JP3062280B2 - 放射線画像の読取方法およびその方法に使用する放射線画像変換パネル - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、放射線画像の読取方法
およびその読取方法に使用される放射線画像変換パネル
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】例えば医療の分野においては、病気の診
断にＸ線画像のような放射線画像が多く用いられてい
る。かかる放射線画像の形成方法としては、従来、被写
体を透過したＸ線を蛍光体層（蛍光スクリーン）に照射
し、これにより可視光を生じさせてこの可視光を通常の
写真を撮るときと同じように、銀塩を使用したフィルム
に照射して現像する、いわゆる放射線写真法が一般的で
あった。

【０００３】しかるに、近年、銀塩を塗布したフィルム
を使用しないで蛍光体層から直接画像を取り出す方法と
して、被写体を透過した放射線を蛍光体に吸収させ、し
かる後この蛍光体を例えば光または熱エネルギーで励起
することにより、この蛍光体に吸収されて蓄積されてい
た放射線エネルギーを蛍光として放射させ、この蛍光を
検出して画像化する方法が提案されている。

【０００４】例えば米国特許第 3,859,527号明細書、特
開昭55− 12144号公報には、輝尽性蛍光体を用い、可視
光線または赤外線を輝尽励起光として用いた放射線画像
変換方法が示されている。この方法は、基板上に輝尽性
蛍光体層を形成した放射線画像変換パネルを使用するも
のであり、この放射線画像変換パネルの輝尽性蛍光体層
に被写体を透過した放射線を当てて、被写体の各部の放
射線透過度に対応する放射線エネルギーを蓄積させて潜
像を形成し、しかる後にこの輝尽性蛍光体層を輝尽励起
光で走査することによって各部に蓄積された放射線エネ
ルギーを輝尽発光として放射させ、この光の強弱による
光信号を例えば光電変換し、画像再生装置により画像化
するものである。この最終的な画像はハードコピーとし
て再生されるか、またはＣＲＴ上に再生される。

【０００５】この放射線画像変換方法で使用される変換
パネルは、放射線画像情報を蓄積した後、輝尽励起光の
走査によって蓄積エネルギーを放出するので、走査後再
度放射線画像の蓄積を行うことができ、繰返し使用が可
能である。従って、変換パネルにおいては、放射線画像
の画質を劣化させることなく長期間あるいは多数回にわ
たり繰返して使用できる性能を有することが必要であ
る。そのためには変換パネル中の輝尽性蛍光体層が外部
からの物理的あるいは化学的刺激から十分に保護される
必要がある。

【０００６】輝尽性蛍光体層を保護する手段としては、
従来、支持体上に設けられた輝尽性蛍光体層を被覆する
保護層を設ける手段が提案されている。この保護層は、
例えば特開昭59− 42500号公報に記載されているよう
に、保護層用塗布液を輝尽性蛍光体層上に直接塗布して
形成されるか、あるいはあらかじめ別途形成した保護層
を輝尽性蛍光体層上に接着する方法により形成されてい
る。この保護層は、一般に有機高分子を用いて構成さ
れ、画像の鮮鋭性を低下させないために薄層とされてい
る。

【０００７】しかし、有機高分子からなる薄層の保護層
は、ある程度の水分および／または湿気に対し透過性を
示すため輝尽性蛍光体層が水分を吸収し、その結果、変
換パネルの放射線感度の低下、あるいは輝尽励起光照射
を受けるまでの蓄積エネルギーの減衰が大きくなり、得
られる放射線画像の画質のばらつきおよび／または劣化
をもたらしていた。

【０００８】また、従来の変換パネルでは、保護層の表
面硬度が小さいため搬送時における搬送ローラ等の機械
部分との接触により保護層表面に傷を生じたり、また薄
層の保護層では耐衝撃性が不十分なため輝尽性蛍光体層
中に亀裂、折れを生じやすく、得られる放射線画像の画
質が繰返し使用の回数の増大とともに劣化する欠点があ
る。一方、保護層を厚くすれば、薄層に起因する欠陥は
消去できるが、前述のように鮮鋭性が低下する。この相
反する事象を越えて、鮮鋭性を損なうことなく防湿性、
強度、耐衝撃性の面からの改良が望まれていた。

