JP3806222B2 - エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 - Google Patents

エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 Download PDF

Info

Publication number
JP3806222B2
JP3806222B2 JP10213297A JP10213297A JP3806222B2 JP 3806222 B2 JP3806222 B2 JP 3806222B2 JP 10213297 A JP10213297 A JP 10213297A JP 10213297 A JP10213297 A JP 10213297A JP 3806222 B2 JP3806222 B2 JP 3806222B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
resin composition
weight
biphenyl
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP10213297A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH10292032A (ja
Inventor
正史 梶
浩一郎 大神
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Chemical and Materials Co Ltd
Original Assignee
Nippon Steel Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Steel Chemical Co Ltd filed Critical Nippon Steel Chemical Co Ltd
Priority to JP10213297A priority Critical patent/JP3806222B2/ja
Publication of JPH10292032A publication Critical patent/JPH10292032A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3806222B2 publication Critical patent/JP3806222B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、流動性等の成形性に優れ、かつ機械的強度、耐クラック性等に優れた硬化物を与えるエポキシ樹脂組成物、及びそれを用いた半導体素子等の電子部品に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
エポキシ樹脂を主剤とする樹脂組成物は、注型、封止、積層板等の電気・電子分野に広く使用されている。特に、半導体封止の分野においては、プリント基板への部品の実装の方法として、従来のピン挿入方式から表面実装方式への移行が進展している。表面実装方式においては、パッケージ全体がはんだ温度まで加熱され、熱衝撃によるパッケージクラックが大きな問題点となってきている。
【0003】
したがって、はんだ耐熱性向上の観点からフィラー高充填率化が指向され、低粘度型の二官能性エポキシ樹脂が広く検討されている。例えば、特公平4−7365号公報にはビフェニル系エポキシ樹脂、特開平6−345,850号公報にはビスフェノールF型固形エポキシ樹脂を主剤としたエポキシ樹脂組成物が提案されているが、低硬化性、低ガラス転移点の問題がある。近年、半導体パッケージの大面積化とBGAパッケージ等の進展により、パッケージの反りの問題が強く指摘されてきており、はんだ耐熱性に優れ、かつ高いガラス転移点を有するエポキシ樹脂組成物が望まれている。
【0004】
高いガラス転移点を有するエポキシ樹脂としては、特開平4−255,714号公報などにおいて既に知られているが、フェノールノボラックに代表される通常の硬化剤を用いて硬化させると吸水率が高くなる欠点があり、はんだ耐熱性の向上は期待できない。また、硬化剤としてアルラキル型多価ヒドロキシ樹脂も公知であるが、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等の通常のエポキシ樹脂と組み合わせた場合には、高いガラス転移点は期待できず、はんだ耐熱性の向上も望めない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
したがって、本発明の目的は、流動性等の成形性に優れ、かつ機械的強度、耐クラック性等に優れた硬化物を与える、特に表面実装型の半導体素子等の電子部品封止用に適したエポキシ樹脂組成物及びそれを用いた半導体素子等の電子部品を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記問題点に鑑み鋭意検討した結果、特定の多官能エポキシ樹脂とアラルキル型の特定の硬化剤とを組み合わせることにより、上記目的を達成し得ることを見いだし、本発明に到達した。
【0007】
すなわち、本発明は、必須成分として、下記一般式(1)で表されるエポキシ樹脂5〜30重量%、下記一般式(2)で表されるアラルキル型多価ヒドロキシ樹脂5〜30重量%及び無機充填剤50重量%以上を含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物であり、またこのエポキシ樹脂組成物の硬化物で封止されてなる電子部品である。
