JP3728294B2 - マイクロ波を均一に分散する装置及びこれを用いる加熱システム - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
（技術分野）
本発明は、マイクロ波を均一に分散する装置及びこれを用いる加熱システムに関する。より詳しくは、マイクロ波の発生手段より出力される所定の周波数のマイクロ波を均一に分散させることができるマイクロ波を均一に分散する装置と上記均一分散装置で加熱システムの加熱室を形成することにより、加熱室内にマイクロ波を均一に分散させ均一な電場を形成し、加熱室内に内蔵した所定の被加熱物を均一に加熱及び乾燥させるマイクロ波を均一に分散する装置及びこれを用いる加熱システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
（背景の技術）
一般に所定の周波数のマイクロ波を用いて所定の飲食物を加熱する電子レンジや木材、スラッジ、ごみ、穀物及びゴム等を乾燥させるマイクロ波の乾燥装置などの加熱システムはマグネトロン等の発振手段を用いるマイクロ波の発生手段より２．４５ＧＨ_Ｚまたは９１５ＭＨ_Ｚのマイクロ波を発生させ、この発生されたマイクロ波を加熱室の内部に伝送し、加熱室に収納された所定の被加熱物を加熱及び乾燥させている。
【０００３】
上記マイクロ波は所定の長さの波長を有している。例えば、マイクロ波の周波数が２．４５ＧＨ_Ｚであると仮定する場合にマイクロ波の波長は下記の数１になる。
【数１】

【０００４】
ここで、λ_ｇはマイクロ波の波長であり、ｃは光の速度である３×１０^８ｍ／ｓｅｃであり、ｆはマイクロ波の周波数である。上記マイクロ波を用いて被加熱物を加熱及び乾燥させる加熱システム等は通常的に加熱室の内壁面と、上面及び底面が全部平面で形成されている。
【０００５】
従って、上記マイクロ波の発生手段より出力されるマイクロ波が加熱室に伝送される場合にそのマイクロ波は図１ に図示したように加熱室の内壁面と上面及び底面等の平面（１０）に衝突した後反射されるため、マイクロ波は均一に分散されずに偏向的に反射される。
【０００６】
上記マイクロ波が偏向的に反射されることにより、加熱室の内にはマイクロ波が均一に分布しなくなる。従って、加熱室に収納された所定の被加熱物は均一に加熱されなく、最大加熱地点及び最小加熱地点が生じる。即ち、上記被加熱物は上記マイクロ波の波長の間隔により最大加熱地点及び最小加熱地点が交代に形成され、被加熱物の最大加熱地点では加熱すぎであり、最小加熱地点では加熱されないという不均一な加熱が発生されるようなる。
【０００７】
かかる問題点を解決するため、従来の加熱システムは加熱室の上部に分散ファン等のような電波の撹拌機を装着し、その電波の撹拌機を回転させながらマイクロ波を均一に分散させる、及び／または所定の被加熱物を回転させ被加熱物が均一に加熱されるようにする。
【０００８】
しかし、上記電波の撹拌機を使用しまた、被加熱物を回転させることは回転動力を発生するための別個の駆動モーターとこの駆動モーターの回転力を伝達するための動力伝達機構等を必要とすることであって、構成が複雑であり、製品の生産費用が上昇し、多くの電力が消耗される等の問題点があった。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
（発明の開示）
本発明は、所定の周波数のマイクロ波を均一に分散させて、所定の周波数を有するマイクロ波を均一に分散する装置を提供することを目的とする。
本発明は、上記マイクロ波を均一に分散する装置で加熱室を形成しマイクロ波を均一に分散させて加熱室の内部の被加熱物を均一に加熱できる加熱システムを提供することを他の目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
