JP3376935B2 - 帯状ワークの露光装置 - Google Patents
帯状ワークの露光装置Info
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/32—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
- G03B27/42—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera for automatic sequential copying of the same original
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機化合物のフィ
ルム、薄物金属等の長尺連続ワーク（以下帯状ワークと
いう）の表面にマスクパターンを露光するための帯状ワ
ークの露光装置に関する。
ルム、薄物金属等の長尺連続ワーク（以下帯状ワークと
いう）の表面にマスクパターンを露光するための帯状ワ
ークの露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】有機化合物のフィルム、薄物金属等の帯
状のワーク上に複数の各種電子素子等を形成するため、
ロール状に巻かれた帯状ワークをリールから引き出し
て、所定のパターン領域毎に搬送・停止し、マスクと帯
状ワークの各露光領域との位置合わせを行ったのちマス
クパターンをワーク上に露光する露光工程が行われる。
上記露光工程において使用される帯状ワークは通常長さ
が１００ｍほどあり、その搬送は、リールにロール状に
巻かれた状態からワークを引き出し、露光し、再びリー
ルに巻き取る方法で行われる。帯状ワークには、レジス
トや感光性ポリイミドのような感光性樹脂が塗布されて
いる。
状のワーク上に複数の各種電子素子等を形成するため、
ロール状に巻かれた帯状ワークをリールから引き出し
て、所定のパターン領域毎に搬送・停止し、マスクと帯
状ワークの各露光領域との位置合わせを行ったのちマス
クパターンをワーク上に露光する露光工程が行われる。
上記露光工程において使用される帯状ワークは通常長さ
が１００ｍほどあり、その搬送は、リールにロール状に
巻かれた状態からワークを引き出し、露光し、再びリー
ルに巻き取る方法で行われる。帯状ワークには、レジス
トや感光性ポリイミドのような感光性樹脂が塗布されて
いる。
【０００３】帯状ワークに露光するには、帯状ワークが
巻かれたリールを、送り出しロール部に取りつける。帯
状ワークは、搬送用の回転ローラと押えローラによって
狭持され、回転ローラが回転することで露光部に送られ
る。露光部において、帯状ワークは、ワークステージに
真空吸着によって固定され、光照射部より露光光がマス
クと投影レンズを介して帯状ワークに照射され、マスク
に形成されているマスクパターンが露光される。露光完
了後、帯状ワークをワークステージから固定解除し、回
転ローラが回転し、帯状ワークを次の露光領域に搬送す
る。露光が終了した帯状ワークは、巻き取りロール部に
取りつけられたリールに巻き取られる。
巻かれたリールを、送り出しロール部に取りつける。帯
状ワークは、搬送用の回転ローラと押えローラによって
狭持され、回転ローラが回転することで露光部に送られ
る。露光部において、帯状ワークは、ワークステージに
真空吸着によって固定され、光照射部より露光光がマス
クと投影レンズを介して帯状ワークに照射され、マスク
に形成されているマスクパターンが露光される。露光完
了後、帯状ワークをワークステージから固定解除し、回
転ローラが回転し、帯状ワークを次の露光領域に搬送す
る。露光が終了した帯状ワークは、巻き取りロール部に
取りつけられたリールに巻き取られる。
【０００４】従来、帯状ワークの幅は約１２５ｍｍであ
り、ワーク上には１列に並んで製品が作られていた。し
たがって、露光処理もマスクパターンを１列に露光する
だけで良かった。しかし、最近、１巻の帯状ワークから
より多くの製品が製作できるように、帯状ワークの幅を
広く、例えば、帯状ワークの幅を２５０ｍｍとし、ワー
ク上に２列に並んで製品を作る場合がある。したがっ
て、マスクパターンを２列に露光することが求められる
ようになった。
り、ワーク上には１列に並んで製品が作られていた。し
たがって、露光処理もマスクパターンを１列に露光する
だけで良かった。しかし、最近、１巻の帯状ワークから
より多くの製品が製作できるように、帯状ワークの幅を
広く、例えば、帯状ワークの幅を２５０ｍｍとし、ワー
ク上に２列に並んで製品を作る場合がある。したがっ
て、マスクパターンを２列に露光することが求められる
ようになった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来の装置で、帯状ワ
ークに２列のマスクパターンを露光しようとすると、送
り出しロール部に取りつけられたリールから帯状ワーク
を搬送し、まず第１列のパターンを露光する。第１列の
露光が終ると、帯状ワークは巻き取りロール部に取りつ
けられたリールに巻き取られる。第２列目を露光するに
は、第１列の露光を終えた帯状ワークが巻取られたリー
ルを巻き取りロール部から取り外し、送り出しロール部
に取りつける。即ちリールを掛け替える。再びリールか
ら帯状ワークを搬送し第２列目を露光する。露光が終了
した帯状ワークは、巻き取りロール部に取りつけられた
リールに巻き取られる。なお、第２列目の露光を行なう
装置は、第１列目を露光した装置と同じものを使用して
も良いし、別の装置を使用しても良い。
ークに２列のマスクパターンを露光しようとすると、送
り出しロール部に取りつけられたリールから帯状ワーク
を搬送し、まず第１列のパターンを露光する。第１列の
露光が終ると、帯状ワークは巻き取りロール部に取りつ
けられたリールに巻き取られる。第２列目を露光するに
は、第１列の露光を終えた帯状ワークが巻取られたリー
ルを巻き取りロール部から取り外し、送り出しロール部
に取りつける。即ちリールを掛け替える。再びリールか
