JP3520879B2 - ベンゾフルオレン化合物及びその製造方法 - Google Patents
ベンゾフルオレン化合物及びその製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、特に電子写真感光体に
用いられるアクセプター性化合物として有用な新規ベン
ゾフルオレン化合物、及びそのベンゾフルオレン化合物
の製造方法に関する。
用いられるアクセプター性化合物として有用な新規ベン
ゾフルオレン化合物、及びそのベンゾフルオレン化合物
の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、電子写真方式において使用される
感光体の光導電性素材として、セレン、セレン−テルル
合金、酸化亜鉛などの無機光導電性物質が広く用いられ
てきたが、近年、有機光導電性物質を用いた電子写真感
光体に関する研究が進み、その一部は実用化されてい
る。ここにいう「電子写真方式」とは、一般に、光導電
性の感光体をまず暗所で、例えばコロナ放電などによっ
て均一に帯電せしめ、次いで画像露光し、露光部のみの
電荷を選択的に放電させて静電潜像を得、この潜像部を
トナーなどを用いて現像し可視化して画像を形成するよ
うにした画像形成方法の一つである。
感光体の光導電性素材として、セレン、セレン−テルル
合金、酸化亜鉛などの無機光導電性物質が広く用いられ
てきたが、近年、有機光導電性物質を用いた電子写真感
光体に関する研究が進み、その一部は実用化されてい
る。ここにいう「電子写真方式」とは、一般に、光導電
性の感光体をまず暗所で、例えばコロナ放電などによっ
て均一に帯電せしめ、次いで画像露光し、露光部のみの
電荷を選択的に放電させて静電潜像を得、この潜像部を
トナーなどを用いて現像し可視化して画像を形成するよ
うにした画像形成方法の一つである。
【０００３】このような電子写真感光体に要求される基
本的な特性としては、（１）暗所で適当な電位に帯電で
きること、（２）暗所において放電が少ないこと、
（３）光照射によって速やかに放電することなどが挙げ
られる。しかし、従来の有機光導電性物質はそれらの要
求をかならずしも満足していない。
本的な特性としては、（１）暗所で適当な電位に帯電で
きること、（２）暗所において放電が少ないこと、
（３）光照射によって速やかに放電することなどが挙げ
られる。しかし、従来の有機光導電性物質はそれらの要
求をかならずしも満足していない。
【０００４】一方、セレンや酸化亜鉛などの無機光導電
性物質は以前から知られており、中でもセレンは広く実
用に供されている。しかし、最近電子写真のプロセスの
点から、感光体に対する種々の要求、即ち一例として前
述の基本的電子写真特性に加えて、例えばその形状につ
いても可撓性のあるベルト状の感光体などが要求される
ようになってきている。しかし、セレンの場合は一般に
このような形状のものに作成することは困難である。近
年、これらの無機物質の欠点を排除するために種々な有
機物質を用いた電子写真感光体が提案され、一部実用に
供されているものもある。例えば、スチルベン誘導体
（特開昭５８−１９８４２５号、特開昭５８−１８９１
４５号）、トリフェニールアミン誘導体（特開昭５８−
６５４４０号）などのドナー性化合物、及びフルオレニ
リデンメタン化合物（特開昭６０−６９６５７号）、ナ
フタレンジカルボン酸イミド化合物（特開平５−２５１
３６号）などのアクセプター性化合物が挙げられるが、
未だ充分に満足するものが得られていないのが実情であ
る。
性物質は以前から知られており、中でもセレンは広く実
用に供されている。しかし、最近電子写真のプロセスの
点から、感光体に対する種々の要求、即ち一例として前
述の基本的電子写真特性に加えて、例えばその形状につ
いても可撓性のあるベルト状の感光体などが要求される
ようになってきている。しかし、セレンの場合は一般に
このような形状のものに作成することは困難である。近
年、これらの無機物質の欠点を排除するために種々な有
機物質を用いた電子写真感光体が提案され、一部実用に
供されているものもある。例えば、スチルベン誘導体
（特開昭５８−１９８４２５号、特開昭５８−１８９１
４５号）、トリフェニールアミン誘導体（特開昭５８−