【化3】
Figure 0003806222
(式中、Aは炭素数1〜6の炭化水素基で置換されていてもよいビフェニル環を示し、R1 、R2 は同一又は異なってもよい水素原子又は炭素数1〜6の炭化水素基を示し、Gはグリシジル基を示し、nは1〜15の数を示す)
【化4】
Figure 0003806222
(式中、Bは同時に又は別々に炭素数1〜6の炭化水素基で置換されていてもよいベンゼン環又はナフタレン環を示し、R3 、R4 は同一又は異なってもよい水素原子又は炭素数1〜6の炭化水素基を示し、lは1又は2の整数を、mは1を、pは1〜15の数を示す)
【0008】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明のエポキシ樹脂組成物の必須成分である、上記一般式(1)で表されるエポキシ樹脂は、下記一般式(a)で表される多価ヒドロキシ樹脂とエピクロロヒドリンとを反応させることにより製造することができる。そして、この多価ヒドロキシ樹脂は、二官能フェノール性化合物と芳香族架橋剤とを反応させることにより製造することができる。
【化5】
Figure 0003806222
(式中、Aは炭素数1〜6の炭化水素基で置換されていてもよいビフェニル環又はナフタレン環を示し、R1 、R2 は同一又は異なってもよい水素原子又は炭素数1〜6の炭化水素基を示し、nは1〜15の数を示す)
【0009】
多価ヒドロキシ樹脂の合成原料の二官能フェノール性化合物としては、例えば4,4’−ジヒドロキシビフェニル、2,2’−ジヒドロキシビフェニル等のジヒドロキシビフェニル類、1,4−ナフタレンジオール、1,5−ナフタレンジオール、1,6−ナフタレンジオール、1,7−ナフタレンジオール、2,6−ナフタレンジオール、2,7−ナフタレンジオール等のジヒドロキシナフタレン類などが挙げられる。これらの二官能フェノール性化合物は炭素数1〜6の炭化水素基で置換されていてもよい。置換基としては、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、アリル基、ターシャリーブチル基、アミル基、シクロヘキシル基、フェニル基などが挙げられ、その数は1〜2程度である。また、これらの二官能フェノール性化合物は単独でもよいし、2種類以上を併用してもよい。必要に応じて、本発明の目的を損なわない範囲で、フェノール、クレゾール、キシレノール等の単官能フェノール類を二官能フェノール性化合物と併用してもよい。この場合、単官能フェノール類の使用量は、フェノール性化合物全体に対して50重量%以下であることが好ましい。
【0010】
また、芳香族架橋剤としては、例えば、下記一般式(b)で表されるジグリコール類又はジアルコキシ化合物や、下記一般式(c)で表されるジビニル化合物があり、o−体、m−体又はp−体のいずれでもよいが、好ましくはm−体又はp−体である。
【化6】
Figure 0003806222
【化7】
Figure 0003806222
(式中、R1 、R2 、R5 及びR6 は同一又は異なってもよい水素原子又は炭素1〜6のアルキル基を示す)
【0011】
このような芳香族架橋剤としては、例えば、o−キシリレングリコール、m−キシリレングリコール、p−キシリレングリコール等のジグリコール類や、α,α’−ジメトキシ−p−キシレン、α,α’−ジエトキシ−p−キシレン、α,α’−ジイソプロポキシ−p−キシレン、α,α’−ジブトキシ−p−キシレン、α,α’−ジメトキシ−m−キシレン、α,α’−ジエトキシ−m−キシレン、α,α’−ジイソプロポキシ−m−キシレン、α,α’−ジブトキシ−m−キシレン、1,4−ジ(α−ヒドロキシエチル)ベンゼン、1,4−ジ(α−メトキシエチル)ベンゼン、1,4−ジ(α−エトキシエチル)ベンゼン、1,4−ジ(α−イソプロポキシエチル)ベンゼン、1,4−ジ(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ベンゼン、1,4−ジ(2−メトキシ−2−プロピル)ベンゼン、1,4−ジ(2−エトキシ−2−プロピル)ベンゼン、1,4−ジ(2−イソプロポキシ−2−プロピル)ベンゼン、1,3−ジ(α−ヒドロキシエチル)ベンゼン、1,3−ジ(α−メトキシエチル)ベンゼン、1,3−ジ(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ベンゼン、1,3−ジ(2−メトキシ−2−プロピル)ベンゼン等のジアルコキシ化合物や、o−ジビニルベンゼン、p−ジビニルベンゼン、m−ジビニルベンゼン等のジビニル化合物などが挙げられる。
【0012】
二官能フェノール性化合物と芳香族架橋剤との反応には、芳香族架橋剤に対して過剰量の二官能フェノール性化合物を使用する。芳香族架橋剤の使用量は、二官能フェノール性化合物1モルに対し0.1〜0.9モル、好ましくは0.2〜0.7モルである。芳香族架橋剤の使用量が0.9モルより多いと樹脂の軟化点が高くなって成形作業性に支障をきたし、0.1モルより少ないと反応終了後、過剰の二官能フェノール性化合物の除く量が多くなり、工業的に好ましくない。
【0013】
