JPS63254321A - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
- Publication number
- JPS63254321A JPS63254321A JP8950187A JP8950187A JPS63254321A JP S63254321 A JPS63254321 A JP S63254321A JP 8950187 A JP8950187 A JP 8950187A JP 8950187 A JP8950187 A JP 8950187A JP S63254321 A JPS63254321 A JP S63254321A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating chamber
- microwaves
- heating
- food
- wall
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 58
- 230000005684 electric field Effects 0.000 abstract description 11
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract description 6
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 6
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 6
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
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- 238000010411 cooking Methods 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Electric Ovens (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、加熱調理される食品の加熱むらを軽減し、均
一な加熱を実現できる高周波加熱装置に関するものであ
る。
一な加熱を実現できる高周波加熱装置に関するものであ
る。
従来の技術
高周波加熱装置においては、良好かつ効率的な加熱調理
を行うために、均一加熱が可能となるような加熱室およ
び導波管取付部の設計を行う必要がある。一般に高周波
を用いた誘電加熱の場合、食品内部での単位体積、単位
時間あたシの発熱量Ｐは次式で与えられる。
を行うために、均一加熱が可能となるような加熱室およ
び導波管取付部の設計を行う必要がある。一般に高周波
を用いた誘電加熱の場合、食品内部での単位体積、単位
時間あたシの発熱量Ｐは次式で与えられる。
Ｐ＝ＫｘＦｘｌＥ１２ｘｇｘｔａｎδ
ここで、Ｋは比例定数、Ｆは高周波（以下マイクロ波）
の周波数（電子レンジの場合、２４５０ＭＨｚ）、εは
食品の比誘電率の実数部、ｔａｎδは誘電力、Ｅは食品
内部における電界である。上式において、Ｋ、Ｆ、
ε、 ｔａｎδは食品により決まる定数であることから
、均一加熱を実現するためには食品内部での電界強度Ｉ
ＥＩをできるだけ一様にすることが必要となる。
の周波数（電子レンジの場合、２４５０ＭＨｚ）、εは
食品の比誘電率の実数部、ｔａｎδは誘電力、Ｅは食品
内部における電界である。上式において、Ｋ、Ｆ、
ε、 ｔａｎδは食品により決まる定数であることから
、均一加熱を実現するためには食品内部での電界強度Ｉ
ＥＩをできるだけ一様にすることが必要となる。
従来、この電界強度を一様にして加熱むらを軽減する手
段として、加熱室の壁面に平行にしぼりを入れ、マイク
ロ波を拡散し、さらに、加熱室の床面にターンテーブル
を設け、食品をこのターンテーブルに乗せて加熱中に回
転させることにより、食品内部の電界強度分布を周期的
に変動させる方法が多く行われていた。
段として、加熱室の壁面に平行にしぼりを入れ、マイク
ロ波を拡散し、さらに、加熱室の床面にターンテーブル
を設け、食品をこのターンテーブルに乗せて加熱中に回
転させることにより、食品内部の電界強度分布を周期的
に変動させる方法が多く行われていた。
以下、図面を参照しながら上述した従来の加熱むらを軽
減する方法について説明する。
減する方法について説明する。
第２図は、加熱むらを軽減する方法に関する従来の構成
例を示すものである。第２図において、１は高周波発振
器（以下マグネトロン）、２はマグネトロン１の放射ア
ンテナ、３はアンテナ２より放射されたマイクロ波の伝
送路となる導波管、５は加熱室、４は導波管３と加熱室
６とを高周波的に結合するための結合孔、８は食品を乗
せるための受皿、６は受皿８を回転させるための駆動部
、７は駆動部６からのトルクを受皿８に伝達するための
シャフト、９はマイクロ波により誘電加熱される食品、
１ｏは加熱室５につけた壁面に平行なしぼりである。
例を示すものである。第２図において、１は高周波発振
器（以下マグネトロン）、２はマグネトロン１の放射ア
ンテナ、３はアンテナ２より放射されたマイクロ波の伝
送路となる導波管、５は加熱室、４は導波管３と加熱室
６とを高周波的に結合するための結合孔、８は食品を乗
せるための受皿、６は受皿８を回転させるための駆動部
、７は駆動部６からのトルクを受皿８に伝達するための
シャフト、９はマイクロ波により誘電加熱される食品、
１ｏは加熱室５につけた壁面に平行なしぼりである。
以上のように構成された高周波加熱装置において、マグ
ネトロン１に結合された放射アンテナ２から放射された
マイクロ波は導波管３の中を結合孔４へ伝搬し、結合孔
４から加熱室５内部へ放射される。一方、加熱室６内部
におかれた受皿８は、駆動部６により生ずるトルクをシ
ャフト７を介して受けることにより、受皿８の上におか
れた食品９と共に回転する。ところで、加熱室６内部に
