JP3199295B2 - 5−アシル−2−アミドハイドロキノン類の製造法 - Google Patents
5−アシル−2−アミドハイドロキノン類の製造法Info
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Description
元剤として有用な5−アシル−2−アミドハイドロキノ
ン類の製造方法に関するものである。
ってアミド化、フリーデルクラフツアシル化、および脱
メチル化して得られる5−アシル−2−アミドハイドロ
キノン類は感光材料に用いられる還元剤として有用な化
合物である。5−アシル−2−アミドハイドロキノン類
の有用性の1例としては、特開平5−34884に詳し
く記載されている。
化は一般に無水塩化アルミニウムと酸塩化物あるいは酸
無水物の作用によって成される。一般的な方法として
は、例えば、ジョージ A オラー(George A.Olah)
著のフリーデルクラフツ アンド リレイティド リア
クションズ(Friedel-Crafts and Related Reactions)
1巻、ニューヨーク、ロンドン、インターサイエンス社
(Interscience Publishers)1963年に詳しく記載さ
れている。また、従来よりフリーデルクラフツアシル化
においてアミド基などルイス酸への配位能を持った置換
基を持つ化合物はルイス酸の活性が低下するため当量以
上のルイス酸を使用す必要があることが知られている。
例えば、特開平5−34884に記載の5−アシル−2
−アミドハイドロキノンジメチルエーテル類の合成は、
2−アミドハイドロキノンジメチルエーテル類に対し3
当量の酸ハライドと3当量の無水塩化アルミニウムを作
用させることによって成されている。
類は無水塩化アルミニウムの作用によりエーテル結合の
解裂を起こしフェノール性水酸基を生成することが知ら
れている。例えば、特開平5−34884に記載の5−
アシル−2−アミドハイドロキノン類の合成は、5−ア
シル−2−アミドハイドロキノンジメチルエーテル類に
トルエン中、3当量の無水酸基塩化アルミニウムを作用
させることによって成されている。
方法、例えば特開平5−34884に記載の方法による
2−アミドハイドロキノンジメチルエーテルのフリーデ
ルクラフツアシル化ではパルミトイル基やドデカノイル
基の様なアシル基を導入する際、過剰の長鎖カルボン酸
ハライドに由来する長鎖カルボン酸が後処理時生成し、
生成物とこれら長鎖カルボン酸との分離が困難となるこ
とが多く目的物を収率良く得ることが出来なかった。こ
こで、2−アミドハイドロキノンジメチルエーテル類の
フリーデルクラフツアシル化を塩化メチレン中、2当量
の無水塩化アルミニウム、および1当量のカルボン酸ハ
ライドの作用により行ったが、本反応条件下では前述し
た無水塩化アルミニウムによる1位のエーテル結合の解
裂が起こり、1位酸素原子へのアシル化を併発し複雑な
混合物を与え、収率良くアシル体を得ることができなか
った。
ミニウムにより行うと、前述した様にアミドへの配位に
よるルイス酸活性の低下が起こり反応が充分に進行しな
い。
34884に記載の方法による2−アミドハイドロキノ
ンジメチルエーテル類のフリーデルクラフツアシル化と
それに続く無水塩化アルミニウムによる脱メチル化を1
工程で行ったが過剰のカルボン酸ハライドによる1位水
酸基のアシル化(0−アシル化)が併発し、目的物を収
率良くえることができなかったため作業工程の簡略化を
達成することはできなかった。
るうえで既存のフリーデルクラフツアシル化法は、反応
性および操作性に問題があった。本発明の目的は、反応
性と操作性を共に両立した5−アシル−2−アミドハイ
ドロキノン類の簡便で作業工程の簡略な製造法を提供す
ることである。
アルミニウムとカルボン酸ハライドとを等量使用した場
合、無水塩化アルミニウムとカルボン酸ハライドはコン
プレックスを形成することによって1位の脱メチル化お
よび0−アシル化を起こさなくなると考えた。ここで、
過剰に必要な無水塩化アルミニウムを、反応性が低く生