ら帯状ワークを搬送し第２列目を露光する。露光が終了
した帯状ワークは、巻き取りロール部に取りつけられた
リールに巻き取られる。なお、第２列目の露光を行なう
装置は、第１列目を露光した装置と同じものを使用して
も良いし、別の装置を使用しても良い。
【０００６】従来においては上記のように１巻のワーク
に関し、露光開始から終了までの間に必ず「リール掛け
替え」という人的作業が発生し効率が悪かった。なお、
２列のパターンを形成したマスクを準備し、投影面積が
２倍の投影レンズを準備し、２列を一括して露光するよ
うにすれば、１巻のワークを「ロール掛け替え」を行な
うことなく露光処理できる。しかし、そのためには、非
常に太きな投影レンズが必要となる。大型のレンズ材料
は価格が非常に高価であり、コストが大幅にアッブす
る。また露光装置全体も大型化する。
に関し、露光開始から終了までの間に必ず「リール掛け
替え」という人的作業が発生し効率が悪かった。なお、
２列のパターンを形成したマスクを準備し、投影面積が
２倍の投影レンズを準備し、２列を一括して露光するよ
うにすれば、１巻のワークを「ロール掛け替え」を行な
うことなく露光処理できる。しかし、そのためには、非
常に太きな投影レンズが必要となる。大型のレンズ材料
は価格が非常に高価であり、コストが大幅にアッブす
る。また露光装置全体も大型化する。
【０００７】本発明は上記した事情に鑑みなされたもの
であって、装置が大型化することなく、また、ロールの
掛け替えを行なうことなく帯状ワークに複数列のマスク
パターンを露光することができる帯状ワークの露光装置
を提供することを目的とする。
であって、装置が大型化することなく、また、ロールの
掛け替えを行なうことなく帯状ワークに複数列のマスク
パターンを露光することができる帯状ワークの露光装置
を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明においては、上記
課題を次のようにして解決する。 （１）帯状ワークに、マスクに形成されたパターンを順
次に露光していく露光装置において、ワークステージ上
の帯状ワークを帯状ワークの長手方向に搬送するワーク
搬送機構に加え、送り出しロール部とワークステージの
間、および巻取りロール部とワークステージの間に、上
記帯状ワークを保持してワークステージ上の帯状ワーク
を帯状ワークの幅方向に移動するワーク移動機構を設け
る。制御部により上記ワーク搬送機構とワーク移動機構
を制御して、帯状ワークの搬送と、搬送方向に直交する
方向の移動を繰り返し、帯状ワークに複数列のマスクパ
ターンを露光する。これにより、ロールの掛け替えを行
なうことなく、また、装置を格別に太型化したり非常に
高価な大型の投影レンズを使用することなく、１巻の帯
状ワークに複数列のマスクパターンを露光することがで
きる。 （２）露光処理前の帯状ワークを収納する送り出しロー
ル部と、露光処理後の帯状ワークを収納する巻取りロー
ル部を、それぞれ帯状ワークの幅方向に移動させるロー
ル部移動機構とを設ける。そして、帯状ワークの搬送に
際して帯状ワークにねじれが生じないようにロール部移
動機構により帯状ワークを幅方向に移動させる。
課題を次のようにして解決する。 （１）帯状ワークに、マスクに形成されたパターンを順
次に露光していく露光装置において、ワークステージ上
の帯状ワークを帯状ワークの長手方向に搬送するワーク
搬送機構に加え、送り出しロール部とワークステージの
間、および巻取りロール部とワークステージの間に、上
記帯状ワークを保持してワークステージ上の帯状ワーク
を帯状ワークの幅方向に移動するワーク移動機構を設け
る。制御部により上記ワーク搬送機構とワーク移動機構
を制御して、帯状ワークの搬送と、搬送方向に直交する
方向の移動を繰り返し、帯状ワークに複数列のマスクパ
ターンを露光する。これにより、ロールの掛け替えを行
なうことなく、また、装置を格別に太型化したり非常に
高価な大型の投影レンズを使用することなく、１巻の帯
状ワークに複数列のマスクパターンを露光することがで
きる。 （２）露光処理前の帯状ワークを収納する送り出しロー
ル部と、露光処理後の帯状ワークを収納する巻取りロー
ル部を、それぞれ帯状ワークの幅方向に移動させるロー
ル部移動機構とを設ける。そして、帯状ワークの搬送に
際して帯状ワークにねじれが生じないようにロール部移
動機構により帯状ワークを幅方向に移動させる。
【０００９】
【発明の実施の形態】図１は本発明の実施例の露光装置
の構成例を示す図である。同図において、１は露光光を
照射する光照射装置、Ｍはマスクであり、マスクＭには
マスクアライメントマークＭＡＭ（以下、マスクマーク
ＭＡＭと略記する）が記されている。また、光照射装置
１とマスクＭとの間には、挿入・退避可能に取り付けら
れた部分照明系１１，１１’が設けられており、後述す
るように、マスクマークＭＡＭとワークアライメントマ
ークＷＡＭ（ワークマークＷＡＭと略記する）の位置合
わせをする際、上記部分照明系１１，１１’を同図に示
す位置に挿入し、部分照明系１１，１１’によりマスク
マークＭＡＭとワークマークＷＡＭを照明する。
の構成例を示す図である。同図において、１は露光光を
照射する光照射装置、Ｍはマスクであり、マスクＭには
マスクアライメントマークＭＡＭ（以下、マスクマーク
ＭＡＭと略記する）が記されている。また、光照射装置
１とマスクＭとの間には、挿入・退避可能に取り付けら
れた部分照明系１１，１１’が設けられており、後述す
るように、マスクマークＭＡＭとワークアライメントマ
ークＷＡＭ（ワークマークＷＡＭと略記する）の位置合
わせをする際、上記部分照明系１１，１１’を同図に示
す位置に挿入し、部分照明系１１，１１’によりマスク
マークＭＡＭとワークマークＷＡＭを照明する。
【００１０】２は投影レンズ、３はワークステージであ
り、ワークステージ３は図示しない真空吸着機構を備え
ており、真空吸着機構により帯状ワークＷｂを吸着して
保持する。５はＸＹＺθステージであり、ワークステー
ジ３をＸＹＺθ方向に駆動する（Ｘは同図の左右方向、
