JP3490316B2 - レジスト塗布処理装置およびレジスト塗布処理方法 - Google Patents
レジスト塗布処理装置およびレジスト塗布処理方法Info
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Description
プレイ(LCD)のカラーフィルター等の基板にレジス
トを塗布するレジスト塗布処理装置およびレジスト塗布
処理方法に関する。
ラーフィルターの製造においては、ガラス製の矩形の基
板に、4色(レッド、グリーン、ブルー、およびブラッ
ク)の色彩レジストを塗布し、これを露光し、これを現
像処理するという、いわゆるフォトリソグラフィー技術
によりカラーフィルターを形成している。
グラフィ工程においては、各色ごとに色彩レジストの塗
布処理および露光・現像処理を行っている。すなわち、
例えば、レッドの色彩レジストを塗布して、このレッド
に関して露光・現像処理し、次いでグリーンの色彩レジ
ストを塗布して、グリーンに関して露光・現像処理し、
その後、ブルー、ブラックに関しても同様に行ってい
る。
塗布、露光、および現像の処理ユニットが必要とされ、
各色彩の洗浄、塗布、露光、および現像の処理ユニット
が連続的に配置され、上流から下流に向かって連続的に
処理されている。
たような塗布・現像処理システムにより、一つのカラー
フィルターに複数の色彩レジストを塗布する際には、各
色彩ごとに、洗浄、塗布、露光、および現像の処理ユニ
ットを設け、色彩の数に対応した複数組の洗浄、塗布、
露光、および現像の処理ユニットを設ける必要があるた
め、設備構成が巨大化し、クリーンルームでのスペース
が増大するとともに、製造コストも高騰してしまう。
であり、カラーフィルター等の基板へのレジスト塗布に
際し、設備の小型化、省スペース化を図ることができ、
製造コストの低減を図ることができるレジスト塗布処理
装置およびレジスト塗布処理方法を提供することを目的
とする。
を解決するために、先に、複数の色彩レジストを基板に
塗布し、かつ露光後に現像するための塗布・現像処理装
置であって、複数の色彩レジストをそれぞれ基板に吐出
する複数のレジスト吐出ノズルを有するレジスト塗布処
理ユニットと、この色彩レジストが塗布された基板を露
光後に現像するための現像処理ユニットとを具備するこ
とを特徴とする塗布・現像処理装置を発明し、出願した
(特願平10−233596)。
ー、およびブラック)の色彩レジストの塗布に際して
は、一つのノズルアームの先端に、4個のレジスト吐出
ノズルを設け、これら4個のレジスト吐出ノズルに、上
記4色のレジストがそれぞれの供給管を介して供給する
ようになっている。
ンクは、それぞれの色彩について2個ずつ設けられ、一
方のタンクから色彩レジストを供給している際に、他方
のタンクを交換することができ、色彩レジストの供給を
中断することなく、色彩レジストを補充できるようにな
っている。
ド)に関して、色彩は同じであるが成分等が異なる種類
の色彩レジストに交換するような場合がある。このよう
な場合には、上述した2個のタンクを同時に交換し、次
いで、レジスト吐出ノズルに洗浄液を供給して洗浄する
フラッシング処理を施し、その後、交換した色彩レジス
トを予め吐出してなじませるダミーディスペンス処理を
行う必要がある。
ッシング処理等を施す場合には、レジスト塗布処理装置
の処理を停止してから行わざるを得ない。しかし、この
ような処理は1時間程度かかるため、その間装置を停止
したのではスループットが著しく低下するため、装置を
止めずにこのような作業を行いたいという要望がある。
様、複数のレジスト吐出ノズルを備えたレジスト塗布処
理装置を前提にして、上記課題を解決しつつ、さらに先
行出願の問題点も解決しようとしている。
レジストを塗布することが可能なレジスト塗布処理装置
であって、基板にそれぞれ異なるレジスト液を滴下可能
な複数のレジスト吐出ノズルと、各レジストノズルにそ
れぞれレジストを供給するための複数のレジスト液供給
系と、前記複数のレジスト吐出ノズルを個別的に洗浄す
る複数の洗浄機構と、前記複数の洗浄機構を選択的に作
動させる信号を入力する入力手段と、前記入力手段の入
