JP3418768B2 - 集積回路マスクパターンデータの演算処理方法 - Google Patents
集積回路マスクパターンデータの演算処理方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は，ＬＳＩ、超ＬＳＩ等の
集積回路のレイアウト検証や電子ビーム露光等に使用さ
れるマスクパターンデータの処理に関し、特に、マスク
パターンの幾何演算をする為の該マスクパターンのデー
タの演算処理に関するものである。
集積回路のレイアウト検証や電子ビーム露光等に使用さ
れるマスクパターンデータの処理に関し、特に、マスク
パターンの幾何演算をする為の該マスクパターンのデー
タの演算処理に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、集積回路のマスクパターンデータ
は、固有のパターンデータとセル参照で構成される各セ
ルの集合からなっており、且つ、セル参照による階層構
造を持っている。この階層の最上位のセルはルートセル
と呼ばれＬＳＩチップに対応する。そして、セル参照を
パターンデータに置き換えることを展開、各パターンデ
ータ（図形データ）によって表現されるパターンに対し
て拡大縮小等の操作を行うことを幾何演算と言うが、従
来の幾何演算は、階層構造を用いずに全パターンデータ
をルートセルに展開後演算を行うフラット処理によるも
のであった。しかし、近年、半導体集積回路の高集積化
（大規模化）にともなって、この回路作製に用いられる
大規模集積回路のマスクパターンデータも、マスクパタ
ーン数で１００万を越えるものも出てきた。このような
パターンデータにより表されるマスクパターンに対し、
幾何演算を行う場合、従来のフラット処理では処理する
データ量が増大し処理時間の長大化が問題となってき
た。
は、固有のパターンデータとセル参照で構成される各セ
ルの集合からなっており、且つ、セル参照による階層構
造を持っている。この階層の最上位のセルはルートセル
と呼ばれＬＳＩチップに対応する。そして、セル参照を
パターンデータに置き換えることを展開、各パターンデ
ータ（図形データ）によって表現されるパターンに対し
て拡大縮小等の操作を行うことを幾何演算と言うが、従
来の幾何演算は、階層構造を用いずに全パターンデータ
をルートセルに展開後演算を行うフラット処理によるも
のであった。しかし、近年、半導体集積回路の高集積化
（大規模化）にともなって、この回路作製に用いられる
大規模集積回路のマスクパターンデータも、マスクパタ
ーン数で１００万を越えるものも出てきた。このような
パターンデータにより表されるマスクパターンに対し、
幾何演算を行う場合、従来のフラット処理では処理する
データ量が増大し処理時間の長大化が問題となってき
た。
【０００３】これに対応するために、マスクパターンデ
ータのセル構造を利用したセル単位処理が行われてきた
が、この処理には、以下のような問題がった。第一の問
題は、マスクパターンデータにより表されるマスクパタ
ーンに対し、拡大処理を行う場合、マスクパターンデー
タのセル境界における図形の変形の問題である。図１２
（イ）は拡大時にフラット処理による結果と比べ図形の
変化がおきている状態を示す。図形の重なりが発生し変
形していることが分かる。仮に、図形の重なり部を除去
しても図形の形状が変形してしまう。これは図１２
（イ）のパターン１図形を図の上側セルで処理し図１２
（イ）のパターン２図形を図の下側セルでそれぞれ個別
に拡大操作処理されパターン１は１Ａに、パターン２は
２Ａになるが、主にセル境界の図形接触の考慮がなされ
ていないために１Ａ、２Ａを合わせた図形は処理前のパ
ターン１、２をあわせた図形とは異なり、変形してい
る。第二の問題は、マスクパターンデータにより表され
るマスクパターンに対し、縮小処理を行う場合、マスク
パターンデータのセル境界における図形の分離の問題で
ある。図１２（ロ）は縮小時にフラット処理による結果
と比べ図形の分離が起きている状態を示す。これも、主
にセル境界の図形接触の考慮がなされていないために起
きる。これは図１２（ロ）のパターン３図形を図の上側
セルで処理し図１２（ロ）のパターン４図形を図の下側
セルでそれぞれ個別に縮小操作処理されパターン３は３
Ａに、パターン４は４Ａになるが、３Ａ、４Ａを合わせ
た図形は処理前のパターン３、４をあわせた図形とは異
なり、変形している。
ータのセル構造を利用したセル単位処理が行われてきた
が、この処理には、以下のような問題がった。第一の問
題は、マスクパターンデータにより表されるマスクパタ
ーンに対し、拡大処理を行う場合、マスクパターンデー
タのセル境界における図形の変形の問題である。図１２
（イ）は拡大時にフラット処理による結果と比べ図形の
変化がおきている状態を示す。図形の重なりが発生し変
形していることが分かる。仮に、図形の重なり部を除去
しても図形の形状が変形してしまう。これは図１２
（イ）のパターン１図形を図の上側セルで処理し図１２
（イ）のパターン２図形を図の下側セルでそれぞれ個別
に拡大操作処理されパターン１は１Ａに、パターン２は
２Ａになるが、主にセル境界の図形接触の考慮がなされ
