KR100562890B1

KR100562890B1 - 띠형상 워크의 노광장치

Info

Publication number: KR100562890B1
Application number: KR1020000002879A
Authority: KR
Inventors: 혼마준
Original assignee: 우시오덴키 가부시키가이샤
Priority date: 1999-01-25
Filing date: 2000-01-21
Publication date: 2006-03-24
Also published as: DE60044107D1; JP2000214595A; KR20000057786A; US6819424B1; TW449527B; EP1022616A3; EP1022616B1; JP3376935B2; EP1022616A2

Abstract

본 발명은, 장치가 대형화하지 않고, 롤의 교환을 행하지 않으며 띠형상 워크에 복수열의 마스크 패턴을 노광할 수 있도록 한 것이다.

띠형상 워크(Wb)를 반송하고, 제1열째의 제1 노광영역이 워크 스테이지(3) 상의 투영위치에 오면, 띠형상 워크(Wb)를 진공흡착하고, 마스크(M)와 띠형상 워크(Wb)의 위치맞춤을 행하는 제1 노광영역의 노광처리를 행한다. 다음에 워크 흡착기구(8, 8')에 의해 띠형상 워크(Wb)를 유지하고, 이동기구(9, 9')를 구동하여 워크 띠형상 워크(Wb)를 반송방향과 직교하는 방향으로 이동시켜, 제2열째의 제2 노광영역이 워크 스테이지(3) 상의 투영위치에 오도록 한다. 그리고 마스크(M)와 띠형상 워크(Wb)의 위치맞춤을 행하고, 제2 노광영역의 노광처리를 행한다. 이하 동일하게 띠형상 워크(Wb)의 반송과, 반송방향에 직교하는 방향의 이동을 반복하여, 띠형상 워크(Wb)의 제1열째, 제2열째의 노광을 행한다.

Description

띠형상 워크의 노광장치{Exposing apparatus for band-shaped work}

도1은 본 발명의 실시예의 노광장치의 전체 구성을 도시하는 도면이다.

도2는 도1에 도시한 노광장치에서의 띠형상 워크의 노광동작을 설명하는 도면이다.

도3은 본 발명의 실시예에서의 띠형상 워크의 노광순서를 설명하는 도면이다.

도4는 본 발명의 실시예의 노광장치의 제어장치의 구성을 도시하는 도면이다.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>

1 : 광조사장치 20 : 제어부

2 : 투영 렌즈 21 : 화상처리부

3 : 워크 스테이지 22 : 모니터

4 : 얼라인먼트 유닛 31 : 워크 반송 제어기구

4a : 수상소자 32 : 워크 이동 제어기구

5 : XYθZ 스테이지 33 : 부분 조명계 구동기구

6 : 송출 롤부 34 : 워크 스테이지 구동기구

6a : 송출 릴 35 : 얼라인먼트계 구동기구

7 : 권취 롤부 36 : 송출/권취 롤부 구동제어기구

7a : 권취 릴 M : 마스크

8, 8' : 워크 흡착기구 MAM : 마스크 얼라인먼트 마크

8a : 진공공급관로 WAM : 워크 얼라인먼트 마크

9, 9' : 이동기구 R1∼R3 : 롤러

10, 10' : 이동기구 R1'∼R3' : 롤러

11, 11' : 부분 조명계 Wb : 띠형상 워크

본 발명은 유기화합물의 필름, 얇은 금속 등의 긴 연속 워크(이하 띠형상 워크라고 한다)의 표면에 마스크 패턴을 노광하기 위한 띠형상 워크의 노광장치에 관한 것이다.

유기화합물의 필름, 얇은 금속 등의 띠형상 워크 상에 복수의 각종 전자소자 등을 형성하기 위해, 롤형상으로 감긴 띠형상 워크를 릴에서 인출하고, 소정의 패턴 영역마다 반송·정지시켜, 마스크와 띠형상 워크의 각 노광영역과의 위치맞춤을 행한 다음 마스크 패턴을 워크 상에 노광하는 노광공정이 행해진다.

