JP3356525B2 - プレグナンの新規な１７，２０−エポキシド誘導体、それらの製造法、それらのコルチゾン誘導体の製造への使用及び中間体 - Google Patents
プレグナンの新規な１７，２０−エポキシド誘導体、それらの製造法、それらのコルチゾン誘導体の製造への使用及び中間体Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、プレグナンの新規な
１７，２０−エポキシド誘導体、それらの製造法、それ
らのコルチゾン誘導体の製造への使用及び中間体に関す
る。
１７，２０−エポキシド誘導体、それらの製造法、それ
らのコルチゾン誘導体の製造への使用及び中間体に関す
る。
【０００２】
【発明の概要】従って、本発明の主題は、式（Ｉ）の化
合物にある。しかして、本発明は、次式（Ｉ）
合物にある。しかして、本発明は、次式（Ｉ）
【化２０】 ［ここで、Ｒはオキソ又はβ−ヒドロキシ基を表わし、
環Ａ及びＢは下記の式
環Ａ及びＢは下記の式
【化２１】 ｛ここで、Ｋはオキソ基又は次式
【化２２】 （ｎは２又は３に等しい）の形のオキソ保護基を表わ
し、Ｒ1はエーテル又はエステルの残基を表わし、Ｋ'は
オキソ基又はオキシム、ヒドラゾン若しくはセミカルバ
ゾンの形のオキソ保護基を表わす｝ の残基を表わし、波線は異性体混合物を表わす］ の化合物を目的とする。
し、Ｒ1はエーテル又はエステルの残基を表わし、Ｋ'は
オキソ基又はオキシム、ヒドラゾン若しくはセミカルバ
ゾンの形のオキソ保護基を表わす｝ の残基を表わし、波線は異性体混合物を表わす］ の化合物を目的とする。
【０００３】Ｒ1 がエーテルの残基を表わすときは、そ
れは、３位をこの形態でブロックするために当業者に知
れた任意の残基であってよく、特に、１〜６個の炭素原
子を含有するアルキル基、３〜８個の炭素原子を含有す
るアルコキシ−アルコキシアルキル基、６〜１０個の炭
素原子を含有するアリール基又は７〜１２個の炭素原子
を含有するアラルキル基であってよい。Ｒ1 がアルキル
基を表わすときは、それは、例えば、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチ
ル、ｔ−ブチル、ペンチル又はヘキシル基であってよ
い。Ｒ1 がアルコキシアルコキシアルキル基を表わすと
きは、それは例えばメトキシエトキシメチル基であって
よい。Ｒ1 がアラルキル基を表わすときは、それは例え
ばベンジル又はフェネチル基であってよい。Ｒ1 がアリ
ール基を表わすときは、それは例えばフェニル基又は置
換フェニル基、特に１個以上のアルキル基により置換さ
れたフェニル基であってよい。
れは、３位をこの形態でブロックするために当業者に知
れた任意の残基であってよく、特に、１〜６個の炭素原
子を含有するアルキル基、３〜８個の炭素原子を含有す
るアルコキシ−アルコキシアルキル基、６〜１０個の炭
素原子を含有するアリール基又は７〜１２個の炭素原子
を含有するアラルキル基であってよい。Ｒ1 がアルキル
基を表わすときは、それは、例えば、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチ
ル、ｔ−ブチル、ペンチル又はヘキシル基であってよ
い。Ｒ1 がアルコキシアルコキシアルキル基を表わすと
きは、それは例えばメトキシエトキシメチル基であって
よい。Ｒ1 がアラルキル基を表わすときは、それは例え
ばベンジル又はフェネチル基であってよい。Ｒ1 がアリ
ール基を表わすときは、それは例えばフェニル基又は置
換フェニル基、特に１個以上のアルキル基により置換さ
れたフェニル基であってよい。
【０００４】Ｒ1 がエーテルの残基を表わすときは、そ
れはシリル化された基、例えば、トリメチルシリル、ｔ
−ブチルジメチルシリル基のようなトリアルキルシリル
基、トリフェニルシリルのようなトリアリールシリル
基、又はジフェニルｔ−ブチルシリル基のようなジアリ
ールアルキルシリル基であってもよい。Ｒ1 がエステル
の残基を表わすときは、それは３位をこの形態でブロッ
クするために当業者に知られた任意の残基であってよ
く、特に−ＣＯ2 Ｒ1 残基（ここで、Ｒ1 は前記のよう
なアルキル、アリール又はアラルキル基である）であっ
てよい。
れはシリル化された基、例えば、トリメチルシリル、ｔ
−ブチルジメチルシリル基のようなトリアルキルシリル
基、トリフェニルシリルのようなトリアリールシリル
基、又はジフェニルｔ−ブチルシリル基のようなジアリ
ールアルキルシリル基であってもよい。Ｒ1 がエステル
の残基を表わすときは、それは３位をこの形態でブロッ
クするために当業者に知られた任意の残基であってよ
く、特に−ＣＯ2 Ｒ1 残基（ここで、Ｒ1 は前記のよう
なアルキル、アリール又はアラルキル基である）であっ
てよい。
【０００５】Ｋ' がオキシム又はセミカルバゾン型の保
護基を表わすときは、それは、例えば、式＝Ｎ−ＯＸ
（ここで、Ｘは水素原子、１〜６個の炭素原子を含有す
るアルキル基、特にメチル基、１〜１０個の炭素原子を
含有するアシル基、特にアセチル若しくはベンゾイル基
又は６〜１２個の炭素原子を含有するアリール基を表わ
す）の残基又は式＝Ｎ−ＮＨ−ＣＯ−Ｙ（ここで、Ｙは
アミノ基又は次式
護基を表わすときは、それは、例えば、式＝Ｎ−ＯＸ
（ここで、Ｘは水素原子、１〜６個の炭素原子を含有す
るアルキル基、特にメチル基、１〜１０個の炭素原子を
含有するアシル基、特にアセチル若しくはベンゾイル基
又は６〜１２個の炭素原子を含有するアリール基を表わ
す）の残基又は式＝Ｎ−ＮＨ−ＣＯ−Ｙ（ここで、Ｙは
アミノ基又は次式
【化２４】 （ここで、Ｚ1 、Ｚ2 及びＺ3 は１〜６個の炭素原子を
含有するアルキル基を表わすか又は窒素原子と一緒にな
ってピリジル基を形成し、Ｈａｌはハロゲン原子、好ま
しくは塩素又は臭素原子を表わす）の基を表わす）の残
基であってよい。
含有するアルキル基を表わすか又は窒素原子と一緒にな
ってピリジル基を形成し、Ｈａｌはハロゲン原子、好ま
しくは塩素又は臭素原子を表わす）の基を表わす）の残
基であってよい。
【０００６】特に、本発明の主題は、式（Ｉ1)の化合物
に相当する前記の化合物にある。しかして、本発明は、
次式（Ｉ1)
に相当する前記の化合物にある。しかして、本発明は、
次式（Ｉ1)
【化２５】 ［ここで、Ｒは既に示した意味を有し、環Ａ1 及びＢ1
は次式
は次式
【化２６】 （ここで、ｎ及びＲ1 は既に示した意味を有し、Ｋ1 及
びＫ'1は既に示したようなオキソ基の保護基を表わす）
の残基を表わす］に相当する前記の化合物、さらに詳し
くは、次式（Ｉ'1)
びＫ'1は既に示したようなオキソ基の保護基を表わす）
の残基を表わす］に相当する前記の化合物、さらに詳し
くは、次式（Ｉ'1)
【化２７】 （ここで、Ｒ及びｎは既に示した意味を有する）に相当
する前記の化合物を目的とする。
する前記の化合物を目的とする。
【０００７】また、本発明の主題は、式（Ｉ2)の化合物
に相当する前記の化合物にある。しかして、本発明は、
次式（Ｉ2)
に相当する前記の化合物にある。しかして、本発明は、
次式（Ｉ2)
【化２８】 （ここで、Ｒは既に示した意味を有する）に相当する前
記の化合物にある。
記の化合物にある。
【０００８】さらに、本発明の主題は、前記のような式
（Ｉ）の化合物の製造法にある。しかして、本発明は、
次式（II）
（Ｉ）の化合物の製造法にある。しかして、本発明は、
次式（II）
【化２９】 （ここで、点線は第二の炭素−炭素結合が存在し得るこ
とを表わす）の化合物の３位のケトン官能基を保護して
次式（III)
とを表わす）の化合物の３位のケトン官能基を保護して
次式（III)
【化３０】 （ここで、環Ａ1 及びＢ1 は上で定義した通りである）
の化合物を得、この化合物を次式（IV） Ｎ＝Ｃ−ＣＨ2 −ＣＯ2 Ｒ2 （IV） （ここで、Ｒ2 は１〜６個の炭素原子を含有するアルキ
ル基を表わす）のシアン酢酸アルキルで処理して次式
（Ｖ）
の化合物を得、この化合物を次式（IV） Ｎ＝Ｃ−ＣＨ2 −ＣＯ2 Ｒ2 （IV） （ここで、Ｒ2 は１〜６個の炭素原子を含有するアルキ
ル基を表わす）のシアン酢酸アルキルで処理して次式
（Ｖ）
【化３１】 （ここで、Ｒ2 、Ａ1 、Ｂ1 及び波線は上で定義した通
りである）の化合物を得、この化合物をエポキシ化剤で
処理して次式（VI）
りである）の化合物を得、この化合物をエポキシ化剤で
処理して次式（VI）
【化３２】 の化合物を得、この化合物のエステル官能基を還元して