ていないために１Ａ、２Ａを合わせた図形は処理前のパ
ターン１、２をあわせた図形とは異なり、変形してい
る。第二の問題は、マスクパターンデータにより表され
るマスクパターンに対し、縮小処理を行う場合、マスク
パターンデータのセル境界における図形の分離の問題で
ある。図１２（ロ）は縮小時にフラット処理による結果
と比べ図形の分離が起きている状態を示す。これも、主
にセル境界の図形接触の考慮がなされていないために起
きる。これは図１２（ロ）のパターン３図形を図の上側
セルで処理し図１２（ロ）のパターン４図形を図の下側
セルでそれぞれ個別に縮小操作処理されパターン３は３
Ａに、パターン４は４Ａになるが、３Ａ、４Ａを合わせ
た図形は処理前のパターン３、４をあわせた図形とは異
なり、変形している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この為、集積回路のマ
スクパターンを表すマスクパターンデータに対し、幾何
演算を行う際、マスクパターンデータをセル単位処理で
行え、且つ、得られるマスクパターンの図形の形状変形
をなくすことが求められるようになってきた。本発明
は、このような状況のもと、集積回路のマスクパターン
データに対し幾何演算を行う際に、セル単位処理が行
え、セル境界でおきる問題を解消し、得られるマスクパ
ターンの図形の形状変形をなくすことができるデータ処
理方法を提供するものである。
スクパターンを表すマスクパターンデータに対し、幾何
演算を行う際、マスクパターンデータをセル単位処理で
行え、且つ、得られるマスクパターンの図形の形状変形
をなくすことが求められるようになってきた。本発明
は、このような状況のもと、集積回路のマスクパターン
データに対し幾何演算を行う際に、セル単位処理が行
え、セル境界でおきる問題を解消し、得られるマスクパ
ターンの図形の形状変形をなくすことができるデータ処
理方法を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明のマスクパターン
データの演算処理方法は、複数個のセルの階層構造にて
データが形成されているマスクパターンデータにより表
される集積回路用マスクパターンの拡大ないし縮小の幾
何演算を行う際に於ける、該マスクパターンデータの階
層構造を利用したデータ処理方法であって、（１）全セ
ルに対し、他のセル枠や上位のパターンーデータにより
表される図形と干渉しない独立したセル内の領域を表す
枠である各セル毎のハードゾーン枠を設定し、ハードゾ
ーン枠を表す矩形データを記録する工程、（２）ボトム
アップで、セル単位に、上記ハードゾーン枠から所定の
幅縮小して得られたゾーン枠ともとのセル枠との間の領
域であるドーナツ領域のデータを上位セルに展開するド
ーナツ展開を行い、該セルを引用する上位のセル領域か
ら該セルとのパターンデータの重なりを除く為の、所定
領域からなるカットゾーンを表す矩形データを上位セル
に展開して、該セル固有のパターンデータを含む展開デ
ータを作成する工程、（３）（２）で作成された展開デ
ータを、座標の順に読み込み、データが通常のパターン
データかカットゾーンを表す矩形データかを判断し、通
常のパターンデータならば幾何演算処理工程に渡し、カ
ットゾーンを表す矩形データならば補正処理工程に渡す
工程、（４）前記通常のパターンデータに対して幾何演
算処理を行い幾何演算処理データを作成し、この幾何演
算処理データを補正処理工程に渡す幾何演算処理工程、
（５）処理セルに下位のセルがある場合には、上記
（４）の幾何演算処理データと各セルのカットゾーンを
表す矩形データとを用い、論理差演算を行い、前記
（４）の幾何演算処理データからカットゾーン領域に位
置するデータを除去した論理差演算処理データを作成
し、下位のセルがない場合には、前記（４）の幾何演算
処理データを論理差演算処理データとし、この論理差演
算処理データに対し、上位のセルがある場合には、各セ
ルの上位セルのカットゾーンに対応する領域のアンドゾ
ーンを表す矩形データを用い、論理積演算を行い、アン
ドゾーン領域以外に位置するデータを除去した論理積演
算処理データを作成し、上位のセルがない場合には、前
記論理差演算理処理データをそのまま論理積演算処理デ
ータとし、出力処理工程に渡す補正処理工程、（６）
（５）にて得られた、論理積演算処理データを出力する
出力工程、を有するものである。そして、本発明のマス
クパターンデータの演算処理方法は、上記において、拡
大ないし縮小の幾何演算の際の拡大幅又は縮小幅を２
1/2 倍した値をサイズ量とした場合、ドーナツ展開する
領域を、ハードゾーン枠を内側にサイズ量の２倍縮めた
ゾーン枠とセル枠との間の領域とし、カットゾーンの最
外周を表すカットゾーン枠を、ハードゾーン枠を内側に
サイズ量分縮めた枠とするものである。
データの演算処理方法は、複数個のセルの階層構造にて
データが形成されているマスクパターンデータにより表
される集積回路用マスクパターンの拡大ないし縮小の幾
何演算を行う際に於ける、該マスクパターンデータの階
層構造を利用したデータ処理方法であって、（１）全セ
ルに対し、他のセル枠や上位のパターンーデータにより
