewed from the polymer film (B). In the thin film layer (Dm), the lowermost layer as viewed from the polymer film (B) is thinner than the other layers, and an adhesive material having a refractive index of 1.45 to 1.65 and an extinction coefficient of approximately 0 to 10 to 50 μm is the adjacent layer. At some point, it has been found that the reflection of the transparent laminate is not significantly increased, that is, the increase in interface reflection due to the formation of the adjacent layer is 2% or less.
[0093]
In particular, in the case of the transparent conductive layer having a total number of repetitions of 3 times, that is, a total of 7 layers, when the second layer in the middle of the three metal thin film layers (Dm) is thicker than the other layers, the adhesive material is It has been found that the reflection of the transparent laminate does not increase significantly when it is an adjacent layer.
[0094]
The optical constant can be measured by ellipsometry (Ellipsometry) or Abbe refractometer, and film formation can be performed by controlling the number of layers, film thickness, etc. while observing the optical characteristics.
[0095]
The atomic composition of the transparent conductive layer formed by the above method can be measured by Auger electron spectroscopy (AES), inductively coupled plasma method (ICP), Rutherford backscattering method (RBS), or the like. The layer structure and film thickness can be measured by observation in the depth direction of Auger electron spectroscopy, cross-sectional observation using a transmission electron microscope, or the like.
[0096]
The film thickness is controlled by performing the film formation after clarifying the relationship between the film formation conditions and the film formation speed in advance, or by film thickness monitoring during film formation using a crystal resonator or the like.
[0097]
In addition to the method using the transparent conductive thin film described above, there is also a method using a conductive mesh as the transparent conductive layer. The following single-layer metal mesh will be described as an example of the conductive mesh, but the conductive mesh in the present invention is not limited to this.
[0098]
A single-layer metal mesh generally has a copper mesh layer formed on a polymer film. Usually, copper foil is bonded on a polymer film, and then processed into a mesh shape.
[0099]
The copper foil used in the present invention can be used for both rolled copper and electrolytic copper, but the metal layer is preferably porous, and the pore diameter is preferably 0.5 to 5 μm, more preferably 0.5. It is -3micrometer, More preferably, it is 0.5-1micrometer. If the hole diameter is larger than this, patterning may be hindered. If the hole diameter is smaller than this, it is difficult to expect improvement in light transmittance. In addition, as a porosity of copper foil, the range of 0.01 to 20% is preferable, More preferably, it is 0.02 to 5%. The porosity referred to in the present invention is a value defined by P / R when the volume R is P and the pore volume is P. For example, when the pore volume of the copper foil corresponding to the volume of 0.1 cc is measured by mercury porosity, if the porosity is 0.001 cc, the porosity can be 1%. The copper foil used may be subjected to various surface treatments. Specific examples include chromate treatment, roughening treatment, pickling, zinc / chromate treatment, and the like.
[0100]
The thickness of the copper foil is preferably 3 to 30 μm, more preferably 5 to 20 μm, and still more preferably 7 to 10 μm. If it is thicker than this thickness, there is a problem that it takes time to etch, and if it is thinner than this thickness, there is a problem that the electromagnetic wave shielding ability is inferior.
[0101]
The aperture ratio of the light transmitting portion is preferably 60% or more and 95% or less, more preferably 65% or more and 90% or less, and still more preferably 70% or more and 85% or less. The shape of the opening is not particularly limited, but it is preferably in the form of a regular triangle, a regular square, a regular hexagon, a circle, a rectangle, a rhombus, and the like, and is arranged in the plane. The typical size of the opening of the light transmitting portion is preferably in the range of one side or diameter of 5 to 200 μm. More preferably, it is 10-150 micrometers. When this value is too large, the electromagnetic wave shielding ability is lowered, and when it is too small, the display image is unfavorably affected. Further, the width of the metal in the portion where the opening is not formed is preferably 5 to 50 μm. That is, the pitch is preferably 10 to 250 μm. If it is narrower than this width, processing becomes extremely difficult, while if it is thicker than this width, it adversely affects the image.
[0102]
The substantial sheet resistance of the metal layer having a light transmitting portion was measured by a four-terminal method using an electrode larger than the pattern by 5 times or more and having an electrode interval of 5 times or more than the repeating unit of the pattern. Refers to sheet resistance. For example, if the shape of the opening is a square with a side of 100 μm and the metal layer has a width of 20 μm and squares are regularly arranged, it is possible to measure by arranging electrodes of φ1 mm at intervals of 1 mm. Alternatively, a patterned film is processed into a strip shape, electrodes are provided at both ends in the longitudinal direction, the resistance is measured (R), and the length a in the longitudinal direction and the length b in the lateral direction are substantially Sheet resistance = R × b / a. The measured value is preferably 0.01Ω / □ or more and 0.5Ω / □ or less, more preferably 0.05Ω / □ or more and 0.3Ω / □ or less. If an attempt is made to obtain a value smaller than this value, the film becomes too thick and the opening cannot be sufficiently removed. On the other hand, if the value is larger than this value, sufficient electromagnetic wave shielding ability cannot be obtained.
[0103]
As a method of laminating the silver foil on the polymer film, a transparent adhesive is used. Examples of the adhesive include acrylic, urethane, silicone, and polyester, but the adhesive is not particularly limited. A two-component system and a thermosetting type are preferably used. An adhesive having excellent chemical resistance is preferable. After apply | coating an adhesive agent to a polymer film, it can also paste together with silver foil, and may bond an adhesive agent to silver foil.
[0104]
As a method for forming the light transmission portion, a printing method or a photoresist method can be used. In the printing method, a method is generally used in which a mask layer is patterned by a screen printing method using a printing resist material. In the method using a photoresist material, a photoresist material is formed on a metal foil by a roll coating method, a spin coating method, a full surface printing method, a transfer method, etc., and exposed and developed using a photomask to pattern the resist. Do. After the resist patterning is completed, the metal portion serving as the opening is removed by wet etching, whereby a metal mesh having a light transmitting portion with a desired opening shape and an opening ratio can be obtained.
[0105]
4). Transmission characteristics
The visible light transmittance in the light transmitting part of the electromagnetic wave shield is preferably 30 to 85%. More preferably, it is 50 to 80%. If it is less than 30%, the luminance is too low and the visibility is deteriorated. In order to obtain contrast, it may be required to be 85% or less, preferably 80% or less.
[0106]
In the light control film, the visible light transmittance is preferably 55 to 90%. More preferably, it is 60 to 85%. If it is less than 55%, the luminance is too low and the visibility is deteriorated. In order to obtain contrast, it may be required to be 85% or less, preferably 80% or less.
[0107]
The visible light transmittance (Tvis) and the visible light reflectance (Rvis) in the present invention are calculated according to JIS (R-3106) from the wavelength dependency of the transmittance and reflectance.
[0108]
5). Color characteristics, pigment
By the way, in the transmitted color of the display filter, when the yellowish green to green color is strong, the contrast of the display is lowered, the color purity is further lowered, and the white display may be greenish. This is because light having a wavelength of about 550 nm, which is yellowish green to green, has the highest visibility.
[0109]
Multilayer thin films generally have poor transmission color tone when the visible light transmittance and the visible light reflectance are emphasized. The higher the electromagnetic wave shielding ability, that is, the conductivity, and the near infrared ray cutting ability, the thicker the total thickness of the metal thin film is. However, as the total film thickness of the metal thin film increases, it tends to be green to yellowish green. Therefore, the electromagnetic wave shield used for the plasma display is required to have a transmission color of neutral gray or blue gray. This is due to a decrease in contrast due to strong green transmission, weak blue emission compared to red and green emission colors, and preference for white having a slightly higher color temperature than standard white. In addition, as for the transmission characteristics of the electromagnetic wave shield, it is desirable that the chromaticity coordinates of the white display of the plasma display be as close to the black body locus as possible.
[0110]
When the multilayer thin film is used for the transparent conductive layer (D), it is important to correct the color tone of the multilayer thin film so that the transmission color of the electromagnetic wave shield is neutral gray or blue gray. In order to correct the color tone, a dye having absorption in the visible wavelength region may be used. For example, when the transparent color of the transparent conductive layer (D) has a green color, it is corrected to gray using a red pigment, and when the transmitted color has a yellow color, it is corrected using a blue to purple pigment.
[0111]
In color plasma displays, (Y, Gd, Eu) BO is excited and emitted by vacuum ultraviolet light generated by DC or AC discharge of rare gas.ThreeRed light emitting phosphor such as (Zn, Mn)2SiOFourGreen-emitting phosphor such as (Ba, Eu) MgAlTenO17A blue light emitting phosphor such as: Eu is formed in the display cell constituting the pixel. Phosphors are selected based on color purity, coating properties on discharge cells, short afterglow time, luminous efficiency, heat resistance, etc., and phosphors in practical use have been improved to their color purity. There are many things that require. In particular, the emission spectrum of a red light emitting phosphor shows several emission peaks ranging from a wavelength of about 580 nm to about 700 nm, and the emission peak on the short wavelength side, which is relatively strong, is yellow to orange emission, so that red emission is emitted. There is a problem that the color purity is not as good as that of orange. When a mixed gas of Xe and Ne is used as the rare gas, the orange light emission due to light emission relaxation in the Ne excited state similarly reduces the color purity. In addition, with respect to green light emission and blue light emission, the position of the peak wavelength and the emission broadening are factors that lower the color purity.
[0112]
For example, in the coordinate system in which the hue and saturation are represented by the horizontal axis chromaticity x and the vertical axis chromaticity y determined by the International Commission on Illumination (CIE), the color purity is high in a triangular shape having three colors RGB as vertices. It can be represented by the breadth of the color reproduction range indicated by the breadth. Due to the low color purity, the color reproduction range of light emission of the plasma display is usually narrower than the color reproduction range indicated by the chromaticity of the RGB three colors defined by the NTSC (National Television System Committee) system.
[0113]
In addition to the oozing of light emission between display cells, the emission of each color includes unnecessary light over a wide range, and the fact that the necessary light emission does not stand out is not only the color purity but also the contrast of the plasma display. It is also a factor to lower. Further, the contrast of the plasma display is generally worse in the bright time when the outside light is present due to indoor lighting or the like than in the dark time. This occurs because the substrate glass, phosphors, etc. reflect outside light and make unnecessary light stand out. The contrast ratio of the plasma display panel is 100 to 200 for the suggestion and 10 to 30 for the bright time with an ambient illuminance of about 100 lx. Also, the low contrast is a factor that narrows the color reproduction range.
[0114]
In order to improve the contrast, there is a method of reducing the transmittance of the entire visible wavelength region, such as a neutral density (ND) filter on the front surface of the display, and reducing the reflection of external light reflections on the substrate glass and phosphor, When the visible light transmittance is remarkably low, the brightness and the sharpness of the image are lowered, and the color purity is hardly improved.
[0115]
The present inventors have found that improving the color purity and contrast of the luminescent color of a color plasma display can be achieved by reducing unnecessary light emission and external light reflection that cause a decrease in the color purity and contrast of the luminescent color. It was.
[0116]
In addition, the present inventors not only adjust the electromagnetic shielding body to neutral gray or neutral blue by using a dye, but also cause unnecessary light emission and external light reflection that cause a decrease in color purity and contrast of the emission color. We found that it can be reduced. In particular, it has been found that red light emission is close to orange, and the color purity of red light emission can be improved by reducing the light emission having a wavelength of 580 nm to 605 nm.
[0117]
In the display filter of the present invention, unnecessary light emission and external light reflection can be reduced by including in the shield body a dye having an absorption maximum at a wavelength of 570 nm to 605 nm. At this time, it is necessary that the light transmission at a wavelength of 615 nm to 640 nm with a red emission peak is not significantly impaired by the display filter.
[0118]
In general, a dye has a broad absorption range, and a dye having a desired absorption peak may absorb even light having a suitable wavelength due to absorption at the bottom. When light emission by Ne is present, orange light emission can be reduced, so that the color purity of light emission from the RGB display cell is improved.
[0119]
Further, the green light emission of the color plasma display is broad, and the peak position may be slightly longer than the green color required by the NTSC system, for example, on the yellowish green side.
[0120]
The present inventors absorb and cut the long wavelength side of green light emission by the absorption on the short wavelength side of the dye having an absorption maximum at a wavelength of 570 nm to 605 nm, and further cut unnecessary light emission and / or shift the peak. It has been found that the color purity can be improved by making them.
[0121]
In order to improve the color purity of red light emission and in addition to green light emission, the minimum transmittance of the electromagnetic wave shield at a wavelength of 570 nm to 605 nm can be obtained by using a dye having an absorption maximum at a wavelength of 570 nm to 605 nm. It is preferable that it is 80% or less with respect to the transmittance at the position.
[0122]
When the color purity of blue light emission is low, a dye that reduces unnecessary light emission and shifts its peak wavelength and absorbs blue-green light emission may be used similarly to red light emission and green light emission. Furthermore, absorption by the dye can reduce external light reflection on the phosphor by reducing the incidence of external light on the phosphor. This can also improve color purity and contrast.
[0123]
The method for incorporating a dye into the display filter of the present invention includes (1) a polymer film in which at least one kind of dye is kneaded with a transparent resin, and (2) a resin or a resin monomer / organic solvent resin. A polymer film prepared by dispersing and dissolving at least one pigment in a concentrated liquid and then produced by a casting method. (3) At least one pigment is added to a resin binder and an organic solvent to form a paint on a transparent substrate. It is a method used as one or more forms of what was coated and (4) the transparent adhesive material containing at least 1 or more types of pigment | dye.
[0124]
The inclusion in the present invention means not only that it is contained in a layer such as a substrate or a coating film or an adhesive material, but also a state where it is applied to the surface of the substrate or layer.
[0125]
The dye may be a general dye or pigment having a desired absorption wavelength in the visible region, and the type thereof is not particularly limited. For example, anthraquinone, phthalocyanine, methine, azomethine, oxazine, azo Organic, commercially available organic dyes such as those based on styryl, styryl, coumarin, porphyrin, dibenzofuranone, diketopyrrolopyrrole, rhodamine, xanthene, and pyromethene. The type / concentration is determined by the absorption wavelength / absorption coefficient of the dye, the color tone of the transparent conductive layer, the transmission characteristics / transmittance required for the electromagnetic wave shield, and the type / thickness of the medium or coating film to be dispersed. Is not to be done.
[0126]
When a multilayer thin film is used for the transparent conductive layer (D), it has a near infrared ray cutting ability in addition to the electromagnetic wave shielding ability, but a higher near infrared ray cutting ability is required or the transparent conductive layer has a near infrared ray cutting ability. In order to provide the near-infrared cutting ability to the filter for display when it does not have, it is possible to use one or more near-infrared absorbing dyes in combination with the dye.
[0127]
The near-infrared absorbing dye is not particularly limited as long as it compensates for the near-infrared cutting ability of the transparent conductive layer and absorbs the near-infrared light emitted by the plasma display to a sufficiently practical level. The concentration is not limited. Examples of the near-infrared absorbing dye include phthalocyanine compounds, anthraquinone compounds, dithiol compounds, and diiminium compounds.
[0128]
Since the temperature of the panel surface of the plasma display panel is high, especially when the temperature of the environment is high, the temperature of the electromagnetic shielding body also rises. Therefore, the dye used in the present invention does not deteriorate significantly due to heat resistance, for example, decomposition at 80 ° C. It preferably has heat resistance.
[0129]
Some dyes have poor light resistance in addition to heat resistance. When deterioration of plasma display light emission or external light due to ultraviolet rays / visible rays becomes a problem, by using a member containing an ultraviolet absorber or a member that does not transmit ultraviolet rays, it is possible to reduce deterioration of the dye due to ultraviolet rays, It is important to use a dye that does not significantly deteriorate by visible light. The same applies to humidity and a combined environment in addition to heat and light. When the pigment is deteriorated, the transmission characteristics of the electromagnetic wave shielding body are changed.
[0130]
Actually, it is specified in Japanese Patent Laid-Open No. 8-220303 that the surface temperature of the plasma display panel is changed from 70 ° C. to 80 ° C. The light generated from the plasma display panel is, for example, 300 cd / m.2(Fujitsu Ltd. Image Site catalog AD25-000061C Oct.1997M), when the solid angle is 2π, and it is irradiated for 20,000 hours, it becomes 2π × 20000 × 300 = 38 million (lx · hour) Therefore, it is understood that light resistance of about several tens of millions (lx · hour) is necessary for practical use.
[0131]
Furthermore, in order to disperse | distribute a pigment | dye in a medium or a coating film, the solubility to a suitable solvent is also important. Two or more pigments having different absorption wavelengths may be contained in one medium or coating film.