상기 노광공정에서 사용되는 띠형상 워크는 통상 길이가 100m 정도이고, 그 반송은 릴에 롤 형상으로 감겨진 상태에서 워크를 인출하고, 노광하여 다시 릴에 권취하는 방법으로 행해진다.

띠형상 워크에는 레지스트나 감광성 폴리이미드와 같은 감광성 수지가 도포되어 있다.

띠형상 워크에 노광하기 위해서는 띠형상 워크가 감겨진 릴을 송출 롤부에 부착한다. 띠형상 워크는 반송용의 회전롤러와 누름 롤러에 의해 클램핑되고, 회전 롤러가 회전함으로써 노광부로 보내진다.

노광부에서 띠형상 워크는 워크 스테이지에 진공흡착에 의해 고정되고, 광조사부에 의해 노광광이 마스크와 투영렌즈를 통해서 띠형상 워크에 조사되며, 마스크에 형성되어 있는 마스크 패턴이 노광된다. 노광완료 후, 띠형상 워크를 워크 스테이지로부터 고정해제하고, 회전 롤러가 회전하여 띠형상 워크를 다음 노광영역에 반송한다.

노광이 종료한 띠형상 워크는 권취 롤부에 부착된 릴에 감겨진다.

종래, 띠형상 워크의 폭은 약 125㎜이고, 워크 상에는 1열로 나란히 제품이 만들어져 있었다. 따라서 노광처리도 마스크 패턴을 1열로 노광하는 것만으로도 좋았다.

그러나 최근, 1권의 띠형상 워크로부터 보다 많은 제품을 제작할 수 있도록 띠형상 워크의 폭을 넓게, 예를 들면 띠형상 워크의 폭을 250㎜로 하고, 워크 상에 2열로 나란히 제품을 만드는 경우가 있다. 따라서 마스크 패턴을 2열로 노광하는 것이 요구되어지게 되었다.

종래의 장치에서 띠형상 워크에 2열의 마스크 패턴을 노광하도록 하면, 송출 롤부에 부착된 릴로부터 띠형상 워크를 반송하고, 먼저 제1열의 패턴을 노광한다. 제1열의 노광이 종료하면, 띠형상 워크는 권취 롤부에 부착된 릴에 감겨진다.

제2열째를 노광하기 위해서는, 제1열의 노광을 종료한 띠형상 워크가 감겨진 릴을 감은 롤부로부터 꺼내고, 송출 롤부에 부착한다. 즉, 릴을 교환한다. 다시 릴로부터 띠형상 워크를 반송하여 제2열째를 노광한다.

노광이 종료한 띠형상 워크는 권취 롤부에 부착된 릴에 감겨진다. 그리고 제2열째의 노광을 행하는 장치는 제1열째를 노광한 장치와 같은 것을 사용해도 좋고, 다른 장치를 사용해도 좋다.

종래에는 상기와 같이 1권의 워크에 관하여 노광개시로부터 종료까지의 사이에 반드시 「릴 교환」이라고 하는 인적작업이 발생하여 효율이 나빴다.

그리고 2열의 패턴을 형성한 마스크를 준비하고, 투영면적이 2배인 투영렌즈를 준비하고, 2열을 일괄하여 노광하도록 하면, 1권의 워크를 「롤 교환」을 행하지 않고 노광처리 할 수 있다. 그러나 이를 위해서는 대단히 큰 투영렌즈가 필요하게 된다. 대형의 렌즈재료는 가격이 대단히 고가이고, 비용이 대폭으로 높아진다. 또 노광장치 전체도 대형화한다.