表される図形と干渉しない独立したセル内の領域を表す
枠である各セル毎のハードゾーン枠を設定し、ハードゾ
ーン枠を表す矩形データを記録する工程、（２）ボトム
アップで、セル単位に、上記ハードゾーン枠から所定の
幅縮小して得られたゾーン枠ともとのセル枠との間の領
域であるドーナツ領域のデータを上位セルに展開するド
ーナツ展開を行い、該セルを引用する上位のセル領域か
ら該セルとのパターンデータの重なりを除く為の、所定
領域からなるカットゾーンを表す矩形データを上位セル
に展開して、該セル固有のパターンデータを含む展開デ
ータを作成する工程、（３）（２）で作成された展開デ
ータを、座標の順に読み込み、データが通常のパターン
データかカットゾーンを表す矩形データかを判断し、通
常のパターンデータならば幾何演算処理工程に渡し、カ
ットゾーンを表す矩形データならば補正処理工程に渡す
工程、（４）前記通常のパターンデータに対して幾何演
算処理を行い幾何演算処理データを作成し、この幾何演
算処理データを補正処理工程に渡す幾何演算処理工程、
（５）処理セルに下位のセルがある場合には、上記
（４）の幾何演算処理データと各セルのカットゾーンを
表す矩形データとを用い、論理差演算を行い、前記
（４）の幾何演算処理データからカットゾーン領域に位
置するデータを除去した論理差演算処理データを作成
し、下位のセルがない場合には、前記（４）の幾何演算
処理データを論理差演算処理データとし、この論理差演
算処理データに対し、上位のセルがある場合には、各セ
ルの上位セルのカットゾーンに対応する領域のアンドゾ
ーンを表す矩形データを用い、論理積演算を行い、アン
ドゾーン領域以外に位置するデータを除去した論理積演
算処理データを作成し、上位のセルがない場合には、前
記論理差演算理処理データをそのまま論理積演算処理デ
ータとし、出力処理工程に渡す補正処理工程、（６）
（５）にて得られた、論理積演算処理データを出力する
出力工程、を有するものである。そして、本発明のマス
クパターンデータの演算処理方法は、上記において、拡
大ないし縮小の幾何演算の際の拡大幅又は縮小幅を２
1/2 倍した値をサイズ量とした場合、ドーナツ展開する
領域を、ハードゾーン枠を内側にサイズ量の２倍縮めた
ゾーン枠とセル枠との間の領域とし、カットゾーンの最
外周を表すカットゾーン枠を、ハードゾーン枠を内側に
サイズ量分縮めた枠とするものである。
【０００６】上記において、ハードゾーン枠を設定した
後、引用される下位のセルの周辺部のドーナツ領域のパ
ターンデータを、引用する上位セルのパターンデータに
組み込む処理であるドーナツ展開をする為、このドーナ
ツ領域のパターンデータについては演算処理が重複され
ることとなる。ここでは、マスクパターンの幾何演算を
行うための該マスクパターンのデータの処理を幾何演算
処理と言う。したがって、ドーナツ領域としては、拡
大、縮小処理する拡大、縮小幅に対応できる所定幅は必
要ではあるが、できるだけ小さい領域の方が重複して処
理するデータ量が少なくなる為、通常、サイズ量を幾何
演算の際の拡大幅又は縮小幅を２1/2 倍とした場合、ド
ーナツ展開する領域をハードゾーン枠を内側にサイズ量
の２倍縮めたゾーン枠と、前記ハードゾーン枠を含む元
のセル枠との間の領域とする。したがって、この場合、
図１５に示すようにドーナツ領域は設定される。又、カ
ットゾーンは、重複して処理されたパターンデータを除
去し、重なりによる図形変形をなくすために設けた領域
であるが、この領域の設定も、拡大、縮小処理する拡
大、縮小幅に対応できる所定の領域であれば良いが、通
常、ドーナツ領域をハードゾーン枠を内側にサイズ量の
２倍縮めたゾーン枠ともとのセル枠との間の領域とする
為、この場合、カットゾーンを表すカットゾーン枠はハ
ードゾーン枠を内側にサイズ量分縮めたものとする。但
し、ルートセルに対しては、カットゾーンは、拡大、縮
小の両演算に対応する為、カットゾーン枠はハードゾー
ン枠を外側にサイズ量分拡大したものを使用する。アン
ドゾーンも、重複して処理されたパターンデータを除去
し、重なりによる図形変形をなくすために設けたもので
あるが、この領域の設定は、各セルの上位のセルにおけ
るカットゾーンに対応する領域とする。尚、幾何演算処
理データ、論理差演算処理データ、論理積演算処理デー
タとは、それぞれ幾何演算処理、論理差演算処理、論理
積演算処理した結果得られたデータを言う。
後、引用される下位のセルの周辺部のドーナツ領域のパ
ターンデータを、引用する上位セルのパターンデータに
組み込む処理であるドーナツ展開をする為、このドーナ
ツ領域のパターンデータについては演算処理が重複され
ることとなる。ここでは、マスクパターンの幾何演算を
行うための該マスクパターンのデータの処理を幾何演算
処理と言う。したがって、ドーナツ領域としては、拡
大、縮小処理する拡大、縮小幅に対応できる所定幅は必
要ではあるが、できるだけ小さい領域の方が重複して処
理するデータ量が少なくなる為、通常、サイズ量を幾何
演算の際の拡大幅又は縮小幅を２1/2 倍とした場合、ド
ーナツ展開する領域をハードゾーン枠を内側にサイズ量
の２倍縮めたゾーン枠と、前記ハードゾーン枠を含む元
のセル枠との間の領域とする。したがって、この場合、
