JP3507244B2 - 走査光学装置及び該装置を用いたレーザープリンタ - Google Patents
走査光学装置及び該装置を用いたレーザープリンタInfo
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- JP3507244B2 JP3507244B2 JP8471696A JP8471696A JP3507244B2 JP 3507244 B2 JP3507244 B2 JP 3507244B2 JP 8471696 A JP8471696 A JP 8471696A JP 8471696 A JP8471696 A JP 8471696A JP 3507244 B2 JP3507244 B2 JP 3507244B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光源からのレーザ
ー光を回転ミラーにより偏向し、偏向したレーザー光を
走査レンズによりスポット像の走査に変える走査光学装
置及び該装置を用いたレーザープリンタに関するもので
ある。
ー光を回転ミラーにより偏向し、偏向したレーザー光を
走査レンズによりスポット像の走査に変える走査光学装
置及び該装置を用いたレーザープリンタに関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の走査光学装置は図１４に
示すように構成されており、レーザーユニット１から射
出されたレーザー光は、シリンドリカルレンズ２により
集光されて回転ミラー３に入射する。回転ミラー３によ
り偏向されたレーザー光は、球面レンズ４とトーリック
レンズ５によりｆθが補正され、感光ドラム６上におい
てスポット像の走査に変換される。そして、感光ドラム
６にはレーザー光による静電潜像が形成され、この静電
潜像から電子写真のプロセスにより画像が記録紙に印刷
される。
示すように構成されており、レーザーユニット１から射
出されたレーザー光は、シリンドリカルレンズ２により
集光されて回転ミラー３に入射する。回転ミラー３によ
り偏向されたレーザー光は、球面レンズ４とトーリック
レンズ５によりｆθが補正され、感光ドラム６上におい
てスポット像の走査に変換される。そして、感光ドラム
６にはレーザー光による静電潜像が形成され、この静電
潜像から電子写真のプロセスにより画像が記録紙に印刷
される。
【０００３】また、レーザーユニット１は図１５に示す
ように構成されており、半導体レーザー光源１１は基台
１２に装着され、この基台１２はホルダ１３に取り付け
られている。ホルダ１３には絞り部１４ａを備えた鏡筒
１４が保持され、鏡筒１４にはコリメータレンズ１５が
内蔵されている。このようなレーザーユニット１におい
て、半導体レーザー光源１１は画像情報を含む駆動信号
により制御され、半導体レーザー光源１１から発散され
たレーザー光は、コリメータレンズ１５により平行光に
され、絞り部１４ａにより外形形状が規制される。
ように構成されており、半導体レーザー光源１１は基台
１２に装着され、この基台１２はホルダ１３に取り付け
られている。ホルダ１３には絞り部１４ａを備えた鏡筒
１４が保持され、鏡筒１４にはコリメータレンズ１５が
内蔵されている。このようなレーザーユニット１におい
て、半導体レーザー光源１１は画像情報を含む駆動信号
により制御され、半導体レーザー光源１１から発散され
たレーザー光は、コリメータレンズ１５により平行光に
され、絞り部１４ａにより外形形状が規制される。
【０００４】近年、画像の高精細化が進展するにつれ
て、感光ドラム６上に形成されるスポット像の径を一層
微小化する必要が生じている。一方、感光ドラム６の感
度が向上したことにより、レーザーユニット１は感光ド
ラム６上での必要光量を減少させる暗い光学系であるこ
とが要求されている。しかしながら、この場合にはスポ
ット径を微小化しすることにより焦点深度が減少するた
め、各構成部品を精密に製造する必要が生じて、コスト
の上昇を余儀なくされるという問題が発生する。
て、感光ドラム６上に形成されるスポット像の径を一層
微小化する必要が生じている。一方、感光ドラム６の感
