JP3403354B2 - 光硬化性オキセタン組成物 - Google Patents

光硬化性オキセタン組成物

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光開始カチオン重合用
の3−置換オキセタンモノマーを含む紫外線硬化性組成
物、これらのモノマーの硬化法、およびその方法によっ
て製造されるポリマーに関する。
【0002】
【従来の技術】紫外線(UV)開始重合または硬化は、
その速い硬化速度、非汚染性の作業環境、極めて低いエ
ネルギー要求量等の良好な特性のため、木質のコーティ
ング、金属の装飾および印刷産業において極めて重要に
なってきている。この分野における初期の開発は、多官
能性アクリレートおよび不飽和ポリエステルの光開始フ
リーラジカル重合に集中していた。今日でも、これらの
材料は、UV硬化産業において依然として隆盛を誇って
おり、現在の研究努力の大部分は光開始フリーラジカル
重合に向けられ続けているが、イオン性光重合も多くの
応用分野でかなり有望であることも十分に認められてい
る。特に、光開始カチオン重合は、多種多様なモノマー
の重合によって様々な化学的および物理的特性を実現さ
せる可能性に富むため、魅力あるものである。更に、光
開始カチオン重合は、酸素によって阻害されないので、
不活性雰囲気下で実施しなければならないという制限は
なく、空気中で速やか且つ完全な重合を行うことができ
るという利点を有する。
【0003】今日まで、光開始カチオン重合技術は、エ
ポキシドおよびビニルエーテルという2種類のモノマー
の光重合に集中していた。特に、エポキシドの光重合で
は、耐熱性が良く、接着性に優れ、耐薬品性が良好な塗
膜が得られる。しかしながら、従来の光硬化性エポキシ
ドには、光重合速度がかなり遅いという欠陥がある。こ
の要因のために、従来の光硬化性エポキシドは、速やか
なUV硬化が必要な紙およびプラスチックコーティング
のようなある種の用途には適さない。
【0004】エクベルグ(Eckberg )らの文献[Radtec
h '90 North American Proceedings、第1巻、358 〜37
0 (1990)]は、参考として本明細書に引用されるもので
あるが、これには光重合用のエポキシド官能基を有する
一連の線状および分枝状シリコーンが開示されており、
触媒および重合条件も記載されている。
【0005】クリベロ(Crivello)とリー(Lee) [Radtec
h '90 North American ConferenceProceedings、第1
巻、432 〜445 (1990)]は、参考として本明細書に引用
されるものであるが、これには特に速やかな重合を行う
環ひずみの大きい環状脂肪族エポキシド環を有するケイ
素含有多官能モノマーが記載されている。これらのカチ
オン性光重合は、最も迅速な市販のエポキシドモノマー
と比較して少なくとも100倍の速度で起こる。しかし
ながら開環性エポキシドを鎖中に有する同様なケイ素含
有モノマーは、UVによる硬化性はかなり低い。
【0006】これらの観察に基づき、クリベロ(Crivell
o)とリー(Lee) は、環状脂肪族エポキシド環を有するケ
イ素含有エポキシドの高い感受性の主な要因はこれらの
化合物のエポキシド基の高い環歪みにあると結論した。
エポキシドは環状エーテルのうちで最も高い環歪みを有
することは周知である。したがって、あらゆる種類のエ
ポキシドは、5員環を有するモノマーより反応性が高い
と思われるオキセタンよりもカチオン性UV光重合の反
応性が高く、すなわちその反応性は 順に高くなるものと推定された。更に、多官能オキセタ
ンモノマーは対応する多官能エポキシドよりも反応性が
低いことも予想される。またオキセタンは重合すること
は知られているが、その重合速度についてはオキセタン
を開示する文献において議論されることはなかった。
【0007】米国特許第4,058,400号明細書
(クリベロ)には、3,3−ビスクロロメチルオキセタ
ンアルコキシオキセタンがカチオン性光重合することが
できることが開示されている。
【0008】米国特許第3,673,216号明細書
(シュレーター(Schroeter) )には、一連の4,4−ジ
アルキル−2−アルコキシオキセタンが開示されてお
