JP3490316B2 - レジスト塗布処理装置およびレジスト塗布処理方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラー液晶ディス
プレイ（ＬＣＤ）のカラーフィルター等の基板にレジス
トを塗布するレジスト塗布処理装置およびレジスト塗布
処理方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】カラー液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のカ
ラーフィルターの製造においては、ガラス製の矩形の基
板に、４色（レッド、グリーン、ブルー、およびブラッ
ク）の色彩レジストを塗布し、これを露光し、これを現
像処理するという、いわゆるフォトリソグラフィー技術
によりカラーフィルターを形成している。

【０００３】このようなカラーフィルターのフォトリソ
グラフィ工程においては、各色ごとに色彩レジストの塗
布処理および露光・現像処理を行っている。すなわち、
例えば、レッドの色彩レジストを塗布して、このレッド
に関して露光・現像処理し、次いでグリーンの色彩レジ
ストを塗布して、グリーンに関して露光・現像処理し、
その後、ブルー、ブラックに関しても同様に行ってい
る。

【０００４】したがって、各色彩の処理ごとに、洗浄、
塗布、露光、および現像の処理ユニットが必要とされ、
各色彩の洗浄、塗布、露光、および現像の処理ユニット
が連続的に配置され、上流から下流に向かって連続的に
処理されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たような塗布・現像処理システムにより、一つのカラー
フィルターに複数の色彩レジストを塗布する際には、各
色彩ごとに、洗浄、塗布、露光、および現像の処理ユニ
ットを設け、色彩の数に対応した複数組の洗浄、塗布、
露光、および現像の処理ユニットを設ける必要があるた
め、設備構成が巨大化し、クリーンルームでのスペース
が増大するとともに、製造コストも高騰してしまう。

【０００６】本発明はかかる事情に鑑みてなされたもの
であり、カラーフィルター等の基板へのレジスト塗布に
際し、設備の小型化、省スペース化を図ることができ、
製造コストの低減を図ることができるレジスト塗布処理
装置およびレジスト塗布処理方法を提供することを目的
とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために、先に、複数の色彩レジストを基板に
塗布し、かつ露光後に現像するための塗布・現像処理装
置であって、複数の色彩レジストをそれぞれ基板に吐出
する複数のレジスト吐出ノズルを有するレジスト塗布処
理ユニットと、この色彩レジストが塗布された基板を露
光後に現像するための現像処理ユニットとを具備するこ
とを特徴とする塗布・現像処理装置を発明し、出願した
（特願平１０−２３３５９６）。

【０００８】ここでは、４色（レッド、グリーン、ブル
ー、およびブラック）の色彩レジストの塗布に際して
は、一つのノズルアームの先端に、４個のレジスト吐出
ノズルを設け、これら４個のレジスト吐出ノズルに、上
記４色のレジストがそれぞれの供給管を介して供給する
ようになっている。

【０００９】また、各色彩レジストの供給源としてのタ
ンクは、それぞれの色彩について２個ずつ設けられ、一
方のタンクから色彩レジストを供給している際に、他方
のタンクを交換することができ、色彩レジストの供給を
中断することなく、色彩レジストを補充できるようにな
っている。

【００１０】一方、一つの色彩レジスト（例えば、レッ
ド）に関して、色彩は同じであるが成分等が異なる種類
の色彩レジストに交換するような場合がある。このよう
な場合には、上述した２個のタンクを同時に交換し、次
いで、レジスト吐出ノズルに洗浄液を供給して洗浄する
フラッシング処理を施し、その後、交換した色彩レジス
トを予め吐出してなじませるダミーディスペンス処理を
行う必要がある。

【００１１】しかしながら、上記出願の技術では、フラ
ッシング処理等を施す場合には、レジスト塗布処理装置
の処理を停止してから行わざるを得ない。しかし、この
ような処理は１時間程度かかるため、その間装置を停止
したのではスループットが著しく低下するため、装置を
止めずにこのような作業を行いたいという要望がある。

【００１２】そこで、本発明では、上記先行出願と同
様、複数のレジスト吐出ノズルを備えたレジスト塗布処
理装置を前提にして、上記課題を解決しつつ、さらに先
行出願の問題点も解決しようとしている。

【００１３】 すなわち、本発明によれば、基板に複数の
レジストを塗布することが可能なレジスト塗布処理装置
であって、基板にそれぞれ異なるレジスト液を滴下可能
な複数のレジスト吐出ノズルと、各レジストノズルにそ
れぞれレジストを供給するための複数のレジスト液供給
系と、前記複数のレジスト吐出ノズルを個別的に洗浄す
る複数の洗浄機構と、前記複数の洗浄機構を選択的に作
動させる信号を入力する入力手段と、前記入力手段の入
力に基づいて洗浄機構を制御する制御機構と、各レジス
ト吐出ノズルに対し所定時間毎に自動的にダミーでレジ
ストを吐出させる自動ダミーディスペンス手段とを具備
し、前記制御機構は、前記入力手段の入力があった時点
で前記自動ダミーディスペンス手段の動作を無効にする
ことを特徴とするレジスト塗布処理装置が提供される。