Ｙは同図紙面の前後方向、ＺはＸＹ軸に直交する方向、
θはＺ軸を中心とした回転である）。投影レンズ２とワ
ークステージ３の間には、アライメントユニット４が設
けられており、マスクＭと帯状ワークＷｂとの位置合わ
せを行うために使用される。アライメントユニット４は
受像素子４ａを備えており、受像素子４ａによりマスク
アライメントマークＭＡＭ像およびワークアライメント
マークＷＡＭ像を受像し、マスクＭと帯状ワークＷｂの
アライメントを行う。
り、ワークステージ３は図示しない真空吸着機構を備え
ており、真空吸着機構により帯状ワークＷｂを吸着して
保持する。５はＸＹＺθステージであり、ワークステー
ジ３をＸＹＺθ方向に駆動する（Ｘは同図の左右方向、
Ｙは同図紙面の前後方向、ＺはＸＹ軸に直交する方向、
θはＺ軸を中心とした回転である）。投影レンズ２とワ
ークステージ３の間には、アライメントユニット４が設
けられており、マスクＭと帯状ワークＷｂとの位置合わ
せを行うために使用される。アライメントユニット４は
受像素子４ａを備えており、受像素子４ａによりマスク
アライメントマークＭＡＭ像およびワークアライメント
マークＷＡＭ像を受像し、マスクＭと帯状ワークＷｂの
アライメントを行う。
【００１１】６は送り出しロール部であり、帯状ワーク
Ｗｂがロール状に巻かれた送り出しリール６ａが取り付
けられる。送り出しロール部６には移動機構１０が設け
られており、同図紙面の前後方向に移動可能に構成され
ている。また、７は巻き取りロール部であり、露光済の
帯状ワークＷｂを巻き取る巻き取りリール７ａが取り付
けられる。巻き取りロール部７には、移動機構１０’が
設けられており、同図紙面の前後方向に移動可能であ
る。送り出しリール６ａから送り出された帯状ワークＷ
ｂは案内用ローラＲ３，搬送用ローラＲ１，Ｒ２を介し
てワークステージ３上に搬送され、投影レンズ２の露光
領域内に位置決めされる。そして、マスクＭと帯状ワー
クＷｂの位置合わせ終了後、露光処理が行なわれる。
Ｗｂがロール状に巻かれた送り出しリール６ａが取り付
けられる。送り出しロール部６には移動機構１０が設け
られており、同図紙面の前後方向に移動可能に構成され
ている。また、７は巻き取りロール部であり、露光済の
帯状ワークＷｂを巻き取る巻き取りリール７ａが取り付
けられる。巻き取りロール部７には、移動機構１０’が
設けられており、同図紙面の前後方向に移動可能であ
る。送り出しリール６ａから送り出された帯状ワークＷ
ｂは案内用ローラＲ３，搬送用ローラＲ１，Ｒ２を介し
てワークステージ３上に搬送され、投影レンズ２の露光
領域内に位置決めされる。そして、マスクＭと帯状ワー
クＷｂの位置合わせ終了後、露光処理が行なわれる。
【００１２】露光処理済帯状ワークＷｂは、搬送用ロー
ラＲ１’、Ｒ２’案内用ローラＲ３’を介して巻き取り
リール７ａに巻き取られる。また、送り出しリール６ａ
と案内用ローラＲ３の間、および、案内用ローラＲ３’
と巻き取りリール７ａの間の帯状ワークＷｂには弛み部
Ｃが設けられており、この弛み部Ｃにより、マスクとワ
ークの位置合わせ時および後述するワークを搬送方向と
直交する方向へ移動する時の、帯状ワークの移動余裕を
確保し、帯状ワークＷｂに所定以上のストレスが加わる
のを防止している。８，８’はワーク吸着機構であり、
ワーク吸着機構８，８’は同図Ａに示すように、真空供
給管路８ａを備えており該管路８ａに真空を供給するこ
とにより帯状ワークＷｂを吸着することができる。
ラＲ１’、Ｒ２’案内用ローラＲ３’を介して巻き取り
リール７ａに巻き取られる。また、送り出しリール６ａ
と案内用ローラＲ３の間、および、案内用ローラＲ３’
と巻き取りリール７ａの間の帯状ワークＷｂには弛み部
Ｃが設けられており、この弛み部Ｃにより、マスクとワ
ークの位置合わせ時および後述するワークを搬送方向と
直交する方向へ移動する時の、帯状ワークの移動余裕を
確保し、帯状ワークＷｂに所定以上のストレスが加わる
のを防止している。８，８’はワーク吸着機構であり、
ワーク吸着機構８，８’は同図Ａに示すように、真空供
給管路８ａを備えており該管路８ａに真空を供給するこ
とにより帯状ワークＷｂを吸着することができる。
【００１３】ワーク吸着機構８，８’、ローラＲ１〜Ｒ
３、Ｒ１’〜Ｒ３’はベースプレートに取り付けられた
レールと係合する移動機構９，９’に取り付けられてお
り、移動機構９，９’により、これらが一体で同図紙面
の前後方向に移動可能に構成されている。これらを移動
させることにより、帯状ワークＷｂを保持した状態で、
搬送方向に直交する方向に移動させることができる。さ
らに、ローラＲ１，Ｒ１’は同図の矢印方向に移動可能
に構成されており、帯状ワークＷｂを搬送するとき、ロ
ーラＲ１，Ｒ１’は下方向に移動し帯状ワークＷｂをロ
ーラＲ１とＲ２、ローラＲ１’とＲ２’で挟む。
３、Ｒ１’〜Ｒ３’はベースプレートに取り付けられた
レールと係合する移動機構９，９’に取り付けられてお
り、移動機構９，９’により、これらが一体で同図紙面
の前後方向に移動可能に構成されている。これらを移動
させることにより、帯状ワークＷｂを保持した状態で、
搬送方向に直交する方向に移動させることができる。さ
らに、ローラＲ１，Ｒ１’は同図の矢印方向に移動可能
に構成されており、帯状ワークＷｂを搬送するとき、ロ
ーラＲ１，Ｒ１’は下方向に移動し帯状ワークＷｂをロ
ーラＲ１とＲ２、ローラＲ１’とＲ２’で挟む。
【００１４】図２は、図１に示した露光装置における第
１列目と第２列目の露光動作を説明する図であり、同図
は、図１のＢ方向から見た図を示しており、同図（ａ）
は第１列目の露光時の状態、同図（ｂ）は第２列目の露
光時の状態を示している。第１列目の露光時には、図２
（ａ）に示すように、帯状ワークＷｂの第１列目の第１
の露光領域が、ワークステージ３上のマスクパターンが
投影される位置に真空吸着される。そして、ＸＹＺθス
テージ５によりワークステージ３を移動させマスクＭと
帯状ワークＷｂの位置合わせを行ったのち、光照射装置
