JP3172167B2 - 電気光学装置および電気光学装置の製造方法 - Google Patents
電気光学装置および電気光学装置の製造方法Info
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- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
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- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電気光学装置に関する。詳しくはカラーフ
ィルター層を有する電気光学装置の構造に関する。
ィルター層を有する電気光学装置の構造に関する。
従来、カラーフィルター上に透明電極を形成する方法
として特開昭61−233720号公報、特開昭61−260224号公
報や特開昭61−198131号公報又は特開昭62−153826号公
報の様にカラーフィルター及び、保護層等の形状、材質
について種々提案されている。
として特開昭61−233720号公報、特開昭61−260224号公
報や特開昭61−198131号公報又は特開昭62−153826号公
報の様にカラーフィルター及び、保護層等の形状、材質
について種々提案されている。
しかしながら前述の従来技術では、細密パターンに対
応し、形成を容易にする為カラーフィルター及び保護層
が有機樹脂で形成されており、実際にカラーフィルター
上に直接又は、前述の従来技術で提案されているように
保護層を介して透明電極を形成する場合、有機樹脂の耐
熱性が低くせいぜい220〜230℃の為、成膜時に温度が上
げられず透明電極の膜質が弱く、例えば表面硬度が低く
物理的強度が無い、水等の電界質が存在している環境下
で電界をかけると電蝕反応が起こり化学的強度が無い等
の問題を有していた。この問題は電気光学装置の信頼性
が低いという大きな問題ともなっている。そこで、カラ
ーフィルター自体の耐熱性向上の為、従来染色法により
形成されていたカラーフィルターを顔料にする事が行わ
れているが保持する樹脂自体の耐熱性に問題が有り飛躍
的な向上は無い。また、樹脂の耐熱性を向上させる試み
が成されているが、耐熱性を上げると短波長側での光の
吸収が有り黄変してしまう、アルカリに対して耐性が劣
る等の問題を有しており十分では無い。
応し、形成を容易にする為カラーフィルター及び保護層
が有機樹脂で形成されており、実際にカラーフィルター
上に直接又は、前述の従来技術で提案されているように
保護層を介して透明電極を形成する場合、有機樹脂の耐
熱性が低くせいぜい220〜230℃の為、成膜時に温度が上
げられず透明電極の膜質が弱く、例えば表面硬度が低く
物理的強度が無い、水等の電界質が存在している環境下
で電界をかけると電蝕反応が起こり化学的強度が無い等
の問題を有していた。この問題は電気光学装置の信頼性
が低いという大きな問題ともなっている。そこで、カラ
ーフィルター自体の耐熱性向上の為、従来染色法により
形成されていたカラーフィルターを顔料にする事が行わ
れているが保持する樹脂自体の耐熱性に問題が有り飛躍
的な向上は無い。また、樹脂の耐熱性を向上させる試み
が成されているが、耐熱性を上げると短波長側での光の
吸収が有り黄変してしまう、アルカリに対して耐性が劣
る等の問題を有しており十分では無い。
他の方法として多孔質の無機層に顔料等の耐熱性の高
い物を昇華させカラーフィルターを形成する方法等が提
案されているがパターン精度、色純度等課題が多く検討
の必要が有る。
い物を昇華させカラーフィルターを形成する方法等が提
案されているがパターン精度、色純度等課題が多く検討
の必要が有る。
そこで、本発明はこの様な問題点を解決するもので、
その目的とする所は、カラーフィルター上に直接もしく
は一層以上の有機、または無機層を介して透明電極を形
成した電気光学装置の化学的耐性、特に電蝕反応に対し
て耐性を向上させ容易に信頼性の高い電気光学装置を提
供する事にある。
その目的とする所は、カラーフィルター上に直接もしく
