JP3832293B2 - 荷保管設備 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、荷の保管を行うのに採用される荷保管設備に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、この種のものとしては、たとえば特開平１０−２７９０２３号公報に見られる自動倉庫が提供されている。すなわち、この従来構成は、横方向に多数の格納位置を有する一対のラックが、間隔を置いて平行に配設されている。そして、間隔を走行経路として、一対のラック間に移載装置が設けられるとともに、走行経路の端部外方には、それぞれ回動ラックが設けられている。前記移載装置は、一方のラックに設置された昇降レールに沿って走行する走行台車と、この走行台車に設けられたターンテーブルと、このターンテーブルに設けられたアームやハンドなどから構成されている。
【０００３】
このような従来構成によると、昇降レールの昇降と、走行台車の走行と、ターンテーブルの回転と、ハンドの作動との組み合わせ動作によって、移載ステーションと、両ラックの格納位置と、回動ラックの棚板との間で物品の受け渡しが行える。その際に、回動ラックは適宜に回動される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記した従来構成によると、保管量（格納量）を増加するためには、ラックなどの上下高さを高く形成するか、ラックを長く形成しなければならない。ここで、ラックなどの上下高さを高く形成することは、建屋の規模などから制約を受けることになり、そしてクリーンルームのようなクリーン空間をできるだけ狭くしたい場所には容易に採用できない。また、ラックを長く形成することは、その分、占有スペースが拡大されることになり、したがってクリーンルームのような場所には容易に採用できない。
【０００５】
そこで本発明の請求項１記載の発明は、全体をコンパクトに構成し得るものでありながら保管量を増加し得、しかも外部に対する荷の出し入れは保管量をさほど減少させることなく容易に行える荷保管設備を提供することを目的としたものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
前述した目的を達成するために、本発明の請求項１記載の荷保管設備は、縦方向の回転棚軸心の周りで回転自在な回転棚には、前記回転棚軸心を中心とした回転円経路上に複数の荷受け部が設けられ、前記回転棚の側外方には、その移載作用部が前記回転棚軸心に平行状の移載軸心の周りで回転自在な移載手段が設けられるとともに、移載作用部は前記回転円経路に接線状に重合される移載円経路上で作用自在に構成され、この移載円経路上には荷支持部を有する固定棚が設けられ、前記荷受け部と荷支持部とはそれぞれ上下複数段に設けられるとともに、前記回転棚と固定棚との少なくとも一方の下部には、下から複数段分の前記荷受け部や荷支持部を削除した空間部分が形成され、この空間部分を利用して、前記移載手段との間で荷を受け渡し自在な入出庫手段が設けられ、この入出庫手段は、囲壁体に形成された貫通部を通して囲壁体の内外に亘る箱枠状の本体と、この本体上の外端部分に設けられた一時受け体と、この一時受け体と本体の内端部分との間で移動自在な昇降体とから構成されていることを特徴としたものである。
【０００７】
したがって請求項１の発明によると、回転棚を回転棚軸心の周りに回転させて、回転円経路と移載円経路との重合部分に目的とする荷受け部を位置させることで、この荷受け部に対して、移載手段により荷の出し入れを行える。また、移載手段の移載作用部を移載軸心の周りに回転させることで、固定棚の荷支持部に対して、移載手段により荷の出し入れを行える。そして、回転棚の荷受け部群や固定棚の荷支持部群によって、上下高さを最大限に利用して保管量を増加し得るものでありながら、荷受け部や荷支持部を削除して形成した空間部分を利用して配設した入出庫手段によって、荷の出し入れを行える。その際に入出庫手段を嵩低くしてコンパクトに構成し得る。
さらに荷の入庫は、まず荷を入出庫手段の外端部分における一時受け体上に載置させ、そして、昇降体の上昇動により一時受け体上の荷を持ち上げる。次いで昇降体を内端部分に向け移動させて、荷を、貫通部を通して囲壁体内に搬送したのち内端部分で停止させることにより、荷を空間部分に位置し得、以て移載手段の作動によって入庫し得る。また荷の出庫は、まず移載手段の作動によって、入出庫手段における本体の内端部分に荷を載置させ、そして昇降体を上昇させて荷の持ち上げを行う。次いで昇降体を外端部分に向け移動させて、荷を、貫通部を通して囲壁体外に搬送したのち外端部分で停止させる。そして昇降体を下降させて、荷を一時受け体側に載置させることにより出庫し得る。
【０００８】
また本発明の請求項２記載の荷保管設備は、上記した請求項１記載の構成において、入出庫手段の入出庫方向が、回転棚軸心と移載軸心とを結んだ線に対して平行状に設定されていることを特徴としたものである。
【０００９】
したがって請求項２の発明によると、入出庫手段を囲壁体内に、無駄なスペースが生じることなく配設し得る。
そして本発明の請求項３記載の荷保管設備は、上記した請求項１または２記載の構成において、回転棚と移載手段と固定棚とは囲壁体内に配設され、入出庫手段は、囲壁体外のクリーンルーム内に作用自在に構成されていることを特徴としたものである。
【００１０】
したがって請求項３の発明によると、入出庫手段を作動させることで、クリーンルーム内と移載手段による荷受け渡し位置との間でカセットを入出庫し得る。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の第１の実施の形態を、図１〜図１４に基づいて説明する。
図１〜図３において、荷保管設備１０は、矩形箱状の囲壁体１１と、この囲壁体１１内に配設された回転棚２１、移載手段５１、固定棚１０１、ならびに囲壁体１１を貫通して配設された入出庫手段１１１ａ，１１１ｂなどにより構成されている。
【００１３】
前記囲壁体１１は、枠組体１２と、この枠組体１２の外側で下半分に取り付けられた下部外板１３と、枠組体１２の外側で上半分に取り付けられた上部外板１４と、枠組体１２の下側に取り付けられた床板１５と、枠組体１２の上側に取り付けられた天井板１６などにより密閉状に構成されている。その際に、下部外板１３や上部外板１４の少なくとも一部、主として上部外板１４には樹脂製などの透明板が使用され、以て、囲壁体１１内の荷保管室（荷保管空間）１７の状況を、透明板を透して外から把握し得るように構成されている。なお囲壁体１１は、前記床板１５の下面側に設けられた脚体１９を介して床２上に配設されている。
【００１４】
図１、図３〜図５において、前記荷保管室１７内の一側寄りの位置には前記回転棚２１が配設されている。この回転棚２１は、縦方向の回転棚軸心２２の周りで回転自在に設けられるとともに、前記回転棚軸心２２を中心とした回転円経路２３上に複数の荷受け部３２が設けられている。
【００１５】
すなわち底板１５上には、前記回転棚軸心２２を中心とした円状のＬＭガイド手段２５を介して円板状の回転体２６が設けられている。この回転体２６の中央部分からは、前記回転棚軸心２２上に位置される状態で６角筒状の縦軸体２７が立設され、この縦軸体２７の上端には閉塞板２７Ａが設けられている。そして閉塞板２７Ａの中央部分から立設された縦ピン２８が、前記囲壁体１１の上部に設けられた支持プレート２０に対して、軸受装置２９を介して遊転自在に支持されている。
【００１６】
前記縦軸体２７の上下方向の複数箇所には、６角状の環状板３０が外嵌して配設され、これら環状板３０は複数の取付け部材３１などを介して縦軸体２７に連結されている。各環状板３０の周方向の６箇所（複数箇所）に前記荷受け部３２が配設され、これら荷受け部３２は板枠状であって、その基端が連結具３３を介して環状板３０側に連結されることで、横外方へ突出される状態で環状板３０側に片持ち状で支持されている。
【００１７】
そして荷受け部３２には、上下ならびに遊端（外側）に開放される凹所３４が形成されるとともに、この凹所３４の周辺の３箇所（単数個所または複数箇所）からは位置決めピン３５が立設されている。また、荷受け部３２の基端部分には在荷検出手段の一部を構成する反射ミラー３６が、遊端部分にはレベル検出手段の一部を構成する反射テープ３７がそれぞれ設けられている。
【００１８】
前記回転棚２１を回転させる回転棚駆動手段４１が設けられている。すなわち、前記底板１５の隅部には回転駆動部４２が設けられ、この回転駆動部４２からの下向きの駆動軸４３には駆動ギヤ４４が設けられている。そして前記回転体２６の周縁にはリングギヤ４５が設けられ、このリングギヤ４５に前記駆動ギヤ４４が常時噛合されている。ここで回転駆動部４２は、モータや減速機などからなり、前記駆動軸４３を正逆に駆動すべく構成されている。
【００１９】
したがって、回転棚駆動手段４１の回転駆動部４２により駆動軸４３を正逆に駆動させることで、駆動ギヤ４４やリングギヤ４５などを介して回転棚２１を、回転棚軸心２２の周りで正逆に回転し得る。その際に回転棚２１は、最大で１８０°の回転が行われるように構成されている。以上の２２〜４５などにより回転棚２１の一例が構成される。
【００２０】
図１、図３、図６〜図８において、前記荷保管室１７内の他側寄りの位置には前記移載手段５１が配設されている。この移載手段５１の移載作用部８１は、前記回転棚軸心２２に平行状の移載軸心５２の周りで回転自在に設けられるとともに、前記回転円経路２３に接線状に重合される移載円経路５３上で作用自在に構成されている。
【００２１】
すなわち、底板１５上にはベース枠５４が設けられ、このベース枠５４からポスト体５５が立設されるとともに、このポスト体５５の前面側にはガイドレール５６が設けられている。ここでポスト体５５は、左右一対の側部材５５Ａと、これら側部材５５Ａの内側面間に設けられた後部材５５Ｂと、この後部材５５Ｂの前面側に設けられた前部材５５Ｃとからなり、これら前部材５５Ｃの前面側に、前記ガイドレール５６がそれぞれ設けられている。そしてポスト体５５の上端には上枠５７が設けられ、また前部材５５Ｃにはそれぞれカバー体５８が設けられている。
【００２２】
前記ガイドレール５６に被ガイド体５９を介して昇降自在（ＬＭガイド）に案内される昇降部６０が設けられるとともに、この昇降部６０に連動された昇降駆動手段６１が設けられている。すなわち昇降部６０は、前記被ガイド体５９側に連結された縦方向部材６０Ａと、この縦方向部材６０Ａの下端から前方へと連設された横方向部材６０Ｂとにより、側面視でＬ字状に形成されている。
【００２３】
前記昇降駆動手段６１は、前記ベース枠５４内に配設された駆動輪体６２と、前記上枠５７の部分に配設された従動輪体６３と、両輪体６２，６３間に巻回される回動体（タイミングベルトなど）６４と、前記駆動輪体６２の近くに配設された案内輪体６５と、前記駆動輪体６２に連動された回転駆動部６６などにより構成されている。ここで各輪体６２，６３，６５は左右一対であり、そして回動体６４も左右一対に配設されている。
【００２４】
その際に各回動体６４は、駆動輪体６２に巻回される下位回動部６４Ａと、従動輪体６３に巻回される上位回動部６４Ｂとからなる。そして、ポスト体５５の前面側に位置されるそれぞれの遊端は前記被ガイド体５９側に連結され、また後面側に位置されるそれぞれの遊端間は張力調整具６７を介して連結されている。前記回転駆動部６６は、正逆駆動可能なモータや減速機などから構成され、その駆動軸６８に一対の駆動輪体６２が取り付けられている。
【００２５】
前記昇降部６０の横方向部材６０Ｂ上には、前記移載軸心５２の周りで回転自在な回転体７０が設けられ、その際に回転体７０の中央部分から垂設された縦軸７１が横方向部材６０Ｂ側の軸受７２に回転自在に支持されている。そして前記縦軸７１に連動された回転駆動手段７３が設けられている。
【００２６】
すなわち回転駆動手段７３は、前記縦方向部材６０Ａから横方向部材６０Ｂに亘って設けられた回転駆動部７４と、その下向きの駆動軸７５に取り付けられた駆動輪体７６と、前記縦軸７１に取り付けられた従動輪体７７と、両輪体７６，７７間に巻回された無端回動体（タイミングベルトなど）７８と、前記横方向部材６０Ｂ内に配設された複数の案内輪体７９などにより構成されている。ここで前記回転駆動部７４は、正逆駆動可能なモータや減速機などから構成されている。
【００２７】
前記移載作用部８１はフォーク形式であって、前記回転体７０に対して前後方向（横方向）に出退自在に配設され、以て前記移載軸心５２の周りで回転自在に設けられる。すなわち移載作用部８１は、前後方向の支持板８１Ａと、この支持板８１Ａの中間部分から立設されたずれ規制板８１Ｂなどにより構成されている。そして、前記ずれ規制板８１Ｂよりも前方において、支持板８１Ａ上の複数箇所からは位置決めピン８２が立設されている。
【００２８】
前記回転体７０上には、左右一対のレール材８３が前後方向に配設されるとともに、これらレール材８３間でかつ左右方向の中央部分には前後方向のガイド体８４が設けられている。そして、前記支持板８１Ａの後端で下面側には、前記ガイド体８４に外嵌されてＬＭガイドを構成する被ガイド体８５が設けられている。
【００２９】
前記移載作用部８１を前後方向に出退させる出退駆動手段９０が設けられている。すなわち出退駆動手段９０は、ガイド体８４に沿って配設された螺子軸９１と、前記移載作用部８１の下面側に設けられかつ前記螺子軸９１に螺合されるナット体９２と、前記回転体７０上に搭載されかつ前記螺子軸９１にベルト連動機構９３を介して連動された回転駆動部９４などにより構成されている。ここで回転駆動部９４は、正逆駆動可能なモータや減速機などから構成されている。
【００３０】
なお前記移載作用部８１の支持板８１Ａは、前記荷受け部３２の凹所３４に対して昇降自在に構成されている。そして前記ポスト体５５の部分には、被ガイド体５９側の昇降を許しかつ両カバー体５８間の隙間を閉塞可能な防塵ベルト８７が設けられ、また回転体７０の部分には、移載作用部８１の前後動を許しかつガイド体８４の上方を閉塞可能な防塵ベルト８８が設けられている。
【００３１】
以上の５２〜９４などにより移載手段５１の一例が構成される。そして移載手段５１の移載作用部８１は、前記回転棚軸心２２に平行状の移載軸心５２の周りで回転自在に設けられるとともに、前記回転円経路２３に接線状に重合される移載円経路５３上で作用自在に構成されることになる。
【００３２】
図１、図３、図９、図１０において、前記固定棚１０１は、前記荷保管室１７内の他側寄りの位置でかつ前記移載円経路５３上の４箇所（単数箇所または複数箇所）に設けられている。すなわち囲壁体１１内において、枠組体１２側の上下方向の複数箇所には横方向のフラットバー１０２が連結され、そして各フラットバー１０２には荷支持部１０３が設けられている。これら荷支持部１０３は板枠状であって、その基端が連結具１０４を介してフラットバー１０２側に連結され、以て横前方へ突出される状態でフラットバー１０２側に片持ち状で支持されている。
【００３３】
そして荷支持部１０３には、上下ならびに遊端（外側）に開放される凹所１０５が形成されるとともに、この凹所１０５の周辺の３箇所（単数個所または複数箇所）からは位置決めピン１０６が立設されている。なお、前記凹所１０５に対して前記移載作用部８１の支持板８１Ａが昇降自在に構成されている。以上の１０２〜１０６などにより固定棚１０１の一例が構成される。
【００３４】
図１〜図３、図１０〜図１４において、前記移載円経路５３上の４箇所に設けられた固定棚１０１のうちで、前記回転棚２１とは離れた側の２箇所（単数箇所または複数箇所）の固定棚１０１の下部には、下から３段分（下から複数段分）の荷支持部１０３を削除して空間部分１０７が形成されている。そして、これら空間部分１０７を利用して、前記移載手段５１との間で荷を受け渡し自在な入出庫手段が設けられている。その際に入出庫手段の入出庫方向は、回転棚軸心２２と移載軸心５２とを結んだ線１０９に対して平行状に設定されている。
【００３５】
すなわち、囲壁体１１における他側の下部外板１３には、両空間部分１０７に対向されてそれぞれ入庫用貫通部１１０ａと出庫用貫通部１１０ｂが形成され、これら貫通部１１０ａ，１１０ｂを通して囲壁体１１の内外に亘る状態で、入庫手段（入出庫手段）１１１ａと出庫手段（入出庫手段）１１１ｂとが設けられている。
【００３６】
ここで入庫手段１１１ａと出庫手段１１１ｂは同様な構成であって、囲壁体１１の内外に亘る箱枠状の本体１１２を有し、この本体１１２上の外端部分には一時受け体１１３が設けられている。この一時受け体１１３は一枚板状または分割板状であって、凹所や貫通などによって昇降作用部１１４が形成されるとともに、この昇降作用部１１４の周辺の３箇所（単数個所または複数箇所）からは位置決めピン１１５が立設されている。
【００３７】
前記本体１１２内には、ガイド体１１６に支持案内されて内外方向（前後方向）に移動自在な移動部材１１７と、この移動部材１１７を内外方向に移動させる移動装置１１８とが設けられている。
【００３８】
ここで移動装置１１８は、移動部材１１７側に設けられた駆動部（モータなど）１１９と、この駆動部１１９からの左右方向の出力軸１２０に取り付けられたタイミングプーリ１２１と、このタイミングプーリ１２１の上方で内外方向の２箇所において移動部材１１７側に遊転自在に設けられたガイドプーリ１２２と、これらタイミングプーリ１２１からガイドプーリ１２２に亘って掛けられたタイミングベルト１２３などによって構成されている。なおタイミングベルト１２３の両端は、前記本体１１２側の内外端部に固定１２４されている。
【００３９】
前記移動部材１１７には昇降装置１２５が設けられている。この昇降装置１２５は、移動部材１１７側に軸受１２６を介して回転自在に設けられた縦方向の螺子軸体１２７と、移動部材１１７側に設けられた正逆駆動自在な駆動部（モータなど）１２８と、この駆動部１２８からの下向きの出力軸１２９と前記螺子軸体１２７との間に設けられた無端連動機構１３０と、前記螺子軸体１２７に螺合されたナット体１３１と、このナット体１３１を昇降案内すべく移動部材１１７側との間に設けられたガイド機構１３２などにより構成されている。そしてナット体１３１側に昇降部材１３３が連結されている。
【００４０】
これら昇降部材１３３には旋回装置１３５が設けられている。この旋回装置１３５は、昇降部材１３３側に連結されたブラケット１３６と、このブラケット１３６側に軸受１３７を介して回転自在に設けられた縦方向の軸体１３８と、ブラケット１３６側に設けられた正逆駆動自在な駆動部（モータなど）１３９と、この駆動部１３９からの上向きの出力軸１４０と前記軸体１３８との間に設けられた無端連動機構１４１などにより構成されている。そして軸体１３８の上端に昇降体１４２が連結されている。ここで昇降体１４２は板状であり、前記一時受け体１１３の昇降作用部１１４に対して嵌合自在に構成されている。
【００４１】
なお、本体１１２上の内端部分で、所定の３箇所（単数個所または複数箇所）からは位置決めピン１４３が立設されている。前記本体１１２などは、貫通部１１０ａ，１１０ｂに対して直角状で通り、以て入庫手段１１１ａと出庫手段１１１ｂの入出庫方向１４５は、回転棚軸心２２と移載軸心５２とを結んだ線１０９に対して平行状に設定されている。以上の１１２〜１４５などにより入庫手段１１１ａや出庫手段１１１ｂの一例が構成される。
【００４２】
前記出庫手段１１１ｂにおける外端部の側方にはストレージ手段１５１が一体状に設けられている。すなわち、前記本体１１２に一体状とした箱枠状の本体１５２が、この本体１１２とによって平面視でＬ字状として配設されている。前記本体１５２上の遊端部分（出庫手段１１１ｂとは離れた側）には一時受け体１５３が設けられている。この一時受け体１５３は一枚板状であって、凹所によって昇降作用部１５４が形成されるとともに、この昇降作用部１５４の周辺の３箇所（単数個所または複数箇所）からは位置決めピン１５５が立設されている。
【００４３】
前記本体１５２内には、ガイド体１５６に支持案内されて左右方向に移動自在な移動部材１５７と、この移動部材１５７を内外方向に移動させる移動装置１５８とが設けられている。ここで移動装置１５８は前記移動装置１１８と同様であって、駆動部１５９、出力軸１６０、タイミングプーリ１６１、ガイドプーリ１６２、タイミングベルト１６３などによって構成されている。そしてタイミングベルト１６３の両端は、前記本体１５２側の端部に固定１６４されている。