【００１４】 このような構成の本発明によれば、基板に
それぞれ異なるレジスト液を滴下可能な複数のレジスト
吐出ノズルを有するので、多数のレジストを一つの塗布
処理装置で塗布することができ、カラーフィルター等の
基板へのレジスト塗布に際し、設備の小型化、省スペー
ス化を図ることができる。

【００１５】 また、複数のレジスト吐出ノズルを個別的
に洗浄する複数の洗浄機構と、複数の洗浄機構を選択的
に作動させる信号を入力する入力手段と、入力手段の入
力に基づいて洗浄機構を制御する制御機構とを具備して
いるので、少なくとも一つのレジスト液供給系について
レジストを異なる種類のレジストに交換した場合に、入
力手段により、そのレジスト供給系に対応するレジスト
吐出ノズルのみを洗浄することができ、他のレジスト吐
出ノズルはレジストの供給を停止する必要がない。した
がって、他のレジスト塗布処理を中断することなく、レ
ジストの種類を交換したレジスト供給系に対応するレジ
スト吐出ノズルの洗浄処理を行うことができ、交換の際
の段取り時間を短縮することができる。

【００１６】 この場合に、前記複数のレジスト吐出ノズ
ルをその先端に一体的に保持するノズルアームをさらに
有するので、複数のレジスト吐出ノズルを有しながら、
装置の機構を複雑にすることがない。

【００１７】 また、各レジスト吐出ノズルに対し所定時
間毎に自動的にダミーでレジストを吐出させる自動ダミ
ーディスペンス手段を具備する場合には、前記制御機構
は、前記入力手段の入力があった時点で前記自動ダミー
ディスペンス手段の動作を無効にすることが好ましい。
これにより、自動ディスペンス手段によって妨げられる
ことなく、上記洗浄機構により入力手段により入力した
レジスト吐出ノズルのみを確実に洗浄することができ
る。

【００１８】 さらに前記洗浄機構は、対応するレジスト
吐出ノズルに洗浄液を供給するとともに、レジストをな
じませるためのダミーディスペンスを行うことが好まし
い。これにより、洗浄処理が終了した後にすぐに交換し
たレジストを使用することができる。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面を参照して詳細に説明する。図１は、本発明が適用
されるＬＣＤのカラーフィルターの塗布・現像処理シス
テムを示す平面図である。

【００２０】 この塗布・現像処理システムは、複数の基
板Ｇを収容するカセットＣを載置するカセットステーシ
ョン１と、基板Ｇにレジスト塗布および現像を含む一連
の処理を施すための複数の処理ユニットを備えた処理部
２と、露光装置（図示せず）との間で基板Ｇの受け渡し
を行うためのインターフェース部３とを備えており、処
理部２の両端にそれぞれカセットステーション２および
インターフェース部３が配置されている。

【００２１】 カセットステーション１は、カセットＣと
処理部２との間で基板Ｇの搬送を行うための搬送機構１
０を備えている。そして、カセットステーション１にお
いてカセットＣの搬入出が行われる。また、搬送機構１
０はカセットの配列方向に沿って設けられた搬送路１０
ａ上を移動可能な搬送アーム１１を備え、この搬送アー
ム１１によりカセットＣと処理部２との間で基板Ｇの搬
送が行われる。

【００２２】 処理部２は、前段部２ａと中段部２ｂと後
段部２ｃとに分かれており、それぞれ中央に搬送路１
２、１３、１４を有し、これら搬送路の両側に各処理ユ
ニットが配設されている。そして、これらの間には、中
継部１５、１６が設けられている。

【００２３】 前段部２ａは、搬送路１２に沿って移動可
能な主搬送装置１７を備えており、搬送路１２の一方側
には、２つの洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａ、２１ｂが
配置されており、搬送路１２の他方側には、それぞれ２
つの加熱処理装置（ＨＰ）が上下２段に重ねられてなる
加熱処理ユニット２５、２６、および冷却装置（ＣＯ
Ｌ）が上下２段に重ねられてなる冷却ユニット２７が配
置されている。

【００２４】 また、中段部２ｂは、搬送路１３に沿って
移動可能な主搬送装置１８を備えており、搬送路１３の
一方側には、色彩レジストを塗布するためのレジスト塗
布処理ユニット（ＣＴ）２２、および基板Ｇの周縁部の
色彩レジストを除去するエッジリムーバー（ＥＲ）２３
が設けられており、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）
２２とエッジリムーバー（ＥＲ）２３との間に、乾燥処
理ユニット４０が設けられている。搬送路１３の他方側
には、２つの加熱処理装置（ＨＰ）が上下に重ねられて
なる加熱処理ユニット２８、加熱処理装置（ＨＰ）と冷
却装置（ＣＯＬ）が上下に重ねられてなる加熱処理／冷
却ユニット２９、および２つの冷却装置（ＣＯＬ）が上
下に重ねられてなる冷却ユニット３０が配置されてい
る。