６５４４０号）などのドナー性化合物、及びフルオレニ
リデンメタン化合物（特開昭６０−６９６５７号）、ナ
フタレンジカルボン酸イミド化合物（特開平５−２５１
３６号）などのアクセプター性化合物が挙げられるが、
未だ充分に満足するものが得られていないのが実情であ
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の感光
体における光導電素材の持つ欠点を除去した、特に電子
写真用光導電性素材して有用な新規なベンゾフルオレン
化合物、及びその製造方法を提供することを目的とす
る。
体における光導電素材の持つ欠点を除去した、特に電子
写真用光導電性素材して有用な新規なベンゾフルオレン
化合物、及びその製造方法を提供することを目的とす
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決すべく従来より研究を重ねてきた結果、特定の
一群の化合物を見出すにいたり、本発明を完成した。す
なわち、本発明によれば、下記一般式（Ｉ）（化１）で
表されるベンゾフルオレン化合物が提供される。
題を解決すべく従来より研究を重ねてきた結果、特定の
一群の化合物を見出すにいたり、本発明を完成した。す
なわち、本発明によれば、下記一般式（Ｉ）（化１）で
表されるベンゾフルオレン化合物が提供される。
【化１】
（式中、Ｒは置換又は無置換のアルキル基、Ａは酸素原
子或いは下記一般式（II）で表されるメチレン基を表
す。）
子或いは下記一般式（II）で表されるメチレン基を表
す。）
【化２】
（式中、Ｘ及びＹは同一又は相異なっていてもよく、水
素原子、置換又は無置換のフェニル基、シアノ基及び置
換又は無置換のアルコキシカルボニル基よりなる群から
選ばれた少なくとも１種の基を表す。）
素原子、置換又は無置換のフェニル基、シアノ基及び置
換又は無置換のアルコキシカルボニル基よりなる群から
選ばれた少なくとも１種の基を表す。）
【０００７】前記一般式（Ｉ）のＲにおいて、アルキル
基としては炭素数１から１０のアルキル基を表し、その
置換基としてはフェニル基；フッ素原子、塩素原子等の
ハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ
基等が挙げられ、その中で、特に炭素数１から４のアル
キル基及びそのフッ素置換体がバインダー樹脂との相溶
性が優れている点で好適に使用することができる。ま
た、前記一般式（II）のＸ及びＹにおいて、フェニル基
の置換基としては、メチル基、エチル基等のアルキル
基；トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基等のハ
ロゲン化アルキル基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子
等のハロゲン原子；シアノ基、及びニトロ基等が挙げら
れ、これらの置換基の中で特にメチル基、エチル基、及
びトリフルオロメチル基がバインダー樹脂との相溶性が
優れている点で好適に使用することができる。アルコキ
シカルボニル基のアルコキシ基としては炭素数１から１
０のアルキルオキシ基を表し、それらのアルキルオキシ
基の置換基としてはフェニル基；フッ素原子、塩素原子
等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基等のアルコ
キシ基等が挙げられ、その中で特に、炭素数１から４の
アルコキシ基及びそのフッ素置換体、メトキシ基置換
体、エトキシ基置換体がバインダー樹脂との相溶性が優
れている点で好適に使用することができる。
基としては炭素数１から１０のアルキル基を表し、その
置換基としてはフェニル基；フッ素原子、塩素原子等の
ハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ
基等が挙げられ、その中で、特に炭素数１から４のアル
キル基及びそのフッ素置換体がバインダー樹脂との相溶
性が優れている点で好適に使用することができる。ま
た、前記一般式（II）のＸ及びＹにおいて、フェニル基
の置換基としては、メチル基、エチル基等のアルキル
基；トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基等のハ