본 발명은 상기한 사정을 감안한 것으로, 장치가 대형화하지 않고, 또, 롤의 교환을 행하지 않고 띠형상 워크에 복수열의 마스크 패턴을 노광할 수 있는 띠형상 워크의 노광장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명에서는 상기 과제를 다음과 같이 해서 해결한다.

(1) 띠형상 워크에 마스크에 형성된 패턴을 순서대로 노광해 가는 노광장치에 있어서, 워크 스테이지 상의 띠형상 워크를 띠형상 워크의 길이방향으로 반송하는 워크 반송기구에 부가하여, 워크 스테이지 상의 띠형상 워크를 띠형상 워크의 폭방향으로 이동하는 워크 이동기구를 설치한다.

제어부에 의해 상기 워크 반송기구와 워크 이동기구를 제어하고, 띠형상 워크의 반송과 반송방향에 직교하는 방향의 이동을 반복하여, 띠형상 워크에 복수열의 마스크 패턴을 노광한다.

이것에 의해 롤의 교환을 행하지 않고, 또 장치를 특별히 대형화한다든지 대단히 고가인 대형의 투영렌즈를 사용하지 않고, 1권의 띠형상 워크에 복수열의 마스크 패턴을 노광할 수 있다.

(2) 노광처리 전의 띠형상 워크를 수납하는 송출 롤부와, 노광처리후의 띠형상 워크를 수납하는 권취 롤부를 각각 띠형상 워크의 폭방향으로 이동시키는 롤부 이동기구를 설치한다.

그리고 띠형상 워크를 반송할 때에 띠형상 워크에 비틀림이 생기지 않도록 롤부 이동기구에 의해 띠형상 워크를 폭방향으로 이동시킨다.

도1은 본 발명의 실시예의 노광장치의 구성예를 도시하는 도면이다.

동 도면에서, 1은 노광광을 조사하는 광조사장치, M은 마스크이고, 마스크(M)에는 마스크 얼라인먼트 마크(MAM)(이하, 마스크 마크(MAM)라고 약칭하여 기술한다)가 기록되어 있다. 또, 광조사장치(1)와 마스크(M)와의 사이에는 삽입·퇴피가능하게 부착된 부분조명계(11, 11')가 설치되어 있고, 후술하는 것 같이, 마 스크마크(MAM)와 워크 얼라인먼트 마크(WAM)(워크 마크(WAM)라고 약칭하여 기술한다)를 위치맞춤할 때, 상기 부분조명계(11, 11')를 동 도면에 도시하는 위치에 삽입하고, 부분조명계(11, 11')에 의해 마스크마크(MAM)와 워크 마크(WAM)를 조명한다.

2는 투영렌즈, 3은 워크 스테이지이고, 워크 스테이지(3)는 도시하지 않은 진공흡착기구를 구비하고 있고, 진공흡착기구에 의해 띠형상 워크(Wb)를 흡착하여 유지한다. 5는 XYZθ스테이지이고, 워크 스테이지(3)를 XYZθ 방향으로 구동한다(X는 동 도면의 좌우방향, Y는 동 도면 지면의 전후방향, Z는 XY축에 직교하는 방향, θ는 Z축을 중심으로 한 회전이다).

투영렌즈(2)와 워크 스테이지(3) 사이에는 얼라인먼트 유닛(4)이 설치되어 있고, 마스크(M)와 띠형상 워크(Wb)와의 위치맞춤을 행하기 위해 사용된다. 얼라인먼트 유닛(4)은 수상소자(4a)를 구비하고 있고, 수상소자(4a)에 의해 마스크 얼라인먼트 마크(MAM)상 및 워크 얼라인먼트 마크(WAM)상을 수상하여 마스크(M)와 띠형상 워크(Wb)의 얼라인먼트를 행한다.

6은 송출 롤부이고, 띠형상 워크(Wb)가 롤형상으로 감겨진 송출 릴(6a)이 부착된다. 송출 롤부(6)에는 이동기구(10)가 설치되어 있고, 동 도면 지면의 전후방향으로 이동가능하게 구성되어 있다.