【００２５】 さらに、後段部２ｃは、搬送路１４に沿っ
て移動可能な主搬送装置１９を備えており、搬送路１４
の一方側には、３つの現像処理ユニット２４ａ、２４
ｂ、２４ｃが配置されており、搬送路１４の他方側には
２つの加熱処理装置（ＨＰ）が上下に重ねられてなる加
熱処理ユニット３１、および加熱処理装置（ＨＰ）と冷
却処理装置（ＣＯＬ）とが上下に積層されてなる２つの
加熱処理／冷却ユニット３２、３３が配置されている。

【００２６】 なお、処理部２は、搬送路を挟んで一方の
側に洗浄処理ユニット２１ａ、レジスト処理ユニット２
２、現像処理ユニット２４ａのようなスピナー系ユニッ
トのみを配置しており、他方の側に加熱処理ユニットや
冷却処理ユニット等の熱系処理ユニットのみを配置する
構造となっている。

【００２７】 上記主搬送装置１７，１８，１９は、それ
ぞれ水平面内の２方向のＸ軸駆動機構、Ｙ軸駆動機構、
および垂直方向のＺ軸駆動機構を備えており、さらにＺ
軸を中心に回転する回転駆動機構を備えており、それぞ
れ基板Ｇを支持するアーム１７ａ，１８ａ，１９ａを有
している。

【００２８】 また、中継部１５、１６のスピナー系ユニ
ット配置側の部分には、薬液供給ユニット３４が配置さ
れており、さらにメンテナンスのためのスペース３５が
設けられている。

【００２９】 上記主搬送装置１７は、搬送機構１０のア
ーム１１との間で基板Ｇの受け渡しを行うとともに、前
段部２ａの各処理ユニットに対する基板Ｇの搬入・搬
出、さらには中継部１５との間で基板Ｇの受け渡しを行
う機能を有している。また、主搬送装置１８は中継部１
５との間で基板Ｇの受け渡しを行うとともに、中段部２
ｂの各処理ユニットに対する基板Ｇの搬入・搬出、さら
には中継部１６との間の基板Ｇの受け渡しを行う機能を
有している。さらに、主搬送装置１９は中継部１６との
間で基板Ｇの受け渡しを行うとともに、後段部２ｃの各
処理ユニットに対する基板Ｇの搬入・搬出、さらにはイ
ンターフェース部３との間の基板Ｇの受け渡しを行う機
能を有している。なお、中継部１５、１６は冷却プレー
トとしても機能する。

【００３０】 インターフェース部３は、処理部２との間
で基板を受け渡しする際に一時的に基板を保持するエク
ステンション３６と、さらにその両側に設けられた、バ
ッファーカセットを配置する２つのバッファーステージ
３７と、これらと露光装置（図示せず）との間の基板Ｇ
の搬入出を行う搬送機構３８とを備えている。搬送機構
３８はエクステンション３６およびバッファーステージ
３７の配列方向に沿って設けられた搬送路３８ａ上を移
動可能な搬送アーム３９を備え、この搬送アーム３９に
より処理部２と露光装置との間で基板Ｇの搬送が行われ
る。このように各処理ユニットを集約して一体化するこ
とにより、省スペース化および処理の効率化を図ること
ができる。

【００３１】 このように構成される塗布・現像処理シス
テムにおいては、カセットＣ内の基板Ｇが、処理部２に
搬送され、処理部２では、まず、前段部２ａの洗浄ユニ
ット（ＳＣＲ）２１ａ，２１ｂでスクラバー洗浄が施さ
れ、加熱処理ユニット２５，２６のいずれかの加熱処理
装置（ＨＰ）で加熱乾燥された後、冷却ユニット２７の
いずれかの冷却装置（ＣＯＬ）で冷却される。

【００３２】 その後、基板Ｇは中段部２ｂに搬送され、
レジスト塗布ユニット（ＣＴ）２２で色彩レジストが塗
布され、乾燥処理ユニット４０により乾燥処理されて、
エッジリムーバー（ＥＲ）２３で基板Ｇの周縁の余分な
色彩レジストが除去される。その後、基板Ｇは、中段部
２ｂの中の加熱処理装置（ＨＰ）の一つでプリベーク処
理され、ユニット２９または３０の下段の冷却装置（Ｃ
ＯＬ）で冷却される。

【００３３】 その後、基板Ｇは中継部１６から主搬送装
置１９にてインターフェース部３を介して露光装置に搬
送されてそこで所定のパターンが露光される。そして、
基板Ｇは再びインターフェース部３を介して搬入され、
現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４ａ，２４ｂ，２４ｃの
いずれかで現像処理される。現像処理された基板Ｇは、
後段部２ｃのいずれかの加熱処理ユニット（ＨＰ）にて
ポストベーク処理が施された後、冷却ユニット（ＣＯ
Ｌ）にて冷却される。