は一層以上の有機、または無機層を介して透明電極を形
成した電気光学装置の化学的耐性、特に電蝕反応に対し
て耐性を向上させ容易に信頼性の高い電気光学装置を提
供する事にある。
本発明の電気光学装置は、シールを挟んだ一対の基板
間に液晶が挟持され、前記一対の基板のうち一方の基板
上にカラーフィルターを有し、該カラーフィルター上に
透明電極および配向膜が設けられている電気光学装置に
おいて、前記一方の基板は、前記シールの外側において
他方の基板より張り出している張り出し部分を有し、か
つ、前記一方の基板および前記他方の基板は前記シール
の外側においても重なるように配置されてなり、前記透
明電極は、前記シールの外側であって前記一対の基板が
重なる領域および前記張り出し部分にも設けられてお
り、前記配向膜は、前記一対の基板が重なる領域から前
記張り出し部分の前記透明電極上に連続して設けられ、
かつ、前記張り出し部分にある前記透明電極の信号入力
部上には設けられていないことを特徴とする。
間に液晶が挟持され、前記一対の基板のうち一方の基板
上にカラーフィルターを有し、該カラーフィルター上に
透明電極および配向膜が設けられている電気光学装置に
おいて、前記一方の基板は、前記シールの外側において
他方の基板より張り出している張り出し部分を有し、か
つ、前記一方の基板および前記他方の基板は前記シール
の外側においても重なるように配置されてなり、前記透
明電極は、前記シールの外側であって前記一対の基板が
重なる領域および前記張り出し部分にも設けられてお
り、前記配向膜は、前記一対の基板が重なる領域から前
記張り出し部分の前記透明電極上に連続して設けられ、
かつ、前記張り出し部分にある前記透明電極の信号入力
部上には設けられていないことを特徴とする。
また、前記カラーフィルターと、前記透明電極との間
に、少なくとも一層以上の無機層、有機樹脂層あるい
は、有機樹脂層と無機層の積層体を備えていることを特
徴とする。
に、少なくとも一層以上の無機層、有機樹脂層あるい
は、有機樹脂層と無機層の積層体を備えていることを特
徴とする。
本発明の電気光学装置の製造方法は、シールを挟み、
かつ液晶を挟持する一対の基板の一方の基板上にカラー
フィルターを形成し、該カラーフィルター上に透明電極
および配向膜を形成してなる電気光学装置の製造方法に
おいて、前記一方の基板上に前記透明電極を形成する工
程と、しかる後、前記一方の基板上に前記配向膜を形成
する工程と、しかる後、前記一対の基板を洗浄する工程
と、を含んでなり、前記透明電極を形成する工程におい
ては、前記透明電極を、前記シールの外側であって前記
一対の基板が重なる領域および前記シールの外側におい
て他方の基板より張り出している前記一方の基板の張り
出し部分に形成し、前記配向膜を形成する工程において
は、前記配向膜を、前記一対の基板が重なる領域から前
記張り出し部分の前記透明電極上に連続して形成し、か
つ、前記張り出し部分にある前記透明電極の信号入力部
上には形成しないことを特徴とする。
かつ液晶を挟持する一対の基板の一方の基板上にカラー
フィルターを形成し、該カラーフィルター上に透明電極
および配向膜を形成してなる電気光学装置の製造方法に
おいて、前記一方の基板上に前記透明電極を形成する工
程と、しかる後、前記一方の基板上に前記配向膜を形成
する工程と、しかる後、前記一対の基板を洗浄する工程
と、を含んでなり、前記透明電極を形成する工程におい
ては、前記透明電極を、前記シールの外側であって前記
一対の基板が重なる領域および前記シールの外側におい
て他方の基板より張り出している前記一方の基板の張り
出し部分に形成し、前記配向膜を形成する工程において
は、前記配向膜を、前記一対の基板が重なる領域から前
記張り出し部分の前記透明電極上に連続して形成し、か
つ、前記張り出し部分にある前記透明電極の信号入力部
上には形成しないことを特徴とする。
本発明の上記構成によれば、少なくともカラーフィル
ターを有した基板の配向膜の領域を対向する基板と重な
る領域より外側まで延長する事により洗浄等の行程中で
付着したイオン性の汚れが一番残り易い上下基板の重な