또, 7은 권취 롤부이고, 노광이 끝난 띠형상 워크(Wb)를 감는 권취 릴(7a)이 부착된다. 권취 롤부(7)에는 이동기구(10')가 설치되어 있고, 동 도면 지면의 전후방향으로 이동가능하다.

송출 릴(6a)로부터 송출된 띠형상 워크(Wb)는 안내용 롤러(R3), 반송용 롤러(R1, R2)를 통해서 워크 스테이지(3) 상에 반송되고, 투영렌즈(2)의 노광영역내에 위치 결정된다. 그리고 마스크(M)와 띠형상 워크(Wb)의 위치맞춤 종료후, 노광처리가 행해진다.

노광처리가 끝난 띠형상 워크(Wb)는 반송용 롤러(R1', R2') 안내용 롤러(R3')를 통해서 권취 릴(7a)에 감겨진다.

또, 송출 릴(6a)과 안내용 롤러(R3)의 사이에, 및 안내용 롤러(R3')와 권취 릴(7a) 사이의 띠형상 워크(Wb)에는 풀림부(C)가 설치되어 있고, 이 풀림부(C)에 의해 마스크와 워크의 위치맞춤시 및 후술하는 워크를 반송방향과 직교하는 방향으로 이동할 때의 띠형상 워크의 이동여유를 확보하고, 띠형상 워크(Wb)에 소정 이상의 스트레스가 가해지는 것을 방지하고 있다.

8, 8'은 워크 흡착기구이고, 워크 흡착기구(8, 8')는 동 도면 A에 도시하는 바와 같이, 진공공급관로(8a)를 구비하고 있고, 상기 관로(8a)에 진공을 공급함으로써 띠형상 워크(Wb)를 흡착할 수 있다.

워크 흡착기구(8, 8'), 롤러(R1∼R3, R1'∼R3')는 베이스 플레이트에 부착된 레일과 걸어 맞춰지는 이동기구(9, 9')에 부착되어 있고, 이동기구(9, 9')에 의해 이들이 일체로 동 도면 지면의 전후방향으로 이동가능하게 구성되어 있다. 이들을 이동시킴으로써, 띠형상 워크(Wb)를 유지한 상태에서 반송방향에 직교하는 방향으로 이동시킬 수 있다.

또한 롤러(R1, R1')는 동 도면의 화살표 방향으로 이동가능하게 구성되어 있 고, 띠형상 워크(Wb)를 반송할 때, 롤러(R1, R1')는 아래쪽 방향으로 이동하여 띠형상 워크(Wb)를 롤러(R1과 R2), 롤러(R1', R2')에 끼운다.

도2는 도1에 도시한 노광장치에서의 제1열째와 제2열째의 노광동작을 설명하는 도면이고, 동 도면은 도1의 B방향에서 본 도면을 도시하고 있고, 동 도면 (a)는 제1열째의 노광시의 상태, 동 도면 (b)는 제2열째의 노광시의 상태를 도시하고 있다.

제1열째의 노광시에는 도2 (a)에 도시하는 바와 같이, 띠형상 워크(Wb)의 제1열째의 제1 노광영역이 워크 스테이지(3) 상의 마스크 패턴이 투영되는 위치에 진공흡착된다. 그리고 XYZθ 스테이지(5)에 의해 워크 스테이지(3)를 이동시켜 마스크(M)와 띠형상 워크(Wb)의 위치맞춤을 행한 다음, 광조사장치(1)로부터 노광광을 마스크(M)와 투영렌즈(2)를 통해서 띠형상 워크(Wb)에 조사하고, 마스크 패턴을 띠형상 워크의 제1 노광영역에 전사한다.