【００３４】 このような各色彩毎の一連の処理が予め設
定されたレシピに従って実行される。例えば、レッドの
塗布・露光・現像処理が終了した基板Ｇは、順次グリー
ン、ブルー、ブラックの塗布・露光・現像処理が施され
るが、後述するように、塗布ユニット（ＣＴ）２２にお
いて異なる色彩のノズルを用いる他は、各色彩ともほぼ
同様に処理される。完成したカラーフィルターの基板
は、主搬送装置１９，１８，１７および搬送機構１０に
よってカセットステーション１上の所定のカセットに収
容される。

【００３５】 次に、本実施の形態に係るカラーフィルタ
ーの塗布・現像処理システムに装着されるレジスト塗布
処理ユニット（ＣＴ）、減圧乾燥処理ユニット（Ｖ
Ｄ）、およびエッジリムーバー（ＥＲ）について説明す
る。図２および図３は、レジスト塗布処理ユニット（Ｃ
Ｔ）、減圧乾燥処理ユニット（ＶＤ）、およびエッジリ
ムーバー（ＥＲ）を示す概略平面図および概略側面図で
ある。

【００３６】 図２および図３に示すように、これらレジ
スト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２、減圧乾燥処理ユニ
ット（ＶＤ）４０、およびエッジリムーバー（ＥＲ）２
３は、同一のステージに一体的に並設されている。レジ
スト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２で所定の色彩レジス
トが塗布された基板Ｇは、一対の搬送アーム４１により
ガイドレール４３に沿って減圧乾燥処理ユニット（Ｖ
Ｄ）４０に搬送され、この減圧乾燥処理ユニット（Ｖ
Ｄ）４０で乾燥処理された基板Ｇは、一対の搬送アーム
４２によりガイドレール４３に沿ってエッジリムーバー
（ＥＲ）２３に搬送されるようになっている。

【００３７】 レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２
は、基板Ｇを吸着保持する水平回転可能なスピンチャッ
ク５１、このスピンチャック５１の上端部を囲みかつこ
のスピンチャック５１に吸着保持された基板Ｇを包囲し
て上端部が開口する有底開口円筒形状の回転カップ５
２、回転カップ５２の上端開口にかぶせられる蓋体（図
示略）、回転カップ５２の外周を取り囲むように固定配
置されるコーターカップ５３を有している。そして、後
述する色彩レジストの滴下時には、蓋体が開かれた状態
で基板Ｇがスピンチャック５１により回転され、色彩レ
ジストの拡散時には、基板Ｇがスピンチャック５１によ
り回転されると同時に、蓋体（図示略）が閉じられた状
態の回転カップ５２が回転されるようになっている。な
お、コーターカップ５３の外周には、アウターカバー５
４が設けられている。

【００３８】 また、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）
２２は、ガラス製の矩形の基板Ｇに、４色（レッド、グ
リーン、ブルー、およびブラック）の色彩レジストを吐
出するためのレジスト吐出ノズルアーム５５を有してい
る。色彩レジストの滴下時には、このレジスト吐出ノズ
ルアーム５５の先端が、図２に示す退避位置から、基板
Ｇの中心まで移動されるようになっている。

【００３９】 図４に詳細に示すように、レジスト吐出ノ
ズルアーム５５の先端には、レッドの色彩レジストのノ
ズル５６ａ、グリーンの色彩レジストのノズル５６ｂ、
ブルーの色彩レジストのノズル５６ｃ、ブラックの色彩
レジストのノズル５６ｄ、およびシンナーノズル５６ｅ
が設けられている。各色彩レジスト用のノズル５６ａ〜
５６ｄには、それぞれレジスト供給管５７ａ〜５７ｄが
接続され、これらレジスト供給管５７ａ〜５７ｄは、２
つの大径管５８ａ，５８ｂ内に収納されている。そし
て、各レジスト供給管には、それぞれ、レジスト供給源
としての２個のタンク（図示略）が接続されている。ま
た、シンナーノズル５６ｅは、シンナー供給管５７ｅを
介して、シンナー供給源（図示略）に接続されている。

【００４０】 このように構成されているため、色彩ノズ
ル５６ａ〜５６ｄの一つにより、一つの色彩レジストを
基板Ｇに塗布した後、他の色彩のズルによって塗布処理
を行うことが容易である。例えば、次の基板に塗布する
レジストの色彩が異なっていても、ノズルを変えるだけ
で容易に対応することができる。

【００４１】 減圧乾燥処理ユニット４０には、ローチャ
ンバ６１と、その上を覆うように設けられ、内部の処理
室を気密に維持するアッパーチャンバ６２とが設けられ
ている。このローチャンバ６１には、基板Ｇを載置する
ためのステージ６３が設けられ、ローチャンバ６１の各
コーナー部には、４個の排気口６４が設けられ、この排
気口６４に連通された排気管６５（図３）がターボ分子
排気ポンプ等の排気ポンプ（図示略）に接続され、これ
により、ローチャンバ６１とアッパーチャンバ６２との
間の処理室内のガスが排気され、所定の真空度、例えば
０．１Torrに減圧されるように構成されている。なお、
ステージ６３には吸着機構は設けられておらず、単に基
板Ｇが載置されるようになっている。また、ステージ６
３には基板Ｇの受け渡し用のピン（図示せず）が突没可
能に設けられている。これらピンは基板の処理に悪影響
を与えないために、基板の処理領域以外の部分に当接す
るような位置に配置されている。

