JP3768822B2 - 三次元測定装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、粗面を有する被測定物の連続した曲面の三次元形状を光プローブを用いて非接触で測定する三次元測定装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、例えば球面レンズの製造工程において使用される三次元測定装置は、その加工工程において凹凸の粗さを有するレンズブランクの表面形状を三次元的に測定し、その研削工程において球面レンズの表面形状を三次元的に測定する。この種の装置の測定方式としては、光プローブを利用した反射アクティブ方式、光の入射位置、入射角度等を利用した三角測量法方式、モアレを利用した非接触方式をなどが知られている。
【0003】
反射アクティブ方式の装置は、レーザー光源からのレーザー光を被測定物に照射し、その反射光が焦点に結像するようにレーザー光源を駆動し、分割した受光素子で結像を検出して座標を測定する。三角測量法方式の装置は、レーザー光の出射部とこの出射部に対して或る角度で対向する受光部とから成り、受光部の受光素子に入射したレーザー光の入射位置、入射角度、及び出射部との距離から座標を測定する。そして、非接触方式の装置は被測定物に格子模様を投影し、この投影した格子模様を別体のCCDカメラで撮影し、格子模様の変化を読み取って座標を測定する。
【0004】
これらの装置は光を被測定物の表面に照射し、反射光を処理することによって被測定物の表面を測定するので、被測定物が40度を超える急峻な表面を有する場合には、一般に被測定物の表面に照射した光は受光素子、受光部等に戻らず、被測定物の表面の形状を測定することが困難になる。
【0005】
これに対し、特開平10−318729号公報で開示されている測定方法は、光の干渉を利用して上述の問題を解決している。即ち、この測定方法は1つ前の測定位置における被測定物の表面の平均高さを記憶しておき、この平均高さを基準とする所定の範囲にだけ検出器を測定面に対して垂直走査して、被測定物の表面の形状を測定する。従って、平均高さが検出器の測定視野内での測定可能幅よりも大きい場合でも、被測定物の表面の形状を短時間で測定することが可能となる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、平均高さが検出器の測定視野内にある場合でも、被測定物の急峻な表面で照射した光は検出器に戻らないので、被測定物の表面の形状を測定することが不可能である。即ち、被測定物が検出器の受光能力以上に傾斜した表面を有する場合には、その部分を測定できないので、被測定物の表面の全体を測定することが不可能である。
【0007】
本発明の目的は、上述の従来の技術に鑑み、被測定物が急峻な表面を有する場合でも、被測定物の表面の全体を測定し得る三次元測定装置を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するための本発明に係る三次元測定装置は、Xθ、Yθ方向に回転するXθ、Yθステージと、これらのXθ、Yθステージをそれぞれ微駆動する第1の駆動手段と、前記Xθ、Yθステージの上でX、Y方向に移動するX、Yステージと、球面を有する被測定物を前記X、Yステージの上に固定する固定具と、前記X、Yステージをそれぞれ微駆動する第2の駆動手段と、被測定物の表面の三次元座標値を測定する光プローブと、前記第1の駆動手段と前記光プローブを制御すると共に信号を演算処理するコンピュータとを具備する三次元測定装置であって、前記Xθ、Yθステージのそれぞれの回転中心を共有回転中心とし、前記光プローブの光軸を前記共有回転中心に通し、前記Xθ、Yθステージと前記X、Yステージと前記固定具とを被測定物の外径をd、前記光プローブの受光センサの受光可能角度をα、被測定物の曲率半径をR、半開角をθ o とした場合に、被測定物の球面中心と前記共有回転中心との距離が、(d/2)/R・cosθ o −tan(α−θ o )以下となるように設定したことを特徴とする。
【0009】
【発明の実施の形態】
本発明を図示の実施の形態に基づいて詳細に説明する。
図1は本発明に係る三次元測定装置の実施の形態の構成を説明する斜視図であり、ベース1の上にXθステージ2が矢印で示すXθ方向に回転自在に設置され、更にXθステージ2の上にはYθステージ3が矢印で示すYθ方向に回転自在に設置されている。これらのXθステージ2とYθステージ3は、図示しないステッピングモータによりそれぞれ微駆動されるようになっている。
【0010】