【０００９】かかる事情から、支持体上に輝尽性蛍光体
層と、少なくとも一層の保護層を有する放射線画像変換
パネルにおいて、輝尽性蛍光体層と保護層との間に保護
層よりも低屈折率の層を設けてなる放射線画像変換パネ
ルが提案された（特願昭63−6474号明細書参照）。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記特願昭63
−6474号の技術においても、いまだ鮮鋭性が低い問題が
ある。また、支持体の構成材料の選択の幅が小さい問題
がある。すなわち、輝尽性蛍光体を支持体に蒸着した
後、これを熱処理することが行われているが、この場合
には支持体に耐熱性が要求される。しかも支持体から放
射線を照射する場合には放射線の吸収が小さいことが要
求される。このような要求を満たす支持体の材質は限ら
れており、実用化の障害となっていた。さらに、低屈折
率層が厚い場合には、輝尽励起光が当該低屈折率層を介
して輝尽性蛍光体層に照射されるため輝尽性蛍光体と集
光系との距離が大きくなり集光効率の低下により感度が
低下する問題もあった。

【００１１】そこで、本発明の第１の目的は、鮮鋭性の
低下および感度の低下を伴わず、放射線画像を読取るこ
とができる放射線画像の読取方法を提供することにあ
る。本発明の第２の目的は、鮮鋭性および感度の向上を
図るために必要な構成材料の選択の幅が広く、上記読取
方法に好適に使用できる放射線画像変換パネルを提供す
ることにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明の放射線画像の読
取方法は、第１の保護層と第２の保護層との間に少なく
とも熱処理された輝尽性蛍光体層と第２の保護層側に設
けられた第２の保護層よりも低屈折率の層（以下適宜
「低屈折率層」という。）とを有してなる放射線画像変
換パネルに被写体を透過した放射線を曝写して放射線画
像情報を蓄積した後、この放射線画像情報を前記放射線
画像変換パネルの第１の保護層側から輝尽励起光で励起
して読取ることを特徴とする。本発明の放射線画像変換
パネルは、上記の読取方法に使用される放射線画像変換
パネルであって、第２の保護層が光遮断層を有すること
を特徴とする。

【００１３】

【作用】本発明によれば、第２の保護層側に低屈折率層
が設けられているので、輝尽性蛍光体層を熱処理する際
には、第２の保護層を熱処理の雰囲気下におく必要がな
い。従って、第２の保護層に耐熱性が要求されず、その
構成材料の選択の幅が広くなり、鮮鋭性および感度の向
上を図るために第２の保護層を有利に構成することがで
きる。また、第２の保護層側に低屈折率層が設けられて
いるので、輝尽励起光が低屈折率層を介さず輝尽性蛍光
体層に照射されるため、低屈折率層を厚くしても輝尽性
蛍光体層と集光系との距離を一定にすることができ、当
該距離が大きくなることによる感度の低下を防止するこ
とができる。第２の保護層が光遮断層を有する放射線画
像変換パネルによれば、鮮鋭性および感度をさらに向上
させることができる。

【００１４】以下、本発明の放射線画像読取方法および
その方法に使用する放射線画像変換パネルについて具体
的に説明する。図１は、本発明の読取方法に使用する放
射線画像変換パネルの一例を示す断面図である。１は第
２の保護層、２は低屈折率層、３は輝尽性蛍光体層、４
は第１の保護層であり、この順に構成されている。図２
は、本発明の読取方法に使用する放射線画像変換パネル
の他の例を示す断面図である。この例は、図１の放射線
画像変換パネルにおいて、輝尽性蛍光体層３と第１の保
護層４との間に、第２の低屈折率層５を付加した例であ
る。

【００１５】本発明の読取方法においては、図１または
図２の放射線画像変換パネルに被写体を透過した放射線
を曝写して、放射線画像情報を蓄積した後、当該放射線
画像変換パネルの第１の保護層４側から輝尽励起光で励
起して当該放射線画像情報を読取る。

【００１６】輝尽性蛍光体層３は、詳細は後述するよう
にアルカリハライドからなることが好ましい。また、輝
尽性蛍光体層は、気相堆積法により形成されることが好
ましい。この気相堆積法としては、蒸着法、スパッタリ
ング法、イオンプレーティング法等が挙げられる。

【００１７】第１の保護層４と輝尽性蛍光体層３との間
は、光学的に連続である方がより好ましいが、図２に示
すように第１の保護層４よりも低屈折率の層（第２の低
屈折率層）５が存在していてもよい。低屈折率層２また
は５は、放射線画像の鮮鋭性の向上を図るために用いら
れるものであり、例えばＣａＦ₂ （屈折率1.23〜1.26)
等からなる層、空気、窒素、アルゴン等の気体からなる
層、真空層等のように屈折率が実質的に１である層等か
ら選択される。低屈折率層２の屈折率は小さい方が好ま
しい。低屈折率層２または５の厚さは、厚いほど鮮鋭性
は良いが、通常、0.05〜５mmが好ましい。低屈折率層２
または５は、輝尽性蛍光体層３と密着していることが好
ましく、従って、当該低屈折率層が気体層、真空層の場
合には、そのままでよいが、低屈折率層がＣａＦ₂ 等か
らなる場合には、当該低屈折率層は例えば接着剤等によ
り輝尽性蛍光体層に密着させる。