제1 노광영역의 노광이 종료하면, 워크 스테이지(3)의 진공흡착을 해제하는 동시에, 워크 흡착기구(8, 8')의 진공공급관로(8a)에 진공을 공급하여 띠형상 워크(Wb)를 유지하고, 워크 흡착기구(8, 8')와 롤러(R2, R2'), 롤러(R3, R3')를 도2 (b)의 화살표 방향으로 띠형상 워크의 폭에 대해 대강 반분의 거리만큼 이동시키고, 제2열째의 제2 노광영역이 워크 스테이지(3) 상의 마스크 패턴이 투영되는 위치에 오도록 한다.

그리고 워크 스테이지(3)에 의해 띠형상 워크(Wb)를 흡착고정하고, 상기한 것과 동일하게 마스크(M)와 띠형상 워크(Wb)의 위치맞춤을 행한 다음, 마스크 패턴 을 띠형상 워크의 제2 노광영역에 전사한다. 제2 노광영역의 노광이 종료하면, 띠형상 워크(Wb)을 반송하고 다음 노광영역의 노광을 행한다.

도3은 본 실시예에서의 띠형상 워크(Wb)의 노광순서를 설명하는 도면이다. 동 도면에 도시하는 바와 같이, 제1열째 ①의 노광을 행한 다음, 띠형상 워크(Wb)를 반송방향과 직교하는 방향으로 이동시키고, 제2열째 ②의 노광을 행한다. 다음에 띠형상 워크(Wb)를 다음의 노광영역까지 반송하고, 제2열째 ③의 노광을 행한 다음, 띠형상 워크(Wb)를 반송방향과는 직교하는 방향으로 이동시켜 제1열째 ④의 노광을 행한다. 이하 동일하게 해서 ⑤∼⑧의 노광을 행한다.

그리고 도3에서는 「반송방향으로의 이동→제1열째의 노광처리→반송방향과 직교하는 방향으로의 이동→제2열째의 노광처리→반송방향으로의 이동→제2열째의 노광처리→반송방향과 직교하는 방향으로의 이동→제1열째의 노광처리…」의 순서로 노광하는 경우에 대해 설명했지만, 예를 들면, 「반송방향으로의 이동→제1열째의 노광처리→반송방향과 직교하는 방향으로의 이동→제2열째의 노광처리→반송방향과 직교하는 방향으로의 이동→반송방향으로의 이동→제1열째의 노광처리→…」의 순서로 노광하는 등, 노광순서는 필요에 따라 적당히 선택할 수 있다.

또, 도3에서는 띠형상 워크 상에 2열째에 노광하는 경우에 대해 설명했지만, 띠형상 워크의 직교방향의 이동량을 적당히 선택함으로써, 띠형상 워크에 3열 이상 노광할 수도 있다.

도4는 본 실시예의 노광장치의 제어장치의 구성을 나타내는 도면이다. 동 도면에서 4는 얼라인먼트 유닛이고, 상기한 바와 같이 마스크 얼라인먼트 마크(MAM) 상과 워크 얼라인먼트 마크(WAM)상을 수상하는 수상소자(4a)를 구비하고 있다. 그리고 수상소자(4a)에 의해 수상된 상기 얼라인먼트 마크상은 화상처리부(21)로 보내지고, 화상처리부(21)에서 화상처리되어 그 위치가 검출된다. 22는 모니터이고, 모니터(22) 상에 상기 수상소자(4a)에서 수상된 화상이 표시된다.

31은 띠형상 워크(Wb)의 반송을 제어하는 워크 반송 제어기구이고, 반송용 롤러(R1, R2 및 R1', R2')를 구동하여 띠형상 워크(Wb)를 워크의 길이방향으로 반송한다. 32는 띠형상 워크(Wb)를 반송방향과 직교하는 방향으로 이동시키는 워크 이동 제어기구이고, 일체로 구성된 워크 흡착기구(8, 8') 롤러(R1∼R3, R1'∼R3')를 이동기구(9, 9')에 의해 이동시킨다.