ロゲン化アルキル基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子
等のハロゲン原子；シアノ基、及びニトロ基等が挙げら
れ、これらの置換基の中で特にメチル基、エチル基、及
びトリフルオロメチル基がバインダー樹脂との相溶性が
優れている点で好適に使用することができる。アルコキ
シカルボニル基のアルコキシ基としては炭素数１から１
０のアルキルオキシ基を表し、それらのアルキルオキシ
基の置換基としてはフェニル基；フッ素原子、塩素原子
等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基等のアルコ
キシ基等が挙げられ、その中で特に、炭素数１から４の
アルコキシ基及びそのフッ素置換体、メトキシ基置換
体、エトキシ基置換体がバインダー樹脂との相溶性が優
れている点で好適に使用することができる。
【０００８】本発明の前記一般式（Ｉ）のベンゾフルオ
レン化合物の具体例を下記一般式（Ｉ−１）、（Ｉ−
２））との関連で表１及び表２に示すが、これらに限定
されるものではない。
レン化合物の具体例を下記一般式（Ｉ−１）、（Ｉ−
２））との関連で表１及び表２に示すが、これらに限定
されるものではない。
【０００９】
【表１】
【００１０】
【表２−（１）】
【００１１】
【表２−（２）】
【００１２】
【表２−（３）】
【００１３】
【表２−（４）】
【００１４】
【表２−（５）】
【００１５】
【表２−（６）】
【００１６】
【表２−（７）】
【００１７】
【表２−（８）】
【００１８】
【表２−（９）】
【００１９】更に、本発明によれば、前記一般式（Ｉ）
（化１）で表わされるベンゾフルオレン化合物の製造方
法が提供される。即ち、この化合物は、例えば次の反応
工程（Ａ）及び（Ｂ）に従って製造することができる。
（化１）で表わされるベンゾフルオレン化合物の製造方
法が提供される。即ち、この化合物は、例えば次の反応
工程（Ａ）及び（Ｂ）に従って製造することができる。
【化５】
【００２０】前記反応工程について説明すると、ニンヒ
ドリン（III）とｏ−フェニレンジ酢酸ジアルキル（I
V）とを反応させることにより、本発明の目的物の１つ
である一般式（Ｉ−１）で表される化合物を得ることが
できる（反応工程Ａ）。反応工程Ａは、通常無溶媒か、
メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、１，４
−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン或いはＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド等の極性溶媒中、或いはベンゼ
ン、トルエン、キシレンなどのベンゼン系溶媒中で、必
要に応じて、例えば硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、或
いは酢酸等の酸触媒、例えばピリジン、キノリン、ピペ
リジン、モルホリン、或いはトリエチルアミン等の有機
塩基触媒、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、或いは酢酸
アンモニウム等の酢酸塩触媒、ナトリウムメチラート、
ナトリウムエチラート、或いはｔ−ブトキシカリウム等
の金属アルコラート触媒、苛性ソーダ、苛性カリウム、
或いは炭酸カリウム等の無機塩基触媒等を使用して行う
ことができる。反応温度は０℃から１５０℃、好ましく
は０℃から８０℃で行われる。
ドリン（III）とｏ−フェニレンジ酢酸ジアルキル（I
V）とを反応させることにより、本発明の目的物の１つ
である一般式（Ｉ−１）で表される化合物を得ることが
できる（反応工程Ａ）。反応工程Ａは、通常無溶媒か、
メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、１，４
−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン或いはＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド等の極性溶媒中、或いはベンゼ
