JP3467483B2 - 精密研磨のための固定砥粒構造体 - Google Patents
精密研磨のための固定砥粒構造体Info
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- JP3467483B2 JP3467483B2 JP2001170700A JP2001170700A JP3467483B2 JP 3467483 B2 JP3467483 B2 JP 3467483B2 JP 2001170700 A JP2001170700 A JP 2001170700A JP 2001170700 A JP2001170700 A JP 2001170700A JP 3467483 B2 JP3467483 B2 JP 3467483B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、平面形状、曲面形
状のレンズおよび光ディスクや磁気ディスク用ガラス基
板の表面研磨に好適な固定砥粒構造体に関するものであ
る。
状のレンズおよび光ディスクや磁気ディスク用ガラス基
板の表面研磨に好適な固定砥粒構造体に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】一般に、レンズおよび光ディスクや磁気
ディスク用ガラス基板の表面仕上げ研磨では、表面粗さ
や平均うねりの小さい非常に高品質な研磨面が求められ
ている。
ディスク用ガラス基板の表面仕上げ研磨では、表面粗さ
や平均うねりの小さい非常に高品質な研磨面が求められ
ている。
【０００３】そのために現状では、これらの研磨は、例
えば、特開２００１−７２９６２号公報や特開２０００
−２５６６５７号公報等に開示されている遊離砥粒によ
るものが主流となっている。
えば、特開２００１−７２９６２号公報や特開２０００
−２５６６５７号公報等に開示されている遊離砥粒によ
るものが主流となっている。
【０００４】例えば、レンズにおける研磨は、（１）粗
ずり、（２）砂がけ、（３）研磨、という３つの工程か
らなっている。 （１）の粗ずり工程は、レンズの精密加工の最初の工程
で、切断、プレスされたレンズのガラス素材を目標寸法
の形状に加工する工程である。 （２）砂がけ工程は、前工程である粗ずり工程でのクラ
ック層を取り除き、レンズの曲率を定める工程で、面精
度、曲率、寸法を充分に仕上げる工程である。 （３）の研磨工程は、前工程である砂がけ工程で表面の
内部に生じた微細なクラック層を取り除き、同時にキズ
の無い光学的に問題の無い鏡面を得る工程である。この
研磨工程は、通常、みがき皿の上に遊離砥粒（セリウム
研磨材を水に懸濁させたスラリ）を注ぎ、砂がけの終わ
ったガラス素材をみがき皿に押し付け摺動させることに
よって行っている。
ずり、（２）砂がけ、（３）研磨、という３つの工程か
らなっている。 （１）の粗ずり工程は、レンズの精密加工の最初の工程
で、切断、プレスされたレンズのガラス素材を目標寸法
の形状に加工する工程である。 （２）砂がけ工程は、前工程である粗ずり工程でのクラ
ック層を取り除き、レンズの曲率を定める工程で、面精
度、曲率、寸法を充分に仕上げる工程である。 （３）の研磨工程は、前工程である砂がけ工程で表面の
内部に生じた微細なクラック層を取り除き、同時にキズ
の無い光学的に問題の無い鏡面を得る工程である。この
研磨工程は、通常、みがき皿の上に遊離砥粒（セリウム
研磨材を水に懸濁させたスラリ）を注ぎ、砂がけの終わ
ったガラス素材をみがき皿に押し付け摺動させることに
よって行っている。
【０００５】従来は、粗ずり工程、砂がけ工程、研磨工
程のいずれの工程も遊離砥粒が使用されていたが、現在
では、粗ずり工程、砂がけ工程は、ダイヤモンドメタル
ボンド、レジンボンドで固定した固定砥粒による加工が
行われ、高速化、自動化が実現している。
程のいずれの工程も遊離砥粒が使用されていたが、現在
では、粗ずり工程、砂がけ工程は、ダイヤモンドメタル
ボンド、レジンボンドで固定した固定砥粒による加工が
行われ、高速化、自動化が実現している。
【０００６】また、研磨工程においても、セリウム研磨
材を樹脂で固定した研磨ペレットやポリエチレンテレフ
タレートフィルム（以下、ＰＥＴフィルムと記す）にセ
リウム研磨材を形成した固定砥粒も検討されているが、
前工程でのキズが取りきれなかったり、固定砥粒そのも