り、それらがフリーデル−クラフツ触媒により重合する
ことができることが記載されている。
【0009】ドイツ国特許第1,021,858号明細
書(ボーデンブレンナー(Bodenbrenner)およびヴェグラ
ー(Wegler))には、一般式 (式中、Rは2以上の原子価を有する芳香族残基であ
り、R3はエチル基である)を有するオキセタンが開示さ
れており、具体的には、Rが である化合物が開示されている。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、短時
間のUV暴露により硬化させることができる紫外線硬化
性組成物を提供することである。
【0011】本発明のもう一つの目的は、酸素を排除す
る必要なしに硬化させることができる紫外線硬化性組成
物を提供することである。
【0012】本発明のもう一つの目的は、容易に入手で
きる出発物質から容易に調製することができるモノマー
含む紫外線硬化性組成物を提供することである。
【0013】本発明のもう一つの目的は、強力で、化学
的な耐性を有し、接着性を有するポリマーを提供するこ
とである。
【0014】
【課題を解決するための手段】意外にも、多数の二およ
び三官能オキセタンモノマーは、カチオン性UV硬化に
極めて高い反応性を示すことを見出した。その反応性
は、歪んだエポキシド基を有するモノマーとほぼ同じで
あり、カチオン性UV硬化の知識の現状からは予測され
うるものではない。
【0015】本発明のオキセタンモノマーは、エポキシ
化を用いない簡明な合成法により高収率で調製すること
ができるという利点も有する。対照的に、現在用いられ
ている多官能環状脂肪族エポキシドモノマーは、一般
に、対応するオレフィンのエポキシ化といった、通常は
不便で経費が掛かり、危険なこともある方法によって調
製されている。これらの理由により、環状脂肪族エポキ
シド樹脂は特注商品と考えられている。
【0016】本発明の一つの態様は、式I 式I中、R1は、水素原子、1〜6個の炭素原子を有す
るアルキル基、フッ素原子、1〜6個の炭素原子を有す
るフルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル
基またはチエニル基である。)の構造を有する化合物
カチオン性光重合性開始剤とを含んで成ることを特徴と
する紫外線硬化性組成物であるR 1 としては、エチル基
が好ましい。
【0017】R1は低級アルキル基であるのが好ましく、
エチル基であるのが最も好ましい。明細書及び特許請求
の範囲を通じて、変数は導入時に定義され、その定義は
その後も維持される。
【0018】本発明の紫外線硬化性組成物に使用する
ましい光重合開始剤は、トリアリールスルホニウム塩お
よびジアリールヨードニウム塩である。特に好ましい光
重合開始剤は、ジアリールヨードニウム塩である。
【0019】本発明のもう一つの態様は、本発明のオキ
セタンモノマーとカチオン性光重合開始剤との混合物を
紫外線に暴露することを特徴とする、架橋プロピルオキ
シポリマーの製造法に関する。
【0020】本発明のもう一つの態様は、本発明のモノ
マーの重合によって製造される架橋プロピルオキシポリ
マーに関する。
【0021】モノマーが式Iの構造で現わされ、ポリマ
ー生成物は、式II によって表わされる。(式II中、R 1 は水素原子、1〜6
個の炭素原子を有するアルキル基、フッ素原子、1〜6
個の炭素原子を有するフルオロアルキル基、アリル基、
アリール基、フリル基またはチエニル基であり、tおよ
びuは2〜2000の整数である
【0022】本発明のオキセタンは、次式のように、パ
ティソン(Pattison)[J. Am. Chem.Soc., 1957, 79] の
方法により、1,3−ジオールから合成することができ
【0023】1,3−ジオールは、次式のように、当該
技術分野に周知の方法によってホルムアルデヒドおよび
カルボニル化合物のアルドール縮合および交差カニッツ
ァロ反応によって得ることができる。
【0024】次式のように、R6がCH2OHである化合
物は、本発明のモノマーの合成に特に有用である。
【0025】多官能オキセタンモノマーは、多種多様な
カチオン性光重合開始剤を用いて光重合することができ
る。これらのカチオン性光重合開始剤のうちで重要なも