った部分に配向膜より成る遮断層を形成した事になり、
前記イオン性の汚れに水分が吸着され電界の中で起こる
電蝕反応に対して透明電極を接せず耐性を向上するとい
う作用を生じる。
ターを有した基板の配向膜の領域を対向する基板と重な
る領域より外側まで延長する事により洗浄等の行程中で
付着したイオン性の汚れが一番残り易い上下基板の重な
った部分に配向膜より成る遮断層を形成した事になり、
前記イオン性の汚れに水分が吸着され電界の中で起こる
電蝕反応に対して透明電極を接せず耐性を向上するとい
う作用を生じる。
以下、本発明を実施例に基づき、より詳細に説明す
る。
る。
カラーフィルターの形成方法により色々な保護層の形
成方法が有るため、以下実施例毎にカラーフィルターの
形成方法を分けて説明する。但し、本発明の電気光学装
置は本実施例以外のカラーフィルター形成方法や、保護
層の形成方法にも適用できることはいうまでもなく、材
料等にも限定されないことはいうまでもない。また、配
向膜の厚みは外気との接触を遮断する為には膜厚は厚い
方が良く、望ましくは50Å以上、更に効果を上げるには
200Å以上有る事が望ましい。
成方法が有るため、以下実施例毎にカラーフィルターの
形成方法を分けて説明する。但し、本発明の電気光学装
置は本実施例以外のカラーフィルター形成方法や、保護
層の形成方法にも適用できることはいうまでもなく、材
料等にも限定されないことはいうまでもない。また、配
向膜の厚みは外気との接触を遮断する為には膜厚は厚い
方が良く、望ましくは50Å以上、更に効果を上げるには
200Å以上有る事が望ましい。
〔実施例１〕 第１図、第２図を用いて説明する。第１図に本発明の
カラーフィルター付き基板の断面図を示す。ガラス基板
１上に赤、青、緑、の各顔料を分散させたインクをオフ
セット法によりストライプ状に厚さ1.5μｍで印刷しカ
ラーフィルター２を形成する。その後アクリル系の樹脂
をスクリーン印刷法で10μｍ厚みで形成し研磨して平坦
化させたのち180℃で２時間乾燥させて保護層３をガラ
ス基板１の全面に形成した。該ガラス基板１の前記保護
層３上に低温マグネトロンスパッタ法により180℃の成
膜温度で酸化インジュウム−酸化スズ（以下ITO）より
なる透明導伝性膜を2000Å形成し、フォトリソグラフ法
にて透明電極４をカラーフィルター２と直交する様に形
成した。次に第２図を用いて本発明の電気光学装置の構
造を説明する。第１図で示したガラス基板１と同じくガ
ラス基板６上にITOにてマトリックス状に成るように対
向電極７を形成する。この後ポリイミドを用いて配向膜
5,8を300〜400Åで各々形成しシール９及び、ギャップ
材10を介して液晶11を封入した。本実施例においては左
ねじれ230゜、セルギャップ６μｍとした。この時、カ
ラーフィルターの付いている基板１の配向膜５の位置を
信号入力部Ｂを除いて対向する基板６と重なる位置Ａよ
り第２図に示す様に寸法ａだけ延出して形成した。本実
施例においてａの長さを振り比較したので以下に示す。
まず、液晶を封入した電気光学装置をトリエタン等の有
機溶剤中で洗浄し、次いで信号入力部等に付着した汚れ
を除去する為アルカリ水中（２〜4wt％）でブラッシン
グを行った。その後、時分割駆動による駆動波形を1/20
0〜1/400デューティーで印加し50℃−90RH％下の環境下
で200時間連続通電試験を行い断線等の発生を調査し
た。50時間毎に取り出し断線数とその内容を検査した。
結果を表１にまとめる。今回のライン数は200本で統一
した。尚、電気光学装置の洗浄方法であるがアルカリ性
の界面活性剤中で超音波洗浄をしても良く信号入力部等
に傷の発生など物理的なダメージやシール部、保護層な
どへの洗浄剤からの化学的ダメージが無い限りその方法
の選択には制限が無い。本実施例においてはアルカリ水
中（２〜4wt％）でナイロン回転ブラシによるブラッシ
ングを行った。回転ブラシによる傷付き性を考慮しブラ
シの当りは毛先が軽く接触する程度とした。
カラーフィルター付き基板の断面図を示す。ガラス基板
１上に赤、青、緑、の各顔料を分散させたインクをオフ
セット法によりストライプ状に厚さ1.5μｍで印刷しカ