【００４４】
前記移動部材１５７には昇降装置１６５が設けられている。この昇降装置１６５は前記昇降装置１２５と同様であって、軸受１６６、螺子軸体１６７、駆動部１６８、出力軸１６９、無端連動機構１７０、ナット体１７１、ガイド機構１７２などにより構成されている。そしてナット体１７１側に、昇降部材１７３を介して昇降体１７４が連結されている。ここで昇降体１７４は板状であり、前記一時受け体１１３，１５３の昇降作用部１１４，１５４に対して嵌合自在に構成されている。以上の１５２〜１７４などによりストレージ手段１５１の一例が構成される。
【００４５】
上述したように、囲壁体１１内には回転棚２１と移載手段５１と固定棚１０１とが設けられ、これら回転棚２１と移載手段５１と固定棚１０１とは、回転円経路２３と移載円経路５３との両方とも単数として配設されている。そして固定棚１０１は、前記移載円経路５３上の４箇所（複数箇所）に設けられている。
【００４６】
また、回転棚２１には荷受け部３２群が上下複数段に設けられ、固定棚１０１には荷支持部１０３が上下複数段に設けられている。さらに移載手段５１は、回転棚２１や固定棚１０１の上下複数段に対応して作用可能に構成されている。なおカセット（荷の一例）７の下面側には、前記位置決めピン３５，８２，１０６，１１５，１４３，１５５群の嵌合を許す嵌合部８が、凹入長孔状に形成されている。ここでカセット７は、被処理物（図示せず。）を収納可能に構成されている。
【００４７】
前記荷保管設備１０は、その入庫手段１１１ａと出庫手段１１１ｂとの外端部分が、囲壁体１１における下部外板（外板）１３の外方部分に位置され、以て囲壁体１１外のクリーンルーム５内に作用自在に構成されている。すなわち、外板１３，１４の前板部分などに連設されて隔壁体１８０が設けられている。そして隔壁体１８０などにより囲まれた箇所がクリーンルーム５に形成されている。これにより荷保管設備１０は、その外板１３，１４、が隔壁体１５０の一部に兼用されるとともに、下部外板１３に形成された荷入出部１４８がクリーンルーム５に臨んで設けられることになる。
【００４８】
前記クリーンルーム５は、たとえば天井１側にフィルター３が設けられ、そして床２側に吸引用のグレーチング床（多孔板）４が設けられて構成されており、以てフィルター３を通してクリーンエアＡが噴出され、このクリーンエアＡがグレーチング床４を通して吸引されるダウンフロー方式とされている。これによりクリーンルーム５内はクリーン雰囲気とされている。
【００４９】
前記クリーンルーム５内には、荷保管設備１０との間でのカセット７の受け渡しを行う荷搬送手段１８１が設けられ、以てカセット７の受け渡しが、クリーンルーム５内で行われるように構成されている。前記荷搬送手段１８１は、天井側のレール装置１８２と、このレール装置１８２に支持案内され自動走行自在な吊り走行形式の移動体１８３と、この移動体１８３の下部側に設けられた荷保持部１８４などにより構成されている。そして荷保持部１８４には、荷吊り装置１８５が昇降動自在に設けられている。ここで、荷搬送手段１８１による搬送経路１８６は、荷入出部１４８の上方を通るように形成されている。
【００５０】
図１〜図３において、前記荷保管設備１０における上部外板１４の外側を通る上部搬送手段１９１が設けられている。すなわち上部搬送手段１９１は、天井側のレール装置１９２と、このレール装置１９２に支持案内され自動走行自在な移動体１９３と、この移動体１９３の上部側に設けられた荷支持部１９４などにより構成されている。ここで荷支持部１９４は、たとえばフォーク形式などからなる。
【００５１】
前記囲壁体１１の上部外板１４には、上部搬送手段１９１との間でカセット７の受け渡しを行うための荷通過部１９５が形成されている。すなわち、回転棚２１に近い側において、上部外板１４には荷通過部１９５が開口により形成されている。そして、荷通過部１９５を通して移動体１９３の荷支持部１９４がフォーク動されることで、目的とする荷受け部３２との間でカセット７を受け渡し自在に構成されている。
【００５２】
なお、荷通過部１９５の部分に、前記移動体１９３の荷支持部１９４との間でカセット７を受け渡し自在な、たとえばフォーク形式などからなる受け渡し手段が設けられた形式などであってもよい。さらには上部搬送手段１９１などが省略された形式などであってもよい。
【００５３】
以下に、上記した第１の実施の形態における作用を説明する。
クリーンルーム５では、天井１側のフィルター３を通して噴出させたクリーンエアＡをグレーチング床４の下側に排出させることで、ダウンフロー方式によりクリーン雰囲気を保っている。このようなクリーンルーム５を利用して、カセット７を荷保管装置１０に入庫して保管するに、まず入庫しようとするカセット７を入庫手段１１１ａの始端部分（外端部分）に載置させる。
【００５４】
すなわち、荷搬送手段１３１の作動などによって、図１１のＥに示すように、入庫手段１１１ａにおける一時受け体１１３上に、入庫しようとするカセット７を載置させ、位置決めピン１１５に嵌合部８を嵌合させる。この前後に、下降しかつ正姿勢の昇降体１４２を昇降作用部１１４の下方に位置させている。
【００５５】
この状態で、まず昇降装置１２５の駆動部１２８を作動させ、無端連動機構１３０などを介して螺子軸体１２７を回転させる。すると、螺子軸体１２７の回転に伴ってナット体１３１が上昇し、昇降部材１３３を介して旋回装置１３５を上昇させ、以て旋回装置１３５側の軸体１３８に連結している昇降体１４２を上昇させる。この上昇する昇降体１４２は昇降作用部１１４を通り、図１２の仮想線に示すように、一時受け体１１３上のカセット７を持ち上げる。
【００５６】
次いで移動装置１１８の駆動部１１９を作動させ、タイミングベルト１２３が掛けられているタイミングプーリ１２１を駆動回転させることで、移動部材１１７をガイド体１１６に支持案内させながら入庫手段１１１ａの終端部分（内端部分）に向け移動させる。このとき、昇降装置１２５や旋回装置１３５を介して昇降体１４２も移動し、以てカセット７を、入庫用貫通部１１０ａを通して囲壁体１１内に搬送したのち、図１１のＦや図１２の実線に示すように、終端部分で停止し得る。これによりカセット７を、図９に示すように、固定棚１０１の下部に形成した空間部分１０７などに位置し得る。
【００５７】
そして、旋回装置１３５の駆動部１３９を作動させ、無端連動機構１４１などを介して軸体１３８を回転させ、以て図１１のＧや図１２の実線に示すように、昇降体１４２を介してカセット７の向きを傾斜方向に変更させる。すなわちカセット７を、固定棚１０１の荷支持部１０３により支持し得る向きに変更させる。
【００５８】
次いで、昇降装置１２５の駆動部１２８を逆作動させ、無端連動機構１３０などを介して螺子軸体１２７を逆回転させる。すると、螺子軸体１２７の逆回転に伴ってナット体１３１が下降し、昇降部材１３３を介して旋回装置１３５を下降させることになって、旋回装置１３５側の軸体１３８に連結している昇降体１４２を下降させる。この下降する昇降体１４２は位置決めピン１４３間を通り、以てカセット７を、その嵌合部８を位置決めピン１４３に嵌合させた状態で本体１１２側に載置させる。
【００５９】
そして旋回装置１３５の駆動部１３９を逆作動させ、無端連動機構１４１などを介して軸体１３８を逆回転させ、以て昇降体１４２の向きを正姿勢に変更させる。次いで移動装置１１８の駆動部１１９を逆作動させ、タイミングベルト１２３が掛けられているタイミングプーリ１２１を逆に駆動回転させることで、移動部材１１７を入庫手段１１１ａの始端部分（外端部分）に向け移動させる。このとき、昇降装置１２５や旋回装置１３５を介して昇降体１４２も移動し、以て下降しかつ正姿勢の昇降体１４２を昇降作用部１１４の下方に位置させ、最初の状態に戻し得る。
【００６０】
次いで、入庫手段１１１ａの内端部分に位置させたカセット７を、移載手段５１により受け取る。その際に図６の実線に示すように、空の移載作用部８１を回転体７０内に退入動させた状態で、この移載作用部８１の回転と昇降とを、同時状にまたはいずれかを先行して相前後して行う。
【００６１】
すなわち移載作用部８１を回転させるに、回転駆動手段７３における回転駆動部７４を正逆に駆動させ、駆動軸７５を介して駆動輪体７６を正逆に回転させる。これにより、無端回動体７８や従動輪体７７を介して縦軸７１を正逆に回転させ得、以て回転体７０を介して移載作用部８１を、移載軸心５２の周りに正逆に回転させ得る。
【００６２】
また移載作用部８１を昇降させるに、昇降駆動手段６１における回転駆動部６６を正逆に駆動させ、駆動軸６８を介して駆動輪体６２を正逆に回転させる。これにより、回動体６４を正逆に回動させ得、以て被ガイド体５９や昇降部６０を介して移載作用部８１を昇降し得る。このようにして移載作用部８１を回転ならびに昇降させることで、この移載作用部８１を、入庫手段１１１ａの内端部分に対して、少し下方のレベルで対抗し得る。
【００６３】
次いで、移載作用部８１を突出動させる。すなわち、出退駆動手段９０における回転駆動部９４を駆動させ、ベルト連動機構９３を介して螺子軸９１を回転させる。これにより、ナット体９２が螺合移動することになって移載作用部８１を突出動させ得、その際に移載作用部８１は、ガイド体８４により被ガイド体８５を案内することで、図６の仮想線で示すように直線状に突出動し得る。この突出動によって移載作用部８１を、入庫手段１１１ａの内端部分に載置させたカセット７の下方に位置し得る。
【００６４】
この状態で、前述したような昇降駆動手段６１の動作により、昇降部６０などを介して移載作用部８１を少し上昇させる。すると、移載作用部８１が入庫手段１１１ａにおける本体１１２の内端部分を上昇し、以て入庫手段１１１ａの内端部分に位置させたカセット７を持ち上げ得、その際に位置決めピン８２を嵌合部８に嵌合させる。そして出退駆動手段９０を前述とは逆作動させて、移載作用部８１を退入動させることにより、カセット７を回転体７０の上方に位置し得る。
【００６５】
次いで、前述と同様に移載作用部８１を回転させるとともに、必要に応じて昇降させることで、カセット７を目的とする固定棚１０１の目的とする荷支持部１０３に対抗し得る。このとき移載作用部８１は、荷支持部１０３よりも少し上方に位置している。
【００６６】
そして、前述と同様にして移載作用部８１を突出動させることで、カセット７を荷支持部１０３の上方に位置し得、次いで移載作用部８１を少し下降動させることで、カセット７を荷支持部１０３上に載置し得る。その際に嵌合部８を位置決めピン１０６に嵌合させ、その後に移載作用部８１を退入動させる。これにより、入庫手段１１１ａの内端部分に位置させていたカセツト７を固定棚１０１に対して入庫し得る。すなわち、入庫手段１１１ａに供給したカセット７を、移載円経路５３上に設けられた固定棚１０１の荷支持部１０３に入庫させる入庫作業を終了する。
【００６７】
また、入庫手段１１１ａの内端部分に位置させたカセット７は、回転棚２１にも入庫し得る。すなわち、前述したように入庫手段１１１ａの内端部分に位置させたカセット７を、移載手段５１により受け取る作業中に、回転棚２１を先行して回転し準備させる。
【００６８】
この回転棚２１の回転は、回転棚駆動手段４１における回転駆動部４２を正逆に駆動させ、駆動軸４３を介して駆動ギヤ４４を正逆に回転させる。これにより、リングギヤ４５を正逆に回動させ得、以て縦軸体２７などを介して荷受け部３２群を回転棚軸心２２の周りに回転し得る。その際に、荷受け部３２群は回転円経路２３上で回転移動し、そして、目的とする荷受け部３２が移載円経路５３に接線状に重合した位置に達したときに、その回転を停止させる。
【００６９】
なお回転棚２１の回転は、前述した重合位置に対して目的とする荷受け部３２の回転距離が短い方に、最大で１８０°に正または逆に行われ、以て迅速にかつ能率的に回転し得る。また、移載手段５１により受け取る作業中に、回転棚２１を先行して回転し準備させることで、全体の稼動能率を向上し得る。なお、目的とする荷受け部３２が最初から重合位置にあるときには、回転棚２１の回転は行われない。
【００７０】
このように、目的とする荷受け部３２を重合位置に停止させたのち、前述と同様に移載手段５１を作用させることで、移載作用部８１で支持していたカセット７を、図１、図５で示すように荷受け部３２上に載置し得る。その際に嵌合部８を位置決めピン３５に嵌合させる。これにより、入庫手段１１１ａの内端部分に位置させていたカセット７を、回転棚２１の目的とする荷受け部３２上に載置し得、以て入庫手段１１１ａに供給したカセット７の回転棚２１に対する入庫作業を終了する。
【００７１】
なお、固定棚１０１に保管しているカセット７も、移載手段５１の作動や回転棚２１の回転により、同様にして回転棚２１に移して保管し得る。その際に、固定棚１０１のカセット７を移載手段５１により受け取る作業中に、回転棚２１を先行して回転し準備させることで、全体の稼動能率を向上し得る。なお、目的とする荷受け部３２が最初から重合位置にあるときには、回転棚２１の回転は行われない。
【００７２】
前記移載手段５１を上述とは逆に動作させることによって、カセット７の出庫作業を行える。すなわち、回転棚２１の目的とする荷受け部３２上に載置してあるカセット７を、出庫手段１１１ｂの始端部分（内端部分）に位置させ得、また目的とする固定棚１０１の目的とする荷支持部１０３に上に載置してあるカセット７を出庫手段１１１ｂの始端部分に位置させ得る。
【００７３】
つまり、まず移載手段５１の作動によって、図１１のＨで示すように、出庫手段１１１ｂにおける本体１１２の始端部分に、その嵌合部８を位置決めピン１４３に嵌合させた状態で載置させる。次いで出庫手段１１１ｂを、前述した入庫手段１１１ａとはほぼ逆に作動させる。すなわち、傾斜方向に向き変更させている昇降体１４２を上昇させてカセット７の持ち上げを行う。
【００７４】
そして図１１のＩで示すように、昇降体１４２の向きを正姿勢に変更させたのち、移動部材１１７をガイド体１１６に支持案内させながら出庫手段１１１ｂの終端部分（外端部分）に向け移動させる。このとき、昇降装置１２５や旋回装置１３５を介して昇降体１４２も移動し、以てカセット７を、出庫用貫通部１１０ｂを通して囲壁体１１外に搬送させたのち、図１１のＪで示すように、出庫手段１１１ｂの終端部分で停止させる。
【００７５】
次いで昇降体１４２を、一時受け体１１３の昇降作用部１１４を通して下降させ、以てカセット７を、その嵌合部８を位置決めピン１１５に嵌合させた状態で一時受け体１１３側に載置させる。このようにカセット７を、出庫手段１１１ｂの終端部分（外端部分）に位置させることで、出庫作業を終了する。
【００７６】
なお、回転棚２１に保管しているカセット７も、移載手段５１の作動や回転棚２１の回転などにより、同様にして固定棚１０１に移して（出庫して）保管し得る。
【００７７】
上述したようにして出庫手段１１１ｂの終端部分に出庫したカセット７は、ストレージ手段１５１によってストレージし得る。すなわち、移動部材１５７を出庫手段１１１ｂ側に移動させて、下降させている昇降体１７４を一時受け体１１３における昇降作用部１１４の下方に位置させる。そして昇降体１７４を上昇させて、図１３の仮想線で示すようにカセット７を持ち上げたのち、移動部材１５７を遊端部分側に移動させ、以て図１３の実線や図１４で示すように、カセット７を一時受け体１５３の上方に位置させる。
【００７８】
次いで昇降体１７４を、一時受け体１５３の昇降作用部１５４を通して下降させ、以てカセット７を、その嵌合部８を位置決めピン１５５に嵌合させた状態で一時受け体１５３側に載置させる。このようにカセット７を、ストレージ手段１５１の遊端部分に位置させることで、図１１のＫで示すようにストレージし得る。
【００７９】
上述したような各動作において、カセット７の嵌合部８が位置決めピン３５，８２，１０６，１１５，１４３，１５５に嵌合することで、回転中の遠心力などによってカセット７が互いに衝突したり、カセツト７が位置ずれしたり脱落することを防止し得る。
【００８０】
上述したように移載手段５１は、移載作用部８１を移載軸心５２の周りに回転させるだけで走行移動などは行わないことから、走行移動などのための占有スペースは不要となり、回転棚２１と固定棚１０１とを含めた全体をコンパクトに構成し得る。
【００８１】
しかも、回転棚２１と固定棚１０１とにより保管量を増加し得るとともに、走行構成のない移載手段５１は移載作用部８１を床近くまで下降し得ることで、それに合わせて、回転棚２１の荷受け部３２による保管レベルと固定棚１０１の荷支持部１０３による保管レベルとを床近くまで下げ得、以て保管量をより増加し得る。したがって、クリーンルームのようなクリーン空間をできるだけ狭くしたい場所に容易にかつ好適に採用し得る。
【００８２】
前述したように、出庫手段１１１ｂの終端部分に位置させることで、クリーンルーム５内の荷入出部１４８に出庫したカセット７、ならびにストレージ手段１５１でストレージしたカセット７は、荷搬送手段１８１により目的とする場所に搬送し得る。すなわち、荷搬送手段１８１の移動体１８３を搬送経路１８６上で移動させ、出庫手段１１１ｂの終端部分やストレージ手段１５１に位置しているカセット７の上方で停止させる。
【００８３】
次いで荷吊り装置１８５を下降動させてカセット７のクランプを行ったのち、荷吊り装置１８５を上昇動させてカセット７の持ち上げを行い、そして持ち上げたカセット７を荷保持部１８４によって保持する。この状態で、移動体１８３を搬送経路１８６上で移動させることで、目的とする場所へと搬送し得る。
【００８４】
また、カセット７を前述したようにして移動体１８３側で支持したのち、搬送経路１８６上で搬送させる。この後にカセット７は、上述したように入庫手段１１１ａにおける一時受け体１１３上に載置させることで、荷保管設備１０に入庫し得る。
【００８５】
なお、クリーンルーム５においては、クリーンエアＡがダウンフロー方式により流れていることで、荷入出部１４８や荷搬送手段１８１などで発生した塵埃を、その流れに乗せて迅速に除去し得る。したがってクリーンルーム５においては、充分なクリーン雰囲気（クリーン度）でカセット７の搬送などを行える。
【００８６】
次に、本発明の第２〜第６の実施の形態を、図１５、図１６に基づいて説明する。
すなわち、図１５の（ａ）は第２の実施の形態を示し、回転棚２１と移載手段５１と固定棚１０１とは、回転円経路２３が２つ（複数）で移載円経路５３が１つ（単数）として配設されている。そして、両回転棚２１の回転棚軸心２２と移載手段５１の移載軸心５２が同じ線１０９上に位置されている。さらに入庫手段１１１ａと出庫手段１１１ｂとは回転棚２１の下部に形成された空間部分に位置されている。
【００８７】
また、図１５の（ｂ）は第３の実施の形態を示し、上述した第２の実施の形態の変形例で、一方の回転棚２１の回転棚軸心２２は、他方の回転棚２１の回転棚軸心２２と移載手段５１の移載軸心５２とを結ぶ線１０９から外れている。
【００８８】
そして、図１５の（ｃ）は第４の実施の形態を示し、回転棚２１と移載手段５１と固定棚１０１とは、回転円経路２３が３つ（複数）で移載円経路５３が１つ（単数）として配設されている。
【００８９】
さらに、図１６の（ａ）は第５の実施の形態を示し、回転棚２１と移載手段５１と固定棚１０１とは、回転円経路２３が１つ（単数）で移載円経路５３が２つ（複数）として配設されている。
【００９０】
また、図１６の（ｂ）は第６の実施の形態を示し、回転棚２１と移載手段５１と固定棚１０１とは、回転円経路２３と移載円経路５３との両方とも２つ（複数）として配設されている。
【００９１】
上記した実施の形態では、移載手段５１として、回転体７０を移載軸心５２の周りに回転自在とした形式が示されているが、これは移載作用部８１も含めて移載手段５１の全体を、たとえばポスト体５５の部分に位置される移載軸心の周りに回転自在とした形式などであってもよい。
【００９２】
上記した実施の形態では、移載手段５１として、その移載作用部８１をカセット７の底面に作用させる形式が示されているが、これはカセット７の側部や上部から側方に突出させた被係止部に下方から係止させる形式などであってもよい。
【００９３】
上記した実施の形態では、移載円経路５３上の複数箇所に固定棚１０１が設けられているが、これは単数箇所に固定棚１０１が設けられた形式であってもよい。
【００９４】
上記した実施の形態では、回転棚２１は正逆に回転自在であり、最大で１８０°の回転が行われるように構成されているが、これは正逆の回転が１８０°以上で行われる形式や、回転が一方向のみに行われる形式などであってもよい。