通常、この反応は、公知の無機酸、有機酸等の酸触媒の存在下に行う。このような酸触媒としては、例えば、塩酸、硫酸、燐酸等の鉱酸や、ギ酸、シュウ酸、トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸等の有機酸や、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、塩化鉄、三フッ化ホウ素等のルイス酸や、活性白土、シリカ−アルミナ、ゼオライト等の固体酸などが挙げられる。
【0014】
通常、この反応は10〜250℃で1〜20時間行う。さらに、反応の際に溶媒として、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジグライム、トリグライム等のアルコール類や、ベンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族化合物などを使用することがよい。結晶性の高い4,4’−ジヒドロキシビフェニル、1,5−ナフタレンジオール、2,6−ナフタレンジオールを用いるときの溶媒としては、エチルセロソルブ、ジグライム、トリグライムなどが好ましい。反応終了後、得られた多価ヒドロキシ樹脂は、減圧留去、水洗又は貧溶媒中での再沈殿等の方法により溶媒を除去してもよいが、溶媒を残したままエポキシ化反応の原料として用いてもよい。
【0015】
このようにして製造される多価ヒドロキシ樹脂は、上記一般式(a)で表されるものであるが、好ましくは、Aは無置換若しくはメチル基で置換されたビフェニル環又はナフタレン環であり、平均の繰り返し数nは1〜5である。
【0016】
本発明のエポキシ樹脂組成物に用いるエポキシ樹脂は、上記多価ヒドロキシ樹脂とエピクロルヒドリンとを反応させることにより製造することができる。この反応は、通常のエポキシ化反応と同様に行うことができる。例えば、多価ヒドロキシ樹脂を過剰のエピクロルヒドリンに溶解した後、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物の存在下に50〜150℃、好ましくは60〜120℃で1〜10時間反応させる方法が挙げられる。この際、アルカリ金属水酸化物の使用量は、多価ヒドロキシ化合物中の水酸基1モルに対し、0.8〜1.2モル、好ましくは0.9〜1.0モルである。また、エピクロルヒドリンは多価ヒドロキシ樹脂中の水酸基に対して過剰に用いられるが、通常多価ヒドロキシ化合物中の水酸基1モルに対し、1.5〜15モル、好ましくは2〜8モルである。反応終了後、過剰のエピクロルヒドリンを留去し、残留物をトルエン、メチルイソブチルケトン等の溶剤に溶解し、濾過し、水洗して無機塩を除去し、次いで溶剤を留去することにより、一般式(1)で表されるエポキシ樹脂を得ることができる。
【0017】
このエポキシ樹脂の純度、特に加水分解性塩素量は、封止する電子部品の信頼性向上の観点より少ないものがよい。特に限定するものではないが、1000ppm以下がよい。なお、本発明でいう加水分解性塩素とは、以下の方法により測定された値をいう。すなわち、試料0.5gをジオキサン30mlに溶解させ、1N−KOH水溶液10mlを加え30分間煮沸還流した後、室温まで冷却し、さらに80%アセトン水100mlを加え、0.002N−AgNO3 水溶液で電位差滴定を行い、得られる値である。
【0018】
また、このエポキシ樹脂の粘度及び軟化点は、エポキシ樹脂原料である多価ヒドロキシ樹脂を合成する際の多官能フェノール性化合物と架橋剤のモル比を変えることにより容易に調整可能であるが、無機フィラー高充填化の観点より、その粘度は好ましくは150℃での溶融粘度が10ポイズ以下、より好ましくは3ポイズ以下である。また、その軟化点又は融点は140℃以下が好ましい。
【0019】
本発明のエポキシ樹脂組成物において、必須成分である上記エポキシ樹脂の配合割合は、5〜30重量%、好ましくは7〜20重量%である。
【0020】
本発明のエポキシ樹脂組成物には、必須成分である上記エポキシ樹脂以外に分子中にエポキシ基を2個以上有する通常のエポキシ樹脂を配合してもよい。このようなエポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4’−ビフェノール、2,2’−ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン等の2価のフェノール類、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、フェノールノボラック、o−クレゾールノボラック等の3価以上のフェノール類、テトラブロモビスフェノールA等のハロゲン化ビスフェノール類から誘導されるグルシジルエーテル化物などが挙げられる。これらのエポキシ樹脂は1種又は2種以上を併用してもよいが、一般式(1)のエポキシ樹脂の配合割合は、全エポキシ樹脂に対し10〜100%、好ましくは50%以上、より好ましくは80%以上である。
【0021】
次に、本発明の必須成分である、上記一般式(2)で表されるアラルキル型多価ヒドロキシ樹脂は、アルキル置換若しくは未置換のベンゼン環又はナフタレン環を有するフェノール性水酸基含有化合物と芳香族架橋剤とを反応させることにより製造できる。
【0022】