図１５に示すようにドーナツ領域は設定される。又、カ
ットゾーンは、重複して処理されたパターンデータを除
去し、重なりによる図形変形をなくすために設けた領域
であるが、この領域の設定も、拡大、縮小処理する拡
大、縮小幅に対応できる所定の領域であれば良いが、通
常、ドーナツ領域をハードゾーン枠を内側にサイズ量の
２倍縮めたゾーン枠ともとのセル枠との間の領域とする
為、この場合、カットゾーンを表すカットゾーン枠はハ
ードゾーン枠を内側にサイズ量分縮めたものとする。但
し、ルートセルに対しては、カットゾーンは、拡大、縮
小の両演算に対応する為、カットゾーン枠はハードゾー
ン枠を外側にサイズ量分拡大したものを使用する。アン
ドゾーンも、重複して処理されたパターンデータを除去
し、重なりによる図形変形をなくすために設けたもので
あるが、この領域の設定は、各セルの上位のセルにおけ
るカットゾーンに対応する領域とする。尚、幾何演算処
理データ、論理差演算処理データ、論理積演算処理デー
タとは、それぞれ幾何演算処理、論理差演算処理、論理
積演算処理した結果得られたデータを言う。
【０００７】
【作用】本発明の階層構造を用いた集積回路マスクパタ
ーンの幾何学演算方法は、このような構成にすることに
より、マスクパターンデータのセル単位処理で、図形変
形のないマスクパターンを得る処理を可能としている。
結果として、フラット処理に比べ、処理対象データ数を
大幅に削減でき大規模集積回路用のマスクパターンデー
タの処理を実用レベルでできるものとしている。ハード
ゾーンを設定することにより、セルとセルの干渉及びセ
ルと上位セルの図形との干渉を除いており、セル単位に
独立した処理を可能としている。ドーナツ展開すること
によりセル境界に近接する図形を親子セル（上位セルと
下位セル）の両方に持たせ、親子セルの両方で重複して
処理するが、セル境界における図形接触の認識をできる
ものとしているが、この際、ドーナツ領域をハードゾー
ン枠を内側にサイズ量の２倍縮めたゾーン枠ともとのセ
ル枠との間の領域とし、カットゾーンの最外周を表すカ
ットゾーン枠をハードゾーン枠を内側にサイズ量分縮め
た枠とすることにより、データ量の増加を最小限に抑え
ている。補正処理により幾何演算結果の上位セル及び下
位セルにおいてはみ出た部分をカットし、それにより異
常図形の発生、分離を抑えることができるものとしてい
る。
ーンの幾何学演算方法は、このような構成にすることに
より、マスクパターンデータのセル単位処理で、図形変
形のないマスクパターンを得る処理を可能としている。
結果として、フラット処理に比べ、処理対象データ数を
大幅に削減でき大規模集積回路用のマスクパターンデー
タの処理を実用レベルでできるものとしている。ハード
ゾーンを設定することにより、セルとセルの干渉及びセ
ルと上位セルの図形との干渉を除いており、セル単位に
独立した処理を可能としている。ドーナツ展開すること
によりセル境界に近接する図形を親子セル（上位セルと
下位セル）の両方に持たせ、親子セルの両方で重複して
処理するが、セル境界における図形接触の認識をできる
ものとしているが、この際、ドーナツ領域をハードゾー
ン枠を内側にサイズ量の２倍縮めたゾーン枠ともとのセ
ル枠との間の領域とし、カットゾーンの最外周を表すカ
ットゾーン枠をハードゾーン枠を内側にサイズ量分縮め
た枠とすることにより、データ量の増加を最小限に抑え
ている。補正処理により幾何演算結果の上位セル及び下
位セルにおいてはみ出た部分をカットし、それにより異
常図形の発生、分離を抑えることができるものとしてい
る。
【０００８】
【実施例】本発明の実施例を以下、図１のフローチャー
トにそって説明する。実施例における処理をセルの階層
構造をもつマスクパターンデータで表されるマスクパタ
ーンの縮小操作を行う場合を挙げて説明する。図２の
（イ）は、ここで使用するマスクパターンの全体を表示
したものである。簡単の為、マスクパターンデータは２
つのセルＡ、Ｂを持ち、ＡがＢの上位セルである階層構
造データとした。セルＡは、ａ１、ａ２、ａ３の図形デ
ータを持ち、セルＢは、ｂ１、ｂ２、ｂ３、ｂ４の図形
データを持つ。セルＡ、セルＢをそれぞれ図形表示した
ものが図２（ロ）、図２（ハ）である。マスクパターン
の全体図（イ）は、この場合、図（ロ）、（ハ）を合わ
せたものと一致している。
トにそって説明する。実施例における処理をセルの階層
構造をもつマスクパターンデータで表されるマスクパタ
ーンの縮小操作を行う場合を挙げて説明する。図２の
（イ）は、ここで使用するマスクパターンの全体を表示
したものである。簡単の為、マスクパターンデータは２
つのセルＡ、Ｂを持ち、ＡがＢの上位セルである階層構
造データとした。セルＡは、ａ１、ａ２、ａ３の図形デ
ータを持ち、セルＢは、ｂ１、ｂ２、ｂ３、ｂ４の図形
データを持つ。セルＡ、セルＢをそれぞれ図形表示した
ものが図２（ロ）、図２（ハ）である。マスクパターン
の全体図（イ）は、この場合、図（ロ）、（ハ）を合わ
せたものと一致している。
【０００９】先ず、全セルに対しハードゾーン枠を設定
する。（ａ） セルＡ、セルＢのハードゾーン枠は図３にて示されるよ