のは、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホ
ニウム塩およびフェロセニウム塩である。典型的な、極
めて有用な光重合開始剤を下記に示す: (式中、R7およびR8は1〜18個の炭素原子を有する様
々な長さのアルキル鎖であり、Mは金属原子、典型的に
はアンチモン原子であり、Xはハロゲン原子である)。
【0026】前記の光重合開始剤は多官能オキセタンモ
ノマーに対して0.1〜20重量%の濃度で用いること
ができる。光重合開始剤の外に、光増感剤を加えて、電
磁スペクトルの可視およびUV領域の感度の波長を調整
することもできる。本発明において用いることができる
典型的な増感剤は、クリベロ(Crivello)のAdv. in Poly
mer Sci., 62, 1 (1984)に記載されており、この文献は
参考として本明細書に引用する。例としては、ピレン、
ペリレン、アクリジンオレンジ、チオキサントン、2−
クロロチオキサントンおよびベンゾフラビンがある。
【0027】本発明の速硬化性組成物は、様々な光源、
例えば水銀アークランプ、キセノンアークランプ、螢光
ランプ、炭素アークランプ、タングステン−ハロゲン複
写ランプおよび周囲の日光からの照射光に暴露して硬化
することができる。これらのランプは、波長が約184
8オングストローム〜4000オングストローム、好ま
しくは2400オングストローム〜約4000オングス
トロームの光を透過することができる管球を有している
ものでよく、管球は、石英またはパイレックス製のもの
でもよい。UVランプを用いるときには、基材に対する
照射線量は、少なくとも0.01ワット/平方インチで
あって、1〜20秒以内で硬化を行う。硬化は例えば、
紙または金属塗装ライン上で連続的に行うことができる
ようにするのが好ましい。
【0028】本発明の硬化性組成物は、100部のオキ
セタンモノマー当たり100部までの量で無機充填剤、
染料、顔料、増量剤、粘度調節剤、処理剤、およびUV
遮断剤のような不活性成分を含むことができる。硬化性
組成物は、金属、ゴム、プラスチック、成形部品、フィ
ルム、紙、木、ガラス布、コンクリートおよびセラミッ
クのような基材に適用することができる。
【0029】本発明の硬化性組成物を用いることができ
る用途としては、例えば、保護、装飾および絶縁用塗
料、注形用化合物、印刷インキ、シーラント、接着剤、
フォトレジスト、電線絶縁材料、織物被覆剤、積層材
料、含浸テープおよび印刷プレートがある。
【0030】
【実施例】下記の例は、例示のためのものであり、制限
のためのものではない。
【0031】モノマーの合成 例1 3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン マグネティックスターラー、温度計、冷却器、蒸留ヘッ
ドおよび受器を備えた150ml丸底フラスコに、トリメ
チロールプロパン67.0g(0.5モル)、炭酸ジエ
チル59.0g(0.5モル)および水酸化カリウム
0.05gを無水アルコール2mlに溶解した混合物を入
れた。混合物を、容器温度が105℃より低い温度にな
るまで還流した後、ヘッド温度を76〜78℃に保持し
て蒸留した。容器温度が145℃になるまで、蒸留を継
続した。次いで、容器温度を140〜150℃に保持し
たまま、圧を15mmHgまで徐々に下げた。180℃を上
回る温度に加熱したところ、二酸化炭素は速やかに蒸発
し、生成物のほとんどは100〜160℃で蒸留した。
高効率カラムで再蒸留を行ったところ、3−エチル−3
−ヒドロキシメチルオキセタン43.9gを得た(収
率:76%、沸点:114〜115℃、16mmHg)。 C6H12O2の分析、計算値:%C, 62.04; %H, 10.41、実測
値:%C, 62.01; %H, 10.48。1 H NMR(CDCl3)δ(ppm)=0.85-0.95(t,3H,CH 3-CH2); 1.65
-1.80(q,2H,CH3-CH 2);2.5(s,1H,-OH); 3.7(s,2H,-CH 2O
H); 4.4-4.5(dd,4H,-O-CH 2-オキセタン環)。
【0032】モノマーの合成 モノマー1(式I;R1=エチル) 例1の方法を用いて、ジトリメチロールプロパン25.