１から、露光光を、マスクＭと投影レンズ２を介して帯
状ワークＷｂに照射し、マスクパターンを帯状ワークの
第１の露光領域に転写する。
１列目と第２列目の露光動作を説明する図であり、同図
は、図１のＢ方向から見た図を示しており、同図（ａ）
は第１列目の露光時の状態、同図（ｂ）は第２列目の露
光時の状態を示している。第１列目の露光時には、図２
（ａ）に示すように、帯状ワークＷｂの第１列目の第１
の露光領域が、ワークステージ３上のマスクパターンが
投影される位置に真空吸着される。そして、ＸＹＺθス
テージ５によりワークステージ３を移動させマスクＭと
帯状ワークＷｂの位置合わせを行ったのち、光照射装置
１から、露光光を、マスクＭと投影レンズ２を介して帯
状ワークＷｂに照射し、マスクパターンを帯状ワークの
第１の露光領域に転写する。
【００１５】第１の露光領域の露光が終わると、ワーク
ステージ３の真空吸着を解除するとともに、ワーク吸着
機構８．８’の真空供給管路８ａに真空を供給して帯状
ワークＷｂを保持し、ワーク吸着機構８，８’とローラ
Ｒ２，Ｒ２’ローラＲ３，Ｒ３’を図２（ｂ）の矢印の
方向に帯状ワークの幅に対しておよそ半分の距離だけ移
動させ、第２列目の第２の露光領域が、ワークステージ
３上のマスクパターンが投影される位置に来るようにす
る。そして、ワークステージ３により帯状ワークＷｂを
吸着固定し、前記したのと同様、マスクＭと帯状ワーク
Ｗｂの位置合わせを行ったのち、マスクパターンを帯状
ワークの第２の露光領域に転写する。第２の露光領域の
露光が終了すると、帯状ワークＷｂを搬送し、次の露光
領域の露光を行う。
ステージ３の真空吸着を解除するとともに、ワーク吸着
機構８．８’の真空供給管路８ａに真空を供給して帯状
ワークＷｂを保持し、ワーク吸着機構８，８’とローラ
Ｒ２，Ｒ２’ローラＲ３，Ｒ３’を図２（ｂ）の矢印の
方向に帯状ワークの幅に対しておよそ半分の距離だけ移
動させ、第２列目の第２の露光領域が、ワークステージ
３上のマスクパターンが投影される位置に来るようにす
る。そして、ワークステージ３により帯状ワークＷｂを
吸着固定し、前記したのと同様、マスクＭと帯状ワーク
Ｗｂの位置合わせを行ったのち、マスクパターンを帯状
ワークの第２の露光領域に転写する。第２の露光領域の
露光が終了すると、帯状ワークＷｂを搬送し、次の露光
領域の露光を行う。
【００１６】図３は、本実施例における帯状ワークＷｂ
の露光順序を説明する図である。同図に示すように、第
１列目の露光を行ったのち、帯状ワークＷｂを搬送方
向と直交する方向に移動させ、第２列目の露光を行
う。ついで、帯状ワークＷｂを次の露光領域まで搬送
し、第２列目の露光を行ったのち、帯状ワークＷｂを
搬送方向とは直交する方向に移動させ第１列目の露光
を行う。以下同様にして〜の露光を行う。なお、図
３では、「搬送方向への移動→第１列目の露光処理→搬
送方向と直交する方向への移動→第２列目の露光処理→
搬送方向への移動→第２列目の露光処理→搬送方向と直
交する方向への移動→第１列目の露光処理→…」の順序
で露光する場合について示したが、例えば、「搬送方向
への移動→第１列目の露光処理→搬送方向と直交する方
向への移動→第２列目の露光処理→搬送方向と直交する
方向への移動→搬送方向への移動→第１列目の露光処理
→…」の順序で露光する等、露光順序は必要に応じて適
宜、選択することができる。また、図３では帯状ワーク
上に２列に露光する場合について示したが、帯状ワーク
の直交方向の移動量を適宜選択することにより、帯状ワ
ークに３列以上露光することもできる。
の露光順序を説明する図である。同図に示すように、第
１列目の露光を行ったのち、帯状ワークＷｂを搬送方
向と直交する方向に移動させ、第２列目の露光を行
う。ついで、帯状ワークＷｂを次の露光領域まで搬送
し、第２列目の露光を行ったのち、帯状ワークＷｂを
搬送方向とは直交する方向に移動させ第１列目の露光
を行う。以下同様にして〜の露光を行う。なお、図
３では、「搬送方向への移動→第１列目の露光処理→搬
送方向と直交する方向への移動→第２列目の露光処理→
搬送方向への移動→第２列目の露光処理→搬送方向と直
交する方向への移動→第１列目の露光処理→…」の順序
で露光する場合について示したが、例えば、「搬送方向
への移動→第１列目の露光処理→搬送方向と直交する方
向への移動→第２列目の露光処理→搬送方向と直交する
方向への移動→搬送方向への移動→第１列目の露光処理
→…」の順序で露光する等、露光順序は必要に応じて適
宜、選択することができる。また、図３では帯状ワーク
上に２列に露光する場合について示したが、帯状ワーク
の直交方向の移動量を適宜選択することにより、帯状ワ
ークに３列以上露光することもできる。
【００１７】図４は本実施例の露光装置の制御装置の構
成を示す図である。同図において、４はアライメントユ
ニットであり、前記したようにマスクアライメントマー
クＭＡＭ像とワークアライメントマークＷＡＭ像を受像
する受像素子４ａを備えている。そして、受像素子４ａ
により受像された上記アライメントマーク像は画像処理
部２１に送られ、画像処理部２１において画像処理され
その位置が検出される。２２はモニタであり、モニタ２
２上に上記受像素子４ａで受像された画像が表示され
る。３１は、帯状ワークＷｂの搬送を制御するワーク搬
送制御機構であり、搬送用ローラＲ１、Ｒ２及びＲ
１’、Ｒ２’を駆動して帯状ワークＷｂをワークの長手
方向に搬送する。３２は、帯状ワークＷｂを搬送方向と
直交する方向に移動させるワーク移動制御機構であり、
一体として構成されたワーク吸着機構８．８’ローラＲ
１〜Ｒ３，Ｒ１’〜Ｒ３’を、移動機構９．９’により
移動させる。３３は部分照明系１１，１１’の退避・挿
入を制御する部分照明系駆動機構、３４はワークステー
ジ３を駆動するステージ駆動機構、３５はアライメント
ユニット４の位置を制御するアライメント系駆動機構で
ある。
成を示す図である。同図において、４はアライメントユ
ニットであり、前記したようにマスクアライメントマー
クＭＡＭ像とワークアライメントマークＷＡＭ像を受像