このような本発明の目的を達成するための本発明のマイクロ波を均一に分散する装置はマイクロ波を反射する材質からなり、上面は水平に形成されると共に側面が垂直に形成された複数の反射部等を具備するボディからなる。上記複数の反射部の幅（Ｗ）はマイクロ波の波長λ_ｇの１/ｎ（ここで、ｎは１、２、３、・・・である）倍に設定することができるが、より効果的にはマイクロ波の波長λ_ｇの１/４ｎ（例えば、λ_ｇ/４、λ_ｇ/８、λ_ｇ/１２、・・・である）倍に設定することである。また、複数の反射部の深さは底面から反射部の幅に素数（ｐｒｉｍｅ ｎｕｍｂｅｒ）−１を掛けた値に該当する高さを基準面とし素数の最小原始根（ｐｒｉｍｉｔｉｖｅ ｒｏｏｔ）に対する自然数の累乗を素数で割った残りの値に反射部の幅をかけた値に設定するか、また、底面を基準面とし自然数の二乗を素数で割った残りの値に反射部の幅（Ｗ）をかけた値に設定する。 また、本発明の加熱システムは上記したボディを連続的に繰り返して連結し加熱室の上面、下面及び内壁面を形成し、ドアの内側面に設置することであって、マイクロ波の発生手段から発生し加熱室に伝送されるマイクロ波が加熱室内のボディにより均一に分散されマイクロ波の均一な電場を形成し、所定の被加熱物を均一に加熱及び乾燥させる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
（発明を実施するための最良の形態）
以下、本発明の好ましい実施の形態を図２ないし図８を参照してマイクロ波を均一に分散する装置及びこれを用いる加熱システムを詳しく説明する。図２は本発明によるマイクロ波を均一に分散する装置の構成を示した斜視図である。ここで、符号２０は本発明の均一分散装置のボディ２０である。上記均一分散装置のボディ２０は、マイクロ波を反射する材質からなる。例えば、上記ボディ２０はアルミニウム薄板等からなる。また、上記ボディ２０は、耐熱性の合成樹脂で形成され、その耐熱性の合成樹脂の表面にマイクロ波を反射させることができるアルミニウム等の反射物質をコーティングしてなる。
【００１２】
上記ボディ２０は、ドイツのＭａｎｆｒｅｄ Ｒ. ＳｃｈｒｏｅｄｅｒとＡＴ＆Ｔ Ｂｅｌｌ Ｌａｂ．のＭｕｒｒａｙ Ｈｉｌｌが研究し発表した分散機の形状からなることであって、複数の反射部２２を具備する。上記複数の反射部２２等は上面２２１が各々水平になり、側面２２３は垂直になる。
【００１３】
また、上記複数の反射部２２の上面２２１は全部同一の幅Ｗで形成される。例えば、複数の反射部２２の上面２２１の幅はマイクロ波の波長λ_ｇに対し１/ｎ倍（ここで、ｎは１、２、３、・・・である）に設定することもできるが、マイクロ波の波長λ_ｇに対し１/４ｎ倍（例えば、λ_ｇ/４、 λ_ｇ/８、λ_ｇ/１２、・・・）の幅に形成することがより効果的である。また、上記複数の反射部２２の上面２２１は底面から反射部の幅に素数−１を掛けた分の高さを基準面とし各々相違する深さＤ_Ｋを有するように形成される。
【００１４】
例えば、下記式（２−１）、（２−２）のような素数ｐの最小原始根ｇに対する自然数ｎの累乗を素数ｐで割った残りの値に上記設定した反射部の幅Ｗをかけた値で複数の反射部２２の上面２２１の深さＤ_Ｋを形成する。
Ｄ＝ｇ^ｎｍｏｄｕｌｅｐ （２−１）
Ｄ_Ｋ＝Ｄ・Ｗ （２−２）
【００１５】
ここで、ｐは素数であり、ｇは素数ｐの最小原始根であり、ｎは１、２、３、・・・の自然数であり、ｇ^ｎｍｏｄｕｌｅ ｐはｇ^ｎ をｐで割った残りの値を意味する。例えば、素数ｐが７であり、素数ｐの最小原始根ｇが３であると仮定する場合複数の反射部２２の上面（２２１；２２１ａ〜２２１ｆ）の深さ（Ｄ_Ｋ；Ｄ１〜Ｄ６）は基準面を基準とし以下の通りである。
【００１６】
【表１】

【００１７】
即ち、複数の反射部２２の上面（２２１ａ〜２２１ｆ）は図３に示したように基準面即ち、上記反射部の幅Ｗに上記素数ｐの値である７で１を減算した高さの６を掛けた６Ｗの高さを基準面として、各々３Ｗ、２Ｗ、６Ｗ、４Ｗ、５Ｗ及び１Ｗの深さ（Ｄ_Ｋ；Ｄ１〜Ｄ６）に形成される。これを表に示すと表２の通りである。