33은 부분조명계(11, 11')의 퇴피·삽입을 제어하는 부분조명계 이동기구, 34는 워크 스테이지(3)를 구동하는 스테이지 구동기구, 35는 얼라인먼트 유닛(4)의 위치를 제어하는 얼라인먼트계 구동기구이다.

36은 송출/권취 롤부 구동 제어기구이고, 송출 롤부(6), 권취 롤부(7)를 각각에 설치된 이동기구(10, 10')에 의해 이동시킨다.

제어부(20)는 상기 각종 제어기구, 구동기구를 통해서 띠형상 워크(Wb)의 반송, 이동, 위치결정을 행하고, 상기 도3에서 설명한 순서의 노광처리를 할 수 있도록 띠형상 워크(Wb)를 이동시킨다.

또, 띠형상 워크(Wb)가 반송방향과 직교하는 방향으로 이동했을 때에는 다음에 띠형상 워크(Wb)가 반송방향으로 반송될때까지의 사이에 송출/권취 롤부 구동제어기구(36)에 의해 송출 롤부(6), 권취 롤부(7)를 띠형상 워크(Wb)가 이동한 방향 으로 같은 거리만큼 이동시킨다.

또한, 화상처리부(21)에서 검출된 마스크 얼라인먼트 마크(MAM), 워크 얼라인먼트 마크(WAM)의 위치에 따라 마스크(M)와 띠형상 워크(Wb)의 각 패턴영역과의 얼라인먼트, 띠형상 워크(Wb)의 노광처리를 제어한다.

다음에, 본 실시예의 노광동작에 대해 설명한다.

(1) 롤러(R1과 R2, R1'과 R2')에 의해 띠형상 워크(Wb)를 클램핑하고, 띠형상 워크(Wb)가 반송되고, 도2 (a)에 도시하는 바와 같이, 제1열째의 제1 노광영역이 워크 스테이지(3) 상의 마스크 패턴이 투영되는 위치에 오면, 띠형상 워크(Wb)는 워크 스테이지(3)에 의해 진공흡착된다.

그리고 띠형상 워크(Wb)의 반송·얼라인먼트·노광시에는 워크 흡착기구(8, 8')의 진공공급관로(8a)에는 진공은 공급되고 있지 않다.

(2) 롤러(R1과 R1')가 상승하여 띠형상 워크(Wb)의 클램프를 해제한다. 퇴피하고 있었던 얼라인먼트 유닛(4)과 부분조명계(11)가 노광영역 범위내에 삽입되고, 마스크(M)와 띠형상 워크(Wb)의 위치맞춤이 행해진다.

즉, 부분조명계(11, 11')로부터 얼라인먼트광(노광광)이 조사되고, 마스크 마크(MAM)가 투영렌즈(2)를 통해서 띠형상 워크(Wb) 상에 투영된다. 얼라인먼트 유닛(4)의 수상소자(4a)에 의해 마스크 마크(MAM)의 투영상과 워크마크(WAM)를 검출하여 그 위치를 기억한다. 제어부(20)는 마스크 마크(MAM)와 워크 마크(WAM)가 일치하도록 워크 스테이지 구동기구(34)에 의해 XYZθ 스테이지를 구동하고, 워크 스테이지(3)를 이동시킨다.

상기 위치맞춤 동작에 의해 띠형상 워크(Wb)는 XYZθ 방향으로 이동하지만, 상기 풀림부(C)에서 띠형상 워크(Wb)에 발생하는 비틀림의 스트레스가 흡수된다. 위치맞춤 종료 후, 얼라인먼트 유닛(4)과 부분조명계(11)를 노광영역 범위 바깥으로 퇴피한다.

그리고 마스크(M)와 띠형상 워크(Wb)의 위치맞춤에 관해서는 다음의 순서이어도 좋다.