[0132]
The display filter of the present invention has excellent transmission characteristics and transmittance that do not significantly impair the luminance and visibility of the color plasma display, and can improve the color purity and contrast of the emission color of the color plasma display. In the case where at least one of the dyes to be contained is a tetraazaporphyrin compound, the present inventors have a main absorption wavelength at a wavelength that is the same as or close to the wavelength of unwanted emission of 570 to 605 nm that is particularly desired to be reduced. In addition, since the absorption wavelength width is relatively narrow, it has been found that the loss of luminance due to absorption of suitable light emission can be reduced, and excellent transmission characteristics, transmittance, color purity of emitted light color and contrast are improved. A display filter with excellent performance could be obtained.
[0133]
The tetraazaporphyrin compound used in the present invention can be represented by the formula (1). Hereinafter, Formula (1) is abbreviated like the following Structural Formula (2) (Chemical Formula 3).
[0134]
[Chemical Formula 3]
[In formula (2), AmAnd AnEach independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydroxy group, an amino group, a carboxyl group, a sulfonic acid group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a halogenoalkyl group, an alkoxy group, an alkoxyalkoxy group, An aryloxy group, a monoalkylamino group, a dialkylamino group, an aralkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, an alkylthio group, or an arylthio group;mAnd AnMay each independently form a ring excluding an aromatic ring through a linking group, and M is two hydrogen atoms, a divalent metal atom, a trivalent mono-substituted metal atom, or a tetravalent di-substituted. Represents a metal atom or an oxymetal atom. ]
Specific examples of the tetraazaporphyrin compound represented by the formula (1) are described below. Where A1~ A8Specific examples of these include, independently of each other, a hydrogen atom; a halogen atom such as fluorine, chlorine, bromine and iodine; a nitro group; a cyano group; a hydroxy group; an amino group; a carboxyl group; n-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, 2-methylbutyl group, 1-methylbutyl group, neo-pentyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 1,1-dimethylpropyl group, cyclo-pentyl group, n-hexyl group, 4-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 1-methylpentyl group, 3,3-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 1,1-dimethylbutyl group, 3- Ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 1-ethylbutyl group, 1,2,2-trimethylbutyl group 1,1,2-trimethylbutyl group, 1-ethyl-2-methylpropyl group, cyclo-hexyl group, n-heptyl group, 2-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, 4-methylhexyl group, 5-methylhexyl group, 2,4-dimethylpentyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, 2,5-dimethylhexyl group, 2,5,5-trimethylpentyl group, 2,4-dimethylhexyl group, 2,2,4-trimethylpentyl group, n-nonyl group, 3,5,5-trimethylhexyl group, n-decyl group, 4-ethyloctyl group, 4-ethyl-4,5-dimethylhexyl group, n- Undecyl group, n-dodecyl group, 1,3,5,7-tetramethyloctyl group, 4-butyloctyl group, 6,6-diethyloctyl group, n-tridecyl group, 6-methyl-4-butyloctyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, 3,5-dimethylheptyl group, 2,6-dimethylheptyl group, 2,4-dimethylheptyl group, 2,2,5,5-teto A linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as lamethylhexyl group, 1-cyclo-pentyl-2,2-dimethylpropyl group, 1-cyclo-hexyl-2,2-dimethylpropyl group;
A halogenoalkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as chloromethyl group, dichloromethyl group, fluoromethyl group, trifluoromethyl group, pentafluoroethyl group, nonafluorobutyl group;
Methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, iso-propoxy group, n-butoxy group, iso-butoxy group, sec-butoxy group, t-butoxy group, n-pentoxy group, iso-pentoxy group, neo-pentoxy group An alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms such as n-hexyloxy group and n-dodecyloxy group;
An alkoxyalkoxy group having 2 to 20 carbon atoms such as a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, a 3-methoxypropyloxy group, a 3- (iso-propyloxy) propyloxy group;
Aryloxy groups having 6 to 20 carbon atoms such as phenoxy group, 2-methylphenoxy group, 4-methylphenoxy group, 4-t-butylphenoxy group, 2-methoxyphenoxy group, 4-iso-propylphenoxy group;
A monoalkylamino group having 1 to 20 carbon atoms such as a methylamino group, an ethylamino group, an n-propylamino group, an n-butylamino group, and an n-hexylamino group;
A dialkylamino group having 2 to 20 carbon atoms such as a dimethylamino group, a diethylamino group, a di-n-propylamino group, a di-n-butylamino group, and an N-methyl-N-cyclohexylamino group;
Benzyl, nitrobenzyl, cyanobenzyl, hydroxybenzyl, methylbenzyl, dimethylbenzyl, trimethylbenzyl, dichlorobenzyl, methoxybenzyl, ethoxybenzyl, trifluoromethylbenzyl, naphthylmethyl, nitro Aralkyl groups having 7 to 20 carbon atoms such as naphthylmethyl group, cyanonaphthylmethyl group, hydroxynaphthylmethyl group, methylnaphthylmethyl group, trifluoromethylnaphthylmethyl group;
Phenyl group, nitrophenyl group, cyanophenyl group, hydroxyphenyl group, methylphenyl group, dimethylphenyl group, trimethylphenyl group, dichlorophenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, trifluoromethylphenyl group, N, N-dimethylamino Aryl groups having 6 to 20 carbon atoms such as phenyl group, naphthyl group, nitronaphthyl group, cyanonaphthyl group, hydroxynaphthyl group, methylnaphthyl group, trifluoromethylnaphthyl group;
Heteroaryl groups such as pyrrolyl group, thienyl group, furanyl group, oxazoyl group, isoxazoyl group, oxadiazoyl group, imidazoloyl group, benzoxazoyl group, benzothiazoyl group, benzoimidazoloyl group, benzofuranyl group, indoyl group;
Methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group, iso-propylthio group, n-butylthio group, iso-butylthio group, sec-butylthio group, t-butylthio group, n-pentylthio group, iso-pentylthio group, 2-methylbutyl An alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms such as a thio group, 1-methylbutylthio group, neo-pentylthio group, 1,2-dimethylpropylthio group, 1,1-dimethylpropylthio group;
Examples thereof include arylthio groups having 6 to 20 carbon atoms such as a phenylthio group, a 4-methylphenylthio group, a 2-methoxyphenylthio group, and a 4-t-butylphenylthio group.
[0136]
A1And A2, AThreeAnd AFour, AFiveAnd A6, A7And A8As an example of forming a ring via a linking group, —CH2CH2CH2CH2-, -CH2CH2CH (NO2) CH2-, -CH2 CH (CHThree ) CH2CH2-, -CH2CH (Cl) CH2CH2 -Etc. can be mentioned.
[0137]
Examples of the divalent metal represented by M include Cu, Zn, Fe, Co, Ni, Ru, Rh, Pd, Pt, Mn, Sn, Mg, Hg, Cd, Ba, Ti, Be, and Ca. It is done.
[0138]
Examples of monosubstituted trivalent metals include Al-F, Al-Cl, Al-Br, Al-I, Ga-F, Ga-Cl, Ga-Br, Ga-I, In-F, InCl, In -Br, In-I, Tl-F, Tl-Cl, Tl-Br, Tl-I, Al-C6 H5, Al-C6HFour(CHThree), In-C6HFive , In-C6HFour(CHThree), Mn (OH), Mn (OC6HFive), Mn [OSi (CHThree)Three], Fe-Cl, Ru-Cl, etc. are mentioned.
[0139]
Examples of disubstituted tetravalent metals include CrCl2 , SiF2, SiCl2, SiBr2, SiI2, SnF2, SnCl2, SnBr2, ZrCl2, GeF2, GeCl2, GeBr2, GeI2, TiF2, TiCl2, TiBr2, Si (OH)2, Sn (OH)2, Ge (OH)2, Zr (OH)2, Mn (OH)2, TiA2 , CrA2 , SiA2 , SnA2 , GeA2 [However, A represents an alkyl group, a phenyl group, a naphthyl group or a derivative thereof], Si (OA)2 , Sn (OA)2 , Ge (OA)2 , Ti (OA)2 , Cr (OA)2 [Wherein A represents an alkyl group, a phenyl group, a naphthyl group, a trialkylsilyl group, a dialkylalkoxysilyl group or a derivative thereof], Si (SA)2 , Sn (SA)2 , Ge (SA)2 [Wherein A represents an alkyl group, a phenyl group, a naphthyl group, and derivatives thereof].
[0140]
Examples of the oxymetal include VO, MnO, TiO and the like.
Preferably, Pd, Cu, Ru, Pt, Ni, Co, Rh, Zn, VO, TiO, Si (Y)2 , Ge (Y)2 (However, Y is a halogen atom, alkoxy group, aryloxy group, acyloxy group, hydroxy group, alkyl group, aryl group, alkylthio group, arylthio group, trialkylsilyloxy group, trialkyltin oxy group or trialkyl germanium oxy group. Represents a group).
[0141]
More preferred are Cu, VO, Ni, Pd, Pt, and Co.
Furthermore, the inventors of the present invention are relatively easy to produce when the azaporphyrin compound of the formula (1) is, for example, a tetra-t-butyl-tetraazaporphyrin complex or a tetra-neo-pentyl-tetraazaporphyrin complex. To the solvent because the complex has stericity as a result of adding a t-butyl group or a tetra-neo-pentyl group. As a result, it was found that it was easy to contain a pigment, and an excellent electromagnetic wave shielding body could be obtained.
[0142]
In the display filter of the present invention, the methods (1) to (4) for containing the dye include the polymer film (B) containing the dye, the transparent adhesive layer (C) described later containing the dye, or the second method. 2 transparent adhesive layers, a functional transparent layer (A) described later containing a dye, and the hard coat layer (F) described above containing a dye can be used in one or more layers. The functional transparent layer (A) described later containing a dye may be a film containing a dye and having each function, or a film containing a dye and having each function formed on a polymer film. Any of a film having a function formed on a base material containing a dye may be used.
[0143]
In the present invention, two or more kinds of dyes having different absorption wavelengths may be contained in one medium or coating film, and two or more dye layers may be provided.
[0144]
First, the method (1) of kneading a pigment in a resin and thermoforming it will be described.
As the resin material, a plastic plate or a polymer film that is as transparent as possible is preferable. Specifically, polyethylene terephthalate, polyethersulfone, polystyrene, polyethylene naphthalate, polyarylate, polyetheretherketone. Polyamides such as polycarbonate, polyethylene, polypropylene and nylon 6, cellulose resins such as polyimide and triacetyl cellulose, fluorine resins such as polyurethane and polytetrafluoroethylene, vinyl compounds such as polyvinyl chloride, polyacrylic acid and polyacrylic Acid esters, polyacrylonitrile, addition polymers of vinyl compounds, polymethacrylic acid, polymethacrylic acid esters, vinylidene compounds such as polyvinylidene chloride, vinylidene fluoride / trif Examples of such resins include olefin copolymers, vinyl compounds such as ethylene / vinyl acetate copolymers, copolymers of fluorine compounds, polyethers such as polyethylene oxide, epoxy resins, polyvinyl alcohol, and polyvinyl butyral. It is not limited to.
[0145]
The preparation method varies slightly depending on the dye and base polymer used, but the processing temperature, filming conditions, etc. are slightly different. Usually, (i) the dye is added to the base polymer powder or pellet and heated at 150 to 350 ° C. , A method of forming a plastic plate by dissolving after being dissolved, (ii) a method of forming a film with an extruder, (iii) preparing an original fabric with an extruder, 2 to 5 times at 30 to 120 ° C, Examples thereof include a method of stretching uniaxially or biaxially to form a film having a thickness of 10 to 200 μm. When kneading, an additive used for ordinary resin molding such as a plasticizer may be added. The amount of the dye added varies depending on the absorption coefficient of the dye, the thickness of the polymer molded body to be produced, the target absorption strength, the target transmission characteristics / transmittance, etc., but is usually 1 ppm relative to the weight of the base polymer molded body. ~ 20%.
[0146]
In the casting method (2), a dye is added to and dissolved in a concentrated resin solution in which a resin or resin monomer is dissolved in an organic solvent, and if necessary, a plasticizer, a polymerization initiator, and an antioxidant are added. The plastic plate and the polymer film are obtained by pouring onto a mold or drum having a surface state as follows, and solvent evaporation / drying or polymerization / solvent evaporation / drying.
[0147]
Usually, aliphatic ester resins, acrylic resins, melamine resins, urethane resins, aromatic ester resins, polycarbonate resins, aliphatic polyolefin resins, aromatic polyolefin resins, polyvinyl resins, polyvinyl alcohol resins, polyvinyl modified resins ( PVB, EVA, etc.) or a resin monomer of a copolymer resin thereof is used. As the solvent, a halogen-based, alcohol-based, ketone-based, ester-based, aliphatic hydrocarbon-based, aromatic hydrocarbon-based, ether-based solvent, or a mixture thereof is used.
[0148]
The concentration of the dye varies depending on the absorption coefficient of the dye, the thickness of the plate or film, the target absorption strength, the target transmission characteristics / transmittance, etc., but is usually 1 ppm to 20% with respect to the weight of the resin monomer.
[0149]
The resin concentration is usually 1 to 90% with respect to the entire paint.
The method of coating and coating (3) is a method in which a pigment is dissolved in a binder resin and an organic solvent to form a coating, or a pigment that has been finely pulverized (50 to 500 nm) in an uncolored acrylic emulsion paint is dispersed. And a method of making it an acrylic emulsion water-based paint.
[0150]
In the former method, usually, an aliphatic ester resin, an acrylic resin, a melamine resin, a urethane resin, an aromatic ester resin, a polycarbonate resin, an aliphatic polyolefin resin, an aromatic polyolefin resin, a polyvinyl resin, a polyvinyl alcohol resin, Polyvinyl modified resins (PVB, EVA, etc.) or copolymer resins thereof are used as the binder resin. As the solvent, a halogen-based, alcohol-based, ketone-based, ester-based, aliphatic hydrocarbon-based, aromatic hydrocarbon-based, ether-based solvent, or a mixture thereof is used.
[0151]
The concentration of the dye varies depending on the absorption coefficient of the dye, the thickness of the coating, the target absorption intensity, the target visible light transmittance, and the like, but is usually 0.1 to 30% with respect to the weight of the binder resin.
[0152]
Moreover, binder resin density | concentration is 1-50% normally with respect to the whole coating material. In the case of the latter acrylic emulsion water-based paint, it can be obtained by dispersing a finely pulverized pigment (50 to 500 nm) in an uncolored acrylic emulsion paint as described above. In the coating material, additives such as antioxidants used in ordinary coating materials may be added.
[0153]
The coating material produced by the above method has a conventionally known coating such as a bar coder, blade coater, spin coater, reverse coater, die coater, or spray on a transparent polymer film, transparent resin, transparent glass, etc. A substrate containing a dye is prepared.
[0154]
A protective layer may be provided to protect the coating surface, or another component of the electromagnetic wave shield may be bonded to the coating surface so as to protect the coating surface.
[0155]
In the method (4) used as a pressure-sensitive adhesive containing a pigment, acrylic adhesive, silicon adhesive, urethane adhesive, polyvinyl butyral adhesive (PVB), ethylene-vinyl acetate adhesive (EVA), etc., polyvinyl A pigment is added to a sheet-like or liquid pressure-sensitive adhesive material or adhesive such as ether, saturated amorphous polyester, or melamine resin, and used by adding 10 ppm to 30%.
[0156]
In addition, in these methods, in order to improve the light resistance of the electromagnetic wave shield containing a pigment, an ultraviolet absorber can be contained together with the pigment. The type and concentration of the ultraviolet absorber are not particularly limited.
[0157]
6). Transparent adhesive layer, conductive adhesive layer
In the present invention, laminating (lamination) is through an arbitrary transparent adhesive layer. The transparent pressure-sensitive adhesive layer (C) of the present invention is a layer made of any transparent adhesive, pressure-sensitive adhesive, or pressure-sensitive adhesive material. Specifically, acrylic adhesives, silicon adhesives, urethane adhesives, polyvinyl butyral adhesives (PVB), ethylene-vinyl acetate adhesives (EVA), etc., polyvinyl ether, saturated amorphous polyester, melamine resins, etc. Is mentioned. In this case, it is important that the adhesive material used in the central portion which is a light transmitting portion from the display needs to be sufficiently transparent to visible light.
[0158]
The conductive adhesive layer is an adhesive layer for electrically connecting the transparent conductive layer (D) and the ground portion (ground conductor) of the display device, and needs to be conductive, but need not be transparent. Since the electromagnetic wave shielding body requires an electrical connection between the transparent conductive layer (D) and the outside, the transparent adhesive layer should not significantly disturb the electrical connection with the outside by the conductive adhesive layer. That is, the conduction | electrical_connection part in which the transparent adhesion layer is not formed on a transparent conductive layer (D) is required. For example, it is important that the transparent adhesive layer is formed so as to leave the peripheral portion of the transparent conductive layer (D) and leave the conductive portion.