する受像素子４ａを備えている。そして、受像素子４ａ
により受像された上記アライメントマーク像は画像処理
部２１に送られ、画像処理部２１において画像処理され
その位置が検出される。２２はモニタであり、モニタ２
２上に上記受像素子４ａで受像された画像が表示され
る。３１は、帯状ワークＷｂの搬送を制御するワーク搬
送制御機構であり、搬送用ローラＲ１、Ｒ２及びＲ
１’、Ｒ２’を駆動して帯状ワークＷｂをワークの長手
方向に搬送する。３２は、帯状ワークＷｂを搬送方向と
直交する方向に移動させるワーク移動制御機構であり、
一体として構成されたワーク吸着機構８．８’ローラＲ
１〜Ｒ３，Ｒ１’〜Ｒ３’を、移動機構９．９’により
移動させる。３３は部分照明系１１，１１’の退避・挿
入を制御する部分照明系駆動機構、３４はワークステー
ジ３を駆動するステージ駆動機構、３５はアライメント
ユニット４の位置を制御するアライメント系駆動機構で
ある。
【００１８】３６は送り出し／巻き取りロール部駆動制
御機構であり、送り出しロール部６、巻き取りロール部
７を、それぞれに設けられた移動機構１０，１０’によ
り移動させる。制御部２０は、上記各種制御機構、駆動
機構を介して帯状ワークＷｂの搬送、移動、位置決めを
行い、前記図３で説明した順序の露光処理ができるよう
に帯状ワークＷｂを移動させる。また、帯状ワークＷｂ
が搬送方向と直交する方向へ移動した時は、次に帯状ワ
ークＷｂが搬送方向へ搬送されるまでの間に、送り出し
／巻き取りロール部駆動制御機構３６により、送り出し
ロール部６、巻き取りロール部７を、帯状ワークＷｂが
移動した方向に、同じ距離だけ移動させる。さらに、画
像処理部２１において検出されたマスクアライメントマ
ークＭＡＭ、ワークアライメントマークＷＡＭの位置に
基づきマスクＭと帯状ワークＷｂの各パターン領域との
アライメント、帯状ワークＷｂの露光処理を制御する。
御機構であり、送り出しロール部６、巻き取りロール部
７を、それぞれに設けられた移動機構１０，１０’によ
り移動させる。制御部２０は、上記各種制御機構、駆動
機構を介して帯状ワークＷｂの搬送、移動、位置決めを
行い、前記図３で説明した順序の露光処理ができるよう
に帯状ワークＷｂを移動させる。また、帯状ワークＷｂ
が搬送方向と直交する方向へ移動した時は、次に帯状ワ
ークＷｂが搬送方向へ搬送されるまでの間に、送り出し
／巻き取りロール部駆動制御機構３６により、送り出し
ロール部６、巻き取りロール部７を、帯状ワークＷｂが
移動した方向に、同じ距離だけ移動させる。さらに、画
像処理部２１において検出されたマスクアライメントマ
ークＭＡＭ、ワークアライメントマークＷＡＭの位置に
基づきマスクＭと帯状ワークＷｂの各パターン領域との
アライメント、帯状ワークＷｂの露光処理を制御する。
【００１９】次に、本実施例の露光動作について説明す
る。 （１）ローラＲ１とＲ２、Ｒ１’とＲ２’により帯状ワ
ークＷｂを狭持し、帯状ワークＷｂが搬送され、図２
（ａ）に示すように第１列目の第１の露光領域が、ワー
クステージ３上のマスクパターンが投影される位置にく
ると、帯状ワークＷｂはワークステージ３により真空吸
着される。なお、帯状ワークＷｂの搬送・アライメント
・露光時には、ワーク吸着機構８，８’の真空供給管路
８ａには真空は供給されていない。
る。 （１）ローラＲ１とＲ２、Ｒ１’とＲ２’により帯状ワ
ークＷｂを狭持し、帯状ワークＷｂが搬送され、図２
（ａ）に示すように第１列目の第１の露光領域が、ワー
クステージ３上のマスクパターンが投影される位置にく
ると、帯状ワークＷｂはワークステージ３により真空吸
着される。なお、帯状ワークＷｂの搬送・アライメント
・露光時には、ワーク吸着機構８，８’の真空供給管路
８ａには真空は供給されていない。
【００２０】（２）ローラＲ１とＲ１’とが上昇して帯
状ワークＷｂの狭持を解除する。退避していたアライメ
ントユニット４と部分照明系１１とが、露光領域範囲内
に挿入され、マスクＭと帯状ワークＷｂの位置合わせが
行なわれる。すなわち、部分照明系１１，１１’からア
ライメント光（露光光）が照射され、マスクマークＭＡ
Ｍが投影レンズ２を介して帯状ワークＷｂ上に投影され
る。アライメントユニット４の受像素子４ａにより、マ
スクマークＭＡＭの投影像とワークマークＷＡＭとを検
出しその位置を記憶する。制御部２０は、マスクマーク
ＭＡＭとワークマークＷＡＭとが一致するように、ワー
クステージ駆動機構３４によりＸＹＺθステージを駆動
し、ワークステージ３を移動させる。上記位置合わせ動
作により、帯状ワークＷｂはＸＹθ方向に移動するが、
前記弛み部Ｃにおいて、帯状ワークＷｂに発生するねじ
れのストレスが吸収される。位置合わせ終了後、アライ
メントユニット４と部分照明系１１とを露光領域範囲外
に退避する。
状ワークＷｂの狭持を解除する。退避していたアライメ
ントユニット４と部分照明系１１とが、露光領域範囲内
に挿入され、マスクＭと帯状ワークＷｂの位置合わせが
行なわれる。すなわち、部分照明系１１，１１’からア
ライメント光（露光光）が照射され、マスクマークＭＡ
Ｍが投影レンズ２を介して帯状ワークＷｂ上に投影され
る。アライメントユニット４の受像素子４ａにより、マ
スクマークＭＡＭの投影像とワークマークＷＡＭとを検
出しその位置を記憶する。制御部２０は、マスクマーク
ＭＡＭとワークマークＷＡＭとが一致するように、ワー
クステージ駆動機構３４によりＸＹＺθステージを駆動
し、ワークステージ３を移動させる。上記位置合わせ動
作により、帯状ワークＷｂはＸＹθ方向に移動するが、
前記弛み部Ｃにおいて、帯状ワークＷｂに発生するねじ
れのストレスが吸収される。位置合わせ終了後、アライ
メントユニット４と部分照明系１１とを露光領域範囲外
に退避する。
【００２１】なお、マスクＭと帯状ワークＷｂの位置合
わせに関しては次の手順でも良い。アライメントユニッ
ト４にワークマークＷＡＭ照明用の第２の部分照明系
（非露光光）を設ける。そして、以下の手順でアライメ
ントを行う。 部分照明系１１，１１’からアライメント光（露光