成物との分離が容易な酸ハライドとのコンプレックスに
すると前述の問題点を回避できると考え研究を行った。
その結果、本発明者らは、スルホニルクロライドが本目
的に合った化合物であることを見い出し、反応性と操作
性を共に両立した5−アシル−2−アミドハイドロキノ
ン類の合成法を見いだした。ここでスルホニルクロライ
ドと無水塩化アルミニウムのコンプレックスは2−アミ
ドハイドロキノンジメチルエーテル類との反応性に乏し
くスルホニル化した生成物を与えないことを別途確認し
た。
される2−アミドハイドロキノンジアルキルエーテル類
のフリーデルクラフツアシル化を下記一般式(2)で表
されるスルホニルクロライドの共存下行い、フリーデル
クラフツアシル化と続いて起こる脱アルキル化反応を一
工程で行う事を特徴とする下記一般式(3)で表される
5−アシル−2−アミドハイドロキノン類の製造方法を
提供するものである。
ゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基を表
し、R3 、R4 は水素原子、アルキル基、アラルキル基、
アリール基を表し、R5 はアルキル基、アラルキル基を
表し、Aは-CO-、-COO-、-COS-、-CONR6-、-SO2-、-SO2
NR6-から選ばれる2価の基を表し、R6 は水素原子、ア
ルキル基、アラルキル基、アリール基を表し、R4 で2
量体又は3量体を形成していてもよい。 一般式(2) R7SO2Cl 一般式(2) 中、R7 は一般式(2) の化合物の加水分解に
よりできるスルホン酸を水溶性にするアルキル基、アラ
ルキル基、アリール基を表す。一般式(3)
前記と同じ意味を有し、R8はアルキル基、アラルキル
基、アリール基を表し、R4 またはR8 で2量体又は3量
体を形成していてもよい。
化合物について詳しく説明する。一般式(1) および(3)
中、R1 、R2 の例としては、水素原子、ハロゲン原子、
1級アルキル基(炭素数1〜30。例えば、メチル、エチ
ル、n-プロピル、n-ヘキシル、n-ドデシル、n-ヘプタデ
シル)、アラルキル基(例えば、ベンジル)が挙げられ
る。R3 の例としては水素原子、1級アルキル基(置換
基を有するものを含む。炭素数1〜10。例えば、メチ
ル、エチル、n-プロピル、n-ヘキシル)、アラルキル基
(例えば、ベンジル)、アリール基(置換基を有するも
のを含む。炭素数6〜100。例えば、フェニル、ナフチ
ル)が挙げられる。
基を有するものを含む。炭素数1〜30。例えば、メチ
ル、エチル、n-プロピル、 iso-プロピル、n-ヘキシ
ル、シクロヘキシル、2-エチルヘキシル、2-ヘキシルデ
シル、n-ドデシル、n-ヘプタデシル)、アラルキル基
(例えば、ベンジル)、アリール基(置換基を有するも
のも含む。炭素数6〜50。例えば、フェニル、ナフチ
ル)またはヘテロ環基(置換基を有するものを含む。炭
素数3〜30。例えば、2-ピリジル、2-フリル、ベンツオ
キサゾリル)等が挙げられる。
R8 で2量体または3量体を形成していてもよい。
R6-、-SO2-、-SO2NR6-が挙げられる。R6 の例としては
水素原子、アルキル基(置換基を有するものを含む。炭
素数1〜30。例えば、メチル、エチル、n-プロピル、 i
so-プロピル、ヘキシル、シクロヘキシル、2-エチルヘ
キシル、2-ヘキシルデシル、n-ドデシル、n-ヘプタデシ
ル)、アラルキル基(例えば、ベンジル)、アリール基
(置換基を有するものも含む。炭素数6〜50。例えば、
フェニル)が挙げられる。R5 の例としてはアルキル基
(炭素数1〜10。例えばメチル、エチル)、アラルキル
基(例えば、ベンジル)等が挙げられる。
合物が加水分解されてできるスルホン酸が水溶性である
性質を有する基を表し、好ましくはメチル基、エチル
基、フェニル基、トシル基、が挙げられる。
は好ましくは水素原子、ハロゲン原子である。さらに好
ましくは水素原子である。
チル基である。さらに好ましくは水素原子である。
基を有するものを含む。炭素数1〜20。例えば、メチ