このアラルキル型多価ヒドロキシ樹脂の合成原料であるフェノール性水酸基含有化合物としては、ベンゼン環を有するものの場合、例えば、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、エチルフェノール類、2,4−キシレノール、2,5−キシレノール、2,6−キシレノール、イソプロピルフェノール類、ターシャリーブチルフェノール、フェニルフェノール類、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノンなどが挙げられ、ナフタレン環を有するものの場合、例えば、1−ナフトール、2−ナフトール、ナフタレンジオール類などが挙げられる。
【0023】
また、芳香族架橋剤は、前記の多価ヒドロキシ樹脂の合成原料として用いる芳香族架橋剤と同じもの、すなわち前記一般式(b)又は(c)で表されるベンゼン骨格を有するものの他、下記一般式(d)又は(e)で表されるビフェニル骨格を有するものを用いることができる。
【化8】
Figure 0003806222
【化9】
Figure 0003806222
(式中、R1 、R2 、R5 及びR6 は同一又は異なってもよい水素原子又は炭素1〜6のアルキル基を示す)
【0024】
一般式(b)又は(c)で表される芳香族架橋剤としては、前記と同様なものを挙げることができる。また、一般式(d)又は(e)で表されるビフェニル骨格を有するものとしては、例えば、4,4’−ジヒドロキシメチルビフェニル、2,4’−ジヒドロキシメチルビフェニル、2,2’−ジヒドロキシメチルビフェニル等のジグリコール類や、4,4’−ジメトキシメチルビフェニル、2,4’−ジメトキシメチルビフェニル、2,2’−ジメトキシメチルビフェニル、4,4’−ジイソプロポキシメチルビフェニル、2,4’−ジイソプロポキシメチルビフェニル、2,2’−ジイソプロポキシメチルビフェニル、4,4’−ジブトキシメチルビフェニル、2,4’−ジブトキシメチルビフェニル、2,2’−ジブトキシメチルビフェニル、4,4’−ジ(α−ヒドロキシエチル)ビフェニル、4,4’−ジ(α−メトキシエチル)ビフェニル、4,4’−ジ(α−エトキシエチル)ビフェニル、4,4’−ジ(α−イソプロポキシエチル)ビフェニル、4,4’−ジ(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ビフェニル、4,4’−ジ(2−メトキシ−2−プロピル)ビフェニル、4,4’−ジ(2−エトキシ−2−プロピル)ビフェニル、4,4’−ジ(2−イソプロポキシ−2−プロピル)ビフェニル、2,4’−ジ(α−ヒドロキシエチル)ビフェニル、2,4’−ジ(α−メトキシエチル)ビフェニル、2,4’−ジ(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ビフェニル、2,4’−ジ(2−メトキシ−2−プロピル)ビフェニル等のジアルコキシ化合物や、2,4’−ジビニルビフェニル、2,2’−ジビニルビフェニル、4,4’−ジビニルビフェニル、2,4’−ジ(2−プロペニル)ビフェニル、2,2’−ジ(2−プロペニル)ビフェニル、4,4’−ジ(2−プロペニル)ビフェニル等のジビニル化合物などが挙げられる。メチロール基等の官能基のビフェニルに対する置換位置は、4,4’−位、2,4’−位又は2,2’−位のいずれでもよいが、芳香族架橋剤として好ましい化合物は4,4’−体であり、全架橋剤中に4,4’−体が50重量%以上含まれたものが特に好ましい。これより少ないと合成された樹脂を硬化させる際の硬化速度が低下したり、得られた硬化物がもろくなるなどの欠点がある。
【0025】
このアラルキル型多価ヒドロキシ樹脂は、一般式(2)において、平均の繰り返し数pが1〜15、好ましくは1〜5である。pの値は、フェノール性水酸基含有化合物と芳香族架橋剤とを反応させる際の両者のモル比を変えることにより容易に調整できる。すなわち、フェノール性水酸基含有化合物を芳香族架橋剤に対して、過剰に用いるほどpの値は小さくコントロールできる。pの値が大きいほど得られた樹脂の軟化点及び粘度が高くなり、成形性が低下する。また、pの値が小さいほど粘度が低下し成形性は向上するが、合成時の未反応フェノール性水酸基含有化合物が多くなり、樹脂の生産効率が低下する。両者のモル比は、実用上、フェノール性水酸基含有化合物1モルに対し芳香族架橋剤が1モル以下、好ましくは0.1〜0.9モルである。0.1モルより少ないと未反応のフェノール性水酸基含有化合物量が多くなり、0.9モルを超えると樹脂の軟化点が高くなり、成形作業性に支障をきたす。
【0026】
このアラルキル型多価ヒドロキシ樹脂の軟化点範囲は、好ましくは40〜150℃、より好ましくは50〜120℃である。軟化点範囲が40℃より低いと保存時のブロッキングの問題があり、150℃より高いとエポキシ樹脂組成物の調製時の混練性及び成形性に問題がある。また、好ましい150℃における溶融粘度は、20センチポイズ以下、より好ましくは5センチポイズ以下である。これより高いとエポキシ樹脂組成物の調製時の混練性及び成形性に問題がある。
【0027】
本発明に用いるアラルキル型多価ヒドロキシ樹脂の好ましい例としては、フェノール類又はナフトール類と、p−キシリレングリコール又はα,α’−ジメトキシ−p−キシレンとを縮合して得られるフェノールアラルキル型樹脂や、ナフトールアラルキル型樹脂があり、具体例としては三井東圧化学(株)製ミレックス XL−225−3L、XL−225−LL、XL−225−L、明和化成(株)製MEH−7800、新日鐵化学(株)製SN−180などが挙げられる。
【0028】
本発明のエポキシ樹脂組成物において、必須成分であるアラルキル型多価ヒドロキシ樹脂の配合割合は、5〜30重量%、好ましくは7〜15重量%である。
【0029】