力に基づいて洗浄機構を制御する制御機構と、各レジス
ト吐出ノズルに対し所定時間毎に自動的にダミーでレジ
ストを吐出させる自動ダミーディスペンス手段とを具備
し、前記制御機構は、前記入力手段の入力があった時点
で前記自動ダミーディスペンス手段の動作を無効にする
ことを特徴とするレジスト塗布処理装置が提供される。
それぞれ異なるレジスト液を滴下可能な複数のレジスト
吐出ノズルを有するので、多数のレジストを一つの塗布
処理装置で塗布することができ、カラーフィルター等の
基板へのレジスト塗布に際し、設備の小型化、省スペー
ス化を図ることができる。
に洗浄する複数の洗浄機構と、複数の洗浄機構を選択的
に作動させる信号を入力する入力手段と、入力手段の入
力に基づいて洗浄機構を制御する制御機構とを具備して
いるので、少なくとも一つのレジスト液供給系について
レジストを異なる種類のレジストに交換した場合に、入
力手段により、そのレジスト供給系に対応するレジスト
吐出ノズルのみを洗浄することができ、他のレジスト吐
出ノズルはレジストの供給を停止する必要がない。した
がって、他のレジスト塗布処理を中断することなく、レ
ジストの種類を交換したレジスト供給系に対応するレジ
スト吐出ノズルの洗浄処理を行うことができ、交換の際
の段取り時間を短縮することができる。
ルをその先端に一体的に保持するノズルアームをさらに
有するので、複数のレジスト吐出ノズルを有しながら、
装置の機構を複雑にすることがない。
間毎に自動的にダミーでレジストを吐出させる自動ダミ
ーディスペンス手段を具備する場合には、前記制御機構
は、前記入力手段の入力があった時点で前記自動ダミー
ディスペンス手段の動作を無効にすることが好ましい。
これにより、自動ディスペンス手段によって妨げられる
ことなく、上記洗浄機構により入力手段により入力した
レジスト吐出ノズルのみを確実に洗浄することができ
る。
吐出ノズルに洗浄液を供給するとともに、レジストをな
じませるためのダミーディスペンスを行うことが好まし
い。これにより、洗浄処理が終了した後にすぐに交換し
たレジストを使用することができる。
図面を参照して詳細に説明する。図1は、本発明が適用
されるLCDのカラーフィルターの塗布・現像処理シス
テムを示す平面図である。
板Gを収容するカセットCを載置するカセットステーシ
ョン1と、基板Gにレジスト塗布および現像を含む一連
の処理を施すための複数の処理ユニットを備えた処理部
2と、露光装置(図示せず)との間で基板Gの受け渡し
を行うためのインターフェース部3とを備えており、処
理部2の両端にそれぞれカセットステーション2および
インターフェース部3が配置されている。
処理部2との間で基板Gの搬送を行うための搬送機構1
0を備えている。そして、カセットステーション1にお
いてカセットCの搬入出が行われる。また、搬送機構1
0はカセットの配列方向に沿って設けられた搬送路10
a上を移動可能な搬送アーム11を備え、この搬送アー
ム11によりカセットCと処理部2との間で基板Gの搬
送が行われる。
段部2cとに分かれており、それぞれ中央に搬送路1
2、13、14を有し、これら搬送路の両側に各処理ユ
ニットが配設されている。そして、これらの間には、中
継部15、16が設けられている。
能な主搬送装置17を備えており、搬送路12の一方側
には、2つの洗浄ユニット(SCR)21a、21bが
配置されており、搬送路12の他方側には、それぞれ2
つの加熱処理装置(HP)が上下2段に重ねられてなる
加熱処理ユニット25、26、および冷却装置(CO
L)が上下2段に重ねられてなる冷却ユニット27が配
置されている。
移動可能な主搬送装置18を備えており、搬送路13の
一方側には、色彩レジストを塗布するためのレジスト塗
布処理ユニット(CT)22、および基板Gの周縁部の
色彩レジストを除去するエッジリムーバー(ER)23
が設けられており、レジスト塗布処理ユニット(CT)
22とエッジリムーバー(ER)23との間に、乾燥処
理ユニット40が設けられている。搬送路13の他方側
には、2つの加熱処理装置(HP)が上下に重ねられて
なる加熱処理ユニット28、加熱処理装置(HP)と冷