0g(0.1モル)、炭酸ジエチル23.6g(0.2
モル)および炭酸カリウム5.0gの混合物を、容器温
度が120℃を下回る温度になるまで還流した。混合物
を、ヘッド温度を76〜78℃に保持したまま、蒸留し
た。容器温度が180℃になるまで蒸留を継続したとこ
ろ、混合物はポリマーが形成したことにより粘稠になっ
た。220℃を上回る温度に加熱したところ、粘稠なポ
リマーメルトは流動性液体に戻り、二酸化炭素が速やか
に発生した。次いで、圧を徐々に15mmHgまで下げたと
ころ、ほとんどの物質は120〜170℃で蒸留され
た。高効率カラムで再蒸留したところ、モノマー1が
8.9g得られた(収率:42%、沸点:165〜17
0℃、16mmHg)。1 H NMR(CDCl3)δ(ppm)=0.85-0.95(t,6H,CH 3-CH2); 1.7-
1.8(q,4H,CH3-CH 2); 3.6(s,4H,-CH 2-O-CH 2-); 4.4-4.5
(dd,8H,-O-CH 2-オキセタン環)。
【0033】モノマー1の光重合 光重合開始剤として下記のオニウム塩を様々な濃度で含
むモノマーを用いて、モノマーの光重合を行った。 光重合開始剤1 光重合開始剤2 光重合開始剤3
【0034】更に、下記の構造を有する3種類のエポキ
シド樹脂を、同じ光重合開始剤を用い並立比較で評価し
た。シリコーンエポキシド1はカチオン性UV硬化では
極めて反応性が高いことが報告されている;エポキシド
2は市販の「高反応性」ビス環状脂肪族エポキシドであ
ると考えられている;エポキシド3は縮合環の付加歪を
欠いた単純なエポキシドであり本発明のオキセタンの3
員環類似物と考えることもできる。 エポキシド1 エポキシド2 エポキシド3
【0035】各種のモノマーの重合速度を、「ゲル・ポ
インテ(GEL POINTE)」装置を用いて10μl毛細管中で
のゲル時間を記録することによって測定した。この装置
はタングステン−ハロゲンランプを備えており、ランプ
が点灯してから毛細管のメニスカスの振動が止むまでの
時間をゲル時間として記録するのである。ゲル時間が短
ければ短いほど、カチオン性UV硬化におけるモノマー
の反応性が高いことが示される。
【0036】更に、各種の多官能オキセタンモノマーの
不粘着化エネルギー(T.F.E.)を測定して、互い
に、および前記のエポキシド対照樹脂と比較した。コン
ベヤー型のUV照射装置(フュージョン・システムス(F
usion Systems)、F−300ラボラトリーUVキュア・
プロセッサー(Laboratory UV Cure Processor))を、こ
れらの検討に用いた。平方センチメートル当たりミリジ
ュール(mJ/cm2 ) での最小エネルギーを記録した。した
がって、モノマーを硬化するのに要するエネルギーが低
下すればするほど、その反応性は高いことになる。
【0037】重合の検討の結果を表1に示す。光開始剤
の濃度は反応性官能基あたり0.25モル%であった;
ランプの強度は16.5cmで300w/cm2であっ
た;フィルムの厚さは75μmであった。
【0038】
【表1】
【0039】表1のゲル時間データーを比較したとこ
ろ、意外なことには、本発明の多官能オキセタンモノマ
ーのあるものは、対照として用いた「高反応性」エポキ
シドモノマーよりも速やかにUV硬化を行うことを示し
ている。例えば、光重合開始剤1を用いた場合、オキセ
タンモノマー1はエポキシド2よりも反応性が大であ
る。光重合開始剤2でも、ゲル時間測定に同じ傾向が示
されている。不粘着化時間測定も同様な傾向を示してい
る。光重合開始剤1および2では、それぞれ、シリコー
ン−エポキシド1についての不粘着化エネルギーは80
mJ/cm2以下であるが、エポキシド2については、45
00および4000mJ/cm2以上となった。また、意外
なことには、多官能オキセタンモノマーは、これによれ
ば、「高反応性」ビス環状脂肪族エポキシド2よりも反
応性が高いことが示される。
【0040】多官能オキセタンモノマーと本発明者らが
知る最も反応性の高いエポキシドモノマーとの並立比較
から明らかなように、本発明のUV硬化性オキセタン組
成物は予想外に高い反応性を示すものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 仏国特許発明1503429(FR,B1) 米国特許4058400(US,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 305/06 C08G 65/18 CA(STN) REGISTRY(STN)

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式I (式I中、R 1 は水素原子、1〜6個の炭素原子を有する
    アルキル基、フッ素原子、1〜6個の炭素原子を有する
    フルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基
    またはチエニル基である。)の構造を有する化合物とカ
    チオン性光重合開始剤とを含んで成ることを特徴とする
    紫外線硬化性組成物。
  2. 【請求項2】 前記の光重合開始剤がトリアリールスル
    ホニウム塩またはジアリールヨードニウム塩である請求
    に記載の紫外線硬化性組成物。
  3. 【請求項3】 式IにおいてR 1 がエチル基である請求項
    1に記載の紫外線硬化性組成物。
  4. 【請求項4】 式I 式I中、R1水素原子、1〜6個の炭素原子を有する
    アルキル基、フッ素原子、1〜6個の炭素原子を有する
    フルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基
    またはチエニル基である。)の構造を有する化合物とカ
    チオン性光重合開始剤との混合物を紫外線に暴露するこ
    とを特徴とする、架橋プロピルオキシポリマーの製造
    法。
  5. 【請求項5】 式II 式II中、R1水素原子、1〜6個の炭素原子を有する
    アルキル基、フッ素原子、1〜6個の炭素原子を有する
    フルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基
    またはチエニル基であり、tおよびuは2〜2000の
    整数である)を有する、架橋プロピルオキシポリマ
    ー。