うに、それぞれ互いに干渉しないＨＡ、ＨＢとなる。こ
こでは、干渉している状態とは、図１３（イ）に示すよ
うに、セルとセルが重なり合っている状態や図１３
（ロ）のように、セルと上位セル図形が重なり合ってい
る状態を言う。３におけるセルＡ、セルＢのハードゾー
ン枠は互いに、重なり合ってはいないので、干渉してい
ない。このような、ハードゾーン枠の設定は、先ずセル
固有のパターンデータを含む最小矩形を求める。図１４
（イ）のようにこの最小矩形をセル境界、又はセル枠と
言う。次に全セルについて、セルとセル、及びセルと上
位のセル図形との干渉を調べ、干渉のないところまで元
のセル枠を縮め、新たな枠を求める。具体的には上位セ
ルの図形による水平方向、垂直方向の最大割り込み幅を
各々求めて、その分もとのセル枠を縮小する。この新た
な枠をハードゾーン枠と呼び、図１４（ロ）のようにな
る。図４はセルＢに関し、図形データｂ１、ｂ２、ｂ
３、ｂ４の図形表示および、ハーゾーン枠Ｓ１等を表し
たもので、Ｓ２はＳ１をサイズ量縮小したゾーン枠で、
上位セルＡのカットゾーン領域を設定する際及び自セル
Ｂのアンドゾーン領域を設定する際にこのＳ２枠のデー
タは使用される。Ｓ３はＳ１をサイズ量の２倍縮小した
ゾーン枠であり、ドーナツ領域はＳ１とＳ３との間の領
域である。
する。（ａ） セルＡ、セルＢのハードゾーン枠は図３にて示されるよ
うに、それぞれ互いに干渉しないＨＡ、ＨＢとなる。こ
こでは、干渉している状態とは、図１３（イ）に示すよ
うに、セルとセルが重なり合っている状態や図１３
（ロ）のように、セルと上位セル図形が重なり合ってい
る状態を言う。３におけるセルＡ、セルＢのハードゾー
ン枠は互いに、重なり合ってはいないので、干渉してい
ない。このような、ハードゾーン枠の設定は、先ずセル
固有のパターンデータを含む最小矩形を求める。図１４
（イ）のようにこの最小矩形をセル境界、又はセル枠と
言う。次に全セルについて、セルとセル、及びセルと上
位のセル図形との干渉を調べ、干渉のないところまで元
のセル枠を縮め、新たな枠を求める。具体的には上位セ
ルの図形による水平方向、垂直方向の最大割り込み幅を
各々求めて、その分もとのセル枠を縮小する。この新た
な枠をハードゾーン枠と呼び、図１４（ロ）のようにな
る。図４はセルＢに関し、図形データｂ１、ｂ２、ｂ
３、ｂ４の図形表示および、ハーゾーン枠Ｓ１等を表し
たもので、Ｓ２はＳ１をサイズ量縮小したゾーン枠で、
上位セルＡのカットゾーン領域を設定する際及び自セル
Ｂのアンドゾーン領域を設定する際にこのＳ２枠のデー
タは使用される。Ｓ３はＳ１をサイズ量の２倍縮小した
ゾーン枠であり、ドーナツ領域はＳ１とＳ３との間の領
域である。
【００１０】次いで、各セルについて展開データの作成
の処理を行い（ｂ）、順次記録部に記録しておく。
（ｃ） セルＢでは、下位セルはないので展開されるデータはな
く、ハードゾーン枠の内部の図形、つまりＨＢの内側が
展開データとなる。セルＡについて展開データ作成の処
理を行う。図４に示される、セルＢのドーナツ領域のデ
ータを上位セルであるセルＡに展開する。このデータを
表示したものが図５の斜線部ｂ１、ｂ２、ｂ４である。
セルＡの下位セルであるセルＢのセル境界に近接するド
ーナツ領域にある図形データとしてｂ１、ｂ２、ｂ４が
選ばれている。ドーナツ展開後のセルＡの展開データ
は、ａ１、ａ２、ａ３、ｂ１、ｂ２、ｂ４である。これ
を図５に示す。また、図４にＳ２として図形表示される
セルＢのゾーン枠をセルＡのカットゾーン枠としその矩
形データをセルＡに展開してカットゾーン展開データＳ
２を得る。これを図６に示す。したがって、セルＡのド
ーナツ展開、カットゾーン展開後の展開データは、ａ
１、ａ２、ａ３、ｂ１、ｂ２、ｂ４及びＳ２データであ
る。
の処理を行い（ｂ）、順次記録部に記録しておく。
（ｃ） セルＢでは、下位セルはないので展開されるデータはな
く、ハードゾーン枠の内部の図形、つまりＨＢの内側が
展開データとなる。セルＡについて展開データ作成の処
理を行う。図４に示される、セルＢのドーナツ領域のデ
ータを上位セルであるセルＡに展開する。このデータを
表示したものが図５の斜線部ｂ１、ｂ２、ｂ４である。
セルＡの下位セルであるセルＢのセル境界に近接するド
ーナツ領域にある図形データとしてｂ１、ｂ２、ｂ４が
選ばれている。ドーナツ展開後のセルＡの展開データ
は、ａ１、ａ２、ａ３、ｂ１、ｂ２、ｂ４である。これ
を図５に示す。また、図４にＳ２として図形表示される
セルＢのゾーン枠をセルＡのカットゾーン枠としその矩
形データをセルＡに展開してカットゾーン展開データＳ
２を得る。これを図６に示す。したがって、セルＡのド
ーナツ展開、カットゾーン展開後の展開データは、ａ
１、ａ２、ａ３、ｂ１、ｂ２、ｂ４及びＳ２データであ
る。
【００１１】次に、ボトム（セルＢ）からルートセル
（セルＡ）に向かって、セル毎に以下の処理を行う。上
記処理により、得られた展開データを読み込み（ｄ）、
データが通常のデータであれば、幾何演算処理へ渡し、
データがカットゾーン枠データであれば、補正処理へデ
ータを渡す。（ｅ）
（セルＡ）に向かって、セル毎に以下の処理を行う。上
記処理により、得られた展開データを読み込み（ｄ）、