次式（Ｉ1a）
次式（Ｉ1a）
【化３３】 の化合物を得、この化合物の１１位のケトン官能基を要
すれば還元して次式（Ｉ1b）
すれば還元して次式（Ｉ1b）
【化３４】 の化合物を得、式（Ｉ1a）及び（Ｉ1b）の化合物の３位
のケトン官能基を遊離化して前記の式（Ｉ2)の化合物を
得ることを特徴とする式（Ｉ）の化合物の製造法を目的
とする。
のケトン官能基を遊離化して前記の式（Ｉ2)の化合物を
得ることを特徴とする式（Ｉ）の化合物の製造法を目的
とする。
【０００９】３位のケトン官能基の保護は、当業者に知
られた方法により行われる。しかして、特に、式ＨＯ−
（ＣＨ2 ）n −ＯＨ、ＨＳ−（ＣＨ2 ）n −ＳＨ又はＨ
Ｏ−（ＣＨ2 ）n −ＳＨのジオール、ジチオール又は混
成チオールを、酸性媒体中で、例えば、濃塩酸若しくは
臭化水素酸（触媒量）、ｐ−トルエンスルホン酸の存在
下に、又は塩化亜鉛、四塩化チタン若しくは好ましくは
エーテラートの形の三弗化硼素のようなルイス酸の存在
下に使用することができる。メチルエチルジオキソラン
も酸、例えば前記のような酸の存在下に使用することが
できる。
られた方法により行われる。しかして、特に、式ＨＯ−
（ＣＨ2 ）n −ＯＨ、ＨＳ−（ＣＨ2 ）n −ＳＨ又はＨ
Ｏ−（ＣＨ2 ）n −ＳＨのジオール、ジチオール又は混
成チオールを、酸性媒体中で、例えば、濃塩酸若しくは
臭化水素酸（触媒量）、ｐ−トルエンスルホン酸の存在
下に、又は塩化亜鉛、四塩化チタン若しくは好ましくは
エーテラートの形の三弗化硼素のようなルイス酸の存在
下に使用することができる。メチルエチルジオキソラン
も酸、例えば前記のような酸の存在下に使用することが
できる。
【００１０】また、ハロゲン化アルキル、アルコキシア
ルコキシアルキル、アラルキル又はアリールも、中間体
エノラートを形成する塩基、例えば、アルカリ水素化
物、アルコラート又は水酸化物の存在下に使用すること
ができる。ハロゲン化トリアルキル、トリアリール又は
ジアリールアルキルシリルも前記の塩基性媒体中で使用
することができる。適当な酸ハロゲン化物も塩基の存在
下に使用することができる。この塩基は、窒素塩基、例
えば、トリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピ
リジン、又は無機塩基、例えば、アルカリ水素化物、ア
ルコラート又は水酸化物であってよい。
ルコキシアルキル、アラルキル又はアリールも、中間体
エノラートを形成する塩基、例えば、アルカリ水素化
物、アルコラート又は水酸化物の存在下に使用すること
ができる。ハロゲン化トリアルキル、トリアリール又は
ジアリールアルキルシリルも前記の塩基性媒体中で使用
することができる。適当な酸ハロゲン化物も塩基の存在
下に使用することができる。この塩基は、窒素塩基、例
えば、トリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピ
リジン、又は無機塩基、例えば、アルカリ水素化物、ア
ルコラート又は水酸化物であってよい。
【００１１】適当なヒドロキシルアミンも、要すれば、
塩酸塩若しくはその他の塩の形で、又はセミカルバゾン
若しくは適当な誘導体をやはり塩酸塩若しくはその他の
塩の形で使用することができる。シアン酢酸エチルの作
用は、好ましくは、無水媒体中で第一アミン、例えばヘ
キシルアミン又はそれよりも低級のアミン及び弱酸触
媒、例えばルイス酸、酸性樹脂、安息香酸又はｐ−トル
エンスルホン酸の存在下に行われる。操作は、芳香族溶
媒（例えばベンゼン、トルエン若しくはキシレン）又は
シクロヘキサンのような有機溶媒中で行われる。
塩酸塩若しくはその他の塩の形で、又はセミカルバゾン
若しくは適当な誘導体をやはり塩酸塩若しくはその他の
塩の形で使用することができる。シアン酢酸エチルの作
用は、好ましくは、無水媒体中で第一アミン、例えばヘ
キシルアミン又はそれよりも低級のアミン及び弱酸触
媒、例えばルイス酸、酸性樹脂、安息香酸又はｐ−トル
エンスルホン酸の存在下に行われる。操作は、芳香族溶
媒（例えばベンゼン、トルエン若しくはキシレン）又は
シクロヘキサンのような有機溶媒中で行われる。
【００１２】エポキシ化剤は、ニトリル基を考慮しなけ
ればならない反応剤である。それは、好ましくは、単独
で又は例えば水和塩の形のチタン、タングステン若しく
はモリブデンのような遷移金属の存在下に使用される過
酸化水素である。操作は、好ましくは、塩基性媒体中
で、特に、溶媒（これはアルカノールであってよく、特
に補助溶媒、特にハロゲン化溶媒との混合物として使用
される）中でアルカリ又はアルカリ土金属炭酸塩、重炭
酸塩又は水酸化物の存在下に行われる。アルカリ次亜塩
素酸塩も中性のｐＨ又は中性に近いｐＨで使用すること
ができる。このα−βエチレン性ニトリルのエポキシ化
反応は、ニトリル基が保持される限りにおいて全く新規
で且つ予期できなかった性格を示す。これは先験的に証
明されていない。
ればならない反応剤である。それは、好ましくは、単独
で又は例えば水和塩の形のチタン、タングステン若しく
はモリブデンのような遷移金属の存在下に使用される過
酸化水素である。操作は、好ましくは、塩基性媒体中
で、特に、溶媒（これはアルカノールであってよく、特
に補助溶媒、特にハロゲン化溶媒との混合物として使用
される）中でアルカリ又はアルカリ土金属炭酸塩、重炭
酸塩又は水酸化物の存在下に行われる。アルカリ次亜塩
素酸塩も中性のｐＨ又は中性に近いｐＨで使用すること
ができる。このα−βエチレン性ニトリルのエポキシ化
反応は、ニトリル基が保持される限りにおいて全く新規
で且つ予期できなかった性格を示す。これは先験的に証
明されていない。
【００１３】エステル官能基の還元は、アルコール中で
アルカリ硼水素化物を、例えばエタノール中で硼水素化
ナトリウム又はリチウムを作用させることにより行われ
る。また、水素化物、例えば、水素化アルミニウムリチ
ウム、水素化ジエチルアルミニウム、水素化ジイソブチ
ルアルミニウム又はジヒドロビス（２−メトキシエトキ
シ）アルミン酸ナトリウムも使用することができる。そ
して、操作は、例えば、トルエン又はテトラヒドロフラ
ン中で行われる。ケトン官能基の還元は、前記の反応剤
の一つ以上を使用して前記の溶媒の条件下で行われる。
この二つの還元は、通常出くわすようなもの、即ち、２
１位のエステルの還元を１１位のケトンの還元よりも先
に行う方法とは逆の順序でも行われることに留意された
い。これも本発明方法の予期できなかったものである。
もちろん、本発明の範囲から逸脱することなく、この二
つの還元は、１１−オキソ中間体を単離しないで単一操
作で行うことができることは明らかである。そのような
例を実験の部に示す。
アルカリ硼水素化物を、例えばエタノール中で硼水素化
ナトリウム又はリチウムを作用させることにより行われ
る。また、水素化物、例えば、水素化アルミニウムリチ
ウム、水素化ジエチルアルミニウム、水素化ジイソブチ
ルアルミニウム又はジヒドロビス（２−メトキシエトキ
シ）アルミン酸ナトリウムも使用することができる。そ
して、操作は、例えば、トルエン又はテトラヒドロフラ
ン中で行われる。ケトン官能基の還元は、前記の反応剤
の一つ以上を使用して前記の溶媒の条件下で行われる。
この二つの還元は、通常出くわすようなもの、即ち、２
１位のエステルの還元を１１位のケトンの還元よりも先
に行う方法とは逆の順序でも行われることに留意された
い。これも本発明方法の予期できなかったものである。
もちろん、本発明の範囲から逸脱することなく、この二
つの還元は、１１−オキソ中間体を単離しないで単一操
作で行うことができることは明らかである。そのような
例を実験の部に示す。
【００１４】３位のケトン官能基の場合により行う遊離
化は、保護基の種類に適した手段により行われる。ケタ
ールの場合には酸試薬が水又は水−アルカノール混合物
の存在下に使用される。酸は、無機又は有機酸、例え
ば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、硝酸、ｐ−ト
ルエンスルホン酸、酢酸、ぎ酸、しゅう酸又はこれらの
酸の混合物の一つ以上或いは酸性樹脂、例えばスルホン
酸樹脂であってよい。チオケタール又は混成ケタールの
場合には、３−オキソ官能基の脱保護は、例えばアルカ
リ重炭酸塩のような塩基の存在下に沃素を作用させ、又
は酸化剤、特に過酸化水素の存在下に触媒量の沃素を作
用させ、又は沃化メチル、グリオキシル酸若しくは金属