ン、トルエン、キシレンなどのベンゼン系溶媒中で、必
要に応じて、例えば硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、或
いは酢酸等の酸触媒、例えばピリジン、キノリン、ピペ
リジン、モルホリン、或いはトリエチルアミン等の有機
塩基触媒、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、或いは酢酸
アンモニウム等の酢酸塩触媒、ナトリウムメチラート、
ナトリウムエチラート、或いはｔ−ブトキシカリウム等
の金属アルコラート触媒、苛性ソーダ、苛性カリウム、
或いは炭酸カリウム等の無機塩基触媒等を使用して行う
ことができる。反応温度は０℃から１５０℃、好ましく
は０℃から８０℃で行われる。
【００２１】前記一般式（Ｉ−２）の化合物は前記一般
式（Ｉ−１）で表されるベンゾフルオレン化合物と前記
一般式（Ｖ）で表されるメチレン化合物とを反応させる
ことにより行うことができる（反応工程Ｂ）。反応工程
Ｂは、通常無溶媒か、ジクロロメタン、１，２−ジクロ
ロエタン等のハロゲン系溶媒、メタノール、エタノー
ル、ブタノール、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキ
サン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の極性溶媒中
で、必要に応じて、酸触媒、塩基触媒、或いは酸−塩基
両触媒下で行うことができる。前記酸触媒としては、例
えば酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸、硫酸、
ポリリン酸等の無機酸、塩化亜鉛、四塩化チタン等のル
イス酸等が挙げられ、前記塩基触媒としては、ピリジ
ン、ピペリジン、Ｎ−メチルピペリジン、モルホリン、
Ｎ−メチルモルホリン、或いはトリエチルアミン等の有
機塩基、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、或いは酢酸ア
ンモニウム等の酢酸塩、苛性ソーダ、苛性カリウム、或
いは炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメチラー
ト、ナトリウムエチラート、或いはｔ−ブトキシカリウ
ム等の金属アルコラート等が挙げられる。
式（Ｉ−１）で表されるベンゾフルオレン化合物と前記
一般式（Ｖ）で表されるメチレン化合物とを反応させる
ことにより行うことができる（反応工程Ｂ）。反応工程
Ｂは、通常無溶媒か、ジクロロメタン、１，２−ジクロ
ロエタン等のハロゲン系溶媒、メタノール、エタノー
ル、ブタノール、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキ
サン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の極性溶媒中
で、必要に応じて、酸触媒、塩基触媒、或いは酸−塩基
両触媒下で行うことができる。前記酸触媒としては、例
えば酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸、硫酸、
ポリリン酸等の無機酸、塩化亜鉛、四塩化チタン等のル
イス酸等が挙げられ、前記塩基触媒としては、ピリジ
ン、ピペリジン、Ｎ−メチルピペリジン、モルホリン、
Ｎ−メチルモルホリン、或いはトリエチルアミン等の有
機塩基、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、或いは酢酸ア
ンモニウム等の酢酸塩、苛性ソーダ、苛性カリウム、或
いは炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメチラー
ト、ナトリウムエチラート、或いはｔ−ブトキシカリウ
ム等の金属アルコラート等が挙げられる。
【００２２】本発明に係る新規なベンゾフルオレン化合
物は、電子写真用感光体における光導電性素材として極
めて有用であり、染料やルイス酸などの増感剤によって
光学的或いは化学的に増感される。また、有機顔料或い
は無機顔料を電荷発生物質とするいわゆる機能分離型感
光体における電荷輸送物質としてとりわけ有用である。