ラーフィルター２を形成する。その後アクリル系の樹脂
をスクリーン印刷法で10μｍ厚みで形成し研磨して平坦
化させたのち180℃で２時間乾燥させて保護層３をガラ
ス基板１の全面に形成した。該ガラス基板１の前記保護
層３上に低温マグネトロンスパッタ法により180℃の成
膜温度で酸化インジュウム−酸化スズ（以下ITO）より
なる透明導伝性膜を2000Å形成し、フォトリソグラフ法
にて透明電極４をカラーフィルター２と直交する様に形
成した。次に第２図を用いて本発明の電気光学装置の構
造を説明する。第１図で示したガラス基板１と同じくガ
ラス基板６上にITOにてマトリックス状に成るように対
向電極７を形成する。この後ポリイミドを用いて配向膜
5,8を300〜400Åで各々形成しシール９及び、ギャップ
材10を介して液晶11を封入した。本実施例においては左
ねじれ230゜、セルギャップ６μｍとした。この時、カ
ラーフィルターの付いている基板１の配向膜５の位置を
信号入力部Ｂを除いて対向する基板６と重なる位置Ａよ
り第２図に示す様に寸法ａだけ延出して形成した。本実
施例においてａの長さを振り比較したので以下に示す。
まず、液晶を封入した電気光学装置をトリエタン等の有
機溶剤中で洗浄し、次いで信号入力部等に付着した汚れ
を除去する為アルカリ水中（２〜4wt％）でブラッシン
グを行った。その後、時分割駆動による駆動波形を1/20
0〜1/400デューティーで印加し50℃−90RH％下の環境下
で200時間連続通電試験を行い断線等の発生を調査し
た。50時間毎に取り出し断線数とその内容を検査した。
結果を表１にまとめる。今回のライン数は200本で統一
した。尚、電気光学装置の洗浄方法であるがアルカリ性
の界面活性剤中で超音波洗浄をしても良く信号入力部等
に傷の発生など物理的なダメージやシール部、保護層な
どへの洗浄剤からの化学的ダメージが無い限りその方法
の選択には制限が無い。本実施例においてはアルカリ水
中（２〜4wt％）でナイロン回転ブラシによるブラッシ
ングを行った。回転ブラシによる傷付き性を考慮しブラ
シの当りは毛先が軽く接触する程度とした。
表１の結果より配向膜の位置がＡ部より少しでも外側
に有れば本発明の効果が出る事が分かる。本実施例にお
いては配向膜としてポリイミドを用いたが、他の配向
剤、例えばプレイミド、ポリアミック酸、ポリアミド−
イミド等制約は受けない。
に有れば本発明の効果が出る事が分かる。本実施例にお
いては配向膜としてポリイミドを用いたが、他の配向
剤、例えばプレイミド、ポリアミック酸、ポリアミド−
イミド等制約は受けない。
〔実施例２〕 第３図、第４図を用いて説明する。第３図に本発明の
カラーフィルター付き基板の断面図を示す。ガラス基板
１上に実施例１と同様にオフセット印刷法によりカラー
フィルターをストライプ状に印刷後プレス加圧してカラ
ーフィルター12を平坦化して形成した。次に、エポキシ
アクリレート樹脂に紫外線感光性を付与してスピンコー
ト法により1.2μｍ厚でコートした後、紫外線照射して
保護層13を選択的に形成した。その後、透明電極４を実
施例１と同様に形成した。次に、第４図を用いて電気光
学装置の構成を説明する。本実施例においては実施例１
と同様にカラーフィルター付き基板側の配向膜５の位置
Ａと保護層13の端部位置Ｃの双方を考慮して調査した。
尚、電気光学装置のその他の構成は実施例１と同様にて
形成した。電気光学装置の洗浄方法や試験方法について
は実施例１と同様に行い比較し易い様にした。
カラーフィルター付き基板の断面図を示す。ガラス基板
１上に実施例１と同様にオフセット印刷法によりカラー
フィルターをストライプ状に印刷後プレス加圧してカラ
ーフィルター12を平坦化して形成した。次に、エポキシ
アクリレート樹脂に紫外線感光性を付与してスピンコー
ト法により1.2μｍ厚でコートした後、紫外線照射して
保護層13を選択的に形成した。その後、透明電極４を実
施例１と同様に形成した。次に、第４図を用いて電気光
学装置の構成を説明する。本実施例においては実施例１
と同様にカラーフィルター付き基板側の配向膜５の位置
Ａと保護層13の端部位置Ｃの双方を考慮して調査した。