塩（例えば水銀若しくはカドミウム）を作用させること
により行われる。操作は、一般に、例えばメタノール又
はエタノールのような低級アルカノール中で行われ、混
合は水の存在下にハロゲン化溶媒、特に塩化メチレンと
共にで行われる。混成ケタールの場合には、脱保護は、
例えば、酢酸−酢酸カリウム緩衝剤の存在下に約１００
℃で塩化第二水銀のような第二水銀塩により、上記と同
じ条件下でラネーニッケルにより、又は熱塩酸−酢酸混
合物により行われる。
化は、保護基の種類に適した手段により行われる。ケタ
ールの場合には酸試薬が水又は水−アルカノール混合物
の存在下に使用される。酸は、無機又は有機酸、例え
ば、塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、硝酸、ｐ−ト
ルエンスルホン酸、酢酸、ぎ酸、しゅう酸又はこれらの
酸の混合物の一つ以上或いは酸性樹脂、例えばスルホン
酸樹脂であってよい。チオケタール又は混成ケタールの
場合には、３−オキソ官能基の脱保護は、例えばアルカ
リ重炭酸塩のような塩基の存在下に沃素を作用させ、又
は酸化剤、特に過酸化水素の存在下に触媒量の沃素を作
用させ、又は沃化メチル、グリオキシル酸若しくは金属
塩（例えば水銀若しくはカドミウム）を作用させること
により行われる。操作は、一般に、例えばメタノール又
はエタノールのような低級アルカノール中で行われ、混
合は水の存在下にハロゲン化溶媒、特に塩化メチレンと
共にで行われる。混成ケタールの場合には、脱保護は、
例えば、酢酸−酢酸カリウム緩衝剤の存在下に約１００
℃で塩化第二水銀のような第二水銀塩により、上記と同
じ条件下でラネーニッケルにより、又は熱塩酸−酢酸混
合物により行われる。
【００１５】Ｒ1 がエーテル又はエステルの残基を表わ
すときは、特にケタールについて前記した条件と同じ条
件下で酸処理を使用することもできる。同じことが、オ
キシム又はセミカルバゾンの形で保護されたケトン官能
基の遊離化についていえる。
すときは、特にケタールについて前記した条件と同じ条
件下で酸処理を使用することもできる。同じことが、オ
キシム又はセミカルバゾンの形で保護されたケトン官能
基の遊離化についていえる。
【００１６】また、本発明の主題は前記の式（Ｉ）の化
合物を次式（Ａ）
合物を次式（Ａ）
【化３５】 （ここで、Ｒは上で定義した通りであり、Ｒ3 はヒドロ
キシ基の保護基であり、点線は第二の炭素−炭素結合が
存在し得ることを表わす）の化合物の製造に使用するに
あたり、式（Ｉ）の化合物の２１位のヒドロキシ官能基
を保護して次式（VII)
キシ基の保護基であり、点線は第二の炭素−炭素結合が
存在し得ることを表わす）の化合物の製造に使用するに
あたり、式（Ｉ）の化合物の２１位のヒドロキシ官能基
を保護して次式（VII)
【化３６】 （ここで、Ｒ、Ｒ3 、Ａ及びＢは既に示した意味を有す
る）の化合物を得、この化合物のニトリル官能基を水和
して次式（VIII）
る）の化合物を得、この化合物のニトリル官能基を水和
して次式（VIII）
【化３７】 の化合物を得、この化合物をホフマン減成反応に付して
次式（IX）
次式（IX）
【化３８】 の化合物を得、この化合物の３位のケトン官能基を要す
れば遊離化して式（Ａ）の所期の化合物を得ることを特
徴とする式（Ａ）の化合物の製造法にある。
れば遊離化して式（Ａ）の所期の化合物を得ることを特
徴とする式（Ａ）の化合物の製造法にある。
【００１７】ここで、ヒドロキシ基の保護基とは、製造
法の条件、特にホフマン減成の条件下において安定であ
る基、即ち、エーテル残基、殊に１〜６個の炭素原子を
含有するアルキル基、例えばメチル、エチル又はプロピ
ル基を意味する。このようなエーテルは、特に、塩基性
試薬の存在下に相当するハロゲン化物を作用させること
により、例えば、アルカリ水素化物、アミド又はアルコ
ラートのような強塩基の存在下に適当な沃化物又は臭化
物を作用させることにより製造される。操作は、特にテ
トラヒドロフラン若しくはジオキサンのようなエーテ
ル、ジメチルホルムアミド又はジメチルスルホキシドで
あってよい溶媒中で行われる。
法の条件、特にホフマン減成の条件下において安定であ
る基、即ち、エーテル残基、殊に１〜６個の炭素原子を
含有するアルキル基、例えばメチル、エチル又はプロピ
ル基を意味する。このようなエーテルは、特に、塩基性
試薬の存在下に相当するハロゲン化物を作用させること
により、例えば、アルカリ水素化物、アミド又はアルコ
ラートのような強塩基の存在下に適当な沃化物又は臭化
物を作用させることにより製造される。操作は、特にテ
トラヒドロフラン若しくはジオキサンのようなエーテ
ル、ジメチルホルムアミド又はジメチルスルホキシドで
あってよい溶媒中で行われる。
【００１８】ニトリル官能基の水和は、無機塩基水溶液
を作用させることにより、特に水酸化ナトリウム、カリ
ウム又はリチウムのようなアルカリ水酸化物を作用させ
ることにより行われる。操作は、好ましくは極性の有機
溶媒、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド又はアセトニト
リルの存在下に行われる。
を作用させることにより、特に水酸化ナトリウム、カリ
ウム又はリチウムのようなアルカリ水酸化物を作用させ
ることにより行われる。操作は、好ましくは極性の有機
溶媒、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド又はアセトニト
リルの存在下に行われる。
【００１９】アミドの減成は、アルカリ又はアルカリ土
金属次亜ハロゲン酸塩、特に、要すればその場で形成さ
れる次亜塩素酸ナトリウム又は次亜臭素酸ナトリウムの
作用によって行われる。操作は、水の存在下に溶媒（こ
れは好ましくは前記したようなものである）中で行われ
る。しかして、本発明は、ホフマン減成を式(VIII)のア
ミドを中間で単離することなく行うことを特徴とする前
記の方法にある。場合により行うケトン官能基の遊離化
は前記したような条件下で行われる。
金属次亜ハロゲン酸塩、特に、要すればその場で形成さ
れる次亜塩素酸ナトリウム又は次亜臭素酸ナトリウムの
作用によって行われる。操作は、水の存在下に溶媒（こ
れは好ましくは前記したようなものである）中で行われ
る。しかして、本発明は、ホフマン減成を式(VIII)のア
ミドを中間で単離することなく行うことを特徴とする前
記の方法にある。場合により行うケトン官能基の遊離化
は前記したような条件下で行われる。
【００２０】最後に、本発明の主題は、下記の中間体化
合物にある。 ・次式
合物にある。 ・次式
【化３９】 （ここで、Ａ1 、Ｂ1 、Ｒ2 及び波線は上で定義した通
りであり、Ｒ4 及びＲ5は一緒になって炭素−炭素結合
又はα位のエポキシを形成する） の化合物； ・次式
りであり、Ｒ4 及びＲ5は一緒になって炭素−炭素結合
又はα位のエポキシを形成する） の化合物； ・次式
【化４０】 （ここで、Ａ、Ｂ、Ｒ及び波線は上で定義した通りであ
り、Ｒ3 は上で定義した通りであり、Ｒ6 はシアノ基又
はカルバモイル基を表わす） の化合物。
り、Ｒ3 は上で定義した通りであり、Ｒ6 はシアノ基又
はカルバモイル基を表わす） の化合物。
【００２１】式（Ａ）の化合物は、一般に、知られた化
合物であり、例えば、米国特許第２６４８６８８号又は
Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２６，４１５３−５（１９６
１）及び２６，５０４６−５２（１９６１）から合成中
間体として又は生物学的に活性な化合物として知られて
いる。式（II）の化合物は、例えば米国特許第２８４４
６００号に記載されている。
合物であり、例えば、米国特許第２６４８６８８号又は
Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．２６，４１５３−５（１９６
１）及び２６，５０４６−５２（１９６１）から合成中
間体として又は生物学的に活性な化合物として知られて
いる。式（II）の化合物は、例えば米国特許第２８４４
６００号に記載されている。
【００２２】
【実施例】下記の実施例は本発明を例示するものであっ
て、それを何ら制限するものではない。
て、それを何ら制限するものではない。
【００２３】例１：１７，２０−エポキシ−２０−シア
ノ−２１−ヒドロキシプレグナ−５−エン−３，１１−
ジオンの環状３，３−（１，２−エタンジイル）アセタ
ール
ノ−２１−ヒドロキシプレグナ−５−エン−３，１１−