前記増感剤として例えばメチルバイオレット、クリスタ
ルバイオレット等のトリアリルメタン染料、ローズベン
ガル、エリスロシン、ローダミンＢ等のキサンテン染
料、メチレンブルー等のチアジン染料、２、４、７−ト
リニトリ−９−フルオレノンが挙げられる。また、有機
顔料としては、シーアイピグメントブルー２５（Ｃ．
Ｉ．Ｎｏ．２１１８０）、シーアイピグメントレッド４
１（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．２１２００）、シーアイベーシック
レッド３（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５２１０）等のアゾ系顔
料、シーアイピグメントブルー１６（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．７
４１００）等のフタロシアニン系顔料、シーアイバット
ブラウン５（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．７３４１０）、シーアイバ
ットダイ（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．７３０３０）等のインジゴ系
顔料、アルゴスカーレットＢ、インダンスレンスカーレ
ットＲ等のペリレン顔料が挙げられる。また、セレン、
セレン−テルル合金、硫化カドミウム、α−シリコン等
の無機顔料等も使用できる。本発明のベンゾフルオレン
化合物は、電子写真用光導電性素材として有用であるば
かりでなく、太陽電池、有機ＥＬ素子等の電子デバイス
としてエレクトロニクス分野で好適に使用することがで
きる。
物は、電子写真用感光体における光導電性素材として極
めて有用であり、染料やルイス酸などの増感剤によって
光学的或いは化学的に増感される。また、有機顔料或い
は無機顔料を電荷発生物質とするいわゆる機能分離型感
光体における電荷輸送物質としてとりわけ有用である。
前記増感剤として例えばメチルバイオレット、クリスタ
ルバイオレット等のトリアリルメタン染料、ローズベン
ガル、エリスロシン、ローダミンＢ等のキサンテン染
料、メチレンブルー等のチアジン染料、２、４、７−ト
リニトリ−９−フルオレノンが挙げられる。また、有機
顔料としては、シーアイピグメントブルー２５（Ｃ．
Ｉ．Ｎｏ．２１１８０）、シーアイピグメントレッド４
１（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．２１２００）、シーアイベーシック
レッド３（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．４５２１０）等のアゾ系顔
料、シーアイピグメントブルー１６（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．７
４１００）等のフタロシアニン系顔料、シーアイバット
ブラウン５（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．７３４１０）、シーアイバ
ットダイ（Ｃ．Ｉ．Ｎｏ．７３０３０）等のインジゴ系
顔料、アルゴスカーレットＢ、インダンスレンスカーレ
ットＲ等のペリレン顔料が挙げられる。また、セレン、
セレン−テルル合金、硫化カドミウム、α−シリコン等
の無機顔料等も使用できる。本発明のベンゾフルオレン
化合物は、電子写真用光導電性素材として有用であるば
かりでなく、太陽電池、有機ＥＬ素子等の電子デバイス
としてエレクトロニクス分野で好適に使用することがで
きる。
【００２３】
【実施例】次に実施例及び応用例をあげて本発明をさら
に具体的に説明する。ここでの部は重量基準である。
に具体的に説明する。ここでの部は重量基準である。
【００２４】実施例１
１，４−ジブトキシカルボニル−２，３−ベンゾ−９−
フルオレンの合成（化合物Ｎｏ．４） 市販のニンヒドリン１７．８１ｇ、ｏ−フェニレンジ酢
酸ジブチルエステル１５．３２ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド２００ｍｌの溶解し、撹拌しながら、氷冷
下、ｔ−ブトキシカリウム１１．２２ｇを５回に分けて