却装置(COL)が上下に重ねられてなる加熱処理/冷
却ユニット29、および2つの冷却装置(COL)が上
下に重ねられてなる冷却ユニット30が配置されてい
る。
て移動可能な主搬送装置19を備えており、搬送路14
の一方側には、3つの現像処理ユニット24a、24
b、24cが配置されており、搬送路14の他方側には
2つの加熱処理装置(HP)が上下に重ねられてなる加
熱処理ユニット31、および加熱処理装置(HP)と冷
却処理装置(COL)とが上下に積層されてなる2つの
加熱処理/冷却ユニット32、33が配置されている。
側に洗浄処理ユニット21a、レジスト処理ユニット2
2、現像処理ユニット24aのようなスピナー系ユニッ
トのみを配置しており、他方の側に加熱処理ユニットや
冷却処理ユニット等の熱系処理ユニットのみを配置する
構造となっている。
ぞれ水平面内の2方向のX軸駆動機構、Y軸駆動機構、
および垂直方向のZ軸駆動機構を備えており、さらにZ
軸を中心に回転する回転駆動機構を備えており、それぞ
れ基板Gを支持するアーム17a,18a,19aを有
している。
ット配置側の部分には、薬液供給ユニット34が配置さ
れており、さらにメンテナンスのためのスペース35が
設けられている。
ーム11との間で基板Gの受け渡しを行うとともに、前
段部2aの各処理ユニットに対する基板Gの搬入・搬
出、さらには中継部15との間で基板Gの受け渡しを行
う機能を有している。また、主搬送装置18は中継部1
5との間で基板Gの受け渡しを行うとともに、中段部2
bの各処理ユニットに対する基板Gの搬入・搬出、さら
には中継部16との間の基板Gの受け渡しを行う機能を
有している。さらに、主搬送装置19は中継部16との
間で基板Gの受け渡しを行うとともに、後段部2cの各
処理ユニットに対する基板Gの搬入・搬出、さらにはイ
ンターフェース部3との間の基板Gの受け渡しを行う機
能を有している。なお、中継部15、16は冷却プレー
トとしても機能する。
で基板を受け渡しする際に一時的に基板を保持するエク
ステンション36と、さらにその両側に設けられた、バ
ッファーカセットを配置する2つのバッファーステージ
37と、これらと露光装置(図示せず)との間の基板G
の搬入出を行う搬送機構38とを備えている。搬送機構
38はエクステンション36およびバッファーステージ
37の配列方向に沿って設けられた搬送路38a上を移
動可能な搬送アーム39を備え、この搬送アーム39に
より処理部2と露光装置との間で基板Gの搬送が行われ
る。このように各処理ユニットを集約して一体化するこ
とにより、省スペース化および処理の効率化を図ること
ができる。
テムにおいては、カセットC内の基板Gが、処理部2に
搬送され、処理部2では、まず、前段部2aの洗浄ユニ
ット(SCR)21a,21bでスクラバー洗浄が施さ
れ、加熱処理ユニット25,26のいずれかの加熱処理
装置(HP)で加熱乾燥された後、冷却ユニット27の
いずれかの冷却装置(COL)で冷却される。
レジスト塗布ユニット(CT)22で色彩レジストが塗
布され、乾燥処理ユニット40により乾燥処理されて、
エッジリムーバー(ER)23で基板Gの周縁の余分な
色彩レジストが除去される。その後、基板Gは、中段部
2bの中の加熱処理装置(HP)の一つでプリベーク処
理され、ユニット29または30の下段の冷却装置(C
OL)で冷却される。
置19にてインターフェース部3を介して露光装置に搬
送されてそこで所定のパターンが露光される。そして、
基板Gは再びインターフェース部3を介して搬入され、
現像処理ユニット(DEV)24a,24b,24cの
いずれかで現像処理される。現像処理された基板Gは、
後段部2cのいずれかの加熱処理ユニット(HP)にて
ポストベーク処理が施された後、冷却ユニット(CO
L)にて冷却される。
定されたレシピに従って実行される。例えば、レッドの
塗布・露光・現像処理が終了した基板Gは、順次グリー
ン、ブルー、ブラックの塗布・露光・現像処理が施され
るが、後述するように、塗布ユニット(CT)22にお
いて異なる色彩のノズルを用いる他は、各色彩ともほぼ
同様に処理される。完成したカラーフィルターの基板
は、主搬送装置19,18,17および搬送機構10に