ジオンの環状３，３−（１，２−エタンジイル）アセタ
ール
【００２４】工程Ａ：アンドロスタ−５−エン−３，１
１，１７−トリオンの環状３，３−（１，２−エタンジ
イル）アセタール １０ｇのアドレノステロンと１５０ｃｃのメチルエチル
ジオキソランを不活性ガス雰囲気下に混合し、混合物を
３０分間還流させ、０．０３３ｇのｐ−トルエンスルホ
ン酸を添加し、６時間３０分還流させる。反応媒体を５
０℃に冷却し、０．５ｃｃのトリエチルアミンを添加
し、次いで減圧下に濃縮乾固させる。得られた生成物を
エタノールから再結晶し、分離し、冷エタノール、次い
でエタノール−水混合物で洗浄し、乾燥する。６．３５
ｇの所期化合物を得た。 Ｍｐ＝１９６−１９８℃。ＩＲスペクトル （ＣＨＣｌ3 ） １７４０ｃｍ-1（１７−Ｃ＝Ｏ）及び１７０６ｃｍ
-1（１１−Ｃ＝Ｏ）の吸収ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，２５０ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） ０．８６：１８−ＣＨ3 ；３．９５：ケタールのＣＨ
2 ；５．３８：６位のＨ
１，１７−トリオンの環状３，３−（１，２−エタンジ
イル）アセタール １０ｇのアドレノステロンと１５０ｃｃのメチルエチル
ジオキソランを不活性ガス雰囲気下に混合し、混合物を
３０分間還流させ、０．０３３ｇのｐ−トルエンスルホ
ン酸を添加し、６時間３０分還流させる。反応媒体を５
０℃に冷却し、０．５ｃｃのトリエチルアミンを添加
し、次いで減圧下に濃縮乾固させる。得られた生成物を
エタノールから再結晶し、分離し、冷エタノール、次い
でエタノール−水混合物で洗浄し、乾燥する。６．３５
ｇの所期化合物を得た。 Ｍｐ＝１９６−１９８℃。ＩＲスペクトル （ＣＨＣｌ3 ） １７４０ｃｍ-1（１７−Ｃ＝Ｏ）及び１７０６ｃｍ
-1（１１−Ｃ＝Ｏ）の吸収ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，２５０ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） ０．８６：１８−ＣＨ3 ；３．９５：ケタールのＣＨ
2 ；５．３８：６位のＨ
【００２５】工程Ｂ：２０−シアノ−３，３−（１，２
−エタンジイルビスオキシ）−１１−オキソプレグナ−
５，１７（２０）−ジエン−２１−酸エチル 工程Ａで得た６．２５ｇの化合物、１００ｃｃのキシレ
ン、６．２ｃｃのシアン酢酸エチル、３．１ｃｃのヘキ
シルアミン及び０．３１ｇの安息香酸を混合する。混合
物を２４時間還流させると同時に反応中に生成する水を
除去し、次いで１５℃に冷却し、５ｃｃの１０％重炭酸
ナトリウム水溶液を添加する。１時間撹拌し、次いでデ
カンテーションし、有機相を水洗し、減圧下に濃縮す
る。結晶化生成物を得た。これを酢酸エチルから再結晶
する。結晶をヘキサンで洗浄し、乾燥した後、３．４２
ｇの所期化合物を得た。母液をシリカでクロマトグラフ
ィーし、シクロヘキサン−トルエン−酢酸エチル混合物
（２／２／１）で溶離することによって、２．７５ｇの
追加の所期化合物を得た。ＩＲスペクトル （ＣＨＣｌ3 ） ２２２６ｃｍ-1（Ｃ≡Ｎ），１７２５−１７０７ｃｍ-1
（Ｃ＝Ｏ及び共役エステル），１６１１ｃｍ-1（Ｃ＝
Ｃ）の吸収ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） １．０１：１８位のＣＨ3 ；１．２３：１９位のＣＨ
3 ；１．３４（ｔ）：エステルのＣＨ3 ；３．９４：ア
セタールのＣＨ2 ；４．２７（ｑ）：エステルのＣＨ
2 ；５．３６：６位のＨ
−エタンジイルビスオキシ）−１１−オキソプレグナ−
５，１７（２０）−ジエン−２１−酸エチル 工程Ａで得た６．２５ｇの化合物、１００ｃｃのキシレ
ン、６．２ｃｃのシアン酢酸エチル、３．１ｃｃのヘキ
シルアミン及び０．３１ｇの安息香酸を混合する。混合
物を２４時間還流させると同時に反応中に生成する水を
除去し、次いで１５℃に冷却し、５ｃｃの１０％重炭酸
ナトリウム水溶液を添加する。１時間撹拌し、次いでデ
カンテーションし、有機相を水洗し、減圧下に濃縮す
る。結晶化生成物を得た。これを酢酸エチルから再結晶
する。結晶をヘキサンで洗浄し、乾燥した後、３．４２
ｇの所期化合物を得た。母液をシリカでクロマトグラフ
ィーし、シクロヘキサン−トルエン−酢酸エチル混合物
（２／２／１）で溶離することによって、２．７５ｇの
追加の所期化合物を得た。ＩＲスペクトル （ＣＨＣｌ3 ） ２２２６ｃｍ-1（Ｃ≡Ｎ），１７２５−１７０７ｃｍ-1
（Ｃ＝Ｏ及び共役エステル），１６１１ｃｍ-1（Ｃ＝
Ｃ）の吸収ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） １．０１：１８位のＣＨ3 ；１．２３：１９位のＣＨ
3 ；１．３４（ｔ）：エステルのＣＨ3 ；３．９４：ア
セタールのＣＨ2 ；４．２７（ｑ）：エステルのＣＨ
2 ；５．３６：６位のＨ
【００２６】工程Ｃ：２０−シアノ−３，３−（１，２
−エタンジイルビスオキシ）−１１−オキソ−１７，２
０−エポキシプレグナ−５−エン−２１−酸エチル 工程Ｂで得た０．２５５ｇの化合物、１ｃｃの塩化メチ
レン及び４ｃｃのエタノールを不活性ガス雰囲気下に混
合する。得られた溶液に０．２ｃｃの５０％過酸化水素
を２０℃で添加する。次いで、５０％重炭酸カリウム飽
和エタノール溶液をｐＨ９となるまで添加し、次いで反
応媒体を一定のｐＨで３時間３０分撹拌し続ける。次い
で、０．５ｃｃの１０％酢酸を添加し、次いで約２５℃
で減圧下に濃縮乾固させる。残留物を水と塩化メチレン
との混合物に溶解し、デカンテーションし、有機相を濃
縮乾固させる。残留物をシリカでクロマトグラフィー
し、塩化メチレン−酢酸エチル混合物（９５−５）で溶
離し、０．２３６ｇの所期化合物を得た。ＩＲスペクトル （ＣＨＣｌ3 ） １７６４ｃｍ-1及び１７４０ｃｍ-1（カルボニル），１
７０７ｃｍ-1（１１−ケト），２２４３−２２３５ｃｍ
-1（非共役Ｃ≡Ｎ），１６７２ｃｍ-1（Ｃ＝Ｃ）の吸収ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） １．０５（ｓ）（３Ｈ）：１８位のＣＨ3 ；１．２２
（ｓ）（３Ｈ）：１９位のＣＨ3 ；３．９５（ｍ）（４
Ｈ）：ケタール；５．３０（ｍ）（１Ｈ）：６位のＨ；
１．３７（３Ｈ）；４．３５（２Ｈ）：−ＣＨ2 −ＣＨ
3
−エタンジイルビスオキシ）−１１−オキソ−１７，２
０−エポキシプレグナ−５−エン−２１−酸エチル 工程Ｂで得た０．２５５ｇの化合物、１ｃｃの塩化メチ
レン及び４ｃｃのエタノールを不活性ガス雰囲気下に混
合する。得られた溶液に０．２ｃｃの５０％過酸化水素
を２０℃で添加する。次いで、５０％重炭酸カリウム飽
和エタノール溶液をｐＨ９となるまで添加し、次いで反
応媒体を一定のｐＨで３時間３０分撹拌し続ける。次い
で、０．５ｃｃの１０％酢酸を添加し、次いで約２５℃
で減圧下に濃縮乾固させる。残留物を水と塩化メチレン
との混合物に溶解し、デカンテーションし、有機相を濃
縮乾固させる。残留物をシリカでクロマトグラフィー
し、塩化メチレン−酢酸エチル混合物（９５−５）で溶
離し、０．２３６ｇの所期化合物を得た。ＩＲスペクトル （ＣＨＣｌ3 ） １７６４ｃｍ-1及び１７４０ｃｍ-1（カルボニル），１
７０７ｃｍ-1（１１−ケト），２２４３−２２３５ｃｍ
-1（非共役Ｃ≡Ｎ），１６７２ｃｍ-1（Ｃ＝Ｃ）の吸収ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） １．０５（ｓ）（３Ｈ）：１８位のＣＨ3 ；１．２２
（ｓ）（３Ｈ）：１９位のＣＨ3 ；３．９５（ｍ）（４
Ｈ）：ケタール；５．３０（ｍ）（１Ｈ）：６位のＨ；
１．３７（３Ｈ）；４．３５（２Ｈ）：−ＣＨ2 −ＣＨ
3
【００２７】工程Ｄ：１７，２０−エポキシ−２０−シ
アノ−２１−ヒドロキシプレグナ−５−エン−３，１１
−ジオンの環状３，３−（１，２−エタンジイル）アセ
タール 工程Ｃに記載のように得た４．３６ｇの化合物、４４ｃ
ｃのトルエン及び４４ｃｃのエタノールを不活性ガス雰
囲気下に混合する。得られた溶液に０．１９５ｇの硼水
素化ナトリウムを添加する。これを２０℃で２時間撹拌
し続け、０．０９７ｇの硼水素化ナトリウムを添加し、
０℃で２時間撹拌する。次いで５ｃｃの２０％塩化アン