【００１８】第１の保護層４および第２の保護層１は、
輝尽性蛍光体層３を物理的にまたは化学的に保護するた
めに設けられるものである。第１の保護層４としては、
例えば石英、ホウケイ酸ガラス、化学強化ガラス等の板
ガラスからなるものが用いられる。輝尽性蛍光体層の熱
処理に耐える程度の耐熱性を有するものが好ましく、ま
た輝尽励起光および輝尽発光に対する光透過率が80％以
上のものが好ましい。例えばホウケイ酸ガラスは 330nm
〜2.6 μｍの波長範囲で80％以上の光透過率を示し、石
英ガラスではさらに短波長においても高い光透過率を示
す。また、第１の保護層４の屈折率は、通常、 1.4〜2.
5 の範囲が好ましい。

【００１９】第２の保護層１は、例えば各種高分子材
料、ガラス、セラミックス等、広範な材料から適宜選択
して構成することができる。特に、カーボン、ポリエチ
レンテレフタレート（ＰＥＴ）等の有機材料が好ましく
用いられる。これらの材料を用いる場合には、耐湿性を
高める観点から、さらに防湿層（例えば金属箔）をコー
ティングすることが好ましい。また、これらの有機材料
は、ガラス、金属板などに比べて、Ｘ線透過率が大きい
ので、第２の保護層側からＸ線を入射させると感度向上
の点から好ましい。

【００２０】第２の保護層１は、光遮断層を有している
ことが好ましい。特に、第２の保護層１の輝尽励起光に
対する透明度が高い場合には重要である。前記光遮断層
は、第２の保護層１と第１の低屈折率層２との間に設け
られる。

【００２１】光遮断層は、輝尽励起光を吸収する（光吸
収層）か、または層の内部もしくは表面で反射する（光
反射層）ことによって、輝尽励起光の透過を防止する作
用を発揮する層であり、その光透過率は、10％以下が好
ましく、特に２％以下が好ましい。なお、光透過率は空
気を 100％として、（株）日立製の「５５７分光光度
計」を用いて測定したものである。光吸収層の構成材料
としては、例えば酸化チタン、酸化クロム、酸化アルミ
ニウムと酸化チタンの混合物等の黒色系セラミックス、
カーボンブラック、輝尽励起光を吸収する各種着色剤等
が用いられる。

【００２２】前記光吸収層に使用される着色剤は、輝尽
励起光の少なくとも一部を吸収するような着色剤であ
り、特に適用される輝尽性蛍光体の種類に応じて、変換
パネルの輝尽励起光波長領域の光に対する平均反射率が
輝尽発光波長領域の光に対する平均反射率よりも小さく
なるような光吸収特性を有することが好ましい。前記着
色剤としては、、有機もしくは無機系着色剤のいずれで
もよいが、色相的には青色乃至緑色系のものが有用であ
る。有機系着色剤としては、ザポンファーストブルー３
Ｇ（サヘキスト製）エストロールブリルブルーＮ−３Ｒ
Ｌ（住友化学製）、Ｄ＆ＣブルーNo.1（ナショナルアニ
リン製）、スピリットブルー（保土谷化学製）、オイル
ブルーNo. ６０３（オリエント製）、キトンブルーＡ
（チバガイギー製）、アイゼンカチロンブルーＧＬＨ
（保土谷化学製）、レイクブルーＡＦＨ（協和産業製）
プリモシアニン６ＧＸ（稲畑産業製）、プリルアシッド
グリーン６ＢＨ（保土谷化学製）、シアニンブルーＢＮ
ＲＳ（東洋インク製）、ライオノルブルオ−ＳＬ（東洋
インク製）等が用いられる。

【００２３】また、カラーインデックスNo. ２４４１
１、２３１６０、７４１８０、７４２００、２２８０
０、２３１５０、２３１５５、２４４０１、１４８８
０、１５０５０、１５７０６、１５７０７、１７９４
１、７４２２０、１３４２５、１３３６１、１３４２
０、１１８３６、７４１４０、７４３８０、７４３５
０、７４４６０等の有機系金属錯塩着色剤も挙げられ
る。無機系着色剤としては、群青、コバルトブルー、セ
ルリアンブルー、酸化クロム、ＴｉＯ₂ −ＺｎＯ−Ｃｏ
Ｏ−ＮｉＯ系顔料が挙げられる。