度が向上したことにより、レーザーユニット１は感光ド
ラム６上での必要光量を減少させる暗い光学系であるこ
とが要求されている。しかしながら、この場合にはスポ
ット径を微小化しすることにより焦点深度が減少するた
め、各構成部品を精密に製造する必要が生じて、コスト
の上昇を余儀なくされるという問題が発生する。
【０００５】このような問題を解決するために、例えば
特開平５−３０７１５１号公報が開示されている。この
公報では、第１種０次のベッセルビームを発生させるこ
とにより、スポット径を微小化すると共に焦点深度を増
加させるようになっている。
特開平５−３０７１５１号公報が開示されている。この
公報では、第１種０次のベッセルビームを発生させるこ
とにより、スポット径を微小化すると共に焦点深度を増
加させるようになっている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ベッセ
ルビームを使用した上述の従来例では、次のような問題
点が発生する。
ルビームを使用した上述の従来例では、次のような問題
点が発生する。
【０００７】(1) ベッセルビームを発生させるために、
円錐プリズムや位相フィルタを使用した場合には、コス
トが上昇する。
円錐プリズムや位相フィルタを使用した場合には、コス
トが上昇する。
【０００８】(2) スリットは光量を減少させ、スリット
の製造方法や調整方法が不明瞭である。
の製造方法や調整方法が不明瞭である。
【０００９】(3) ベッセルビームによる副ローブが増加
し、画像に悪影響を与える。
し、画像に悪影響を与える。
【００１０】本発明の目的は、上述した問題点を解消
し、コストを上昇させることなく、レーザー光のスポッ
ト径を微小化すると共に、焦点深度を増加させた走査光
学装置及び該装置を用いたレーザープリンタを提供する
ことにある。
し、コストを上昇させることなく、レーザー光のスポッ
ト径を微小化すると共に、焦点深度を増加させた走査光
学装置及び該装置を用いたレーザープリンタを提供する
ことにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明に係る走査光学装置は、半導体レーザー光源か
らのレーザー光を平行光にするコリメータレンズと、該
コリメータレンズからのレーザー光を線状光にするシリ
ンドリカルレンズと、該シリンドリカルレンズからのレ
ーザー光を偏向する回転ミラーと、該回転ミラーからの
レーザー光をスポット像の走査に変換する走査レンズと
を有する走査光学装置において、前記コリメータレンズ
とシリンドリカルレンズの間に、前記コリメータレンズ
からのレーザー光の外形を円形状に規制する絞り部材
と、該絞り部材とは別体で該絞り部材の透光部の中心近
傍を遮光部分により遮光して円環光を形成する遮光部材
とを配置し、該遮光部材は前記絞り部材に対し移動可能
とし、前記遮光部材の遮光部分の面積は前記絞り部材の
透光部の面積の６割以下にしたことを特徴とする。
の本発明に係る走査光学装置は、半導体レーザー光源か
らのレーザー光を平行光にするコリメータレンズと、該
コリメータレンズからのレーザー光を線状光にするシリ
ンドリカルレンズと、該シリンドリカルレンズからのレ
ーザー光を偏向する回転ミラーと、該回転ミラーからの
レーザー光をスポット像の走査に変換する走査レンズと
を有する走査光学装置において、前記コリメータレンズ
とシリンドリカルレンズの間に、前記コリメータレンズ
からのレーザー光の外形を円形状に規制する絞り部材
と、該絞り部材とは別体で該絞り部材の透光部の中心近
傍を遮光部分により遮光して円環光を形成する遮光部材
とを配置し、該遮光部材は前記絞り部材に対し移動可能
とし、前記遮光部材の遮光部分の面積は前記絞り部材の
透光部の面積の６割以下にしたことを特徴とする。
【００１２】
【００１３】
【発明の実施の形態】図１は第１の参考例の概略構成図
であり、レーザーユニット２１は半導体レーザー光源２
２とコリメータレンズ２３を備え、レーザーユニット２
１から射出されたレーザー光の進行方向には、遮光部付
き絞り２４、シリンドリカルレンズ２５、回転ミラー２