よってカセットステーション1上の所定のカセットに収
容される。
ーの塗布・現像処理システムに装着されるレジスト塗布
処理ユニット(CT)、減圧乾燥処理ユニット(V
D)、およびエッジリムーバー(ER)について説明す
る。図2および図3は、レジスト塗布処理ユニット(C
T)、減圧乾燥処理ユニット(VD)、およびエッジリ
ムーバー(ER)を示す概略平面図および概略側面図で
ある。
スト塗布処理ユニット(CT)22、減圧乾燥処理ユニ
ット(VD)40、およびエッジリムーバー(ER)2
3は、同一のステージに一体的に並設されている。レジ
スト塗布処理ユニット(CT)22で所定の色彩レジス
トが塗布された基板Gは、一対の搬送アーム41により
ガイドレール43に沿って減圧乾燥処理ユニット(V
D)40に搬送され、この減圧乾燥処理ユニット(V
D)40で乾燥処理された基板Gは、一対の搬送アーム
42によりガイドレール43に沿ってエッジリムーバー
(ER)23に搬送されるようになっている。
は、基板Gを吸着保持する水平回転可能なスピンチャッ
ク51、このスピンチャック51の上端部を囲みかつこ
のスピンチャック51に吸着保持された基板Gを包囲し
て上端部が開口する有底開口円筒形状の回転カップ5
2、回転カップ52の上端開口にかぶせられる蓋体(図
示略)、回転カップ52の外周を取り囲むように固定配
置されるコーターカップ53を有している。そして、後
述する色彩レジストの滴下時には、蓋体が開かれた状態
で基板Gがスピンチャック51により回転され、色彩レ
ジストの拡散時には、基板Gがスピンチャック51によ
り回転されると同時に、蓋体(図示略)が閉じられた状
態の回転カップ52が回転されるようになっている。な
お、コーターカップ53の外周には、アウターカバー5
4が設けられている。
22は、ガラス製の矩形の基板Gに、4色(レッド、グ
リーン、ブルー、およびブラック)の色彩レジストを吐
出するためのレジスト吐出ノズルアーム55を有してい
る。色彩レジストの滴下時には、このレジスト吐出ノズ
ルアーム55の先端が、図2に示す退避位置から、基板
Gの中心まで移動されるようになっている。
ズルアーム55の先端には、レッドの色彩レジストのノ
ズル56a、グリーンの色彩レジストのノズル56b、
ブルーの色彩レジストのノズル56c、ブラックの色彩
レジストのノズル56d、およびシンナーノズル56e
が設けられている。各色彩レジスト用のノズル56a〜
56dには、それぞれレジスト供給管57a〜57dが
接続され、これらレジスト供給管57a〜57dは、2
つの大径管58a,58b内に収納されている。そし
て、各レジスト供給管には、それぞれ、レジスト供給源
としての2個のタンク(図示略)が接続されている。ま
た、シンナーノズル56eは、シンナー供給管57eを
介して、シンナー供給源(図示略)に接続されている。
ル56a〜56dの一つにより、一つの色彩レジストを
基板Gに塗布した後、他の色彩のズルによって塗布処理
を行うことが容易である。例えば、次の基板に塗布する
レジストの色彩が異なっていても、ノズルを変えるだけ
で容易に対応することができる。
ンバ61と、その上を覆うように設けられ、内部の処理
室を気密に維持するアッパーチャンバ62とが設けられ
ている。このローチャンバ61には、基板Gを載置する
ためのステージ63が設けられ、ローチャンバ61の各
コーナー部には、4個の排気口64が設けられ、この排
気口64に連通された排気管65(図3)がターボ分子
排気ポンプ等の排気ポンプ(図示略)に接続され、これ
により、ローチャンバ61とアッパーチャンバ62との
間の処理室内のガスが排気され、所定の真空度、例えば
0.1Torrに減圧されるように構成されている。なお、
ステージ63には吸着機構は設けられておらず、単に基
板Gが載置されるようになっている。また、ステージ6
3には基板Gの受け渡し用のピン(図示せず)が突没可
能に設けられている。これらピンは基板の処理に悪影響
を与えないために、基板の処理領域以外の部分に当接す
るような位置に配置されている。
理)には、基板Gを載置するためのステージ71が設け
られ、このステージ71上の2つのコーナー部には、基