モニウムを添加し、１０℃で３０分間撹拌し、次いで半
分の容積まで濃縮する。５０ｃｃの水と５０ｃｃの酢酸
エチルを添加し、混合物を撹拌し、デカンテーションす
る。有機相を乾燥し、濃縮乾固させる。残留物をシリカ
でクロマトグラフィーし、塩化メチレン−酢酸エチル混
合物（８−２）で溶離する。３．１７ｇの所期化合物を
得た。ＩＲスペクトル （ＣＨＣｌ3 ） ３６０５ｃｍ-1（−ＯＨ），２２４２ｃｍ-1（−Ｃ≡
Ｎ），１７０５ｃｍ-1（Ｃ＝Ｏ），１６７０ｃｍ-1（Ｃ
＝Ｃ）の吸収ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，２００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） １．０１：１８位のＣＨ3 ；１．２２：１９位のＣＨ
3 ；３．８１：２１位のＣＨ2 ；３．９５：アセタール
のＣＨ2 ；５．３５：６位のＨ
アノ−２１−ヒドロキシプレグナ−５−エン−３，１１
−ジオンの環状３，３−（１，２−エタンジイル）アセ
タール 工程Ｃに記載のように得た４．３６ｇの化合物、４４ｃ
ｃのトルエン及び４４ｃｃのエタノールを不活性ガス雰
囲気下に混合する。得られた溶液に０．１９５ｇの硼水
素化ナトリウムを添加する。これを２０℃で２時間撹拌
し続け、０．０９７ｇの硼水素化ナトリウムを添加し、
０℃で２時間撹拌する。次いで５ｃｃの２０％塩化アン
モニウムを添加し、１０℃で３０分間撹拌し、次いで半
分の容積まで濃縮する。５０ｃｃの水と５０ｃｃの酢酸
エチルを添加し、混合物を撹拌し、デカンテーションす
る。有機相を乾燥し、濃縮乾固させる。残留物をシリカ
でクロマトグラフィーし、塩化メチレン−酢酸エチル混
合物（８−２）で溶離する。３．１７ｇの所期化合物を
得た。ＩＲスペクトル （ＣＨＣｌ3 ） ３６０５ｃｍ-1（−ＯＨ），２２４２ｃｍ-1（−Ｃ≡
Ｎ），１７０５ｃｍ-1（Ｃ＝Ｏ），１６７０ｃｍ-1（Ｃ
＝Ｃ）の吸収ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，２００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） １．０１：１８位のＣＨ3 ；１．２２：１９位のＣＨ
3 ；３．８１：２１位のＣＨ2 ；３．９５：アセタール
のＣＨ2 ；５．３５：６位のＨ
【００２８】例２：１１β，２１−ジヒドロキシ−１
７，２０−エポキシ−２０−シアノプレグナ−５−エン
−３−オンの環状３，３−（１，２−エタンジイル）ア
セタール 例１の工程Ｃで得た５．９ｇの化合物、１２０ｃｃのエ
タノール及び１．２ｃｃの硼水素化ナトリウムを不活性
ガス雰囲気下に混合し、次いで周囲温度で４５分間撹拌
する。次いで混合物を４５℃にもたらし、１時間３０分
後にさらに０．６ｇの硼水素化ナトリウムを添加し、次
いで３時間後に再度添加する。４時間３０分後に、反応
媒体を０〜５℃に冷却し、反応温度を１５℃以下に保持
しながら２００ｃｃの塩化アンモニウム飽和溶液をゆっ
くりと添加する。撹拌した後、水−酢酸エチル混合物を
導入し、次いでデカンテーションし、有機相を乾燥し、
濃縮乾固させる。残留生成物をシリカでクロマトグラフ
ィーし、シクロヘキサン−酢酸エチル混合物（１−１）
で溶離することにより精製し、３ｇの所期化合物を得
た。ＩＲスペクトル （ＣＨＣｌ3 ） ３６１４ｃｍ-1（−ＯＨ），２２４０ｃｍ-1（−Ｃ≡
Ｎ）の吸収，Ｃ＝Ｏの不存在ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，２００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） １．２８（ｓ）：１８位のＣＨ3 ；１．３２（ｓ）：１
９位のＣＨ3 ；３．７６及び３．８７（ｄ，Ｊ＝１
２）：２１位のＣＨ2 ；３．９５：ケタールのＣＨ2 ；
４．５：１１位のＨ；５．２５：６位のＨ
７，２０−エポキシ−２０−シアノプレグナ−５−エン
−３−オンの環状３，３−（１，２−エタンジイル）ア
セタール 例１の工程Ｃで得た５．９ｇの化合物、１２０ｃｃのエ
タノール及び１．２ｃｃの硼水素化ナトリウムを不活性
ガス雰囲気下に混合し、次いで周囲温度で４５分間撹拌
する。次いで混合物を４５℃にもたらし、１時間３０分
後にさらに０．６ｇの硼水素化ナトリウムを添加し、次
いで３時間後に再度添加する。４時間３０分後に、反応
媒体を０〜５℃に冷却し、反応温度を１５℃以下に保持
しながら２００ｃｃの塩化アンモニウム飽和溶液をゆっ
くりと添加する。撹拌した後、水−酢酸エチル混合物を
導入し、次いでデカンテーションし、有機相を乾燥し、
濃縮乾固させる。残留生成物をシリカでクロマトグラフ
ィーし、シクロヘキサン−酢酸エチル混合物（１−１）
で溶離することにより精製し、３ｇの所期化合物を得
た。ＩＲスペクトル （ＣＨＣｌ3 ） ３６１４ｃｍ-1（−ＯＨ），２２４０ｃｍ-1（−Ｃ≡
Ｎ）の吸収，Ｃ＝Ｏの不存在ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，２００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） １．２８（ｓ）：１８位のＣＨ3 ；１．３２（ｓ）：１
９位のＣＨ3 ；３．７６及び３．８７（ｄ，Ｊ＝１
２）：２１位のＣＨ2 ；３．９５：ケタールのＣＨ2 ；
４．５：１１位のＨ；５．２５：６位のＨ
【００２９】例３：１７α−ヒドロキシ−２１−メトキ
シプレグナ−４−エン−３，１１，２０−トリオン
シプレグナ−４−エン−３，１１，２０−トリオン
【００３０】工程Ａ：１７，２０−エポキシ−２０−シ
アノ−２１−メトキシプレグナ−５−エン−３，１１−
ジオンの環状３，３−（１，２−エタンジイル）アセタ
ール ２０ｃｃの無水テトラヒドロフラン及び０．６６８ｇの
５０％油中水素化ナトリウムを不活性ガス雰囲気下に混
合する。次いで、例１で得た４．２１ｇの化合物を３０
ｃｃのテトラヒドロフランに溶解してなる溶液を２０〜
２２℃で撹拌しながら５分間で添加する。２０〜２２℃
で４０分間撹拌し、次いで３ｃｃのメタノールを添加
し、次いで１時間撹拌し続ける。得られた溶液を５０ｃ
ｃの２０％塩化アンモニウム水溶液と５０ｇの氷との混
合物中に注ぐ。酢酸エチルで抽出し、有機相を乾燥し、
濃縮乾固させる。４．６１ｇの粗生成物を得た。これを
イソプロピルエーテル−酢酸エチル混合物中でペースト
状にして精製する。乾燥した後、４．０３ｇの所期化合
物を得た。Ｍｐ＝約２５６℃。ＩＲスペクトル （ＣＨＣｌ3 ） ２２４０ｃｍ-1（−Ｃ≡Ｎ），１７０６ｃｍ-1（Ｃ＝
Ｏ），１６７０−１６３７ｃｍ-1（Ｃ＝Ｃ）の吸収，Ｏ
Ｈの不存在ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） １．００（ｓ）：１８位のＣＨ3 ；１．２２（ｓ）：１
９位のＣＨ3 ；３．４７（ｓ）：Ｏ−ＣＨ3 ；３．５
７：２１位のＣＨ2 ；３．９５：ケタールのＣＨ2 ；
５．３５：６位のＨ
アノ−２１−メトキシプレグナ−５−エン−３，１１−
ジオンの環状３，３−（１，２−エタンジイル）アセタ
ール ２０ｃｃの無水テトラヒドロフラン及び０．６６８ｇの
５０％油中水素化ナトリウムを不活性ガス雰囲気下に混
合する。次いで、例１で得た４．２１ｇの化合物を３０
ｃｃのテトラヒドロフランに溶解してなる溶液を２０〜
２２℃で撹拌しながら５分間で添加する。２０〜２２℃
で４０分間撹拌し、次いで３ｃｃのメタノールを添加
し、次いで１時間撹拌し続ける。得られた溶液を５０ｃ
ｃの２０％塩化アンモニウム水溶液と５０ｇの氷との混
合物中に注ぐ。酢酸エチルで抽出し、有機相を乾燥し、
濃縮乾固させる。４．６１ｇの粗生成物を得た。これを
イソプロピルエーテル−酢酸エチル混合物中でペースト
状にして精製する。乾燥した後、４．０３ｇの所期化合
物を得た。Ｍｐ＝約２５６℃。ＩＲスペクトル （ＣＨＣｌ3 ） ２２４０ｃｍ-1（−Ｃ≡Ｎ），１７０６ｃｍ-1（Ｃ＝
Ｏ），１６７０−１６３７ｃｍ-1（Ｃ＝Ｃ）の吸収，Ｏ
Ｈの不存在ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） １．００（ｓ）：１８位のＣＨ3 ；１．２２（ｓ）：１
９位のＣＨ3 ；３．４７（ｓ）：Ｏ−ＣＨ3 ；３．５
７：２１位のＣＨ2 ；３．９５：ケタールのＣＨ2 ；
５．３５：６位のＨ
【００３１】工程Ｂ：１７，２０−エポキシ−２０−カ