【００４２】 エッジリムーバー（ＥＲ）２３（端面処
理）には、基板Ｇを載置するためのステージ７１が設け
られ、このステージ７１上の２つのコーナー部には、基
板Ｇを位置決めするための２つのアライメント機構７２
が設けられている。上述したように、減圧乾燥ユニット
（ＶＤ）４０のステージ６３には吸着機構が設けられて
おらず、単に基板Ｇを載置しているだけであるから、エ
ッジリムーバー（ＥＲ）２３による端面レジスト除去処
理に先立ってアライメント機構７２により基板Ｇのアラ
イメントを行う。

【００４３】 この基板Ｇの四辺には、それぞれ、基板Ｇ
の四辺のエッジから余分な色彩レジストを除去するため
の四個のリムーバーヘッド７３が設けられている。各リ
ムーバーヘッド７３は、内部からシンナーを吐出するよ
うに断面略Ｕ字状を有し、基板Ｇの四辺に沿って移動機
構（図示略）によって移動されるようになっている。し
たがって、各リムーバーヘッド７３は、基板Ｇの各辺に
沿って移動してシンナーを吐出しながら、基板Ｇの四辺
のエッジに付着した余分な色彩レジストを取り除くこと
ができる。

【００４４】 次に、このように一体的に構成されたレジ
スト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２、乾燥処理ユニット
（ＶＤ）４０、およびエッジリムーバー（ＥＲ）２３に
おける基板の処理について説明する。

【００４５】 まず、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）
２２において、スピンチャック５１により基板Ｇが移動
され、レジスト吐出ノズルアーム５５が基板Ｇの中心ま
で回動され、シンナーノズル５６ｅが基板Ｇの中心に到
達されると、回転する基板Ｇの表面にシンナーが供給さ
れ、遠心力によって基板Ｇの中心からその周囲全域にむ
らなく広げられる。

【００４６】 続いて、所定の色彩レジスト、例えばレッ
ドの色彩レジストのノズル５６ａがスピンチャック５１
の中心（基板Ｇの中心）に到達され、回転する基板Ｇの
中心にレッドの色彩レジストが滴下されて基板Ｇに塗布
され、遠心力によって基板Ｇの中心からその周囲全域に
むらなく広げられる。

【００４７】 このレッドの色彩レジストが塗布された基
板Ｇは、搬送アーム４１により減圧乾燥処理ユニット４
０に搬送され、ローチャンバ６１とアッパーチャンバ６
２との間の処理室内のガスが排気され、所定の真空度、
例えば０．１Torrに減圧されることにより、色彩レジス
ト中のシンナー等の溶剤がある程度蒸発され、レジスト
中の溶剤が徐々に放出され、レジストに悪影響を与える
ことなくことなくレジストの乾燥を促進させることがで
き、基板Ｇ上に転写が生じることを有効に防止すること
ができる。

【００４８】 この乾燥された基板Ｇは、搬送アーム４２
によりエッジリムーバー（ＥＲ）２３に搬送され、アラ
イメント機構７２によりアライメントされた後、４個の
リムーバーヘッド７３が基板Ｇの各辺に沿って移動し、
吐出されたシンナーにより基板Ｇの四辺のエッジに付着
した余分な色彩レジストが除去される。この場合に、塗
布されたレジスト膜は減圧乾燥ユニット（ＶＤ）４０に
よりある程度乾燥されているため、極めて容易にレジス
ト除去を行うことができる。

【００４９】 この後、レジスト塗布処理ユニット（Ｃ
Ｔ）２２には、他の基板Ｇが搬入され、同じレッド、ま
たは他の色彩のレジストが塗布される。同じ色彩の場合
には同一の動作を繰り返して行えばよく、異なる色彩の
場合にも異なる色彩ノズルから他の色彩のレジストを滴
下するのみで他は同じ処理でよいから、極めて容易に対
応することができる。

【００５０】 一方、上述のレッドの色彩レジストが塗布
された基板Ｇは、露光・現像処理されて、再度、洗浄処
理の後、レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２に搬入
され、二回目の色彩レジスト、例えばグリーンの色彩レ
ジストのノズル５６ｂからグリーンの色彩レジストが基
板Ｇに塗布されて、上述した処理工程が同様に繰り返さ
れる。同様にして、三回目の色彩レジスト、例えばブル
ーが塗布され、四回目の色彩レジスト、例えばブラック
が塗布される。

【００５１】 次に、図５および図６を参照して、レジス
ト塗布処理ユニット（ＣＴ）２２のダミーディスペンス
処理およびフラッシング処理について説明する。図５の
（ａ）は、通常の処理時に用いられる第１の操作パネル
８０の正面図であり、図５の（ｂ）は、レジストの種類
を交換した時に用いられる第２の操作パネル９０の正面
図である。また、図６は、ダミーディスペンス処理およ
びフラッシング処理を行う制御系のブロック図である。