【００２４】光吸収層の形成方法は、その構成材料によ
り適宜選択される。例えば黒色系セラミックスを用いる
場合には、塗布法、溶射法等の方法が適用される。この
溶射法としては、ガスの高温火炎を熱源としたガス式溶
射法、アークもしくはプラズマを熱源とした電気式溶射
法等が挙げられる。また、カーボンブラック、各種着色
剤を用いる場合には、有機高分子材料に分散、あるいは
混合塗布する方法が適用される。光吸収層の厚さは、溶
射法等の製法による場合には10〜100 μｍ、塗布法の場
合には、 0.5〜80μｍが好ましい。

【００２５】光反射層は、輝尽励起光および／または輝
尽発光を内部または表面で反射・散乱する作用を発揮す
るものであり、その厚さは、鮮鋭性および感度の低下を
防止する観点から、 100μｍ以下が好ましい。また、光
反射率は40％以上が好ましく、特に60％以上が好まし
い。さらに、その光反射率は、励起光に対する光反射率
よりも輝尽発光に対する光反射率の方が大きいことが好
ましい。なお、光反射率は、標準白板（ＭｇＯ）を 100
％として、（株）日立製の「５５７分光光度計」を用い
て測定したものである。

【００２６】光反射層の構成材料としては、鉛白、硫化
亜鉛、酸化チタン白等の白色顔料、酸化アルミニウム、
酸化アルミニウム−酸化チタン、酸化アルミニウム−二
酸化ケイ素、酸化ジルコニウム−酸化マグネシウム等の
セラミックス、アルミニウム、金、銀、クロム、白金、
ニッケル、ロジウム等の金属が用いられる。光反射層と
して金属を用いる場合には、金属酸化物との多層膜によ
り構成するとよい。特に、アルミニウム（Ａｌ）、クロ
ム（Ｃｒ）等の金属層とＣｒＯ₂ 層の組合せ、当該金属
層とＳｉＯ₂ 層とＺｒＯ₂ 層の組合せ、当該金属層とＳ
ｉＯ₂ 層とＴｉＯ層の組合せが好ましい。

【００２７】光反射層は、輝尽励起光の透過を防止する
作用を発揮する層であることが重要であるので、前記光
反射層の光透過率が大きい場合（特に光透過率が10％を
超える場合) には、光吸収層と組合せて用いてもよい。
光吸収層と光反射層を組合せて用いる場合には、前記光
吸収層と光反射層の位置関係は、図６に示すように、第
２の保護層１上に光吸収層２３、光反射層２４をこの順
に設けるのが好ましい。なお、前記光遮断層は、第２の
保護層１にその機能をもたせるように構成することも可
能である。また、図７に示すように第２の保護層１に必
要に応じて設けられる防湿層に光遮断層の機能をもたせ
るように構成することも可能である。第１の保護層４お
よび第２の保護層１の厚さは、通常、10μｍ〜３mm程度
であるが、良好な耐湿性と耐久性を得るためには、 0.5
mm以上が好ましい。

【００２８】本発明において「輝尽性蛍光体」とは、最
初の光または高エネルギー放射線が照射された後に、光
的、熱的、機械的、化学的または電気的等の刺激（輝尽
励起）により、最初の光または高エネルギー放射線の照
射量に対応した輝尽発光を示す蛍光体をいうが、実用的
な面からは、波長が 500nm以上の輝尽励起光によって輝
尽発光を示す蛍光体が好ましい。

【００２９】輝尽性蛍光体層を構成する輝尽性蛍光体と
しては、例えば特開昭48− 80487号公報に記載されてい
るＢａＳＯ₄ ：ＡＸ、特開昭48− 80489号公報に記載さ
れているＳｒＳＯ₄ ：ＡＸ、特開昭53− 39277号公報に
記載されているＬｉ₂ Ｂ₄ Ｏ₇ ：Ｃｕ，Ａｇ等、特開昭
54− 47883号公報に記載されているＬｉ₂ Ｏ・（Ｂ₂ Ｏ
₂ ）_x ：ＣｕおよびＬｉ₂ Ｏ・（Ｂ₂ Ｏ₂ ）_x ：Ｃｕ，
Ａｇ等、米国特許第 3,859,527号明細書に記載されてい
るＳｒＳ：Ｃｅ，Ｓｍ、ＳｒＳ：Ｅｕ，Ｓｍ、Ｌａ₂ Ｏ
₂ Ｓ：Ｅｕ，Ｓｍおよび（Ｚｎ，Ｃｄ）Ｓ：Ｍｎで表さ
れる蛍光体が挙げられる。