６が順次に配置され、回転ミラー２６は図示しない駆動
モータにより回転駆動されるようになっている。回転ミ
ラー２６により偏向されたレーザー光の進行方向には、
球面レンズ２７、トーリックレンズ２８、被走査面２９
が配置され、被走査面は例えばレーザープリンタとして
使用する場合の感光ドラムの表面とされている。
であり、レーザーユニット２１は半導体レーザー光源２
２とコリメータレンズ２３を備え、レーザーユニット２
１から射出されたレーザー光の進行方向には、遮光部付
き絞り２４、シリンドリカルレンズ２５、回転ミラー２
６が順次に配置され、回転ミラー２６は図示しない駆動
モータにより回転駆動されるようになっている。回転ミ
ラー２６により偏向されたレーザー光の進行方向には、
球面レンズ２７、トーリックレンズ２８、被走査面２９
が配置され、被走査面は例えばレーザープリンタとして
使用する場合の感光ドラムの表面とされている。
【００１４】図２に示すように、レーザーユニット２１
においては半導体レーザー光源２２が基体３０に装着さ
れ、基体３０はホルダ３１の後端に取り付けられてい
る。そして、ホルダ３１には鏡筒３２が保持され、この
鏡筒３２にはコリメータレンズ２３が内蔵されている。
においては半導体レーザー光源２２が基体３０に装着さ
れ、基体３０はホルダ３１の後端に取り付けられてい
る。そして、ホルダ３１には鏡筒３２が保持され、この
鏡筒３２にはコリメータレンズ２３が内蔵されている。
【００１５】また、図３に示すように、遮光部付き絞り
２４は矩形状の板ガラスを基体２４ａとしている。基体
２４ａには、外側遮光部２４ｂによる絞り部と、内側遮
光部２４ｃによる遮光部が例えば蒸着により形成されて
いる。外側遮光部２４ｂでは、光軸に配置される点Ｐを
中心とする半径R1の円の外側が遮光され、半径R1はレー
ザー光を微小化し得る大きさとされている。また、内側
遮光部２４ｃでは、点Ｐを中心とし半径R1よりも小さい
半径R2の円の内側が遮光され、外側遮光部２４ｂと内側
遮光部２４ｃの間は、幅を（R1−R2）とする環状の透光
部２４ｄとされている。そして、内側遮光部２４ｃの面
積は、内側遮光部２４ｃと透光部２４ｄを合計した面積
の６割以内とされている。
２４は矩形状の板ガラスを基体２４ａとしている。基体
２４ａには、外側遮光部２４ｂによる絞り部と、内側遮
光部２４ｃによる遮光部が例えば蒸着により形成されて
いる。外側遮光部２４ｂでは、光軸に配置される点Ｐを
中心とする半径R1の円の外側が遮光され、半径R1はレー
ザー光を微小化し得る大きさとされている。また、内側
遮光部２４ｃでは、点Ｐを中心とし半径R1よりも小さい
半径R2の円の内側が遮光され、外側遮光部２４ｂと内側
遮光部２４ｃの間は、幅を（R1−R2）とする環状の透光
部２４ｄとされている。そして、内側遮光部２４ｃの面
積は、内側遮光部２４ｃと透光部２４ｄを合計した面積
の６割以内とされている。
【００１６】このように、内側遮光部２４ｃの面積を、
内側遮光部２４ｃと透光部２４ｄを合計した面積の６割
以内にした理由は、模擬実験によって図４、図５及び図
６のグラフ図に示すような結果を得ることができたこと
と、半導体レーザー光源２２の光量分布は一般にガウス
分布となっているため、光軸の中心近傍を遮光すると光
量を大きく減少させることとによる。
内側遮光部２４ｃと透光部２４ｄを合計した面積の６割
以内にした理由は、模擬実験によって図４、図５及び図
６のグラフ図に示すような結果を得ることができたこと
と、半導体レーザー光源２２の光量分布は一般にガウス
分布となっているため、光軸の中心近傍を遮光すると光
量を大きく減少させることとによる。
【００１７】即ち、図４においては、内側遮光部２４ｃ
の面積と、内側遮光部２４ｃと透光部２４ｄを合計した
面積との比を遮光比として横軸にとり、ピーク光量に対
する副ローブの比をピーク比として縦軸にとった場合
に、右上りの特性を示した。このことは、内側遮光部２
４ｃの面積の増加に伴って副ローブのピーク光量が増加
することと、主ローブであるスポットのローブが減少す
ることとを意味し、副ローブの増加が画像に悪影響を与