ル、2−ヘキシルデシル、n−ドデシル、n−ヘキサデ
シル)、アリール基(置換基を有するものも含む。炭素
数6〜50。例えば、フェニル)である。
CONR6 −である。R6 は好ましくはアルキル基(置
換基を有するものを含む。炭素数1〜20。例えば、メ
チル、2−ヘキシルデシル、n−ドデシル、n−ヘキサ
デシル)である。
基である。
詳しく説明する。5−アシル−2−アミドハイドロキノ
ン類の製造は2−アミドハイドロキノンジメチルエーテ
ル類のフリーデルクラフツアシル化と脱メチル化を一工
程で行うことによって達成された。ここでフリーデルク
ラフツアシル化は前述した問題を解決するためにスルホ
ニルクロライドの共存下、無水塩化アルミニウムとカル
ボン酸ハライドを作用させることによって成され、さら
に脱メチル化は無水塩化アルミニウムを追加することに
よって成された。
化合物は公知の方法で製造することができる。すなわ
ち、2,5−ジアルコキシアニリンと酸ハライド、また
はハロ炭酸エステル、ハロ炭酸チオエステル、カルバモ
イルハライド、スルホニルハライド、スルファモイルハ
ライドを用いて行う。いずれの場合にも公知の脱ハロゲ
ン化水素剤が用いられる。脱ハロゲン化水素剤として
は、例えば、ピリジン、トリエチルアミン、重層等が用
いられる。溶媒としては、非プロトン性極性溶媒が好ま
しく、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルアセトアミド等が、叉はそれらの
混合溶媒を用いることができる。
シル化、脱アルキル化による一般式(3)で表される化合
物の製造方法について詳しく述べる。反応は基質(一般
式(1)の化合物)に対し、1当量のカルボン酸ハライド
とn当量(n=2〜5)の無水塩化アルミニウムおよび
(n-1)当量のスルホニルクロライドを作用させること
によって行える。但し、後続する脱アルキル化反応や最
終生成物の単離に影響を及ぼさない程度の過剰のカルボ
ン酸ハライドが存在していてもかまわない。ここで、2
当量の無水塩化アルミニウムと1当量のカルボン酸ハラ
イドおよび1当量のスルホニルクロライドを用いたフリ
ーデルクラフツアシル化を行うことにより2-アミドハイ
ドロキノンジアルキルエーテルへのアシル基の導入を行
うのが好ましい。反応は2当量の無水塩化アルミニウム
と1当量のカルボン酸ハライドおよび1当量のスルホニ
ルクロライドを先に作用させコンプレクッスの形成を確
認の上(無水塩化アルミニウムの溶解)、一般式(1)で
表される化合物を反応させるのが好ましい。また、一般
式(1)で表される化合物の置換基上にアミド基等のルイ
ス酸の活性を低下させる置換基が存在する場合はそれら
置換基による反応阻害を防ぐために無水塩化アルミニウ
ムとスルホニルクロライドを必要量追加して反応を行
う。
Olah) 著のフリーデルクラフツ アンド リレイティド
リアクションズ(Friedel-Crafts and Related React
ions) 1巻、ニューヨーク、ロンドン、インターサイエ
ンス社(Interscience Publishers)1963年に記載さ
れている様なフリーデルクラフツ反応で使用できる一般
的なもの、例えば塩化メチレン、クロロホルム、1,2
−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒が使用できるが好
ましくは塩化メチレンである。
メチレンを溶媒として使用した場合には加熱還流が好ま
しく、クロロホルム、1,2−ジクロロエタンを使用し
た場合には40〜50℃の範囲で行うのが好ましい。
ルミニウムを追加することによって5−アシル−2−ア
ミドハイドロキノン類の合成が行える。反応温度は塩化
メチレン、クロロホルムを溶媒として使用した場合には
加熱還流が好ましく、1,2−ジクロロエタンを使用し
た場合には60〜70℃の範囲で行うのが好ましい。
を示すが本発明がこれらに限定されるものではない。
説明する。 実施例1 N−(4−ドテカノイル−2,5−ジヒドロ
キシフェニル)−2−ヘキシルデカンアミド具体的化合