[0159]
Conductive adhesive and conductive adhesive used for the conductive adhesive layer are acrylic adhesive, silicon adhesive, urethane adhesive, polyvinyl butyral adhesive (PVB), ethylene-vinyl acetate adhesive (EVA) , Etc., using polyvinyl ether, saturated amorphous polyester, melamine resin or the like as a base agent, and conductive particles and carbon particles such as carbon, Cu, Ni, Ag, and Fe are dispersed. Conductivity of dispersed particlesButWhen the particle size is low, the particle diameter is small, the number of particles is large, and the contact area between the particles is wide, the volume specific resistance of the conductive adhesive and the conductive adhesive material is low, which is preferable. The volume resistivity of the conductive adhesive and conductive adhesive that can be used is 1 ×10 -Four ~ 1x10 Three Ω · cm. If it has practical adhesive strength, it may be a sheet or liquid.
[0160]
As the pressure-sensitive adhesive material, a pressure-sensitive adhesive and a sheet-like material can be suitably used. Lamination is performed by laminating after applying the sheet-like adhesive material or after applying the adhesive.
[0161]
The liquid is an adhesive that is cured by being left at room temperature or heated or irradiated with ultraviolet rays after coating and bonding. Examples of the coating method include a screen printing method, a bar coating method, a reverse coating method, a gravure coating method, a die coating method, and a roll coating method, which are selected in consideration of the type of adhesive, viscosity, coating amount, and the like. The thickness of the layer is not particularly limited, but is 0.5 μm to 50 μm, preferably 1 μm to 30 μm in consideration of volume resistivity and necessary conductivity. Also, a commercially available conductive tape of a double-sided adhesive type that has conductivity on both sides can also be suitably used. The thickness is not particularly limited, but is about several μm to several mm.
[0162]
The adhesive material may be in the form of a sheet or liquid as long as it has practical adhesive strength. As the pressure-sensitive adhesive, a sheet-like pressure sensitive adhesive can be suitably used. Bonding is performed by laminating each member after applying the sheet-like adhesive material or after applying the adhesive.
[0163]
The liquid material is an adhesive that is cured by being left at room temperature or heated after coating and bonding.
[0164]
Examples of the coating method include a bar coating method, a reverse coating method, a gravure coating method, a die coating method, and a roll coating method, and are selected in consideration of the type of adhesive, viscosity, coating amount, and the like.
[0165]
The thickness of the layer is not particularly limited, but is 0.5 μm to 50 μm, preferably 1 μm to 30 μm. It is preferable that the surface on which the transparent adhesive layer is formed and the surface to be bonded are previously improved in wettability by an easy adhesion treatment such as an easy adhesion coat or a corona discharge treatment.
[0166]
Furthermore, after pasting through the transparent adhesive layer, if degassing the air that has entered between the members at the time of pasting, or solid solution in the adhesive material, and further improve the adhesion between the members, if possible It is important to cure under pressure and warming conditions. At this time, the pressurizing condition is about several atmospheres to 20 atmospheres or less, and the heating condition depends on the heat resistance of each member, but is about room temperature to about 80 ° C., but is not particularly limited thereto. A pigment | dye can be contained in the at least 1 layer of a transparent adhesion layer.
[0167]
7). Functional transparent layer (A)
The display filter of the present invention has a hard coat property, antireflection property, antiglare property, antistatic property, antifouling property, gas barrier property, and ultraviolet cut property depending on the method of installation on the display and the required function. The functional transparent layer (A) having any one or more functions and transmitting visible light is formed on the transparent conductive layer (D) directly or via the second transparent adhesive layer. . It is preferable that one functional transparent layer (A) has a plurality of functions.
[0168]
The functional transparent layer (A) in the present invention has each function whether it is a functional film itself having one or more of the above functions, or a transparent substrate formed by applying or printing the functional film or using various conventionally known film forming methods. It may be a transparent substrate.
[0169]
In the case of the functional film itself, it is directly formed on the main surface of the transparent conductive layer (D) forming the functional transparent layer (A) by coating or printing or various conventionally known film forming methods.
[0170]
In the case of a transparent substrate having a functional film or a transparent substrate having each function, the transparent conductive layer (D) may be attached to the main surface of the transparent conductive layer (D) through an adhesive material or an adhesive material containing a pigment. These production methods are not particularly limited.
[0171]
The transparent substrate is a transparent polymer film, the type and thickness of the transparent substrate are not particularly limited, and the transparent substrate can contain a pigment. Even if the functional transparent layer (A) is a functional film itself, a dye can be contained in the film.
[0172]
Since the electromagnetic wave shield requires electrical connection between the transparent conductive layer (D) and the outside, the functional transparent layer (A) must not hinder this electrical connection. That is, a conductive part in which the functional transparent layer (A) is not formed on the transparent conductive layer (D) is necessary. For example, the functional transparent layer (A) can be formed so as to leave the peripheral portion of the transparent conductive layer, and this peripheral portion can be used as a conducting portion.
[0173]
Since the display screen is difficult to see due to the reflection of lighting fixtures, the functional transparent layer (A) has anti-reflection (AR: anti-reflection) properties and anti-glare (AG) to suppress external light reflection. : Anti-glare) property or antireflection glare and anti-glare (ARAG) property having both properties is required. If the visible light reflectance on the surface of the electromagnetic wave shield is low, as described above, the incidence and reflection of external light on the phosphor of the plasma display is reduced, which not only prevents reflection but also improves contrast and color purity.
[0174]
The functional transparent layer (A) having antireflection (AR) properties determines the components of the antireflection film and the film thickness of each component according to the optical design in consideration of the optical characteristics of the substrate on which the antireflection film is formed. . Specifically, a fluorine-based transparent polymer resin, magnesium fluoride, silicon-based resin, silicon oxide thin film, or the like having a refractive index of 1.5 or less, preferably 1.4 or less in the visible region is used. Single layer formed with optical film thickness of wavelength, inorganic compounds such as metal oxides, fluorides, silicides, borides, carbides, nitrides, sulfides, etc. with different refractive indexes, silicon-based resins, acrylic resins, fluorine-based compounds Some thin films of organic compounds such as resins are laminated in the order of a high refractive index layer and a low refractive index layer as viewed from the substrate.
[0175]
A single layer formed is easy to manufacture, but is inferior to an anti-reflective layer having two or more layers. A laminate of four layers has antireflection ability over a wide wavelength region, and there are few restrictions on optical design due to the optical characteristics of the substrate.
[0176]
For the formation of these inorganic compound thin films, any of conventionally known methods such as sputtering, ion plating, vacuum deposition, and wet coating can be employed. For forming the organic compound thin film, a conventionally known method such as a method of drying and curing after wet coating such as bar coating, reverse coating, gravure coating, die coating, and roll coating can be employed.
[0177]
The visible light reflectance of the surface of the functional transparent layer (A) having antireflection properties is 2% or less, preferably 1.3% or less, more preferably 0.8% or less.
[0178]
The functional transparent layer (A) having anti-glare (AG) property refers to a layer transparent to visible light having a surface state of minute irregularities of about 0.1 μm to 10 μm. Specifically, acrylic resin, silicon resin, melamine resin, urethane resin, alkyd resin, thermosetting resin such as fluorine resin, photocurable resin, silica, organic silicon compound, melamine, acrylic, etc. Inorganic particles or organic compound particles dispersed in an ink are coated and cured on a substrate by a bar coating method, a reverse coating method, a gravure coating method, a die coating method, a roll coating method or the like. The average particle diameter of the particles is 1 to 40 μm. Alternatively, a mold having a desired haze or surface state by applying a thermosetting or photocurable resin such as an acrylic resin, a silicon resin, a melamine resin, a urethane resin, an alkyd resin, or a fluorine resin to a substrate. Antiglare property can also be obtained by pressing and curing. In short, it is important to have appropriate irregularities and is not necessarily limited to the above method.
[0179]
The antiglare haze is 0.5% or more and 20% or less, preferably 1% or more and 10% or less. When the haze is too small, the antiglare property is insufficient, and when the haze is too large, the parallel light transmittance is lowered and the visibility of the display is deteriorated.
[0180]
The functional transparent layer (A) having antireflection antiglare (ARAG) properties can be obtained by forming the above-described antireflection film on a film having antiglare properties or a substrate. At this time, when the antiglare film is a high refractive index film, a relatively high antireflection property can be imparted even if the antireflection film is a single layer.
[0181]
Antireflection by AR or ARAG can improve the light transmittance of the display filter.
[0182]
Since the display filter of the present invention is bonded to the display display part via the transparent adhesive layer (C), there is no substrate glass reflection on the display part surface. Therefore, in addition, the filter formed with the functional transparent layer (A) having the function of AR or ARAG has low reflection on the surface thereof, and can further improve the contrast and color purity of the display. The visible light reflectance on the surface of the functional transparent layer (A) having the function of AR or ARAG is 2% or less, preferably 1.3% or less, more preferably 0.8% or less.
[0183]
In order to add scratch resistance to the display filter, it is also preferable that the functional transparent layer (A) has a hard coat property. Examples of the hard coat film include thermosetting or photocurable resins such as acrylic resins, silicon resins, melamine resins, urethane resins, alkyd resins, and fluorine resins. There is no particular limitation. The thickness of these films is about 1 to 100 μm. The functional transparent layer (A) in which the hard coat film is used for a high refractive index layer or a low refractive index layer of the transparent functional layer (A) having antireflection properties, or an antireflection film is formed on the hard coat film. May have both antireflection properties and hard coat properties. Similarly, it may have both an antiglare property and a hard coat property. In this case, it is sufficient that the hard coat film has irregularities due to particle dispersion or the like, and if an antireflection film is formed thereon, a functional transparent layer (A ) Is obtained. As for the surface hardness of the functional transparent layer (A) having hard coat properties, the pencil hardness according to JIS (K-5400) is at least H, preferably 2H, more preferably 3H or more.
[0184]
Further, the display filter is likely to be attached with dust due to electrostatic charging, and may be discharged when subjected to an electric shock to receive an electric shock, so that an antistatic treatment may be required. Therefore, the functional transparent layer (A) may have conductivity in order to impart antistatic ability. The electrical conductivity required in this case is a sheet resistance of 1011It should be about Ω / □ or less, but it should not impair the transparency and resolution of the display screen. Examples of the conductive layer include known transparent conductive films such as ITO, and conductive films in which conductive ultrafine particles such as ITO ultrafine particles and tin oxide ultrafine particles are dispersed.
[0185]
Further, the layer constituting the functional transparent layer (A) having any one or more of the above-described antireflection properties, antiglare properties, antireflection antiglare properties, and hard coat properties has conductivity. It is preferable that
[0186]
In addition, when silver is used for the multilayer thin film, the silver lacks chemical and physical stability, deteriorates due to environmental pollutants, water vapor, etc., and causes aggregation and whitening. It is important to cover the formation surface with a functional transparent layer (A) having a gas barrier property so that the thin film is not exposed to contaminants and water vapor in the use environment. The required gas barrier property is 10 g / m in terms of moisture permeability.2 -Day or less. Specific examples of the film having gas barrier properties include silicon oxide, aluminum oxide, tin oxide, indium oxide, yttrium oxide, magnesium oxide, etc., or a mixture thereof, or a metal oxide thin film obtained by adding a trace amount of other elements to these. In addition to polyvinylidene chloride, acrylic resins, silicon resins, melamine resins, urethane resins, fluorine resins, and the like can be mentioned, but the invention is not particularly limited thereto. The thickness of these films is about 10 to 200 nm in the case of a metal oxide thin film and about 1 to 100 μm in the case of a resin, and may be a single layer or a multilayer, but this is not particularly limited. Examples of the polymer film having low water vapor permeability include polyethylene, polypropylene, nylon, polyvinylidene chloride, vinylidene chloride and vinyl chloride, vinylidene chloride and acrylonitrile copolymer, and fluorine resin. 10g / m2 -If it is below day, it will not specifically limit. Even when the moisture permeability is relatively high, the moisture permeability is lowered by increasing the thickness of the film or adding appropriate additives.
[0187]
In addition, the functional transparent layer (A) having one or more of the functions of antireflection, antiglare, antireflection, antistatic, anti-Newton ring, and hard coat as described above is formed. It is preferable that the layer to be formed is a film having a gas barrier property or has the gas barrier property as a whole or in combination with the adjacent transparent adhesive layer.
[0188]
For example, as a functional transparent layer (A) having antireflection properties, hard coat properties, antistatic properties, and gas barrier properties containing a dye, a dye-containing polyethylene terephthalate film / hard coat film / ITO / silicon-containing compound / ITO / silicon-containing compound.
[0189]
Further, as the functional transparent layer (A) having antireflection antiglare property, hard coat property, antistatic property and gas barrier property, triacetyl cellulose film / ITO fine particle dispersed hard coat film / silicon-containing compound compound, etc. Can be given.
[0190]
Furthermore, it is preferable that the surface of the functional transparent layer (A) has antifouling properties so that fingerprints and the like can be prevented and easily removed when they are attached. As for what has antifouling property, it has non-wetting property with respect to water and / or fats and oils, for example, a fluorine compound and a silicon compound are mentioned. When combined with other functions such as antireflection and antistatic properties, the functions must not be disturbed. In this case, anti-reflective properties and anti-static properties are maintained by using a fluorine compound with a low refractive index as the constituent material of the anti-reflective coating or coating the outermost surface with one to several molecules of fluorine-based organic molecules. In addition, antifouling properties can be imparted.
[0191]
For example, as the functional transparent layer (A) having antifouling properties, antireflection properties, hard coat properties, antistatic properties, and gas barrier properties, hard coat films / ITO / silicon-containing compounds / ITO / silicon-containing compounds / Examples thereof include a monomolecular coat film of fluorine-based organic molecules.
[0192]
Furthermore, in order to prevent the pigment contained in the electromagnetic wave shielding body from being emitted from the display or being deteriorated by the ultraviolet rays included in the external light, the functional transparent layer (A) has an ultraviolet cut property. And good. For example, an antireflection film composed of an inorganic thin film monolayer or multilayer that absorbs ultraviolet rays, or a substrate that forms a functional transparent film containing an ultraviolet absorber, a functional transparent layer having a hard coat film (A ). The type and concentration of the ultraviolet absorber are not particularly limited.
[0193]
Also, at least one layer of the transparent adhesive layerIsAn ultraviolet absorber may be contained.
[0194]
It is important that the UV-cutting member is disposed between the surface on which the UV light is incident and the layer containing the dye, and the UV-cutting property varies depending on the durability of the dye and is not particularly limited.
[0195]
8). thickness
According to the “Adhesion / Adhesion Dictionary (Asakura Shoten)”, regarding the relationship between the thickness of the support and the adhesive strength, “In general, as the thickness of the support increases, the bending energy increases, but the adhesive strength increases. From the point, the adhesive strength decreases due to the influence of bending moment, etc. ". The present inventors have found that the optical filter film can be easily peeled off from the glass surface by setting the total thickness of the transparent polymer film to 0.3 mm or more. Since the rigidity of the optical filter film is mainly governed by the total thickness of the transparent polymer film, the effect in the present invention is presumed to be due to the effect of the bending moment. Further, since the rigidity of the optical filter film is increased, continuous peeling with an average force is possible, and the occurrence of adhesive residue on the glass plate starting from the peeling interruption point is reduced.
[0196]
Furthermore, the impact resistance is improved by increasing the total thickness of the transparent polymer film. The greater the total thickness of the transparent polymer film, the better its impact resistance. However, the greater the number of laminated films, the lower the production efficiency and the greater the rigidity, making it difficult to bond directly to the display. become. Accordingly, the total thickness of the transparent polymer film is not particularly specified, but is preferably 0.3 to 1.0 mm, and more preferably 0.4 mm to 0.8 mm. Moreover, although there is no designation | designated also about the lamination | stacking number of transparent polymer films, 2-6 sheets are preferable, More preferably, they are 2-4 sheets.
[0197]
12-17 is sectional drawing which shows the structural example of the filter for a display which concerns on this invention.