ルバモイル−２１−メトキシプレグナ−５−エン−３，
１１−ジオンの環状３，３−（１，２−エタンジイル）
アセタール 工程Ａで得た０．３６ｇの化合物と０．０４９ｇの水酸
化リチウムを７．５ｃｃのジオキサンと２．５ｃｃの水
に溶解する。溶液を２時間還流させる。次いでこれを周
囲温度に戻し、０．２Ｎ塩酸で希釈する。塩化メチレン
で抽出し、有機相を乾燥し、濃縮乾固させる。０．３７
８ｇの所期化合物を得た。これはそのまま次の工程に使
用する。ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，２００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） ０．８８（ｓ）：１８位のＣＨ3 ；１．１７（ｓ）：１
９位のＣＨ3 ；３．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ）及
び４．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ）：２１位のＣＨ
2 ；３．３９（３Ｈ，ｓ）：Ｏ−ＣＨ3 ；５．３７（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ及びＪ＝７．５Ｈｚ）：６位
のＨ；５．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ）及び６．１９
（１Ｈ，ｄＪ＝４Ｈｚ）：−ＮＨ2 −
ルバモイル−２１−メトキシプレグナ−５−エン−３，
１１−ジオンの環状３，３−（１，２−エタンジイル）
アセタール 工程Ａで得た０．３６ｇの化合物と０．０４９ｇの水酸
化リチウムを７．５ｃｃのジオキサンと２．５ｃｃの水
に溶解する。溶液を２時間還流させる。次いでこれを周
囲温度に戻し、０．２Ｎ塩酸で希釈する。塩化メチレン
で抽出し、有機相を乾燥し、濃縮乾固させる。０．３７
８ｇの所期化合物を得た。これはそのまま次の工程に使
用する。ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，２００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） ０．８８（ｓ）：１８位のＣＨ3 ；１．１７（ｓ）：１
９位のＣＨ3 ；３．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ）及
び４．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１Ｈｚ）：２１位のＣＨ
2 ；３．３９（３Ｈ，ｓ）：Ｏ−ＣＨ3 ；５．３７（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ及びＪ＝７．５Ｈｚ）：６位
のＨ；５．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４Ｈｚ）及び６．１９
（１Ｈ，ｄＪ＝４Ｈｚ）：−ＮＨ2 −
【００３２】工程Ｃ：１７α−ヒドロキシ−２１−メト
キシプレグナ−５−エン−３，１１，２０−トリオンの
環状３，３−（１，２−エタンジイル）アセタール 工程Ｂで得た０．３６ｇの化合物と０．０４９ｇの水酸
化リチウムを不活性ガス雰囲気下に混合する。５ｃｃの
ジオキサンと１ｃｃの水を添加し、次いで混合物を３時
間還流させる。溶液を氷浴により冷却し、次いで０．５
ｃｃの１５％の次亜塩素酸ナトリウムを添加し、０〜＋
２０℃で３時間撹拌すると共にその間にさらに１ｃｃの
１５％次亜塩素酸ナトリウムを２回添加する。反応媒体
を水で希釈し、エーテルで抽出し、有機相を乾燥し、濃
縮乾固させる。残留物をシリカでクロマトグラフィー
し、酢酸エチル−シクロヘキサン混合物（１５−８５、
次いで５０−５０）で溶離し、０．０７３ｇの所期化合
物を得た。これを塩化メチレン−ヘキサン混合物から再
結晶する。Ｍｐ＝２３６℃。ＩＲスペクトル （ＣＨＣｌ3 ） ３６１０ｃｍ-1（ＯＨ），１７０３ｃｍ-1及び１６７０
ｃｍ-1（Ｃ＝Ｏ及びＣ＝Ｃ）の吸収ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，２００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） ０．６３（ｓ，３Ｈ）：１８位のＣＨ3 ；１．２１
（ｓ，３Ｈ）：１９位のＣＨ3 ；３．４５（ｓ，３
Ｈ）：Ｏ−ＣＨ3 ；３．９５（４Ｈ）：アセタールの−
ＣＨ2 ；４．１７（ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ，１Ｈ）及び４．
３６（ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ，１Ｈ）：２１位のＣＨ2 ；
５．３６（ｍ，１Ｈ）：６位のＨ
キシプレグナ−５−エン−３，１１，２０−トリオンの
環状３，３−（１，２−エタンジイル）アセタール 工程Ｂで得た０．３６ｇの化合物と０．０４９ｇの水酸
化リチウムを不活性ガス雰囲気下に混合する。５ｃｃの
ジオキサンと１ｃｃの水を添加し、次いで混合物を３時
間還流させる。溶液を氷浴により冷却し、次いで０．５
ｃｃの１５％の次亜塩素酸ナトリウムを添加し、０〜＋
２０℃で３時間撹拌すると共にその間にさらに１ｃｃの
１５％次亜塩素酸ナトリウムを２回添加する。反応媒体
を水で希釈し、エーテルで抽出し、有機相を乾燥し、濃
縮乾固させる。残留物をシリカでクロマトグラフィー
し、酢酸エチル−シクロヘキサン混合物（１５−８５、
次いで５０−５０）で溶離し、０．０７３ｇの所期化合
物を得た。これを塩化メチレン−ヘキサン混合物から再
結晶する。Ｍｐ＝２３６℃。ＩＲスペクトル （ＣＨＣｌ3 ） ３６１０ｃｍ-1（ＯＨ），１７０３ｃｍ-1及び１６７０
ｃｍ-1（Ｃ＝Ｏ及びＣ＝Ｃ）の吸収ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，２００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） ０．６３（ｓ，３Ｈ）：１８位のＣＨ3 ；１．２１
（ｓ，３Ｈ）：１９位のＣＨ3 ；３．４５（ｓ，３
Ｈ）：Ｏ−ＣＨ3 ；３．９５（４Ｈ）：アセタールの−
ＣＨ2 ；４．１７（ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ，１Ｈ）及び４．
３６（ｄ，Ｊ＝１８Ｈｚ，１Ｈ）：２１位のＣＨ2 ；
５．３６（ｍ，１Ｈ）：６位のＨ
【００３３】工程Ｄ：１７α−ヒドロキシ−２１−メト
キシプレグナ−４−エン−３，１１，２０−トリオン 工程Ｃで得た０．０３６ｇの化合物を１ｃｃのメタノー
ル及び０．２ｃｃの２Ｎ塩酸と混合する。混合物を４時
間撹拌し続け、沈殿を分離し、乾燥する。０．０１２ｇ
の所期化合物を得た。母液を濃縮することによってさら
に所望化合物を得た。ＩＲスペクトル （ＣＨＣｌ3 ） ３６１０−３４８０ｃｍ-1（１７−ＯＨ），１７０６ｃ
ｍ-1（１１−Ｃ＝Ｏ及び２０−Ｃ＝Ｏ）；１６６７ｃｍ
-1（共役３−Ｃ＝Ｏ）：１６１７ｃｍ-1（Δ4, 5 ）の吸
収ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，２００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） ０．６７（ｓ）：１８位のＣＨ3 ；１．４１：１９位の
ＣＨ3 ；３．４４（ｓ）：Ｏ−ＣＨ3 ；３．４７
（ｓ）：１７位のＯＨ；４．１９（ｄ）及び４．３１
（ｄ）：２１位のＣＨ2 ；５．７４：４位のＨ
キシプレグナ−４−エン−３，１１，２０−トリオン 工程Ｃで得た０．０３６ｇの化合物を１ｃｃのメタノー
ル及び０．２ｃｃの２Ｎ塩酸と混合する。混合物を４時
間撹拌し続け、沈殿を分離し、乾燥する。０．０１２ｇ
の所期化合物を得た。母液を濃縮することによってさら
に所望化合物を得た。ＩＲスペクトル （ＣＨＣｌ3 ） ３６１０−３４８０ｃｍ-1（１７−ＯＨ），１７０６ｃ
ｍ-1（１１−Ｃ＝Ｏ及び２０−Ｃ＝Ｏ）；１６６７ｃｍ
-1（共役３−Ｃ＝Ｏ）：１６１７ｃｍ-1（Δ4, 5 ）の吸
収ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，２００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） ０．６７（ｓ）：１８位のＣＨ3 ；１．４１：１９位の