【００９５】
上記した実施の形態では、固定棚１０１に対する移載手段５１の作業中に、回転棚２１が先行して準備されるように構成されているが、これは固定棚１０１に対する移載手段５１の作業が終了した後に、回転棚２１が準備される形式などであってもよい。
【００９６】
上記した実施の形態では、回転棚２１から最も離れた２個の固定棚１０１に対応して、入庫手段１１１ａと出庫手段１１１ｂとが設けられているが、これは回転棚２１に接近した固定棚１０１と最も離れた２個の固定棚１０１とに対応して、入庫手段１１１ａと出庫手段１１１ｂとが設けられた形式であってもよい。この場合には、両側に振り分けて２組の入庫手段１１１ａと出庫手段１１１ｂとを設けることもできる。
【００９８】
上記した実施の形態では、出庫手段１１１ｂに連続される状態でストレージ手段１５１が配設された形式が示されているが、これは入庫手段１１１ａ側にもストレージ手段が配設された形式、ストレージ手段１５１が省略された形式などであってもよい。
【００９９】
上記した実施の形態では、入庫手段１１１ａと出庫手段１１１ｂとの入出庫方向１４５が、回転棚軸心２２と移載軸心５２とを結んだ線１０９に対して平行状に設定されており、これによると、入庫手段１１１ａや出庫手段１１１ｂを囲壁体１１内に、無駄なスペースが生じることなく配設し得、以て荷保管設備をコンパクトに構成し得る。しかし入庫手段１１１ａと出庫手段１１１ｂとは、その入出庫方向１４５を任意な方向として配設された形式などであってもよい。
【０１００】
上記した実施の形態では、回転棚２１と移載手段５１と固定棚１０１とは囲壁体１１内に配設され、入庫手段１１１ａと出庫手段１１１ｂとは、囲壁体１１外のクリーンルーム５内に作用自在に構成されており、これによると、入庫手段１１１ａや出庫手段１１１ｂを作動させることで、クリーンルーム５内の荷入出部１４８と移載手段５１による荷受け渡し位置との間でカセット７を入出庫でき、したがってクリーンルーム５などに容易に採用できる。しかし、荷保管設備１０に対してクリーンエアＡを供給して、回転棚や固定棚において、充分なクリーン雰囲気で荷の保管を行うようにした形式であってもよい。
【０１０１】
上記した実施の形態では、空間部分１０７が、回転棚２１や固定棚１０１における下から複数段分の荷受け部３２や荷支持部１０３を削除して形成されており、これによると、入庫手段１１１ａや出庫手段１１１ｂを嵩低くしてコンパクトに構成できる。
【０１０２】
上記した実施の形態では、荷保管設備１０の外板１３，１４が隔壁体１８０に兼用されることでクリーンルーム５が形成されており、これによると隔壁体１８０の材料使用量を減少できて安価に構成できるとともに、相互に補強し合う構成にできる。しかし、これは隔壁体１８０のみによってクリーンルーム５が形成された構成であってもよく、この場合に隔壁体１８０には、荷入出部１４８用の開口部が形成される。
【０１０３】
上記した実施の形態では、荷保管設備１０に対してカセット７の受け渡しを行うために、天井側で自動走行形式の荷搬送手段１８１が設けられているが、荷搬送手段としては、床側で自動走行可能な台車形式や、床側で手押し走行可能な台車形式などであってもよい。さらに、荷搬送手段を省略して、クリーンルーム５内において人手操作によりカセット７の受け渡しを行ってもよい。
【０１０４】
上記した実施の形態では、荷としてカセット７が示されているが、これは他の物品でもよく、またパレットを取り扱う形式などであってもよい。
【０１０５】
【発明の効果】
上記した本発明の請求項１によると、回転棚を回転棚軸心の周りに回転させて、回転円経路と移載円経路との重合部分に目的とする荷受け部を位置させることで、この荷受け部に対して、移載手段により荷の出し入れを行うことができる。また、移載手段の移載作用部を移載手段軸心の周りに回転させることで、固定棚に対して、移載手段により荷の出し入れを行うことができる。
【０１０６】
このように移載手段は、移載作用部を回転させるだけで走行移動などは行わないことから、走行移動などのための占有スペースを不要にできて、回転棚と固定棚とを含めた全体をコンパクトに構成できる。しかも、回転棚と固定棚とにより保管量を増加できるとともに、走行構成のない移載手段は移載作用部を床近くまで下降できることで、それに合わせて回転棚と固定棚の保管レベルを下げることができて、保管量をより増加できることになる。したがって、クリーンルームのようなクリーン空間をできるだけ狭くしたい場所に容易にかつ好適に採用できる。
【０１０７】
しかも、回転棚の荷受け部群や固定棚の荷支持部群によって、上下高さを最大限に利用して保管量を増加し得るものでありながら、荷受け部や荷支持部を削除して形成した空間部分を利用して配設した入出庫手段によって、外部に対する荷の出し入れは、保管量をさほど減少させることなく常に円滑に行うことができる。その際に入出庫手段を嵩低くしてコンパクトに構成できる。
さらに荷の入庫は、まず荷を入出庫手段の外端部分における一時受け体上に載置させ、そして昇降体の上昇動により一時受け体上の荷を持ち上げ、次いで昇降体を内端部分に向け移動させて、荷を、貫通部を通して囲壁体内に搬送したのち内端部分で停止させることにより、荷を空間部分に位置でき、以て移載手段の作動によって入庫できる。また荷の出庫は、まず移載手段の作動によって、入出庫手段における本体の内端部分に荷を載置させ、そして昇降体を上昇させて荷の持ち上げを行い、次いで昇降体を外端部分に向け移動させて、荷を、貫通部を通して囲壁体外に搬送したのち外端部分で停止させ、そして昇降体を下降させて、荷を一時受け体側に載置させることにより、行うことができる。
【０１０８】
また上記した本発明の請求項２によると、入出庫手段を囲壁体内に、無駄なスペースが生じることなく配設でき、以て荷保管設備をコンパクトに構成できる。そして上記した本発明の請求項３によると、入出庫手段を作動させることで、クリーンルーム内と移載手段による荷受け渡し位置との間で荷を入出庫でき、したがってクリーンルームなどに容易に採用できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態を示し、荷保管設備の横断平面図である。
【図２】同荷保管設備の外観斜視図である。
【図３】同荷保管設備の縦断側面図である。
【図４】同荷保管設備における回転棚の下部の一部切り欠き側面図である。
【図５】同荷保管設備における回転棚の上部の一部切り欠き側面図である。
【図６】同荷保管設備における移載手段の下部の一部切り欠き側面図である。
【図７】同荷保管設備における移載手段の上部の一部切り欠き側面図である。
【図８】同荷保管設備における移載手段の一部切り欠き平面図である。
【図９】同荷保管設備における固定棚の側面図である。
【図１０】同荷保管設備における固定棚の平面図である。
【図１１】同荷保管設備における入出庫手段部分の概略平面図である。
【図１２】同荷保管設備における入庫手段部分の一部切り欠き側面図である。
【図１３】同荷保管設備における出庫手段からストレージ手段部分の一部切り欠き正面図である。
【図１４】同荷保管設備におけるストレージ手段部分の一部切り欠き側面図である。
【図１５】本発明の第２〜第４の実施の形態を示し、（ａ）は第２の実施の形態を示す概略平面図、（ｂ）は第３の実施の形態を示す概略平面図、（ｃ）は第４の実施の形態を示す概略平面図である。
【図１６】本発明の第５、第６の実施の形態を示し、（ａ）は第５の実施の形態を示す概略平面図、（ｂ）は第６の実施の形態を示す概略平面図である。
【符号の説明】
３ フィルター
４ グレーチング床
５ クリーンルーム
７ カセット（荷）
８ 嵌合部
１０ 荷保管設備
１１ 囲壁体
１７ 荷保管室（荷保管空間）
２１ 回転棚
２２ 回転棚軸心
２３ 回転円経路
２６ 回転体
３２ 荷受け部
３５ 位置決めピン
４１ 回転棚駆動手段
５１ 移載手段
５２ 移載軸心
５３ 移載円経路
５５ ポスト体
６０ 昇降部
６１ 昇降駆動手段
７０ 回転体
７３ 回転駆動手段
８１ 移載作用部
８２ 位置決めピン
９０ 出退駆動手段
１０１ 固定棚
１０３ 荷支持部
１０６ 位置決めピン
１０７ 空間部分
１０９ 線
１１０ａ 入庫用貫通部
１１０ｂ 出庫用貫通部
１１１ａ 入庫手段（入出庫手段）
１１１ｂ 出庫手段（入出庫手段）
１１３ 一時受け体
１１５ 位置決めピン
１１７ 移動部材
１１８ 移動装置
１２５ 昇降装置
１３３ 昇降部材
１３５ 旋回装置
１４２ 昇降体
１４３ 位置決めピン
１４５ 入出庫方向
１４８ 荷入出部
１５１ ストレージ手段
１５３ 一時受け体
１５５ 位置決めピン
１５７ 移動部材
１５８ 移動装置
１６５ 昇降装置
１７４ 昇降体
１８０ 隔壁体
１８１ 荷搬送手段
１９１ 上部搬送手段
Ａ クリーンエア
【発明の属する技術分野】
本発明は、荷の保管を行うのに採用される荷保管設備に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、この種のものとしては、たとえば特開平１０−２７９０２３号公報に見られる自動倉庫が提供されている。すなわち、この従来構成は、横方向に多数の格納位置を有する一対のラックが、間隔を置いて平行に配設されている。そして、間隔を走行経路として、一対のラック間に移載装置が設けられるとともに、走行経路の端部外方には、それぞれ回動ラックが設けられている。前記移載装置は、一方のラックに設置された昇降レールに沿って走行する走行台車と、この走行台車に設けられたターンテーブルと、このターンテーブルに設けられたアームやハンドなどから構成されている。
【０００３】
このような従来構成によると、昇降レールの昇降と、走行台車の走行と、ターンテーブルの回転と、ハンドの作動との組み合わせ動作によって、移載ステーションと、両ラックの格納位置と、回動ラックの棚板との間で物品の受け渡しが行える。その際に、回動ラックは適宜に回動される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記した従来構成によると、保管量（格納量）を増加するためには、ラックなどの上下高さを高く形成するか、ラックを長く形成しなければならない。ここで、ラックなどの上下高さを高く形成することは、建屋の規模などから制約を受けることになり、そしてクリーンルームのようなクリーン空間をできるだけ狭くしたい場所には容易に採用できない。また、ラックを長く形成することは、その分、占有スペースが拡大されることになり、したがってクリーンルームのような場所には容易に採用できない。
【０００５】
そこで本発明の請求項１記載の発明は、全体をコンパクトに構成し得るものでありながら保管量を増加し得、しかも外部に対する荷の出し入れは保管量をさほど減少させることなく容易に行える荷保管設備を提供することを目的としたものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
前述した目的を達成するために、本発明の請求項１記載の荷保管設備は、縦方向の回転棚軸心の周りで回転自在な回転棚には、前記回転棚軸心を中心とした回転円経路上に複数の荷受け部が設けられ、前記回転棚の側外方には、その移載作用部が前記回転棚軸心に平行状の移載軸心の周りで回転自在な移載手段が設けられるとともに、移載作用部は前記回転円経路に接線状に重合される移載円経路上で作用自在に構成され、この移載円経路上には荷支持部を有する固定棚が設けられ、前記荷受け部と荷支持部とはそれぞれ上下複数段に設けられるとともに、前記回転棚と固定棚との少なくとも一方の下部には、下から複数段分の前記荷受け部や荷支持部を削除した空間部分が形成され、この空間部分を利用して、前記移載手段との間で荷を受け渡し自在な入出庫手段が設けられ、この入出庫手段は、囲壁体に形成された貫通部を通して囲壁体の内外に亘る箱枠状の本体と、この本体上の外端部分に設けられた一時受け体と、この一時受け体と本体の内端部分との間で移動自在な昇降体とから構成されていることを特徴としたものである。
【０００７】
したがって請求項１の発明によると、回転棚を回転棚軸心の周りに回転させて、回転円経路と移載円経路との重合部分に目的とする荷受け部を位置させることで、この荷受け部に対して、移載手段により荷の出し入れを行える。また、移載手段の移載作用部を移載軸心の周りに回転させることで、固定棚の荷支持部に対して、移載手段により荷の出し入れを行える。そして、回転棚の荷受け部群や固定棚の荷支持部群によって、上下高さを最大限に利用して保管量を増加し得るものでありながら、荷受け部や荷支持部を削除して形成した空間部分を利用して配設した入出庫手段によって、荷の出し入れを行える。その際に入出庫手段を嵩低くしてコンパクトに構成し得る。
さらに荷の入庫は、まず荷を入出庫手段の外端部分における一時受け体上に載置させ、そして、昇降体の上昇動により一時受け体上の荷を持ち上げる。次いで昇降体を内端部分に向け移動させて、荷を、貫通部を通して囲壁体内に搬送したのち内端部分で停止させることにより、荷を空間部分に位置し得、以て移載手段の作動によって入庫し得る。また荷の出庫は、まず移載手段の作動によって、入出庫手段における本体の内端部分に荷を載置させ、そして昇降体を上昇させて荷の持ち上げを行う。次いで昇降体を外端部分に向け移動させて、荷を、貫通部を通して囲壁体外に搬送したのち外端部分で停止させる。そして昇降体を下降させて、荷を一時受け体側に載置させることにより出庫し得る。
【０００８】
また本発明の請求項２記載の荷保管設備は、上記した請求項１記載の構成において、入出庫手段の入出庫方向が、回転棚軸心と移載軸心とを結んだ線に対して平行状に設定されていることを特徴としたものである。
【０００９】
したがって請求項２の発明によると、入出庫手段を囲壁体内に、無駄なスペースが生じることなく配設し得る。
そして本発明の請求項３記載の荷保管設備は、上記した請求項１または２記載の構成において、回転棚と移載手段と固定棚とは囲壁体内に配設され、入出庫手段は、囲壁体外のクリーンルーム内に作用自在に構成されていることを特徴としたものである。
【００１０】
したがって請求項３の発明によると、入出庫手段を作動させることで、クリーンルーム内と移載手段による荷受け渡し位置との間でカセットを入出庫し得る。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の第１の実施の形態を、図１〜図１４に基づいて説明する。
図１〜図３において、荷保管設備１０は、矩形箱状の囲壁体１１と、この囲壁体１１内に配設された回転棚２１、移載手段５１、固定棚１０１、ならびに囲壁体１１を貫通して配設された入出庫手段１１１ａ，１１１ｂなどにより構成されている。
【００１３】
前記囲壁体１１は、枠組体１２と、この枠組体１２の外側で下半分に取り付けられた下部外板１３と、枠組体１２の外側で上半分に取り付けられた上部外板１４と、枠組体１２の下側に取り付けられた床板１５と、枠組体１２の上側に取り付けられた天井板１６などにより密閉状に構成されている。その際に、下部外板１３や上部外板１４の少なくとも一部、主として上部外板１４には樹脂製などの透明板が使用され、以て、囲壁体１１内の荷保管室（荷保管空間）１７の状況を、透明板を透して外から把握し得るように構成されている。なお囲壁体１１は、前記床板１５の下面側に設けられた脚体１９を介して床２上に配設されている。
【００１４】
図１、図３〜図５において、前記荷保管室１７内の一側寄りの位置には前記回転棚２１が配設されている。この回転棚２１は、縦方向の回転棚軸心２２の周りで回転自在に設けられるとともに、前記回転棚軸心２２を中心とした回転円経路２３上に複数の荷受け部３２が設けられている。
【００１５】
すなわち底板１５上には、前記回転棚軸心２２を中心とした円状のＬＭガイド手段２５を介して円板状の回転体２６が設けられている。この回転体２６の中央部分からは、前記回転棚軸心２２上に位置される状態で６角筒状の縦軸体２７が立設され、この縦軸体２７の上端には閉塞板２７Ａが設けられている。そして閉塞板２７Ａの中央部分から立設された縦ピン２８が、前記囲壁体１１の上部に設けられた支持プレート２０に対して、軸受装置２９を介して遊転自在に支持されている。
【００１６】
前記縦軸体２７の上下方向の複数箇所には、６角状の環状板３０が外嵌して配設され、これら環状板３０は複数の取付け部材３１などを介して縦軸体２７に連結されている。各環状板３０の周方向の６箇所（複数箇所）に前記荷受け部３２が配設され、これら荷受け部３２は板枠状であって、その基端が連結具３３を介して環状板３０側に連結されることで、横外方へ突出される状態で環状板３０側に片持ち状で支持されている。
【００１７】
そして荷受け部３２には、上下ならびに遊端（外側）に開放される凹所３４が形成されるとともに、この凹所３４の周辺の３箇所（単数個所または複数箇所）からは位置決めピン３５が立設されている。また、荷受け部３２の基端部分には在荷検出手段の一部を構成する反射ミラー３６が、遊端部分にはレベル検出手段の一部を構成する反射テープ３７がそれぞれ設けられている。
【００１８】
前記回転棚２１を回転させる回転棚駆動手段４１が設けられている。すなわち、前記底板１５の隅部には回転駆動部４２が設けられ、この回転駆動部４２からの下向きの駆動軸４３には駆動ギヤ４４が設けられている。そして前記回転体２６の周縁にはリングギヤ４５が設けられ、このリングギヤ４５に前記駆動ギヤ４４が常時噛合されている。ここで回転駆動部４２は、モータや減速機などからなり、前記駆動軸４３を正逆に駆動すべく構成されている。
【００１９】
したがって、回転棚駆動手段４１の回転駆動部４２により駆動軸４３を正逆に駆動させることで、駆動ギヤ４４やリングギヤ４５などを介して回転棚２１を、回転棚軸心２２の周りで正逆に回転し得る。その際に回転棚２１は、最大で１８０°の回転が行われるように構成されている。以上の２２〜４５などにより回転棚２１の一例が構成される。
【００２０】
図１、図３、図６〜図８において、前記荷保管室１７内の他側寄りの位置には前記移載手段５１が配設されている。この移載手段５１の移載作用部８１は、前記回転棚軸心２２に平行状の移載軸心５２の周りで回転自在に設けられるとともに、前記回転円経路２３に接線状に重合される移載円経路５３上で作用自在に構成されている。
【００２１】
すなわち、底板１５上にはベース枠５４が設けられ、このベース枠５４からポスト体５５が立設されるとともに、このポスト体５５の前面側にはガイドレール５６が設けられている。ここでポスト体５５は、左右一対の側部材５５Ａと、これら側部材５５Ａの内側面間に設けられた後部材５５Ｂと、この後部材５５Ｂの前面側に設けられた前部材５５Ｃとからなり、これら前部材５５Ｃの前面側に、前記ガイドレール５６がそれぞれ設けられている。そしてポスト体５５の上端には上枠５７が設けられ、また前部材５５Ｃにはそれぞれカバー体５８が設けられている。
【００２２】
前記ガイドレール５６に被ガイド体５９を介して昇降自在（ＬＭガイド）に案内される昇降部６０が設けられるとともに、この昇降部６０に連動された昇降駆動手段６１が設けられている。すなわち昇降部６０は、前記被ガイド体５９側に連結された縦方向部材６０Ａと、この縦方向部材６０Ａの下端から前方へと連設された横方向部材６０Ｂとにより、側面視でＬ字状に形成されている。
【００２３】
前記昇降駆動手段６１は、前記ベース枠５４内に配設された駆動輪体６２と、前記上枠５７の部分に配設された従動輪体６３と、両輪体６２，６３間に巻回される回動体（タイミングベルトなど）６４と、前記駆動輪体６２の近くに配設された案内輪体６５と、前記駆動輪体６２に連動された回転駆動部６６などにより構成されている。ここで各輪体６２，６３，６５は左右一対であり、そして回動体６４も左右一対に配設されている。
【００２４】
その際に各回動体６４は、駆動輪体６２に巻回される下位回動部６４Ａと、従動輪体６３に巻回される上位回動部６４Ｂとからなる。そして、ポスト体５５の前面側に位置されるそれぞれの遊端は前記被ガイド体５９側に連結され、また後面側に位置されるそれぞれの遊端間は張力調整具６７を介して連結されている。前記回転駆動部６６は、正逆駆動可能なモータや減速機などから構成され、その駆動軸６８に一対の駆動輪体６２が取り付けられている。
【００２５】
前記昇降部６０の横方向部材６０Ｂ上には、前記移載軸心５２の周りで回転自在な回転体７０が設けられ、その際に回転体７０の中央部分から垂設された縦軸７１が横方向部材６０Ｂ側の軸受７２に回転自在に支持されている。そして前記縦軸７１に連動された回転駆動手段７３が設けられている。