[0198]
In FIG. 12, a transparent polymer having a transparent
[0199]
In FIG. 13, the transparent
[0200]
In FIG. 14, the transparent
[0201]
In FIG. 15, the transparent
[0202]
In FIG. 16, a transparent polymer film (B) 23 (a transparent
[0203]
In FIG. 17, the transparent
[0204]
FIG. 18 is a cross-sectional view showing the configuration of the transparent polymer film (B) 23 showing the electromagnetic wave shielding function shown in FIG. A transparent conductive layer (D) 10 showing an electromagnetic wave shielding function is formed on the polymer film (B) 20, and the transparent conductive layer (D) 10 is made of a high refractive index transparent thin film layer (Dt) 11 and silver or silver. A metal thin film layer (Dm) 12 made of an alloy is laminated in the order of Dt / Dm / Dt / Dm / Dt. A
[0205]
FIG. 19 is a cross-sectional view showing the configuration of the transparent polymer film (B) 26 showing the electromagnetic wave shielding function shown in FIG. A transparent conductive layer (D) 10 showing an electromagnetic wave shielding function is formed on the polymer film (B) 20, and the transparent conductive layer (D) 10 is made of a high refractive index transparent thin film layer (Dt) 11 and silver or silver. A metal thin film layer (Dm) 12 made of an alloy is laminated in the order of Dt / Dm / Dt / Dm / Dt / Dm / Dt. On the opposite surface of the polymer film (B) 20, an
[0206]
FIG. 20 is a plan view of the display filter shown in FIG. 16 or FIG. The planar shape of the filter is a rectangle, and the image displayed on the display is observed through the filter center. An
[0207]
9. electrode
For devices that require electromagnetic shielding, a metal layer is provided inside the case of the device, or a conductive material is used for the case to block radio waves. When transparency is required as in a display screen, a window-shaped electromagnetic wave shield having a transparent conductive layer is installed. Since electromagnetic waves induce charges after being absorbed in the conductive layer, unless the charges are released by grounding, the electromagnetic wave shielding body again becomes an antenna and the electromagnetic waves are oscillated, and the electromagnetic wave shielding ability is reduced. Therefore, it is necessary that the electromagnetic wave shield body and the ground portion of the display body are electrically connected. Therefore, when the transparent adhesive layer (C) and the functional transparent layer (A) are formed on the transparent conductive layer (D) as shown in FIG. 3, the transparent adhesive layer (C) and the functional transparent layer (A) is preferably formed on the transparent conductive layer (D) so as to leave a conducting part.
[0208]
The shape of the conducting portion is not particularly limited, but it is important that there is no gap between which the electromagnetic wave leaks between the electromagnetic wave shield and the display body.
[0209]
The electrode in the present invention refers to an electrically conducting portion with the outside in the electromagnetic wave shield. This may be a stripped part of the transparent conductive layer, or a conductive metal paste may be printed on the top of the stripped part for the purpose of protection and good electrical contact, conductive tape, conductive adhesive, etc. The conductive material may be pasted. Moreover, you may form in a form which can take an electrical connection with a transparent conductive layer on a functional transparent layer. As described above, the shape and material of the electrode are not particularly limited, but it is preferable to form the electrode so that the exposed portion of the transparent conductive layer is covered with the conductive material.
[0210]
However, the electrode in the present invention may be obtained by bringing a conductive material into contact with the cross section of the film of the present invention including the transparent conductive layer. The cross-sectional portion of the film including the transparent conductive layer can be observed that at least the transparent conductive layer and the film for protecting it are layered, but an appropriate conductive material is the transparent conductive layer. And a desired electrode can be obtained if they are in contact with each other at the cross section.
[0211]
In this case, if the end of the transparent adhesive layer formed on the transparent conductive layer is inward of the end of the transparent conductive layer, the gap is formed in the gap when the electrode is formed using a conductive paste or the like. This is preferable because the paste enters and the contact area between the transparent conductive layer and the electrode increases.
[0212]
21 to 25 are cross-sectional views showing examples of the configuration of the display filter according to the present invention.
[0213]
In FIG. 21, a transparent
[0214]
In FIG. 22, an
[0215]
In FIG. 23, a transparent
[0216]
In FIG. 24, a transparent
[0217]
In FIG. 25, a transparent
[0218]
FIG. 26 is a plan view of the display filter shown in FIGS. The planar shape of the filter is a rectangle, and the image displayed on the display is observed through the filter center. On the two long sides of the filter, an
[0219]
As shown in FIG. 24, an electrode is formed by sandwiching a conductive tape such as a copper tape between the transparent conductive layer and the transparent adhesive layer to be laminated thereon, and drawing a part of the conductive tape to the outside of the electromagnetic shielding body. You may do it. In this case, the conductive tape drawn to the outside substantially becomes an electrode.
[0220]
As shown in FIG. 25, an electrode may be formed by providing a gap from the transparent conductive layer to the outermost surface of the electromagnetic wave shield. The shape of the gap visible from the surface is not particularly specified, and may be circular or square. Moreover, you may form in linear form. There is no particular designation for the size of the individual gaps visible from the surface. However, if it is too large, it will be applied to the visible part, which is not preferable. The position where the gap is formed is not particularly specified as long as it avoids the visible portion. Inevitably, the position is close to the end. The number of gaps to be formed is not particularly limited, but it is preferable that the gaps are formed as much as possible over the entire circumference because the current extraction efficiency increases. The gap may be provided between the transparent conductive layer and the outermost surface of the electromagnetic wave shield, but preferably penetrates the transparent conductive layer from the viewpoint of increasing the contact area with the electrode to be formed.
[0221]
There is no particular designation regarding the member that fills the gap. It may be filled with a metal member or may be filled with a conductive paste. In this case, the member filling the gap substantially becomes the electrode.
[0222]
It is preferable that the conducting portion is provided continuously at the peripheral edge of the transparent conductive layer (D). That is, it is preferable that the conducting portion is provided in a frame shape except for the central portion which is the display portion of the display.
[0223]
However, since there is a certain electromagnetic wave blocking ability even if no conducting part is formed on the entire circumference, it can be used in many cases by comprehensively considering the amount of electromagnetic wave generated from the apparatus and the allowable electromagnetic wave leakage amount.
[0224]
For example, if an electrode is formed by applying a conductive material only to the opposite sides of a rectangle, an electrode can be formed by a roll-to-roll method or an electrode can be formed in a rolled state. In addition, it is convenient because an optical filter can be produced with high production efficiency. This technique can also be used in the case where a conductive tape is used as an electrode as described above.
[0225]
There is no particular problem even if an electrode is formed in another part in addition to the part other than the two opposite sides of the rectangle, or there is a part where no electrode is formed in a part of the two opposite sides.
[0226]
The electrode that covers the conductive portion also protects the transparent conductive layer (D) that is inferior in environmental resistance and scratch resistance. The materials used for the electrodes are single or two kinds such as silver, gold, copper, platinum, nickel, aluminum, chromium, iron, zinc, carbon, etc. from the viewpoint of conductivity, contact resistance and adhesion to the transparent conductive film. An alloy made of the above, a synthetic resin and a single substance or a mixture of these alloys, or a paste made of borosilicate glass and a single substance or a mixture of these alloys can be used. For the electrode formation, a conventionally known method such as a plating method, a vacuum evaporation method, a sputtering method, a paste method, or a printing or coating method can be employed.
[0227]
The conductive material to be used is not particularly specified as long as it can conduct electricity. Usually, a paste made of a conductive material such as silver paste is used.
[0228]
As a method for forming the electrode, if it is a paste-like material, it is applied to the cross section and dried. A conductive material may be applied to the side surface of the roll film, or may be applied to the side surface while being rolled out by roll-to-roll. A tape-like conductive material can also be used.
[0229]
Moreover, after bonding the transparent polymer film in which the transparent conductive thin film layer was formed on the transparent support base | substrate, it can also apply | coat to a cross-sectional part.
[0230]
As a coating method, a screen printing method is often used from the viewpoint of efficiency and accuracy.
[0231]
Further, when the electrode is formed by filling the gap with a metal member, the electromagnetic wave shield itself may not be processed in advance. A metallic ground with screw holes is prepared in advance on the outer periphery of the display device, and the electromagnetic shielding body is passed through the display portion of the display device, including the metallic ground portion, and then penetrates the electromagnetic shielding body. In this way, a conductive screw may be embedded in the screw hole of the metal ground. In this case, the conductive screw substantially serves as an electrode. When this method is used, an electromagnetic wave shield body can be produced with high productivity by a roll-to-roll method, and an electrode can be easily formed over the entire circumference of the electromagnetic wave shield body.
[0232]
10. Electromagnetic wave shield
In order to minimize leakage of electromagnetic waves from between the electromagnetic wave shield and the display device, it is necessary to reduce the insulating space between the conductive layer of the electromagnetic wave shield and the display device as much as possible. If air or other insulating material is present in the gap, electromagnetic waves leak out of the gap, which is not preferable.
[0233]
When an electromagnetic wave shielding body is produced by pasting a transparent conductive film to a supporting base as in the past, a supporting base that is mainly an insulator exists between the transparent conductive layer and the display device, and is transparent. If the conductive layer and the display device are not brought into contact with each other so as to maintain conductivity over the entire circumference, a sufficient electromagnetic wave shielding effect could not be obtained. For this reason, in the manufacturing process of an electromagnetic wave shield body, the process of affixing on a transparent support base | substrate with a sheet | seat, and the operation | work of forming an electrode in all the outside week parts by a sheet | seat are required.
[0234]
In the present invention, when the electromagnetic wave shield body in a film state is directly attached to the display device, the distance between the conductive layer and the display device is very close, so that the insulating space can be significantly narrowed compared to the conventional method. Therefore, a sufficient electromagnetic wave shielding effect can be obtained without forming the electrode over the entire circumference, which is preferable. This is remarkable when the transparent conductive layer of the electromagnetic wave shield is formed on the display device side. That is, a sufficient electromagnetic wave shielding effect can be obtained by forming electrodes only on the two long sides of the rectangle. In that case, a roll-to-roll method, which is a highly productive method, can be used as a manufacturing method, which is very suitable.
[0235]
11. Display device and manufacturing method thereof
The display device of the present invention includes a display filter that functions as an electromagnetic wave shield and / or a light control film, which is adhered to the display unit of the device. The electromagnetic wave shield is in electrical contact with the display device.
[0236]
Examples of the method for manufacturing a display device according to the present invention include the following methods (1) to (10), but are not limited thereto.
[0237]
Method (1): Functional transparent layer (A) and conductive part (and electrode) / transparent conductive layer (D) / polymer film (B) (and hard coat layer (F)) / transparent adhesive layer (C), Or functional transparent layer (A) and conductive part (and electrode) / transparent adhesive layer (C) / transparent conductive layer (D) / polymer film (B) (and hard coat layer (F)) / transparent adhesive layer The electromagnetic shielding body of the present invention which is (C) is bonded to the display unit of the display device with the transparent adhesive layer (C) as the bonding surface.
[0238]
After bonding, the conductive portion of the electromagnetic wave shield body of the present invention or the conductive portion of the display device main body, that is, the ground portion, is connected to the conductive tape, conductive adhesive, conductive paint or conductive material. Electrical connection with molded parts.
[0239]
Method (2): A laminate composed of the transparent conductive layer (D) / polymer film (B) (and hard coat layer (F)) / transparent adhesive layer (C) in the display unit of the display device, After laminating with the transparent adhesive layer (C) as the laminating surface, the functional transparent layer (A) is formed directly or via the transparent adhesive layer (C) leaving the conducting part on the transparent conductive layer (D). In addition, the conductive portion of the laminate and the conductive portion of the display device body, that is, the ground portion, are electrically connected with a conductive tape, a conductive adhesive, a conductive paint, or a conductive molded part.
[0240]
Method (3): The transparent adhesive layer (C) is applied or bonded to the display part of the display device, and the functional transparent layer (A) and the conductive part (and electrode) / transparent conductive layer (D) / polymer film. (B) (and hard coat layer (F)) are laminated in this order, and after laminating the polymer film (B) as a laminating surface, the conductive part of the laminated body and the conductive part of the display device body That is, the ground portion is electrically connected with a conductive tape, a conductive adhesive, a conductive paint, or a conductive molded part.
[0241]
Method (4): The transparent adhesive layer (C) is applied or bonded to the display unit of the display device, and the transparent conductive layer (D) / polymer film (B) (and hard coat layer (F)) are configured in this order. After the transparent laminate is bonded using the polymer film (B) as the bonding surface, the functional transparent layer (A) is directly or second transparently left on the transparent conductive layer (D), leaving the conductive portion. It is formed via an adhesive layer, and the conductive part of the laminate and the conductive part of the display device body, that is, the ground part, are electrically connected with a conductive tape, a conductive adhesive, a conductive paint, or a conductive molded part. To do.
[0242]
Method (5): An electromagnetic wave shielding body composed of a functional transparent layer (A) / polymer film (B) / transparent conductive layer (D) / transparent adhesive layer (C) and a conductive adhesive layer is displayed at least on a display device. The transparent adhesive layer (C) is bonded to the part, and the conductive adhesive layer is bonded to at least the ground part of the display device.
[0243]
Method (6): At least the display portion of the display device, or at least the transparent conductive layer (D) of the laminate constituted in the order of the transparent conductive layer (D) / polymer film (B) / functional transparent layer (A). A transparent adhesive layer (C) is formed on the upper light-transmitting portion, and a conductive adhesive layer is formed on at least the ground portion of the display device or the transparent conductive layer (D) of the laminate, and then the laminate Bond the body and display device.
[0244]
Method (7): It consists of a functional transparent layer (A) / polymer film (B) / transparent conductive layer (D) / transparent adhesive layer (C) and a conductive adhesive layer, and the transparent conductive layer (D) at the end. An electromagnetic wave shield body in which a part of a conductive tape such as a copper tape is sandwiched between the polymer film (B) and a transparent adhesive layer (C) on at least the display part of the display device, and The externally exposed portion of the conductive tape is bonded to at least the ground portion of the display device.
[0245]
Method (8): At least the display portion of the display device, or at least the transparent conductive layer (D) / polymer film (B) / functional transparent layer (A) in this order, and the transparent conductive layer (D) at the end. A transparent adhesive layer (C) is formed on the transparent portion on the transparent conductive layer (D) of the laminate in which a part of a conductive tape such as a copper tape is sandwiched between the polymer film (B) and Then, after forming a conductive adhesive layer on at least the ground portion of the display device or the transparent conductive layer (D) of the laminate, the laminate and the display device are bonded together.
[0246]
Since the electromagnetic wave shielding body of the present invention has excellent transmission characteristics, transmittance, and visible light reflectance, it is improved in color purity and contrast by forming on a plasma display without significantly impairing the brightness of the plasma display. be able to. Furthermore, it is excellent in electromagnetic wave shielding ability to block electromagnetic waves that are said to be harmful to the health generated from the plasma display, and in addition, it efficiently cuts near infrared rays in the vicinity of 800 to 1100 nm emitted from the plasma display. The wavelength used by the remote controller, transmission optical communication, etc. is not adversely affected, and malfunctions thereof can be prevented. In addition, it has excellent weather resistance and environmental resistance, and has antireflection properties and / or antiglare properties, scratch resistance, antifouling properties, antistatic properties and the like, and can be provided at low cost. By providing the electromagnetic wave shielding body of the present invention, a plasma display having excellent characteristics can be provided.
[0247]
The electromagnetic wave shielding body of the present invention is excellent in optical characteristics, electromagnetic wave shielding ability, and near infrared ray cutting ability, and therefore, FED (Field Emission Display) and CRT (Cathode Ray) that generate electromagnetic waves and / or near infrared rays other than plasma displays. It can be suitably used for various displays such as Tube).
[0248]
With respect to a method for manufacturing a display device provided with a light control film, the following two methods are mainly exemplified, but the present invention is not limited thereto.
[0249]
Method (9): At least the functional adhesive layer (A) / polymer film (B) / transparent adhesive layer (C) of the light control film of the present invention is applied to at least the display part of the display device with the transparent adhesive layer (C). Bond as the bonding surface.
[0250]
Method (10): A polymer film (B) of a laminate in which a transparent adhesive layer (C) is formed on at least the display part of the display device, and at least a transparent conductive layer (D) / polymer film (B) is formed in this order. The surface is bonded to the display device as the bonding surface.
[0251]
Since the light control film of the present invention has excellent transmission characteristics, transmittance, and reflection characteristics, it is formed directly on the display portion of a display such as a color plasma display, so that the color purity of the light control film is not significantly impaired. In addition, contrast can be improved. In addition, it has scratch resistance, antifouling property, antistatic property, etc., and can be provided at low cost.
[0252]
Moreover, the display device which has the outstanding characteristic can be provided by forming and providing the light control film of this invention directly on the display surface.
[0253]
【Example】
Next, the present invention will be specifically described with reference to examples. The present invention is not limited by these.
[0254]
The thin film which comprises the transparent conductive layer (D) in an Example was formed into a film by magnetron DC sputtering method on the one main surface of a base material. The thickness of the thin film is a value obtained from the film forming conditions, and is not an actually measured film thickness.