板Gを位置決めするための2つのアライメント機構72
が設けられている。上述したように、減圧乾燥ユニット
(VD)40のステージ63には吸着機構が設けられて
おらず、単に基板Gを載置しているだけであるから、エ
ッジリムーバー(ER)23による端面レジスト除去処
理に先立ってアライメント機構72により基板Gのアラ
イメントを行う。
の四辺のエッジから余分な色彩レジストを除去するため
の四個のリムーバーヘッド73が設けられている。各リ
ムーバーヘッド73は、内部からシンナーを吐出するよ
うに断面略U字状を有し、基板Gの四辺に沿って移動機
構(図示略)によって移動されるようになっている。し
たがって、各リムーバーヘッド73は、基板Gの各辺に
沿って移動してシンナーを吐出しながら、基板Gの四辺
のエッジに付着した余分な色彩レジストを取り除くこと
ができる。
スト塗布処理ユニット(CT)22、乾燥処理ユニット
(VD)40、およびエッジリムーバー(ER)23に
おける基板の処理について説明する。
22において、スピンチャック51により基板Gが移動
され、レジスト吐出ノズルアーム55が基板Gの中心ま
で回動され、シンナーノズル56eが基板Gの中心に到
達されると、回転する基板Gの表面にシンナーが供給さ
れ、遠心力によって基板Gの中心からその周囲全域にむ
らなく広げられる。
ドの色彩レジストのノズル56aがスピンチャック51
の中心(基板Gの中心)に到達され、回転する基板Gの
中心にレッドの色彩レジストが滴下されて基板Gに塗布
され、遠心力によって基板Gの中心からその周囲全域に
むらなく広げられる。
板Gは、搬送アーム41により減圧乾燥処理ユニット4
0に搬送され、ローチャンバ61とアッパーチャンバ6
2との間の処理室内のガスが排気され、所定の真空度、
例えば0.1Torrに減圧されることにより、色彩レジス
ト中のシンナー等の溶剤がある程度蒸発され、レジスト
中の溶剤が徐々に放出され、レジストに悪影響を与える
ことなくことなくレジストの乾燥を促進させることがで
き、基板G上に転写が生じることを有効に防止すること
ができる。
によりエッジリムーバー(ER)23に搬送され、アラ
イメント機構72によりアライメントされた後、4個の
リムーバーヘッド73が基板Gの各辺に沿って移動し、
吐出されたシンナーにより基板Gの四辺のエッジに付着
した余分な色彩レジストが除去される。この場合に、塗
布されたレジスト膜は減圧乾燥ユニット(VD)40に
よりある程度乾燥されているため、極めて容易にレジス
ト除去を行うことができる。
T)22には、他の基板Gが搬入され、同じレッド、ま
たは他の色彩のレジストが塗布される。同じ色彩の場合
には同一の動作を繰り返して行えばよく、異なる色彩の
場合にも異なる色彩ノズルから他の色彩のレジストを滴
下するのみで他は同じ処理でよいから、極めて容易に対
応することができる。
された基板Gは、露光・現像処理されて、再度、洗浄処
理の後、レジスト塗布処理ユニット(CT)22に搬入
され、二回目の色彩レジスト、例えばグリーンの色彩レ
ジストのノズル56bからグリーンの色彩レジストが基
板Gに塗布されて、上述した処理工程が同様に繰り返さ
れる。同様にして、三回目の色彩レジスト、例えばブル
ーが塗布され、四回目の色彩レジスト、例えばブラック
が塗布される。
ト塗布処理ユニット(CT)22のダミーディスペンス
処理およびフラッシング処理について説明する。図5の
(a)は、通常の処理時に用いられる第1の操作パネル
80の正面図であり、図5の(b)は、レジストの種類
を交換した時に用いられる第2の操作パネル90の正面
図である。また、図6は、ダミーディスペンス処理およ
びフラッシング処理を行う制御系のブロック図である。
れる第1の操作パネル80には、「MANUAL」スイ
ッチ81と「AUTO」スイッチ(自動ダミーディスペ
ンス機構)82とがある。そして、操作者が「MANU
AL」スイッチ81を押すことにより、レジスト塗布処
理ユニット(CT)22の処理を停止して、4個のレジ
スト吐出ノズル56a〜56dおよび供給管57a〜5
7dについて、洗浄液を供給して洗浄可能となってい
る。 また、操作者が[AUTO」スイッチ82を押す