【００３０】また、特開昭55− 12142号公報に記載され
ているＺｎＳ：Ｃｕ，Ｐｂ蛍光体、一般式ＢａＯ・ｘＡ
ｌ₂ Ｏ₃ ：Ｅｕで表されるアルミン酸バリウム蛍光体、
および一般式Ｍ^IIＯ・ｘＳｉＯ₂ ：Ａで表されるアルカ
リ土類金属ケイ酸塩系蛍光体が挙げられる。また、特開
昭55− 12143号公報に記載されている一般式 （Ｂａ_1-x-y Ｍｇ_x Ｃａ_y ）ＦＸ：ｅＥｕ²⁺ で表されるアルカリ土類フッ化ハロゲン化物蛍光体、特
開昭55− 12144号公報に記載されている一般式 ＬｎＯＸ：ｘＡ で表される蛍光体、特開昭55− 12145号公報に記載され
ている一般式 （Ｂａ_1-x Ｍ^II _x ）ＦＸ：ｙＡ で表される蛍光体、特開昭55− 84389号公報に記載され
ている一般式 ＢａＦＸ：ｘＣｅ，ｙＡ で表される蛍光体、特開昭55−160078号公報に記載され
ている一般式 Ｍ^IIＦＸ・ｘＡ：ｙＬｎ で表される希土類元素付活２価金属フルオロハライド蛍
光体、一般式ＺｎＳ：Ａ、ＣｄＳ：Ａ、（Ｚｎ，Ｃｄ）
Ｓ：Ａ、Ｓ：Ａ，ＺｎＳ：Ａ，ＸおよびＣｄＳ：Ａ，Ｘ
で表される蛍光体、特開昭59− 38278号公報に記載され
ている下記いずれかの一般式 ｘＭ₃ （ＰＯ₄ ）₂ ・ＮＸ₂ ：ｙＡ Ｍ₃ （ＰＯ₄ ）₂ ：ｙＡ で表される蛍光体、下記いずれかの一般式 ｎＲｅＸ₃ ・ｍＡＸ' ₂ ：ｘＥｕ ｎＲｅＸ₃ ・ｍＡＸ' ₂ ：ｘＥｕ，ｙＳｍ で表される蛍光体、および下記一般式 Ｍ^I Ｘ・ａＭ^IIＸ' ₂ ・ｂＭ^III Ｘ”₃ ：ｃＡ で表されるアルカリハライド蛍光体等が挙げられる。特
にアルカリハライド蛍光体は、蒸着、スパッタリング等
の方法で輝尽性蛍光体層を形成させやすく好ましい。

【００３１】しかし、本発明に係る変換パネルに用いら
れる輝尽性蛍光体は、前述の蛍光体に限られるものでは
なく、放射線を照射した後輝尽励起光を照射した場合に
輝尽発光を示す蛍光体であればいかなる蛍光体であって
もよい。本発明に係る変換パネルは前記の輝尽性蛍光体
の少なくとも一種類を含む一つもしくは二つ以上の輝尽
性蛍光体層からなる輝尽性蛍光体層群であってもよい。
また、それぞれの輝尽性蛍光体層に含まれる輝尽性蛍光
体は同一であってもよいが異なっていてもよい。本発明
において、輝尽性蛍光体層は塗布方法、気相成長方法の
いずれによってもよい。

【００３２】本発明に係る変換パネルの輝尽性蛍光体層
の層厚は、目的とする変換パネルの放射線に対する感
度、輝尽性蛍光体の種類等によって異なるが、結着剤を
含有しない場合10μｍ〜1000μｍの範囲、さらに好まし
くは20μｍ〜800 μｍの範囲から選ばれるのが好まし
く、結着剤を含有する場合で20μｍ〜1000μｍの範囲、
さらに好ましくは50μｍ〜500 μｍの範囲から選ばれる
のが好ましい。

【００３３】図４は本発明の放射線画像読取方法を実施
するために用いられる放射線画像変換装置の概略を示
し、１５は放射線発生装置、１６は被写体、１７は放射
線画像変換パネル、１８は輝尽励起光源、１９は放射線
画像変換パネル１７より放射された輝尽発光を検出する
光電変換装置、２０は光電変換装置１９で検出された信
号を画像として再生する再生装置、２１は再生装置２０
により再生された画像を表示する表示装置、２２は輝尽
励起光と輝尽発光とを分離し、輝尽発光のみを透過させ
るフィルターである。