光）を照射する。マスクマークＭＡＭは投影レンズ２を
介して帯状ワークＷｂ上に投影される。 アライメントユニット４の受像素子４ａにより、マ
スクマークＭＡＭの投影像を検出しその位置を記憶す
る。部分照明系１１，１１’からアライメント光の照射
を停止する。 第２の部分照明系（非露光光）によりワークマーク
ＷＡＭを照明し、ワークマークＷＡＭを受像素子４ａに
より検出する。記憶したマスクマークＭＡＭと検出した
ワークマークＷＡＭとが一致するようにＸＹＺθステー
ジ５をＸＹθ方向に駆動し、ワークステージ３を移動さ
せる。
わせに関しては次の手順でも良い。アライメントユニッ
ト４にワークマークＷＡＭ照明用の第２の部分照明系
（非露光光）を設ける。そして、以下の手順でアライメ
ントを行う。 部分照明系１１，１１’からアライメント光（露光
光）を照射する。マスクマークＭＡＭは投影レンズ２を
介して帯状ワークＷｂ上に投影される。 アライメントユニット４の受像素子４ａにより、マ
スクマークＭＡＭの投影像を検出しその位置を記憶す
る。部分照明系１１，１１’からアライメント光の照射
を停止する。 第２の部分照明系（非露光光）によりワークマーク
ＷＡＭを照明し、ワークマークＷＡＭを受像素子４ａに
より検出する。記憶したマスクマークＭＡＭと検出した
ワークマークＷＡＭとが一致するようにＸＹＺθステー
ジ５をＸＹθ方向に駆動し、ワークステージ３を移動さ
せる。
【００２２】（３）光照射装置１から、露光光を、マス
クＭと投影レンズ２を介して帯状ワークＷｂに照射し、
マスクパターンを帯状ワークＷｂに転写する。第１の露
光領域の露光処理を終える。 （４）ワーク吸着機構８，８’の真空供給管路８ａに真
空を供給し、帯状ワークＷｂを保持する。その際、ロー
ラＲ１とＲ１’とは下降して帯状ワークＷｂを狭持して
も良いが、開放したままでもかまわない。ワークステー
ジ３の真空吸着を解除し、ＸＹＺθステージ５のＺステ
ージによりワークステージ３を微小下降させ、ワークス
テージ３の真空吸着孔からエアーを噴出する。
クＭと投影レンズ２を介して帯状ワークＷｂに照射し、
マスクパターンを帯状ワークＷｂに転写する。第１の露
光領域の露光処理を終える。 （４）ワーク吸着機構８，８’の真空供給管路８ａに真
空を供給し、帯状ワークＷｂを保持する。その際、ロー
ラＲ１とＲ１’とは下降して帯状ワークＷｂを狭持して
も良いが、開放したままでもかまわない。ワークステー
ジ３の真空吸着を解除し、ＸＹＺθステージ５のＺステ
ージによりワークステージ３を微小下降させ、ワークス
テージ３の真空吸着孔からエアーを噴出する。
【００２３】（５）制御部２０は、ワーク移動制御機構
３２により、ワーク吸着機構８，８’とローラＲ２，Ｒ
２’ローラＲ３，Ｒ３’を、前記図２（ｂ）に示したよ
うに、帯状ワークの幅に対しておよそ半分の距離だけ移
動させる。第２列目の第２の露光領域が、ワークステー
ジ３上のマスクパターンが投影される位置に来る。 （６）ワークステージ３からのエアーの噴き出しを止め
る。また、ワークステージ３に真空を供給し、ワークス
テージ３を下降していた分上昇させ、帯状ワークＷｂを
吸着・固定する。ワーク吸着機構８，８’の真空供給管
路８ａへの真空の供給を止める。 （７）上記（２）〜（３）と同様にマスクＭと帯状ワー
クＷｂの位置合わせ、第２の露光領域の露光処理を行な
う。
３２により、ワーク吸着機構８，８’とローラＲ２，Ｒ
２’ローラＲ３，Ｒ３’を、前記図２（ｂ）に示したよ
うに、帯状ワークの幅に対しておよそ半分の距離だけ移
動させる。第２列目の第２の露光領域が、ワークステー
ジ３上のマスクパターンが投影される位置に来る。 （６）ワークステージ３からのエアーの噴き出しを止め
る。また、ワークステージ３に真空を供給し、ワークス
テージ３を下降していた分上昇させ、帯状ワークＷｂを
吸着・固定する。ワーク吸着機構８，８’の真空供給管
路８ａへの真空の供給を止める。 （７）上記（２）〜（３）と同様にマスクＭと帯状ワー
クＷｂの位置合わせ、第２の露光領域の露光処理を行な
う。
【００２４】（８）第２の露光領域の露光処理終了時、
帯状ワークＷｂは、露光処理部近辺のみ帯状ワークＷｂ
の幅方向に移動しているので、前記弛み部Ｃにおいて、
ねじれが生じている。この状態では、帯状ワークＷｂを
搬送させると、帯状ワークＷｂに対して大きなねじれの
ストレスが生じるので、帯状ワークＷｂの蛇行・変形・
損傷等が発生する可能性がある。したがって、制御部２
０は、送り出し／巻き取りロール部駆動制御機構３６に
より移動機構１０，１０’を駆動して、送り出しロール
部６、巻き取りロール部７を帯状ワークＷｂが移動した
方向と同じ方向に、同じ移動距離だけ移動させる。この
送り出しロール部６、巻き取りロール部７の移動は、上
記（５）のワーク吸着機構８，８’の移動と同時に行な
っても良いが、ワーク吸着機構８，８’による帯状ワー
クＷｂの移動から、第２の露光領域の露光処理が終了
し、次の第３の露光領域に帯状ワークＷｂが搬送される
までの間であれば、いつでも良い。
帯状ワークＷｂは、露光処理部近辺のみ帯状ワークＷｂ
の幅方向に移動しているので、前記弛み部Ｃにおいて、
ねじれが生じている。この状態では、帯状ワークＷｂを
搬送させると、帯状ワークＷｂに対して大きなねじれの
ストレスが生じるので、帯状ワークＷｂの蛇行・変形・
損傷等が発生する可能性がある。したがって、制御部２
０は、送り出し／巻き取りロール部駆動制御機構３６に
より移動機構１０，１０’を駆動して、送り出しロール
部６、巻き取りロール部７を帯状ワークＷｂが移動した
方向と同じ方向に、同じ移動距離だけ移動させる。この
送り出しロール部６、巻き取りロール部７の移動は、上
記（５）のワーク吸着機構８，８’の移動と同時に行な
っても良いが、ワーク吸着機構８，８’による帯状ワー
クＷｂの移動から、第２の露光領域の露光処理が終了
し、次の第３の露光領域に帯状ワークＷｂが搬送される
までの間であれば、いつでも良い。
【００２５】（９）ローラＲ１とＲ１’とが下降してロ
ーラＲ２，Ｒ２’との間で帯状ワークを狭持する。ワー