えることになる。特に、ピーク比がy1＝１／ｅ２＝０．
１３５を越える辺り、つまり遮光比がx1＝０．５５を越
える辺りから、画像に悪影響が発生し始める。
の面積と、内側遮光部２４ｃと透光部２４ｄを合計した
面積との比を遮光比として横軸にとり、ピーク光量に対
する副ローブの比をピーク比として縦軸にとった場合
に、右上りの特性を示した。このことは、内側遮光部２
４ｃの面積の増加に伴って副ローブのピーク光量が増加
することと、主ローブであるスポットのローブが減少す
ることとを意味し、副ローブの増加が画像に悪影響を与
えることになる。特に、ピーク比がy1＝１／ｅ２＝０．
１３５を越える辺り、つまり遮光比がx1＝０．５５を越
える辺りから、画像に悪影響が発生し始める。
【００１８】また、図５は遮光比が４割のときの光量分
布、図６は遮光比が８割のときの光量分布を示し、横軸
は被走査面２９上の主走査方向の位置を示し、縦軸は光
量を示している。図６に示す遮光比が８割のときは、図
５に示す遮光比が５割のときよりも副ローブが増加し、
この副ローブが画像に悪影響を及ぼすことになる。
布、図６は遮光比が８割のときの光量分布を示し、横軸
は被走査面２９上の主走査方向の位置を示し、縦軸は光
量を示している。図６に示す遮光比が８割のときは、図
５に示す遮光比が５割のときよりも副ローブが増加し、
この副ローブが画像に悪影響を及ぼすことになる。
【００１９】そして、半導体レーザー光源２２の光量分
布は一般にガウス分布となっているため、光軸の中心近
傍を遮光すると光量を大きく減少させることになる。従
って、内側遮光部２４ｃの面積は、内側遮光部２４ｃと
透光部２４ｄを合計した面積の６割程度が限界となる。
布は一般にガウス分布となっているため、光軸の中心近
傍を遮光すると光量を大きく減少させることになる。従
って、内側遮光部２４ｃの面積は、内側遮光部２４ｃと
透光部２４ｄを合計した面積の６割程度が限界となる。
【００２０】このような構成によれば、半導体レーザー
光源２２から発散されたレーザー光は、コリメータレン
ズ２３により***行光にされ、遮光部付き絞り２４によ
り光軸近傍のレーザー光が除去されてシリンドリカルレ
ンズ２５に入射する。シリンドリカルレンズ２５におい
てレーザー光は副走査方向に線状に集光され、回転ミラ
ー２６の反射面に入射する。定角速度で回転する回転ミ
ラー２６により偏向されたレーザー光は、球面レンズ２
７とトーリックレンズ２８を透過してｆθが補正され、
被走査面２９上にスポット像を形成する。
光源２２から発散されたレーザー光は、コリメータレン
ズ２３により***行光にされ、遮光部付き絞り２４によ
り光軸近傍のレーザー光が除去されてシリンドリカルレ
ンズ２５に入射する。シリンドリカルレンズ２５におい
てレーザー光は副走査方向に線状に集光され、回転ミラ
ー２６の反射面に入射する。定角速度で回転する回転ミ
ラー２６により偏向されたレーザー光は、球面レンズ２
７とトーリックレンズ２８を透過してｆθが補正され、
被走査面２９上にスポット像を形成する。
【００２１】このとき、内側遮光部２４ｃの面積が、内
側遮光部２４ｃと透光部２４ｄを合計した面積の６割以
内にされているので、外側遮光部２４ｂによりスポット
径を微小化しても、内側遮光部２４ｃにより副ローブの
増大を抑圧することができ、焦点深度を増加させること
が可能になる。従って、従来のようにベッセルビーム、
円錐プリズム、位相フィルタ等を使用する必要がないの
で、コストを上昇させることなく、スポット径を微小化
すると共に焦点深度を増加させることができる。
側遮光部２４ｃと透光部２４ｄを合計した面積の６割以
内にされているので、外側遮光部２４ｂによりスポット
径を微小化しても、内側遮光部２４ｃにより副ローブの
増大を抑圧することができ、焦点深度を増加させること
が可能になる。従って、従来のようにベッセルビーム、
円錐プリズム、位相フィルタ等を使用する必要がないの
で、コストを上昇させることなく、スポット径を微小化
すると共に焦点深度を増加させることができる。
【００２２】図７は第２の参考例の断面図であり、第１
の参考例の遮光部付き絞り２４が光軸に対して傾けられ