物例(1)の合成。 無水塩化アルミニウム26.7gを塩化メチレン100
mlに懸濁させ、ここにドデカノイルクロライド22.3
g、メタンスルホニルクロライド11.5gを投入す
る。室温で1時間攪拌すると無水塩化アルミニウムは完
全に溶解する。N−(2,4−ジメトキシフェニル)−
2−ヘキシルデカンアミド39.2gを分別添加しその
後加熱還流を4時間行う。反応液を水冷し、無水塩化ア
ルミニウム26.7gを加えた後、さらに4時間加熱還
流を行う。反応終了後、水200mlに注ぎ塩化メチレン
にて抽出を行う。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を減圧留去する。濃縮物に酢酸エチル60ml、
アセトニトリル500mlを投入した後、攪拌しながら冷
却すると約1時間で結晶が析出する。得られた結晶を濾
取し、アセトニトリル50mlで洗浄、乾燥後、N−(4
−ドデカノイル−2,5−ジヒドロキシフェニル)−2
−ヘキシルデカンアミド43.7gを淡黄色結晶として
得た(収率80.1%)。 NMRδ(CDCl3 ) 12.05(s ,1H) 8.3 (s ,1H) 7.73(s ,1H) 7.40(s ,1H) 6.78(s ,1H) 2.89(t ,2H) 2.33(m ,1H) 1.80〜1.15(m ,42H) 0.87(m ,9H) 融点 59.0〜60.0℃
5−ジヒドロキシフェニル)−2−ヘキシルデカンアミ
ド具体的化合物例(2)の合成。 無水塩化アルミニウム26.7gを塩化メチレン100
mlに懸濁させ、ここにパルミトイルクロライド27.8
g、メタンスルホニルクロライド11.5gを投入す
る。室温で1時間攪拌すると無水塩化アルミニウムは完
全に溶解する。N−(2,5−ジメトキシフェニル)−
2−ヘキシルデカンアミド39.2gを分別添加しその
後加熱還流を4時間行う。反応液を水冷し、無水塩化ア
ルミニウム26.7gを加えた後、さらに4時間加熱還
流を行う。反応終了後、水200mlに注ぎ塩化メチレン
にて抽出を行う。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を減圧留去する。濃縮物に酢酸エチル60ml、
アセトニトリル500mlを投入した後、攪拌しながら冷
却すると約1時間で結晶が析出する。得られた結晶を濾
取し、アセトニトリル50mlで洗浄、乾燥後、N−(4
−パルミトイル−2,5−ジヒドロキシフェニル)−2
−ヘキシルデカンアミド51.3gを淡黄色結晶として
得た(収率85.1%)。 NMRδ(CDCl3 ) 12.08(s ,1H) 8.36(s ,1H) 7.91(s ,1H) 7.38(s ,1H) 6.89(s ,1H) 2.91(t ,2H) 2.35(m ,1H) 1.80〜1.15(m ,50H) 0.87(m ,9H) 融点 44.5〜46.0℃
ジヒドロキシフェニル)−2−ヘキシルデカンアミド具
体的化合物例(3)の合成。 無水塩化アルミニウム26.7gを塩化メチンレ100
mlに懸濁させ、ここにアセチルクロライド8.0g、メ
タンスルホニルクロライド11.5gを投入する。室温
で1時間攪拌すると無水塩化アルミニウムは完全に溶解
する。N−(2,5−ジメトキシフェニル)−2−ヘキ
シルデカンアミド39.2gを分別添加しその後加熱還
流を4時間行う。反応液を水冷し、無水塩化アルミニウ
ム26.7gを加えた後、さらに4時間加熱還流を行
う。反応終了後、水200mlに注ぎ塩化メチレンにて抽
出を行う。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶
媒を減圧留去する。濃縮物に酢酸エチル60ml、アセト
ニトリル500mlを投入した後、攪拌しながら冷却する
と約1時間で結晶が析出する。得られた結晶を濾取し、
アセトニトリル50mlで洗浄、乾燥後、N−(4−アセ
チル−2,5−ジヒドロキシフェニル)−2−ヘキシル
デカンアミド35.6gを淡黄色結晶として得た(収率