ことにより、例えば、各色彩レジストの塗布処理中に、
レジスト吐出ノズルアーム55が退避位置にある時に、
各レジスト吐出ノズル56a〜56dから色彩レジスト
を自動的に吐出して、レジストの乾き等を防止する。通
常は、「AUTO」スイッチ82を押した状態にされ
る。
(例えば、レッド)に関して、色彩は同じだが種類の異
なる色彩レジストに交換するような場合がある。本実施
形態では、このような場合に、この色彩レジスト(レッ
ド)についての2個のタンクを同時に交換し、次いで、
その交換した色彩レジスト(レッド)のレジスト吐出ノ
ズル56aおよび供給管57aのみについて、フラッシ
ング処理およびダミーディスペンス処理を個別に行い、
交換していない他の色彩レジストのレジスト吐出ノズル
56b〜56dおよび供給管57b〜57dについては
色彩レジストの供給を中断することなく継続して処理可
能にしておく。
上記の通常時の操作パネル80における「MANUA
L」スイッチ81を押さざるを得なかった。しかし、こ
のスイッチを押した場合には、レジスト塗布処理ユニッ
ト(CT)22の処理が停止され、交換していないレジ
スト吐出ノズル56b〜56dでの色彩レジストの供給
を中断してしまい、スループットが低下してしまう。
交換した色彩レジストのレジスト吐出ノズルおよび供給
管のみについてフラッシング処理およびダミーディスペ
ンス処理を個別に行い、交換していない他の色彩レジス
トのレジスト吐出ノズルおよび供給管については色彩レ
ジストの供給を中断することなく継続して行うために、
一つの色彩レジスト(例えば、レッド)に関して、種類
の異なる色彩レジストに交換するような場合に、色彩レ
ジスト(レッド)を交換したレジスト吐出ノズル56a
および供給管57aのみについて、洗浄処理、すなわち
フラッシング処理およびダミーディスペンス処理を個別
に行えるように、レジストの種類を交換した時のための
第2の操作パネル90を設けている。
90には、各色彩(レッド、グリーン、ブルー、ブラッ
ク)に対応して、スタート/ストップスイッチD1〜D
4が設けられている。これらスイッチD1〜D4はLE
D付きモーメンタリースイッチであり、各スイッチが操
作者により押されることにより、対応するノズルのフラ
ッシング処理が開始され、もう一度押すと停止される。
また、フラッシング処理等の回数の上限を規定するため
のカウンター91が設けられている。この第2の操作パ
ネル90のスイッチD1〜D4のいずれかが押される
と、第1の操作パネル80の[AUTO」スイッチ82
の入力に基づく自動ディスペンス指令は無効にされ、ス
イッチD1〜D4の入力に基づく指令が優先される。
ル80および第2の操作パネル90に入力されたデータ
は制御部100に出力される。そして、制御部100は
操作パネル80および90からの信号に基づき、レッド
洗浄機構110a、グリーン洗浄機構110b、ブルー
洗浄機構110c、ブラック洗浄機構11dにより、ノ
ズル56a〜56dおよび配管57a〜57dを個別的
に洗浄処理、すなわちフラッシング処理およびダミーデ
ィスペンス処理を行うことが可能となっている。
色彩(レッド、グリーン、ブルー、ブラック)のレジス
ト塗布処理が行われている際、「AUTO」スイッチ8
2が押されており、それが制御部100に入力され、各
洗浄機構110a〜110dに対し、自動的にダミーデ
ィスペンスを行うように指令が出される。また、「MA
NUAL」スイッチ81が押された場合には、装置が停
止され、レジスト吐出ノズルや配管等の全体的な洗浄を
行うことが可能となる。
ド)について、種類の異なる色彩レジストのタンクに交
換した場合の制御フローについて図7に基づいて説明す
る。このようにレジストを異なる種類のものに交換した
際に(S201)、通常時の操作パネル80の操作が無
効とされ(S202)、その後にレジスト塗布処理ユニ
ット(CT)22全体を停止するようなフラッシング処
理、および自動的なダミーディスペンス処理を行うこと
ができないようにする。
の場合に、それに対応した洗浄処理、つまりフラッシン
グ処理およびダミーディスペンス処理のスタート/スト
ップスイッチD1が操作者により押される(S20