ている。この第２の参考例は、第１の参考例と同様な効
果を得ることができる上に、遮光部付き絞り２４に入射
したレーザー光が、そこで反射してレーザーユニット２
１に戻ることを防止することができ、反射光によって半
導体レーザー光源２２の作動が不安定になることを防止
することが可能になる。
の参考例の遮光部付き絞り２４が光軸に対して傾けられ
ている。この第２の参考例は、第１の参考例と同様な効
果を得ることができる上に、遮光部付き絞り２４に入射
したレーザー光が、そこで反射してレーザーユニット２
１に戻ることを防止することができ、反射光によって半
導体レーザー光源２２の作動が不安定になることを防止
することが可能になる。
【００２３】図８は第３の参考例の断面図であり、第１
の参考例の遮光部付き絞り２４に代えて、第１の参考例
の遮光部付き絞り２４に反射防止膜３３ａを被着した遮
光部付き絞り３３が設けられている。この第３の参考例
は、第２の参考例と同様な効果を得ることができる。
の参考例の遮光部付き絞り２４に代えて、第１の参考例
の遮光部付き絞り２４に反射防止膜３３ａを被着した遮
光部付き絞り３３が設けられている。この第３の参考例
は、第２の参考例と同様な効果を得ることができる。
【００２４】図９は第１の実施例の断面図、図１０は正
面図であり、第１の参考例の絞り部と遮光部が別体とさ
れ、レーザーユニット４１の半導体レーザー光源２２は
鏡筒３２内に突出するように設けられている。即ち、レ
ーザーユニット４１の前方に、絞り部材４２と遮光手段
４３が別体として配置されている。絞り部材４２には、
第１の参考例と同様な半径R1を有する絞り部４２ａが設
けられている。また遮光手段４３では、第１の参考例と
同様な中心に半径R2の円形状の遮光部分４４ａがガラス
板に蒸着された遮光部材４４が、固定部材４５に板ばね
４６により固定されている。そして、固定部材４５は光
学箱の板金４７に位置調節自在に保持され、板金４７の
垂直部４７ａに設けられた調節ねじ４８により方向ｙが
調節され、水平部４７ｂに設けられた調節ねじ４９によ
り方向ｚが調節される。
面図であり、第１の参考例の絞り部と遮光部が別体とさ
れ、レーザーユニット４１の半導体レーザー光源２２は
鏡筒３２内に突出するように設けられている。即ち、レ
ーザーユニット４１の前方に、絞り部材４２と遮光手段
４３が別体として配置されている。絞り部材４２には、
第１の参考例と同様な半径R1を有する絞り部４２ａが設
けられている。また遮光手段４３では、第１の参考例と
同様な中心に半径R2の円形状の遮光部分４４ａがガラス
板に蒸着された遮光部材４４が、固定部材４５に板ばね
４６により固定されている。そして、固定部材４５は光
学箱の板金４７に位置調節自在に保持され、板金４７の
垂直部４７ａに設けられた調節ねじ４８により方向ｙが
調節され、水平部４７ｂに設けられた調節ねじ４９によ
り方向ｚが調節される。
【００２５】レーザーユニット４１から出射されたレー
ザー光は、絞り部材４２を通過して外形形状が規制され
た後に、遮光手段４３を通過する。このとき、光軸の中
心付近のレーザー光が、上述した第１の参考例と同様に
除去される。従って、この第１の実施例は第１の参考例
と同様な効果を得ることができると共に、遮光部分４４
ａの位置を調節ねじ４８、４９により双方向ｙ、ｚに調
整することができるため、スポット径の最も絞る位置を
正確に調節することができる。
ザー光は、絞り部材４２を通過して外形形状が規制され
た後に、遮光手段４３を通過する。このとき、光軸の中
心付近のレーザー光が、上述した第１の参考例と同様に
除去される。従って、この第１の実施例は第１の参考例
と同様な効果を得ることができると共に、遮光部分４４
ａの位置を調節ねじ４８、４９により双方向ｙ、ｚに調
整することができるため、スポット径の最も絞る位置を
正確に調節することができる。
【００２６】図１１は第２の実施例の断面図、図１２は
正面図であり、第１の実施例の遮光手段４３が変更され
遮光手段５１とされている。遮光手段５１では、ガラス
板に楕円形状の遮光部分５２ａが蒸着された遮光部材５
２が、固定部材５３に板ばね５４により固定され、固定