88.1%)。 NMRδ(DMSO−d6) 11.80(s ,1H) 10.18(s ,1H) 9.20(s ,1H) 8.38(s ,1H) 7.35(s ,1H) 2.63(t ,2H) 2.40(m ,1H) 1.80〜1.18(m ,24H) 0.87(m ,6H) 融点 49.0〜50.5℃
5−ジヒドロキシフェニル)−パルミチンアミド具体的
化合物例(4)の合成。 無水塩化アルミニウム26.7gを塩化メチレン100
mlに懸濁させ、ここにパルミトイルクロライド27.8
g、メタンスルホニルクロライド11.5gを投入す
る。室温で1時間攪拌すと無水塩化アルミニウムは完全
に溶解する。N−(2,5−ジメトキシフェニル)−パ
ルミチンアミド39.2gを分別添加しその後加熱還流
を4時間行う。反応液を水冷し、無水塩化アルミニウム
26.7gを加えた後、さらに4時間加熱還流を行う。
反応終了後、水200mlに注ぎ塩化メチレンにて抽出を
行う。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を
減圧留去する。濃縮物に酢酸エチル60ml、アセトニト
リル500mlを投入した後、攪拌しながら冷却すると約
1時間で結晶が析出する。得られた結晶を濾取し、アセ
トニトリル50mlで洗浄、乾燥後、N−(4−パルミト
イル−2,5−ジヒドロキシフェニル)−パルミチンア
ミド55.2gを淡黄色結晶として得た(収率91.5
%)。 NMRδ(CDCl3 ) 12.07(s ,1H) 8.35(s ,1H) 7.89(s ,1H) 7.36(s ,1H) 6.89(s ,1H) 3.12(t ,2H) 2.91(t ,2H) 1.80〜1.15(m ,52H) 0.87(m ,6H) 融点 103.5〜105.5℃
ノイル)−2,5−ジヒドロキシフェニル)−パルミチ
ンアミド具体的化合物例(5)の合成。 無水塩化アルミニウム26.7gを塩化メチレン100
mlに懸濁させ、ここに2−ヘキシルデカノイルクロライ
ド27.8g、メタンスルホニルクロライド11.5g
を投入する。室温で1時間攪拌すると無水塩化アルミニ
ウムは完全に溶解する。N−(2,5−ジメトキシフェ
ニル)−パルミチンアミド39.2gを分別添加しその
後加熱還流を4時間行う。反応液を水冷し、無水塩化ア
ルミニウム26.7gを加えた後、さらに4時間加熱還
流を行う。反応終了後、水200mlに注ぎ塩化メチレン
にて抽出を行う。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を減圧留去する。濃縮物に酢酸エチル60ml、
アセトニトリル500mlを投入した後、攪拌しながら冷
却すると約1時間で結晶が析出する。得られた結晶を濾
取し、アセトニトリル50mlで洗浄、乾燥後、N−(4
−(2−ヘキシルデカノイル)−2,5−ジヒドロキシ
フェニル)−パルミチンアミド47.3gを淡黄色結晶
として得た(収率78.0%)。 NMRδ(CDCl3 ) 12.05(s ,1H) 8.29(s ,1H) 7.91(s ,1H) 7.38(s ,1H) 6.89(s ,1H) 3.13(t ,2H) 2.17(m ,1H) 1.79〜1.10(m ,50H) 0.87(m ,9H) 融点 104.0〜105.0℃
ンゾイル)−2,5−ジヒドロキシフェニル)−パルミ
チンアミド具体的化合物例(6)の合成。 無水塩化アルミニウム26.7gを塩化メチレン100
mlに懸濁させ、ここに2−メトキシベンゾイルクロライ
ド17.1g、メタンスルホニウムクロライド11.5
gを投入する。室温で1時間攪拌すると無水塩化アルミ
ニウムは完全に溶解する。N−(2,5−ジメトキシフ
ェニル)−パルミチンアミド39.2gを分別添加しそ
の後加熱還流を4時間行う。反応液を水冷し、無水塩ア
ルミニウム40.0gを加えた後、さらに4時間加熱還
流を行う。反応終了後、水200mlに注ぎ塩化メチレン
にて抽出を行う。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を減圧留去する。濃縮物に酢酸エチル60ml、