Yθステージ3の上面は載置面3aとされ、この載置面3aの上にはXステージ4がX方向に直線移動可能に配置され、このXステージ4の上にはYステージ5がY方向に直線移動自在に配置されている。これらのXステージ4とYステージ5は、図示しない手動ダイヤルによりそれぞれ微駆動されるようになっている。Yステージ5の上にはスペーサ6が配置され、このスペーサ6の上には被測定物である例えば凸形状の球面レンズWが適宜な方法によって固定されている。
【0011】
球面レンズWの上方には、光プローブ部7を備えた測定器8が、ベース1に立設された支柱9に駆動固定装置を介して上下動可能に支持されている。光プローブ部7は球面レンズWのZ座標値を測定するためのレーザー光を球面レンズWに向けて出射する光学系と、球面レンズWからの反射光を取り込む光学系とから構成されている。測定器8は点光源型の図示しないレーザー発信回路、受光センサ、信号処理回路、光学系等から構成されている。
【0012】
Xθ、Yθステージ2、3と測定器8は、コンピュータ10によって制御されるようになっている。コンピュータ10はコンピュータ本体11、キーボード12、ディスプレイ13等から構成されている。Xθ、Yθステージ2、3の各ステッピングモータとコンピュータ本体11は信号線14、15を介してそれぞれ接続され、Xθ、Yθステージ2、3はコンピュータ10によって任意に制御されるようになっている。測定器8とコンピュータ本体11は信号線16を介して接続され、測定器8はコンピュータ10によって任意に制御されると共に、測定器8からの信号がコンピュータ10によって演算処理されるようになっている。
【0013】
ここで、Xθステージ2の回転中心とYθステージ3の回転中心は一点で交叉し共有されている。また、測定器8の光プローブ部7の光軸は、Xθ、Yθステージ2、3の共有の回転中心に通されている。そして、Xθ、Yθステージ2、3と、X、Yステージ4、5と、スペーサ6とは、一定のアルゴリズムにより得られる関係に設定されている。
【0014】
即ち、図2は球面レンズWの球面中心AとXθ、Yθステージ2、3の共有回転中心Bとの一定の関係を示している。ただし、Cは球面レンズWの中心軸、Dは球面レンズWの縁部と共有回転中心Bとを結ぶ線であって光プローブ部7の照射光軸、Eは球面レンズWの縁部と球面中心Aとを結ぶ線であって照射された光の反射光軸、θは照射光軸Dと反射光軸Eとから成る角度であって測定器8の受光センサの受光角度、θ0は中心軸Cと反射光軸Eとから成る半開角度、θ1は中心軸Cと照射光軸Dから成る角度、tは球面中心Aと共有回転中心Bとの距離、dは球面レンズWの外径、Rは球面レンズWの縁部と球面中心Aとの距離である曲率半径を示している。
【0015】
なお、測定器8の受光センサの受光角度θは、一般に約20度以下とする必要があるので、測定可能角度は倍の約40度となる。
【0016】
光プローブ部7から出射した光が球面レンズWの縁部、即ち最も急峻な傾斜面を照射した場合には、その光は反射光軸Eを中心に角度θで反射する。この角度θを約20度以下にするためには、θ=θo−θ1≦20゜の関係が必要となる。これらの関係を既知の半開角度θo、外径d、曲率半径Rで表すと、図2から、
tanθ 1 =(d/2)/(R・cosθ o +t)なので、
θ=θo−θ1=θo−tan-1{(d/2)/(R・cosθo +t)}≦20゜
となり、これを距離tについて解くと、
t≦(d/2)/R・cosθo−tan(20゜−θo) ・・(1)
となる。
【0017】
従って、Yθステージ3の載置面3aに載置したXステージ4、Yステージ5及びスペーサ6の厚みは、球面中心Aと共有回転中心Bとの距離tを満足させるような一定の関係に設定する。
【0018】
この三次元測定装置では、コンピュータ10からの制御信号が測定器8に入力すると、測定器8は光プローブ部7から照射するためのレーザー光のフォーカシングを行ってZ座標値を検出し、このデータをコンピュータ10に出力する。コンピュータ10はキーボード12から入力した指令に従って、コンピュータ本体11に内蔵の図示しないハードディスクドライブ等からプログラムを読み出し、そのプログラムに従って制御と演算を行い、その結果をディスプレイ13に表示する。
【0019】
図3は球面レンズWの表面形状を測定する手順のフローチャート図である。ステップS1では、球面レンズWの外径dと曲率半径Rをキーボード12から入力する。これらの外径dと曲率半径Rは、設計値又は実測値を用いることができる。
【0020】
ステップS2では、光プローブ部7から出射したレーザー光が球面レンズWの頂点近傍を照射するように、X、Yステージ4、5を手動ダイヤルでそれぞれ微駆動する。そして、ディスプレイ13上のZ座標値を監視しながらX、Yステージ4、5をそれぞれ微駆動し、Z座標値の最大値を探して頂点位置を見い出すこと、つまり頂点出しを行う。このとき、球面中心A、共有回転中心B及び中心軸Cは直線上に位置する。そして、この頂点出しで得たX、Y、Z座標値を基準値としてコンピュータ10のメモリに記憶させる。