マイクロ波が照射される場合、加熱室６内部においては
、内壁面で何回も反射を繰り返したマイクロ波が干渉す
ることにより、定在波モードが生ずるようになる。この
ため、電界強度に関して強弱の分布が存在するようにな
シ、食品の加熱むらを引き起こす原因となる。上記した
構成においては、食品９を回転移動させることにより食
品９の内部の電界強度分布を変化させ、またしぼシ１０
によりマイクロ波の反射路を拡散し、加熱むらの軽減を
図っている。
ネトロン１に結合された放射アンテナ２から放射された
マイクロ波は導波管３の中を結合孔４へ伝搬し、結合孔
４から加熱室５内部へ放射される。一方、加熱室６内部
におかれた受皿８は、駆動部６により生ずるトルクをシ
ャフト７を介して受けることにより、受皿８の上におか
れた食品９と共に回転する。ところで、加熱室６内部に
マイクロ波が照射される場合、加熱室６内部においては
、内壁面で何回も反射を繰り返したマイクロ波が干渉す
ることにより、定在波モードが生ずるようになる。この
ため、電界強度に関して強弱の分布が存在するようにな
シ、食品の加熱むらを引き起こす原因となる。上記した
構成においては、食品９を回転移動させることにより食
品９の内部の電界強度分布を変化させ、またしぼシ１０
によりマイクロ波の反射路を拡散し、加熱むらの軽減を
図っている。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら第２図に示すような構成では食品の回転に
よりミ界エネルギーは周方向には平均化されるが、半径
方向には平均化されにくいため、例えば周辺部はよく加
熱されるが中央付近は生焼けであるといったことが起こ
る。また、壁面しぼシ１ｏも最も面積が大きな部分が加
熱室壁面と平行であるために、十分な効果が得られない
。
よりミ界エネルギーは周方向には平均化されるが、半径
方向には平均化されにくいため、例えば周辺部はよく加
熱されるが中央付近は生焼けであるといったことが起こ
る。また、壁面しぼシ１ｏも最も面積が大きな部分が加
熱室壁面と平行であるために、十分な効果が得られない
。
本発明は上記問題点に鑑み、従来の構成より複雑化する
ことなく、加熱室内部のマイクロ波を一様に拡散させる
ことにより、加熱むらの少ない効率的な高周波加熱装置
を提供することを目的としている。
ことなく、加熱室内部のマイクロ波を一様に拡散させる
ことにより、加熱むらの少ない効率的な高周波加熱装置
を提供することを目的としている。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するために本発明の高周波加熱装置は
、加熱室壁面のしぼりを、壁面に対し斜め面の面積の多
い構造にしたものである。
、加熱室壁面のしぼりを、壁面に対し斜め面の面積の多
い構造にしたものである。
作 用
本発明は上記構成により、加熱室内部に伝送されたマイ
クロ波が平行な壁面間で反射を繰り返すことにより、強
い定在波が発生することを回避し、壁面の傾斜したしぼ
りにより、マイクロ波の反射路が加熱室内に分布するこ
とにより電界強度の強弱分布すなわち食品の加熱むらを
大幅に軽減することができる。
クロ波が平行な壁面間で反射を繰り返すことにより、強
い定在波が発生することを回避し、壁面の傾斜したしぼ
りにより、マイクロ波の反射路が加熱室内に分布するこ
とにより電界強度の強弱分布すなわち食品の加熱むらを
大幅に軽減することができる。
実施例
以下、本発明の一実施例の高周波加熱装置について、図
面を参照しながら説明する。
面を参照しながら説明する。
第１図は本発明の一実施例における高周波加熱装置の断
面図を示す。第１図において、マグネトロン１．放射ア
ンテナ２．導波管３．結合孔４゜加熱室５．駆動部６．
シャフト７、受皿８１食品９は第２図に示す従来例の構
成と同じで同一番号を付与する。１１は、加熱室６の壁
面の斜めしぼりである。しぼり１１は、壁面に対し斜め
平面である。
面図を示す。第１図において、マグネトロン１．放射ア
ンテナ２．導波管３．結合孔４゜加熱室５．駆動部６．
シャフト７、受皿８１食品９は第２図に示す従来例の構
成と同じで同一番号を付与する。１１は、加熱室６の壁
面の斜めしぼりである。しぼり１１は、壁面に対し斜め
平面である。
以上のように構成された高周波加熱装置において、マグ
ネトロン１の放射アンテナ２から放射されたマイクロ波
は、導波管３の中を伝送されて結合孔４より加熱室５の
内部に放射される。加熱室６内部に放射されたマイクロ
波は、加熱室５内部で反射を繰シ返すが、壁面の斜めし
ぼり１１によりマイクロ波が、同じ壁面間を反射を繰り
返すことはなくなる。そのため、マイクロ波は同じ反射
路を繰り返すことは、従来例の壁面に平行なしぼり１ｏ
にくらべて少なくなる。その結果、マイクロ波は拡散さ
れ反射マイクロ波の干渉により形成される定在波がつく
る場所による電界強度分布の強弱は、大幅に軽減される
。さらに、この場合ターンテーブルの付加により、回転
移動による電界強度分布の変化の相乗効果により食品９
はより均−加熱に近い状態にすることができる。
ネトロン１の放射アンテナ２から放射されたマイクロ波
は、導波管３の中を伝送されて結合孔４より加熱室５の
内部に放射される。加熱室６内部に放射されたマイクロ
波は、加熱室５内部で反射を繰シ返すが、壁面の斜めし
ぼり１１によりマイクロ波が、同じ壁面間を反射を繰り
返すことはなくなる。そのため、マイクロ波は同じ反射
路を繰り返すことは、従来例の壁面に平行なしぼり１ｏ
にくらべて少なくなる。その結果、マイクロ波は拡散さ
れ反射マイクロ波の干渉により形成される定在波がつく
る場所による電界強度分布の強弱は、大幅に軽減される
。さらに、この場合ターンテーブルの付加により、回転
移動による電界強度分布の変化の相乗効果により食品９
はより均−加熱に近い状態にすることができる。
なお、本実施例ではしぼシ１１を側壁につけたが他の壁
面につけてもよく、また複数の壁面につけてもよい。
面につけてもよく、また複数の壁面につけてもよい。
なお、本実施例ではしぼシ１１を平面状としたが、凹凸