【００１８】
【表２】

【００１９】
上記基準面を基準とする反射部２２の複数の上面（２２１ａ〜２２１ｆ）の深さ（Ｄ_Ｋ；Ｄ１〜Ｄ６）は底面を基準とする高さ（Ｈ_Ｋ；Ｈ１〜Ｈ６）に変換すると以下の通りである。
【００２０】
【表３】

【００２１】
即ち、底面を基準とし上面２２１（２２１ａ〜２２１ｆ）の高さ（Ｈ_Ｋ；Ｈ１〜Ｈ６）は各々３Ｗ、４Ｗ、０、２Ｗ、１Ｗ及び５Ｗに形成される。また、上記反射部２２の上面２２１の高さＨ_Ｋは上記した方法以外に他の方法で設定することもできる。例えば、底面を基準面として上記反射部２２の上面２２１の高さ（Ｈ_Ｋ）は下記の式（３−１）（３−２）のように０及び自然数の二乗を素数ｐで割った残りの値に設定することもできる。
Ｈ＝Ｎ^２ｍｏｄｕｌｅｐ （３−１）
Ｈ_Ｋ＝Ｈ・Ｗ （３−２）
【００２２】
ここで、Ｎは０、１、２、・・・であり、ｐは素数であり、Ｎ^２ｍｏｄｕｌｅ ｐはＮ^２をｐで割った残りの値を意味する。例えば、素数ｐが５である場合、複数の反射部２２の上面２２１（２２１ａ〜２２１ｆ）の高さ（Ｈ_Ｋ）は以下の通り設定される。
【００２３】
【表４】

【００２４】
上記各々の残りの値に反射部の幅をかけた値即ち、０、１Ｗ、４Ｗ、４Ｗ、１Ｗ及び０が底面から上記複数の反射部２２の上面（２２１ａ〜２２１ｆ）の高さ（Ｈ１〜Ｈ６）になる。計算結果は以下の表５の通りである。
【００２５】
【表５】

【００２６】
このように本発明の均一分散装置のボディ２０はマイクロ波の波長に比例する幅Ｗと、上記した式（２−１）、（２−２）と式（３−１）、（３−２）により各々相違する深さ（Ｄ_Ｋ）または高さ（Ｈ_Ｋ）を有する複数の反射部２２で形成される。
【００２７】
このような本発明の均一分散装置のボディ２０は図２に示した複数のボディ２０を連続的に連結されるように製造及び使用できることであって、均一分散装置のボディ２０に図４に示したようにマイクロ波が入射される場合にはそのマイクロ波を均一に分散させながら反射させて、均一な電場を形成されることができる。従って、所定の被加熱物を回転させず、停止された状態においても均一に分散されるマイクロ波により均一に加熱及び乾燥される。
【００２８】
一方、上記ボディ２０を加熱システム等の壁面に設置する時、ボディ２０の左右両端部程の長さを有すると上面と底面に接近して接触せずにそれらの場所で発生されて開放されていると、その開放された両端部によりマイクロ波が漏洩される虞がある。従って、このような場合に両端部をボディ２０と同一な材質の隔板２４で開放部を密封しマイクロ波が漏洩されないようにすることが望ましい。
【００２９】
一方、上記した実施態様ではボディ２０が６個の反射部２２を具備することであると説明した。本発明では反射部２２の個数が限定されずに、ボディ２０を設置する加熱システムの加熱室の大きさ等により必要な素数を選択し、その選択した素数による複数の反射部２２を具備することができる。
【００３０】
勿論、このような場合にもボディ２０を構成する反射部２２の幅（Ｗ）は上記した実施態様と同じ方法によるマイクロ波の波長λ_ｇに対し１/ｎ倍に設定することもできるが、より効果的な方法はマイクロ波の波長λ_ｇに対し１/４ｎ倍（即ち、λ_ｇ/４、λ_ｇ/８、λ_ｇ/１２、・・・）の幅に形成することである。また、本発明の均一分散装置のボディ２０で加熱システムの加熱室を形成する場合にマイクロ波を均一に分散し加熱室の内部に均一な電場を形成することができる。
【００３１】
図５は本発明の均一分散装置のボディで加熱室を形成した加熱システムを示した一つの実施例として、図５ａは加熱システムのドアを開けた状態を示した斜視図であり、図５ｂは加熱システムの断面図である。ここで、符号５０は加熱システムの本体である。上記本体５０の内部の一側にはマグネトロン等の発振手段を用いてマイクロ波を発生するマイクロ波の発生手段５１が具備され、本体５０の他側には上記マイクロ波の発生手段５１から発生したマイクロ波で所定の被加熱物５２を加熱及び乾燥させる加熱室５３が具備される。