約１時間を要して加え、その後、同条件下、４時間撹拌
しを続ける。反応後、反応混合物を氷上に注ぎ、トルエ
ンで抽出した。次にトルエン溶液を２回水洗し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した後、トルエンを留去し、残渣
に対し、トルエンを展開溶媒に用いたカラムクロマトグ
ラフィー処理を行い、得られた組成の目的物をエタノー
ルから再結晶して純粋の目的物１７．０５ｇを得た。 融点：１１５．５〜１１６．５℃ また、このものの赤外線吸収スペクトル図を図１に示
す。
フルオレンの合成（化合物Ｎｏ．４） 市販のニンヒドリン１７．８１ｇ、ｏ−フェニレンジ酢
酸ジブチルエステル１５．３２ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド２００ｍｌの溶解し、撹拌しながら、氷冷
下、ｔ−ブトキシカリウム１１．２２ｇを５回に分けて
約１時間を要して加え、その後、同条件下、４時間撹拌
しを続ける。反応後、反応混合物を氷上に注ぎ、トルエ
ンで抽出した。次にトルエン溶液を２回水洗し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した後、トルエンを留去し、残渣
に対し、トルエンを展開溶媒に用いたカラムクロマトグ
ラフィー処理を行い、得られた組成の目的物をエタノー
ルから再結晶して純粋の目的物１７．０５ｇを得た。 融点：１１５．５〜１１６．５℃ また、このものの赤外線吸収スペクトル図を図１に示
す。
【００２５】実施例２〜４
実施例１のｏ−フェニレンジ酢酸ジブチルエステルの代
りにｏ−フェニレンジ酢酸ジエチルエステル、ｏ−フェ
ニレンジ酢酸ジ（２、２、２−トリフルオロエチルエチ
ル）エステル、及びｏ−フェニレンジ酢酸ジ（２−メト
キシエチル）エステルを用い、実施例１と同様にして化
合物Ｎｏ．２、化合物Ｎｏ．６、及び化合物Ｎｏ．９を
得た。実施例２で得られたベンゾフルオレン化合物（化
合物Ｎｏ．２）の赤外線スペクトル図を図２に示す。
りにｏ−フェニレンジ酢酸ジエチルエステル、ｏ−フェ
ニレンジ酢酸ジ（２、２、２−トリフルオロエチルエチ
ル）エステル、及びｏ−フェニレンジ酢酸ジ（２−メト
キシエチル）エステルを用い、実施例１と同様にして化
合物Ｎｏ．２、化合物Ｎｏ．６、及び化合物Ｎｏ．９を
得た。実施例２で得られたベンゾフルオレン化合物（化
合物Ｎｏ．２）の赤外線スペクトル図を図２に示す。
【００２６】実施例５
１，４−ジブトキシカルボニル−２，３−ベンゾ−９−
フルオニリデンシアノエチルマロネート（化合物Ｎｏ．
５４）の合成 合成例１で合成した化合物４．３１ｇ、シアノ酢酸エチ
ルエステル２．２６ｇを塩化メチレン１５０ｍｌ中、窒
素雰囲気下、氷冷下、四塩化チタン５．６９ｇを撹拌
下、１０分を要して滴下した。次に、同条件下でＮ−メ
チルモルホリン６．０７ｇを１時間を要して滴下し、同
条件下で３時間反応した。反応後、反応混合物を氷上に
注ぎ、１，２−ジクロロエタンで抽出した。次に、１，
２−ジクロロエタン溶液を２回水洗し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した後、１，２−ジクロロエタンを留去
し、残渣に対し、トルエンを展開溶媒に用いたカラムク
ロマトグラフィー処理を行い、得られた組成の目的物を
エタノールから再結晶して純粋の目的物３．２９ｇを得
た。 融点：９８．３〜９９．０℃
フルオニリデンシアノエチルマロネート（化合物Ｎｏ．
５４）の合成 合成例１で合成した化合物４．３１ｇ、シアノ酢酸エチ
ルエステル２．２６ｇを塩化メチレン１５０ｍｌ中、窒
素雰囲気下、氷冷下、四塩化チタン５．６９ｇを撹拌
下、１０分を要して滴下した。次に、同条件下でＮ−メ
チルモルホリン６．０７ｇを１時間を要して滴下し、同
条件下で３時間反応した。反応後、反応混合物を氷上に
注ぎ、１，２−ジクロロエタンで抽出した。次に、１，
２−ジクロロエタン溶液を２回水洗し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した後、１，２−ジクロロエタンを留去
し、残渣に対し、トルエンを展開溶媒に用いたカラムク
ロマトグラフィー処理を行い、得られた組成の目的物を