クステージ３の真空吸着を解除し、ＸＹＺθステージ５
のＺステージによりワークステージ３を微小下降させ、
ワークステージ３の真空吸着孔からエアーを噴出する。
ローラＲ２’とＲ１’が回転し、帯状ワークを搬送す
る。これにより、第２列目の第３の露光領域が、ワーク
ステージ３上に搬送される。 （１０）上記動作を繰り返して、例えば、前記図３のよ
うに、第１列目、第２列目の露光領域を交互に露光して
いく。なお、帯状ワークＷｂにあらかじめワークマーク
ＭＡＭが形成されていないような場合、即ち、帯状ワー
クＷｂに最初のマスクパターンを露光する場合には、上
記 （２）（７）におけるマスクとワークの位置合わせ
を行う必要はない。
ーラＲ２，Ｒ２’との間で帯状ワークを狭持する。ワー
クステージ３の真空吸着を解除し、ＸＹＺθステージ５
のＺステージによりワークステージ３を微小下降させ、
ワークステージ３の真空吸着孔からエアーを噴出する。
ローラＲ２’とＲ１’が回転し、帯状ワークを搬送す
る。これにより、第２列目の第３の露光領域が、ワーク
ステージ３上に搬送される。 （１０）上記動作を繰り返して、例えば、前記図３のよ
うに、第１列目、第２列目の露光領域を交互に露光して
いく。なお、帯状ワークＷｂにあらかじめワークマーク
ＭＡＭが形成されていないような場合、即ち、帯状ワー
クＷｂに最初のマスクパターンを露光する場合には、上
記 （２）（７）におけるマスクとワークの位置合わせ
を行う必要はない。
【００２６】
【発明の効果】以上説明したように本発明においては、
以下の効果を得ることができる。 （ｌ）帯状ワークを、搬送方向に対して直交する方向に
移動させることにより、複数列の露光が可能であり、ロ
ールの掛け替えを行なうことなく、１巻の帯状ワークに
複数列のマスクパターンを露光することができる。 （２）帯状ワークを搬送方向に対して直交する方向ヘ移
動させる移動機構を設け、その移動スペースを確保する
のみで、装置を格別に太型化することなく、また非常に
高価な大型の投影レンズを使用することなく、１巻の帯
状ワークに複数列のマスクパターンを露光することがで
きる。
以下の効果を得ることができる。 （ｌ）帯状ワークを、搬送方向に対して直交する方向に
移動させることにより、複数列の露光が可能であり、ロ
ールの掛け替えを行なうことなく、１巻の帯状ワークに
複数列のマスクパターンを露光することができる。 （２）帯状ワークを搬送方向に対して直交する方向ヘ移
動させる移動機構を設け、その移動スペースを確保する
のみで、装置を格別に太型化することなく、また非常に
高価な大型の投影レンズを使用することなく、１巻の帯
状ワークに複数列のマスクパターンを露光することがで
きる。
【図１】本発明の実施例の露光装置の全体構成を示す図
である。
である。
【図２】図１に示した露光装置における帯状ワークの露
光動作を説明する図である。
光動作を説明する図である。
【図３】本発明の実施例における帯状ワークの露光順序
を説明する図である。
を説明する図である。
【図４】本発明の実施例の露光装置の制御装置の構成を
示す図である。
示す図である。
１ 光照射装置
２ 投影レンズ
３ ワークステージ
４ アライメントユニット
４ａ 受像素子
５ ＸＹθＺステージ
６ 送り出しロール部
６ａ 送り出しリール
７ 巻き取りロール部
７ａ 巻き取りリール
８，８’ ワーク吸着機構
８ａ 真空供給管路
９，９’ 移動機構
１０，１０’ 移動機構
１１，１１’ 部分照明系
２０ 制御部
２１ 画像処理部
２２ モニタ
３１ ワーク搬送制御機構
３２ ワーク移動制御機構
３３ 部分照明系駆動機構
３４ ワークステージ駆動機構
３５ アライメント系駆動機構
３６ 送り出し／巻き取りロール部駆動制
御機構 Ｍ マスク ＭＡＭ マスクアライメントマーク ＷＡＭ ワークアライメントマーク Ｒ１〜Ｒ３ ローラ Ｒ１’〜Ｒ３’ ローラ Ｗｂ 帯状ワーク
御機構 Ｍ マスク ＭＡＭ マスクアライメントマーク ＷＡＭ ワークアライメントマーク Ｒ１〜Ｒ３ ローラ Ｒ１’〜Ｒ３’ ローラ Ｗｂ 帯状ワーク
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フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G03F 7/20 - 7/24
G03F 9/00 - 9/02
Claims (2)
- 【請求項１】 帯状ワークに、マスクに形成されたパタ
ーンを順次に露光していく露光装置であって、露光処理前の帯状ワークを収納する送り出しロール部
と、露光処理後の帯状ワークを収納する巻取りロール部
と、 ワークステージ上の帯状ワークを帯状ワークの長手
方向に搬送するワーク搬送機構と、上記送り出しロール部とワークステージの間、および上
記巻取りロール部とワークステージの間に設けられ、上
記帯状ワークを保持して、 ワークステージ上の帯状ワー
クを帯状ワークの幅方向に移動させるワーク移動機構
と、ワーク搬送機構とワーク移動機構とを駆動制御する
制御部とを備え、 上記制御部により、上記ワーク搬送機構とワーク移動機
構による帯状ワークの搬送と移動を繰り返し、帯状ワー
クに複数列のマスクパターンを露光することを特徴とす
る帯状ワークの露光装置。 - 【請求項２】 上記送り出しロール部と上記巻取りロー
ル部のそれぞれを、帯状ワークの幅方向に移動させるロ
ール部移動機構を備え、 上記制御部は、ワーク搬送機構の駆動による帯状ワーク
の長手方向の搬送開始前に、上記ロール部移動機構によ
って送り出しロール部と巻取りロール部のそれぞれを帯
状ワークの幅方向に移動することを特徴とする請求項１
記載の帯状ワークの露光装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01548899A JP3376935B2 (ja) | 1999-01-25 | 1999-01-25 | 帯状ワークの露光装置 |