【００５２】 図５（ａ）に示すように、通常時に用いら
れる第１の操作パネル８０には、「ＭＡＮＵＡＬ」スイ
ッチ８１と「ＡＵＴＯ」スイッチ（自動ダミーディスペ
ンス機構）８２とがある。そして、操作者が「ＭＡＮＵ
ＡＬ」スイッチ８１を押すことにより、レジスト塗布処
理ユニット（ＣＴ）２２の処理を停止して、４個のレジ
スト吐出ノズル５６ａ〜５６ｄおよび供給管５７ａ〜５
７ｄについて、洗浄液を供給して洗浄可能となってい
る。 また、操作者が［ＡＵＴＯ」スイッチ８２を押す
ことにより、例えば、各色彩レジストの塗布処理中に、
レジスト吐出ノズルアーム５５が退避位置にある時に、
各レジスト吐出ノズル５６ａ〜５６ｄから色彩レジスト
を自動的に吐出して、レジストの乾き等を防止する。通
常は、「ＡＵＴＯ」スイッチ８２を押した状態にされ
る。

【００５３】 ところで、いずれか一つの色彩レジスト
（例えば、レッド）に関して、色彩は同じだが種類の異
なる色彩レジストに交換するような場合がある。本実施
形態では、このような場合に、この色彩レジスト（レッ
ド）についての２個のタンクを同時に交換し、次いで、
その交換した色彩レジスト（レッド）のレジスト吐出ノ
ズル５６ａおよび供給管５７ａのみについて、フラッシ
ング処理およびダミーディスペンス処理を個別に行い、
交換していない他の色彩レジストのレジスト吐出ノズル
５６ｂ〜５６ｄおよび供給管５７ｂ〜５７ｄについては
色彩レジストの供給を中断することなく継続して処理可
能にしておく。

【００５４】 従来は、このようなタンクの交換時には、
上記の通常時の操作パネル８０における「ＭＡＮＵＡ
Ｌ」スイッチ８１を押さざるを得なかった。しかし、こ
のスイッチを押した場合には、レジスト塗布処理ユニッ
ト（ＣＴ）２２の処理が停止され、交換していないレジ
スト吐出ノズル５６ｂ〜５６ｄでの色彩レジストの供給
を中断してしまい、スループットが低下してしまう。

【００５５】 このようなことから、本実施の形態では、
交換した色彩レジストのレジスト吐出ノズルおよび供給
管のみについてフラッシング処理およびダミーディスペ
ンス処理を個別に行い、交換していない他の色彩レジス
トのレジスト吐出ノズルおよび供給管については色彩レ
ジストの供給を中断することなく継続して行うために、
一つの色彩レジスト（例えば、レッド）に関して、種類
の異なる色彩レジストに交換するような場合に、色彩レ
ジスト（レッド）を交換したレジスト吐出ノズル５６ａ
および供給管５７ａのみについて、洗浄処理、すなわち
フラッシング処理およびダミーディスペンス処理を個別
に行えるように、レジストの種類を交換した時のための
第２の操作パネル９０を設けている。

【００５６】 このレジストの種類交換時用の操作パネル
９０には、各色彩（レッド、グリーン、ブルー、ブラッ
ク）に対応して、スタート／ストップスイッチＤ１〜Ｄ
４が設けられている。これらスイッチＤ１〜Ｄ４はＬＥ
Ｄ付きモーメンタリースイッチであり、各スイッチが操
作者により押されることにより、対応するノズルのフラ
ッシング処理が開始され、もう一度押すと停止される。
また、フラッシング処理等の回数の上限を規定するため
のカウンター９１が設けられている。この第２の操作パ
ネル９０のスイッチＤ１〜Ｄ４のいずれかが押される
と、第１の操作パネル８０の［ＡＵＴＯ」スイッチ８２
の入力に基づく自動ディスペンス指令は無効にされ、ス
イッチＤ１〜Ｄ４の入力に基づく指令が優先される。

【００５７】 図６に示すように、これら第１の操作パネ
ル８０および第２の操作パネル９０に入力されたデータ
は制御部１００に出力される。そして、制御部１００は
操作パネル８０および９０からの信号に基づき、レッド
洗浄機構１１０ａ、グリーン洗浄機構１１０ｂ、ブルー
洗浄機構１１０ｃ、ブラック洗浄機構１１ｄにより、ノ
ズル５６ａ〜５６ｄおよび配管５７ａ〜５７ｄを個別的
に洗浄処理、すなわちフラッシング処理およびダミーデ
ィスペンス処理を行うことが可能となっている。

【００５８】 通常時のレジスト塗布処理の場合には、各
色彩（レッド、グリーン、ブルー、ブラック）のレジス
ト塗布処理が行われている際、「ＡＵＴＯ」スイッチ８
２が押されており、それが制御部１００に入力され、各
洗浄機構１１０ａ〜１１０ｄに対し、自動的にダミーデ
ィスペンスを行うように指令が出される。また、「ＭＡ
ＮＵＡＬ」スイッチ８１が押された場合には、装置が停
止され、レジスト吐出ノズルや配管等の全体的な洗浄を
行うことが可能となる。