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Families Citing this family (90)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5807977A (en) * 1992-07-10 1998-09-15 Aerojet General Corporation Polymers and prepolymers from mono-substituted fluorinated oxetane monomers
DE19506222B4 (de) * 1995-02-22 2004-11-25 Heraeus Kulzer Gmbh & Co. Kg Verwendung von polymerisierbaren Verbindungen für medizinische und dentale Zwecke
JPH08239623A (ja) * 1995-02-28 1996-09-17 Toagosei Co Ltd 木材用活性エネルギー線硬化型塗料組成物
JP3161583B2 (ja) * 1995-07-21 2001-04-25 東亞合成株式会社 活性エネルギー線硬化型組成物
GB2305919B (en) * 1995-10-02 1999-12-08 Kansai Paint Co Ltd Ultraviolet-curing coating composition for cans
JP4197361B2 (ja) * 1996-12-02 2008-12-17 株式会社Adeka 光学的立体造形用樹脂組成物および光学的立体造形方法
JP3765896B2 (ja) 1996-12-13 2006-04-12 Jsr株式会社 光学的立体造形用光硬化性樹脂組成物
FR2758557B1 (fr) * 1997-01-21 1999-11-12 Toagosei Co Ltd Compose ayant un groupe oxetanyle, son procede de preparation et composition de durcissement
DE19714324B4 (de) * 1997-03-25 2004-09-02 Ivoclar Vivadent Ag Hydrolysierbare und polymerisierbare Oxetansilane
US6096903A (en) 1997-03-25 2000-08-01 Ivoclar Ag Hydrolysable and polymerizable oxetane silanes
JPH11152441A (ja) * 1997-11-21 1999-06-08 Kansai Paint Co Ltd 紫外線硬化型缶用塗料組成物
JP3843575B2 (ja) * 1998-01-13 2006-11-08 東亞合成株式会社 光カチオン硬化性樹脂組成物
US6121342A (en) * 1998-01-13 2000-09-19 Toagosei Co., Ltd. Photocationically curable compositions and process for producing the same
DE69921850T3 (de) * 1998-09-28 2007-08-02 Novo Nordisk A/S Macromonomere auf der basis von peg, damit hergestellte inerte polymere und deren verwendung für organische synthesen und enzym- reaktionen
US6232361B1 (en) * 1998-12-11 2001-05-15 Sun Chemical Corporation Radiation curable water based cationic inks and coatings
US6450642B1 (en) * 1999-01-12 2002-09-17 California Institute Of Technology Lenses capable of post-fabrication power modification
JP2000212443A (ja) * 1999-01-27 2000-08-02 Toagosei Co Ltd 光カチオン硬化性樹脂組成物
DE69907865T2 (de) * 1999-03-19 2003-10-09 Dainippon Ink & Chemicals Verfahren zu Herstellung von 3-Alkyl-3-Hydroxymethyloxetanen
EP1069120B1 (en) * 1999-07-15 2003-08-13 Toagosei Co., Ltd. Naphthalene derivative, binaphthalene derivative and biphenyl derivative and cationically curable compound
JP2003524684A (ja) * 1999-07-16 2003-08-19 アエロジェット ジェネラル コーポレイション ビス置換オキセタンモノマーを基剤としたアモルファスポリエーテルグリコール
GB9921779D0 (en) * 1999-09-16 1999-11-17 Ciba Sc Holding Ag UV-Curable compositions
US6255484B1 (en) 1999-09-28 2001-07-03 Ube Industries, Ltd. Cyanurate compound having three oxetane ring groups and organic hardening compositions containing same
FR2800380B1 (fr) * 1999-10-29 2002-01-18 Rhodia Chimie Sa Amorceur de polymerisation et/ou reticulation de polyorganosiloxanes a groupements fonctionnels reticulables, compositions correspondantes et leurs utlisations
US7122288B2 (en) 2000-03-28 2006-10-17 Fujitsu Limited Negative resist composition, a method for forming a resist pattern thereof, and a method for fabricating a semiconductor device