データが通常のデータであれば、幾何演算処理へ渡し、
データがカットゾーン枠データであれば、補正処理へデ
ータを渡す。（ｅ）
【００１２】次に、セル毎に幾何演算処理を行ない
（ｆ）、得られた幾何演算処理データに対し、補正処理
（ｇ）を行い、得られた処理データを出力する。（ｈ） 先ず、セルＢのパターンデータに対し幾何演算を行う。
幾何演算結果の幾何演算処理データを図形表示すると図
８の斜線部のようになる。この幾何演算結果に対し補正
処理を行う。セルＢには下位セルはないのでカッドゾー
ンを表す矩形データとの論理差演算処理はおこなわず、
上記幾何演算処理データをそのまま論理差演算データと
し、これとアンドゾーンを表す矩形データＳ２との論理
積演算処理（ｇ２）を行う。この論理積演算処理（ｇ
２）は、上位セルとの重なり、重複をなくすものであ
る。図１０は幾何演算後のセルＢに対する論理積処理を
説明する為の図であるが、幾何演算処理後に（イ）で図
形表示されるマスクパターンデータに対して、アンドゾ
ーンを表す矩形データＳ２との論理積演算処理を行った
結果が、（ロ）に示す斜線部の図形となる。得られた論
理積演算処理データを出力する。（ｈ）
（ｆ）、得られた幾何演算処理データに対し、補正処理
（ｇ）を行い、得られた処理データを出力する。（ｈ） 先ず、セルＢのパターンデータに対し幾何演算を行う。
幾何演算結果の幾何演算処理データを図形表示すると図
８の斜線部のようになる。この幾何演算結果に対し補正
処理を行う。セルＢには下位セルはないのでカッドゾー
ンを表す矩形データとの論理差演算処理はおこなわず、
上記幾何演算処理データをそのまま論理差演算データと
し、これとアンドゾーンを表す矩形データＳ２との論理
積演算処理（ｇ２）を行う。この論理積演算処理（ｇ
２）は、上位セルとの重なり、重複をなくすものであ
る。図１０は幾何演算後のセルＢに対する論理積処理を
説明する為の図であるが、幾何演算処理後に（イ）で図
形表示されるマスクパターンデータに対して、アンドゾ
ーンを表す矩形データＳ２との論理積演算処理を行った
結果が、（ロ）に示す斜線部の図形となる。得られた論
理積演算処理データを出力する。（ｈ）
【００１３】次いで、ドーナツ展開された後のセルＡ
は、上記のように、図７に図形表示されるものである
が、このセルＡについて幾何演算を行う。セルＡの幾何
演算結果は図７の斜線部である。（ｂ４は縮小操作によ
り消滅している。） この表示からも分かるように、幾何演算処理データに
は、下位のセルＢと重複するデータが含まれているの
で、これを補正処理によって除去する。具体的には、幾
何演算処理データとカットゾーン枠のＳ２データを用い
論理差演算処理（ｇ１）を行うことにより、重複データ
を除去する。図９は幾何演算後のセルＡに対する論理差
演算処理を説明する為の図であるが、幾何演算処理後に
（イ）で図形表示されるマスクバターンデータに対し
て、カットゾーンデータＳ２と論理差演算（ｇ１）を行
ったものが、（ロ）に図形表示される斜線部分となる。
セルＡはルートセルのためアンドソーンとの論理積演算
処理は行なわない。得られた論理差演算処理データを出
力する。（ｈ）
は、上記のように、図７に図形表示されるものである
が、このセルＡについて幾何演算を行う。セルＡの幾何
演算結果は図７の斜線部である。（ｂ４は縮小操作によ
り消滅している。） この表示からも分かるように、幾何演算処理データに
は、下位のセルＢと重複するデータが含まれているの
で、これを補正処理によって除去する。具体的には、幾
何演算処理データとカットゾーン枠のＳ２データを用い
論理差演算処理（ｇ１）を行うことにより、重複データ
を除去する。図９は幾何演算後のセルＡに対する論理差
演算処理を説明する為の図であるが、幾何演算処理後に
（イ）で図形表示されるマスクバターンデータに対し
て、カットゾーンデータＳ２と論理差演算（ｇ１）を行
ったものが、（ロ）に図形表示される斜線部分となる。
セルＡはルートセルのためアンドソーンとの論理積演算
処理は行なわない。得られた論理差演算処理データを出
力する。（ｈ）
【００１４】従って、図９と図１０の斜線部分が求める
結果であり、これを合わせてみると図１１の斜線部分と
なり図形の分離、変形はおきておらず正しい縮小操作が
行われたことが分かる。尚、本実施例においては、デー
タ処理の際に、図形の分離、変形がおきていないことに
説明することを主としたが、セルＡ、セルＢに限らずセ
ル数が多い場合、各セルの図形データが多い場合につい
ても、本発明のデータ処理方法は、本実施例と同様に行
えるものである。したがって、本発明のデータ処理方法
は、マスクパターンデータが大規模化してもマスクパタ
ーンデータのセル構造を利用して、実用レベルで対応で
きるものである。
結果であり、これを合わせてみると図１１の斜線部分と
なり図形の分離、変形はおきておらず正しい縮小操作が
行われたことが分かる。尚、本実施例においては、デー
タ処理の際に、図形の分離、変形がおきていないことに
説明することを主としたが、セルＡ、セルＢに限らずセ
ル数が多い場合、各セルの図形データが多い場合につい
ても、本発明のデータ処理方法は、本実施例と同様に行
えるものである。したがって、本発明のデータ処理方法