【００３４】この放射線画像変換装置においては、放射
線発生装置１５からの放射線は被写体１６を通して放射
線画像変換パネル１７に入射する。この入射した放射線
は放射線画像変換パネル１７の輝尽性蛍光体層に吸収さ
れ、そのエネルギーが蓄積され、放射線透過像の蓄積像
が形成される。次に、この蓄積像を輝尽励起光源１８か
らの輝尽励起光で励起して輝尽発光として放射させる。
放射される輝尽発光の強弱は、蓄積された放射線エネル
ギー量に比例するので、この光信号を例えば光電子増倍
管等の光電変換装置１９で光電変換し、再生装置２０に
よって画像として再生し、表示装置２１によって表示す
ることにより、被写体１６の放射線透過像を観察するこ
とができる。

【００３５】

【実施例】以下、本発明の実施例を具体的に説明する
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。 実施例１〜１８ 各実施例においては、第２の保護層、第１の保護層、低
屈折率層として、後記表１、表２に示すものを用いて、
次のようにして本発明の放射線画像変換パネルを作製し
た。

【００３６】第１の保護層上に、蒸着法により、アルカ
リハライド蛍光体の母体（ＲｂＢｒ）を 300μｍの厚さ
で蒸着した。このプレートと、ＲｂＢｒ：５×10^-4Ｔｌ
Ｂｒの組成の混合粉末とを、図５の熱処理容器に入れ
て、温度500 ℃で２時間にわたり熱処理を行い、輝尽性
蛍光体層を形成した。なお、図５において、１０はプレ
ート、１１はヒータ、１２は熱処理炉、１３は少なくと
も付活剤を含有する雰囲気粉、１４は熱処理容器であ
る。次いで、図１に示すように、前記輝尽性蛍光体層側
に低屈折率層を設け、さらに第２の保護層を設けた。さ
らに、温度80℃、10^-3Torrの条件で、真空乾燥を１時間
にわたり行った後、第１の保護層と第２の保護層の側縁
部をエポキシ樹脂系接着剤により封止して、本発明の放
射線画像変換パネルを作製した。

【００３７】これらの放射線画像変換パネルをそれぞれ
用いて、放射線画像変換パネルの第２の保護層側から被
写体を透過したＸ線を曝写して、放射線画像情報を蓄積
した後、放射線画像変換パネルの第１の保護層側から輝
尽励起光で励起して、当該放射線画像情報を読取り、放
射線感度、ＭＴＦによる鮮鋭性を次のようにして評価し
た。結果は後記表４に示したとおりである。

【００３８】鮮鋭性 放射線画像変換パネルにＣＴＦチャートを貼付けた後、
管電圧80ｋＶ_P-P のＸ線を10 mＲ（管球からパネルまで
の距離：1.5 ｍ）照射した後、半導体レーザ光（発振波
長：780nm 、ビーム径： 100μｍ，パワー：50ｍＷ) で
走査して輝尽励起し、ＣＴＦチャート像を輝尽性蛍光体
層から放射される輝尽発光として読取り、光検出器 (光
電子増倍管) で光電変換して画像信号を得た。この信号
値により、画像の変調伝達関数 (ＭＴＦ）を調べ、放射
線画像の鮮鋭性を、実施例４で得られた放射線画像変換
パネルの場合を 100とする相対値で示した。なお、ＭＴ
Ｆは、空間周波数が１サイクル／mmの時の値である。 放射線感度 Ｘ線曝射後、半導体レーザ光で励起した際の発光量を測
定し、実施例４で得られた放射線画像変換パネルの場合
を 100とする相対値で示した。なお、Ｘ線曝写条件、レ
ーザ光の照射条件に関しては鮮鋭性の評価と同様とし
た。

【００３９】実施例１９ 第２の保護層、第１の保護層、低屈折率層として、後記
表２に示すものを用い、第１の保護層上に粒径１〜30μ
ｍの粒状の輝尽性蛍光体ＢａＦＢｒ_0.8 Ｉ_0.2 ：0.0002
Ｅｕと有機結着剤を含む分散液を塗布した後、熱処理を
行わずに乾燥したほかは実施例１と同様にして本発明の
放射線画像変換パネルを作製した。この放射線画像変換
パネルを用いて実施例１と同様にして放射線画像情報を
読取り、放射線感度、ＭＴＦによる鮮鋭性を評価した。
結果は後記表４に示したとおりである。