JP4635295B2 (ja) * 2000-04-25 2011-02-23 日立化成工業株式会社 接着フィルム
DE10044840A1 (de) * 2000-09-11 2002-04-04 Siemens Ag Photostrukturierbare neue organische Halbleitermaterialien
WO2002079691A1 (en) 2001-03-30 2002-10-10 The Arizona Board Of Regents On Behalf Of The University Of Arizona Materials, methods, and uses for photochemical generation of acids and/or radical species
JP2003073481A (ja) 2001-09-06 2003-03-12 Brother Ind Ltd 活性エネルギー線硬化型組成物、それを含有するインク及びそのインクを使用するプリンタ
JP4736289B2 (ja) * 2001-09-18 2011-07-27 東亞合成株式会社 オキセタン環を有するナフタレン誘導体
JP2003105077A (ja) 2001-09-28 2003-04-09 Brother Ind Ltd 活性エネルギー線硬化型組成物、それを含有するインク及びそのインクを使用するプリンタ
JP3991651B2 (ja) * 2001-10-29 2007-10-17 東亞合成株式会社 熱硬化性組成物
JP2003212965A (ja) * 2002-01-28 2003-07-30 Brother Ind Ltd 活性エネルギー線硬化型組成物
EP1348727A3 (en) 2002-03-29 2003-12-03 Brother Kogyo Kabushiki Kaisha Image-receiving layer composition and overcoat layer composition for ink-jet recording
US20030198824A1 (en) 2002-04-19 2003-10-23 Fong John W. Photocurable compositions containing reactive polysiloxane particles
US7056559B2 (en) * 2002-08-30 2006-06-06 Konica Corporation Ink-jet image forming method
US6960134B2 (en) * 2002-09-12 2005-11-01 Igt Alternative bonus games associated with slot machine
US6832036B2 (en) * 2002-10-11 2004-12-14 Polyset Company, Inc. Siloxane optical waveguides
JP2003213204A (ja) * 2003-02-04 2003-07-30 Toagosei Co Ltd 缶外面用塗料
JP3797348B2 (ja) * 2003-02-24 2006-07-19 コニカミノルタホールディングス株式会社 活性エネルギー線硬化組成物
WO2004090646A1 (ja) * 2003-04-09 2004-10-21 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. ホログラフィック記録メディア及びその記録方法
JP2005002166A (ja) * 2003-06-10 2005-01-06 Konica Minolta Medical & Graphic Inc オキセタン化合物、それを用いた活性エネルギー線硬化組成物、インクジェット用インク組成物及び画像形成方法
US7235593B2 (en) * 2003-08-04 2007-06-26 Rensselaer Polytechnic Institute Command-cure adhesives
US7232850B2 (en) 2003-10-03 2007-06-19 Huntsman Advanced Materials Americas Inc. Photocurable compositions for articles having stable tensile properties
EP1719769B1 (en) 2004-02-23 2011-10-05 Nippon Steel Chemical Co., Ltd. Process for producing alicyclic oxetane compound
US7135535B2 (en) * 2004-07-29 2006-11-14 National Starch And Chemical Investment Holding Corporation Siloxane resins with oxetane functionality
EP1775317B1 (en) * 2004-08-04 2009-04-15 Toagosei Co., Ltd. Polyorganosiloxane and curable composition containing same
JP4715752B2 (ja) 2004-12-09 2011-07-06 コニカミノルタエムジー株式会社 光硬化性インクを用いたインクセット、インクジェット記録方法及びインクジェット記録装置
WO2006104167A1 (ja) * 2005-03-28 2006-10-05 Toagosei Co., Ltd. オキセタン環を有する1,3-プロパンジオール誘導体
US7687119B2 (en) * 2005-04-04 2010-03-30 Henkel Ag & Co. Kgaa Radiation-curable desiccant-filled adhesive/sealant
US20060223937A1 (en) * 2005-04-04 2006-10-05 Herr Donald E Radiation curable cycloaliphatic barrier sealants
US20060223978A1 (en) * 2005-04-04 2006-10-05 Shengqian Kong Radiation- or thermally-curable oxetane barrier sealants