は、マスクパターンデータが大規模化してもマスクパタ
ーンデータのセル構造を利用して、実用レベルで対応で
きるものである。
【００１５】以上、幾何演算の縮小操作を例にとって説
明を行ってきたが、拡大操作についても同様で、正しい
結果を得ることができる。
明を行ってきたが、拡大操作についても同様で、正しい
結果を得ることができる。
【００１６】
【発明の効果】本発明の階層構造を用いた集積回路マス
クパターンデータの幾何学演算処理方法は、上記のよう
に、マスクパターンデータに対し幾何演算を行う際、マ
スクパターンデータをセル単位処理で、且つ、セル境界
での図形の形状変形を起こすことなく行える演算を方法
の提供を可能とするもので、結果として、大規模集積回
路のマスクパターンデータの幾何演算処理を実用レベル
で可能にするものであり、半導体素子の高集積度化、小
型化に伴う、フオトマスクの微細化、高集積度化要求対
応できるものとしている。
クパターンデータの幾何学演算処理方法は、上記のよう
に、マスクパターンデータに対し幾何演算を行う際、マ
スクパターンデータをセル単位処理で、且つ、セル境界
での図形の形状変形を起こすことなく行える演算を方法
の提供を可能とするもので、結果として、大規模集積回
路のマスクパターンデータの幾何演算処理を実用レベル
で可能にするものであり、半導体素子の高集積度化、小
型化に伴う、フオトマスクの微細化、高集積度化要求対
応できるものとしている。
【図１】本発明の集積回路マスクパターンの幾何学演算
処理方法のフローチャート
処理方法のフローチャート
【図２】本発明実施例説明の為に使用したマスクパター
ン図
ン図
【図３】本発明実施例説明の為に使用したマスクパター
ンデータの各セルＡのハードゾーンを表す図
ンデータの各セルＡのハードゾーンを表す図
【図４】セルＢにおける各ゾーン枠を説明するための図
【図５】ドーナツ展開後のセルＡを図形表示した図
【図６】セルＡに展開されたカットゾーン枠を図形表示
した図
した図
【図７】セルＡの幾何演算処理を説明する為の図
【図８】セルＢの幾何演算処理を説明する為の図
【図９】セルＡの論理差処理を説明する為の図
【図１０】セルＢの論理積処理を説明する為の図
【図１１】本発明実施例説明の為に使用したマスクパタ
ーンデータの処理後の図
ーンデータの処理後の図
【図１２】従来のセル単位処理における問題点を説明す
るための図
るための図
【図１３】セル相互間及びセルと上位セルの図形との干
渉を説明するための図
渉を説明するための図
【図１４】セル枠とハードゾーンの関係を説明する図
【図１５】ハードゾーンとドーナツ領域を説明するため
の図
の図
ＨＡ セルＡのハードゾーン枠
ＨＢ セルＢのハードゾーン枠
ａ１、ａ２、ａ３、ａ４ セルＡのパターンデータ
ｂ１、ｂ２、ｂ３、ｂ４ セルＢのパターンデータ
Ｓ１ セルＢのハードゾーン枠
Ｓ２ セルＢにおけるセルＡ用の
カットゾーン枠 １、１Ａ パターン図形 ２、２Ａ パターン図形 ３、３Ａ パターン図形 ４、４Ａ パターン図形
カットゾーン枠 １、１Ａ パターン図形 ２、２Ａ パターン図形 ３、３Ａ パターン図形 ４、４Ａ パターン図形
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平２−3258（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−21635（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−206275（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−97058（ＪＰ，Ａ)
特開 昭60−100426（ＪＰ，Ａ)
特開 昭61−294817（ＪＰ，Ａ)
特開 平６−45236（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−47825（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H01L 21/027
G03F 1/08
G06F 17/50
Claims (2)
- 【請求項１】 複数個のセルの階層構造にてデータが形
成されているマスクパターンデータにより表される集積
回路用マスクパターンの拡大ないし縮小の幾何演算を行
う際に於ける、該マスクパターンデータの階層構造を利
用したデータ処理方法であって、（１）全セルに対し、
他のセル枠や上位のパターンーデータにより表される図
形と干渉しない独立したセル内の領域を表す枠である各
セル毎のハードゾーン枠を設定し、ハードゾーン枠を表
す矩形データを記録する工程、（２）ボトムアップで、
セル単位に、上記ハードゾーン枠から所定の幅縮小して
得られたゾーン枠ともとのセル枠との間の領域であるド
ーナツ領域のデータを上位セルに展開するドーナツ展開
を行い、該セルを引用する上位のセル領域から該セルと
のパターンデータの重なりを除く為の、所定領域からな
るカットゾーンを表す矩形データを上位セルに展開し
て、該セル固有のパターンデータを含む展開データを作