アセトニトリル500mlを投入した後、攪拌しながら冷
却すると約1時間で結晶が析出する。得られた結晶を濾
取し、アセトニトリル50mlで洗浄、乾燥後、N−(4
−(2−ヒドロキシベンゾイル)−2,5−ジヒドロキ
シフェニル)−パルミチンアミド40.6gを淡黄色結
晶として得た(収率84.0%)。 NMRδ(DMSO−d6) 11.53(s ,1H) 10.22(s ,1H) 9.62(s ,1H) 9.21(s ,1H) 7.78(s ,1H) 7.37(t ,1H) 7.26(d ,1H) 7.02〜6.88(m ,2H) 6.80(s , 1H) 2.43(m , 2H) 1.56(m , 2H) 1.27(m , 24H) 0.87(m , 3H) 融点 200℃以上
イル)−2,5−ジヒドロキシフェニル)−ヘキサデカ
ンスルホンアミド具体的例(7)の合成 無水塩化アルミニウム26.7gを塩化メチレン100
mlに懸濁させ、ここに2−ヘキシルデカノイルクロライ
ド27.8g、メタンスルホニルクロライド11.5g
を投入する。室温で1時間攪拌すると無水塩化アルミニ
ウムは完全に溶解する。N−(2,5−ジメトキシフェ
ニル)−ヘキサデカンスルホンアミド44.1gを分別
添加しその後加熱還流を4時間行う。反応液を水冷し、
無水塩化アルミニウム26.7gを加えた後、さらに4
時間加熱還流を行う。反応終了後、水200mlに注ぎ塩
化メチレンにて抽出を行う。有機層を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、溶媒を減圧留去する。濃縮物をシリカゲ
ルカラムクロマトに付しN−(4−(2−ヘキシルデカ
ノイル)−2,5−ジヒドロキシフェニル)−ヘキサデ
カンスルホンアミド40.8gを淡黄色油状物として得
た(収率62.5%)。 NMRδ(DMSO−d6) 12.06(s ,1H) 9.67(br.s ,1H) 9.05(br.s ,1H) 7.26(s ,1H) 6.90(s ,1H) 3.23(m ,2H) 2.17(m ,1H) 1.78〜1.12(m ,52H) 0.86(m ,9H)
(2−ヘキシルデカノイル)−2,5−ジヒドロキシフ
ェニル)−ウレア具体的化合物例(8)の合成。 無水塩化アルミニウム26.7gを塩化メチレン100
mlに懸濁させ、ここに2−ヘキシルデカノイルクロライ
ド27.8g、メタンスルホニルクロライド11.5g
を投入する。室温で1時間攪拌すると無水塩化アルミニ
ウムは完全に溶解する。1,1−ジブチル−3−(2,
5−ジメトキシフェニル)−ウレア30.8gを分別添
加しその後加熱還流を4時間行う。反応液を水冷し、無
水塩化アルミニウム26.7gを加えた後、さらに4時
間加熱還流を行う。反応終了後、水200mlに注ぎ塩化
メチレンにて抽出を行う。有機層を無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、溶媒を減圧留去する。濃縮物をシリカゲル
カラムクロマトに付し1,1−ジブチル−3−(4−
(2−ヘキシルデカノイル)−2,5−ジヒドロキシフ
ェニル)−ウレア35.3gを淡黄色油状物として得た
(収率68.2%)。 NMRδ(DMSO−d6) 12.41(s ,1H) 10.15(br.s ,1H) 7.71(s ,1H) 7.57(s ,1H) 7.24(s ,1H) 3.29(m ,4H) 2.18(m ,1H) 1.71〜1.07(m ,32H) 0.98〜0.77(m ,12H)
イドを除いた条件下(他の条件は同じ)で反応を行い実
施例1と比較する。比較例1 無水塩化アルミニウム26.7gを塩化メチレン100mlに懸濁
させ、ここにドデカノイルクロライド22.3gを投入す
る。その後室温で1時間攪拌する。N-(2,5-ジメトキシ
フェニル)-2-ヘキシルデカンアミド39.2gを分別添加し
その後加熱還流を4時間行う。反応液を水冷し、無水塩
化アルミニウム26.7gを加えた後、さらに4時間加熱還