部材５３は板金５５を介して光学箱５６に保持されてい
る。そして、固定部材５３には遮光部材５２の傾きを調
整するための調整ねじ５７が設けられている。
正面図であり、第１の実施例の遮光手段４３が変更され
遮光手段５１とされている。遮光手段５１では、ガラス
板に楕円形状の遮光部分５２ａが蒸着された遮光部材５
２が、固定部材５３に板ばね５４により固定され、固定
部材５３は板金５５を介して光学箱５６に保持されてい
る。そして、固定部材５３には遮光部材５２の傾きを調
整するための調整ねじ５７が設けられている。
【００２７】この第２の実施例は、先の第１の実施例と
同様な効果を得ることができる上に、遮光部分５２ａは
楕円形にされているので、調整ねじ５７により遮光部材
５２の傾きを変化させることにより、遮光部分５２ａの
方向ｚに対する長さを調整することができる。従って、
遮光部分５２ａの面積を変化させて、絞り部と遮光部に
比率を最適に設定することができ、副ローブを良好に抑
圧することが可能になる。
同様な効果を得ることができる上に、遮光部分５２ａは
楕円形にされているので、調整ねじ５７により遮光部材
５２の傾きを変化させることにより、遮光部分５２ａの
方向ｚに対する長さを調整することができる。従って、
遮光部分５２ａの面積を変化させて、絞り部と遮光部に
比率を最適に設定することができ、副ローブを良好に抑
圧することが可能になる。
【００２８】なお、調整ねじ５７のような図示しない調
整ねじを固定部材５３の垂直部５３ａに設ければ、遮光
部分５２ａの方向ｙの径を変化させることができる。
整ねじを固定部材５３の垂直部５３ａに設ければ、遮光
部分５２ａの方向ｙの径を変化させることができる。
【００２９】図１３は第４の参考例の断面図であり、レ
ーザーユニットに遮光部付き絞りが内蔵されている。即
ち、レーザーユニット６１の半導体レーザー光源２２は
基体６２の表面に取り付けられ、基体６２はホルダ６３
の後端に取り付けられている。ホルダ６３には鏡筒６４
が保持され、鏡筒６４にはコリメータレンズ２３が内蔵
されている。また、鏡筒６４には第１の参考例と同様な
遮光部付き絞り２４が、スペーサ６５を介してコリメー
タレンズ２３の前方に配置され、これらのコリメータレ
ンズ２３と遮光部付き絞り２４は押さえ環６６によって
固定されている。
ーザーユニットに遮光部付き絞りが内蔵されている。即
ち、レーザーユニット６１の半導体レーザー光源２２は
基体６２の表面に取り付けられ、基体６２はホルダ６３
の後端に取り付けられている。ホルダ６３には鏡筒６４
が保持され、鏡筒６４にはコリメータレンズ２３が内蔵
されている。また、鏡筒６４には第１の参考例と同様な
遮光部付き絞り２４が、スペーサ６５を介してコリメー
タレンズ２３の前方に配置され、これらのコリメータレ
ンズ２３と遮光部付き絞り２４は押さえ環６６によって
固定されている。
【００３０】この第４の参考例では、第１の参考例と同
様な効果を得ることができる上に、遮光部付き絞り２４
が鏡筒６４に内蔵されているため、正確な位置決めが可
能となり、遮光部をレーザー光の中心に設定することが
容易になる。
様な効果を得ることができる上に、遮光部付き絞り２４
が鏡筒６４に内蔵されているため、正確な位置決めが可
能となり、遮光部をレーザー光の中心に設定することが
容易になる。
【００３１】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係る走査光
学装置及び該装置を用いたレーザープリンタは、コリメ
ータレンズからのレーザー光の外形を円形状に規制する
絞り部材と、絞り部材の透光部の中心近傍を遮光する別
体の遮光部材とを設け、この遮光部材を移動可能とし、
遮光部材の遮光部分の面積は絞り手段の透光部の面積の
６割以下にしたので、投光部によりスポット径を微小化
しても、遮光部により副ローブの増大を抑圧することが
でき、焦点深度を増加させることが可能になる。従っ
て、従来のようにベッセルビーム、円錐プリズム、位相
フィルタ等を使用する必要がないので、コストを上昇さ
せることなく、スポット径を微小化すると共に、焦点深
度を増加させることができる。