成する工程、（３）（２）で作成された展開データを、
座標の順に読み込み、データが通常のパターンデータか
カットゾーンを表す矩形データかを判断し、通常のパタ
ーンデータならば幾何演算処理工程に渡し、カットゾー
ンを表す矩形データならば補正処理工程に渡す工程、
（４）前記通常のパターンデータに対して幾何演算処理
を行い幾何演算処理データを作成し、この幾何演算処理
データを補正処理工程に渡す幾何演算処理工程、（５）
処理セルに下位のセルがある場合には、上記（４）の幾
何演算処理データと各セルのカットゾーンを表す矩形デ
ータとを用い、論理差演算を行い、前記（４）の幾何演
算処理データからカットゾーン領域に位置するデータを
除去した論理差演算処理データを作成し、下位のセルが
ない場合には、前記（４）の幾何演算処理データを論理
差演算処理データとし、この論理差演算処理データに対
し、上位のセルがある場合には、各セルの上位セルのカ
ットゾーンに対応する領域のアンドゾーンを表す矩形デ
ータを用い、論理積演算を行い、アンドゾーン領域以外
に位置するデータを除去した論理積演算処理データを作
成し、上位のセルがない場合には、前記論理差演算理処
理データをそのまま論理積演算処理データとし、出力処
理工程に渡す補正処理工程、（６）（５）にて得られ
た、論理積演算処理データを出力する出力工程、 を有することを特徴とする集積回路マスクパターンデー
タの演算理処理方法。 - 【請求項２】 請求項１において、拡大ないし縮小の幾
何演算の際の拡大幅又は縮小幅を２1/2 倍した値をサイ
ズ量とした場合、ドーナツ展開する領域を、ハードゾー
ン枠を内側にサイズ量の２倍縮めたゾーン枠とセル枠と
の間の領域とし、カットゾーンの最外周を表すカットゾ
ーン枠を、ハードゾーン枠を内側にサイズ量分縮めた枠
とすることを特徴とする集積回路マスクパターンデータ
の演算理処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10175994A JP3418768B2 (ja) | 1994-04-18 | 1994-04-18 | 集積回路マスクパターンデータの演算処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10175994A JP3418768B2 (ja) | 1994-04-18 | 1994-04-18 | 集積回路マスクパターンデータの演算処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07288224A JPH07288224A (ja) | 1995-10-31 |
| JP3418768B2 true JP3418768B2 (ja) | 2003-06-23 |
Family
ID=14309168
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10175994A Expired - Fee Related JP3418768B2 (ja) | 1994-04-18 | 1994-04-18 | 集積回路マスクパターンデータの演算処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3418768B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3045114B2 (ja) | 1997-08-19 | 2000-05-29 | 日本電気株式会社 | 荷電粒子線描画用データ作成方法並びに描画用パターンデータ作成プログラムを記録した記録媒体 |
| JP3185754B2 (ja) * | 1998-05-29 | 2001-07-11 | 日本電気株式会社 | 露光原版の作製方法 |
| JP2000150341A (ja) * | 1998-11-09 | 2000-05-30 | Nec Corp | 荷電粒子線直描データ作成方法、荷電粒子線直描データ検証方法、荷電粒子線直描データ表示方法及び露光装置 |
| JP4671473B2 (ja) | 2000-07-14 | 2011-04-20 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | マスクデータ補正装置、転写用マスクの製造方法、および、パターン構造を有する装置の製造方法 |
| JP5805452B2 (ja) * | 2011-07-15 | 2015-11-04 | 大日本印刷株式会社 | Ｌｓｉの回路図復元装置 |
| JP5978595B2 (ja) * | 2011-07-15 | 2016-08-24 | 大日本印刷株式会社 | Ｌｓｉのレイアウトパターン表示装置および表示方法 |
-
1994
- 1994-04-18 JP JP10175994A patent/JP3418768B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07288224A (ja) | 1995-10-31 |
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