【００５９】 次に、一つの色彩レジスト（例えば、レッ
ド）について、種類の異なる色彩レジストのタンクに交
換した場合の制御フローについて図７に基づいて説明す
る。このようにレジストを異なる種類のものに交換した
際に（Ｓ２０１）、通常時の操作パネル８０の操作が無
効とされ（Ｓ２０２）、その後にレジスト塗布処理ユニ
ット（ＣＴ）２２全体を停止するようなフラッシング処
理、および自動的なダミーディスペンス処理を行うこと
ができないようにする。

【００６０】 次いで、対象となる色彩レジストがレッド
の場合に、それに対応した洗浄処理、つまりフラッシン
グ処理およびダミーディスペンス処理のスタート／スト
ップスイッチＤ１が操作者により押される（Ｓ２０
２）。この際、カウンター９１に、フラッシング処理等
の回数の上限を設定することができる。

【００６１】 これにより、まず、タンク交換を行ったレ
ッドの色彩レジストに対応するレジスト吐出ノズル５６
ａおよび供給管５７ａにレッド洗浄機構１１０ａ洗浄液
が供給されて、所定回数のフラッシング処理が行われ
（Ｓ２０３）、その後、これらレジスト吐出ノズル５６
ａおよび供給管５７ａに、交換したレジストが供給され
て、ダミーディスペンス処理が行われる（Ｓ２０４）。

【００６２】 この場合、各色彩について独立して個別に
フラッシング処理等が行われるため、レッド一色だけで
なく、他のグリーン等のレジストの種類の交換が同時に
行われてもよい。すなわち、スタート／ストップスイッ
チＤ１〜Ｄ４の２つ以上が同時に押されてもよい。

【００６３】 所定回数のフラッシングおよびダミーディ
スペンス処理が行われた後、操作者がスタート／ストッ
プスイッチＤ１を押すことにより処理が終了する。ま
た、レジスト吐出ノズルアーム５５が退避位置から移動
した等の場合には、上述したフラッシング処理等は停止
される。

【００６４】 このダミーディスペンス処理が所定回数に
達したか否かが判断され（Ｓ２０５）、所定回数終了し
た後には、通常時の操作パネル８０の操作が復帰され
（Ｓ２０６）、通常時の処理が可能となる。

【００６５】 このように、本実施の形態では、複数の色
彩レジストに対応する複数のノズルを有するので、複数
の色彩レジストを一つのレジスト塗布ユニット（ＣＴ）
２２で塗布することができ、設備の小型化、省スペース
化を図ることができる。

【００６６】 また、複数のレジスト吐出ノズル５６ａ〜
５６ｄのうち、色彩レジストを交換したレジスト吐出ノ
ズル、例えばレッドのレジスト吐出のズル５６ａのみに
ついて、フラッシング処理等を個別に行うことができ、
交換していない他のレジスト吐出ノズル５６ｂ〜５６ｄ
については、レジストの供給を中断することなく通常時
の処理を継続することができる。したがって、レジスト
の交換の際の段取り時間を短縮することができる。

【００６７】 また、このような個別的な洗浄処理の際
に、第１の操作パネル８０の「ＡＵＴＯ」スイッチ８２
の入力に基づく指令を無効にすることにより、レジスト
を交換したレジスト吐出ノズル５６ａについて洗浄処
理、例えばフラッシング処理を行っている際に、自動的
なダミーディスペンスの指示が発せられることがなく、
個別的な洗浄処理が阻害されない。

【００６８】 なお、本発明は上記実施の形態に限定され
ず、種々の変形が可能である。例えば、上記実施の形態
では、カラーフィルターの塗布・現像処理システムにつ
いて説明したが、これに限るものではない。すなわち、
複数のレジストは色彩レジストである必要はなく、種類
の異なる複数のレジストを使用する場合であれば、ＬＣ
Ｄ基板や半導体基板等、他の基板の処理にも適用するこ
とができる。

【００６９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
基板にそれぞれ異なるレジスト液を滴下可能な複数のレ
ジスト吐出ノズルを有するので、多数のレジストを一つ
の塗布処理装置で塗布することができ、カラーフィルタ
ー等の基板へのレジスト塗布に際し、設備の小型化、省
スペース化を図ることができる。

【００７０】 また、複数のレジスト吐出ノズルを個別的
に洗浄する複数の洗浄機構と、複数の洗浄機構を選択的
に作動させる信号を入力する入力手段と、入力手段の入
力に基づいて洗浄機構を制御する制御機構とを具備して
いるので、少なくとも一つのレジスト液供給系について
レジストを異なる種類のレジストに交換した場合に、入
力手段により、そのレジスト供給系に対応するレジスト
吐出ノズルのみを洗浄することができ、他のレジスト吐
出ノズルはレジストの供給を停止する必要がない。した
がって、他のレジスト塗布処理を中断することなく、レ
ジストの種類を交換したレジスト供給系に対応するレジ
スト吐出ノズルの洗浄処理を行うことができ、交換の際
の段取り時間を短縮することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明が適用されるＬＣＤのカラーフィルター
の塗布・現像処理システムを示す平面図。