[0255]
The high refractive index transparent thin film layer (Dt) is formed of an ITO thin film, and an indium oxide / tin oxide sintered body (composition ratio In)2OThree: SnO2= 90: 10 wt%) or a tin oxide sintered body was formed using an argon / oxygen mixed gas (total pressure 266 mPa: oxygen partial pressure 5 mPa) as a sputtering gas.
[0256]
The metal thin film layer (Dm) was formed of a silver thin film or a silver-palladium alloy thin film, and was formed using silver or a silver-palladium alloy (
[0257]
The surface resistance of the transparent conductive layer was measured by a four-probe measurement method (probe interval 1 mm). The visible light reflectance (Rvis) of the surface is determined by first cutting out a small edge of the object to be measured, removing the transparent adhesive layer, roughening the surface of the polymer film (B) with sandpaper, and then applying a matte black spray. The reflection of the surface of the lever is eliminated, and the total light reflectance in the visible region is measured with a spectrophotometer (U-3400) manufactured by Hitachi, Ltd. using a reflection integrating sphere (light incident angle of 6 °). It calculated according to JISR3106 from the obtained reflectance.
[0258]
(Example 1)
Biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film (thickness: 188 μm)B) As an ITO thin film (film thickness: 40 nm), a silver thin film (film thickness: 11 nm), an ITO thin film (film thickness: 95 nm), a silver thin film (film thickness: 14 nm), in order from the PET film, Seven transparent conductive layers (thickness: 90 nm), silver thin film (film thickness: 12 nm), and ITO thin film (film thickness: 40 nm) (total 7 layers)D) And a transparent conductive layer (surface resistance 2.2Ω / □)DThe transparent laminated body 1 which has) was produced.
[0259]
The cross section of the PET film / transparent conductive layer is shown in FIG. 1 as a cross sectional view showing an example of the polymer film (B) / transparent conductive layer (D) in the present invention. In FIG. 1,
[0260]
An organic dye was dispersed and dissolved in an ethyl acetate / toluene (50:50 wt%) solvent to obtain a diluted solution of an acrylic adhesive. Mix the acrylic adhesive / diluted solution with pigment (80:20 wt%), apply to the polymer film (B) side surface of the transparent laminate 1 with a comma coater to a dry film thickness of 25 μm, and then dry and adhere A release film was laminated on the surface to form a transparent adhesive layer (C) (adhesive material 1) sandwiched between the release film and the polymer film (B) of the transparent laminate. The adhesive material 1 had a refractive index of 1.51 and an extinction coefficient of 0.
[0261]
Organic dyes include Mitsui Chemicals Co., Ltd.'s dye PD-319, which has an absorption maximum at a wavelength of 595 nm for absorbing unwanted light emitted by the plasma display, and Mitsui Chemicals Co., Ltd. for correcting the chromaticity of white light emission. ) A red dye PS-Red-G was used, and the acrylic adhesive / dye-containing diluted solution was adjusted so as to be contained in the dried adhesive material 1 at 1150 (wt) ppm and 1050 (wt) ppm, respectively. . PD-319 is a tetra-t-butyl-tetraazaporphyrin / vanadyl complex represented by the following formula (3) (chemical formula 4).
[0262]
[Formula 4]
A gravure coating liquid in which a photopolymerization initiator is added to a polyfunctional methacrylate resin on one main surface of a triacetylcellulose (TAC) film (thickness: 80 μm) and ITO fine particles (average particle diameter: 10 nm) are further dispersed. Coating with a coater, forming a conductive hard coat film (film thickness: 3 μm) by UV curing, coating a fluorine-containing organic compound solution on the microgravure coater, drying at 90 ° C., and thermosetting, An anti-reflective film having a refractive index of 1.4 (film thickness: 100 nm) is formed, hard coat property (pencil hardness according to JISK5400: 2H), gas barrier property (according to ASTM-E96, 1.8 g / m)2Day), antireflection (surface Rvis: 1.0%), antistatic (surface resistance: 7 × 10)9 Ω / □), functional transparent layer with antifouling properties (A) To obtain an antireflection film 1. On the other main surface of the antireflective film 1, a pressure sensitive adhesive / diluent that is the same material as the adhesive 1 and does not contain a pigment is applied and dried to form a transparent adhesive layer (adhesive 2) having a thickness of 25 μm. Further, a release film was laminated.
[0264]
The roll-shaped transparent laminate 1 / adhesive 1 / release film was cut into a size of 970 mm × 570 mm and fixed to a glass support plate with the transparent conductive layer (D) side up. Furthermore, using a laminator, the antireflection film was laminated only on the inner side, leaving the conducting part so that the
[0265]
Further, a silver paste (MSP-600F manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) is screen-printed in a range of a width of 22 mm at the peripheral edge so as to cover the exposed conductive portion of the transparent conductive layer (D), and dried to a thickness of 15 μm. An electrode was formed. The electromagnetic wave shield of the present invention having a release film on the surface of the transparent adhesive layer (C) was prepared by removing from the support plate.
[0266]
Further, the release film of the electromagnetic wave shield is peeled off and bonded to the front surface of the plasma display panel (display unit 920 mm × 520 mm) using a single wafer laminator, and then at 60 ° C., 2 ×10 Five Autoclaving was performed under pressure and heating conditions of Pa. A display device comprising the electromagnetic wave shielding body of the present invention, wherein the electrode portion of the electromagnetic wave shielding body and the grounding portion of the plasma display panel are connected using a Teraoka Seisakusho Co., Ltd. conductive copper foil adhesive tape (510FR). Obtained. The cross section of the electromagnetic wave shielding body is shown in FIG. 3 as a cross sectional view showing an example of the electromagnetic wave shielding body of the present invention and its mounting state. In FIG. 3,
[0267]
(Reference example 1)
Polyethylene terephthalate pellet 1203 (manufactured by Unitika Co., Ltd.) is 0.01 wt% of red dye PS-Red-G manufactured by Mitsui Chemicals Co., Ltd. for correcting the chromaticity of white light emission, and also purple dye PS-Violet-RC. 0.015 wt% was mixed and melted at 260 to 280 ° C., and a film having a thickness of 200 μm was produced by an extruder. Thereafter, this film was biaxially stretched to prepare a pigmented PET film [polymer film (B)] containing a pigment having a thickness of 100 μm.
[0268]
A coating liquid obtained by hydrolyzing alkoxysilane with glacial acetic acid and adding a silicone surface smoothing agent to one main surface of the PET film is coated with a gravure coater and thermally cured at 120 ° C. to form a hard coat film (film) A pigment-containing PET film having a thickness of 10 μm and a pencil hardness of 3H was formed to form a hard coat layer (F). On the hard coat layer, in order, SnO2 Thin film (film thickness: 40 nm), silver thin film (film thickness: 9 nm), SnO2Thin film (film thickness: 80 nm), silver-palladium alloy thin film (film thickness: 11 nm), SnO2 A thin conductive film (film thickness: 40 nm) is formed in total 5 layers of a transparent conductive layer (D) with a surface resistance of 5.3 Ω / □, and a pigment-containing PET film / hard coat layer (F) / transparent conductive layer (D) A transparent laminate 2 was prepared.
[0269]
A transparent adhesive layer (C) (adhesive material 3) with a thickness of 25 μm is formed by applying and drying an adhesive / diluent that does not contain pigments on the PET film surface of the transparent laminate 2 with the same material as the adhesive material 1. Further, a release film was laminated.
[0270]
The roll-shaped transparent laminate 2 / adhesive material 3 / release film was cut into a size of 970 mm × 570 mm, and fixed to a glass support plate with the transparent conductive layer (D) side up.
[0271]
A coating liquid was prepared by adding a photopolymerization initiator to a polyfunctional methacrylate resin and further dispersing organic silica fine particles (average particle diameter: 15 μm).
[0272]
Flexographically printed only on the inside leaving a conductive part so that the
[0273]
Further, the release film of the electromagnetic wave shield is peeled off and bonded to the front surface of the plasma display panel (display unit 920 mm × 520 mm) using a single wafer laminator, and then at 60 ° C., 2 ×10 Five Autoclaving was performed under pressure and heating conditions of Pa. A display device comprising the electromagnetic shielding body of the present invention, wherein the conductive portion of the electromagnetic shielding body and the grounding portion of the plasma display panel are connected using a conductive copper foil adhesive tape (510FR) manufactured by Teraoka Seisakusho Co., Ltd. Obtained.
[0274]
The cross section of the electromagnetic wave shielding body is shown in FIG. 4 as a cross sectional view showing an example of the electromagnetic wave shielding body of the present invention and its mounting state. In FIG. 4,
[0275]
(Example2)
A polymer film (B) / transparent conductive layer (D) laminate was produced in the same manner as in Example 1.
Further, the following functional transparent film 1 as a functional transparent layer (A) is continuously roll-to-roll on the opposite main surface of the PET film / transparent conductive layer of the PET film wound up in a roll shape. Formed. That is, a photopolymerization initiator is added to a polyfunctional methacrylate resin, and a coating liquid in which ITO fine particles (average particle size: 10 nm) are dispersed is applied with a gravure coater, and a conductive hard coat film (film thickness) is formed by ultraviolet curing. : 3 μm), and a fluorine-containing organic compound solution is applied on the microgravure coater, dried at 90 ° C. and thermally cured to form an antireflection film (thickness: 100 nm) with a refractive index of 1.4. Hard coat property (pencil hardness according to JIS K5400: 2H), antireflection property (surface Rvis: 0.9%), antistatic property (surface resistance: 7 × 10)9 Ω / □), a functional transparent layer (A) having antifouling properties was formed. The roll-shaped functional transparent layer (A) / polymer film (B) / transparent conductive layer (D) is cut into a size of 970 mm × 570 mm, and the surface of the transparent conductive layer (D) is placed on a glass support plate. Fixed up. An organic dye was dispersed and dissolved in an ethyl acetate / toluene (50:50 wt%) solvent to obtain a diluted solution of an acrylic adhesive. Acrylic adhesive / pigmented diluted solution (80:20 wt%) was mixed, and after coating on the transparent conductive layer (D) with a batch type die coater to a dry film thickness of 25 μm, excluding the
[0276]
The organic dye is Mitsui Chemicals Co., Ltd.'s dye PD-319, which has an absorption maximum at a wavelength of 595 nm for absorbing unwanted light emitted by the plasma display, and Mitsui Chemicals, Inc. for correcting the chromaticity of white light emission. The acrylic pressure-sensitive adhesive / pigment-containing diluted solution was prepared so that the produced red colorant PS-Red-G contained 1150 (wt) ppm and 1050 (wt) ppm in the dried adhesive material 1, respectively. PD-319 is a tetra-t-butyl-tetraazaporphyrin-vanadyl complex represented by the formula (3) (Chemical formula 5).
[0277]
[Chemical formula 5]
Furthermore, a two-component room temperature curable adhesive (3381 manufactured by ThreeBond Co., Ltd.) is printed in a range of a width of 22 mm at the peripheral edge using a metal mask so as to cover the exposed conductive portion of the transparent conductive layer (D). And dried to form a 25 μm thick conductive adhesive layer.
[0279]
The electromagnetic wave shielding body of the present invention having a release film on one side was prepared by removing the support and laminating a release film on the transparent adhesive layer (C) and the conductive adhesive layer surface.
[0280]
Furthermore, the release film of the electromagnetic wave shield was peeled off and bonded to the front surface of the plasma display panel (display unit 920 mm × 520 mm) using a single wafer laminator. At this time, alignment was performed such that at least the transparent adhesive layer (C) was bonded to the display portion and the conductive adhesive layer was bonded to at least the ground portion. After pasting, 60 ° C., 2 × 10Five An autoclave treatment was performed under pressure and heating conditions of Pa to obtain a display device comprising the electromagnetic wave shield of the present invention.
[0281]
The plane viewed from the transparent adhesive layer side of the electromagnetic shielding body is shown in FIG. 5 as a plan view showing an example of the electromagnetic shielding body of the present invention. In FIG. 5, the code |
[0282]
The cross section of the electromagnetic wave shielding body is shown in FIG. 6 as a cross-sectional view showing an example of the electromagnetic wave shielding body of the present invention and its mounting state. In FIG. 6,
[0283]
(Reference example 2)
Reference example 1A polymer film (B) was produced in the same manner as described above.
Polyethylene terephthalate pellet 1203 (manufactured by Unitika Co., Ltd.) is 0.01 wt% of red dye PS-Red-G manufactured by Mitsui Chemicals Co., Ltd. for correcting the chromaticity of white light emission, and also purple dye PS-Violet-RC. 0.015 wt% was mixed and melted at 260 to 280 ° C., and a film having a thickness of 200 μm was produced by an extruder. Thereafter, this film was biaxially stretched to produce a pigmented PET film, which is a polymer film (B) containing a pigment having a thickness of 100 μm.
[0284]
SnO in order on one main surface of the PET film2 Thin film (film thickness: 40 nm), silver thin film (film thickness: 9 nm), SnO2 Thin film (film thickness: 80 nm), silver-palladium alloy thin film (film thickness: 11 nm), SnO2 A transparent conductive layer (D) having a total surface resistance of 5.3 Ω / □ of a total of five layers (thickness: 40 nm) is formed, and the transparent laminate 2 is a PET film / transparent conductive layer (D) containing a pigment. Made by roll-to-roll.
[0285]
Furthermore, the following functional transparent film 2 was continuously formed by roll-to-roll as a functional transparent layer (A) on the opposite main surface of the PET film / transparent conductive layer of the PET film wound up in a roll shape. . A photopolymerization initiator is added to a polyfunctional methacrylate resin, and a coating liquid in which organic silica fine particles (average particle size: 15 μm) are dispersed is prepared. After coating, UV curing is performed, and antiglare properties (of haze meter measurement) are prepared. An antiglare layer was formed as a functional transparent layer (A) having a haze value of 5% and a hard coat property (pencil hardness: 2H).
[0286]
The roll-shaped functional transparent layer (A) / polymer film (B) / transparent conductive layer (D) is cut into a size of 970 mm × 570 mm, and the surface of the transparent conductive layer (D) is placed on a glass support plate. Fixed up.
[0287]
An adhesive material 2 which is the same material as the adhesive material 1 of Example 1 and does not contain a pigment was formed on the release film to a thickness of 25 μm. The pressure-sensitive adhesive material 2 / release film was laminated on the transparent conductive layer and the inner side where the peripheral edge portion was left 20 mm by using a frame laminator with the pressure-sensitive adhesive material 2 as the bonding surface. Furthermore, a conductive double-sided pressure-sensitive adhesive tape (WMFT791 manufactured by Teraoka Seisakusho) is applied and peeled off from the single-sided release film so as to cover the exposed conductive portion of the transparent conductive layer (D) in a width range of 20 mm. It was.
[0288]
The electromagnetic wave shield of the present invention having a release film on one side was removed from the support. Furthermore, the release film of the electromagnetic wave shield was peeled off and bonded to the front surface of the plasma display panel (display unit 920 mm × 520 mm) using a single wafer laminator. At this time, alignment was performed so that at least the transparent adhesive layer (C) portion was bonded to the display portion and the conductive adhesive layer was bonded to at least the ground portion. After pasting, 60 ° C., 2 × 10Five An autoclave treatment was performed under pressure and heating conditions of Pa to obtain a display device comprising the electromagnetic wave shield of the present invention.
[0289]
The cross section of the electromagnetic wave shielding body is shown in FIG. 7 as a cross sectional view showing an example of the electromagnetic wave shielding body of the present invention and its mounting state. In FIG. 7,
[0290]
(Comparative Example 1)
A PET film (thickness: 188 μm) is used as a polymer film (B), and a transparent conductive layer having a surface resistance of 15 Ω / □ made of an ITO thin film (film thickness: 400 nm) is formed on one main surface thereof. 3 was produced. An electromagnetic wave shield was produced using the transparent laminate 3 in the same manner as in Example 1 except that no dye was used, and a display device provided with the same was obtained.
[0291]
Example 1 obtained as described above.2 and Reference 1 and 2The following evaluation was performed about the plasma display which is a display apparatus which has a magnetic wave shield.
[0292]
1) Transmittance of electromagnetic wave shield
Using a CRT color analyzer (CA100) manufactured by Minolta Co., Ltd., the spectral radiance of the plasma display before and after forming the electromagnetic wave shield was obtained, and the ratio of the luminance after formation to the luminance before formation was shown as a percentage. .
[0293]
2) Brightness contrast ratio of plasma display (maximum minimum luminance ratio)
Evaluation was performed before and after forming the electromagnetic wave shield. Maximum brightness at the time of white display on the plasma display panel (cd / m) when the ambient brightness is 100 lx2 ) And the minimum luminance (cd / m) when displaying black2 ) Was measured using a luminance meter (LS-110) manufactured by Minolta Co., Ltd., and the ratio (maximum luminance / minimum luminance) was determined.