エタノールから再結晶して純粋の目的物３．２９ｇを得
た。 融点：９８．３〜９９．０℃
【００２７】実施例６〜１３
合成例５と同様にして表３に示す化合物を得た。表３に
実施例１〜４、実施例５と併せて実施例６〜１３の融点
及び元素分析結果を示す。
実施例１〜４、実施例５と併せて実施例６〜１３の融点
及び元素分析結果を示す。
【００２８】
【表３】
【００２９】応用例１
Ｘ型無金属フタロシアニン（大日本インキ社製）５部、
ポリビニルブチラール樹脂（エスレックスＢＬＳ：積水
化学社製）５部、及びテトラヒドロフラン９０部をボー
ルミルにて１２時間分散させ、次にテトラヒドロフラン
を２重量％の分散液濃度になるように加え、再分散させ
て塗布液を調製した。調製した分散液をアルミニウムを
蒸着した１００μｍ厚のポリエステルフィルム上にドク
ターブレードにて流延塗布し、乾燥後の膜厚が０．５μ
ｍの電荷発生層を形成した。このようにして得られた電
荷発生層上に、本発明のベンゾフルオレン化合物（化合
物Ｎｏ．５４）６部、ポリカーボネート樹脂（Ｋ−１３
００：帝人化成社製）１０部、及びテトラヒドロフラン
９４部からなる処方の塗布液を調製し、ドクターブレー
ドにて流延塗布し、乾燥後の膜厚が２０μｍの電荷輸送
層を形成し、アルミニウム電極／電荷発生層／電荷輸送
層で構成される積層型電子写真感光体を作成した。
ポリビニルブチラール樹脂（エスレックスＢＬＳ：積水
化学社製）５部、及びテトラヒドロフラン９０部をボー
ルミルにて１２時間分散させ、次にテトラヒドロフラン
を２重量％の分散液濃度になるように加え、再分散させ
て塗布液を調製した。調製した分散液をアルミニウムを
蒸着した１００μｍ厚のポリエステルフィルム上にドク
ターブレードにて流延塗布し、乾燥後の膜厚が０．５μ
ｍの電荷発生層を形成した。このようにして得られた電
荷発生層上に、本発明のベンゾフルオレン化合物（化合
物Ｎｏ．５４）６部、ポリカーボネート樹脂（Ｋ−１３
００：帝人化成社製）１０部、及びテトラヒドロフラン
９４部からなる処方の塗布液を調製し、ドクターブレー
ドにて流延塗布し、乾燥後の膜厚が２０μｍの電荷輸送
層を形成し、アルミニウム電極／電荷発生層／電荷輸送
層で構成される積層型電子写真感光体を作成した。
【００３０】このようにして得られた電子写真感光体に
ついて、静電複写紙試験装置（ＥＰＡ−８２００：川口
電気製作所製）を用いて＋６ＫＶのコロナ帯電を施し
て、正帯電した後、２０秒間暗所に放置し、その時の表
面電位Ｖｏを測定し、次いでハロゲンランプを用いて表
面の照度が４０ルックスになるように光照射し、半減露
光量Ｅ１／２（ｌｕｘ・ｓｅｃ）を測定した。その結
果、Ｖｏ＝１３７４ボルト、Ｅ１／２＝４．６ｌｕｘ・
ｓｅｃであった。
ついて、静電複写紙試験装置（ＥＰＡ−８２００：川口
電気製作所製）を用いて＋６ＫＶのコロナ帯電を施し
て、正帯電した後、２０秒間暗所に放置し、その時の表
面電位Ｖｏを測定し、次いでハロゲンランプを用いて表
面の照度が４０ルックスになるように光照射し、半減露
光量Ｅ１／２（ｌｕｘ・ｓｅｃ）を測定した。その結
果、Ｖｏ＝１３７４ボルト、Ｅ１／２＝４．６ｌｕｘ・
ｓｅｃであった。
【００３１】
【発明の効果】本発明に係るベンゾフルオレン化合物
は、新規化合物であって、高収率で簡単な方法で製造す
ることができ、電子写真用の有機光導電性素材として有
用であり、特に電子写真用の電子輸送物質として使用し
た場合、感光体に必要な基本的特性を充分満足してお
り、また可撓性の感光体等を作製することができる。
は、新規化合物であって、高収率で簡単な方法で製造す
ることができ、電子写真用の有機光導電性素材として有
用であり、特に電子写真用の電子輸送物質として使用し
た場合、感光体に必要な基本的特性を充分満足してお
り、また可撓性の感光体等を作製することができる。
【図１】実施例１で得られたベンゾフルオレン化合物
（化合物Ｎｏ．４）の赤外線吸収スペクトル図（ＫＢｒ
錠剤法）。
（化合物Ｎｏ．４）の赤外線吸収スペクトル図（ＫＢｒ
錠剤法）。
【図２】実施例２で得られたベンゾフルオレン化合物
（化合物Ｎｏ．２）の赤外線吸収スペクトル図（ＫＢｒ
錠剤法）。
（化合物Ｎｏ．２）の赤外線吸収スペクトル図（ＫＢｒ