JP5311091B2 (ja) * 2005-04-08 2013-10-09 東亞合成株式会社 ポリカルボシラン及びその製造方法
US8017795B2 (en) * 2005-04-21 2011-09-13 Ndsu Research Foundation Radiation curable polymer films having improved laser ablation properties and radiation curable sensitizers therefor
JP2007070324A (ja) * 2005-09-09 2007-03-22 Nitto Denko Corp フルオレン構造を有するビスオキセタンエーテル化合物およびその製法、ならびにそれを用いた光導波路
JP2007070323A (ja) * 2005-09-09 2007-03-22 Nitto Denko Corp フルオレン構造を有するテトラキスオキセタンエーテル化合物およびその製法、ならびにそれを用いた光導波路
JP2007070328A (ja) * 2005-09-09 2007-03-22 Nitto Denko Corp トリスオキセタンエーテル化合物およびその製法、ならびにそれを用いた光導波路
WO2007032185A1 (ja) 2005-09-13 2007-03-22 Nippon Steel Chemical Co., Ltd. 熱硬化性樹脂組成物
US7728050B2 (en) * 2005-11-04 2010-06-01 Fujifilm Corporation Curable composition, ink composition, inkjet recording method, printed matter, method for producing planographic printing plate, planographic printing plate and oxetane compound
JPWO2007111092A1 (ja) 2006-03-24 2009-08-06 コニカミノルタエムジー株式会社 透明バリア性シートおよび透明バリア性シートの製造方法
EP2000297A1 (en) 2006-03-24 2008-12-10 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Transparent barrier sheet and method for producing transparent barrier sheet
EP2000296A2 (en) 2006-03-24 2008-12-10 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. Transparent barrier sheet and production method of transparent barrier sheet
WO2007111098A1 (ja) 2006-03-24 2007-10-04 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. 透明バリア性シート及びその製造方法
JP2007277148A (ja) 2006-04-06 2007-10-25 Nitto Denko Corp トリスオキセタンエーテル化合物およびその製法、ならびにそれを用いた光導波路
WO2007125795A1 (ja) 2006-04-27 2007-11-08 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. 活性光線硬化型組成物、活性光線硬化型インクジェットインク、該活性光線硬化型インクジェットインクを用いた画像形成方法及びインクジェット記録装置
US7745501B2 (en) * 2006-06-22 2010-06-29 Momentive Performance Materials Inc. Method for demulsifying
US20080039608A1 (en) * 2006-08-11 2008-02-14 General Electric Company Oxetane composition, associated method and article
EP2065426B1 (en) 2006-09-19 2014-12-10 Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd. Thermally polymerizable resin composition
JPWO2008096618A1 (ja) 2007-02-09 2010-05-20 コニカミノルタエムジー株式会社 インクジェットヘッド、インクジェットプリンタ、インクジェット記録方法
EP1958942B1 (en) * 2007-02-19 2010-12-22 Nitto Denko Corporation Trisoxetane compound, process for producing the same and optical waveguide using the same
US7759503B2 (en) * 2007-03-05 2010-07-20 Nitto Denko Corporation Trisoxetane compound, process for producing the same, and optical waveguide using the same
JP5019518B2 (ja) * 2007-03-13 2012-09-05 株式会社Adeka 光学的立体造形用樹脂組成物および光学的立体造形方法
TWI499619B (zh) * 2007-12-27 2015-09-11 Nippon Steel & Sumikin Chem Co Containing a curable poly cage-shaped structure of silicon oxide copolymer and its manufacturing method and use of the cage structure-containing curable silicon oxide copolymer of poly curable resin composition and cured
US8329774B2 (en) * 2008-01-15 2012-12-11 Toagosei Co., Ltd. Organosilicon compounds which have oxetanyl groups, and a method for the production and curable compositions of the same