尚、電気光学装置のその他の構成は実施例１と同様にて
形成した。電気光学装置の洗浄方法や試験方法について
は実施例１と同様に行い比較し易い様にした。
結果を表２にまとめる。Ｃ部位置についてはシール９
の内側を（内）、外側を（外）とした。
の内側を（内）、外側を（外）とした。
表２の結果より保護層13が有る境界部が外気と接触し
易い場合（シール９より外側）ITOの強度が弱く電蝕反
応が発生し易い。この場合でも配向膜５が少なくともＡ
部より外側に有れば効果を発揮する事が分かる。尚、シ
ール９の下まで保護層13を形成した方が液晶の厚みを制
御し易く、その意味からも本発明の方法により保護層13
の形成位置の自由度が増す事も分かる。
易い場合（シール９より外側）ITOの強度が弱く電蝕反
応が発生し易い。この場合でも配向膜５が少なくともＡ
部より外側に有れば効果を発揮する事が分かる。尚、シ
ール９の下まで保護層13を形成した方が液晶の厚みを制
御し易く、その意味からも本発明の方法により保護層13
の形成位置の自由度が増す事も分かる。
実施例1,2を通じて説明してきたが、本発明の構造は
他のカラーフィルター形成方法（例えば電着法、ポリイ
ミド系基質等に顔料を分散させる方法、顔料を紫外線等
の光感光性の有る基質に分散させフォト法によりパター
ニングする方法等）や保護層として他の材料（例えば熱
硬化性メラミン樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン系樹脂
等）による制約は受けない。また、カラーフィルター付
き基板の両側に信号入力部を形成する場合は同じ様に両
側に配向膜を形成すれば良く、片側に有る場合、信号入
力部と反対側は、特に制約は無くシールより外に出して
も出さなくても良い。対向基板については何等制限を受
けない。
他のカラーフィルター形成方法（例えば電着法、ポリイ
ミド系基質等に顔料を分散させる方法、顔料を紫外線等
の光感光性の有る基質に分散させフォト法によりパター
ニングする方法等）や保護層として他の材料（例えば熱
硬化性メラミン樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン系樹脂
等）による制約は受けない。また、カラーフィルター付
き基板の両側に信号入力部を形成する場合は同じ様に両
側に配向膜を形成すれば良く、片側に有る場合、信号入
力部と反対側は、特に制約は無くシールより外に出して
も出さなくても良い。対向基板については何等制限を受
けない。
〔実施例３〕 第５図を用いて説明する。実施例1,2で説明してきた
電気光学装置を調光用セルとし、該調光用セルと同
じ光学特性（セルギャップ:d/液晶もしくは光学的異方
体の屈折率異方性：△ｎの積ｄ×△ｎの値が同じ）を持
つようにした光学的異方体を偏光体14,15の間に設置
した。本実施例では調光用セルと同じ液晶を逆ねじれ
（右）で同じセルギャップで形成し調光用セルと光学
的異方体の相接する面の配向方向のなす角を90゜とし
各々の偏光体の偏光軸と電気光学装置と光学的異方体
各々の配向方向のなす角を20〜50゜で振り全点灯時に
白となる様に調整したところ、コントラストの高い、
白、黒、表示可能な電気光学装置を形成できた。尚、光
学的異方体としてフィルムでも同様の結果を得る事がで
きる。
電気光学装置を調光用セルとし、該調光用セルと同
じ光学特性（セルギャップ:d/液晶もしくは光学的異方
体の屈折率異方性：△ｎの積ｄ×△ｎの値が同じ）を持
つようにした光学的異方体を偏光体14,15の間に設置
した。本実施例では調光用セルと同じ液晶を逆ねじれ
（右）で同じセルギャップで形成し調光用セルと光学
的異方体の相接する面の配向方向のなす角を90゜とし
各々の偏光体の偏光軸と電気光学装置と光学的異方体
各々の配向方向のなす角を20〜50゜で振り全点灯時に
白となる様に調整したところ、コントラストの高い、
白、黒、表示可能な電気光学装置を形成できた。尚、光
学的異方体としてフィルムでも同様の結果を得る事がで
きる。
以上述べてきた様に、本発明によれば、カラーフィル
ター付き基板の配向膜の領域を対向する基板と異なる領