面状であってもよい。
面状であってもよい。
発明の効果
本発明は、加熱室の壁面に斜め面のしぼシを取り付ける
ことにより、加熱室内に放射されるマイクロ波を拡散し
、場所による電界強度の強弱分布を大幅に軽減し、食品
をほぼ均一な状態に加熱することのできる優れた高周波
加熱装置を実現できるものである。
ことにより、加熱室内に放射されるマイクロ波を拡散し
、場所による電界強度の強弱分布を大幅に軽減し、食品
をほぼ均一な状態に加熱することのできる優れた高周波
加熱装置を実現できるものである。
第１図は本発明の一実施例の高周波加熱装置を示す断面
図、第２図は従来の高周波加熱装置の断面図である。 １・・・・・・マグネトロン、２・・・・・・放射アン
テナ、３・・・・・・導波管、４・・・・・・結合孔、
６・・・・・・加熱室、６・・・・・・駆動部、７・・
・・・・シャフト、８・・・・・・受皿、９・・・・・
・食品、１ｏ・・・・・・しぼシ、１１・・・・・・し
ぼり。
図、第２図は従来の高周波加熱装置の断面図である。 １・・・・・・マグネトロン、２・・・・・・放射アン
テナ、３・・・・・・導波管、４・・・・・・結合孔、
６・・・・・・加熱室、６・・・・・・駆動部、７・・
・・・・シャフト、８・・・・・・受皿、９・・・・・
・食品、１ｏ・・・・・・しぼシ、１１・・・・・・し
ぼり。
Claims (1)
- 被加熱物を収容可能な加熱室と、高周波発振器と、前記
高周波発振器より出力された高周波電力を前記加熱室へ
導く導波管とを有し、前記加熱室の少なくとも１壁面に
壁面に対して斜め面のしぼりを取り付けたことを特徴と
する高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8950187A JPS63254321A (ja) | 1987-04-10 | 1987-04-10 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8950187A JPS63254321A (ja) | 1987-04-10 | 1987-04-10 | 高周波加熱装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63254321A true JPS63254321A (ja) | 1988-10-21 |
Family
ID=13972513
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8950187A Pending JPS63254321A (ja) | 1987-04-10 | 1987-04-10 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63254321A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6114677A (en) * | 1996-06-03 | 2000-09-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Microwave heating apparatus having a metal plate rotatably disposed in a wave guide |
| EP1542826B2 (en) † | 2002-09-17 | 2012-04-11 | The Boeing Company | Method and apparatus for radiation assisted friction stir welding |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4824212U (ja) * | 1971-07-28 | 1973-03-20 | ||
| JPS5027942U (ja) * | 1973-07-09 | 1975-03-31 | ||
| JPS53106948A (en) * | 1977-02-28 | 1978-09-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | High-frequency heating apparatus |
-
1987
- 1987-04-10 JP JP8950187A patent/JPS63254321A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4824212U (ja) * | 1971-07-28 | 1973-03-20 | ||
| JPS5027942U (ja) * | 1973-07-09 | 1975-03-31 | ||
| JPS53106948A (en) * | 1977-02-28 | 1978-09-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | High-frequency heating apparatus |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6114677A (en) * | 1996-06-03 | 2000-09-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Microwave heating apparatus having a metal plate rotatably disposed in a wave guide |
| EP1542826B2 (en) † | 2002-09-17 | 2012-04-11 | The Boeing Company | Method and apparatus for radiation assisted friction stir welding |
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