ＣＨ3 ；３．４４（ｓ）：Ｏ−ＣＨ3 ；３．４７
（ｓ）：１７位のＯＨ；４．１９（ｄ）及び４．３１
（ｄ）：２１位のＣＨ2 ；５．７４：４位のＨ
【００３４】例４：１７α−ヒドロキシ−２１−メトキ
シプレグナ−４−エン−３，１１，２０−トリオン
シプレグナ−４−エン−３，１１，２０−トリオン
【００３５】工程Ａ：１７，２０−エポキシ−２０−シ
アノ−２１−ヒドロキシプレグナ−４−エン−３，１１
−ジオン 例１に記載のように得た４．１ｇの化合物、８０ｃｃの
メタノール及び７ｃｃの塩化メチレンを不活性ガス雰囲
気下に混合する。２０ｃｃの２Ｎ塩酸を添加し、混合物
を周囲温度で４時間撹拌し続ける。生成した結晶を分離
し、メタノール−水混合物で、次いで水で洗浄する。母
液を濃縮することによってさらに所望化合物を単離す
る。乾燥した後、生成物をシリカでクロマトグラフィー
し、クロロホルム−イソプロパノール混合物（９５−
５）で溶離し、３．３ｇの所期化合物を得た。Ｍｐ＝２
５６℃。ＩＲスペクトル （ＣＨＣｌ3 ） ３３１０ｃｍ-1（ＯＨ），１７０３ｃｍ-1及び１６５４
ｃｍ-1（Ｃ＝Ｏ），１６１２ｃｍ-1（Ｃ＝Ｃ）の吸収ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） １．０４（ｓ）：１８位のＣＨ3 ；１．４２（ｓ）：１
９位のＣＨ3 ；３．８４（ＡＢ系）：−ＣＨ2 ＯＨ；
５．７４（ｓ）：４位のＨ分析 ：Ｃ22Ｈ27Ｏ4 Ｎ（３６９．５２） 計算：Ｃ％７１．４ Ｈ％７．３ Ｎ％３．８ 実測：Ｃ％７１．３ Ｈ％７．３ Ｎ％３．５
アノ−２１−ヒドロキシプレグナ−４−エン−３，１１
−ジオン 例１に記載のように得た４．１ｇの化合物、８０ｃｃの
メタノール及び７ｃｃの塩化メチレンを不活性ガス雰囲
気下に混合する。２０ｃｃの２Ｎ塩酸を添加し、混合物
を周囲温度で４時間撹拌し続ける。生成した結晶を分離
し、メタノール−水混合物で、次いで水で洗浄する。母
液を濃縮することによってさらに所望化合物を単離す
る。乾燥した後、生成物をシリカでクロマトグラフィー
し、クロロホルム−イソプロパノール混合物（９５−
５）で溶離し、３．３ｇの所期化合物を得た。Ｍｐ＝２
５６℃。ＩＲスペクトル （ＣＨＣｌ3 ） ３３１０ｃｍ-1（ＯＨ），１７０３ｃｍ-1及び１６５４
ｃｍ-1（Ｃ＝Ｏ），１６１２ｃｍ-1（Ｃ＝Ｃ）の吸収ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） １．０４（ｓ）：１８位のＣＨ3 ；１．４２（ｓ）：１
９位のＣＨ3 ；３．８４（ＡＢ系）：−ＣＨ2 ＯＨ；
５．７４（ｓ）：４位のＨ分析 ：Ｃ22Ｈ27Ｏ4 Ｎ（３６９．５２） 計算：Ｃ％７１．４ Ｈ％７．３ Ｎ％３．８ 実測：Ｃ％７１．３ Ｈ％７．３ Ｎ％３．５
【００３６】工程Ｂ：１７，２０−エポキシ−２０−シ
アノ−２１−メトキシプレグナ−４−エン−３，１１−
ジオン 前記工程Ａで得た化合物から出発して、例３の工程Ａに
記載の方法に従って、２１位のエーテルを製造した。
アノ−２１−メトキシプレグナ−４−エン−３，１１−
ジオン 前記工程Ａで得た化合物から出発して、例３の工程Ａに
記載の方法に従って、２１位のエーテルを製造した。
【００３７】工程Ｃ：１７α−ヒドロキシ−２１−メト
キシプレグナ−４−エン−３，１１，２０−トリオン 上記工程Ｂで得た化合物より出発して、例３の工程Ｂに
記載のように、１７，２０−エポキシ−２０−カルバモ
イル−２１−メトキシプレグナ−４−エン−３，１１−
ジオンを中間で単離し、次いでこの化合物をホフマン減
成の原理に従ってジャベル水で処理することによって、
或いは例３の工程Ｃに記載のように、即ち、２０−カル
バモイル化合物を中間で単離することなくこの減成を行
うことによって操作を行う。例３の工程Ｄで得たものと
同一の所期化合物を得た。
キシプレグナ−４−エン−３，１１，２０−トリオン 上記工程Ｂで得た化合物より出発して、例３の工程Ｂに
記載のように、１７，２０−エポキシ−２０−カルバモ
イル−２１−メトキシプレグナ−４−エン−３，１１−
ジオンを中間で単離し、次いでこの化合物をホフマン減
成の原理に従ってジャベル水で処理することによって、
或いは例３の工程Ｃに記載のように、即ち、２０−カル
バモイル化合物を中間で単離することなくこの減成を行
うことによって操作を行う。例３の工程Ｄで得たものと
同一の所期化合物を得た。
【００３８】例５：１１β，１７α−ジヒドロキシ−２
１−メトキシプレグナ−４−エン−３，２０−ジオン工程Ａ ：１１β−ヒドロキシ−１７，２０−エポキシ−
２０−シアノ−２１−メトキシプレグナ−５−エン−３
−オンの環状３，３−（１，２−エタンジイル）アセタ
ール 例２で得た化合物より出発して例３の工程Ａに記載のよ
うに操作を行い、所望化合物を得た。工程Ｂ ：１１β，１７α−ジヒドロキシ−２１−メトキ
シプレグナ−５−エン−３，２０−ジオンの環状３，３
−（１，２−エタンジイル）アセタール 上記工程Ａで得た化合物より出発して、例３の工程Ｂに
記載のように、１１β−１７，２０−エポキシ−２０−
カルバモイル−２１−メトキシプレグナ−５−エン−３
−オンの環状３，３−（１，２−エタンジイル）アセタ
ールを中間で単離し、次いでこの化合物をホフマン減成
の原理に従ってジャベル水で処理することによって、或
いは例３の工程Ｃに記載のように、即ち、２０−カルバ
モイル化合物を中間で単離することなくこの減成を行う
ことによって操作を行う。工程Ｃ ：１１β，１７α−ジヒドロキシ−２１−メトキ
シプレグナ−４−エン−３，２０−ジオン 上記工程Ｂで得た化合物より出発して例３の工程Ｄに記
載のように操作を行い、所期化合物を得た。
１−メトキシプレグナ−４−エン−３，２０−ジオン工程Ａ ：１１β−ヒドロキシ−１７，２０−エポキシ−
２０−シアノ−２１−メトキシプレグナ−５−エン−３
−オンの環状３，３−（１，２−エタンジイル）アセタ
ール 例２で得た化合物より出発して例３の工程Ａに記載のよ
うに操作を行い、所望化合物を得た。工程Ｂ ：１１β，１７α−ジヒドロキシ−２１−メトキ
シプレグナ−５−エン−３，２０−ジオンの環状３，３
−（１，２−エタンジイル）アセタール 上記工程Ａで得た化合物より出発して、例３の工程Ｂに
記載のように、１１β−１７，２０−エポキシ−２０−
カルバモイル−２１−メトキシプレグナ−５−エン−３
−オンの環状３，３−（１，２−エタンジイル）アセタ
ールを中間で単離し、次いでこの化合物をホフマン減成
の原理に従ってジャベル水で処理することによって、或
いは例３の工程Ｃに記載のように、即ち、２０−カルバ
モイル化合物を中間で単離することなくこの減成を行う
ことによって操作を行う。工程Ｃ ：１１β，１７α−ジヒドロキシ−２１−メトキ
シプレグナ−４−エン−３，２０−ジオン 上記工程Ｂで得た化合物より出発して例３の工程Ｄに記
載のように操作を行い、所期化合物を得た。
【００３９】例６：１１β，１７α−ジヒドロキシ−２
１−メトキシプレグナ−４−エン−３，２０−ジオン工程Ａ ：１１β−ヒドロキシ−１７，２０−エポキシ−
２０−シアノ−２１−ヒドロキシプレグナ−４−エン−
３−オン 例２で得た３ｇの化合物、６６ｃｃのメタノール及び１
０ｃｃの塩化メチレンを不活性ガス雰囲気下に混合す
る。１５ｃｃの２Ｎ塩酸を添加し、混合物を周囲温度で
２時間撹拌し続ける。結晶を分離し、メタノール−水混
合物（７５−２５）で、次いで水で洗浄し、母液から沈
殿した結晶を分離し、水洗し、次いで最後に母液を濃縮
し、生成した結晶を再度分離し、水洗する。結晶の全部
を乾燥し、メタノールから再結晶する。１ｇの所期化合
物を得た。ＩＲスペクトル （ＣＨＣｌ3 ） ３４８５ｃｍ-1（ＯＨ／ＮＨ領域），２２４０ｃｍ
-1（Ｃ≡Ｎ），１６２８ｃｍ-1及び１６１０ｃｍ-1（共
役Ｃ＝Ｏ）の吸収ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） １．３４（ｓ）：１８位のＣＨ3 ；１．５０（ｓ）：１
９位のＣＨ3 ；３．８１（ｄ）：１１位のＯＨ；３．７
６及び３．８８（ＡＢ系）：２１位のＣＨ2 ；４．４
５：１１位のＨ；５．６９（ｓ）：４位のＨ；７．１
８：易動性Ｈ分析 ：Ｃ22Ｈ29Ｏ4 Ｎ（３７１．５２） 計算：Ｃ％７１．１２ Ｈ％７．８６ Ｎ％３．７７ 実測：Ｃ％７１．００ Ｈ％７．９０ Ｎ％３．７０工程Ｂ ：１１β−ヒドロキシ−１７，２０−エポキシ−
２０−シアノ−２１−メトキシプレグナ−４−エン−３