域より外側まで延長して形成する事により信号入力部の
透明電極の保護層を兼ね、電気光学装置を形成する際付
着するイオン性付着物と水分と駆動時に印加される電界
の効果による電蝕反応を遮断し透明電極の断線を防止し
て、信頼性の高い、高品位の電気光学装置を容易に提供
できるという大きな効果を有している。
ター付き基板の配向膜の領域を対向する基板と異なる領
域より外側まで延長して形成する事により信号入力部の
透明電極の保護層を兼ね、電気光学装置を形成する際付
着するイオン性付着物と水分と駆動時に印加される電界
の効果による電蝕反応を遮断し透明電極の断線を防止し
て、信頼性の高い、高品位の電気光学装置を容易に提供
できるという大きな効果を有している。
第１図は本発明の実施例１で示すカラーフィルター付き
基板の断面図。 第２図は本発明の実施例１で示す電気光学装置の構造を
示す図。 第３図は本発明の実施例２で示すカラーフィルター付き
基板の断面図。 第４図は本発明の実施例２で示す電気光学装置の構造を
示す図。 第５図は本発明の実施例３で示す電気光学装置の構造を
示す図。 １……ガラス基板 ２……カラーフィルター ３……保護層 ４……透明電極 ５……配向膜 ６……ガラス基板 ７……対向電極 ８……配向膜 ９……シール 10……ギャップ材 11……液晶 12……カラーフィルター 13……保護層 14,15……偏光体
基板の断面図。 第２図は本発明の実施例１で示す電気光学装置の構造を
示す図。 第３図は本発明の実施例２で示すカラーフィルター付き
基板の断面図。 第４図は本発明の実施例２で示す電気光学装置の構造を
示す図。 第５図は本発明の実施例３で示す電気光学装置の構造を
示す図。 １……ガラス基板 ２……カラーフィルター ３……保護層 ４……透明電極 ５……配向膜 ６……ガラス基板 ７……対向電極 ８……配向膜 ９……シール 10……ギャップ材 11……液晶 12……カラーフィルター 13……保護層 14,15……偏光体
Claims (3)
- 【請求項１】シールを挟んだ一対の基板間に液晶が挟持
され、前記一対の基板のうち一方の基板上にカラーフィ
ルターを有し、該カラーフィルター上に透明電極および
配向膜が設けられている電気光学装置において、 前記一方の基板は、前記シールの外側において他方の基
板より張り出している張り出し部分を有し、かつ、前記
一方の基板および前記他方の基板は前記シールの外側に
おいても重なるように配置されてなり、 前記透明電極は、前記シールの外側であって前記一対の
基板が重なる領域および前記張り出し部分にも設けられ
ており、 前記配向膜は、前記一対の基板が重なる領域から前記張
り出し部分の前記透明電極上に連続して設けられ、か
つ、前記張り出し部分にある前記透明電極の信号入力部
上には設けられていないことを特徴とする電気光学装
置。 - 【請求項２】前記カラーフィルターと、前記透明電極と
の間に、少なくとも一層以上の無機層、有機樹脂層ある
いは、有機樹脂層と無機層の積層体を備えていることを
特徴とする請求項１記載の電気光学装置。 - 【請求項３】シールを挟み、かつ液晶を挟持する一対の
基板の一方の基板上にカラーフィルターを形成し、該カ
ラーフィルター上に透明電極および配向膜を形成してな
る電気光学装置の製造方法において、 前記一方の基板上に前記透明電極を形成する工程と、 しかる後、前記一方の基板上に前記配向膜を形成する工
程と、 しかる後、前記一対の基板を洗浄する工程と、を含んで
なり、 前記透明電極を形成する工程においては、前記透明電極
を、前記シールの外側であって前記一対の基板が重なる
領域および前記シールの外側において他方の基板より張
り出している前記一方の基板の張り出し部分に形成し、 前記配向膜を形成する工程においては、前記配向膜を、
前記一対の基板が重なる領域から前記張り出し部分の前
記透明電極上に連続して形成し、かつ、前記張り出し部
分にある前記透明電極の信号入力部上には形成しないこ
とを特徴とする電気光学装置の製造方法。
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