【００３２】
また、上記マイクロ波の発生手段５１と加熱室５３の間には 上記マイクロ波の発生手段５１から発生されたマイクロ波を上記加熱室５３に伝送するための導波管等のマイクロ波の伝送手段５４が具備される。上記加熱室５３の上面、底面及び内周壁は上記均一分散装置のボディ２０を連続的に繰り返してからなり、上記加熱室５３の前面には使用者の操作により加熱室５３を開閉させるドア５５が具備され、上記ドアの内面にも透視窓５６だけを除外した全ての部分は上記の均一分散装置のボディ２０が連続的に繰り返して設置される。この時、ボディ２０の反射部２２の上面２２１は加熱室５３の内部を向かうように設置される。
【００３３】
上記加熱室５３の上面、底面及び内周壁を構成する上記均一分散装置のボディ２０にはドア５５を閉じて加熱室５３を密閉させた状態でマイクロ波により被加熱物５２を加熱及び乾燥させる場合に発生される水蒸気を吸入し排気口５７に排出するための複数の通孔５８が所定の間隔をおいて形成される。この時、上記通孔等によりマイクロ波が漏洩されないようにするため通孔５８等の半径をマイクロ波が漏洩されない大きさ、例えば半径が０．６〜０．８ｍｍの範囲以内になるようにすることが望ましい。
【００３４】
このように構成される本発明の加熱システムは所定の被加熱物５２を加熱及び乾燥させる場合に先ずドア５５を開けて、加熱室５３内に被加熱物５２を入れた後、上記ドアを閉じて加熱システムを動作させる。上記加熱システムを動作させると、マイクロ波の発生手段５１が動作してマイクロ波を発生し、発生したマイクロ波はマイクロ波の伝送生手段５４により加熱室５３に伝送される。
【００３５】
このように加熱室５３に伝送されたマイクロ波は加熱室５３の上面、底面及び内周壁を形成すると共にドア５５の内側に設置される均一分散装置のボディ２０の反射部２２により均一に分散されながら反射されるのであって、加熱室５３内のマイクロ波は均一な電場で形成され、これにより被加熱物５２が均一に加熱及び乾燥される。この時、上記被加熱物５２が加熱及び乾燥されながら、発生される水蒸気及び匂い等はボディ２０に形成されている通孔５８を通って吸入された後排気口５７により外部に排出される。
【００３６】
図６ａ及び図６ｂは本発明の加熱システムで均一分散装置のボディ２０が配列される他の実施例等を示した図面である。図示したように、所定の長さを有する数個のボディ２０を連続的に形成し約正四角形になる基本ボディ６０を形成し、複数の基本ボディ６０を 図６ａに図示したように反射部２２が垂直及び水平になるようにジグザグに配列し、加熱システムの加熱室５３の上面、底面及び内壁面を形成し、また、ドア５５の内壁面に設置することができる。また、上記複数の基本ボディ６０を反射部２２が所定の角度で傾くようにするためジグザグに配列することもできる。
【００３７】
図７ａ、７ｂは加熱システムに本発明の均一分散装置を設置した状態を示す一つの他の実施例として、図７ａは加熱システムのドアを開けた状態を示した斜視図であり、図７ｂは加熱システムの断面図である。図示されたように、加熱システムの他の実施例には上記加熱室５３を構成するボディ２０の内側にマイクロ波が透過できるテフロン(登録商標)等からなる被加熱物の収納室７０を具備する。上記被加熱物の収納室７０の各面は上記ボディ２０の反射部２２の一番高い上面に接触される程度の大きさに形成することができる。
【００３８】
また、ドア５５の内壁面に付着されているボディ２０にもマイクロ波が透過できるテフロン(登録商標)等からなる開閉板７２を具備してドアを閉じる場合に被加熱物の収納室７０の前方が上記開閉板７２により閉じるようになる。このように加熱室５３内に別途の被加熱物の収納室７０を具備することは所定の被加熱物５２を加熱及び乾燥させた後、内部の掃除等を容易にするためである。ここで、上記被加熱物の収納室７０にも複数の通孔７４を形成し被加熱物５２を加熱及び乾燥させる場合に発生される水蒸気や匂い等を排気口５７により外部に排出できるようにすることが望ましい。