JP2009035739A (ja) * 2008-09-05 2009-02-19 Ube Ind Ltd エネルギー線硬化性組成物
JP5461809B2 (ja) * 2008-09-29 2014-04-02 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
WO2010073933A1 (ja) * 2008-12-26 2010-07-01 東亞合成株式会社 オキセタニル基を有するケイ素化合物の製造方法
JP5704256B2 (ja) * 2011-12-26 2015-04-22 東亞合成株式会社 絶縁膜用組成物及び絶縁膜
US10377855B2 (en) 2014-06-25 2019-08-13 Rensselaer Polytechnic Institute Oxetane polymers and methods of preparation thereof
TWI519560B (zh) 2014-11-24 2016-02-01 財團法人工業技術研究院 含氧雜環丁烷基與環氧基之樹脂與樹脂組成物
WO2016129670A1 (ja) 2015-02-12 2016-08-18 積水化学工業株式会社 インクジェット用硬化性組成物及び電子部品の製造方法
CN104892549A (zh) * 2015-04-20 2015-09-09 南昌大学 一种可用于紫外光固化的烯丙基氧杂环丁烷类化合物的合成方法
CN107619399B (zh) * 2016-07-13 2021-04-27 常州强力先端电子材料有限公司 多官能度氧杂环丁烷类化合物及其制备方法
KR102593808B1 (ko) * 2017-05-24 2023-10-25 도레이 카부시키가이샤 네가티브형 감광성 수지 조성물 및 경화막
KR102658947B1 (ko) * 2017-06-07 2024-04-18 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 유기 el 표시 소자용 봉지제
US11681218B2 (en) * 2018-02-14 2023-06-20 Sumitomo Chemical Company, Limited Compound, resist composition and method for producing resist pattern
CN108752539B (zh) * 2018-05-28 2020-12-04 南昌大学 一种阳离子-自由基混杂型3d打印立体光刻快速成型光敏树脂及制备方法
CN112111064A (zh) * 2019-06-21 2020-12-22 湖北固润科技股份有限公司 一种可混杂光固化的含多硅的氧杂环丁烷类单体及其制备和应用
CN113493427A (zh) * 2020-04-03 2021-10-12 常州强力先端电子材料有限公司 通过微反应器合成氧杂环丁烷衍生物的合成方法
JP2023520477A (ja) * 2020-04-03 2023-05-17 常州強力先端電子材料有限公司 オキセタン誘導体をマイクロ反応器により合成する合成方法
US20220111582A1 (en) 2020-10-13 2022-04-14 Cabot Corporation Conductive photo-curable compositions for additive manufacturing

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3835003A (en) * 1968-08-20 1974-09-10 American Can Co Photopolymerization of oxetanes
US3696123A (en) * 1970-03-19 1972-10-03 Siegfried H Schroeter Dihydrocarbonoxyoxethanes
US3673216A (en) * 1970-05-01 1972-06-27 Gen Electric Alkoxyoxetanes
JPS4920958A (ja) * 1972-06-15 1974-02-23
AU497960B2 (en) * 1974-04-11 1979-01-25 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photopolymerizable compositions
US4058400A (en) * 1974-05-02 1977-11-15 General Electric Company Cationically polymerizable compositions containing group VIa onium salts
US4140847A (en) * 1974-10-01 1979-02-20 The Dow Chemical Company Polymers of oxetane-spiro-cyclic polyethers
MX143022A (es) * 1975-12-29 1981-02-10 Gen Electric Composicion mejorada estabilizada de policarbonato
DE3026503A1 (de) * 1980-07-12 1982-02-18 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Stabilisatorloesung, ihre verwendung zur stabilisierung von thermoplastischen polycarbonaten sowie stabilisierte thermoplastische polycarbonate
US4922157A (en) * 1987-06-26 1990-05-01 U.S. Philips Corp. Electrodeless low-pressure discharge lamp with thermally isolated magnetic core

Also Published As

Publication number Publication date
JPH11322735A (ja) 1999-11-24
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