【0021】
ステップS3では、頂点出しが終了したか否かを判断する。頂点出しが終了していないと判断した場合にはステップS2に戻り、頂点出しが終了したと判断したときにはステップS4に進む。ステップS4では、球面レンズWのY座標の測定開始位置を探すこと、つまり測定開始位置出しを行う。
【0022】
このときの手順を更に図4〜図7を参照して説明する。図4はYθステージ3、Xステージ4、Yステージ5、スペーサ6及び球面レンズWをX座標方向から見ており、球面レンズWの頂点出しを終了している状態を示している。このとき、上述したようにXステージ4、Yステージ5及びスペーサ6の厚みは、球面中心Aと共有回転中心Bとの距離tとの間に一定の関係を保っており、中心軸C、照射光軸D及び反射光軸Eは一致し、球面中心Aと共有回転中心Bは中心軸C上に位置している。
【0023】
この状態からYθステージ3のステッピングモータを制御し、図5に示すようにYθステージ3を共有回転中心Bを中心に回転させ、球面レンズWをYθ方向に移動させる。このとき、光プローブ部7からの光は照射光軸Dに一致し、常に共有回転中心Bを通って球面レンズWの表面を照射する。
【0024】
そして、球面レンズWの表面を照射した光は、照射光軸Dと球面レンズWの交点において、反射光軸E即ち法線を中心として入射角度と同じ反射角度で反射する。これらの入射角度と反射角度の和を成して反射した光は、上記一定の関係から測定器8内の受光センサの受光範囲内に入射するので、この位置の表面形状を測定することが可能となる。即ち、光プローブ8からの光が球面レンズWの縁部を照射するようにYθステージ3を駆動して、測定開始位置出しを行うことができる。
【0025】
ステップS5では測定開始位置出しが終了したが否かを判断し、終了していないと判断した場合にはステップS4に戻ってステップS4、S5を繰り返し、終了したと判断したときにはステップS6に進む。ステップS6では、Xθ、Yθ、Z座標値を測定し、コンピュータ10のメモリに格納し、ステップS7に進む。
【0026】
ステップS7では、Yθステージ3を固定した状態で、Xθステージ2のステッピングモータを制御し、図6に示すようにXθステージ2を所定の角度だけXθ方向に微駆動する。ステップS8では、微駆動した位置が球面レンズWの縁部であるか否かを判断する。縁部でないと判断した場合にはステップS6に戻り、ステップS6〜S8を繰り返し、Xθ、Yθ、Z座標値をコンピュータ10のメモリに蓄積する。そして、縁部であると判断したときにはステップS9に進む。ステップS9では、Yθステージ3のステッピングモータを制御し、Yθステージ3を所定角度だけYθ方向に微駆動する。
【0027】
ステップS10では、微駆動した位置が球面レンズWの縁部であるか否かを判断する。縁部でないと判断した場合にはステップS6に戻り、ステップS6〜S10を繰り返す。このとき、図7に示すように球面レンズWの表面を測定ラインL1、L2、L3、…、Ln−2、Ln−1、Lnと順次に測定し、球面レンズWの表面全体のXθ、Yθ、Z座標値をコンピュータ10のメモリに蓄積する。この際に、ステップS2で見い出した頂点を含むXθ方向とYθ方向でのラインLnのXθ、Yθ、Z座標値を測定するように制御する。そして、球面レンズWの表面全体を測定した後にステップS11に進む。
【0028】
ステップS11では、Xθ、Yθ、Z座標値をX、Y、Z座標値に変換すること、つまり座標変換を行う。図8はXθステージ2をXθ方向に任意の角度回転させた状態を示し、Fは照射光軸Dと球面レンズWとの交点であって光プローブ部7からの光が球面レンズWに入射する点、mは光プローブ部7と共有回転中心Bとの距離であって装置によって一義的に決まる定数、zは光プローブ部7と入射点Fとの距離であって測定した座標値、nは共有回転中心Bと入射点Fとの距離、θxは中心軸Cと照射光軸Dとから成る角度であってXθステージ2の回転角度を示している。
【0029】
測定したZ座標値のX、Y、Z座標軸への変換は、Z’=n・cosθx=(m−Z)cosθxとなる。ここで、定数m、座標値Z、回転角度θxは既知であるので、測定したZ座標値をX、Y、Z座標軸に変換することが可能となる。また、Xθ座標値のX、Y、Z座標軸への変換は、X’=n・sinθxから求めることができる。そして、Yθ座標値のX、Y、Z座標軸への変換は、図8と同様にYθ方向で考えると、Y’=n・sinθyとなる。このようにして、全てのX、Y、Z座標軸への変換を終了した後にステップS12に進む。
【0030】