[0294]
3) Color purity of emission color of plasma display
Evaluation was performed before and after forming the electromagnetic wave shield. Example of display without filter for plasma display1Measured when the display filter was attached.
In white (W) display, red (R) display, green (G) display, and blue (B) display, RGB chromaticity (x, y) and white are displayed using a CRT color analyzer (CA100) manufactured by Minolta. The chromaticity, color temperature, and white deviation from the black body locus were measured.
It is more preferable that the three primary colors of PDP emission are closer to the RGB color reproduction range defined by the NTSC system. In addition, when the percentage of the ratio of the triangular area connecting the three primary colors of PDP emission on the xy chromaticity diagram to the area of the NTSC color reproduction range is close to 100%, the color reproduction range is widened.
[0295]
4) Electromagnetic shielding ability
Example 1 with plasma display without electromagnetic shield, 2, Reference Examples 1 and 2And in the plasma display which provided the electromagnetic wave shield body of the comparative example 1, the following measurements were performed.
Move the dipole antenna from the center of the displayNormal directionIt installed in the position of 10 m, and the radiation electric field strength in a 30-230 MHz band was measured with Advantest Spectral Analyzer (TP4172). In the 3 m method of VCCI, the allowable values in this region are 50 dBμV / m or less for Class A and 40 dBμV / m or less for ClassB. Evaluation was performed at 33 MHz and 90 MHz.
[0296]
5) Near-infrared transmittance of electromagnetic wave shield
Example 1, 2, Reference Examples 1 and 2And the electromagnetic wave shield body of the comparative example 1 was evaluated.
The translucent part of the electromagnetic wave shield was cut into small pieces, and a parallel light transmittance of 800 to 1000 nm was measured with a Hitachi spectrophotometer (U-3400), and transmittances at 820 nm, 850 nm, and 950 nm were evaluated. .
[0297]
6) Near-infrared cutting ability
Example 1 with plasma display without electromagnetic shieldReference example 1And in the plasma display which provided the electromagnetic wave shield body of the comparative example 1, the following measurements were performed.
As an electronic device using an infrared remote controller, a home VTR was removed from the 0.2-5 m display, and its malfunction was confirmed. When there was a malfunction, the limit distance was calculated. Practically, it is at least 3 m or less, preferably 1.5 m or less.
[0298]
The electromagnetic wave shielding body of the present invention of Example 1 has a transmittance of 50% in visible light transmittance of plasma display light emission, and a wavelength of 610 nm with necessary light emission due to a dye having an absorption maximum at a wavelength of 595 nm where unnecessary light emission occurs. The percentage of the transmittance at 595 nm with respect to the transmittance of was 38%. Moreover, the plasma display provided with this has suppressed reflection on the surface of the display by using the electromagnetic shielding body on which the functional transparent layer (A) having antireflection properties is formed, and the electromagnetic shielding. Due to the transmission characteristics of the body, the bright place contrast ratio under the condition of ambient illuminance of 100 lx was improved to 45 compared to 20 before the formation of the electromagnetic shielding body. Moreover, since there was little reflection, the plasma display with good visibility was obtained.
[0299]
Reference example 1The electromagnetic wave shield of the present invention had a plasma display light transmittance of 58% in terms of visible light transmittance and a small amount of reflection, so that a plasma display with good visibility was obtained. The photopic contrast ratio was improved from 20 to 37.
[0300]
Example2The electromagnetic wave shield of the present invention had a plasma display light transmittance of 58% in terms of visible light transmittance and a small amount of reflection, so that a plasma display with good visibility was obtained. The photopic contrast ratio was improved from 20 to 37.
[0301]
Reference example 2The electromagnetic wave shield of the present invention had a plasma display light transmittance of 59% in terms of visible light transmittance and a small amount of reflection, so that a plasma display with good visibility was obtained. The photopic contrast ratio was improved from 20 to 37.
[0302]
FIG. 8 shows an xy chromaticity diagram showing a color reproduction range before and after the formation of the electromagnetic wave shield. (FIG. 8) shows the chromaticity of white (W), red (R), green (G), and blue (B) emission before and after forming the electromagnetic wave shielding body of Example 1 on a PDP (plasma display panel). Plotted on y chromaticity diagram. Furthermore, the target NTSC chromaticity was also plotted.
[0303]
White color can be evaluated at a position compared with a black body locus which is a locus of suitable white chromaticity. When the electromagnetic wave shield body of the present invention is used, it can be seen that there is little white chromaticity deviation and that the color temperature is higher than before the electromagnetic wave shield body of Example 1 is formed. The color temperature increased from approximately 7000K to approximately 10,000K.
[0304]
In addition, triangles connecting RGB points are shown in the figure. The closer to NTSC, the better. It can be seen that by using the electromagnetic wave shielding body of Example 1, the chromaticity of red and green approaches the chromaticity indicated by NTSC, and the triangle indicating the color reproduction range is enlarged. When the percentage of the area of the triangle with respect to the area of the triangle indicated by NTSC was determined, it was 74% before forming the electromagnetic wave shielding body of Example 1, but it was improved to 85% by forming.
The results of the above evaluations 4) to 6) are shown in Table 1.
[0305]
[Table 1]
Table 1 shows that Class B or Class A of the VCCI standard can be cleared by using the electromagnetic wave shield of the present invention. TransparentConductive layerThe lower the sheet resistance, the better the electromagnetic shielding ability.
[0307]
Moreover, it turns out that it is excellent in near-infrared cut ability by using the electromagnetic wave shield body of this invention. The electromagnetic shielding body of the present invention using a transparent conductive layer obtained by laminating a metal thin film and a transparent refractive index thin film has a low near-infrared transmittance, excellent near-infrared cutting ability, and a surface resistance of the transparent conductive layer. The lower the value, the better the near infrared ray cutting ability. Furthermore, the electromagnetic wave shielding body of the present invention is excellent in environmental resistance and / or scratch resistance and / or antifouling property and / or antistatic property by giving each function to the functional transparent layer (D). ing.
[0308]
(Example3)
A triacetyl cellulose (TAC) film (thickness: 80 μm) is used as a polymer film (B), and the following functional transparent film 1 is rolled to one main surface as a functional transparent layer (A). It was formed continuously with a roll. That is, a photopolymerization initiator is added to a polyfunctional methacrylate resin, and a coating liquid in which ITO fine particles (average particle size: 10 nm) are dispersed is applied with a gravure coater, and a conductive hard coat film (film thickness) is formed by ultraviolet curing. : 3 μm), and a fluorine-containing organic compound solution is applied on the microgravure coater, dried at 90 ° C. and thermally cured to form an antireflection film (thickness: 100 nm) with a refractive index of 1.4. Hard coat property (pencil hardness according to JIS K5400: 2H), antireflection property (surface Rvis: 0.9%), antistatic property (surface resistance: 7 × 10)9 Ω / □), a functional transparent film 1 having antifouling properties was formed.
[0309]
An organic dye was dispersed and dissolved in an ethyl acetate / toluene (50:50 wt%) solvent to obtain a diluted solution of an acrylic adhesive. Mixing acrylic adhesive / diluted solution (80: 20wt%), coating on TAC film surface of functional transparent film 1 / TAC film with a comma coater to a dry film thickness of 25μm, dried and transparent Adhesive material 1 was formed as an adhesive layer (C). A release film was laminated on the surface of the transparent adhesive layer and wound up into a roll to obtain a roll-shaped light control film of the present invention having the release film on the surface of the transparent adhesive layer.
[0310]
Examples of organic dyes include Mitsui Chemicals Co., Ltd.'s dye PD-319, which has an absorption maximum at a wavelength of 595 nm for absorbing unnecessary light emitted by the plasma display, and Mitsui Chemicals, Inc. for correcting the chromaticity of white light emission. ) A red dye PS-Red-G was used, and an acrylic pressure-sensitive adhesive / dye-containing diluted solution was prepared so as to contain 1650 (wt) ppm and 450 (wt) ppm in the dried adhesive material 1 respectively. PD-319 is a tetra-t-butyl-tetraazaporphyrin-vanadyl complex of the formula (3) (Chemical formula 6).
[0311]
[Chemical 6]
Further, the light control film was cut into a sheet shape, the release film was peeled off, and bonded to the front surface of the plasma display panel (display portion 920 mm × 520 mm) using a single wafer laminator. At this time, sheet cutting and pasting position alignment were performed so that the transparent adhesive layer (C) was pasted at least on the entire display unit. After pasting, 60 ° C, 2x10 Five The autoclave process was carried out under the pressure heating conditions of Pa, and the display apparatus which comprises the light control film of this invention was obtained.
[0313]
The cross section of the light control film is shown in FIG. 9 as a cross-sectional view showing an example of the light control film of the present invention and its mounting state. In FIG. 9,
[0314]
(Example4)
Mitsui Chemicals has a polyethylene terephthalate (PET) pellet 1203 (manufactured by Unitika Ltd.) with 0.018 wt% of Mitsui Chemicals' dye PD-319 represented by the above formula (3) and an absorption maximum at a wavelength of 585 nm. Co., Ltd. Dye PD-311 0.018 wt%, Mitsui Chemicals Co., Ltd. red dye PS-Red-G for correcting the chromaticity of white light emission 0.004 wt% mixed, 260-280 ℃ The film was melted and a film having a thickness of 250 μm was produced by an extruder. Thereafter, this film was biaxially stretched to prepare a pigmented PET film which is a polymer film (B) containing a pigment having a thickness of 125 μm.
PD-311 is a tetra-t-butyl-tetraazaporphyrin / copper complex of the formula (4) (Chemical Formula 7).
[0315]
[Chemical 7]
Furthermore, the following functional transparent film 2 was continuously formed by roll-to-roll as a functional transparent layer (A) on one main surface of the said PET film wound up in roll shape. That is, a photopolymerization initiator is added to a polyfunctional methacrylate resin, and a coating liquid in which organic silica fine particles (average particle size: 15 μm) are dispersed is prepared. After coating, UV curing is performed, and antiglare properties (haze meter) A functional transparent film 2 which is an antiglare layer having a haze value of measurement: 5%) and a hard coat property (pencil hardness: 2H) was formed. An adhesive material 2 which is the same material as the adhesive material 1 of Example 1 and does not contain a pigment was formed on the PET film surface of the functional transparent film 2 / the pigmented PET film. A release film was laminated on the surface of the transparent adhesive layer and wound up into a roll to obtain a roll-shaped light control film of the present invention having the release film on the surface of the transparent adhesive layer.
[0317]
Further, the light control film was cut into a sheet shape, the release film was peeled off, and bonded to the front surface of the plasma display panel (display portion 920 mm × 520 mm) using a single wafer laminator. At this time, sheet cutting and pasting position alignment were performed so that the transparent adhesive layer (C) was pasted at least on the entire display unit. After pasting, 60 ° C., 2 × 10Five The autoclave process was carried out under the pressure heating conditions of Pa, and the display apparatus which comprises the light control film of this invention was obtained.
[0318]
The cross section of the light control film is shown in FIG. 10 as a cross-sectional view showing an example of the light control film of the present invention and its mounting state. In FIG. 10, the code |
[0319]
Examples obtained as described above3 and 4The plasma display which is a display device having the light control film of the present invention was evaluated as follows together with the plasma display before the light control film was formed.
[0320]
1) Transmittance of light control film
Using a CRT color analyzer (CA100) manufactured by Minolta Co., Ltd., the spectral radiance of the plasma display before and after forming the light control film was obtained, and the ratio of the luminance after formation to the luminance before formation was shown as a percentage. .
[0321]
2) Brightness contrast ratio of plasma display (maximum minimum luminance ratio)
It evaluated before and after forming the light control film. Maximum brightness at the time of white display on the plasma display panel (cd / m) when the ambient brightness is 100 lx2) And the minimum luminance (cd / m) when displaying black2) Was measured using a luminance meter (LS-110) manufactured by Minolta Co., Ltd., and the ratio (maximum luminance / minimum luminance) was determined.
[0322]
3) Color purity of emission color of plasma display
It evaluated before and after forming the light control film.
In white (W) display, red (R) display, green (G) display, and blue (B) display, RGB chromaticity (x, y) and white are displayed using a CRT color analyzer (CA100) manufactured by Minolta. The chromaticity, color temperature, and white deviation from the black body locus were measured.
It is more preferable that the three primary colors of PDP light emission are determined by the NTSC system and become closer to the RGB color reproduction range. Further, when the percentage of the ratio of the triangular area connecting the three primary colors of PDP emission on the xy chromaticity diagram to the surface responsibility of the NTSC color reproduction range is close to 100%, the color reproduction range is widened.
[0323]
Example3The light control film of the present invention has a transmittance for light emission of plasma display of 69% in terms of visible light transmittance, and a dye having an absorption maximum at a wavelength of 595 nm with unnecessary light emission, with respect to the transmittance at a wavelength of 610 nm with necessary light emission. The percentage of transmission at 595 nm was 21%. Moreover, the plasma display provided with this has suppressed reflection of the display surface by using the light control film on which the functional transparent layer (A) having antireflection properties is formed, and light control. Due to the transmission characteristics of the film, the bright spot contrast ratio under the condition of ambient illuminance of 100 lx was improved to 41 compared to 20 before the light control film was formed. Since the brightness was not significantly impaired and the reflection was small, a plasma display with good visibility was obtained. In addition, the color purity of red and green light emission was particularly improved. The improvement in the color purity of the green emission is due to the reduction in yellow-green emission of the 595 nm absorbing dye.
[0324]
Similarly, the example4The light control film of the present invention has a transmittance of 70% in visible light transmittance of plasma display light emission, and a dye having an absorption maximum at the same wavelength 585 nm as a dye having an absorption maximum at a wavelength of 595 nm with unnecessary light emission, The percentage of the transmittance at 595 nm with respect to the transmittance at a wavelength of 610 nm with the necessary light emission was 30%. Moreover, the plasma display equipped with this has a contrast ratio of 37 under the condition of ambient illumination of 100 lx, which is 20 before the light control film is formed, due to the transmission characteristics of the light control film. Improved. Since the brightness was not significantly impaired and the reflection was small, a plasma display with good visibility was obtained. In addition, the color purity of red and green light emission was particularly improved. The improvement in the color purity of the green emission is due to the reduction in yellow-green emission of the 595 nm and 585 nm absorbing dyes. The effect was particularly great with a 585 nm absorbing dye that absorbs shorter wavelengths.
[0325]
FIG. 11 shows an xy chromaticity diagram showing a color reproduction range before and after the formation of the light control film of the present invention.
[0326]
FIG. 11 shows the chromaticity of white (W), red (R), green (G), and blue (B) emission before and after forming the light control film of Example 5 on a PDP (plasma display panel). Plotted on y chromaticity diagram. Furthermore, the target NTSC chromaticity was also plotted.
[0327]
White color can be evaluated at a position compared with a black body locus which is a locus of suitable white chromaticity.
When the electromagnetic wave shield of the present invention is used, there is little white chromaticity deviation,3Or example4It can be seen that the color temperature is higher than before the light control film is formed. The color temperature rose from about 7000 K to about 9500 K, and the white deviation indicating the deviation from the black body locus was also almost zero.
[0328]
In addition, triangles connecting RGB points are shown in the figure. The closer to NTSC, the better. Example3Or example4By using this light control film, it can be seen that the chromaticity of red and green approaches the chromaticity indicated by NTSC, and the triangle indicating the color reproduction range is enlarged. The percentage of the area of the triangle with respect to the area of the triangle indicated by NTSC was determined.3It was improved to 86% by forming it compared to 74% before forming the light control film. Examples4When the light control film was formed, it was improved to 88%.
[0329]
Furthermore, the light control film of this invention is excellent in abrasion resistance and / or antifouling property, and / or antistatic property by giving each function to a functional transparent layer (A).
[0330]
(Reference example 3)
Polyethylene terephthalate pellet 1203 (manufactured by Unitika Co., Ltd.) was mixed with 0.15 wt% each of SIR-128 and SIR-130 manufactured by Mitsui Chemicals Co., Ltd., which are near infrared absorbing dyes, and melted at about 280 ° C. A near-infrared shielding film having a thickness of 150 μm was produced by stretching. Furthermore, an ethyl acetate / toluene (50:50 wt%) solvent was used as a diluent, an acrylic adhesive and a diluent were mixed at a ratio of 80:20, and a dry film was formed on the near infrared shielding film surface with a comma coater. After coating to a thickness of 25 μm, it was dried to form an adhesive layer, and a release film was laminated.
[0331]
On the near infrared shielding film (B) produced as described above, a base film thickness of 188 μm antireflection film (Nyalfa Realic 1200) is laminated and cut into a length of 960 mm × width of 550 mm, An optical filter film having a total thickness of the transparent polymer film of 0.338 mm was obtained.