のでキズが入ってしまったり、また、レンズの曲率に合
った研磨が難しいことから普及していない。
材を樹脂で固定した研磨ペレットやポリエチレンテレフ
タレートフィルム（以下、ＰＥＴフィルムと記す）にセ
リウム研磨材を形成した固定砥粒も検討されているが、
前工程でのキズが取りきれなかったり、固定砥粒そのも
のでキズが入ってしまったり、また、レンズの曲率に合
った研磨が難しいことから普及していない。
【０００７】従って、研磨工程は、現在でも遊離砥粒に
より行なわれている。
より行なわれている。
【０００８】また、光ディスクや磁気ディスク用ガラス
基板の表面仕上げ研磨においても同様に遊離砥粒による
研磨が主流となっている。
基板の表面仕上げ研磨においても同様に遊離砥粒による
研磨が主流となっている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、一般
に、遊離砥粒による研磨では仕上がりは良いが研磨に時
間がかかることが課題となっている。遊離砥粒による研
磨は、一般に、固定砥粒による研磨に比べ研磨力が劣り
仕上げるのに時間が掛かってしまうものである。このよ
うな現状において、通常、研磨工程は、１個を仕上げる
のに２０〜６０分もの時間を要しているのが実情であ
る。
に、遊離砥粒による研磨では仕上がりは良いが研磨に時
間がかかることが課題となっている。遊離砥粒による研
磨は、一般に、固定砥粒による研磨に比べ研磨力が劣り
仕上げるのに時間が掛かってしまうものである。このよ
うな現状において、通常、研磨工程は、１個を仕上げる
のに２０〜６０分もの時間を要しているのが実情であ
る。
【００１０】本発明の目的は、研磨工程において固定砥
粒による従来の技術の問題点を解消し、しかも研磨工程
の時間短縮が可能な固定砥粒構造体を提供することであ
る。
粒による従来の技術の問題点を解消し、しかも研磨工程
の時間短縮が可能な固定砥粒構造体を提供することであ
る。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明による曲面研磨用
の固定砥粒構造体は、厚さが１０から２００μmで、１
００％Mが０．９８MPａから１９．６MPａで引張り強さ
が１９．６MPａから８８．２MPａで、伸びが２５０から
１０００％である柔軟性のある薄い樹脂フィルムの表面
に、平均粒子径０．０１から９μmの砥粒を１００％Mが
０．９８MPａから１９．６MPａで引張り強さが１９．６
MPａから８８．２MPａで、伸びが２５０から１０００％
である樹脂で混練りしてなる砥粒層を付与したことを特
徴とする。
の固定砥粒構造体は、厚さが１０から２００μmで、１
００％Mが０．９８MPａから１９．６MPａで引張り強さ
が１９．６MPａから８８．２MPａで、伸びが２５０から
１０００％である柔軟性のある薄い樹脂フィルムの表面
に、平均粒子径０．０１から９μmの砥粒を１００％Mが
０．９８MPａから１９．６MPａで引張り強さが１９．６
MPａから８８．２MPａで、伸びが２５０から１０００％
である樹脂で混練りしてなる砥粒層を付与したことを特
徴とする。
【００１２】本発明の一つの実施の形態によれば、前記
１００％Ｍ、前記引張り強さおよび前記伸びに関して、
前記樹脂フィルムと前記樹脂とはその特性が同じであ
る。
１００％Ｍ、前記引張り強さおよび前記伸びに関して、
前記樹脂フィルムと前記樹脂とはその特性が同じであ
る。
【００１３】本発明の別の実施の形態によれば、前記砥
粒は、平均粒子径１．５から３．０μｍの酸化セリウム
の砥粒である。
粒は、平均粒子径１．５から３．０μｍの酸化セリウム
の砥粒である。
【００１４】
【発明の実施の形態】次に、添付図面に基づいて、本発
明の実施の形態および実施例について、本発明をより詳
細に説明する。
明の実施の形態および実施例について、本発明をより詳
細に説明する。
【００１５】本発明の実施の形態および実施例について
説明する前に、本発明者等が本発明に至った経緯につい
て説明しておく。本発明者等は、先に、特願平７−２８
２６７７号として出願され、特許第２８０８２６１号と
して特許された研磨シートおよびその製造方法について
の発明者等でもある。この特許第２８０８２６１号に係
る発明の研磨シートは、主として、自動車補修業界にお
いて損傷した自動車のボンネットやドア等の外板の補修