2)。この際、カウンター91に、フラッシング処理等
の回数の上限を設定することができる。
ッドの色彩レジストに対応するレジスト吐出ノズル56
aおよび供給管57aにレッド洗浄機構110a洗浄液
が供給されて、所定回数のフラッシング処理が行われ
(S203)、その後、これらレジスト吐出ノズル56
aおよび供給管57aに、交換したレジストが供給され
て、ダミーディスペンス処理が行われる(S204)。
フラッシング処理等が行われるため、レッド一色だけで
なく、他のグリーン等のレジストの種類の交換が同時に
行われてもよい。すなわち、スタート/ストップスイッ
チD1〜D4の2つ以上が同時に押されてもよい。
スペンス処理が行われた後、操作者がスタート/ストッ
プスイッチD1を押すことにより処理が終了する。ま
た、レジスト吐出ノズルアーム55が退避位置から移動
した等の場合には、上述したフラッシング処理等は停止
される。
達したか否かが判断され(S205)、所定回数終了し
た後には、通常時の操作パネル80の操作が復帰され
(S206)、通常時の処理が可能となる。
彩レジストに対応する複数のノズルを有するので、複数
の色彩レジストを一つのレジスト塗布ユニット(CT)
22で塗布することができ、設備の小型化、省スペース
化を図ることができる。
56dのうち、色彩レジストを交換したレジスト吐出ノ
ズル、例えばレッドのレジスト吐出のズル56aのみに
ついて、フラッシング処理等を個別に行うことができ、
交換していない他のレジスト吐出ノズル56b〜56d
については、レジストの供給を中断することなく通常時
の処理を継続することができる。したがって、レジスト
の交換の際の段取り時間を短縮することができる。
に、第1の操作パネル80の「AUTO」スイッチ82
の入力に基づく指令を無効にすることにより、レジスト
を交換したレジスト吐出ノズル56aについて洗浄処
理、例えばフラッシング処理を行っている際に、自動的
なダミーディスペンスの指示が発せられることがなく、
個別的な洗浄処理が阻害されない。
ず、種々の変形が可能である。例えば、上記実施の形態
では、カラーフィルターの塗布・現像処理システムにつ
いて説明したが、これに限るものではない。すなわち、
複数のレジストは色彩レジストである必要はなく、種類
の異なる複数のレジストを使用する場合であれば、LC
D基板や半導体基板等、他の基板の処理にも適用するこ
とができる。
基板にそれぞれ異なるレジスト液を滴下可能な複数のレ
ジスト吐出ノズルを有するので、多数のレジストを一つ
の塗布処理装置で塗布することができ、カラーフィルタ
ー等の基板へのレジスト塗布に際し、設備の小型化、省
スペース化を図ることができる。
に洗浄する複数の洗浄機構と、複数の洗浄機構を選択的
に作動させる信号を入力する入力手段と、入力手段の入
力に基づいて洗浄機構を制御する制御機構とを具備して
いるので、少なくとも一つのレジスト液供給系について
レジストを異なる種類のレジストに交換した場合に、入
力手段により、そのレジスト供給系に対応するレジスト
吐出ノズルのみを洗浄することができ、他のレジスト吐
出ノズルはレジストの供給を停止する必要がない。した
がって、他のレジスト塗布処理を中断することなく、レ
ジストの種類を交換したレジスト供給系に対応するレジ
スト吐出ノズルの洗浄処理を行うことができ、交換の際
の段取り時間を短縮することができる。
の塗布・現像処理システムを示す平面図。
ユニット、およびエッジリムーバー(ER)を示す概略
平面図。
ユニット、およびエッジリムーバー(ER)を示す概略
側面図。
図。
トの種類を交換した時に用いる第2の操作パネルをそれ
ぞれ示す正面図。
行うための制御ブロック図。
わちダミーディスペンス処理およびフラッシング処理の
フローチャート。
Claims (5)
- 【請求項1】 基板に複数のレジストを塗布することが
可能なレジスト塗布処理装置であって、 基板にそれぞれ異なるレジスト液を滴下可能な複数のレ
ジスト吐出ノズルと、 各レジストノズルにそれぞれレジストを供給するための
複数のレジスト液供給系と、 前記複数のレジスト吐出ノズルを個別的に洗浄する複数
の洗浄機構と、 前記複数の洗浄機構を選択的に作動させる信号を入力す