【００３９】
このような本発明の加熱システムで加熱室５３の内部の底面から３ｃｍの高さに０．７ｃｍの厚さのテフロン(登録商標)板を設置し、そのテフロン(登録商標)板に複数のチーズを互いに接触されるように配列し、マイクロ波の発生手段５１が２ｋＷの出力でマイクロ波を発生するようにし、この発生したマイクロ波をマイクロ波の伝送手段５４を通って加熱室５３に伝送し、上記チーズを加熱した後１分経過される時にチーズの各部位の温度を測定した結果、図８に図示されたような温度の等高線を得た。
【００４０】
上記図８で本発明の加熱システムはチーズの各部位の温度が２６．１〜２９．９℃に分布された。最高に加熱される部位と、最小に加熱される部位の温度の差が３．８℃であって、チーズが均一に加熱されることが分かる。
【００４１】
一方、上記した実施態様では加熱システムの加熱室及び被加熱物の収納室７０に作業者が直接所定の被加熱物５２を入れて、加熱及び乾燥させることを説明したが、本発明はこれに限らず、いろんなマイクロ波の加熱システムに適用することができる。例えば、左右両側を開放させコンベヤー（図面に図示しない）等により、所定の被加熱物を自動的に移送し、その開放された部位でマイクロ波が外部に漏出されないようにする加熱システムに本発明のボディ２０を設置し、マイクロ波を均一に分散及び被加熱物を均一に加熱及び乾燥することもできる。
【００４２】
産業上の利用分野
上述したように、本発明によると、マイクロ波を全ての反射角を均一に伝搬させる分散の特性を有することとして所定の被加熱物を均一に加熱及び乾燥させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 マイクロ波が平面入射される場合の反射特性を説明するための図面である。
【図２】 本発明の均一分散装置の構成を示す斜視図である。
【図３】 本発明の均一分散装置の構成を示す側面図である。
【図４】 本発明の均一分散装置にマイクロ波が入射する場合の反射特性を説明するための図面である。
【図５】 本発明の均一分散装置のボディ（２０）で加熱室を形成した加熱システムを示す一つの実施例を示す図面であり、（ａ）は加熱システムのドアを開けた状態を示す斜視図であり、（ｂ）は加熱システムの断面図である。
【図６】 （ａ）（ｂ）は本発明の加熱システムで均一分散装置のボディが配列される他の実施例等を示す図面である。
【図７】 本発明の均一分散装置のボディで形成した加熱室内に被加熱物の収納室を設置した実施例を示す図面であり、（ａ）は加熱システムのドアを開けた状態を示す斜視図であり、（ｂ）は加熱システムの断面図である。
【図８】 本発明の加熱システムにチーズを入れて、２ｋＷのマイクロ波を出力で１分加熱した後温度を測定した結果を示す温度の等高線である。

Claims (13)

1. マイクロ波を反射する材質からなり、上記マイクロ波の波長に比例し、全部同一の大きさの幅を有し、底面から反射部の幅に素数−１を掛けた分の高さを基準面とし各々相違する深さを有する複数の反射部を具備するボディからなり、 上記複数の反射部の幅（Ｗ）は上記マイクロ波の波長λ_ｇの１/ｎ（ここで、ｎは１、２、３、・・・である）倍に設定し、上記反射部の深さ（Ｄ_Ｋ）は上記基準面を基準として下記式（１）により各々設定されるマイクロ波を均一に分散する装置。
   Ｄ＝ｇ^１ ｍｏｄｕｌｅ ｐ、ｇ^２ｍｏｄｕｌｅ ｐ、・・・ｇ^ｐ−１ｍｏｄｕｌｅ ｐ、Ｄ_Ｋ ＝Ｄ・Ｗ-------------(１)
   ここで ｐは素数であり，ｇは素数ｐの最小原始根でありｇ^ｎ ｍｏｄｕｌｅ ｐはｇ^ｎをｐで除した殘りを意味する。
2. 上記複数の反射部の上面は水平になり、側面は垂直になることを特徴とする請求項１に記載の装置。
3. 上記複数の反射部の幅は上記マイクロ波の波長λ_ｇの１／（４ｎ）倍に設定されることを特徴とする請求項１に記載の装置。