に使用することを目的として開発されたもので、従来の
コンパウンドによる肌調整等を含めたバフ研磨に代わっ
て使用し、研磨仕上げに要する時間を大幅に短縮するこ
とに成功したものである。そして、この研磨シートは、
柔軟性のある薄い樹脂フィルムの表面に砥粒層を形成し
てなり、その樹脂フィルムは、厚さが１０から１００μ
ｍで、１００％Ｍが０．９８から１９．６ＭＰａで、引
張り強さが１９．６から８８．２ＭＰａで、伸びが２５
０から１０００％であり、その砥粒層の砥粒は、４００
（Ｐ４００）から４０００番であることを特徴としてい
るものである。そして、この研磨シートにおいては、砥
粒層は、樹脂フィルム上に設けた薄い接着剤層に砥粒を
接着することにより形成され、その接着された砥粒の上
に柔軟性のある樹脂をコーティングしている。
説明する前に、本発明者等が本発明に至った経緯につい
て説明しておく。本発明者等は、先に、特願平７−２８
２６７７号として出願され、特許第２８０８２６１号と
して特許された研磨シートおよびその製造方法について
の発明者等でもある。この特許第２８０８２６１号に係
る発明の研磨シートは、主として、自動車補修業界にお
いて損傷した自動車のボンネットやドア等の外板の補修
に使用することを目的として開発されたもので、従来の
コンパウンドによる肌調整等を含めたバフ研磨に代わっ
て使用し、研磨仕上げに要する時間を大幅に短縮するこ
とに成功したものである。そして、この研磨シートは、
柔軟性のある薄い樹脂フィルムの表面に砥粒層を形成し
てなり、その樹脂フィルムは、厚さが１０から１００μ
ｍで、１００％Ｍが０．９８から１９．６ＭＰａで、引
張り強さが１９．６から８８．２ＭＰａで、伸びが２５
０から１０００％であり、その砥粒層の砥粒は、４００
（Ｐ４００）から４０００番であることを特徴としてい
るものである。そして、この研磨シートにおいては、砥
粒層は、樹脂フィルム上に設けた薄い接着剤層に砥粒を
接着することにより形成され、その接着された砥粒の上
に柔軟性のある樹脂をコーティングしている。
【００１６】本発明者等は、このような研磨シートが自
動車補修業界におけるコンパウンドによる肌調整等を含
めたバフ研磨に代わって使用して研磨仕上げに要する時
間を大幅に短縮することができたことに鑑み、レンズお
よび光ディスクや磁気ディスク用ガラス基板の表面仕上
げ研磨に使用すれば同様の効果を達成できると考えた。
そこで、このような研磨シートを種々作成して実験して
みた。しかしながら、その実験結果は、後述する比較例
３の測定結果にも表れているように、それほどの効果が
得られないことがわかった。
動車補修業界におけるコンパウンドによる肌調整等を含
めたバフ研磨に代わって使用して研磨仕上げに要する時
間を大幅に短縮することができたことに鑑み、レンズお
よび光ディスクや磁気ディスク用ガラス基板の表面仕上
げ研磨に使用すれば同様の効果を達成できると考えた。
そこで、このような研磨シートを種々作成して実験して
みた。しかしながら、その実験結果は、後述する比較例
３の測定結果にも表れているように、それほどの効果が
得られないことがわかった。
【００１７】そこで、本発明者等は、このような研磨シ
ートの基本的構成を利用しつつ、使用する砥粒の粒径、
種類等を種々選択し、しかも、砥粒層の形成方法、構造
等を種々選択して、種々な固定砥粒構造体を作成し、そ
れら固定砥粒構造体を用いてレンズおよび光ディスクや
磁気ディスク用ガラス基板の表面仕上げ研磨を行い、そ
の研磨状態を測定していくような実験を繰り返し行うこ
とにより、本発明をなすに至ったのである。
ートの基本的構成を利用しつつ、使用する砥粒の粒径、
種類等を種々選択し、しかも、砥粒層の形成方法、構造
等を種々選択して、種々な固定砥粒構造体を作成し、そ
れら固定砥粒構造体を用いてレンズおよび光ディスクや
磁気ディスク用ガラス基板の表面仕上げ研磨を行い、そ
の研磨状態を測定していくような実験を繰り返し行うこ
とにより、本発明をなすに至ったのである。
【００１８】本発明の固定砥粒構造体は、極めて柔軟性
のある薄い樹脂フィルムの表面に極めて柔軟性のある樹
脂と砥粒とを練り込んである砥粒層を形成してなるもの
である。通常、固定砥粒構造体の砥粒層とは反対側の樹
脂フィルムの面には、粘着層を付与し、適当な離型基紙
の上面に貼り付けておく。
のある薄い樹脂フィルムの表面に極めて柔軟性のある樹