【００２６】
すなわち回転駆動手段７３は、前記縦方向部材６０Ａから横方向部材６０Ｂに亘って設けられた回転駆動部７４と、その下向きの駆動軸７５に取り付けられた駆動輪体７６と、前記縦軸７１に取り付けられた従動輪体７７と、両輪体７６，７７間に巻回された無端回動体（タイミングベルトなど）７８と、前記横方向部材６０Ｂ内に配設された複数の案内輪体７９などにより構成されている。ここで前記回転駆動部７４は、正逆駆動可能なモータや減速機などから構成されている。
【００２７】
前記移載作用部８１はフォーク形式であって、前記回転体７０に対して前後方向（横方向）に出退自在に配設され、以て前記移載軸心５２の周りで回転自在に設けられる。すなわち移載作用部８１は、前後方向の支持板８１Ａと、この支持板８１Ａの中間部分から立設されたずれ規制板８１Ｂなどにより構成されている。そして、前記ずれ規制板８１Ｂよりも前方において、支持板８１Ａ上の複数箇所からは位置決めピン８２が立設されている。
【００２８】
前記回転体７０上には、左右一対のレール材８３が前後方向に配設されるとともに、これらレール材８３間でかつ左右方向の中央部分には前後方向のガイド体８４が設けられている。そして、前記支持板８１Ａの後端で下面側には、前記ガイド体８４に外嵌されてＬＭガイドを構成する被ガイド体８５が設けられている。
【００２９】
前記移載作用部８１を前後方向に出退させる出退駆動手段９０が設けられている。すなわち出退駆動手段９０は、ガイド体８４に沿って配設された螺子軸９１と、前記移載作用部８１の下面側に設けられかつ前記螺子軸９１に螺合されるナット体９２と、前記回転体７０上に搭載されかつ前記螺子軸９１にベルト連動機構９３を介して連動された回転駆動部９４などにより構成されている。ここで回転駆動部９４は、正逆駆動可能なモータや減速機などから構成されている。
【００３０】
なお前記移載作用部８１の支持板８１Ａは、前記荷受け部３２の凹所３４に対して昇降自在に構成されている。そして前記ポスト体５５の部分には、被ガイド体５９側の昇降を許しかつ両カバー体５８間の隙間を閉塞可能な防塵ベルト８７が設けられ、また回転体７０の部分には、移載作用部８１の前後動を許しかつガイド体８４の上方を閉塞可能な防塵ベルト８８が設けられている。
【００３１】
以上の５２〜９４などにより移載手段５１の一例が構成される。そして移載手段５１の移載作用部８１は、前記回転棚軸心２２に平行状の移載軸心５２の周りで回転自在に設けられるとともに、前記回転円経路２３に接線状に重合される移載円経路５３上で作用自在に構成されることになる。
【００３２】
図１、図３、図９、図１０において、前記固定棚１０１は、前記荷保管室１７内の他側寄りの位置でかつ前記移載円経路５３上の４箇所（単数箇所または複数箇所）に設けられている。すなわち囲壁体１１内において、枠組体１２側の上下方向の複数箇所には横方向のフラットバー１０２が連結され、そして各フラットバー１０２には荷支持部１０３が設けられている。これら荷支持部１０３は板枠状であって、その基端が連結具１０４を介してフラットバー１０２側に連結され、以て横前方へ突出される状態でフラットバー１０２側に片持ち状で支持されている。
【００３３】
そして荷支持部１０３には、上下ならびに遊端（外側）に開放される凹所１０５が形成されるとともに、この凹所１０５の周辺の３箇所（単数個所または複数箇所）からは位置決めピン１０６が立設されている。なお、前記凹所１０５に対して前記移載作用部８１の支持板８１Ａが昇降自在に構成されている。以上の１０２〜１０６などにより固定棚１０１の一例が構成される。
【００３４】
図１〜図３、図１０〜図１４において、前記移載円経路５３上の４箇所に設けられた固定棚１０１のうちで、前記回転棚２１とは離れた側の２箇所（単数箇所または複数箇所）の固定棚１０１の下部には、下から３段分（下から複数段分）の荷支持部１０３を削除して空間部分１０７が形成されている。そして、これら空間部分１０７を利用して、前記移載手段５１との間で荷を受け渡し自在な入出庫手段が設けられている。その際に入出庫手段の入出庫方向は、回転棚軸心２２と移載軸心５２とを結んだ線１０９に対して平行状に設定されている。
【００３５】
すなわち、囲壁体１１における他側の下部外板１３には、両空間部分１０７に対向されてそれぞれ入庫用貫通部１１０ａと出庫用貫通部１１０ｂが形成され、これら貫通部１１０ａ，１１０ｂを通して囲壁体１１の内外に亘る状態で、入庫手段（入出庫手段）１１１ａと出庫手段（入出庫手段）１１１ｂとが設けられている。
【００３６】
ここで入庫手段１１１ａと出庫手段１１１ｂは同様な構成であって、囲壁体１１の内外に亘る箱枠状の本体１１２を有し、この本体１１２上の外端部分には一時受け体１１３が設けられている。この一時受け体１１３は一枚板状または分割板状であって、凹所や貫通などによって昇降作用部１１４が形成されるとともに、この昇降作用部１１４の周辺の３箇所（単数個所または複数箇所）からは位置決めピン１１５が立設されている。
【００３７】
前記本体１１２内には、ガイド体１１６に支持案内されて内外方向（前後方向）に移動自在な移動部材１１７と、この移動部材１１７を内外方向に移動させる移動装置１１８とが設けられている。
【００３８】
ここで移動装置１１８は、移動部材１１７側に設けられた駆動部（モータなど）１１９と、この駆動部１１９からの左右方向の出力軸１２０に取り付けられたタイミングプーリ１２１と、このタイミングプーリ１２１の上方で内外方向の２箇所において移動部材１１７側に遊転自在に設けられたガイドプーリ１２２と、これらタイミングプーリ１２１からガイドプーリ１２２に亘って掛けられたタイミングベルト１２３などによって構成されている。なおタイミングベルト１２３の両端は、前記本体１１２側の内外端部に固定１２４されている。
【００３９】
前記移動部材１１７には昇降装置１２５が設けられている。この昇降装置１２５は、移動部材１１７側に軸受１２６を介して回転自在に設けられた縦方向の螺子軸体１２７と、移動部材１１７側に設けられた正逆駆動自在な駆動部（モータなど）１２８と、この駆動部１２８からの下向きの出力軸１２９と前記螺子軸体１２７との間に設けられた無端連動機構１３０と、前記螺子軸体１２７に螺合されたナット体１３１と、このナット体１３１を昇降案内すべく移動部材１１７側との間に設けられたガイド機構１３２などにより構成されている。そしてナット体１３１側に昇降部材１３３が連結されている。
【００４０】
これら昇降部材１３３には旋回装置１３５が設けられている。この旋回装置１３５は、昇降部材１３３側に連結されたブラケット１３６と、このブラケット１３６側に軸受１３７を介して回転自在に設けられた縦方向の軸体１３８と、ブラケット１３６側に設けられた正逆駆動自在な駆動部（モータなど）１３９と、この駆動部１３９からの上向きの出力軸１４０と前記軸体１３８との間に設けられた無端連動機構１４１などにより構成されている。そして軸体１３８の上端に昇降体１４２が連結されている。ここで昇降体１４２は板状であり、前記一時受け体１１３の昇降作用部１１４に対して嵌合自在に構成されている。
【００４１】
なお、本体１１２上の内端部分で、所定の３箇所（単数個所または複数箇所）からは位置決めピン１４３が立設されている。前記本体１１２などは、貫通部１１０ａ，１１０ｂに対して直角状で通り、以て入庫手段１１１ａと出庫手段１１１ｂの入出庫方向１４５は、回転棚軸心２２と移載軸心５２とを結んだ線１０９に対して平行状に設定されている。以上の１１２〜１４５などにより入庫手段１１１ａや出庫手段１１１ｂの一例が構成される。
【００４２】
前記出庫手段１１１ｂにおける外端部の側方にはストレージ手段１５１が一体状に設けられている。すなわち、前記本体１１２に一体状とした箱枠状の本体１５２が、この本体１１２とによって平面視でＬ字状として配設されている。前記本体１５２上の遊端部分（出庫手段１１１ｂとは離れた側）には一時受け体１５３が設けられている。この一時受け体１５３は一枚板状であって、凹所によって昇降作用部１５４が形成されるとともに、この昇降作用部１５４の周辺の３箇所（単数個所または複数箇所）からは位置決めピン１５５が立設されている。
【００４３】
前記本体１５２内には、ガイド体１５６に支持案内されて左右方向に移動自在な移動部材１５７と、この移動部材１５７を内外方向に移動させる移動装置１５８とが設けられている。ここで移動装置１５８は前記移動装置１１８と同様であって、駆動部１５９、出力軸１６０、タイミングプーリ１６１、ガイドプーリ１６２、タイミングベルト１６３などによって構成されている。そしてタイミングベルト１６３の両端は、前記本体１５２側の端部に固定１６４されている。
【００４４】
前記移動部材１５７には昇降装置１６５が設けられている。この昇降装置１６５は前記昇降装置１２５と同様であって、軸受１６６、螺子軸体１６７、駆動部１６８、出力軸１６９、無端連動機構１７０、ナット体１７１、ガイド機構１７２などにより構成されている。そしてナット体１７１側に、昇降部材１７３を介して昇降体１７４が連結されている。ここで昇降体１７４は板状であり、前記一時受け体１１３，１５３の昇降作用部１１４，１５４に対して嵌合自在に構成されている。以上の１５２〜１７４などによりストレージ手段１５１の一例が構成される。
【００４５】
上述したように、囲壁体１１内には回転棚２１と移載手段５１と固定棚１０１とが設けられ、これら回転棚２１と移載手段５１と固定棚１０１とは、回転円経路２３と移載円経路５３との両方とも単数として配設されている。そして固定棚１０１は、前記移載円経路５３上の４箇所（複数箇所）に設けられている。
【００４６】
また、回転棚２１には荷受け部３２群が上下複数段に設けられ、固定棚１０１には荷支持部１０３が上下複数段に設けられている。さらに移載手段５１は、回転棚２１や固定棚１０１の上下複数段に対応して作用可能に構成されている。なおカセット（荷の一例）７の下面側には、前記位置決めピン３５，８２，１０６，１１５，１４３，１５５群の嵌合を許す嵌合部８が、凹入長孔状に形成されている。ここでカセット７は、被処理物（図示せず。）を収納可能に構成されている。
【００４７】
前記荷保管設備１０は、その入庫手段１１１ａと出庫手段１１１ｂとの外端部分が、囲壁体１１における下部外板（外板）１３の外方部分に位置され、以て囲壁体１１外のクリーンルーム５内に作用自在に構成されている。すなわち、外板１３，１４の前板部分などに連設されて隔壁体１８０が設けられている。そして隔壁体１８０などにより囲まれた箇所がクリーンルーム５に形成されている。これにより荷保管設備１０は、その外板１３，１４、が隔壁体１５０の一部に兼用されるとともに、下部外板１３に形成された荷入出部１４８がクリーンルーム５に臨んで設けられることになる。
【００４８】
前記クリーンルーム５は、たとえば天井１側にフィルター３が設けられ、そして床２側に吸引用のグレーチング床（多孔板）４が設けられて構成されており、以てフィルター３を通してクリーンエアＡが噴出され、このクリーンエアＡがグレーチング床４を通して吸引されるダウンフロー方式とされている。これによりクリーンルーム５内はクリーン雰囲気とされている。
【００４９】
前記クリーンルーム５内には、荷保管設備１０との間でのカセット７の受け渡しを行う荷搬送手段１８１が設けられ、以てカセット７の受け渡しが、クリーンルーム５内で行われるように構成されている。前記荷搬送手段１８１は、天井側のレール装置１８２と、このレール装置１８２に支持案内され自動走行自在な吊り走行形式の移動体１８３と、この移動体１８３の下部側に設けられた荷保持部１８４などにより構成されている。そして荷保持部１８４には、荷吊り装置１８５が昇降動自在に設けられている。ここで、荷搬送手段１８１による搬送経路１８６は、荷入出部１４８の上方を通るように形成されている。
【００５０】
図１〜図３において、前記荷保管設備１０における上部外板１４の外側を通る上部搬送手段１９１が設けられている。すなわち上部搬送手段１９１は、天井側のレール装置１９２と、このレール装置１９２に支持案内され自動走行自在な移動体１９３と、この移動体１９３の上部側に設けられた荷支持部１９４などにより構成されている。ここで荷支持部１９４は、たとえばフォーク形式などからなる。
【００５１】
前記囲壁体１１の上部外板１４には、上部搬送手段１９１との間でカセット７の受け渡しを行うための荷通過部１９５が形成されている。すなわち、回転棚２１に近い側において、上部外板１４には荷通過部１９５が開口により形成されている。そして、荷通過部１９５を通して移動体１９３の荷支持部１９４がフォーク動されることで、目的とする荷受け部３２との間でカセット７を受け渡し自在に構成されている。
【００５２】
なお、荷通過部１９５の部分に、前記移動体１９３の荷支持部１９４との間でカセット７を受け渡し自在な、たとえばフォーク形式などからなる受け渡し手段が設けられた形式などであってもよい。さらには上部搬送手段１９１などが省略された形式などであってもよい。
【００５３】
以下に、上記した第１の実施の形態における作用を説明する。
クリーンルーム５では、天井１側のフィルター３を通して噴出させたクリーンエアＡをグレーチング床４の下側に排出させることで、ダウンフロー方式によりクリーン雰囲気を保っている。このようなクリーンルーム５を利用して、カセット７を荷保管装置１０に入庫して保管するに、まず入庫しようとするカセット７を入庫手段１１１ａの始端部分（外端部分）に載置させる。
【００５４】
すなわち、荷搬送手段１３１の作動などによって、図１１のＥに示すように、入庫手段１１１ａにおける一時受け体１１３上に、入庫しようとするカセット７を載置させ、位置決めピン１１５に嵌合部８を嵌合させる。この前後に、下降しかつ正姿勢の昇降体１４２を昇降作用部１１４の下方に位置させている。
【００５５】
この状態で、まず昇降装置１２５の駆動部１２８を作動させ、無端連動機構１３０などを介して螺子軸体１２７を回転させる。すると、螺子軸体１２７の回転に伴ってナット体１３１が上昇し、昇降部材１３３を介して旋回装置１３５を上昇させ、以て旋回装置１３５側の軸体１３８に連結している昇降体１４２を上昇させる。この上昇する昇降体１４２は昇降作用部１１４を通り、図１２の仮想線に示すように、一時受け体１１３上のカセット７を持ち上げる。
【００５６】
次いで移動装置１１８の駆動部１１９を作動させ、タイミングベルト１２３が掛けられているタイミングプーリ１２１を駆動回転させることで、移動部材１１７をガイド体１１６に支持案内させながら入庫手段１１１ａの終端部分（内端部分）に向け移動させる。このとき、昇降装置１２５や旋回装置１３５を介して昇降体１４２も移動し、以てカセット７を、入庫用貫通部１１０ａを通して囲壁体１１内に搬送したのち、図１１のＦや図１２の実線に示すように、終端部分で停止し得る。これによりカセット７を、図９に示すように、固定棚１０１の下部に形成した空間部分１０７などに位置し得る。
【００５７】
そして、旋回装置１３５の駆動部１３９を作動させ、無端連動機構１４１などを介して軸体１３８を回転させ、以て図１１のＧや図１２の実線に示すように、昇降体１４２を介してカセット７の向きを傾斜方向に変更させる。すなわちカセット７を、固定棚１０１の荷支持部１０３により支持し得る向きに変更させる。
【００５８】
次いで、昇降装置１２５の駆動部１２８を逆作動させ、無端連動機構１３０などを介して螺子軸体１２７を逆回転させる。すると、螺子軸体１２７の逆回転に伴ってナット体１３１が下降し、昇降部材１３３を介して旋回装置１３５を下降させることになって、旋回装置１３５側の軸体１３８に連結している昇降体１４２を下降させる。この下降する昇降体１４２は位置決めピン１４３間を通り、以てカセット７を、その嵌合部８を位置決めピン１４３に嵌合させた状態で本体１１２側に載置させる。
【００５９】
そして旋回装置１３５の駆動部１３９を逆作動させ、無端連動機構１４１などを介して軸体１３８を逆回転させ、以て昇降体１４２の向きを正姿勢に変更させる。次いで移動装置１１８の駆動部１１９を逆作動させ、タイミングベルト１２３が掛けられているタイミングプーリ１２１を逆に駆動回転させることで、移動部材１１７を入庫手段１１１ａの始端部分（外端部分）に向け移動させる。このとき、昇降装置１２５や旋回装置１３５を介して昇降体１４２も移動し、以て下降しかつ正姿勢の昇降体１４２を昇降作用部１１４の下方に位置させ、最初の状態に戻し得る。
【００６０】
次いで、入庫手段１１１ａの内端部分に位置させたカセット７を、移載手段５１により受け取る。その際に図６の実線に示すように、空の移載作用部８１を回転体７０内に退入動させた状態で、この移載作用部８１の回転と昇降とを、同時状にまたはいずれかを先行して相前後して行う。
【００６１】
すなわち移載作用部８１を回転させるに、回転駆動手段７３における回転駆動部７４を正逆に駆動させ、駆動軸７５を介して駆動輪体７６を正逆に回転させる。これにより、無端回動体７８や従動輪体７７を介して縦軸７１を正逆に回転させ得、以て回転体７０を介して移載作用部８１を、移載軸心５２の周りに正逆に回転させ得る。
【００６２】
また移載作用部８１を昇降させるに、昇降駆動手段６１における回転駆動部６６を正逆に駆動させ、駆動軸６８を介して駆動輪体６２を正逆に回転させる。これにより、回動体６４を正逆に回動させ得、以て被ガイド体５９や昇降部６０を介して移載作用部８１を昇降し得る。このようにして移載作用部８１を回転ならびに昇降させることで、この移載作用部８１を、入庫手段１１１ａの内端部分に対して、少し下方のレベルで対抗し得る。
【００６３】
次いで、移載作用部８１を突出動させる。すなわち、出退駆動手段９０における回転駆動部９４を駆動させ、ベルト連動機構９３を介して螺子軸９１を回転させる。これにより、ナット体９２が螺合移動することになって移載作用部８１を突出動させ得、その際に移載作用部８１は、ガイド体８４により被ガイド体８５を案内することで、図６の仮想線で示すように直線状に突出動し得る。この突出動によって移載作用部８１を、入庫手段１１１ａの内端部分に載置させたカセット７の下方に位置し得る。
【００６４】
この状態で、前述したような昇降駆動手段６１の動作により、昇降部６０などを介して移載作用部８１を少し上昇させる。すると、移載作用部８１が入庫手段１１１ａにおける本体１１２の内端部分を上昇し、以て入庫手段１１１ａの内端部分に位置させたカセット７を持ち上げ得、その際に位置決めピン８２を嵌合部８に嵌合させる。そして出退駆動手段９０を前述とは逆作動させて、移載作用部８１を退入動させることにより、カセット７を回転体７０の上方に位置し得る。
【００６５】
次いで、前述と同様に移載作用部８１を回転させるとともに、必要に応じて昇降させることで、カセット７を目的とする固定棚１０１の目的とする荷支持部１０３に対抗し得る。このとき移載作用部８１は、荷支持部１０３よりも少し上方に位置している。
【００６６】
そして、前述と同様にして移載作用部８１を突出動させることで、カセット７を荷支持部１０３の上方に位置し得、次いで移載作用部８１を少し下降動させることで、カセット７を荷支持部１０３上に載置し得る。その際に嵌合部８を位置決めピン１０６に嵌合させ、その後に移載作用部８１を退入動させる。これにより、入庫手段１１１ａの内端部分に位置させていたカセツト７を固定棚１０１に対して入庫し得る。すなわち、入庫手段１１１ａに供給したカセット７を、移載円経路５３上に設けられた固定棚１０１の荷支持部１０３に入庫させる入庫作業を終了する。
【００６７】
また、入庫手段１１１ａの内端部分に位置させたカセット７は、回転棚２１にも入庫し得る。すなわち、前述したように入庫手段１１１ａの内端部分に位置させたカセット７を、移載手段５１により受け取る作業中に、回転棚２１を先行して回転し準備させる。
【００６８】
この回転棚２１の回転は、回転棚駆動手段４１における回転駆動部４２を正逆に駆動させ、駆動軸４３を介して駆動ギヤ４４を正逆に回転させる。これにより、リングギヤ４５を正逆に回動させ得、以て縦軸体２７などを介して荷受け部３２群を回転棚軸心２２の周りに回転し得る。その際に、荷受け部３２群は回転円経路２３上で回転移動し、そして、目的とする荷受け部３２が移載円経路５３に接線状に重合した位置に達したときに、その回転を停止させる。
【００６９】
なお回転棚２１の回転は、前述した重合位置に対して目的とする荷受け部３２の回転距離が短い方に、最大で１８０°に正または逆に行われ、以て迅速にかつ能率的に回転し得る。また、移載手段５１により受け取る作業中に、回転棚２１を先行して回転し準備させることで、全体の稼動能率を向上し得る。なお、目的とする荷受け部３２が最初から重合位置にあるときには、回転棚２１の回転は行われない。