【００４０】

【表１】

【００４１】ただし、表１において、結晶化ガラス＋Ａ
ｌ₂ Ｏ₃・ＴｉＯ₂ ＋Ａｌ₂ Ｏ₃ は、結晶化ガラス板上
に、Ａｌ₂ Ｏ₃ ・ＴｉＯ₂ の溶射層と、Ａｌ₂ Ｏ₃ の溶
射層をこの順に設けたものである。

【００４２】

【表２】

【００４３】ただし、表２において、白色ＰＥＴ＋Ａｌ
蒸着膜は、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）にＡ
ｌ（アルミニウム）を蒸着したものである。 Ａｌ板＋Ｃｒ＋ＣｒＯ₂ は、Ａｌ板上に、ＣｒとＣｒＯ
₂ の蒸着膜をこの順に設けたものである。 Ａｌ板＋ＳｉＯ₂ ＋ＺｒＯ₂ は、Ａｌ板上に、ＳｉＯ₂
とＺｒＯ₂ の蒸着膜をこの順に設けたものである。 Ａｌ板＋ＳｉＯ₂ ＋ＴｉＯは、Ａｌ板上に、ＳｉＯ₂ と
ＴｉＯの蒸着膜をこの順に設けたものである。 結晶化ガラス＋Ａｌ₂ Ｏ₃ ・ＴｉＯ₂ ＋Ａｌ₂ Ｏ₃ は、
結晶化ガラス板上の励起光照射側にＡｌ₂ Ｏ₃ ・ＴｉＯ
₂ の塗布層と、Ａｌ₂ Ｏ₃ の塗布層をこの順に設けたも
のである。 結晶化ガラス＋Ａｌ₂ Ｏ₃ ・ＴｉＯ₂ は、結晶化ガラス
板上の励起光照射側にＡｌ₂ Ｏ₃ の塗布層を設けたもの
である。

【００４４】比較例１〜５ 各比較例においては、支持体、保護層、低屈折率層とし
て、後記表３に示すものを用いて、実施例１と同様に処
理して、図３に示す構成の比較用の放射線画像変換パネ
ルを作製した。なお、図３において、６は支持体、７は
輝尽性蛍光体層、８は低屈折率層、９は保護層である。
これらの比較用の放射線画像変換パネルをそれぞれ用い
て、実施例１と同様にして放射線画像情報を読取り、放
射線感度、ＭＴＦによる鮮鋭性を評価した。結果は後記
表４に示したとおりである。

【００４５】比較例６ 支持体、保護層、低屈折率層として、後記表３に示すも
のを用い、支持体上に粒径１〜30μｍの粒状の輝尽性蛍
光体ＢａＦＢｒ_0.8 Ｉ_0.2 ：0.0002Ｅｕと有機結着剤を
含む分散液を塗布した後、熱処理を行わずに乾燥したほ
かは実施例１と同様にして比較用の放射線画像変換パネ
ルを作製した。この放射線画像変換パネルを用いて実施
例１と同様にして放射線画像情報を読取り、放射線感
度、ＭＴＦによる鮮鋭性を評価した。結果は後記表４に
示したとおりである。

【００４６】

【表３】

【００４７】ただし、表３において、結晶化ガラス＋Ａ
ｌ₂ Ｏ₃・ＴｉＯ₂ ＋Ａｌ₂ Ｏ₃ は、結晶化ガラス板上
の励起光照射側にＡｌ₂ Ｏ₃ ・ＴｉＯ₂ の塗布層と、Ａ
ｌ₂ Ｏ₃ の塗布層をこの順に設けたものである。 Ａｌ板＋Ｃｒ＋ＣｒＯ₂ は、Ａｌ板上に、ＣｒとＣｒＯ
₂ の蒸着膜をこの順に設けたものである。 結晶化ガラス＋Ａｌ₂ Ｏ₃ ・ＴｉＯ₂ は、結晶化ガラス
板上の励起光照射側にＡｌ₂ Ｏ₃ の塗布層を設けたもの
である。

【００４８】

【表４】

【００４９】ただし、表４において、比較例２では、熱
処理によりＣｒが溶出したため、鮮鋭性の測定が不可能
であった。

【００５０】実施例２０，２１ 各実施例においては、第２の保護層、第１の保護層、第
２の低屈折率層、第１の低屈折率層として、後記表５に
示すものを用いて、図２に示す構成の本発明の放射線画
像変換パネルを作製した。ただし、第１の保護層に、第
２の低屈折率層、輝尽性蛍光体層を設けた後、これを第
２の保護層で封止したほかは、実施例１と同様に処理し
た。これらの放射線画像変換パネルをそれぞれ用いて、
実施例１と同様にして放射線画像情報を読取り、放射線
感度、ＭＴＦによる鮮鋭性を評価した。結果は後記表６
に示したとおりである。