錠剤法）。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
ＣＡ（ＳＴＮ)
ＣＡＯＬＤ（ＳＴＮ)
ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (3)
- 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）（化１）で表されるベ
ンゾフルオレン化合物。 【化１】 （式中、Ｒは置換又は無置換のアルキル基、Ａは酸素原
子或いは下記一般式（II）（化２）で表されるメチレン
基を表す。） 【化２】 （式中、Ｘ及びＹは同一又は相異なっていてもよく、水
素原子、置換又は無置換のフェニル基、シアノ基及び置
換又は無置換のアルコキシカルボニル基からなる群より
選ばれた少なくとも１種の基を表す。） - 【請求項２】 下記一般式（III）で示されるニンヒド
リンと下記一般式（IV）で示されるｏ−フェニレンジ酢
酸ジアルキルとを下記反応式（化３）にしたがって反応
させることを特徴とする下記一般式（Ｉ−１）で表され
るベンゾフルオレン化合物の製造法。 【化３】 （式中、Ｒは置換又は無置換のアルキル基を表す。） - 【請求項３】 下記一般式（Ｉ−１）で示されるベンゾ
フルオレン化合物と下記一般式（Ｖ）で示されるメチレ
ン化合物とを下記反応式（化４）にしたがって反応させ
ることを特徴とする下記一般式（Ｉ−２）で表されるベ
ンゾフルオレン化合物の製造法。 【化４】 （式中、Ｒは置換又は無置換のアルキル基を表す。また
Ｘ及びＹは同一又は相異なっていてもよく、水素原子、
置換又は無置換のフェニル基、シアノ基及び置換又は無
置換のアルコキシカルボニル基からなる群より選ばれた
少なくとも１種の基を表す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08081895A JP3520879B2 (ja) | 1995-03-13 | 1995-03-13 | ベンゾフルオレン化合物及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08081895A JP3520879B2 (ja) | 1995-03-13 | 1995-03-13 | ベンゾフルオレン化合物及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08245518A JPH08245518A (ja) | 1996-09-24 |
| JP3520879B2 true JP3520879B2 (ja) | 2004-04-19 |
Family
ID=13729036
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08081895A Expired - Fee Related JP3520879B2 (ja) | 1995-03-13 | 1995-03-13 | ベンゾフルオレン化合物及びその製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3520879B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5374992B2 (ja) * | 2007-10-03 | 2013-12-25 | 三菱化学株式会社 | 電子写真感光体、該感光体を用いるプロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
| JP6519513B2 (ja) * | 2016-03-30 | 2019-05-29 | 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | マロノニトリル誘導体及び電子写真感光体 |
-
1995
- 1995-03-13 JP JP08081895A patent/JP3520879B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08245518A (ja) | 1996-09-24 |
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