脂と砥粒とを練り込んである砥粒層を形成してなるもの
である。通常、固定砥粒構造体の砥粒層とは反対側の樹
脂フィルムの面には、粘着層を付与し、適当な離型基紙
の上面に貼り付けておく。
【００１９】図１は、このような本発明の固定砥粒構造
体の一実施例の断面を拡大して示している。この図１に
よく示されるように、本発明の固定砥粒構造体１Ａは、
樹脂フィルム１上に砥粒２と樹脂３を混練りしたものを
コーティングして砥粒層２Ａを形成している。前述した
特許第２８０８２６１号の研磨シートでは、これとは異
なり、樹脂フィルム上に薄い接着剤層を設け砥粒と樹脂
フィルムを接着し、更にその上に柔軟性のある樹脂をコ
ーティングしている。
体の一実施例の断面を拡大して示している。この図１に
よく示されるように、本発明の固定砥粒構造体１Ａは、
樹脂フィルム１上に砥粒２と樹脂３を混練りしたものを
コーティングして砥粒層２Ａを形成している。前述した
特許第２８０８２６１号の研磨シートでは、これとは異
なり、樹脂フィルム上に薄い接着剤層を設け砥粒と樹脂
フィルムを接着し、更にその上に柔軟性のある樹脂をコ
ーティングしている。
【００２０】図１の実施例では、使い易くするため、図
１に示されるように、樹脂フィルムの砥粒層２Ａとは反
対側の面に粘着層４を設け、離型基紙５を貼り付けた形
としており、これは、前述の特許第２８０８２６１号の
研磨シートの場合と同様である。
１に示されるように、樹脂フィルムの砥粒層２Ａとは反
対側の面に粘着層４を設け、離型基紙５を貼り付けた形
としており、これは、前述の特許第２８０８２６１号の
研磨シートの場合と同様である。
【００２１】本発明の好ましい実施例によれば、樹脂フ
ィルム１は、厚さが１０から２００μｍで、１００％Ｍ
が０．９８ＭＰａから１９．６ＭＰａで引張り強さが１
９．６ＭＰａから８８．２ＭＰａで、伸びが２５０から
１０００％である。また、砥粒層２Ａの砥粒２は、平均
粒子径０．０１μｍから９μｍであり、砥粒層２Ａの樹
脂３は、１００％Ｍが０．９８ＭＰａから１９．６ＭＰ
ａで引張り強さが１９．６ＭＰａから８８．２ＭＰａ
で、伸びが２５０から１０００％である。
ィルム１は、厚さが１０から２００μｍで、１００％Ｍ
が０．９８ＭＰａから１９．６ＭＰａで引張り強さが１
９．６ＭＰａから８８．２ＭＰａで、伸びが２５０から
１０００％である。また、砥粒層２Ａの砥粒２は、平均
粒子径０．０１μｍから９μｍであり、砥粒層２Ａの樹
脂３は、１００％Ｍが０．９８ＭＰａから１９．６ＭＰ
ａで引張り強さが１９．６ＭＰａから８８．２ＭＰａ
で、伸びが２５０から１０００％である。
【００２２】ここで１００％Ｍは、１００％の伸び（２
倍に伸びた時点）における引張り強さである。
倍に伸びた時点）における引張り強さである。
【００２３】このような本発明の固定砥粒構造体を用い
てレンズ等の研磨を行いたい場合には、図２の断面図に
示すように、研磨すべきレンズ１２の曲率に合った皿１
０を用意する。この皿１０の表面に、厚さ０．５ｍｍ〜
５ｍｍの弾力性のあるパット１１を貼り付けておく。そ
して、このパット１１に固定砥粒構造体１Ａをシワが入
らないように貼り付ける。
てレンズ等の研磨を行いたい場合には、図２の断面図に
示すように、研磨すべきレンズ１２の曲率に合った皿１
０を用意する。この皿１０の表面に、厚さ０．５ｍｍ〜
５ｍｍの弾力性のあるパット１１を貼り付けておく。そ
して、このパット１１に固定砥粒構造体１Ａをシワが入
らないように貼り付ける。
【００２４】一方、レンズ１２は、カンザシ１４により
支持された固定ホルダー１３に固定し、固定砥粒構造体
１Ａを貼り付けた皿１０に対し押し付ける。
支持された固定ホルダー１３に固定し、固定砥粒構造体
１Ａを貼り付けた皿１０に対し押し付ける。
【００２５】そして、皿１０を矢印ａ方向に回転させ
て、レンズ１２を同方向に従属回転させるとともにレン
ズ１２をカンザシ１４を介して矢印ｂ方向に揺動運動さ
せることにより研磨を行なうのである。
て、レンズ１２を同方向に従属回転させるとともにレン
ズ１２をカンザシ１４を介して矢印ｂ方向に揺動運動さ
せることにより研磨を行なうのである。
【００２６】この時、本発明の固定砥粒構造体は、極め
て柔軟性があり、非常に伸び易い性質を持った樹脂フィ
ルムおよび樹脂層で形成されているため、平面のみなら