【図２】レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）、乾燥処理
ユニット、およびエッジリムーバー（ＥＲ）を示す概略
平面図。

【図３】レジスト塗布処理ユニット（ＣＴ）、乾燥処理
ユニット、およびエッジリムーバー（ＥＲ）を示す概略
側面図。

【図４】レジスト吐出ノズルアームの平面図および側面
図。

【図５】通常時に用いる第１の操作パネルおよびレジス
トの種類を交換した時に用いる第２の操作パネルをそれ
ぞれ示す正面図。

【図６】レジスト吐出ノズルおよび供給管の洗浄処理を
行うための制御ブロック図。

【図７】レジストの種類を交換した際の洗浄処理、すな
わちダミーディスペンス処理およびフラッシング処理の
フローチャート。

【符号の説明】

２２；レジスト塗布処理ユニット ２３；エッジリムーバー ５１；スピンチャック ５２；回転カップ ５３；ドレンカップ ５５；レジスト吐出ノズルアーム（ノズルアーム） ５６ａ〜５６ｄ；色彩レジスト吐出ノズル ５７ａ〜５７ｄ；色彩レジストの供給管 ８０；第１の操作パネル ９０；第２の操作パネル Ｇ；カラーフィルター用基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 下村 雄二 熊本県菊池郡大津町大字高尾野字平成 272番地の４ 東京エレクトロン九州株 式会社 大津事業所内 (72)発明者 田中 志信 熊本県菊池郡大津町大字高尾野字平成 272番地の４ 東京エレクトロン九州株 式会社 大津事業所内 (56)参考文献 特開 平６−120132（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−335226（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−242030（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−206514（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/027 B05C 11/08 G03F 7/16 502 G03F 7/30 502

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板に複数のレジストを塗布することが
   可能なレジスト塗布処理装置であって、 基板にそれぞれ異なるレジスト液を滴下可能な複数のレ
   ジスト吐出ノズルと、 各レジストノズルにそれぞれレジストを供給するための
   複数のレジスト液供給系と、 前記複数のレジスト吐出ノズルを個別的に洗浄する複数
   の洗浄機構と、 前記複数の洗浄機構を選択的に作動させる信号を入力す
   る入力手段と、 前記入力手段の入力に基づいて洗浄機構を制御する制御
   機構と、 各レジスト吐出ノズルに対し所定時間毎に自動的にダミ
   ーでレジストを吐出させる自動ダミーディスペンス手段
   とを具備し、 前記制御機構は、前記入力手段の入力があった時点で前
   記自動ダミーディスペンス手段の動作を無効に すること
   を特徴とするレジスト塗布処理装置。
2. 【請求項２】 前記複数のレジスト吐出ノズルをその先
   端に一体的に保持するノズルアームをさらに有すること
   を特徴とする請求項１に記載のレジスト塗布処理装置。
3. 【請求項３】 前記洗浄機構は、対応するレジスト吐出
   ノズルに洗浄液を供給するとともに、レジストをなじま
   せるためのダミーディスペンスを行うことを特徴とする
   請求項１または請求項２に記載のレジスト塗布処理装
   置。
4. 【請求項４】 複数種のレジスト液を各々吐出するノズ
   ルの内から所定のレジスト液を選択しそのレジスト液に
   対応するノズルから基板にレジスト液を供給し塗布処理
   するレジスト塗布処理方法であって、 前記複数種のレジスト液毎にそれぞれのノズルから自動
   的にレジスト液のダミーディスペンスを行うよう各々設
   定されたデータに基づく指令によりダミーディスペンス
   を実行する工程と、 前記複数種のレジスト液の内の所定のレジスト液に対応
   するノズルに一つの操作で洗浄動作を実行させる工程
   と、 その際にそのノズルからのレジスト液のダミーディスペ
   ンス動作指令を自動的に無効にする工程とを具備するこ
   とを特徴とするレジスト塗布処理方法。
5. 【請求項５】 複数種のレジスト液を各々吐出するノズ
   ルの内から所定のレジスト液を選択しそのレジスト液に
   対応するノズルから基板にレジスト液を供給し塗布処理
   するレジスト塗布処理方法であって、 第１の操作部において所定の操作を行うことにより、前
   記複数種のレジスト液毎にそれぞれのノズルからレジス
   ト液を自動的にダミーディスペンスを行うよう各々設定
   されたデータに基づく指令によりダミーディスペンスを
   実行する工程と、 第２の操作部において洗浄回数を設定し、記憶させる工
   程と、 この設定値に基づいて、前記複数種のレジスト液のうち
   の所定のレジスト液に対応するノズルに対し一つの操作
   で洗浄動作を実行させる工程と、 この工程の際、そのノズルからのレジスト液のダミーデ
   ィスペンス動作指令を無効にする工程とを具備すること
   を特徴とするレジスト塗布処理方法。