[0332]
This film was bonded to a semi-tempered glass plate having a length of 980 × width of 580 mm × thickness of 2.5 mm.
[0333]
(Reference example 4)
Polyethylene terephthalate pellets 1203 (manufactured by Unitika Co., Ltd.) were mixed with 0.3 wt% each of SIR-128 and SIR-130 manufactured by Mitsui Chemicals, which are near-infrared absorbing dyes, and melted at about 280 ° C. A near-infrared shielding film having a thickness of 75 μm was produced by stretching. Furthermore, an ethyl acetate / toluene (50:50 wt%) solvent was used as a diluent, an acrylic adhesive and a diluent were mixed at a ratio of 80:20, and a dry film was formed on the near infrared shielding film surface with a comma coater. After coating to a thickness of 25 μm, it was dried to form an adhesive layer, and a release film was laminated.
[0334]
Moreover, the transparent polymeric film for 200-micrometer-thick raising was produced using the same method, without adding a near-infrared absorption pigment | dye.
[0335]
An antireflection film with a base film thickness of 80 μm (Realoc 2200 made by NOF Corporation) is laminated on the near-infrared shielding film, cut into a length of 960 mm × width of 550 mm, and then on a transparent polymer film for raising a film thickness of 200 μm Laminated. Thereby, an optical filter film having a total thickness of the transparent polymer film of 0.355 mm was obtained. This film was bonded to a semi-tempered glass plate having a length of 980 × width of 580 mm × thickness of 2.5 mm.
[0336]
(Reference Example 5)
Reference example 3The following functional transparent film was continuously formed by roll-to-roll as a functional transparent layer (A) on the main surface of the near-infrared shielding film having a thickness of 150 μm shown in FIG. That is, a photopolymerization initiator is added to a polyfunctional methacrylate resin, and a coating liquid in which organic silica fine particles (average particle size: 15 μm) are dispersed is prepared. After coating, UV curing is performed, and antiglare properties (haze meter) A functional transparent layer having an antiglare function having a haze value of measurement: 5%) and a hard coat property (pencil hardness: 2H) was formed.
[0337]
To this transparent polymer film with near-infrared shielding function and anti-glare functionReference example 4An optical filter film having a total thickness of 0.350 mm was obtained by laminating a 200 μm thick transparent polymer film having a thickness of 200 mm and cutting into a length of 960 mm × width of 550 mm. This film was bonded to a semi-tempered glass plate having a length of 980 × width of 580 mm × thickness of 2.5 mm.
[0338]
(Example5)
A polyethylene terephthalate film having a thickness of 75 μm is produced by extrusion biaxial stretching, and SnO on one main surface in order from the film.2 Thin film (film thickness: 40 nm), silver thin film (film thickness: 9 nm), SnO2 Thin film (film thickness: 80 nm), silver-palladium alloy thin film (film thickness: 11 nm), SnO2 A total of five thin film layers (film thickness: 40 nm) were formed, and a transparent polymer film having an electromagnetic wave shielding function having a transparent conductive thin film layer (D) having a surface resistance of 5.3 Ω / □ was produced.
[0339]
An adhesive layer was formed on the above electromagnetic shielding film by the following method.
An organic dye was dispersed and dissolved in an ethyl acetate / toluene (50:50 wt%) solvent to obtain a diluted solution of an acrylic adhesive. Organic dyes include Mitsui Chemicals 'dye PD-319 having an absorption maximum at a wavelength of 595 nm for absorbing unnecessary light emitted by the plasma display, and Mitsui Chemicals' red dye PS- for correcting the chromaticity of white light emission. The acrylic adhesive / pigmented diluted solution was adjusted so that Red-G contained 1150 (wt) ppm and 1050 (wt) ppm in the dried adhesive material.
[0340]
Mix the acrylic adhesive / diluted solution with pigment (80: 20wt%) and apply a dry film thickness of 25μm on the surface of the electromagnetic wave shielding film with a comma coater, then dry and laminate the release film on the adhesive surface. Thus, a transparent adhesive layer was formed.
[0341]
This filmReference example 4The transparent conductive thin film layer was laminated on the transparent polymer film for raising 200 μm thick shown in FIG. 1 and cut into a length of 960 mm × width of 550 mm.
[0342]
Furthermore, an antireflection film (Realoc 1200 made by NOF Corporation) having a base film thickness of 188 μm was cut into a length of 920 mm × width of 510 mm, and an antireflection film was attached so that the peripheral edge portion of the transparent conductive thin film layer was exposed to 20 mm. . Further, a silver paste (MSP-600F manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) is screen-printed in a range of a peripheral edge width of 22 mm so as to cover the exposed conductive portion of the transparent conductive thin film layer, dried and an electrode having a thickness of 15 μm. Formed. As a result, an optical filter film having a total thickness of the transparent polymer film of 0.463 mm was obtained. This film was bonded to a semi-tempered glass plate having a length of 980 × width of 580 mm × thickness of 2.5 mm.
[0343]
(Reference Example 6)
A polyethylene terephthalate film having a thickness of 200 μm is prepared by extrusion biaxial stretching, and an ITO thin film (film thickness: 40 nm), a silver thin film (film thickness: 11 nm), an ITO thin film (film thickness) are sequentially formed on one main surface from the film. : 95 nm), silver thin film (film thickness: 14 nm), ITO thin film (film thickness: 90 nm), silver thin film (film thickness: 12 nm), and ITO thin film (film thickness: 40 nm), a total of seven transparent conductive thin film layers (D) And an electromagnetic wave shielding film having a transparent conductive layer having a surface resistance of 2.2Ω / □ was produced.
[0344]
Furthermore, the following functional transparent layer was continuously formed by roll-to-roll on the other main surface in which the transparent conductive thin film layer of this electromagnetic wave shielding film was not formed. That is, a photopolymerization initiator is added to a polyfunctional methacrylate resin, and a coating liquid in which ITO fine particles (average particle size: 10 nm) are dispersed is applied with a gravure coater, and a conductive hard coat film (film thickness) is formed by ultraviolet curing. : 3 μm), and a fluorine-containing organic compound solution is applied on the microgravure coater, dried at 90 ° C. and thermally cured to form an antireflection film (thickness: 100 nm) with a refractive index of 1.4. Hard coat property (pencil hardness according to JISK5400: 2H), antireflection property (surface Rvis: 0.9%), antistatic property (surface resistance: 7 × 10)9 Ω / □), a functional transparent layer having antifouling properties was formed.
[0345]
Furthermore, ethyl acetate / toluene (50:50 wt%) solvent was used as a diluent, acrylic adhesive and diluent were mixed at a ratio of 80:20, and a dry film thickness of 25 μm was formed on the transparent conductive layer surface with a comma coater. After coating, it was dried and a release film was laminated to form a transparent adhesive layer.
[0346]
The electromagnetic wave shielding film with a functional transparent layer is cut into a length of 920 mm × a width of 510 mm, and on the transparent polymer film for raising a thickness of 200 μm, which is cut into a length of 960 mm × a width of 550 mm, leaving a peripheral portion of 20 mm each. Pasted inside.
[0347]
Furthermore, a silver paste (MSP-600F manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) is screen-printed in a range of a width of 22 mm at the peripheral edge so as to cover the cross-sectional conductive part with a thickness of the transparent conductive layer and dried to form an electrode having a thickness of 15 μm Formed. Thereby, an optical filter film having a total thickness of the transparent polymer film of 0.4 mm was obtained. This film was bonded to a semi-tempered glass plate having a length of 980 × width of 580 mm × thickness of 2.5 mm.
[0348]
(Comparative Example 2)
Reference Example 5A near-infrared shielding film having a thickness of 150 μm and an antireflection film having a base film thickness of 80 μm were bonded together to obtain an optical filter film having a total film thickness of 0.230 mm. This film was bonded to a semi-tempered glass plate having a length of 980 × width of 580 mm × thickness of 2.5 mm.
[0349]
(Comparative Example 3)
Example5And an antireflection film having a thickness of 188 μm and a base film thickness of 188 μm were laminated to obtain an optical filter film having a total film thickness of 263 μm. This film was bonded to a semi-tempered glass plate having a length of 980 × width of 580 mm × thickness of 2.5 mm.
[0350]
As described above, with respect to the sample in which each optical filter film was bonded to a glass plate, improvement in impact resistance and peelability, and the adhesive remaining state on the glass plate were examined.
[0351]
In the impact resistance test, a steel ball having a height of 1.5 m to a weight of 500 g was dropped with the film sample bonded to the glass plate as the upper surface, and the damaged state of the substrate glass was examined. Each test was carried out 5 sheets.
[0352]
About peelability and the adhesive residue test to glass, after sticking an optical film on a glass plate for 1 hour, the film was peeled from the glass plate and the state was investigated.
The above results are listed in Table 2.
[0353]
[Table 2]
As can be seen from Table 2,Example 5 and Reference Examples 4-6It can be seen that the impact resistance, peelability, and adhesive residue on the glass plate are improved.
[0355]
As described above, according to the present invention, the protective function and workability of the display panel can be improved by setting the total thickness of the transparent polymer film constituting the optical filter film to 0.3 mm or more. An optical filter film can be provided that is directly bonded to the front surface of the display.
[0356]
(Reference Example 7)
A polyethylene terephthalate film [width: 558 mm, length: 500 m, thickness: 75 μm] roll is prepared as the transparent polymer film (B), and on one main surface, a roll coater is used, and direct current magnetron sputtering is used for transparent conductivity. A thin film layer (D) was formed. The transparent conductive thin film layer is a thin film layer (Dt) made of an oxide of indium and tin, and a silver thin film layer (Dm) is B / Dt [
[0357]
Next, an antiglare film [width 548 mm, length 500 m, thickness 100 μm] roll was prepared in a state where a transparent adhesive material [thickness 100 μm] was adhered to the side opposite to the antiglare layer.
[0358]
Subsequently, the antiglare film was attached to the transparent conductive thin film layer of the transparent conductive thin film in a roll-to-roll manner through a transparent adhesive material to produce one roll. It performed so that the center position of the width direction of a transparent conductive film and an anti-glare film might correspond. Further, a transparent adhesive material [thickness: 100 μm] was bonded to the opposite surface of the bonded body of the transparent conductive thin film and the antiglare film by a roll-to-roll method. Then, the silver paste was apply | coated by the roll coat system to the transparent conductive thin film layer part of each 5 mm width of a roll both ends. The feeding speed of the roll was 0.5 m / s.
[0359]
The film obtained above was cut into a length of 958 mm to produce an electromagnetic wave shield. A cross-sectional view is shown in FIG. In FIG. 21,
[0360]
Among them, the time required for electrode formation per one electromagnetic wave shield was examined.
Subsequently, an electromagnetic wave shield was attached to the front surface of the plasma display panel [manufactured by NEC PX-42VP1] via a transparent adhesive layer.
[0361]
A metal member on a flat plate, which is wired so as to extract current from the display, was brought into contact with the electrode located on the viewing surface side.
[0362]
The plasma display panel was operated, and the intensity of the electromagnetic wave emitted to the outside was measured based on FCC standard Part 15J to check whether the class A standard was satisfied. A cross-sectional view is shown in FIG.
[0363]
(Reference Example 8)
Prepare a roll of antiglare film [width 554 mm, length 500 m, thickness 100 μm] on the opposite side of the antiglare layerReference Example 7A transparent conductive thin film layer was formed in the same manner as described above. Subsequently, a transparent adhesive material [, width 548 mm, thickness 100 μm] and a conductive adhesive material [width 3 mm, thickness 100 μm] were bonded to the transparent conductive thin film layer by a roll-to-roll method. The conductive adhesive was bonded to the position of both ends of the roll, and a transparent adhesive was bonded to the other portions. The electromagnetic shielding body was produced by the above.
[0364]
An electromagnetic wave shield was attached to the front surface of the plasma display panel [PX-42VP1 manufactured by NEC]. On the two long sides of the plasma display panel, a copper foil tape having a width of 6 mm was previously pasted along the edge. A portion where the conductive adhesive and the copper foil tape are combined becomes a substantial electrode. A metal member on a flat plate, which is wired so as to extract current from the display, was brought into contact with the electrode located on the viewing surface side. OthersReference Example 7It carried out like.
[0365]
(Reference Example 9)
Reference Example 7A transparent conductive thin film was prepared in the same manner as described above.
[0366]
Next, an anti-glare film [width: 558 mm, length: 500 m, thickness: 100 μm] roll was prepared, and the transparent conductive film and the anti-glare film were aligned so that the center positions in the width direction coincided with each other. Further, a transparent adhesive material [thickness: 100 μm] was bonded to the opposite surface of the bonded body of the transparent conductive thin film and the antiglare film by a roll-to-roll method.
[0367]
A silver paste was applied to the roll end face. The electromagnetic shielding body was produced by the above. A cross-sectional view is shown in FIG.
[0368]
Among them, the time required for electrode formation per one electromagnetic wave shield was examined.
Subsequently, an electromagnetic wave shield was attached to the front surface of the plasma display panel [NEC PX-42VP1]. A flat metal member wired so as to extract current from the display was brought into contact with the electrode.
[0369]
The plasma display panel was operated, and the intensity of the electromagnetic wave emitted to the outside was measured based on FCC standard Part 15J to check whether the class A standard was satisfied.
[0370]
(Comparative Example 4)
Reference Example 7Similarly, a polyethylene terephthalate film [width 558 mm, length 500 m, thickness 75 μm] roll was prepared as the transparent polymer film (B), and a transparent conductive thin film layer was formed on one main surface thereof.
[0371]
A transparent adhesive material [thickness 100 μm] was bonded to the surface opposite to the transparent conductive thin film forming surface of the film by a roll-to-roll method.
[0372]
Further, the obtained film was bonded to a glass substrate [size: 560 mm × 960 mm, thickness: 3 mm] through a weak adhesive material while cutting.
[0373]
Subsequently, a roll of an antiglare film [width 548 mm, length 500 m, thickness 100 μm] is prepared in a state where a transparent adhesive material is pasted on the side opposite to the antiglare layer, and the above-mentioned laminated body is transparent. It bonded together, cutting on a conductive thin film layer. At this time, it bonded together so that an edge part might be located inside 5 mm from the outer peripheral part of a transparent conductive thin film layer.
[0374]
A silver paste was applied using a screen printing method so that the entire periphery of the exposed portion of the transparent conductive thin film layer in the outer peripheral portion was covered and dried. After drying, it was peeled off from the glass substrate. The electromagnetic shielding body was produced by the above. Other,Reference Example 7It carried out like.
The results are shown in Table 3.
[0375]
[Table 3]
As can be seen from Table 3, allreferenceIn the example, there is no problem with respect to the electromagnetic wave shielding effect as in the conventional case shown in Comparative Example 4. Furthermore, it can be seen that the time required for electrode formation is greatly reduced, and the efficiency for production is greatly improved.
[0377]
(Reference Example 10)
As a transparent polymer film (B), a polyethylene terephthalate film [thickness 75 μm] width 565 mm and length 500 m roll is prepared, and a transparent conductive layer is formed on one main surface thereof by a direct current magnetron sputtering method using a roll coater. (D) was formed. The transparent conductive thin film layer is a thin film layer (Dt) made of an oxide of indium and tin, and a silver thin film layer (Dm) is B / Dt [
[0378]
Next, a roll having an antiglare film width of 565 mm and a length of 500 m was prepared in a state where a transparent adhesive material was stuck on the side opposite to the antiglare layer.
[0379]
Subsequently, the antiglare film was attached to the transparent conductive thin film layer of the transparent conductive thin film in a roll-to-roll manner through a transparent adhesive material to produce one roll. Furthermore, the transparent adhesive material was bonded together by the roll-to-roll system on the surface opposite to the glare-proof layer of the bonding body of this transparent conductive thin film film and anti-glare film.
[0380]
The film obtained above was bonded to a transparent support substrate through a transparent adhesive material while cutting.
[0381]
Further, a silver paste was applied to the entire periphery of the end portion using a screen printing method so that the side surface of the film was covered and dried.
[0382]
The electromagnetic shielding body was produced by the above. A cross-sectional view is shown in FIG.
Two points farthest from each other on the electrode were selected, and the resistance value between them was examined.
[0383]
Further, the bonding time required for one electromagnetic wave shield was examined. In addition, the laminating time per optical filter of the transparent conductive film and the antiglare film is obtained by dividing the total laminating time in all rolls to roll by the number of films that can be cut out from the roll. It was.
[0384]
(Reference Example 11)
Prepare a roll of antiglare film width 565mm and length 500m, on the opposite side of the antiglare layerReference Example 10A transparent conductive thin film layer was formed in the same manner as described above. Then, the transparent adhesive material was bonded together by the roll-to-roll system on the transparent conductive thin film layer.