【００７０】
このように、目的とする荷受け部３２を重合位置に停止させたのち、前述と同様に移載手段５１を作用させることで、移載作用部８１で支持していたカセット７を、図１、図５で示すように荷受け部３２上に載置し得る。その際に嵌合部８を位置決めピン３５に嵌合させる。これにより、入庫手段１１１ａの内端部分に位置させていたカセット７を、回転棚２１の目的とする荷受け部３２上に載置し得、以て入庫手段１１１ａに供給したカセット７の回転棚２１に対する入庫作業を終了する。
【００７１】
なお、固定棚１０１に保管しているカセット７も、移載手段５１の作動や回転棚２１の回転により、同様にして回転棚２１に移して保管し得る。その際に、固定棚１０１のカセット７を移載手段５１により受け取る作業中に、回転棚２１を先行して回転し準備させることで、全体の稼動能率を向上し得る。なお、目的とする荷受け部３２が最初から重合位置にあるときには、回転棚２１の回転は行われない。
【００７２】
前記移載手段５１を上述とは逆に動作させることによって、カセット７の出庫作業を行える。すなわち、回転棚２１の目的とする荷受け部３２上に載置してあるカセット７を、出庫手段１１１ｂの始端部分（内端部分）に位置させ得、また目的とする固定棚１０１の目的とする荷支持部１０３に上に載置してあるカセット７を出庫手段１１１ｂの始端部分に位置させ得る。
【００７３】
つまり、まず移載手段５１の作動によって、図１１のＨで示すように、出庫手段１１１ｂにおける本体１１２の始端部分に、その嵌合部８を位置決めピン１４３に嵌合させた状態で載置させる。次いで出庫手段１１１ｂを、前述した入庫手段１１１ａとはほぼ逆に作動させる。すなわち、傾斜方向に向き変更させている昇降体１４２を上昇させてカセット７の持ち上げを行う。
【００７４】
そして図１１のＩで示すように、昇降体１４２の向きを正姿勢に変更させたのち、移動部材１１７をガイド体１１６に支持案内させながら出庫手段１１１ｂの終端部分（外端部分）に向け移動させる。このとき、昇降装置１２５や旋回装置１３５を介して昇降体１４２も移動し、以てカセット７を、出庫用貫通部１１０ｂを通して囲壁体１１外に搬送させたのち、図１１のＪで示すように、出庫手段１１１ｂの終端部分で停止させる。
【００７５】
次いで昇降体１４２を、一時受け体１１３の昇降作用部１１４を通して下降させ、以てカセット７を、その嵌合部８を位置決めピン１１５に嵌合させた状態で一時受け体１１３側に載置させる。このようにカセット７を、出庫手段１１１ｂの終端部分（外端部分）に位置させることで、出庫作業を終了する。
【００７６】
なお、回転棚２１に保管しているカセット７も、移載手段５１の作動や回転棚２１の回転などにより、同様にして固定棚１０１に移して（出庫して）保管し得る。
【００７７】
上述したようにして出庫手段１１１ｂの終端部分に出庫したカセット７は、ストレージ手段１５１によってストレージし得る。すなわち、移動部材１５７を出庫手段１１１ｂ側に移動させて、下降させている昇降体１７４を一時受け体１１３における昇降作用部１１４の下方に位置させる。そして昇降体１７４を上昇させて、図１３の仮想線で示すようにカセット７を持ち上げたのち、移動部材１５７を遊端部分側に移動させ、以て図１３の実線や図１４で示すように、カセット７を一時受け体１５３の上方に位置させる。
【００７８】
次いで昇降体１７４を、一時受け体１５３の昇降作用部１５４を通して下降させ、以てカセット７を、その嵌合部８を位置決めピン１５５に嵌合させた状態で一時受け体１５３側に載置させる。このようにカセット７を、ストレージ手段１５１の遊端部分に位置させることで、図１１のＫで示すようにストレージし得る。
【００７９】
上述したような各動作において、カセット７の嵌合部８が位置決めピン３５，８２，１０６，１１５，１４３，１５５に嵌合することで、回転中の遠心力などによってカセット７が互いに衝突したり、カセツト７が位置ずれしたり脱落することを防止し得る。
【００８０】
上述したように移載手段５１は、移載作用部８１を移載軸心５２の周りに回転させるだけで走行移動などは行わないことから、走行移動などのための占有スペースは不要となり、回転棚２１と固定棚１０１とを含めた全体をコンパクトに構成し得る。
【００８１】
しかも、回転棚２１と固定棚１０１とにより保管量を増加し得るとともに、走行構成のない移載手段５１は移載作用部８１を床近くまで下降し得ることで、それに合わせて、回転棚２１の荷受け部３２による保管レベルと固定棚１０１の荷支持部１０３による保管レベルとを床近くまで下げ得、以て保管量をより増加し得る。したがって、クリーンルームのようなクリーン空間をできるだけ狭くしたい場所に容易にかつ好適に採用し得る。
【００８２】
前述したように、出庫手段１１１ｂの終端部分に位置させることで、クリーンルーム５内の荷入出部１４８に出庫したカセット７、ならびにストレージ手段１５１でストレージしたカセット７は、荷搬送手段１８１により目的とする場所に搬送し得る。すなわち、荷搬送手段１８１の移動体１８３を搬送経路１８６上で移動させ、出庫手段１１１ｂの終端部分やストレージ手段１５１に位置しているカセット７の上方で停止させる。
【００８３】
次いで荷吊り装置１８５を下降動させてカセット７のクランプを行ったのち、荷吊り装置１８５を上昇動させてカセット７の持ち上げを行い、そして持ち上げたカセット７を荷保持部１８４によって保持する。この状態で、移動体１８３を搬送経路１８６上で移動させることで、目的とする場所へと搬送し得る。
【００８４】
また、カセット７を前述したようにして移動体１８３側で支持したのち、搬送経路１８６上で搬送させる。この後にカセット７は、上述したように入庫手段１１１ａにおける一時受け体１１３上に載置させることで、荷保管設備１０に入庫し得る。
【００８５】
なお、クリーンルーム５においては、クリーンエアＡがダウンフロー方式により流れていることで、荷入出部１４８や荷搬送手段１８１などで発生した塵埃を、その流れに乗せて迅速に除去し得る。したがってクリーンルーム５においては、充分なクリーン雰囲気（クリーン度）でカセット７の搬送などを行える。
【００８６】
次に、本発明の第２〜第６の実施の形態を、図１５、図１６に基づいて説明する。
すなわち、図１５の（ａ）は第２の実施の形態を示し、回転棚２１と移載手段５１と固定棚１０１とは、回転円経路２３が２つ（複数）で移載円経路５３が１つ（単数）として配設されている。そして、両回転棚２１の回転棚軸心２２と移載手段５１の移載軸心５２が同じ線１０９上に位置されている。さらに入庫手段１１１ａと出庫手段１１１ｂとは回転棚２１の下部に形成された空間部分に位置されている。
【００８７】
また、図１５の（ｂ）は第３の実施の形態を示し、上述した第２の実施の形態の変形例で、一方の回転棚２１の回転棚軸心２２は、他方の回転棚２１の回転棚軸心２２と移載手段５１の移載軸心５２とを結ぶ線１０９から外れている。
【００８８】
そして、図１５の（ｃ）は第４の実施の形態を示し、回転棚２１と移載手段５１と固定棚１０１とは、回転円経路２３が３つ（複数）で移載円経路５３が１つ（単数）として配設されている。
【００８９】
さらに、図１６の（ａ）は第５の実施の形態を示し、回転棚２１と移載手段５１と固定棚１０１とは、回転円経路２３が１つ（単数）で移載円経路５３が２つ（複数）として配設されている。
【００９０】
また、図１６の（ｂ）は第６の実施の形態を示し、回転棚２１と移載手段５１と固定棚１０１とは、回転円経路２３と移載円経路５３との両方とも２つ（複数）として配設されている。
【００９１】
上記した実施の形態では、移載手段５１として、回転体７０を移載軸心５２の周りに回転自在とした形式が示されているが、これは移載作用部８１も含めて移載手段５１の全体を、たとえばポスト体５５の部分に位置される移載軸心の周りに回転自在とした形式などであってもよい。
【００９２】
上記した実施の形態では、移載手段５１として、その移載作用部８１をカセット７の底面に作用させる形式が示されているが、これはカセット７の側部や上部から側方に突出させた被係止部に下方から係止させる形式などであってもよい。
【００９３】
上記した実施の形態では、移載円経路５３上の複数箇所に固定棚１０１が設けられているが、これは単数箇所に固定棚１０１が設けられた形式であってもよい。
【００９４】
上記した実施の形態では、回転棚２１は正逆に回転自在であり、最大で１８０°の回転が行われるように構成されているが、これは正逆の回転が１８０°以上で行われる形式や、回転が一方向のみに行われる形式などであってもよい。
【００９５】
上記した実施の形態では、固定棚１０１に対する移載手段５１の作業中に、回転棚２１が先行して準備されるように構成されているが、これは固定棚１０１に対する移載手段５１の作業が終了した後に、回転棚２１が準備される形式などであってもよい。
【００９６】
上記した実施の形態では、回転棚２１から最も離れた２個の固定棚１０１に対応して、入庫手段１１１ａと出庫手段１１１ｂとが設けられているが、これは回転棚２１に接近した固定棚１０１と最も離れた２個の固定棚１０１とに対応して、入庫手段１１１ａと出庫手段１１１ｂとが設けられた形式であってもよい。この場合には、両側に振り分けて２組の入庫手段１１１ａと出庫手段１１１ｂとを設けることもできる。
【００９８】
上記した実施の形態では、出庫手段１１１ｂに連続される状態でストレージ手段１５１が配設された形式が示されているが、これは入庫手段１１１ａ側にもストレージ手段が配設された形式、ストレージ手段１５１が省略された形式などであってもよい。
【００９９】
上記した実施の形態では、入庫手段１１１ａと出庫手段１１１ｂとの入出庫方向１４５が、回転棚軸心２２と移載軸心５２とを結んだ線１０９に対して平行状に設定されており、これによると、入庫手段１１１ａや出庫手段１１１ｂを囲壁体１１内に、無駄なスペースが生じることなく配設し得、以て荷保管設備をコンパクトに構成し得る。しかし入庫手段１１１ａと出庫手段１１１ｂとは、その入出庫方向１４５を任意な方向として配設された形式などであってもよい。
【０１００】
上記した実施の形態では、回転棚２１と移載手段５１と固定棚１０１とは囲壁体１１内に配設され、入庫手段１１１ａと出庫手段１１１ｂとは、囲壁体１１外のクリーンルーム５内に作用自在に構成されており、これによると、入庫手段１１１ａや出庫手段１１１ｂを作動させることで、クリーンルーム５内の荷入出部１４８と移載手段５１による荷受け渡し位置との間でカセット７を入出庫でき、したがってクリーンルーム５などに容易に採用できる。しかし、荷保管設備１０に対してクリーンエアＡを供給して、回転棚や固定棚において、充分なクリーン雰囲気で荷の保管を行うようにした形式であってもよい。
【０１０１】
上記した実施の形態では、空間部分１０７が、回転棚２１や固定棚１０１における下から複数段分の荷受け部３２や荷支持部１０３を削除して形成されており、これによると、入庫手段１１１ａや出庫手段１１１ｂを嵩低くしてコンパクトに構成できる。
【０１０２】
上記した実施の形態では、荷保管設備１０の外板１３，１４が隔壁体１８０に兼用されることでクリーンルーム５が形成されており、これによると隔壁体１８０の材料使用量を減少できて安価に構成できるとともに、相互に補強し合う構成にできる。しかし、これは隔壁体１８０のみによってクリーンルーム５が形成された構成であってもよく、この場合に隔壁体１８０には、荷入出部１４８用の開口部が形成される。
【０１０３】
上記した実施の形態では、荷保管設備１０に対してカセット７の受け渡しを行うために、天井側で自動走行形式の荷搬送手段１８１が設けられているが、荷搬送手段としては、床側で自動走行可能な台車形式や、床側で手押し走行可能な台車形式などであってもよい。さらに、荷搬送手段を省略して、クリーンルーム５内において人手操作によりカセット７の受け渡しを行ってもよい。
【０１０４】
上記した実施の形態では、荷としてカセット７が示されているが、これは他の物品でもよく、またパレットを取り扱う形式などであってもよい。
【０１０５】
【発明の効果】
上記した本発明の請求項１によると、回転棚を回転棚軸心の周りに回転させて、回転円経路と移載円経路との重合部分に目的とする荷受け部を位置させることで、この荷受け部に対して、移載手段により荷の出し入れを行うことができる。また、移載手段の移載作用部を移載手段軸心の周りに回転させることで、固定棚に対して、移載手段により荷の出し入れを行うことができる。
【０１０６】
このように移載手段は、移載作用部を回転させるだけで走行移動などは行わないことから、走行移動などのための占有スペースを不要にできて、回転棚と固定棚とを含めた全体をコンパクトに構成できる。しかも、回転棚と固定棚とにより保管量を増加できるとともに、走行構成のない移載手段は移載作用部を床近くまで下降できることで、それに合わせて回転棚と固定棚の保管レベルを下げることができて、保管量をより増加できることになる。したがって、クリーンルームのようなクリーン空間をできるだけ狭くしたい場所に容易にかつ好適に採用できる。
【０１０７】
しかも、回転棚の荷受け部群や固定棚の荷支持部群によって、上下高さを最大限に利用して保管量を増加し得るものでありながら、荷受け部や荷支持部を削除して形成した空間部分を利用して配設した入出庫手段によって、外部に対する荷の出し入れは、保管量をさほど減少させることなく常に円滑に行うことができる。その際に入出庫手段を嵩低くしてコンパクトに構成できる。
さらに荷の入庫は、まず荷を入出庫手段の外端部分における一時受け体上に載置させ、そして昇降体の上昇動により一時受け体上の荷を持ち上げ、次いで昇降体を内端部分に向け移動させて、荷を、貫通部を通して囲壁体内に搬送したのち内端部分で停止させることにより、荷を空間部分に位置でき、以て移載手段の作動によって入庫できる。また荷の出庫は、まず移載手段の作動によって、入出庫手段における本体の内端部分に荷を載置させ、そして昇降体を上昇させて荷の持ち上げを行い、次いで昇降体を外端部分に向け移動させて、荷を、貫通部を通して囲壁体外に搬送したのち外端部分で停止させ、そして昇降体を下降させて、荷を一時受け体側に載置させることにより、行うことができる。
【０１０８】
また上記した本発明の請求項２によると、入出庫手段を囲壁体内に、無駄なスペースが生じることなく配設でき、以て荷保管設備をコンパクトに構成できる。そして上記した本発明の請求項３によると、入出庫手段を作動させることで、クリーンルーム内と移載手段による荷受け渡し位置との間で荷を入出庫でき、したがってクリーンルームなどに容易に採用できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態を示し、荷保管設備の横断平面図である。
【図２】同荷保管設備の外観斜視図である。
【図３】同荷保管設備の縦断側面図である。
【図４】同荷保管設備における回転棚の下部の一部切り欠き側面図である。
【図５】同荷保管設備における回転棚の上部の一部切り欠き側面図である。
【図６】同荷保管設備における移載手段の下部の一部切り欠き側面図である。
【図７】同荷保管設備における移載手段の上部の一部切り欠き側面図である。
【図８】同荷保管設備における移載手段の一部切り欠き平面図である。
【図９】同荷保管設備における固定棚の側面図である。
【図１０】同荷保管設備における固定棚の平面図である。
【図１１】同荷保管設備における入出庫手段部分の概略平面図である。
【図１２】同荷保管設備における入庫手段部分の一部切り欠き側面図である。
【図１３】同荷保管設備における出庫手段からストレージ手段部分の一部切り欠き正面図である。
【図１４】同荷保管設備におけるストレージ手段部分の一部切り欠き側面図である。
【図１５】本発明の第２〜第４の実施の形態を示し、（ａ）は第２の実施の形態を示す概略平面図、（ｂ）は第３の実施の形態を示す概略平面図、（ｃ）は第４の実施の形態を示す概略平面図である。
【図１６】本発明の第５、第６の実施の形態を示し、（ａ）は第５の実施の形態を示す概略平面図、（ｂ）は第６の実施の形態を示す概略平面図である。
【符号の説明】
３ フィルター
４ グレーチング床
５ クリーンルーム
７ カセット（荷）
８ 嵌合部
１０ 荷保管設備
１１ 囲壁体
１７ 荷保管室（荷保管空間）
２１ 回転棚
２２ 回転棚軸心
２３ 回転円経路
２６ 回転体
３２ 荷受け部
３５ 位置決めピン
４１ 回転棚駆動手段
５１ 移載手段
５２ 移載軸心
５３ 移載円経路
５５ ポスト体
６０ 昇降部
６１ 昇降駆動手段
７０ 回転体
７３ 回転駆動手段
８１ 移載作用部
８２ 位置決めピン
９０ 出退駆動手段
１０１ 固定棚
１０３ 荷支持部
１０６ 位置決めピン
１０７ 空間部分
１０９ 線
１１０ａ 入庫用貫通部
１１０ｂ 出庫用貫通部
１１１ａ 入庫手段（入出庫手段）
１１１ｂ 出庫手段（入出庫手段）
１１３ 一時受け体
１１５ 位置決めピン
１１７ 移動部材
１１８ 移動装置
１２５ 昇降装置
１３３ 昇降部材
１３５ 旋回装置
１４２ 昇降体
１４３ 位置決めピン
１４５ 入出庫方向
１４８ 荷入出部
１５１ ストレージ手段
１５３ 一時受け体
１５５ 位置決めピン
１５７ 移動部材
１５８ 移動装置
１６５ 昇降装置
１７４ 昇降体
１８０ 隔壁体
１８１ 荷搬送手段
１９１ 上部搬送手段
Ａ クリーンエア
Claims (3)
- 縦方向の回転棚軸心の周りで回転自在な回転棚には、前記回転棚軸心を中心とした回転円経路上に複数の荷受け部が設けられ、前記回転棚の側外方には、その移載作用部が前記回転棚軸心に平行状の移載軸心の周りで回転自在な移載手段が設けられるとともに、移載作用部は前記回転円経路に接線状に重合される移載円経路上で作用自在に構成され、この移載円経路上には荷支持部を有する固定棚が設けられ、前記荷受け部と荷支持部とはそれぞれ上下複数段に設けられるとともに、前記回転棚と固定棚との少なくとも一方の下部には、下から複数段分の前記荷受け部や荷支持部を削除した空間部分が形成され、この空間部分を利用して、前記移載手段との間で荷を受け渡し自在な入出庫手段が設けられ、この入出庫手段は、囲壁体に形成された貫通部を通して囲壁体の内外に亘る箱枠状の本体と、この本体上の外端部分に設けられた一時受け体と、この一時受け体と本体の内端部分との間で移動自在な昇降体とから構成されていることを特徴とする荷保管設備。
- 入出庫手段の入出庫方向が、回転棚軸心と移載軸心とを結んだ線に対して平行状に設定されていることを特徴とする請求項１記載の荷保管設備。
- 回転棚と移載手段と固定棚とは囲壁体内に配設され、入出庫手段は、囲壁体外のクリーンルーム内に作用自在に構成されていることを特徴とする請求項１または２記載の荷保管設備。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| KR100701220B1 (ko) * | 2004-11-15 | 2007-03-29 | 한국정보통신대학교 산학협력단 | 인포하이브 정보전달 및 디스플레이 장치 |
| US7510067B2 (en) * | 2005-07-14 | 2009-03-31 | Easom Automation Systems, Inc. | Low profile turntable assembly |
| JP5062485B2 (ja) * | 2008-04-09 | 2012-10-31 | 株式会社ダイフク | 物品搬送設備 |
| US10378106B2 (en) | 2008-11-14 | 2019-08-13 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming insulation film by modified PEALD |
| JP5131558B2 (ja) * | 2008-12-02 | 2013-01-30 | 株式会社ダイフク | 物品搬送装置 |
| US9394608B2 (en) | 2009-04-06 | 2016-07-19 | Asm America, Inc. | Semiconductor processing reactor and components thereof |
| CN101628663B (zh) * | 2009-08-13 | 2011-12-14 | 北京清大天达光电科技有限公司 | 一种重载工件的回转传送装置 |