【００５１】

【表５】

【００５２】ただし、表５において、結晶化ガラス＋Ａ
ｌ₂ Ｏ₃・ＴｉＯ₂ ＋Ａｌ₂ Ｏ₃ は、結晶化ガラス板上
に、Ａｌ₂ Ｏ₃ ・ＴｉＯ₂ の溶射層と、Ａｌ₂ Ｏ₃ の溶
射層をこの順に設けたものである。

【００５３】

【表６】

【００５４】以上の結果から明らかなように、実施例１
１では、第２の保護層としてＰＥＴを使用していること
により、第２の保護層でのＸ線吸収が小さいので感度が
向上した。実施例１３〜１５は、第２の保護層に多層膜
光反射層を設けているので、感度、鮮鋭性が向上した。
実施例１６，１８および比較例５は、光吸収層のみを用
いた例であるが、比較例に比べて実施例では鮮鋭性が向
上した。実施例１９と比較例６は、蛍光体としてＢａＦ
Ｂｒ_0.8 Ｉ_0.2：0.0002Ｅｕを用いた例であるが、Ｒｂ
Ｂｒの場合と同様に実施例は比較例に比べて鮮鋭性が向
上した。実施例２０，２１では、第１の低屈折率層のな
い比較例４に比べて鮮鋭性が向上した。

【００５５】また、放射線画像変換パネルの防湿性につ
いて評価するために、気温40℃、相対湿度90％の条件下
に48時間放置した後の感度およびフェーディングを調べ
たところ、実施例１〜２１で得られた放射線画像変換パ
ネルは、なんら問題は生じなかった。

【００５６】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、第２の保護層側に低屈折率層が設けられているの
で、輝尽性蛍光体層を熱処理する際には、第２の保護層
を熱処理の雰囲気下におく必要がなく、従って、第２の
保護層に耐熱性が要求されず、その構成材料の選択の幅
が広くなり、鮮鋭性および感度の向上を図るために第２
の保護層を有利に構成することができる。 また、本発明
の放射線画像の読取方法によれば、鮮鋭性の低下および
感度の低下を伴わず、放射線画像を読取ることができ
る。また、本発明の放射線画像変換パネルによれば、鮮
鋭性および感度の向上を図るために必要な構成材料の選
択の幅が広く、本発明の放射線画像の読取方法に好適に
使用できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る放射線画像変換パネルの一例を示
す断面図である。

【図２】本発明に係る放射線画像変換パネルの他の例を
示す断面図である。

【図３】放射線画像変換パネルの従来例を示す断面図で
ある。

【図４】放射線画像変換装置の概略を示す説明図であ
る。

【図５】熱処理装置の一例を示す断面図である。

【図６】本発明に係る放射線画像変換パネルの他の例を
示す断面図である。

【図７】本発明に係る放射線画像変換パネルの他の例を
示す断面図である。

【符号の説明】

１ 第２の保護層 ２ 低屈折率層（第１の低屈折率層） ３ 輝尽性蛍光体層 ４ 第１の保護層 ５ 第２の低屈折率層 ６ 支持体 ７ 輝尽性蛍光体層 ８ 低屈折率層 ９ 保護層 １０ プレート １１ ヒータ １２ 熱処理炉 １３ 雰囲気粉 １４ 熱処理容器 １５ 放射線発生装置 １６ 被写体 １７ 放射線画像変換パネル １８ 輝尽励起光源 １９ 光電変換装置 ２０ 再生装置 ２１ 表示装置 ２２ フィルター ２３ 光吸収層 ２４ 光反射層 ２５ 防湿層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平２−85800（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−131499（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−131498（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−71200（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G21K 4/00 G03B 42/02

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 第１の保護層と第２の保護層との間に少
   なくとも熱処理された輝尽性蛍光体層と第２の保護層側
   に設けられた第２の保護層よりも低屈折率の層とを有し
   てなる放射線画像変換パネルに被写体を透過した放射線
   を曝写して放射線画像情報を蓄積した後、この放射線画
   像情報を前記放射線画像変換パネルの第１の保護層側か
   ら輝尽励起光で励起して読取ることを特徴とする放射線
   画像の読取方法。
2. 【請求項２】 請求項１の読取方法に使用される放射線
   画像変換パネルであって、第２の保護層が光遮断層を有
   することを特徴とする放射線画像変換パネル。