本発明のエポキシ樹脂組成物には、必須成分であるアラルキル型多価ヒドロキシ樹脂以外に、エポキシ樹脂硬化剤として公知のフェノール性水酸基含有物質を配合してもよい。このような硬化剤としては、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4’−ビフェノール、2,2’−ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール等の2価のフェノール類や、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、フェノールノボラック、o−クレゾールノボラック、ナフトールノボラック、ポリビニルフェノール等に代表される3価以上のフェノール類や、フェノール類、ナフトール類又はビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4’−ビフェノール、2,2’−ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール等の2価のフェノール類のホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、p−ヒドロキシベンズアルデヒド、ジシクロペンタジエン等の縮合剤により合成される多価ヒドロキシ性化合物などが挙げられる。これらの硬化剤は1種又は2種以上を併用してもよいが、アラルキル型多価ヒドロキシ樹脂の配合量は、全硬化剤に対し30重量%以上、好ましくは50重量%以上、より好ましくは70重量%以上である。
【0030】
さらに、本発明のエポキシ樹脂組成物の必須成分として、無機充填剤を配合する。充填剤としては吸水率低減及び強度向上の観点から無機充填剤を用いることが必要である。このような無機充填剤としては、例えば結晶シリカ、溶融シリカ、アルミナ、ジルコン、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素、ジルコニア、フォステライト、ステアタイト、スピネル、ムライト、チタニア等の粉体、又はこれらを球形化したビーズなどが挙げられる。これらの無機充填剤は単独でもよいし、2種以上を併用してもよい。
【0031】
本発明のエポキシ樹脂組成物において、必須成分である無機充填剤の配合割合は50重量%以上、好ましくは60重量%以上、より好ましくは70重量%以上である。無機充填剤の配合割合が50重量%より少ないと、硬化物の吸水率を低減させることができず、また強度を向上させることが困難になる。
【0032】
必要に応じて、本発明のエポキシ樹脂組成物には、硬化促進剤として公知のアミン類、イミダゾール類、有機ホスフィン類、ルイス酸などを配合することができる。このような硬化促進剤としては、例えば、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等の三級アミン類、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−へプタデシルイミダゾール等のイミダゾール類、トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフイン、トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィン等の有機ホスフィン類、テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウム・エチルトリフェニルボレート、テトラブチルホスホニウム・テトラブチルボレート等のテトラ置換ホスホニウム・テトラ置換ボレート、2−エチル−4−メチルイミダゾール・テトラフェニルボレート、N−メチルモルホリン・テトラフェニルボレート等のテトラフェニルボロン塩などが挙げられる。その配合量は、エポキシ樹脂100重量部に対し0.2〜5重量部程度である。
【0033】
さらに必要に応じて、本発明のエポキシ樹脂組成物には、例えば、石油樹脂、インデン樹脂等の熱可塑性オリゴマー、カルナバワックス、エステル系ワックス等の離型剤、エポキシシラン、アミノシラン、ウレイドシラン、ビニルシラン、アルキルシラン、有機チタネート、アルミニウムアルコレート等のカップリング剤、カーボンブラック等の着色剤、三酸化アンチモン等の難燃剤、シリコンオイル等の低応力化剤、高級脂肪酸、高級脂肪酸金属塩等の滑剤などを配合してもよい。
【0034】
通常、本発明のエポキシ樹脂組成物は、所定の配合量の原材料をミキサー等によって十分混合したのち、ミキシングロール、押出機等によって混練し、冷却、粉砕することによって、成形材料とすることができる。
【0035】
本発明で得られる成形材料を用いて、電子部品を封止する方法としては、低圧トランスファー成形法が最も一般的であるが、射出成形法、圧縮成形法によっても可能である。
【0036】
【実施例】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明する。なお、参考例1〜3はエポキシ樹脂の合成例であり、参考例4〜6は硬化剤(アラルキル型多価ヒドロキシ樹脂)の合成例である。また、実施例3は参考例と理解される。
【0037】
参考例1