얼라인먼트 유닛(4)에 워크마크(WAM) 조명용의 제2 부분조명계(비노광광)를 설치한다. 그리고 이하의 순서대로 얼라인먼트를 행한다.

① 부분조명계(11, 11')로부터 얼라인먼트광(노광광)을 조사한다. 마스크 마크(MAM)는 투영렌즈(2)를 통해서 띠형상 워크(Wb) 상에 투영된다.

② 얼라인먼트 유닛(4)의 수상소자(4a)에 의해 마스크마크(MAM)의 투영상을 검출하여 그 위치를 기억한다. 부분조명계(11, 11')로부터 얼라인먼트광의 조사를 정지한다.

③ 제2 부분조명계(비노광광)에 의해 워크마크(WAM)를 조명하고, 워크마크(WAM)를 수상소자(4a)에 의해 검출한다. 기억한 마스크마크(MAM)와 검출한 워크마크(WAM)가 일치하도록 XYZθ 스테이지(5)를 XYθ 방향으로 구동하고 워크 스테이지(3)를 이동시킨다.

(3) 광조사장치(1)로부터 노광광을 마스크(M)와 투영렌즈(2)를 통해서 띠형상 워크(Wb)에 조사하고, 마스크 패턴을 띠형상 워크(Wb)에 전사한다. 제1 노광영역의 노광처리를 종료한다.

(4) 워크 흡착기구(8, 8')의 진공공급관로(8a)에 진공을 공급하고, 띠형상 워크(Wb)를 유지한다. 그 때, 롤러(R1과 R1')는 하강하여 띠형상 워크(Wb)를 클램핑해도 좋지만, 개방한 그대로여도 상관없다.

워크 스테이지(3)의 진공흡착을 해제하고, XYZθ 스테이지(5)의 Z스테이지에 의해 워크 스테이지(3)를 미소하게 하강시켜, 워크 스테이지(3)의 진공흡착 구멍으로부터 공기를 분출한다.

(5) 제어부(20)는 워크 이동제어기구(32)에 의해 워크 흡착기구(8, 8')와 롤러(R2, R2'), 롤러(R3, R3')를 상기 도2 (b)에 도시한 바와 같이 띠형상 워크의 폭에 대해 대강 반분의 거리만큼 이동시킨다.

제2열째의 제2 노광영역이 워크 스테이지(3) 상의 마스크 패턴이 투영되는 위치에 온다.

(6) 워크 스테이지(3)로부터 공기의 분출을 멈춘다. 또 워크 스테이지(3)에 진공을 공급하고, 워크 스테이지(3)를 하강하고 있었던 만큼 상승시켜, 띠형상 워크(Wb)를 흡착·고정한다. 워크 흡착기구(8, 8')의 진공공급관로(8a)에의 진공의 공급을 멈춘다.

(7) 상기 (2)∼(3)과 동일하게 마스크(M)와 띠형상 워크(Wb)가 위치맞춤되어, 제2 노광영역의 노광처리를 행한다.

(8) 제2 노광영역의 노광처리 종료시, 띠형상 워크(Wb)는 노광처리부 근방만을 띠형상 워크(Wb)의 폭방향으로 이동하고 있기 때문에, 상기 풀림부(C)에서 비틀림이 생기고 있다.

이 상태에서는 띠형상 워크(Wb)를 반송시키면, 띠형상 워크(Wb)에 대해 큰 비틀림의 스트레스가 생기기 때문에, 띠형상 워크(Wb)의 사행·변형·손상 등이 발생할 가능성이 있다. 따라서 제어부(20)는 송출/권취 롤부 구동제어기구(36)에 의해 이동기구(10, 10')를 구동하고, 송출 롤부(6), 권취 롤부(7)를 띠형상 워크(Wb)가 이동한 방향과 같은 방향으로 같은 이동거리만큼 이동시킨다.