学装置及び該装置を用いたレーザープリンタは、コリメ
ータレンズからのレーザー光の外形を円形状に規制する
絞り部材と、絞り部材の透光部の中心近傍を遮光する別
体の遮光部材とを設け、この遮光部材を移動可能とし、
遮光部材の遮光部分の面積は絞り手段の透光部の面積の
６割以下にしたので、投光部によりスポット径を微小化
しても、遮光部により副ローブの増大を抑圧することが
でき、焦点深度を増加させることが可能になる。従っ
て、従来のようにベッセルビーム、円錐プリズム、位相
フィルタ等を使用する必要がないので、コストを上昇さ
せることなく、スポット径を微小化すると共に、焦点深
度を増加させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１の参考例の概略構成図である。
【図２】レーザーユニットの断面図である。
【図３】遮光部付き絞りの斜視図である。
【図４】遮光比とピーク比の関係のグラフ図である。
【図５】遮光比が４割のときの走査位置と光量の関係の
グラフ図である。
グラフ図である。
【図６】遮光比が８割のときの走査位置と光量の関係の
グラフ図である。
グラフ図である。
【図７】第２の参考例の断面図である。
【図８】第３の参考例の断面図である。
【図９】第１の実施例の断面図である。
【図１０】正面図である。
【図１１】第２の実施例の断面図である。
【図１２】正面図である。
【図１３】第４の参考例の断面図である。
【図１４】従来例の概略構成図である。
【図１５】従来例のレーザーユニットの断面図である。
２１、４１、６１ レーザーユニット
２２ 半導体レーザー光源
２３ コリメータレンズ
２４ 遮光部付き絞り
２４ａ ガラス基体
２４ｂ 外側遮光部
２４ｃ 内側遮光部
２５ シリンドリカルレンズ
２６ 回転ミラー
２７、２８ 走査レンズ４２ 絞り部材 ４３、５１ 遮光手段 ４４、５２ 遮光部材 ４４ａ、５２ａ 遮光部分 ４５、５３ 固定部材
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ
Ｇ０２Ｂ 13/00 Ｇ０２Ｂ 13/18
13/18 Ｂ４１Ｊ 3/00 Ｄ
Claims (4)
- 【請求項１】 半導体レーザー光源からのレーザー光を
平行光にするコリメータレンズと、該コリメータレンズ
からのレーザー光を線状光にするシリンドリカルレンズ
と、該シリンドリカルレンズからのレーザー光を偏向す
る回転ミラーと、該回転ミラーからのレーザー光をスポ
ット像の走査に変換する走査レンズとを有する走査光学
装置において、前記コリメータレンズとシリンドリカル
レンズの間に、前記コリメータレンズからのレーザー光
の外形を円形状に規制する絞り部材と、該絞り部材とは
別体で該絞り部材の透光部の中心近傍を遮光部分により
遮光して円環光を形成する遮光部材とを配置し、該遮光
部材は前記絞り部材に対し移動可能とし、前記遮光部材
の遮光部分の面積は前記絞り部材の透光部の面積の６割
以下にしたことを特徴とする走査光学装置。 - 【請求項２】 前記遮光部材の面方向位置を調節可能と
した請求項１に記載の走査光学装置。 - 【請求項３】 前記遮光部材は楕円形状の遮光部分を有
し、その傾むきを調節可能とした請求項１に記載の走査
光学装置。 - 【請求項４】 請求項１〜３に記載の走査光学装置と、
該走査光学装置の被走査面として感光ドラムとを備えた
レーザープリンタ。
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|---|---|---|---|
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|---|---|---|---|
| JP8471696A JP3507244B2 (ja) | 1996-03-13 | 1996-03-13 | 走査光学装置及び該装置を用いたレーザープリンタ |
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-
1996
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