500mlの4口フラスコに、4,4’−ジヒドロキシビフェニル186g、p−キシリレングリコール41.4g、ジグライム60ml及びp−トルエンスルホン酸2.5gを仕込み、窒素気流下に攪拌しながら160℃で4時間反応させた。その間に生成する水は系外に除いた。反応後、反応液を3リットルの4口フラスコに移し、100℃以下に冷却後、エピクロロヒドリン830gを加えた。その後、減圧下(約150mmHg)70℃で48%水酸化ナトリウム水溶液163gを4時間かけて滴下した。この間、水はエピクロルヒドリンとの共沸により系外に除き、留出したエピクロロヒドリンは系内に戻した。滴下終了後、さらに30分間反応を継続した。その後、系内に残存するジグライム及び過剰のエピクロロヒドリンを減圧留去し、メチルイソブチルケトン1500mlに溶解した後、濾過により生成した塩を除いた。その後、10%水酸化ナトリウム水溶液15gを加え、80℃で2時間反応させた。さらに水洗したのちエピクロルヒドリンを留去し、エポキシ樹脂274gを得た。このエポキシ樹脂のエポキシ当量は173、融点は110〜142℃、加水分解性塩素は310ppmであった。
【0038】
参考例2
4,4’−ジヒドロキシビフェニル186g、p−キシリレングリコール55.2gを用い、参考例1と同様に反応を行い、エポキシ樹脂314gを得た。このエポキシ樹脂のエポキシ当量は185、融点は105〜135℃、加水分解性塩素は460ppmであった。
【0039】
参考例3
1,6−ナフタレンジオール160g、p−キシリレングリコール69.0g及びシュウ酸1.6gを仕込み、窒素気流下に攪拌しながら150℃で4時間反応させた。この間に生成する水は系外に除き、OH当量110の褐色状樹脂203gを得た。この樹脂100gをエピクロルヒドリン400gに溶解し、トリエチルアンモニウムクロライド0.3gを加え、減圧下(約150mmHg)70℃で48%水酸化ナトリウム水溶液61gを3時間かけて滴下した。この間、水はエピクロルヒドリンとの共沸により系外に除き、留出したエピクロルヒドリンは系内に戻した。滴下終了後、さらに30分間反応を継続した。その後、濾過により生成した塩を除き、さらに水洗したのちエピクロルヒドリンを留去し、エポキシ樹脂129gを得た。このエポキシ樹脂のエポキシ当量は188、軟化点は79℃であった。
【0040】
参考例4
1リットルの4口フラスコに、フェノール235g(2.5モル)、p−キシリレングリコールジメチルエーテル166g(1.0モル)及びp−トルエンスルホン酸1.2gを仕込み、窒素気流下に攪拌しながら150℃で2時間反応させた。この間に生成するメタノールは系外に除いた。その後、メチルイソブチルケトンに溶解した後、水洗してp−トルエンスルホン酸を除去した。さらに、減圧留去により未反応のフェノールを除去し、淡褐色状樹脂236.5gを得た。得られた樹脂のOH当量は169であり、JIS K 2548に基づいて測定した軟化点は65℃であった。また、150℃における溶融粘度は0.2ポイズであった。
【0041】
参考例5
1リットルの4口フラスコに、2−ナフトール288g(2.0モル)、p−キシリレングリコール96.6g(0.7モル)及びp−トルエンスルホン酸0.5gを仕込み、窒素気流下に攪拌しながら150℃で2時間反応させた。この間に生成する水は系外に除いた。その後、メチルイソブチルケトンに溶解した後、水洗してp−トルエンスルホン酸を除去した。さらに、水蒸気蒸留により未反応の2−ナフトールを除去し、褐色状樹脂213gを得た。得られた樹脂のOH当量は208、軟化点は88℃、150℃における溶融粘度は3.2ポイズであった。
【0042】
参考例6
1リットルの4口フラスコに、フェノール235g(2.5モル)、4,4’−ジメトキシメチルビフェニル181.5g(0.75モル)を用いて参考例4と同様に反応を行い、淡褐色状樹脂248gを得た。得られた樹脂のOH当量は172、軟化点は71℃、150℃における溶融粘度は1.2ポイズであった。
【0043】
実施例1〜5及び比較例1〜2
エポキシ樹脂として参考例1〜3のエポキシ樹脂及び軟化点71℃のo−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(OCN)を用い、硬化剤として参考例4〜6のアラルキル型多価ヒドロキシ樹脂及び軟化点68℃のフェノールノボラック(PN)を用い、さらに充填剤として破砕シリカ(平均粒径、16μm)、硬化促進剤としてトリフェニルホスフィン、シランカップリング剤としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン及びその他の表1に示す添加剤を用い、これらを表1に示す配合割合で混練してエポキシ樹脂組成物を調製した。このエポキシ樹脂組成物を175℃で成形し、175℃で12時間ポストキュアを行い、硬化物試験片を得た後、各種物性測定に供した。ガラス転移点は、熱機械測定装置により昇温速度10℃/分の条件で求めた。また、吸水率は、エポキシ樹脂組成物を用いて84ピンICを成形し、ポストキュア後85℃、85%RHの条件で24時間、48時間及び72時間吸湿させたときのものであり、クラック発生率は、所定の時間吸湿後、260℃のはんだ浴に10秒間浸漬させた後、パッケージの状態を観察し求めた。エポキシ樹脂組成物の配合割合を表1に、物性測定結果を表2に示す。
【0044】
【表1】
Figure 0003806222
【0045】
【表2】
Figure 0003806222
【0046】
【発明の効果】
本発明のエポキシ樹脂組成物は、流動性等の成形性に優れ、かつ機械的強度、耐クラック性等に優れた硬化物を与え、半導体素子等の電子部品の封止用に使用した場合、優れたはんだ耐熱性を示す。