[0385]
The film obtained above was bonded to a transparent support substrate through a transparent adhesive material while cutting.
[0386]
Further, a silver paste was applied to the entire periphery of the end portion using a screen printing method so that the side surface of the film was covered and dried. The electromagnetic shielding body was produced by the above.
[0387]
At this time, two points farthest from each other on the electrode were selected, and the resistance value between them was examined.
Further, the bonding time required for one electromagnetic wave shield was examined.
[0388]
(Reference Example 12)
Prepare a roll of antiglare film width 565mm and length 500m, on the opposite side of the antiglare layerReference Example 10A transparent conductive thin film layer was formed in the same manner as described above, and a 500 m long roll of an antiglare transparent conductive film was produced.
[0389]
Two rolls of copper tape [width 15 mm, thickness 75 μm, length 500 m, with conductive adhesive on one side] were prepared.
[0390]
Copper tape was bonded to both ends of the antiglare transparent conductive film. Lamination was performed such that the conductive adhesive material of the copper tape was in contact with the transparent conductive layer formed in the antiglare transparent conductive property. The overlapping width between each copper tape and the antiglare transparent conductive film was 10 mm. Bonding was performed by a roll-to-roll method.
[0390]
A roll of transparent adhesive [width 575 mm,
[0392]
At this time, two points farthest from each other on the electrode were selected, and the resistance value between them was examined.
Further, the bonding time required for one electromagnetic wave shield was examined.
[0393]
(Reference Example 13)
A roll having an antiglare film width of 565 mm and a length of 500 m was prepared, and a transparent conductive thin film layer was formed on the surface opposite to the antiglare layer in the same manner as in Example 17. Subsequently, an electromagnetic wave shield was produced by cutting into a sheet having a length of 958 mm while laminating a transparent adhesive material on the transparent conductive thin film layer by a roll-to-roll method.
[0394]
A glass substrate [size 545 mm × 960 mm, thickness 3 mm] was prepared, and a copper plate [
[0395]
At this time, two points farthest from each other on the electrode were selected, and the resistance value between them was examined.
Further, the bonding time required for one electromagnetic wave shield was examined.
[0396]
(Comparative Example 5)
Reference Example 11alike,A roll of polyethylene terephthalate film (thickness 75 μm) having a width of 565 mm and a length of 500 m was prepared as a transparent polymer film (B), and a transparent conductive thin film layer was formed on one main surface thereof.
[0397]
A transparent adhesive material was bonded to the surface opposite to the transparent conductive thin film forming surface of the film by a roll-to-roll method.
[0398]
Further, the obtained film was bonded to a transparent support substrate through a transparent adhesive material while cutting.
[0399]
Subsequently, a roll having a width of 565 mm and a length of 500 m of an antiglare film is prepared in a state where a transparent adhesive material is pasted on the side opposite to the antiglare layer, and on the transparent conductive thin film layer of the above-mentioned bonded body. Laminated while cutting. At this time, it bonded together so that an edge part might be located inside 5 mm from the outer peripheral part of a transparent conductive thin film layer.
[0400]
A silver paste was applied using a screen printing method so that the entire periphery of the exposed portion of the transparent conductive thin film layer in the outer peripheral portion was covered and dried. The electromagnetic shielding body was produced by the above.
[0401]
At this time, two points farthest from each other on the electrode were selected, and the resistance value between them was examined.
Further, the bonding time required for one electromagnetic wave shield was examined.
The above results are listed in Table 4.
[0402]
[Table 4]
As can be seen from Table 4, allreferenceIn the example, the electrical resistance value between the electrodes hardly decreases compared to the conventional electrode shape shown in the comparative example. AllreferenceIn the example, it can be seen that the film laminating time per one electromagnetic wave shield is greatly shortened, and the production efficiency of the electromagnetic wave shield is greatly increased.
[0404]
(Example6)
The same operation as in Example 1 was performed except for the following points.
[0405]
The transparent laminated body 1 was produced as follows.
Polyethylene terephthalate pellets 1203 (manufactured by Unitika Co., Ltd.) are mixed with a dye that absorbs near-infrared rays, SIR128 made by Mitsui Chemicals Co., Ltd. and 0.25 wt% SIR130 are mixed, and melted at 260-280 ° C. Then, a polymer film (B) having a thickness of 188 μm was produced by a biaxial stretching extruder.
[0406]
A polyester adhesive containing a cross-linking material was applied to a thickness of 10 μm on one main surface of the polymer film (B) produced above. Next, a silver foil having a thickness of 7 μm, a pore diameter of 1 μm, and a porosity of 12% was laminated. It should be noted that molybdenum was previously formed on both main surfaces of the silver foil by sputtering so as to have a thickness of 50 μm. Next, a grid pattern having a grid width of 20 μm and a mesh size of 150 μm × 150 μm was printed on the metal layer by screen printing using thermosetting ink. After curing the ink by heating at 90 ° C. for 5 minutes, the metal layer of the portion not protected by the ink was removed with an aqueous ferric chloride solution, and then the ink was removed with a solvent. Thus, a laminate having an aperture ratio of 75% having a metal layer having the pattern shown in FIG. 27 was obtained. The average visible light transmittance was measured and found to be 67%. When the sheet resistance was measured, it was 0.11Ω / □.
[0407]
(Example7)
Example with the following exceptions2It carried out like.
[0408]
A polymer film (B) / transparent conductive layer (D) was prepared by the following method.
Polyethylene terephthalate pellets 1203 (manufactured by Unitika Co., Ltd.) are mixed with a dye that absorbs near-infrared rays, SIR128 made by Mitsui Chemicals Co., Ltd. and 0.25 wt% SIR130 are mixed, and melted at 260-280 ° C. Then, a polymer film (B) having a thickness of 188 μm was produced by a biaxial stretching extruder.
[0409]
A silver foil having a thickness of 7 μm, a pore diameter of 1 μm, and a porosity of 8% was laminated on the polymer film (B) prepared above with an acrylic adhesive. In addition, the chromate treatment was performed on both surfaces of the silver foil in advance. Next, an alkali development type photoresist is coated on the copper layer, pre-baked and exposed and developed using a photomask to form a lattice pattern with a lattice width of 25 μm and an eye size of 125 μm × 125 μm. The portion of the metal layer that was not protected by the resist was etched with a 2 iron aqueous solution, and then the resist was removed in an alkaline solution. Thus, a laminate having a metal layer having a pattern shown in FIG. 27 and an aperture ratio of 69% was obtained. When the visible light transmittance was measured, it was 65% and the sheet resistance was 0.07Ω / □.
[0410]
Table 5 shows that Class B or Class A of the VCCI standard can be cleared by using the electromagnetic wave shield of the present invention. The lower the surface resistance of the transparent conductive layer, the better the electromagnetic shielding ability.
[0411]
Moreover, it turns out that it is excellent in near-infrared cut ability by using the electromagnetic wave shield body of this invention.
[0412]
The electromagnetic wave shielding body of the present invention using a metal mesh layer is excellent in visible light permeability and excellent in electromagnetic wave shielding properties and near infrared shielding properties.
[0413]
Furthermore, the electromagnetic wave shielding body of the present invention is excellent in environmental resistance and / or scratch resistance and / or antifouling property and / or antistatic property by giving each function to the functional transparent layer (A). .
[0414]
[Table 5]
【The invention's effect】
As described in detail above, according to the present invention, it functions as a light control film having excellent transmission characteristics, transmittance, and reflection characteristics.plasmaA display filter can be realized at low cost. By directly forming this on the screen of a display device such as a plasma display,plasmaThe color purity and contrast can be improved without significantly deteriorating the brightness of the display, and a display device having excellent image quality can be realized.
[0416]
It also has excellent over-characteristics, transmittance, and visible light reflectance, and functions as an electromagnetic wave shield that blocks electromagnetic waves generated from display devices such as plasma displays.plasmaA display filter can be realized at low cost. further,plasmaSince near-infrared rays in the vicinity of 800 to 1000 nm emitted from the display are efficiently cut, the wavelength used by the remote control of the peripheral electronic device, transmission optical communication, etc. is not adversely affected, and their malfunction can be prevented. In addition, a display device having excellent image quality can be realized that has excellent weather resistance and environmental resistance, and has antireflection properties and / or antiglare properties, scratch resistance, antifouling properties, antistatic properties, and the like.
[0418]
Further, by devising the electrode shape of the electromagnetic wave shield body, it has a sufficient electromagnetic wave shielding effect, and the time required for electrode formation is greatly shortened, so that the production efficiency is greatly improved.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a polymer film (B) / transparent conductive layer (D) in the present invention.
FIG. 2 is a plan view showing an example of the electromagnetic wave shield of the present invention.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example (Example 1) of the electromagnetic wave shield body of the present invention and its mounting state.
FIG. 4 shows an example of an electromagnetic wave shielding body according to the present invention and its mounting state (Reference example 1FIG.
FIG. 5 is a plan view showing an example of the electromagnetic wave shield of the present invention.
FIG. 6 shows an example of an electromagnetic wave shielding body according to the present invention and a mounted state thereof (Example)2FIG.
FIG. 7 shows an example of an electromagnetic wave shield body according to the present invention and its mounting state (Reference example 2FIG.
FIG. 8 is an xy chromaticity diagram showing a color reproduction range before and after forming an electromagnetic wave shield.
FIG. 9: Dimming film of the present inventionAndAn example of the wearing state (Example)3FIG.
FIG. 10 is a dimming film of the present invention.AndAn example of the wearing state (Example)4FIG.
FIG. 11 is an xy chromaticity diagram showing a color reproduction range before and after the light control film is formed.
FIG. 12 is a cross-sectional view showing a configuration example of a display filter according to the present invention.
FIG. 13 is a cross-sectional view showing a configuration example of a display filter according to the present invention.
FIG. 14 is a cross-sectional view showing a configuration example of a display filter according to the present invention.
FIG. 15 is a cross-sectional view showing a configuration example of a display filter according to the present invention.
FIG. 16 is a cross-sectional view showing a configuration example of a display filter according to the present invention.
FIG. 17 is a cross-sectional view showing a configuration example of a display filter according to the present invention.
18 is a cross-sectional view showing a configuration of a transparent polymer film (B) 23 having an electromagnetic wave shielding function shown in FIG.
19 is a cross-sectional view showing a configuration of a transparent polymer film (B) 26 showing the electromagnetic wave shielding function shown in FIG.
20 is a plan view of the display filter shown in FIG. 16 or FIG.
FIG. 21 is a cross-sectional view showing a configuration example of a display filter according to the present invention.
FIG. 22 is a cross-sectional view showing a configuration example of a display filter according to the present invention.
FIG. 23 is a cross-sectional view showing a configuration example of a display filter according to the present invention.
FIG. 24 is a cross-sectional view showing a configuration example of a display filter according to the present invention.
FIG. 25 is a cross-sectional view showing a configuration example of a display filter according to the present invention.
26 is a plan view of the display filter shown in FIGS. 21 to 25. FIG.
FIG. 27 is a diagram illustrating an example of a metal pattern.
[Explanation of symbols]
00 Display section
01 Display ground
02 Translucent part of electromagnetic wave shield
03 Conducting part of electromagnetic wave shield
10 Transparent conductive layer (D)
11 High refractive index transparent thin film layer (Dt)
12 Metal thin film layer (Dm)
20 Polymer film (B)
21 Dye-containing polymer film (B)
22 Hard coat layer (F)
23, 24, 26 Transparent polymer film (B)
25 Transparent polymer film for lifting (B)
30 Transparent adhesive layer (C)
31 Dye-containing transparent adhesive layer (C)
40 Transparent adhesive layer (E)
41 Conductive adhesive layer
50 electrodes
51 Conductive tape
52 Through-hole electrode
60 Functional transparent layer (A)
61 Anti-reflective coating
62 Hard coat film
63 Transparent substrate
70 Anti-glare layer (functional transparent layer (A))
71 Anti-glare film
80 Conductive copper foil adhesive tape
110 Patterned conductive foil
120 light transmission part
Claims (26)
外気側に設けられ、反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）と、
プラズマディスプレイ側に設けられ、画面に接着するための透明粘着層（Ｃ）と、
機能性透明層（Ａ）と透明粘着層（Ｃ）との間に基体として設けられた高分子フィルム（Ｂ）とを備え、
機能性透明層（Ａ）、高分子フィルム（Ｂ）および透明粘着層（Ｃ）のうち少なくとも１つの層に、波長５７０〜６０５ｎｍの範囲に吸収極大を有する色素が含有され、
前記色素は、下記の化学式（１）で表されるテトラアザポルフィリン化合物であることを特徴とするプラズマディスプレイ用フィルタ。
A functional transparent layer (A) provided on the outside air side and having antireflection properties and / or antiglare properties;
A transparent adhesive layer (C) provided on the plasma display side for bonding to the screen;
A polymer film (B) provided as a substrate between the functional transparent layer (A) and the transparent adhesive layer (C);
At least one of the functional transparent layer (A), the polymer film (B) and the transparent adhesive layer (C) contains a dye having an absorption maximum in the wavelength range of 570 to 605 nm ,
The dye is a filter for a plasma display according to claim tetraazaporphyrin compound der Rukoto represented by the chemical formula (1).
該連通孔の内部に、透明導電層（Ｄ）と電気接続する電極が形成されることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタ。 A communication hole communicating with at least the transparent conductive layer (D) from the outermost surface along the thickness direction of the filter is formed,
The plasma display filter according to any one of claims 1 to 6, wherein an electrode electrically connected to the transparent conductive layer (D) is formed inside the communication hole .
プラズマディスプレイ画面に設けられ、請求項１〜２１のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタとを備えることを特徴する表示装置。A display device comprising a plasma display filter according to claim 1, wherein the display device is provided on a plasma display screen.
表示装置のプラズマディスプレイ画面に、請求項１５〜２１のいずれかに記載のプラズマディスプレイ用フィルタを透明粘着層（Ｃ）を介して貼合わせる工程と、A step of bonding the plasma display filter according to any one of claims 15 to 21 through a transparent adhesive layer (C) to a plasma display screen of a display device;
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）の電極とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法。A method of manufacturing a display device, comprising: electrically connecting a ground conductor of the display device and an electrode of the transparent conductive layer (D).
表示装置のプラズマディスプレイ画面に、高分子フィルム（Ｂ）、透明導電層（Ｄ）、および透明粘着層（Ｃ）を含む積層フィルタを透明粘着層（Ｃ）を介して貼合わせる工程と、Bonding a laminated filter including a polymer film (B), a transparent conductive layer (D), and a transparent adhesive layer (C) to the plasma display screen of the display device via the transparent adhesive layer (C);
該積層フィルタの上に、直接又は第２の粘着層を介して、反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）を配置する工程と、A step of disposing a functional transparent layer (A) having antireflection properties and / or antiglare properties directly or via the second adhesive layer on the multilayer filter;
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法。A method for manufacturing a display device, comprising: electrically connecting a ground conductor of the display device and a transparent conductive layer (D).
表示装置のプラズマディスプレイ画面に、透明粘着層（Ｃ）を配置する工程と、Arranging the transparent adhesive layer (C) on the plasma display screen of the display device;
高分子フィルム（Ｂ）、透明導電層（Ｄ）、および反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）を含む積層フィルタを、前記透明粘着層（Ｃ）を介して貼合わせる工程と、A laminated filter including a polymer film (B), a transparent conductive layer (D), and a functional transparent layer (A) having antireflection properties and / or antiglare properties is pasted via the transparent adhesive layer (C). Combining the steps,
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法。A method for manufacturing a display device, comprising: electrically connecting a ground conductor of the display device and a transparent conductive layer (D).
表示装置のプラズマディスプレイ画面に、透明粘着層（Ｃ）を配置する工程と、
高分子フィルム（Ｂ）および、透明導電層（Ｄ）を含む積層フィルタを、前記透明粘着層（Ｃ）を介して貼合わせる工程と、
該積層フィルタの上に、直接又は第２の粘着層を介して、反射防止性及び／又は防眩性を有する機能性透明層（Ａ）を配置する工程と、
表示装置のグランド導体と透明導電層（Ｄ）とを電気接続する工程とを含むことを特徴とする表示装置の製造方法。A method for manufacturing a display device comprising the plasma display filter according to any one of claims 15 to 21 ,
Arranging the transparent adhesive layer (C) on the plasma display screen of the display device;
A step of laminating a polymer film (B) and a laminated filter including a transparent conductive layer (D) via the transparent adhesive layer (C);
A step of disposing a functional transparent layer (A) having antireflection properties and / or antiglare properties directly or via the second adhesive layer on the multilayer filter;
A method for manufacturing a display device, comprising: electrically connecting a ground conductor of the display device and a transparent conductive layer (D 2 ) .
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