이 송출 롤부(6), 권취 롤부(7)의 이동은 상기 (5)의 워크 흡착기구(8, 8')의 이동과 동시에 행해도 좋지만, 워크 흡착기구(8, 8')에 의한 띠형상 워크(Wb)의 이동으로부터 제2 노광영역의 노광처리가 종료하고, 다음의 제3 노광영역에 띠형상 워크(Wb)가 반송될때까지의 사이이면, 언제라도 좋다.

(9) 롤러(R1과 R1')가 하강하여 롤러(R2, R2')와의 사이에 띠형상 워크를 클램핑한다. 워크 스테이지(3)의 진공흡착을 해제하고, XYZθ 스테이지(5)의 Z스테이지에 의해 워크 스테이지(3)를 미소하게 하강시켜 워크 스테이지(3)의 진공흡착 구멍으로부터 공기를 분출한다.

롤러(R2'와 R1')가 회전하여, 띠형상 워크를 반송한다. 이것에 의해 제2열째의 제3 노광영역이 워크 스테이지(3) 상에 반송된다.

(10) 상기 동작을 반복하여, 예를 들면 상기 도3과 같이 제1열째, 제2열째의 노광영역을 교호로 노광해 간다.

그리고 띠형상 워크(Wb)에 미리 워크마크(MAM)가 형성되어 있지 않은 경우, 즉, 띠형상 워크(Wb)에 최초의 마스크 패턴을 노광하는 경우에는 상기 (2), (7)에서의 마스크와 워크의 위치맞춤을 행할 필요는 없다.

이상 설명한 바와 같이 본 발명에서는 이하의 효과를 얻을 수 있다.

(1) 띠형상 워크를 반송방향에 대해 직교하는 방향으로 이동시킴으로써, 복수열의 노광이 가능하고, 롤의 교환을 행하지 않고, 1권의 띠형상 워크에 복수열의 마스크 패턴을 노광할 수 있다.

(2) 띠형상 워크를 반송방향에 대해 직교하는 방향으로 이동시키는 이동기구를 설치하고, 그 이동스페이스를 확보하는 것만으로, 장치를 특별히 대형화하지 않고, 또 대단히 고가인 대형의 투영렌즈를 사용하지 않고, 1권의 띠형상 워크에 복수열의 마스크 패턴을 노광할 수 있다.

Claims

폭이 250㎜ 이상의 띠형상 워크에, 마스크에 형성된 패턴을 순서대로 노광해 가는 노광장치에 있어서,

노광처리 전의 띠형상 워크를 수납하는 송출 롤부와, 노광처리 후의 띠형상 워크를 수납하는 권취 롤부와, 워크 스테이지 상의 띠형상 워크를 띠형상 워크의 길이방향으로 반송하는 워크 반송기구와, 상기 송출 롤부와 워크 스테이지의 사이, 및 상기 권취 롤부와 워크 스테이지의 사이에 설치되고, 상기 띠형상 워크를 지지하여, 워크 스테이지 상의 띠형상 워크를 띠형상 워크의 폭방향으로 이동시키는 워크 이동기구와, 워크 반송기구와 워크 이동기구를 구동제어하는 제어부를 구비하고,

상기 제어부에 의해 상기 워크 반송기구와 워크 이동기구에 의한 띠형상 워크의 반송과 이동을 반복하여, 띠형상 워크에 복수열의 마스크 패턴을 노광하는 것을 특징으로 하는 띠형상 워크의 노광장치.
제1항에 있어서,

상기 송출 롤부와 상기 권취 롤부의 각각을, 띠형상 워크의 폭방향으로 이동시키는 롤부 이동기구를 구비하고,

상기 제어부는 워크 반송기구의 구동에 의한 띠형상 워크의 길이방향의 반송개시 전에, 상기 롤부 이동기구에 의해 송출 롤부와 권취 롤부의 각각을 띠형상 워크의 폭방향으로 이동하는 것을 특징으로 하는 띠형상 워크의 노광장치.