Claims (2)

  1. 必須成分として、下記一般式(1)で表されるエポキシ樹脂5〜30重量%、下記一般式(2)で表されるアラルキル型多価ヒドロキシ樹脂5〜30重量%及び無機充填剤50重量%以上を含有することを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
    Figure 0003806222
    (式中、Aは炭素数1〜6の炭化水素基で置換されていてもよいビフェニル環を示し、R1 、R2 は同一又は異なってもよい水素原子又は炭素数1〜6の炭化水素基を示し、Gはグリシジル基を示し、nは1〜15の数を示す)
    Figure 0003806222
    (式中、Bは同時に又は別々に炭素数1〜6の炭化水素基で置換されていてもよいベンゼン環又はナフタレン環を示し、R3 、R4 は同一又は異なってもよい水素原子又は炭素数1〜6の炭化水素基を示し、lは1又は2の整数を、mは1を、pは1〜15の数を示す)
  2. 請求項1記載のエポキシ樹脂組成物の硬化物で封止されてなる電子部品。
JP10213297A 1997-04-18 1997-04-18 エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 Expired - Fee Related JP3806222B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10213297A JP3806222B2 (ja) 1997-04-18 1997-04-18 エポキシ樹脂組成物及びその硬化物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10213297A JP3806222B2 (ja) 1997-04-18 1997-04-18 エポキシ樹脂組成物及びその硬化物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH10292032A JPH10292032A (ja) 1998-11-04
JP3806222B2 true JP3806222B2 (ja) 2006-08-09