ずレンズのような曲面形状でもシワを入れずに貼り付け
ることができる。
て柔軟性があり、非常に伸び易い性質を持った樹脂フィ
ルムおよび樹脂層で形成されているため、平面のみなら
ずレンズのような曲面形状でもシワを入れずに貼り付け
ることができる。
【００２７】これがＰＥＴフィルムのように伸び難い性
質を持った樹脂フィルムに砥粒層を形成した固定砥粒構
造体では、平面形状には貼り付けることができるが、レ
ンズのような曲面に対しては花びら模様に切り込みを入
れないとシワが入ってしまい均一な研磨はできないので
ある。
質を持った樹脂フィルムに砥粒層を形成した固定砥粒構
造体では、平面形状には貼り付けることができるが、レ
ンズのような曲面に対しては花びら模様に切り込みを入
れないとシワが入ってしまい均一な研磨はできないので
ある。
【００２８】以下に、本発明の実施例および比較例につ
いて説明する。実施例１ 研磨装置およびそれによる研磨条件を以下の通りとし本
発明の固定砥粒構造体で研磨し研磨経過時間毎の表面粗
さ（Ｒａ）を測定した結果を図３に示す表の「実施例
１」の欄にまとめて示している。 研磨装置：ＰＨ１０／１０Ｖ（日本エンギス（株）） 研磨パッド：ポロンＬＥ−２０（イノアックコーポレー
ション） 研磨条件 定盤回転数：１５０ｒｐｍ ガラス回転数：６３ｒｐｍ 加工圧力：２００ＫＰａ 被研磨物：白ガラス６０φ、厚さ８ｍｍ平面形状 固定砥粒構造体 厚さ：５５μｍ 砥粒：酸化セリウム（平均粒子径：１．５μｍ〜２．２
μｍ） 樹脂フィルム：厚さ：４０μｍ １００％Ｍ：２．１６ＭＰａ 引張り強さ：４４．１ＭＰａ 伸び：７００％ 砥粒層の樹脂：厚さ：１５μｍ １００％Ｍ：２．１６ＭＰａ 引張り強さ：４４．１ＭＰａ 伸び：７００％
いて説明する。実施例１ 研磨装置およびそれによる研磨条件を以下の通りとし本
発明の固定砥粒構造体で研磨し研磨経過時間毎の表面粗
さ（Ｒａ）を測定した結果を図３に示す表の「実施例
１」の欄にまとめて示している。 研磨装置：ＰＨ１０／１０Ｖ（日本エンギス（株）） 研磨パッド：ポロンＬＥ−２０（イノアックコーポレー
ション） 研磨条件 定盤回転数：１５０ｒｐｍ ガラス回転数：６３ｒｐｍ 加工圧力：２００ＫＰａ 被研磨物：白ガラス６０φ、厚さ８ｍｍ平面形状 固定砥粒構造体 厚さ：５５μｍ 砥粒：酸化セリウム（平均粒子径：１．５μｍ〜２．２
μｍ） 樹脂フィルム：厚さ：４０μｍ １００％Ｍ：２．１６ＭＰａ 引張り強さ：４４．１ＭＰａ 伸び：７００％ 砥粒層の樹脂：厚さ：１５μｍ １００％Ｍ：２．１６ＭＰａ 引張り強さ：４４．１ＭＰａ 伸び：７００％
【００２９】実施例２
使用する砥粒を、酸化セリウム（平均粒子径：２．５μ
ｍ〜３．０μｍ）（実施例よりも粒径が粗く、ほぼ４０
００番に近い）とした以外は、実施例１と同じ試料で実
施例１と同条件の研磨を行い研磨経過時間毎の表面粗さ
（Ｒａ）を測定した結果を図３に示す表の「実施例２」
の欄にまとめて示している。比較例１ ＰＥＴフィルム上に実施例１と同じ砥粒層を形成した試
料で実施例１と同条件 の研磨を行い研磨経過時間毎の表面粗さ（Ｒａ）を測定
した結果を図３に示す表の「比較例１」の欄にまとめて
示している。比較例２ 実施例１で用いた砥粒を水に対して分散させてなる遊離
砥粒を作成し、通常の遊離砥粒によるガラス研磨を行い
研磨経過時間毎の表面粗さ（Ｒａ）を測定した結果を図
３に示す表の「比較例２」の欄にまとめて示している。 研磨装置：オスカー式研磨装置 研磨パッド：セリウムパッドＬＰ−６６ 研磨条件 定盤回転数：８３ｒｐｍ ストローク：６０ｍｍ 荷重：３．３Ｋｇ 被研磨物：白ガラス６０φ、厚さ８ｍｍ平面形状比較例３ 前述した特許第２８０８２６１号の発明にしたがって作
成された研磨シート（株式会社コバックス製 Buflex
Black（商品名）：使用砥粒 炭化ケイ素 平均粒子径
１２μ（実施例１および２よりもかなり粗い）を用いて
実施例１と同条件の研磨を行い研磨経過時間毎の表面粗
さ（Ｒａ）を測定した結果を図３に示す表の「比較例
３」の欄にまとめて示している。
ｍ〜３．０μｍ）（実施例よりも粒径が粗く、ほぼ４０
００番に近い）とした以外は、実施例１と同じ試料で実
施例１と同条件の研磨を行い研磨経過時間毎の表面粗さ
（Ｒａ）を測定した結果を図３に示す表の「実施例２」
の欄にまとめて示している。比較例１ ＰＥＴフィルム上に実施例１と同じ砥粒層を形成した試