流を行う。反応終了後、水200mlに注ぎ塩化メチレンに
て抽出を行う。ここで有機層をHPLCにて生成物の分析を
行った。
燥後、溶媒を減圧留去する。濃縮物をシリカゲルクロマ
トに付し酢酸エチル:アセトニトリル(1:10)にて
再結晶を行い、N−(4−ドデカノイル−2,5−ジヒ
ドロキシフェニル)−2−ヘキシルデカンアミド26.
1gを淡黄色結晶として得た(収率47.8%)。同様
に実施例1においても分析を行った。これらの結果を表
1に示した。
用な一般式(3)で表されるハイドロキノン誘導体を、
工業的に入手容易な2,5−ジメトキシアニリンから高
収率で得ることができ、しかも各工程において副生物の
生成が少なく操作性に優れ、純度の高い結晶として取り
出せるため、工業的に実施するには簡便で作業工程の簡
略な方法として好適である。
Claims (3)
- 【請求項1】 下記一般式(1): 【化1】 (一般式(1)中、R1、R2は水素原子、ハロゲン原子、ア
ルキル基、アラルキル基、アリール基を表し、R3、R4は
水素原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基を表
し、R5はアルキル基、アラルキル基を表し、Aは-CO-、
-COO-、-COS-、-CONR6-、-SO2-、-SO2NR6-から選ばれる
2価の基を表し、R6は水素原子、アルキル基、アラルキ
ル基、アリール基を表す。)で表される2-アミドハイド
ロキノンジアルキルエーテル類のフリーデルクラフツア
シル化を、下記一般式(2): R7SO2Cl (一般式(2)中、R7は一般式(2)の化合物の加水分解によ
りできるスルホン酸を水溶性にするアルキル基又はアリ
ール基を表す。)で表されるスルホニルクロライドの共
存下で行うことを特徴とする、下記一般式(3): 【化2】 (一般式(3)中、R1、R2、R3、R4、Aは前記と同じ意味
を有し、R8はアルキル基、アラルキル基、アリール基を
表す。)で表される5-アシル-2-アミドハイドロキノン
類の製造法。 - 【請求項2】 下記一般式(1): 【化15】 (一般式(1)中、R1、R2は水素原子、ハロゲン原子、ア
ルキル基、アラルキル基、アリール基を表し、R3、R4は
水素原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基を表
し、R5はアルキル基、アラルキル基を表し、Aは-CO-、
-COO-、-COS-、-CONR6-、-SO2-、-SO2NR6-から選ばれる
2価の基を表し、R6は水素原子、アルキル基、アラルキ
ル基、アリール基を表し、R4で2量体又は3量体を形成
している。)で表される2-アミドハイドロキノンジアル
キルエーテル類のフリーデルクラフツアシル化を、下記
一般式(2): R7SO2Cl (一般式(2)中、R7は一般式(2)の化合物の加水分解によ
りできるスルホン酸を水溶性にするアルキル基又はアリ
ール基を表す。)で表されるスルホニルクロライドの共
存下で行うことを特徴とする、下記一般式(3): 【化16】 (一般式(3)中、R1、R2、R3、R4、Aは前記と同じ意味
を有し、R8はアルキル基、アラルキル基、アリール基を
表し、R4で2量体又は3量体を形成している。)で表さ
れる5-アシル-2-アミドハイドロキノン類の製造法。 - 【請求項3】 下記一般式(1): 【化17】 (一般式(1)中、R1、R2は水素原子、ハロゲン原子、ア
ルキル基、アラルキル基、アリール基を表し、R3、R4は
水素原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基を表
し、R5はアルキル基、アラルキル基を表し、Aは-CO-、
-COO-、-COS-、-CONR6-、-SO2-、-SO2NR6-から選ばれる
2価の基を表し、R6は水素原子、アルキル基、アラルキ
ル基、アリール基を表す。)で表される2-アミドハイド
ロキノンジアルキルエーテル類のフリーデルクラフツア
シル化を、下記一般式(2): R7SO2Cl (一般式(2)中、R7は一般式(2)の化合物の加水分解によ