る入力手段と、 前記入力手段の入力に基づいて洗浄機構を制御する制御
機構と、 各レジスト吐出ノズルに対し所定時間毎に自動的にダミ
ーでレジストを吐出させる自動ダミーディスペンス手段
とを具備し、 前記制御機構は、前記入力手段の入力があった時点で前
記自動ダミーディスペンス手段の動作を無効に すること
を特徴とするレジスト塗布処理装置。 - 【請求項2】 前記複数のレジスト吐出ノズルをその先
端に一体的に保持するノズルアームをさらに有すること
を特徴とする請求項1に記載のレジスト塗布処理装置。 - 【請求項3】 前記洗浄機構は、対応するレジスト吐出
ノズルに洗浄液を供給するとともに、レジストをなじま
せるためのダミーディスペンスを行うことを特徴とする
請求項1または請求項2に記載のレジスト塗布処理装
置。 - 【請求項4】 複数種のレジスト液を各々吐出するノズ
ルの内から所定のレジスト液を選択しそのレジスト液に
対応するノズルから基板にレジスト液を供給し塗布処理
するレジスト塗布処理方法であって、 前記複数種のレジスト液毎にそれぞれのノズルから自動
的にレジスト液のダミーディスペンスを行うよう各々設
定されたデータに基づく指令によりダミーディスペンス
を実行する工程と、 前記複数種のレジスト液の内の所定のレジスト液に対応
するノズルに一つの操作で洗浄動作を実行させる工程
と、 その際にそのノズルからのレジスト液のダミーディスペ
ンス動作指令を自動的に無効にする工程とを具備するこ
とを特徴とするレジスト塗布処理方法。 - 【請求項5】 複数種のレジスト液を各々吐出するノズ
ルの内から所定のレジスト液を選択しそのレジスト液に
対応するノズルから基板にレジスト液を供給し塗布処理
するレジスト塗布処理方法であって、 第1の操作部において所定の操作を行うことにより、前
記複数種のレジスト液毎にそれぞれのノズルからレジス
ト液を自動的にダミーディスペンスを行うよう各々設定
されたデータに基づく指令によりダミーディスペンスを
実行する工程と、 第2の操作部において洗浄回数を設定し、記憶させる工
程と、 この設定値に基づいて、前記複数種のレジスト液のうち
の所定のレジスト液に対応するノズルに対し一つの操作
で洗浄動作を実行させる工程と、 この工程の際、そのノズルからのレジスト液のダミーデ
ィスペンス動作指令を無効にする工程とを具備すること
を特徴とするレジスト塗布処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP36930698A JP3490316B2 (ja) | 1998-12-25 | 1998-12-25 | レジスト塗布処理装置およびレジスト塗布処理方法 |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2000195774A JP2000195774A (ja) | 2000-07-14 |
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JP (1) | JP3490316B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7094440B2 (en) | 2002-01-22 | 2006-08-22 | Tokyo Electron Limited | Substrate treatment method and substrate treatment apparatus |
KR100452329B1 (ko) * | 2002-10-04 | 2004-10-12 | 삼성전자주식회사 | 반도체 코팅설비의 포토레지스트 퍼지 제어장치 |
JP5244445B2 (ja) * | 2008-04-24 | 2013-07-24 | 東京応化工業株式会社 | 塗布装置 |
-
1998
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JP2000195774A (ja) | 2000-07-14 |
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