| US8802201B2 (en) | 2009-08-14 | 2014-08-12 | Asm America, Inc. | Systems and methods for thin-film deposition of metal oxides using excited nitrogen-oxygen species |
| US8759084B2 (en) | 2010-01-22 | 2014-06-24 | Michael J. Nichols | Self-sterilizing automated incubator |
| JP5370775B2 (ja) * | 2010-02-01 | 2013-12-18 | 株式会社ダイフク | 物品保管設備 |
| US8899903B1 (en) * | 2010-05-18 | 2014-12-02 | The Boeing Company | Vehicle base station |
| CN102114961B (zh) * | 2010-12-31 | 2012-12-12 | 苏州艾隆科技有限公司 | 旋转式自动上药机 |
| CN102167209B (zh) * | 2011-03-21 | 2014-10-29 | 王惠云 | 物品仓储实时管理*** |
| US9312155B2 (en) | 2011-06-06 | 2016-04-12 | Asm Japan K.K. | High-throughput semiconductor-processing apparatus equipped with multiple dual-chamber modules |
| US10364496B2 (en) | 2011-06-27 | 2019-07-30 | Asm Ip Holding B.V. | Dual section module having shared and unshared mass flow controllers |
| US10854498B2 (en) | 2011-07-15 | 2020-12-01 | Asm Ip Holding B.V. | Wafer-supporting device and method for producing same |
| US20130023129A1 (en) | 2011-07-20 | 2013-01-24 | Asm America, Inc. | Pressure transmitter for a semiconductor processing environment |
| US9017481B1 (en) | 2011-10-28 | 2015-04-28 | Asm America, Inc. | Process feed management for semiconductor substrate processing |
| US9659799B2 (en) | 2012-08-28 | 2017-05-23 | Asm Ip Holding B.V. | Systems and methods for dynamic semiconductor process scheduling |
| US10714315B2 (en) | 2012-10-12 | 2020-07-14 | Asm Ip Holdings B.V. | Semiconductor reaction chamber showerhead |
| US20160376700A1 (en) | 2013-02-01 | 2016-12-29 | Asm Ip Holding B.V. | System for treatment of deposition reactor |
| US9484191B2 (en) | 2013-03-08 | 2016-11-01 | Asm Ip Holding B.V. | Pulsed remote plasma method and system |
| US9589770B2 (en) | 2013-03-08 | 2017-03-07 | Asm Ip Holding B.V. | Method and systems for in-situ formation of intermediate reactive species |
| US9240412B2 (en) | 2013-09-27 | 2016-01-19 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor structure and device and methods of forming same using selective epitaxial process |
| US10683571B2 (en) | 2014-02-25 | 2020-06-16 | Asm Ip Holding B.V. | Gas supply manifold and method of supplying gases to chamber using same |
| JP6052209B2 (ja) * | 2014-03-11 | 2016-12-27 | 株式会社ダイフク | 容器搬送設備 |
| US10167557B2 (en) | 2014-03-18 | 2019-01-01 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distribution system, reactor including the system, and methods of using the same |
| US11015245B2 (en) | 2014-03-19 | 2021-05-25 | Asm Ip Holding B.V. | Gas-phase reactor and system having exhaust plenum and components thereof |
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| WO2016031352A1 (ja) * | 2014-08-26 | 2016-03-03 | 村田機械株式会社 | 仕分けシステムと仕分け方法 |
| US10941490B2 (en) | 2014-10-07 | 2021-03-09 | Asm Ip Holding B.V. | Multiple temperature range susceptor, assembly, reactor and system including the susceptor, and methods of using the same |
| US9657845B2 (en) | 2014-10-07 | 2017-05-23 | Asm Ip Holding B.V. | Variable conductance gas distribution apparatus and method |
| CN104370046B (zh) * | 2014-11-11 | 2017-02-01 | 厦门积硕科技股份有限公司 | 一种样品存储查取方法及装置 |
| KR102263121B1 (ko) | 2014-12-22 | 2021-06-09 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 반도체 소자 및 그 제조 방법 |
| US10529542B2 (en) | 2015-03-11 | 2020-01-07 | Asm Ip Holdings B.V. | Cross-flow reactor and method |
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| US10458018B2 (en) | 2015-06-26 | 2019-10-29 | Asm Ip Holding B.V. | Structures including metal carbide material, devices including the structures, and methods of forming same |
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| US10322384B2 (en) | 2015-11-09 | 2019-06-18 | Asm Ip Holding B.V. | Counter flow mixer for process chamber |
| US11139308B2 (en) | 2015-12-29 | 2021-10-05 | Asm Ip Holding B.V. | Atomic layer deposition of III-V compounds to form V-NAND devices |
| US10468251B2 (en) | 2016-02-19 | 2019-11-05 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming spacers using silicon nitride film for spacer-defined multiple patterning |
| US10529554B2 (en) | 2016-02-19 | 2020-01-07 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming silicon nitride film selectively on sidewalls or flat surfaces of trenches |
| US10501866B2 (en) | 2016-03-09 | 2019-12-10 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distribution apparatus for improved film uniformity in an epitaxial system |
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| KR102592471B1 (ko) | 2016-05-17 | 2023-10-20 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 금속 배선 형성 방법 및 이를 이용한 반도체 장치의 제조 방법 |
| US11453943B2 (en) | 2016-05-25 | 2022-09-27 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming carbon-containing silicon/metal oxide or nitride film by ALD using silicon precursor and hydrocarbon precursor |
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| CN106241170B (zh) * | 2016-09-23 | 2018-09-21 | 深圳百泰投资控股集团有限公司 | 一种珠宝类产品的仓储自动化管理方法 |
| US10410943B2 (en) | 2016-10-13 | 2019-09-10 | Asm Ip Holding B.V. | Method for passivating a surface of a semiconductor and related systems |
| US10643826B2 (en) | 2016-10-26 | 2020-05-05 | Asm Ip Holdings B.V. | Methods for thermally calibrating reaction chambers |
| US11532757B2 (en) | 2016-10-27 | 2022-12-20 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition of charge trapping layers |
| US10435790B2 (en) | 2016-11-01 | 2019-10-08 | Asm Ip Holding B.V. | Method of subatmospheric plasma-enhanced ALD using capacitively coupled electrodes with narrow gap |
| US10229833B2 (en) | 2016-11-01 | 2019-03-12 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures |
| US10643904B2 (en) | 2016-11-01 | 2020-05-05 | Asm Ip Holdings B.V. | Methods for forming a semiconductor device and related semiconductor device structures |
| US10714350B2 (en) | 2016-11-01 | 2020-07-14 | ASM IP Holdings, B.V. | Methods for forming a transition metal niobium nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures |
| US10134757B2 (en) | 2016-11-07 | 2018-11-20 | Asm Ip Holding B.V. | Method of processing a substrate and a device manufactured by using the method |
| KR102546317B1 (ko) | 2016-11-15 | 2023-06-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기체 공급 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 |
| US10340135B2 (en) | 2016-11-28 | 2019-07-02 | Asm Ip Holding B.V. | Method of topologically restricted plasma-enhanced cyclic deposition of silicon or metal nitride |
| US10672639B2 (en) * | 2016-12-07 | 2020-06-02 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Method for automatic sending cassette pod |
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| US10269558B2 (en) | 2016-12-22 | 2019-04-23 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a structure on a substrate |
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| US10655221B2 (en) | 2017-02-09 | 2020-05-19 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing oxide film by thermal ALD and PEALD |
| US10468261B2 (en) | 2017-02-15 | 2019-11-05 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a metallic film on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures |
| US10529563B2 (en) | 2017-03-29 | 2020-01-07 | Asm Ip Holdings B.V. | Method for forming doped metal oxide films on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures |
| US10283353B2 (en) | 2017-03-29 | 2019-05-07 | Asm Ip Holding B.V. | Method of reforming insulating film deposited on substrate with recess pattern |
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| US10892156B2 (en) | 2017-05-08 | 2021-01-12 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures |
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| US11295980B2 (en) | 2017-08-30 | 2022-04-05 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a molybdenum metal film over a dielectric surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures |
| KR102491945B1 (ko) | 2017-08-30 | 2023-01-26 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
| KR102401446B1 (ko) | 2017-08-31 | 2022-05-24 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
| US10607895B2 (en) | 2017-09-18 | 2020-03-31 | Asm Ip Holdings B.V. | Method for forming a semiconductor device structure comprising a gate fill metal |
| KR102630301B1 (ko) | 2017-09-21 | 2024-01-29 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 침투성 재료의 순차 침투 합성 방법 처리 및 이를 이용하여 형성된 구조물 및 장치 |
| US10844484B2 (en) | 2017-09-22 | 2020-11-24 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods |
| US10658205B2 (en) | 2017-09-28 | 2020-05-19 | Asm Ip Holdings B.V. | Chemical dispensing apparatus and methods for dispensing a chemical to a reaction chamber |
| US10403504B2 (en) | 2017-10-05 | 2019-09-03 | Asm Ip Holding B.V. | Method for selectively depositing a metallic film on a substrate |
| US10319588B2 (en) | 2017-10-10 | 2019-06-11 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a metal chalcogenide on a substrate by cyclical deposition |