4. マイクロ波を反射する材質からなり、マイクロ波の波長に比例し全部同一の大きさの幅を有し、底面を基準面とし各々相違する高さを有する複数の反射部を具備するボディからなり、
   上記複数の反射部の幅（Ｗ）はマイクロ波の波長λ_ｇの１/ｎ（ここで、ｎは１、２、３、・・・である）倍に設定され、
   底面を基準とし複数の反射部の高さ（Ｈ_Ｋ）は下記式（２）により各々設定されるマイクロ波を均一に分散する装置。
   Ｈ＝Ｎ^２ｍｏｄｕｌｅ ｐ、Ｈ_Ｋ＝Ｈ・Ｗ --------(２)
   ここで、Ｎは０、１、２、・・・、ｐであり、ｐは素数であり、Ｎ^２ｍｏｄｕｌｅ ｐはＮ^２をｐで割った残りの値を意味する。
5. 上記複数の反射部の上面は水平になり、側面は垂直になることを特徴とする請求項４に記載の装置。
6. 上記複数の反射部の幅はマイクロ波の波長λ_ｇの１／（４ｎ）倍に設定されることを特徴とする請求項４に記載の装置。
7. マイクロ波を発生するマイクロ波の発生手段と；
   上記マイクロ波の発生手段から発生するマイクロ波を伝送するマイクロ波の伝送手段と；
   上記マイクロ波の伝送手段により伝送するマイクロ波を分散させ被加熱物を加熱及び乾燥させる加熱室と；
   上記加熱室の前方に開閉可能に設置されたドア；及び、
   上記加熱室の上面、底面及び内壁面はマイクロ波を反射する材質からなり、マイクロ波の波長Ｗに比例し、同一の大きさの幅を有し、基準面（または底面）を基準とし各々相違する深さ（または高さ）を有する複数の反射部等を具備するボディが連続的に繰り返して形成され、
   上記ボディは；
   上記複数の反射部の幅（Ｗ）がマイクロ波の波長λ_ｇ の１/ｎ倍に設定され、底面から反射部の幅に素数−１を掛けた分の高さを基準とし複数の反射部の深さ（Ｄ_Ｋ）が下記式（３）により各々設定されることを特徴とするマイクロ波を均一に分散する装置を用いる加熱システム。
   Ｄ＝ｇ^１ ｍｏｄｕｌｅ ｐ、ｇ^２ｍｏｄｕｌｅ ｐ、・・・ｇ^ｐ−１ｍｏｄｕｌｅ ｐ、Ｄ_Ｋ ＝Ｄ・Ｗ-------------(3)
   ここで ｐは素数であり，ｇは素数ｐの最小原始根でありｇ^ｎｍｏｄｕｌｅ ｐはｇ^ｎをｐで除した殘りを意味する。
8. 上記ボディは；
   上記複数の反射部の幅（Ｗ）がマイクロ波の波長λ_ｇの１/ｎ倍に設定され、底面を基準とし複数の反射部の高さ（Ｈ_Ｋ）が下記式（４）により各々設定されることを特徴とする請求項７に記載の加熱システム。
   Ｈ＝Ｎ^２ｍｏｄｕｌｅ ｐ、Ｈ_Ｋ＝Ｈ・Ｗ --------(４)
   ここで、Ｎは０、１、２、・・・、ｐであり、ｐは素数であり、Ｎ^２ｍｏｄｕｌｅ ｐはＮ^２をｐで割った残りの値を意味する。
9. 上記ボディは；
   垂直及び水平になるようにジグザグに配列されて設置されることを特徴とする請求項７に記載の加熱システム。
10. 上記ボディは；
    上記反射部が傾く状態に垂直及び水平になるようにジグザグに配列されて設置されることを特徴とする請求項７に記載の加熱システム。
11. 上記ボディには；
    マイクロ波は漏洩されずに、被加熱物が加熱及び乾燥されながら発生される水蒸気及び匂いを排出することができる大きさの複数の通孔が所定の間隔をおいて形成されていることを特徴とする請求項７ないし請求項１０のいずれの一項に記載の加熱システム。
12. 上記ボディからなる加熱室の内側にマイクロ波が透過することができる材質からなる被加熱物の収納室を有することを特徴とする請求項７ないし請求項１０のいずれか一項に記載の加熱システム。
13. 上記ドアの内側にマイクロ波を反射する材質からなり、マイクロ波の波長に比例し、同一の大きさの幅を有し、基準面を基準とし各々相違する深さを有する複数の反射部等からなるボディが具備されることを特徴とする請求項７に記載の加熱システム。

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