Family

ID=14319254

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10213297A Expired - Fee Related JP3806222B2 (ja) 1997-04-18 1997-04-18 エポキシ樹脂組成物及びその硬化物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3806222B2 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3349963B2 (ja) * 1998-10-21 2002-11-25 日本電気株式会社 難燃性エポキシ樹脂組成物及びそれを用いた半導体装置
JP2001114863A (ja) * 1999-10-19 2001-04-24 Nippon Steel Chem Co Ltd エポキシ樹脂組成物及びその硬化物
JP5165816B2 (ja) * 2000-03-14 2013-03-21 新日鉄住金化学株式会社 エポキシ樹脂組成物およびその硬化物
JP2002128869A (ja) * 2000-10-24 2002-05-09 Sumitomo Bakelite Co Ltd エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP2013209503A (ja) * 2012-03-30 2013-10-10 Nippon Steel & Sumikin Chemical Co Ltd エポキシ樹脂組成物、及びその硬化物
JP6139997B2 (ja) * 2013-06-20 2017-05-31 新日鉄住金化学株式会社 エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物、及びその硬化物

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2768088B2 (ja) * 1991-10-03 1998-06-25 信越化学工業株式会社 熱硬化性樹脂組成物及び半導体装置
JPH06216280A (ja) * 1993-01-21 1994-08-05 Mitsubishi Electric Corp 半導体封止用エポキシ樹脂組成物およびそれを用いた半導体装置
JPH06234832A (ja) * 1993-02-09 1994-08-23 Nippon Steel Chem Co Ltd 高耐熱性エポキシ樹脂硬化物

Also Published As

Publication number Publication date
JPH10292032A (ja) 1998-11-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8349989B2 (en) Method of sealing a semiconductor element with an epoxy resin composition
JP5166610B2 (ja) エポキシ樹脂、その製造方法、それを用いたエポキシ樹脂組成物および硬化物
TWI619738B (zh) 酚樹脂組成物
JP2007297540A (ja) カルバゾール骨格含有樹脂、カルバゾール骨格含有エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物及びその硬化物
JP3806222B2 (ja) エポキシ樹脂組成物及びその硬化物
JP4465257B2 (ja) ナフトール樹脂、エポキシ樹脂、それらの製造法、それらを用いたエポキシ樹脂組成物及びその硬化物
KR100724996B1 (ko) 에폭시 수지, 그 제조방법, 에폭시 수지 조성물 및 경화물
JPH111544A (ja) エポキシ樹脂組成物及び電子部品
JP2016074805A (ja) 半導体封止用樹脂組成物及び半導体装置
JPWO2003068837A1 (ja) インドール樹脂、エポキシ樹脂及びこれらの樹脂を含む樹脂組成物
JP4067639B2 (ja) エポキシ樹脂組成物及び硬化物
JP3933763B2 (ja) エポキシ樹脂組成物及び電子部品
JP5841947B2 (ja) エポキシ樹脂組成物及び硬化物
JP2001114863A (ja) エポキシ樹脂組成物及びその硬化物
JP4493748B2 (ja) エポキシ樹脂、その製造方法、エポキシ樹脂組成物およびその硬化物
JP3318870B2 (ja) エポキシ樹脂組成物
JP5721519B2 (ja) フェノール系重合体、その製法およびその用途
JP4163281B2 (ja) エポキシ樹脂組成物及び硬化物
JP4667753B2 (ja) エポキシ樹脂の製造方法、エポキシ樹脂組成物及び硬化物
JP3875775B2 (ja) エポキシ樹脂組成物及び電子部品
JP2001316453A (ja) エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP3806217B2 (ja) 新規多価ヒドロキシ化合物、新規エポキシ樹脂、それらの製造方法、それらを用いたエポキシ樹脂組成物及びその硬化物
JP2008231071A (ja) 新規多価ヒドロキシ化合物並びにエポキシ樹脂組成物及びその硬化物
JP2001151858A (ja) エポキシ樹脂組成物及びその硬化物
JPH0940755A (ja) 半導体封止用樹脂組成物およびこれを用いた半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040319

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060126

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060131

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060403

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060509

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20060512

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100519

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100519

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110519

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120519

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130519

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130519

Year of fee payment: 7

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130519

Year of fee payment: 7

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130519

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140519

Year of fee payment: 8

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees