JP3310600B2 - アクティブマトリクス型液晶表示装置およびその欠陥修正方法 - Google Patents

アクティブマトリクス型液晶表示装置およびその欠陥修正方法

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JP3310600B2 JP28000997A JP28000997A JP3310600B2 JP 3310600 B2 JP3310600 B2 JP 3310600B2 JP 28000997 A JP28000997 A JP 28000997A JP 28000997 A JP28000997 A JP 28000997A JP 3310600 B2 JP3310600 B2 JP 3310600B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、表示用の画素電極
にスイッチング素子を介して駆動信号を印加することに
より、表示を行うアクティブマトリクス型液晶表示装置
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、液晶表示装置では、マトリクス状
に複数の画素電極とこれらの画素電極と対向して配され
る対向電極とを備え、両電極間に液晶が介在されてい
る。上記の液晶表示装置は、画素電極に選択的に電圧を
印加することにより、画面上に表示パターンを形成し、
さらに、選択された画素電極と対向電極との間に印加さ
れる電圧により、液晶が表示データを光学的に変調して
上記の表示パターンを可視化する。
【0003】画素電極の駆動方法としては、マトリクス
状に配された画素電極のそれぞれにスイッチング素子を
接続し、画素電極個々をスイッチング素子により駆動す
る、いわゆるアクティブマトリクス駆動方法が知られて
いる。また、スイッチング素子としては、TFT(薄膜
トランジスタ)、MIM(金属−絶縁膜−金属)素子等
が知られている。
【0004】アクティブマトリクス駆動方法で駆動され
るアクティブマトリクス型液晶表示装置の液晶表示装置
は、基板上に複数の走査配線、その走査配線と直交する
ように形成された複数の信号配線、隣り合う走査配線と
信号配線とで囲まれた領域に配置された画素電極、走査
配線からの走査信号によりON・OFFして画素電極へ
信号配線を介して表示信号の入力をスイッチングするス
イッチング素子を有するアクティブマトリクス基板を備
えている。
【0005】上記の液晶表示装置は、このアクティブマ
トリクス基板と、対向電極を備えた対向基板とが、数μ
mの空間を介して貼り合わされ、その間隙に液晶が封入
された構成である。
【0006】図8に、スイッチング素子としてTFTを
備えたアクティブマトリクス型液晶表示装置の等価回路
図を示す。TFT36の走査電極であるゲート電極は走
査配線31に、信号電極であるソース電極は信号配線3
2にそれぞれ接続されている。TFT36のドレイン電
極は、対向基板側の対向電極とその間に狭持された液晶
とで液晶容量34を構成する画素電極と、付加容量35
の一方の端子に接続されている。この付加容量35は、
保持動作を改善し高画質化するために液晶容量34と並
列に付加されるものであり、付加容量35のもう一方の
端子は、付加容量配線(以下、Cs配線と称する)33
に接続され、対向基板側の対向電極と接続されている。
【0007】上記構成において、走査配線31からの走
査信号によりゲート電極が選択状態になると、TFT3
6はONし、信号配線32からの表示信号を液晶容量3
4と付加容量35とに書き込む。一方、ゲート電極が走
査信号により非選択状態になると、TFT36はOFF
し、不要な表示信号の入力を防ぎ、液晶容量34および
付加容量35に書き込まれた表示信号が保持される。こ
の動作は一般に保持動作と呼ばれている。
【0008】アクティブマトリクス基板において、画素
電極は基板上で信号配線または走査配線と同じ平面上に
形成されることが多く、信号配線または走査配線と接触
しないように配置されている。その一方、例えば図9に
示すように、層間絶縁膜48を介在させて、画素電極4
9を、信号配線47および走査配線(TFT40のゲー
ト電極42と同層)とは厚み方向に異なる別表面に形成
することも提案されている(特開昭58−172685
号公報等)。
【0009】図9のようなアクティブマトリクス基板に
ついて説明する。基板41上に、ゲート電極42、ゲー
ト絶縁膜43、半導体層44、チャネル保護層45、n
+−Si層からなるソース電極46aおよびドレイン電
極46bが順に積層されて、TFT40が構成される。
ソース電極46aと金属層からなる信号配線47とが接
続され、ドレイン電極46bと金属層からなる接続電極
50とが接続されている。
【0010】そして、TFT40および信号配線47な
どを覆うように、層間絶縁膜48が設けられ、この上に
透明導電膜からなる画素電極49が形成されている。画
素電極49とTFT40との接続は、接続電極50と画
素電極49とを層間絶縁膜48に設けたコンタクトホー
ル48aを介して接続されている。
【0011】このような層間絶縁膜48を介在させる構
成では、信号配線47および走査配線に対して画素電極
49をオーバーラップさせることが可能であるので、画
素電極49の面積を大きくすることができ、開口率の向
上が図れる。
【0012】また、信号配線47に対して、画素電極4
9をオーバーラップさせた構成では、画素電極49と信
号配線47との隔たりに起因した液晶に電界が印加され
ない領域が形成されず、かつ、隣接する画素電極49間
での液晶に電界が印加されないことによる光漏れが信号
配線47によって遮断されることとなるので、対向電極
側に貼り合わせズレを見込んでブラックマトリクスを形
成していた従来の構成に比べ、開口率の向上が図れる。
また、信号配線47や走査配線に起因する電界をシール
ドすることによる液晶の配向不良の抑制といった効果も
ある。
【0013】さらに、現在では図10に示すように、1
つの画素電極4に一本であった信号配線2に予備配線5
を設け、信号配線2の断線等の不良発生時に予備配線5
を介して表示信号が伝達される構造を、出願人は特開平
9−90318号公報に提案している。この構造によ
り、配線欠陥不良の減少が見込まれ、良品率向上に寄与
することが期待される。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】図10に示すように、
予備配線5を採用した場合、画素電極4の中央を予備配
線5が通るため、接続電極7と画素電極4との接続のた
め付加容量電極(以下、Cs電極と称する)7a、7b
を2つ設け、直列に接続する必要があった。このため、
TFT6に直接接続されている側のCs電極7aで接続
不良が生じると、液晶に電圧が印加されず、表示時に輝
点として見えるという問題がある。
【0015】TFT6とは直接接続されていない側のC
s電極7bで接続不良が生じると、付加容量が充分に得
られず、他の画素電極との間で対向ズレを起こし、輝点
となって見える場合もある。
【0016】また、接続電極7が断線されている場合、
液晶に電圧が印加されず、輝点となり、修正も不可能で
あった。
【0017】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたものであり、接続不良による輝点を正常な表示に、
あるいは接続電極の断線による輝点を黒点化し、表示上
の問題を緩和するものである。
【0018】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
基板上に設けられた複数の走査配線および付加容量配線
と、前記走査配線と直交するように構成された複数の信
号配線と、前記信号配線と接続されている複数の予備配
線と、前記走査配線と信号配線との交差部近傍にスイッ
チング素子とが設けられ、前記走査配線と信号配線とス
イッチング素子の上部に層間絶縁膜が設けられ、前記層
間絶縁膜の上に画素電極が設けられ、前記予備配線を挟
んで、前記付加容量配線の上部で前記スイッチング素子
側に設けられた第1のコンタクトホールと、前記付加容
量配線の上部で非スイッチング素子側に設けられた第2
のコンタクトホールを設け、前記スイッチング素子と前
記第1のコンタクトホールの間に接続電極が設けられた
アクティブマトリクス型液晶表示装置において、前記予
備配線から分岐した枝状部分を設け、前記枝状部分の前
記第1のコンタクトホール側に第1の修正用パッドを設
け、前記枝状部分の前記第2のコンタクトホール側に第
2の修正用パッドを設け、前記第1のコンタクトホール
から前記第1の修正用パッド、前記予備配線の枝状部
分、前記第2の修正用パッド、前記第2のコンタクトホ
ールを結ぶように、前記接続電極を延長したことを特徴
とする。
【0019】請求項2記載の発明の前記修正用パッド
は、前記走査配線と前記付加容量配線と同じ層であるこ
とを特徴とする。
【0020】請求項3記載の発明の前記修正用パッドと
延長された前記接続電極とは、絶縁膜を介して絶縁され
ていることを特徴とする。
【0021】請求項4記載の発明の前記修正用パッドと
前記予備配線および前記予備配線の枝状部分とは、絶縁
膜を介して絶縁されていることを特徴とする。
【0022】請求項5記載の発明の欠陥修正方法は、請
求項1に記載のアクティブマトリクス型液晶表示装置に
おいて、前記第1のコンタクトホールで欠陥が生じたと
き、前記予備配線の枝状部分の上下で予備配線を切断
し、前記第1の修正用パッドと前記第2の修正用パッド
を介して、延長された前記接続電極と前記予備配線の枝
状部分とを導通させることを特徴とする。
【0023】請求項6記載の発明の欠陥修正方法は、請
求項1に記載のアクティブマトリクス型液晶表示装置に
おいて、前記第2のコンタクトホールで欠陥が生じたと
き、前記予備配線の枝状部分の上下で予備配線を切断
し、前記第1の修正用パッドと前記第2の修正用パッド
を介して、延長された前記接続電極と前記予備配線の枝
状部分とを導通させることを特徴とする。
【0024】請求項7記載の発明の欠陥修正方法は、請
求項1に記載のアクティブマトリクス型液晶表示装置に
おいて、前記スイッチング素子側と前記第1のコンタク
トホールとの間に設けられた前記接続電極に断線が生じ
たとき、前記第1の修正用パッドと前記第2の修正用パ
ッドを介して、延長された前記接続電極と前記予備配線
の枝状部分とを導通させることを特徴とする。
【0025】請求項8記載の発明の欠陥修正方法は、請
求項1に記載のアクティブマトリクス型液晶表示装置に
おいて、スイッチング素子に欠陥が生じたとき、前記第
1の修正用パッドと前記第2の修正用パッドを介して、
延長された前記接続電極と前記予備配線の枝状部分とを
導通させることを特徴とする。
【0026】上記構成による作用を説明する。請求項1
記載の構成によれば、表示不良が生じた場合、修正用パ
ッドをレーザ照射により、予備配線と延長された接続電
極とを接続することにより、欠陥を修正することがで
き、良品率を向上することができる。
【0027】請求項2記載の構成によれば、修正用パッ
ドは、走査配線と付加容量配線と同じ層であるため、走
査配線と付加容量配線を形成する際、同時に形成するこ
とができ、マスクは変更する必要があるが、製造工程の
増加はない。
【0028】請求項3記載の構成によれば、表示不良が
生じた場合、修正用パッドをレーザ照射することによ
り、絶縁膜を取り除いて、予備配線と延長された接続電
極とを接続することができ、欠陥を修正することがで
き、良品率を向上することができる。また、表示が正常
である場合、絶縁膜を介しているため、修正用パッドと
延長された接続電極とは、絶縁されているため、表示に
影響を与えない。
【0029】請求項4記載の構成によれば、表示不良が
生じた場合、修正用パッドをレーザ照射することによ
り、絶縁膜を取り除いて、予備配線と予備配線の枝状部
分と延長された接続電極とを接続することができ、欠陥
を修正することができ、良品率を向上することができ
る。また、表示が正常である場合、絶縁膜を介している
ため、修正用パッドと予備配線および予備配線の枝状部
分とは、絶縁されているため、表示に影響を与えない。
【0030】請求項5の欠陥修正方法によれば、接続不
良による輝点を正常な画素電極として機能させることが
可能となり、良品率を向上させることができる。
【0031】請求項6の欠陥修正方法によれば、充分な
付加容量が確保でき、正常な画素電極として機能させる
ことが可能となり、良品率を向上させることができる。
【0032】請求項7の欠陥修正方法によれば、予備配
線から信号を直接画素電極に入力することができるた
め、その画素電極にはその信号配線を介する全ての信号
が入力され、結果としてその画素電極に印加される信号
は時間平均化され、常時周辺画素電極と類似の電荷がか
かるため、明るい輝点として見えることがなくなり、表
示上の問題を大幅に緩和することとなり、良品率を向上
させることができる。
【0033】請求項8の欠陥修正方法によれば、予備配
線から信号を直接画素電極に入力することができるた
め、その画素電極にはその信号配線を介する全ての信号
が入力され、結果としてその画素電極に印加される信号
は時間平均化され、常時周辺画素電極と類似の電荷がか
かるため、明るい輝点として見えることがなくなり、表
示上の問題を大幅に緩和することとなり、良品率を向上
させることができる。
【0034】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面に基づ
いて説明する。 (実施形態1)実施形態1のアクティブマトリクス基板
の平面図を図1に、図1のA−A断面図を図2に、図1
のB−B断面図を図3に示す。アクティブマトリクス型
液晶表示装置(以下、液晶表示装置と呼ぶ)は、図1か
ら図3において、1画素電極4毎にスイッチング素子と
してのTFT(薄膜トランジスタ)6を有するアクティ
ブマトリクス基板21を備えている。液晶表示装置は、
このアクティブマトリクス基板21と、対向電極を有す
る対向基板(図示せず)とが、数μmの空間を介して貼
り合わされ、その間隙に液晶が封入された構造である。
【0035】アクティブマトリクス基板21では、ガラ
ス等からなる透明な絶縁性の基板11上に、互いに交差
するように複数の信号配線2と複数の走査配線1とが配
置され、これらの走査配線1と信号配線2の交差部に、
TFT6が設けられている。また、信号配線2は画素電
極4内を通る予備配線5と接続されている。この予備配
線5はいわば信号配線2のバイパスであり、信号配線2
が断線されたとき、予備配線5を介して信号入力が行わ
れ、正常な表示を可能にするという利点がある。
【0036】TFT6は、基板11上に、ゲート電極1
a、ゲート絶縁膜13、半導体層14、チャネル保護層
15およびソース電極16a、ドレイン電極16bとな
るn+−Si層がこの順に積層されている構造を有して
いる。なお、チャネル保護層15は本発明では形成され
ているが、場合によっては設けなくても良い。
【0037】TFT6のゲート電極1aは走査配線1と
接続され、ソース電極16aは信号配線2と接続されて
いる。また、TFT6のドレイン電極16bは、下記に
示すように接続電極7と接続されており、この接続電極
7を介して画素電極4と接続されている。
【0038】画素電極4は、隣り合う信号配線2と隣り
合う走査配線1とで囲まれた領域に配置されている。こ
の画素電極4は、TFT6、走査配線1、信号配線2が
形成されている面との間に層間絶縁膜17を介在させる
ことにより、画素電極4の周端部は信号配線2と走査配
線1とオーバーラップされている。そして、この画素電
極4と接続電極7とが、層間絶縁膜17に形成されたコ
ンタクトホール17aを介して接続されている。
【0039】さらに、上記の基板11の上には、互いに
平行なCs配線3が、走査配線1と平行に、隣り合う走
査配線1の間に配置されている。このCs配線3は、全
画素電極に共通して設けられている。そして、予備配線
5が画素電極4の中央を通っているので、予備配線5の
両側でこのCs配線3の上部に、Cs電極7a、7bお
よびコンタクトホール17a、17bを設ける。
【0040】図1および図3に示すように、このCs電
極7aおよび7bとCs配線3との間には、ゲート絶縁
膜13が狭持されており、これらCs配線3、Cs電極
7aと7b、ゲート絶縁膜13との間で、いわゆるCs
on Common構造の付加容量が形成されてい
る。また、層間絶縁膜17に形成されたコンタクトホー
ル17aおよび17bは、このCs配線3上に形成され
ている。
【0041】このような構成のアクティブマトリクス基
板21からなる液晶表示装置では、走査配線1からの走
査信号によりそれぞれの走査配線1上にあるTFT6の
ON・OFFが制御される。そして、TFT6がON状
態のとき、信号配線2より入力される表示信号が画素電
極4およびCs電極7aに入力し、画素電極4と対向基
板側の対向電極とそれらの間に狭持される液晶とからな
る液晶容量に表示信号が書き込まれると共に、付加容量
にも表示信号が書き込まれる。一方、TFT6がOFF
状態のとき、信号配線2からの表示信号の画素電極4お
よびCs電極7aへの入力が阻止され、液晶容量と付加
容量に書き込まれた表示信号が保持される。
【0042】そこで、本発明の構造について説明する。
図1に示すように、予備配線5から分岐した枝状部分5
1を設け、枝状部分51に隣接するように修正用パッド
8および9を設け、TFT6からCs電極7aに設けら
れた接続電極7をCs電極7aから修正用パッド8まで
延長し、さらに、修正用パッド9からCs電極7bの間
にも接続電極7を設ける。Cs電極7aから修正用パッ
ド8間を接続電極71、修正用パッド9からCs電極7
b間を接続電極72とする。枝状部分51の位置は画素
電極4の領域内の予備配線5の配線上であればどこでも
良い。修正用パッド8と9は接続電極71、72や予備
配線5との間にゲート絶縁膜13を介しており、通常は
電気的に絶縁されている。
【0043】本発明の製造方法について説明する。修正
用パッド8と9を基板11上にパターニングする。修正
用パッド8、9の形成は走査配線2、ゲート電極1a、
Cs配線3の形成と同時に行い、走査配線1、ゲート電
極1a、Cs配線3と同じ材料を用いて行うことができ
る。
【0044】次に、図2に示すように、枝状部分51を
設けた予備配線5を、ゲート絶縁膜13の上にパターニ
ングする。予備配線5の形成は、信号配線2の形成と同
時に行うことができ、マスクパターンを変更するだけで
あり、製造工程の増加はない。図2と図3に示すよう
に、信号配線2は導電層18、19の2層からなってい
るので、予備配線5も2層である。なお、予備配線は2
層に限らず、1層であっても良い。
【0045】また、TFT6からCs電極7aに形成す
る接続電極7の作製の際、同時に接続電極7を延長する
ようにCs電極7aから修正用パッド8の間に接続電極
71と、修正用パッド9からCs電極7bの間に接続電
極72をパターニングする。接続電極71、72の形成
はマスクパターンを変更するだけであり、製造工程の増
加はない。修正用パッド8と9、枝状部分51、接続電
極71、72以外の製造方法は従来と同様である。
【0046】(実施形態2)このアクティブマトリクス
基板21において、コンタクトホール17aおよび17
bに接続不良が生じた場合、接続電極7が断線した場
合、TFT6に欠陥が生じた場合の修正方法について説
明する。実施形態2ではコンタクトホール17aに接続
不良が生じた場合の修正方法について、図4を用いて説
明する。まず、予備配線5の枝状部分51の上下の位置
E、Fで予備配線5を切断する。次に、修正用パッド8
および9において、レーザ照射により、ゲート絶縁膜1
3を破って接続電極71、72と予備配線5の枝状部分
51とをメルト接続する。レーザ照射の位置は修正用パ
ッド8および9に黒四角で示している。
【0047】この修正方法により、線L1に示すよう
に、信号はTFT6から接続電極7を通って、接続電極
71、修正用パッド8、予備配線5の枝状部分51、修
正用パッド9、接続電極72を経由して、Cs電極7b
上に形成されたコンタクトホール17bによって、画素
電極4と接続され、正常な信号が液晶に印加される。コ
ンタクトホール17aでの接続不良による輝点を正常な
画素電極として機能させることが可能となり、良品率を
向上させることができる。
【0048】(実施形態3)実施形態3ではコンタクト
ホール17bに接続不良が生じた場合の修正方法につい
て、図5を用いて説明する。まず、予備配線5の枝状部
分51の上下の位置E、Fで予備配線5を切断する。次
に、修正用パッド8および9において、レーザ照射によ
り、ゲート絶縁膜13を破って接続電極71、72と予
備配線5の枝状部分51とをメルト接続する。レーザ照
射の位置は修正用パッド8および9に黒四角で示してい
る。
【0049】この修正方法により、修正用パッド8およ
び9により充分な付加容量が得られ、対向ズレによる輝
点が正常な画素電極4として機能することができ、良品
率を向上させることができる。
【0050】(実施形態4)実施形態4では、接続電極
7がTFT6とCs電極7aとの間(例えばGの位置)
で断線した場合の修正方法について、図6を用いて説明
する。Gの位置で接続電極7が断線した場合、信号はC
s電極7aに届かないため、画素電極4に信号が入力さ
れない。このことにより、画素電極4は輝点として表示
される。
【0051】修正方法は、修正用パッド8および9にお
いて、レーザ照射により、ゲート絶縁膜13を破って接
続電極71、72と予備配線5の枝状部分51とをメル
ト接続する。レーザ照射の位置は修正用パッド8および
9に黒四角で示している。この修正方法により、線L2
に示すように、修正用パッド8および9を介してて予備
配線5と接続電極71、72を接続することにより、信
号配線2を介して入力される全ての信号が画素電極4に
印加される。その結果、画素電極4に印加される信号は
時間平均化され、常時周辺の画素電極と類似の電荷がか
かるため、明るい輝点として見えることがなくなり、表
示上の問題を大幅に緩和することができ、良品率を向上
させることができる。
【0052】(実施形態5)実施形態5では、TFT6
が欠陥の場合の修正方法について、図7を用いて説明す
る。TFT6が欠陥であるため、信号はCs電極7aに
届かない。このため、画素電極4に信号が入力されず、
画素電極4は輝点として表示される。
【0053】修正方法は、修正用パッド8および9にお
いて、レーザ照射により、ゲート絶縁膜13を破って接
続電極71、72と予備配線5の枝状部分51とをメル
ト接続する。レーザ照射の位置は修正用パッド8および
9に黒四角で示している。この修正方法により、線L3
に示すように、修正用パッド8および9を介してて予備
配線5と接続電極71、72を接続することにより、信
号配線2を介して入力される全ての信号が画素電極4に
印加される。この結果、画素電極4に印加される信号は
時間平均化され、常時周辺の画素電極と類似の電荷がか
かるため、明るい輝点として見えることがなくなり、表
示上の問題を大幅に緩和することができ、良品率を向上
させることができる。
【0054】
【発明の効果】本発明の構成によれば、表示不良が生じ
た場合、修正用パッドをレーザ照射により、予備配線と
延長された接続電極とを接続することにより、欠陥を修
正することができ、良品率を向上することができる。
【0055】修正用パッドは、走査配線と付加容量配線
と同じ層であるため、走査配線と付加容量配線を形成す
る際、同時に形成することができ、マスクは変更する必
要があるが、製造工程の増加はない。
【0056】表示不良が生じた場合、修正用パッドをレ
ーザ照射することにより、絶縁膜を取り除いて、予備配
線と予備配線の枝状部分と延長された接続電極とを接続
することができ、欠陥を修正することができ、良品率を
向上することができる。また、表示が正常である場合、
絶縁膜を介しているため、修正用パッドと予備配線と予
備配線の枝状部分と延長された接続電極とは、絶縁され
ているため、表示に影響を与えない。
【0057】コンタクトホール17aに接続不良が生じ
た場合の修正方法では、接続不良による輝点を正常な画
素電極として機能させることが可能となり、良品率を向
上させることができる。コンタクトホール17bに接続
不良が生じた場合の修正方法では、充分な付加容量が確
保でき、正常な画素電極として機能させることが可能と
なり、良品率を向上させることができる。
【0058】接続電極7がTFT6とCs電極7aとの
間(例えばGの位置)で断線した場合と、TFT6が欠
陥の場合の修正方法では、予備配線から信号を直接画素
電極に入力することができるため、その画素電極にはそ
の信号配線を介する全ての信号が入力され、結果として
その画素電極に印加される信号は時間平均化され、常時
周辺画素電極と類似の電荷がかかるため、明るい輝点と
して見えることがなくなり、表示上の問題を大幅に緩和
することとなり、良品率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施形態1のアクティブマトリクス基板の一画
素電極の平面図である。
【図2】図1のA−A断面図である。
【図3】図1のB−B断面図である。
【図4】実施形態2の修正方法を示す図である。
【図5】実施形態3の修正方法を示す図である。
【図6】実施形態4の修正方法を示す図である。
【図7】実施形態5の修正方法を示す図である。
【図8】アクティブマトリクス型液晶表示装置の等価回
路図を示す。
【図9】従来のアクティブマトリクス基板の断面図であ
る。
【図10】従来の予備配線を設けたアクティブマトリク
ス基板の一画素電極の平面図である。
【符号の説明】
1 走査配線 1a ゲート電極 2 信号配線 3 Cs配線(付加容量配線) 4 画素電極 5 予備配線 6 TFT(薄膜トランジスタ) 7 71 72 接続電極 7a 7b Cs電極(付加容量電極) 8 9 修正用パッド 11 基板 13 ゲート絶縁膜 17 層間絶縁膜 17a 17b コンタクトホール 21 アクティブマトリクス基板 51 枝状部分
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1368 G02F 1/1343

Claims (8)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板上に設けられた複数の走査配線およ
    び付加容量配線と、前記走査配線と直交するように構成
    された複数の信号配線と、前記信号配線と接続されてい
    る複数の予備配線と、前記走査配線と信号配線との交差
    部近傍にスイッチング素子とが設けられ、前記走査配線
    と信号配線とスイッチング素子の上部に層間絶縁膜が設
    けられ、前記層間絶縁膜の上に画素電極が設けられ、前
    記予備配線を挟んで、前記付加容量配線の上部で前記ス
    イッチング素子側に設けられた第1のコンタクトホール
    と、前記付加容量配線の上部で非スイッチング素子側に
    設けられた第2のコンタクトホールを設け、前記スイッ
    チング素子と前記第1のコンタクトホールの間に接続電
    極が設けられたアクティブマトリクス型液晶表示装置に
    おいて、 前記予備配線から分岐した枝状部分を設け、 前記枝状部分の前記第1のコンタクトホール側に第1の
    修正用パッドを設け、 前記枝状部分の前記第2のコンタクトホール側に第2の
    修正用パッドを設け、 前記第1のコンタクトホールから前記第1の修正用パッ
    ド、前記予備配線の枝状部分、前記第2の修正用パッ
    ド、前記第2のコンタクトホールを結ぶように、前記接
    続電極を延長したことを特徴とするアクティブマトリク
    ス型液晶表示装置。
  2. 【請求項2】 前記修正用パッドは、前記走査配線と前
    記付加容量配線と同じ層であることを特徴とする請求項
    1記載のアクティブマトリクス型液晶表示装置。
  3. 【請求項3】 前記修正用パッドと延長された前記接続
    電極とは、絶縁膜を介して絶縁されていることを特徴と
    する請求項1記載のアクティブマトリクス型液晶表示装
    置。
  4. 【請求項4】 前記修正用パッドと前記予備配線および
    前記予備配線の枝状部分とは、絶縁膜を介して絶縁され
    ていることを特徴とする請求項1記載のアクティブマト
    リクス型液晶表示装置。
  5. 【請求項5】 請求項1に記載のアクティブマトリクス
    型液晶表示装置の欠陥修正方法であって、前記第1のコ
    ンタクトホールで欠陥が生じたとき、前記予備配線の枝
    状部分の上下で予備配線を切断し、 前記第1の修正用パッドと前記第2の修正用パッドを介
    して、延長された前記接続電極と前記予備配線の枝状部
    分とを導通させることを特徴とするアクティブマトリク
    ス型液晶表示装置の欠陥修正方法。
  6. 【請求項6】 請求項1に記載のアクティブマトリクス
    型液晶表示装置の欠陥修正方法であって、前記第2のコ
    ンタクトホールで欠陥が生じたとき、前記予備配線の枝
    状部分の上下で予備配線を切断し、 前記第1の修正用パッドと前記第2の修正用パッドを介
    して、延長された前記接続電極と前記予備配線の枝状部
    分とを導通させることを特徴とするアクティブマトリク
    ス型液晶表示装置の欠陥修正方法。
  7. 【請求項7】 請求項1に記載のアクティブマトリクス
    型液晶表示装置の欠陥修正方法であって、前記スイッチ
    ング素子側と前記第1のコンタクトホールとの間に設け
    られた前記接続電極に断線が生じたとき、 前記第1の修正用パッドと前記第2の修正用パッドを介
    して、延長された前記接続電極と前記予備配線の枝状部
    分とを導通させることを特徴とするアクティブマトリク
    ス型液晶表示装置の欠陥修正方法。
  8. 【請求項8】 請求項1に記載のアクティブマトリクス
    型液晶表示装置の欠陥修正方法であって、スイッチング
    素子に欠陥が生じたとき、前記第1の修正用パッドと前
    記第2の修正用パッドを介して、延長された前記接続電
    極と前記予備配線の枝状部分とを導通させることを特徴
    とするアクティブマトリクス型液晶表示装置の欠陥修正
    方法。
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