| TW088118910A TW449527B (en) | 1999-01-25 | 1999-10-30 | Aligner for belt-like work |
| KR1020000002879A KR100562890B1 (ko) | 1999-01-25 | 2000-01-21 | 띠형상 워크의 노광장치 |
| EP00101459A EP1022616B1 (en) | 1999-01-25 | 2000-01-25 | Exposure device for a strip-shaped workpiece |
| DE60044107T DE60044107D1 (de) | 1999-01-25 | 2000-01-25 | Belichtungsgerät für bandförmiges Material |
| US09/492,838 US6819424B1 (en) | 1999-01-25 | 2000-01-27 | Exposure device for a strip-shaped workpiece |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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| KR (1) | KR100562890B1 (ja) |
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| JP2005321505A (ja) * | 2004-05-07 | 2005-11-17 | Kokusai Gijutsu Kaihatsu Co Ltd | 露光装置 |
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| JP4604163B2 (ja) * | 2004-10-06 | 2010-12-22 | 国際技術開発株式会社 | 露光装置 |
| JP4542495B2 (ja) * | 2005-10-19 | 2010-09-15 | 株式会社目白プレシジョン | 投影露光装置及びその投影露光方法 |
| JP5487981B2 (ja) * | 2009-01-30 | 2014-05-14 | 株式会社ニコン | 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 |
| US8264666B2 (en) * | 2009-03-13 | 2012-09-11 | Nikon Corporation | Exposure apparatus, exposure method, and method of manufacturing device |
| JP5534549B2 (ja) * | 2009-03-13 | 2014-07-02 | 株式会社ニコン | 転写装置、転写方法、及びデバイス製造方法 |
| TWI604550B (zh) * | 2012-04-13 | 2017-11-01 | 尼康股份有限公司 | 匣裝置、基板搬送裝置、基板處理裝置、及基板處理方法 |
| CN107077080B (zh) * | 2015-01-15 | 2019-04-26 | 株式会社村田制作所 | 曝光装置 |
| JP6818395B2 (ja) * | 2016-12-22 | 2021-01-20 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置 |
| JP7089920B2 (ja) | 2018-03-29 | 2022-06-23 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置 |
| JP7175149B2 (ja) * | 2018-09-27 | 2022-11-18 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置および露光方法 |
| JP6729954B1 (ja) * | 2019-10-18 | 2020-07-29 | 株式会社 ベアック | 露光装置 |
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|---|---|---|---|---|
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| US4097143A (en) * | 1976-12-13 | 1978-06-27 | Microfilm Service Corporation | Step-and-repeat camera |
| US5198857A (en) * | 1990-03-30 | 1993-03-30 | Ushio Denski Kabushiki Kaisha | Film exposure apparatus and method of exposure using the same |
| US5652645A (en) * | 1995-07-24 | 1997-07-29 | Anvik Corporation | High-throughput, high-resolution, projection patterning system for large, flexible, roll-fed, electronic-module substrates |
| JPH09230610A (ja) | 1996-02-22 | 1997-09-05 | Ushio Inc | 投影露光方法および装置 |
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1999
- 1999-01-25 JP JP01548899A patent/JP3376935B2/ja not_active Expired - Fee Related
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