料で実施例１と同条件 の研磨を行い研磨経過時間毎の表面粗さ（Ｒａ）を測定
した結果を図３に示す表の「比較例１」の欄にまとめて
示している。比較例２ 実施例１で用いた砥粒を水に対して分散させてなる遊離
砥粒を作成し、通常の遊離砥粒によるガラス研磨を行い
研磨経過時間毎の表面粗さ（Ｒａ）を測定した結果を図
３に示す表の「比較例２」の欄にまとめて示している。 研磨装置：オスカー式研磨装置 研磨パッド：セリウムパッドＬＰ−６６ 研磨条件 定盤回転数：８３ｒｐｍ ストローク：６０ｍｍ 荷重：３．３Ｋｇ 被研磨物：白ガラス６０φ、厚さ８ｍｍ平面形状比較例３ 前述した特許第２８０８２６１号の発明にしたがって作
成された研磨シート（株式会社コバックス製 Buflex
Black（商品名）：使用砥粒 炭化ケイ素 平均粒子径
１２μ（実施例１および２よりもかなり粗い）を用いて
実施例１と同条件の研磨を行い研磨経過時間毎の表面粗
さ（Ｒａ）を測定した結果を図３に示す表の「比較例
３」の欄にまとめて示している。
【００３０】また、図４に実施例１のガラス表面の凹凸
状態を表すグラフを示している。図４の（Ａ）は、研磨
前の凹凸状態を示し、（Ｂ）は、５分研磨後の凹凸状態
を示し、（Ｃ）は、１０分研磨後の凹凸状態を示し、
（Ｄ）は、２０分研磨後の凹凸状態を示し、（Ｅ）は、
４０分研磨後の凹凸状態を示し、（Ｆ）は、６０分研磨
後の凹凸状態を示している。
状態を表すグラフを示している。図４の（Ａ）は、研磨
前の凹凸状態を示し、（Ｂ）は、５分研磨後の凹凸状態
を示し、（Ｃ）は、１０分研磨後の凹凸状態を示し、
（Ｄ）は、２０分研磨後の凹凸状態を示し、（Ｅ）は、
４０分研磨後の凹凸状態を示し、（Ｆ）は、６０分研磨
後の凹凸状態を示している。
【００３１】以下同様に、図５に実施例２のガラス表面
の凹凸状態を表すグラフを示している。図５の（Ａ）
は、研磨前の凹凸状態を示し、（Ｂ）は、５分研磨後の
凹凸状態を示し、（Ｃ）は、１０分研磨後の凹凸状態を
示し、（Ｄ）は、２０分研磨後の凹凸状態を示し、
（Ｅ）は、４０分研磨後の凹凸状態を示し、（Ｆ）は、
６０分研磨後の凹凸状態を示している。
の凹凸状態を表すグラフを示している。図５の（Ａ）
は、研磨前の凹凸状態を示し、（Ｂ）は、５分研磨後の
凹凸状態を示し、（Ｃ）は、１０分研磨後の凹凸状態を
示し、（Ｄ）は、２０分研磨後の凹凸状態を示し、
（Ｅ）は、４０分研磨後の凹凸状態を示し、（Ｆ）は、
６０分研磨後の凹凸状態を示している。
【００３２】図６に比較例１のガラス表面の凹凸状態を
表すグラフを示している。図６の（Ａ）は、研磨前の凹
凸状態を示し、（Ｂ）は、５分研磨後の凹凸状態を示
し、（Ｃ）は、１０分研磨後の凹凸状態を示し、（Ｄ）
は、２０分研磨後の凹凸状態を示し、（Ｅ）は、４０分
研磨後の凹凸状態を示し、（Ｆ）は、６０分研磨後の凹
凸状態を示している。
表すグラフを示している。図６の（Ａ）は、研磨前の凹
凸状態を示し、（Ｂ）は、５分研磨後の凹凸状態を示
し、（Ｃ）は、１０分研磨後の凹凸状態を示し、（Ｄ）
は、２０分研磨後の凹凸状態を示し、（Ｅ）は、４０分
研磨後の凹凸状態を示し、（Ｆ）は、６０分研磨後の凹
凸状態を示している。
【００３３】図７に比較例２のガラス表面の凹凸状態を
表すグラフを示している。図７の（Ａ）は、研磨前の凹
凸状態を示し、（Ｂ）は、５分研磨後の凹凸状態を示
し、（Ｃ）は、１０分研磨後の凹凸状態を示し、（Ｄ）
は、２０分研磨後の凹凸状態を示し、（Ｅ）は、４０分
研磨後の凹凸状態を示し、（Ｆ）は、６０分研磨後の凹
凸状態を示している。
表すグラフを示している。図７の（Ａ）は、研磨前の凹
凸状態を示し、（Ｂ）は、５分研磨後の凹凸状態を示
し、（Ｃ）は、１０分研磨後の凹凸状態を示し、（Ｄ）
は、２０分研磨後の凹凸状態を示し、（Ｅ）は、４０分
研磨後の凹凸状態を示し、（Ｆ）は、６０分研磨後の凹
凸状態を示している。
【００３４】図８に比較例３のガラス表面の凹凸状態を
表すグラフを示している。図８の（Ａ）は、研磨前の凹
凸状態を示し、（Ｂ）は、５分研磨後の凹凸状態を示
し、（Ｃ）は、１０分研磨後の凹凸状態を示し、（Ｄ）
は、２０分研磨後の凹凸状態を示し、（Ｅ）は、４０分
研磨後の凹凸状態を示し、（Ｆ）は、６０分研磨後の凹
凸状態を示している。
表すグラフを示している。図８の（Ａ）は、研磨前の凹
凸状態を示し、（Ｂ）は、５分研磨後の凹凸状態を示