りできるスルホン酸を水溶性にするアルキル基又はアリ
ール基を表す。)で表されるスルホニルクロライドの共
存下で行うことを特徴とする、下記一般式(3): 【化18】 (一般式(3)中、R1、R2、R3、R4、Aは前記と同じ意味
を有し、R8はアルキル基、アラルキル基、アリール基を
表し、R8で2量体又は3量体を形成している。)で表さ
れる5-アシル-2-アミドハイドロキノン類の製造法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28899993A JP3199295B2 (ja) | 1993-11-18 | 1993-11-18 | 5−アシル−2−アミドハイドロキノン類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28899993A JP3199295B2 (ja) | 1993-11-18 | 1993-11-18 | 5−アシル−2−アミドハイドロキノン類の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07138217A JPH07138217A (ja) | 1995-05-30 |
JP3199295B2 true JP3199295B2 (ja) | 2001-08-13 |
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ID=17737538
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28899993A Expired - Fee Related JP3199295B2 (ja) | 1993-11-18 | 1993-11-18 | 5−アシル−2−アミドハイドロキノン類の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3199295B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20170017154A1 (en) * | 2014-03-31 | 2017-01-19 | Fujifilm Corporation | Photosensitive resin composition, lithographic printing plate precursor, and method for producing lithographic printing plate |
-
1993
- 1993-11-18 JP JP28899993A patent/JP3199295B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20170017154A1 (en) * | 2014-03-31 | 2017-01-19 | Fujifilm Corporation | Photosensitive resin composition, lithographic printing plate precursor, and method for producing lithographic printing plate |
US10564545B2 (en) * | 2014-03-31 | 2020-02-18 | Fujifilm Corporation | Photosensitive resin composition, lithographic printing plate precursor, and method for producing lithographic printing plate |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07138217A (ja) | 1995-05-30 |
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