−オン 上記工程Ａで得た化合物より出発して、例３の工程Ａに
記載の方法に従って２１位のエーテルを製造した。
１−メトキシプレグナ−４−エン−３，２０−ジオン工程Ａ ：１１β−ヒドロキシ−１７，２０−エポキシ−
２０−シアノ−２１−ヒドロキシプレグナ−４−エン−
３−オン 例２で得た３ｇの化合物、６６ｃｃのメタノール及び１
０ｃｃの塩化メチレンを不活性ガス雰囲気下に混合す
る。１５ｃｃの２Ｎ塩酸を添加し、混合物を周囲温度で
２時間撹拌し続ける。結晶を分離し、メタノール−水混
合物（７５−２５）で、次いで水で洗浄し、母液から沈
殿した結晶を分離し、水洗し、次いで最後に母液を濃縮
し、生成した結晶を再度分離し、水洗する。結晶の全部
を乾燥し、メタノールから再結晶する。１ｇの所期化合
物を得た。ＩＲスペクトル （ＣＨＣｌ3 ） ３４８５ｃｍ-1（ＯＨ／ＮＨ領域），２２４０ｃｍ
-1（Ｃ≡Ｎ），１６２８ｃｍ-1及び１６１０ｃｍ-1（共
役Ｃ＝Ｏ）の吸収ＮＭＲスペクトル （ＣＤＣｌ3 ，３００ＭＨｚ，ｐｐ
ｍ） １．３４（ｓ）：１８位のＣＨ3 ；１．５０（ｓ）：１
９位のＣＨ3 ；３．８１（ｄ）：１１位のＯＨ；３．７
６及び３．８８（ＡＢ系）：２１位のＣＨ2 ；４．４
５：１１位のＨ；５．６９（ｓ）：４位のＨ；７．１
８：易動性Ｈ分析 ：Ｃ22Ｈ29Ｏ4 Ｎ（３７１．５２） 計算：Ｃ％７１．１２ Ｈ％７．８６ Ｎ％３．７７ 実測：Ｃ％７１．００ Ｈ％７．９０ Ｎ％３．７０工程Ｂ ：１１β−ヒドロキシ−１７，２０−エポキシ−
２０−シアノ−２１−メトキシプレグナ−４−エン−３
−オン 上記工程Ａで得た化合物より出発して、例３の工程Ａに
記載の方法に従って２１位のエーテルを製造した。
【００４０】工程Ｃ：１１β，１７α−ジヒドロキシ−
２１−メトキシプレグナ−４−エン−３，２０−ジオン 上記工程Ｂで得た化合物より出発して、例３の工程Ｂに
記載のように、１１β−ヒドロキシ−１７，２０−エポ
キシ−２０−カルバモイル−２１−メトキシプレグナ−
４−エン−３−オンを中間で単離し、次いでこの化合物
をホフマン減成の原理に従ってジャベル水で処理するこ
とによって、或いは例３の工程Ｃに記載のように、即
ち、２０−カルバモイル化合物を中間で単離することな
くこの減成を行うことによって操作を行う。例５の工程
Ｃで得たものと同一の所期化合物を得た。
２１−メトキシプレグナ−４−エン−３，２０−ジオン 上記工程Ｂで得た化合物より出発して、例３の工程Ｂに
記載のように、１１β−ヒドロキシ−１７，２０−エポ
キシ−２０−カルバモイル−２１−メトキシプレグナ−
４−エン−３−オンを中間で単離し、次いでこの化合物
をホフマン減成の原理に従ってジャベル水で処理するこ
とによって、或いは例３の工程Ｃに記載のように、即
ち、２０−カルバモイル化合物を中間で単離することな
くこの減成を行うことによって操作を行う。例５の工程
Ｃで得たものと同一の所期化合物を得た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ミシェル・ビバ フランス国ラニー・スュール・マルヌ、 シュマン・ド・ロートストラード、16 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07J 21/00 C07J 5/00 C07J 7/00 C07J 75/00 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (8)
- 【請求項１】 次式（Ｉ） 【化１】 ［ここで、Ｒはオキソ又はβ−ヒドロキシ基を表わし、 環Ａ及びＢは下記の式 【化２】 ｛ここで、Ｋはオキソ基又は次式 【化３】 （ｎは２又は３に等しい）の形のオキソ保護基 を表わし、Ｒ1 はエーテル又はエス
テルの残基を表わし、Ｋ'はオキソ基又はオキシム、ヒ
ドラゾン若しくはセミカルバゾンの形のオキソ保護基を
表わす｝ の残基を表わし、波線は異性体混合物を表わす］ の化合物。 - 【請求項２】 次式（Ｉ1) 【化４】 ［ここで、Ｒは既に示した意味を有し、環Ａ1及びＢ1は
次式 【化５】 （ここで、ｎ及びＲ1は既に示した意味を有し、Ｋ1及び
Ｋ'1はそれぞれＫ及びＫ'について既に示したようなオ
キソ基又はオキソ保護基を表わす） の残基を表わす］ に相当する請求項１記載の化合物。 - 【請求項３】 次式（Ｉ'1) 【化６】 （ここで、Ｒ及びｎは既に示した意味を有する） に相当する請求項１又は２記載の化合物。
- 【請求項４】 次式（Ｉ2) 【化７】 （ここで、Ｒは既に示した意味を有する） に相当する請求項１記載の化合物。
- 【請求項５】 請求項１記載の式（Ｉ）の化合物を製造
するにあたり、次式（II） 【化８】 （ここで、点線は第二の炭素−炭素結合が存在し得るこ
とを表わす） の化合物の３位のケトン官能基を保護して次式（III) 【化９】 （ここで、環Ａ1及びＢ1は上で定義した通りである） の化合物を得、この化合物を次式（IV） Ｎ≡Ｃ−ＣＨ2−ＣＯ2Ｒ2 （IV） （ここで、Ｒ2は１〜６個の炭素原子を含有するアルキ
ル基を表わす） のシアン酢酸アルキルで処理して次式（Ｖ） 【化１０】 （ここで、Ｒ2、Ａ1、Ｂ1及び波線は上で定義した通り
である） の化合物を得、この化合物をエポキシ化剤で処理して次
式（VI） 【化１１】 の化合物を得、この化合物のエステル官能基を還元して
次式（Ｉ1a） 【化１２】 の化合物を得、この化合物の１１位のケトン官能基を要
すれば還元して次式（Ｉ1b） 【化１３】 の化合物を得、式（Ｉ1a）及び（Ｉ1b）の化合物の３位
のケトン官能基を遊離化して前記の式（Ｉ2)の化合物を
得ることを特徴とする。式（Ｉ）の化合物の製造法。 - 【請求項６】 請求項１記載の式（Ｉ）の化合物を次式
（Ａ） 【化１４】 （ここで、Ｒは上で定義した通りであり、Ｒ3はヒドロ
キシ基の保護基であり、点線は第二の炭素−炭素結合が
存在し得ることを表わす） の化合物の製造に使用するにあたり、式（Ｉ）の化合物
の２１位のヒドロキシ官能基を保護して次式（VII) 【化１５】 （ここで、Ｒ、Ｒ3、Ａ及びＢは既に示した意味を有す
る） の化合物を得、この化合物のニトリル官能基を水和して
次式（VIII） 【化１６】 の化合物を得、この化合物をホフマン減成反応に付して
次式（IX） 【化１７】 の化合物を得、この化合物の３位のケトン官能基を要す
れば遊離化して式（Ａ）の所期の化合物を得ることを特
徴とする、式（Ｉ）の化合物を式（Ａ）の化合物の製造
に使用する方法。 - 【請求項７】 次式 【化１８】 （ここで、Ａ1、Ｂ1、Ｒ2及び波線は請求項５に記載の
通りであり、Ｒ4及びＲ5は一緒になって炭素−炭素結合
又はα位のエポキシを形成する） の化合物。 - 【請求項８】 次式 【化１９】 （ここで、Ａ、Ｂ、Ｒ及び波線は請求項１に記載の通り
であり、Ｒ3は請求項６に記載の通りであり、Ｒ6はシア
ノ基又はカルバモイル基を表わす） の化合物。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR93-00290 | 1993-01-14 | ||
| FR9300290A FR2700339B1 (fr) | 1993-01-14 | 1993-01-14 | Nouveaux dérivés 17,20-époxydes du pregnane, leur préparation, leur application à la préparation de dérivés cortisoniques et intermédiaires. |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06279486A JPH06279486A (ja) | 1994-10-04 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP01411294A Expired - Lifetime JP3356525B2 (ja) | 1993-01-14 | 1994-01-13 | プレグナンの新規な１７，２０−エポキシド誘導体、それらの製造法、それらのコルチゾン誘導体の製造への使用及び中間体 |
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| KR (1) | KR100312268B1 (ja) |
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