し、（Ｃ）は、１０分研磨後の凹凸状態を示し、（Ｄ）
は、２０分研磨後の凹凸状態を示し、（Ｅ）は、４０分
研磨後の凹凸状態を示し、（Ｆ）は、６０分研磨後の凹
凸状態を示している。
【００３５】これら表における測定値およびグラフを比
べてみると分かるように、遊離砥粒である比較例２で
は、Ｒａが０．０２μｍになるのに２０分要している
が、本発明の実施例１では、その半分の１０分でＲａが
０．０２μｍになっている。
べてみると分かるように、遊離砥粒である比較例２で
は、Ｒａが０．０２μｍになるのに２０分要している
が、本発明の実施例１では、その半分の１０分でＲａが
０．０２μｍになっている。
【００３６】また、同じ砥粒層をＰＥＴフィルムに形成
した比較例１では、６０分研磨してもＲａは、０．１０
μｍにしかならなかった。
した比較例１では、６０分研磨してもＲａは、０．１０
μｍにしかならなかった。
【００３７】また、比較例１（固定砥粒）と比較例２
（遊離砥粒）を比較すると、固定砥粒にすれば必ず遊離
砥粒よりも研削力が上がるとは言えない。さらにまた、
比較例３の測定結果からも、固定砥粒層を柔軟な樹脂フ
ィルム上に単に形成したものでも、遊離砥粒よりも研削
力が上がるとは言えない。
（遊離砥粒）を比較すると、固定砥粒にすれば必ず遊離
砥粒よりも研削力が上がるとは言えない。さらにまた、
比較例３の測定結果からも、固定砥粒層を柔軟な樹脂フ
ィルム上に単に形成したものでも、遊離砥粒よりも研削
力が上がるとは言えない。
【００３８】前述したような測定結果から言えること
は、本発明の固定砥粒構造体において使用する砥粒とし
て、平均粒子径１．５μｍから３．０μｍの酸化セリウ
ムを使用し、１００％Ｍ、引張り強さおよび伸びに関し
てその特性が同じである樹脂フィルムおよび砥粒層の樹
脂を使用することにより所定の効果が得られるというこ
とである。
は、本発明の固定砥粒構造体において使用する砥粒とし
て、平均粒子径１．５μｍから３．０μｍの酸化セリウ
ムを使用し、１００％Ｍ、引張り強さおよび伸びに関し
てその特性が同じである樹脂フィルムおよび砥粒層の樹
脂を使用することにより所定の効果が得られるというこ
とである。
【００３９】本発明による固定砥粒構造体が遊離砥粒に
対して相当に研削力が向上したのは、砥粒層の砥粒の粒
径を微細とし且つ樹脂フィルムおよび砥粒層の樹脂の特
性を特定の範囲に選定したことにより、砥粒が被研磨材
であるガラス表面に当たる接触面積を大きくできたこと
によるものと考えられる。
対して相当に研削力が向上したのは、砥粒層の砥粒の粒
径を微細とし且つ樹脂フィルムおよび砥粒層の樹脂の特
性を特定の範囲に選定したことにより、砥粒が被研磨材
であるガラス表面に当たる接触面積を大きくできたこと
によるものと考えられる。
【００４０】
【発明の効果】固定砥粒であるにもかかわらず深いキズ
を入れることが無く、また遊離砥粒に比べ研磨能率が良
い。
を入れることが無く、また遊離砥粒に比べ研磨能率が良
い。
【００４１】したがって、本発明の固定砥粒構造体は、
従来の遊離砥粒によるガラスの表面研磨に代わって使用
される時、その研磨時間を大幅に短縮することができ
る。
従来の遊離砥粒によるガラスの表面研磨に代わって使用
される時、その研磨時間を大幅に短縮することができ
る。
【００４２】よって、本発明の固定砥粒構造体は、平面
形状、曲面形状のレンズ表面研磨、光ディスクや磁気デ
ィスク用ガラス基板の表面研磨、シリコンウエハーの表
面研磨、磁気ヘッドの表面研磨、光ファイバーのフェル
ールの表面研磨、精密金型の表面仕上げ等の表面の精密
な仕上げが要求される分野において有用なものである。
形状、曲面形状のレンズ表面研磨、光ディスクや磁気デ
ィスク用ガラス基板の表面研磨、シリコンウエハーの表
面研磨、磁気ヘッドの表面研磨、光ファイバーのフェル
ールの表面研磨、精密金型の表面仕上げ等の表面の精密
な仕上げが要求される分野において有用なものである。
【図１】本発明の固定砥粒構造体の一実施例の断面構造
を示す拡大図である。
を示す拡大図である。
【図２】本発明の固定砥粒構造体を用いてレンズ表面を
研磨するための装置例を略示する断面図である。
研磨するための装置例を略示する断面図である。
【図３】実施例および比較例における測定結果をまとめ
た表を示す図である。
た表を示す図である。
【図４】実施例１のガラス表面の凹凸状態を表すグラフ