ステップS12では曲率半径の除去を行う。先ず、頂点を含むラインLnの変換したXθ、Yθ、Z座標値から、球面レンズWの近似球面式を例えば最小二乗法を用いて算出する。その後に、球面近似式から求められる曲率成分を変換したX、Y、Z座標値から除去する。これにより、球面レンズWは平面状態となり、表面形状が分かり易くなる。ステップS13では、平面状態での表面形状をディスプレイ13に表示する。
【0031】
なお、上述の実施の形態では、凸形状の球面レンズWを測定することについて説明したが、凹形状の球面レンズやその他の被測定物についても同様であって、Xステージ4、Yステージ5及びスペーサ6の厚みを上述の式(1)の距離tを満足させるような一定の関係に設定すれば、実施の形態と同様に測定することが可能となる。また、測定器8の光源はレーザー光を照射する点光源としたが、光を利用するのであればモアレ縞等の面光線とすることができる。
【0032】
【発明の効果】
以上説明したように本発明に係る三次元測定装置は、Xθ、Yθステージのそれぞれの回転中心を共有回転中心とし、測定器の光軸を共有回転中心に通し、Xθ、YθステージとX、Yステージと固定具とを一定のアルゴリズムに基づく関係に設定したので、被測定物の縁部の急峻な面で反射する光の反射角度を小さくすることができる。従って、被測定物で反射した光を測定器で常に検出することが可能となり、被測定物の表面の三次元形状を高い精度で安定して測定することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施の形態の構成図である。
【図2】球面中心と共有回転中心の関係の説明図である。
【図3】測定手順のフローチャート図である。
【図4】YθステージをX座標方向から見た部分側面図である。
【図5】Yθステージを共有回転中心を中心として回転した部分側面図である。
【図6】Xθステージを共有回転中心を中心として回転した部分側面図である。
【図7】球面レンズの測定ラインの説明図である。
【図8】Xθ、Yθ、Z座標値からX、Y、Z座標値に変換する方法の説明図である。
【符号の説明】
1 ベース
2 Xθステージ
3 Yθステージ
4 Xステージ
5 Yステージ
6 スペーサ
7 光プローブ部
8 測定器
10 コンピュータ
11 コンピュータ本体
12 キーボード
13 ディスプレイ
A 球面中心
B 共有回転中心
C 中心軸
D 照射光軸
E 反射光軸
F 入射点
R 球面レンズの曲率半径
W 球面レンズ
d 球面レンズの外径
α 受光センサの最大受光角度
θ0 半開角
Claims (5)
- Xθ、Yθ方向に回転するXθ、Yθステージと、これらのXθ、Yθステージをそれぞれ微駆動する第1の駆動手段と、前記Xθ、Yθステージの上でX、Y方向に移動するX、Yステージと、球面を有する被測定物を前記X、Yステージの上に固定する固定具と、前記X、Yステージをそれぞれ微駆動する第2の駆動手段と、被測定物の表面の三次元座標値を測定する光プローブと、前記第1の駆動手段と前記光プローブを制御すると共に信号を演算処理するコンピュータとを具備する三次元測定装置であって、前記Xθ、Yθステージのそれぞれの回転中心を共有回転中心とし、前記光プローブの光軸を前記共有回転中心に通し、前記Xθ、Yθステージと前記X、Yステージと前記固定具とを被測定物の外径をd、前記光プローブの受光センサの受光可能角度をα、被測定物の曲率半径をR、半開角をθ o とした場合に、被測定物の球面中心と前記共有回転中心との距離が、(d/2)/R・cosθ o −tan(α−θ o )以下となるように設定したことを特徴とする三次元測定装置。
- 前記コンピュータは前記X、Yステージによって頂点位置に駆動された被測定物の頂点座標値を取得かつ基準値として記憶し、前記頂点位置を基準に前記Xθ、Yθステージを駆動して被測定物を測定開始位置に駆動し、該測定開始位置から前記Xθ、Yθステージを駆動して被測定物のXθ、Yθ、Z座標値を取得かつ記憶し、前記頂点座標値を通るラインの被測定物のXθ、Yθ、Z座標値を取得し、被測定物の表面全体を測定した後に、前記頂点座標値を通るラインのXθ、Yθ、Z座標値から近似球面式を演算し、前記基準値と前記Xθ、Yθ、Z座標値とからX、Y、Z座標軸のX、Y、Z座標値に演算変換し、前記近似球面式から求めた曲率成分を前記X、Y、Z座標値から除去して表示することを特徴とする請求項1に記載の三次元測定装置。
- 前記光プローブはレーザー光、モアレ、又は光切断を用いた光学系から成ることを特徴とする請求項1に記載の三次元測定装置。
- 前記第1の駆動手段はステッピングモータであることを特徴とする請求項1に記載の三次元測定装置。
- 前記第2の駆動手段は手動ダイヤルであることを特徴とする請求項1に記載の三次元測定装置。
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