| US10923344B2 (en) | 2017-10-30 | 2021-02-16 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a semiconductor structure and related semiconductor structures |
| CN107840056B (zh) * | 2017-11-13 | 2020-02-04 | 英华达（上海）科技有限公司 | 仓储*** |
| US10910262B2 (en) | 2017-11-16 | 2021-02-02 | Asm Ip Holding B.V. | Method of selectively depositing a capping layer structure on a semiconductor device structure |
| KR102443047B1 (ko) | 2017-11-16 | 2022-09-14 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 방법 및 그에 의해 제조된 장치 |
| US11022879B2 (en) | 2017-11-24 | 2021-06-01 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming an enhanced unexposed photoresist layer |
| TWI779134B (zh) | 2017-11-27 | 2022-10-01 | 荷蘭商Ａｓｍ智慧財產控股私人有限公司 | 用於儲存晶圓匣的儲存裝置及批爐總成 |
| US11639811B2 (en) | 2017-11-27 | 2023-05-02 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus including a clean mini environment |
| US10290508B1 (en) | 2017-12-05 | 2019-05-14 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming vertical spacers for spacer-defined patterning |
| CN109956246A (zh) * | 2017-12-25 | 2019-07-02 | 北京京东尚科信息技术有限公司 | 缓存库、缓存装置、拣选线、立体仓库及拣选方法 |
| US10872771B2 (en) | 2018-01-16 | 2020-12-22 | Asm Ip Holding B. V. | Method for depositing a material film on a substrate within a reaction chamber by a cyclical deposition process and related device structures |
| TW202325889A (zh) | 2018-01-19 | 2023-07-01 | 荷蘭商Ａｓｍ 智慧財產控股公司 | 沈積方法 |
| KR20200108016A (ko) | 2018-01-19 | 2020-09-16 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 플라즈마 보조 증착에 의해 갭 충진 층을 증착하는 방법 |
| USD903477S1 (en) | 2018-01-24 | 2020-12-01 | Asm Ip Holdings B.V. | Metal clamp |
| US11018047B2 (en) | 2018-01-25 | 2021-05-25 | Asm Ip Holding B.V. | Hybrid lift pin |
| US10535516B2 (en) | 2018-02-01 | 2020-01-14 | Asm Ip Holdings B.V. | Method for depositing a semiconductor structure on a surface of a substrate and related semiconductor structures |
| USD880437S1 (en) | 2018-02-01 | 2020-04-07 | Asm Ip Holding B.V. | Gas supply plate for semiconductor manufacturing apparatus |
| US11081345B2 (en) | 2018-02-06 | 2021-08-03 | Asm Ip Holding B.V. | Method of post-deposition treatment for silicon oxide film |
| US10896820B2 (en) | 2018-02-14 | 2021-01-19 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a ruthenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process |
| CN111699278B (zh) | 2018-02-14 | 2023-05-16 | Asm Ip私人控股有限公司 | 通过循环沉积工艺在衬底上沉积含钌膜的方法 |
| US10731249B2 (en) | 2018-02-15 | 2020-08-04 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a transition metal containing film on a substrate by a cyclical deposition process, a method for supplying a transition metal halide compound to a reaction chamber, and related vapor deposition apparatus |
| US10658181B2 (en) | 2018-02-20 | 2020-05-19 | Asm Ip Holding B.V. | Method of spacer-defined direct patterning in semiconductor fabrication |
| KR102636427B1 (ko) | 2018-02-20 | 2024-02-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 및 장치 |
| US10975470B2 (en) | 2018-02-23 | 2021-04-13 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus for detecting or monitoring for a chemical precursor in a high temperature environment |
| US11473195B2 (en) | 2018-03-01 | 2022-10-18 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing apparatus and a method for processing a substrate |
| US11629406B2 (en) | 2018-03-09 | 2023-04-18 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing apparatus comprising one or more pyrometers for measuring a temperature of a substrate during transfer of the substrate |
| US11114283B2 (en) | 2018-03-16 | 2021-09-07 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor, system including the reactor, and methods of manufacturing and using same |
| KR102646467B1 (ko) | 2018-03-27 | 2024-03-11 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 상에 전극을 형성하는 방법 및 전극을 포함하는 반도체 소자 구조 |
| US11088002B2 (en) | 2018-03-29 | 2021-08-10 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate rack and a substrate processing system and method |
| US11230766B2 (en) | 2018-03-29 | 2022-01-25 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
| US10510536B2 (en) | 2018-03-29 | 2019-12-17 | Asm Ip Holding B.V. | Method of depositing a co-doped polysilicon film on a surface of a substrate within a reaction chamber |
| KR102501472B1 (ko) | 2018-03-30 | 2023-02-20 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 |
| US12025484B2 (en) | 2018-05-08 | 2024-07-02 | Asm Ip Holding B.V. | Thin film forming method |
| KR20190128558A (ko) | 2018-05-08 | 2019-11-18 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 상에 산화물 막을 주기적 증착 공정에 의해 증착하기 위한 방법 및 관련 소자 구조 |
| TWI816783B (zh) | 2018-05-11 | 2023-10-01 | 荷蘭商Ａｓｍ 智慧財產控股公司 | 用於基板上形成摻雜金屬碳化物薄膜之方法及相關半導體元件結構 |
| KR102596988B1 (ko) | 2018-05-28 | 2023-10-31 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 및 그에 의해 제조된 장치 |
| US11718913B2 (en) | 2018-06-04 | 2023-08-08 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distribution system and reactor system including same |
| US11270899B2 (en) | 2018-06-04 | 2022-03-08 | Asm Ip Holding B.V. | Wafer handling chamber with moisture reduction |
| US11286562B2 (en) | 2018-06-08 | 2022-03-29 | Asm Ip Holding B.V. | Gas-phase chemical reactor and method of using same |
| KR102568797B1 (ko) | 2018-06-21 | 2023-08-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 시스템 |
| US10797133B2 (en) | 2018-06-21 | 2020-10-06 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a phosphorus doped silicon arsenide film and related semiconductor device structures |
| CN112292477A (zh) | 2018-06-27 | 2021-01-29 | Asm Ip私人控股有限公司 | 用于形成含金属的材料的循环沉积方法及包含含金属的材料的膜和结构 |
| US11492703B2 (en) | 2018-06-27 | 2022-11-08 | Asm Ip Holding B.V. | Cyclic deposition methods for forming metal-containing material and films and structures including the metal-containing material |
| TWI751420B (zh) | 2018-06-29 | 2022-01-01 | 荷蘭商Ａｓｍ知識產權私人控股有限公司 | 薄膜沉積方法 |
| US10612136B2 (en) | 2018-06-29 | 2020-04-07 | ASM IP Holding, B.V. | Temperature-controlled flange and reactor system including same |
| US10755922B2 (en) | 2018-07-03 | 2020-08-25 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition |
| US10388513B1 (en) | 2018-07-03 | 2019-08-20 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition |
| US10767789B2 (en) | 2018-07-16 | 2020-09-08 | Asm Ip Holding B.V. | Diaphragm valves, valve components, and methods for forming valve components |
| US10483099B1 (en) | 2018-07-26 | 2019-11-19 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming thermally stable organosilicon polymer film |
| US11053591B2 (en) | 2018-08-06 | 2021-07-06 | Asm Ip Holding B.V. | Multi-port gas injection system and reactor system including same |
| US10883175B2 (en) | 2018-08-09 | 2021-01-05 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical furnace for processing substrates and a liner for use therein |
| US10829852B2 (en) | 2018-08-16 | 2020-11-10 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distribution device for a wafer processing apparatus |
| US11430674B2 (en) | 2018-08-22 | 2022-08-30 | Asm Ip Holding B.V. | Sensor array, apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods |
| US11024523B2 (en) | 2018-09-11 | 2021-06-01 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
| KR20200030162A (ko) | 2018-09-11 | 2020-03-20 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 증착 방법 |
| US11049751B2 (en) | 2018-09-14 | 2021-06-29 | Asm Ip Holding B.V. | Cassette supply system to store and handle cassettes and processing apparatus equipped therewith |
| CN110970344A (zh) | 2018-10-01 | 2020-04-07 | Asm Ip控股有限公司 | 衬底保持设备、包含所述设备的***及其使用方法 |
| US11232963B2 (en) | 2018-10-03 | 2022-01-25 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
| KR102592699B1 (ko) | 2018-10-08 | 2023-10-23 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 박막 증착 장치와 기판 처리 장치 |
| US10847365B2 (en) | 2018-10-11 | 2020-11-24 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming conformal silicon carbide film by cyclic CVD |
| US10811256B2 (en) | 2018-10-16 | 2020-10-20 | Asm Ip Holding B.V. | Method for etching a carbon-containing feature |
| KR102605121B1 (ko) | 2018-10-19 | 2023-11-23 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
| KR102546322B1 (ko) | 2018-10-19 | 2023-06-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
| USD948463S1 (en) | 2018-10-24 | 2022-04-12 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor for semiconductor substrate supporting apparatus |
| US10381219B1 (en) | 2018-10-25 | 2019-08-13 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a silicon nitride film |
| US11087997B2 (en) | 2018-10-31 | 2021-08-10 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus for processing substrates |
| KR20200051105A (ko) | 2018-11-02 | 2020-05-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 |
| US11572620B2 (en) | 2018-11-06 | 2023-02-07 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selectively depositing an amorphous silicon film on a substrate |
| US11031242B2 (en) | 2018-11-07 | 2021-06-08 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a boron doped silicon germanium film |
| US10818758B2 (en) | 2018-11-16 | 2020-10-27 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures |
| US10847366B2 (en) | 2018-11-16 | 2020-11-24 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a transition metal chalcogenide film on a substrate by a cyclical deposition process |
| US10559458B1 (en) | 2018-11-26 | 2020-02-11 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming oxynitride film |
| US12040199B2 (en) | 2018-11-28 | 2024-07-16 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus for processing substrates |
| US11217444B2 (en) | 2018-11-30 | 2022-01-04 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming an ultraviolet radiation responsive metal oxide-containing film |
| KR102636428B1 (ko) | 2018-12-04 | 2024-02-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치를 세정하는 방법 |
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| TW202037745A (zh) | 2018-12-14 | 2020-10-16 | 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 | 形成裝置結構之方法、其所形成之結構及施行其之系統 |
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| JP7509548B2 (ja) | 2019-02-20 | 2024-07-02 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 基材表面内に形成された凹部を充填するための周期的堆積方法および装置 |
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| JP7499079B2 (ja) | 2019-07-09 | 2024-06-13 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 同軸導波管を用いたプラズマ装置、基板処理方法 |
| CN112216646A (zh) | 2019-07-10 | 2021-01-12 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板支撑组件及包括其的基板处理装置 |
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| KR20210010820A (ko) | 2019-07-17 | 2021-01-28 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 실리콘 게르마늄 구조를 형성하는 방법 |
| US11643724B2 (en) | 2019-07-18 | 2023-05-09 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming structures using a neutral beam |
| TWI839544B (zh) | 2019-07-19 | 2024-04-21 | 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 | 形成形貌受控的非晶碳聚合物膜之方法 |
| TW202113936A (zh) | 2019-07-29 | 2021-04-01 | 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 | 用於利用n型摻雜物及/或替代摻雜物選擇性沉積以達成高摻雜物併入之方法 |
| CN112309900A (zh) | 2019-07-30 | 2021-02-02 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
| CN112309899A (zh) | 2019-07-30 | 2021-02-02 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
| US11587814B2 (en) | 2019-07-31 | 2023-02-21 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
| US11587815B2 (en) | 2019-07-31 | 2023-02-21 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
| US11227782B2 (en) | 2019-07-31 | 2022-01-18 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
| KR20210018759A (ko) | 2019-08-05 | 2021-02-18 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 화학물질 공급원 용기를 위한 액체 레벨 센서 |
| USD965044S1 (en) | 2019-08-19 | 2022-09-27 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
| USD965524S1 (en) | 2019-08-19 | 2022-10-04 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor support |
| JP2021031769A (ja) | 2019-08-21 | 2021-03-01 | エーエスエム アイピー ホールディング ビー．ブイ． | 成膜原料混合ガス生成装置及び成膜装置 |
| KR20210024423A (ko) | 2019-08-22 | 2021-03-05 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 홀을 구비한 구조체를 형성하기 위한 방법 |
| USD949319S1 (en) | 2019-08-22 | 2022-04-19 | Asm Ip Holding B.V. | Exhaust duct |
| USD930782S1 (en) | 2019-08-22 | 2021-09-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distributor |
| USD979506S1 (en) | 2019-08-22 | 2023-02-28 | Asm Ip Holding B.V. | Insulator |
| USD940837S1 (en) | 2019-08-22 | 2022-01-11 | Asm Ip Holding B.V. | Electrode |
| KR20210024420A (ko) | 2019-08-23 | 2021-03-05 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 비스(디에틸아미노)실란을 사용하여 peald에 의해 개선된 품질을 갖는 실리콘 산화물 막을 증착하기 위한 방법 |
| US11286558B2 (en) | 2019-08-23 | 2022-03-29 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a molybdenum nitride film on a surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures including a molybdenum nitride film |
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| US11562901B2 (en) | 2019-09-25 | 2023-01-24 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing method |
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| TW202203344A (zh) | 2020-02-28 | 2022-01-16 | 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ控股公司 | 專用於零件清潔的系統 |
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| TW202145344A (zh) | 2020-04-08 | 2021-12-01 | 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 | 用於選擇性蝕刻氧化矽膜之設備及方法 |
| US11821078B2 (en) | 2020-04-15 | 2023-11-21 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming precoat film and method for forming silicon-containing film |
| US11996289B2 (en) | 2020-04-16 | 2024-05-28 | Asm Ip Holding B.V. | Methods of forming structures including silicon germanium and silicon layers, devices formed using the methods, and systems for performing the methods |
| TW202140831A (zh) | 2020-04-24 | 2021-11-01 | 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 | 形成含氮化釩層及包含該層的結構之方法 |
| KR20210132600A (ko) | 2020-04-24 | 2021-11-04 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 바나듐, 질소 및 추가 원소를 포함한 층을 증착하기 위한 방법 및 시스템 |
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| TW202147383A (zh) | 2020-05-19 | 2021-12-16 | 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 | 基材處理設備 |
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| TW202200837A (zh) | 2020-05-22 | 2022-01-01 | 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 | 用於在基材上形成薄膜之反應系統 |
| TW202201602A (zh) | 2020-05-29 | 2022-01-01 | 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 | 基板處理方法 |
| TWI779341B (zh) * | 2020-05-29 | 2022-10-01 | 盟立自動化股份有限公司 | 儲料設備 |
| CN212402323U (zh) * | 2020-05-29 | 2021-01-26 | 盟立自动化股份有限公司 | 储料设备 |
| TW202218133A (zh) | 2020-06-24 | 2022-05-01 | 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 | 形成含矽層之方法 |
| TW202217953A (zh) | 2020-06-30 | 2022-05-01 | 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 | 基板處理方法 |
| TW202202649A (zh) | 2020-07-08 | 2022-01-16 | 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 | 基板處理方法 |
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| US12040177B2 (en) | 2020-08-18 | 2024-07-16 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a laminate film by cyclical plasma-enhanced deposition processes |
| US11725280B2 (en) | 2020-08-26 | 2023-08-15 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming metal silicon oxide and metal silicon oxynitride layers |
| USD990534S1 (en) | 2020-09-11 | 2023-06-27 | Asm Ip Holding B.V. | Weighted lift pin |
| USD1012873S1 (en) | 2020-09-24 | 2024-01-30 | Asm Ip Holding B.V. | Electrode for semiconductor processing apparatus |
| US12009224B2 (en) | 2020-09-29 | 2024-06-11 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus and method for etching metal nitrides |
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| TW202235649A (zh) | 2020-11-24 | 2022-09-16 | 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 | 填充間隙之方法與相關之系統及裝置 |
| TW202235675A (zh) | 2020-11-30 | 2022-09-16 | 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 | 注入器、及基板處理設備 |
| CN114639631A (zh) | 2020-12-16 | 2022-06-17 | Asm Ip私人控股有限公司 | 跳动和摆动测量固定装置 |
| TW202231903A (zh) | 2020-12-22 | 2022-08-16 | 荷蘭商Ａｓｍ Ｉｐ私人控股有限公司 | 過渡金屬沉積方法、過渡金屬層、用於沉積過渡金屬於基板上的沉積總成 |
| USD1023959S1 (en) | 2021-05-11 | 2024-04-23 | Asm Ip Holding B.V. | Electrode for substrate processing apparatus |
| USD981973S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-28 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor wall for substrate processing apparatus |
| USD980814S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distributor for substrate processing apparatus |
| USD980813S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas flow control plate for substrate processing apparatus |
| USD990441S1 (en) | 2021-09-07 | 2023-06-27 | Asm Ip Holding B.V. | Gas flow control plate |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2873020A (en) * | 1956-11-19 | 1959-02-10 | Joseph Lamb Company F | Storage and delivery apparatus |
| US3700121A (en) * | 1971-02-22 | 1972-10-24 | Baker Perkins Inc | Rack loading and unloading apparatus |
| KR880002458B1 (ko) * | 1983-05-31 | 1988-11-14 | 매닝 로우잉 마이클 | 회전식 보관장치 |
| KR930002562B1 (ko) * | 1986-11-20 | 1993-04-03 | 시미즈 겐세쯔 가부시끼가이샤 | 클린룸내에서 사용되는 방진저장 캐비넷장치 |
| KR970003835B1 (en) * | 1993-10-06 | 1997-03-22 | Lg Semicon Co Ltd | Manufacture of mos transistor of semiconductor device |
| DE9414323U1 (de) * | 1994-09-03 | 1994-11-10 | Groninger & Co Gmbh, 74564 Crailsheim | Transporteinrichtung für längliche Gegenstände |
| JPH09317247A (ja) * | 1996-05-25 | 1997-12-09 | Fujitac:Kk | 霊廟礼拝堂装置 |
| NL1008143C2 (nl) * | 1998-01-27 | 1999-07-28 | Asm Int | Stelsel voor het behandelen van wafers. |
| JP3832293B2 (ja) * | 2001-08-31 | 2006-10-11 | 株式会社ダイフク | 荷保管設備 |
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