を示す図である。
を示す図である。
【図５】実施例２のガラス表面の凹凸状態を表すグラフ
を示す図である。
を示す図である。
【図６】比較例１のガラス表面の凹凸状態を表すグラフ
を示す図である。
を示す図である。
【図７】比較例２のガラス表面の凹凸状態を表すグラフ
を示す図である。
を示す図である。
【図８】比較例３のガラス表面の凹凸状態を表すグラフ
を示す図である。
を示す図である。
１ 樹脂フィルム
１Ａ 固定砥粒構造体
２ 砥粒
２Ａ 砥粒層
３ 樹脂
４ 粘着層
５ 離型基紙
１０ 皿
１１ パット
１２ レンズ
１３ 固定ホルダー
１４ カンザシ
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平７−308861（ＪＰ，Ａ)
特開 平８−243932（ＪＰ，Ａ)
特開 平９−123065（ＪＰ，Ａ)
特表 平10−503434（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
B24D 11/00
B24D 3/00
B24D 3/20
Claims (3)
- 【請求項１】 厚さが１０から２００μmで、１００％M
が０．９８MPａから１９．６MPａで引張り強さが１９．
６MPａから８８．２MPａで、伸びが２５０から１０００
％である柔軟性のある薄い樹脂フィルムの表面に、平均
粒子径０．０１から９μmの砥粒を１００％Mが０．９８
MPａから１９．６MPａで引張り強さが１９．６MPａから
８８．２MPａで、伸びが２５０から１０００％である樹
脂で混練りしてなる砥粒層を付与したことを特徴とする
曲面研磨用の固定砥粒構造体。 - 【請求項２】 前記１００％M、前記引張り強さおよび
前記伸びに関して、前記樹脂フィルムと前記樹脂とはそ
の特性が同じである請求項１に記載の曲面研磨用の固定
砥粒構造体。 - 【請求項３】 前記砥粒は、平均粒子径１．５から３．
０μmの酸化セリウムの砥粒である請求項１または２に
記載の曲面研磨用の固定砥粒構造体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001170700A JP3467483B2 (ja) | 2001-06-06 | 2001-06-06 | 精密研磨のための固定砥粒構造体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001170700A JP3467483B2 (ja) | 2001-06-06 | 2001-06-06 | 精密研磨のための固定砥粒構造体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002361565A JP2002361565A (ja) | 2002-12-18 |
| JP3467483B2 true JP3467483B2 (ja) | 2003-11-17 |
Family
ID=19012577
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001170700A Expired - Lifetime JP3467483B2 (ja) | 2001-06-06 | 2001-06-06 | 精密研磨のための固定砥粒構造体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3467483B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006142388A (ja) * | 2004-11-16 | 2006-06-08 | Nihon Micro Coating Co Ltd | 研磨テープ及び方法 |
| JP4973349B2 (ja) | 2007-07-13 | 2012-07-11 | 株式会社コバックス | 研磨物品 |
-
2001
- 2001-06-06 JP JP2001170700A patent/JP3467483B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2002361565A (ja) | 2002-12-18 |
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