JP3160409B2 - 抗ｈｉｖ活性ニベフラノン - Google Patents
抗ｈｉｖ活性ニベフラノンInfo
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Description
【０００１】本発明は、新規なニベフラノン誘導体、さ
らに詳しくは、抗レトロウイルス活性を有する新規なニ
ベフラノン誘導体に関する。
らに詳しくは、抗レトロウイルス活性を有する新規なニ
ベフラノン誘導体に関する。
【０００２】エイズ（後天性免疫不全症候群）はレトロ
ウイルスの一種であるヒト後天性免疫不全症ウイルス
（ＨＩＶ）の感染により発症するが、その有効な治療方
法がなく世界的に深刻な問題となっている。従来、レト
ロウイルスのＲＮＡの逆転写を阻害する作用を有する抗
レトロウイルス薬として、ピリミジンヌクレオシド系化
合物が数多く合成され、ＡＺＴ（アジドデオキシチミジ
ン）およびＤＤＩ（ジデオキシイノシン）が治療に供さ
れている。しかしながら、これらの既存の薬物は宿主細
胞に対しても強い毒性を示すことから、副作用のために
長期投与が行えなかったり、薬剤耐性ウイルスが出現す
るという問題があった。従って、これらの既存の薬物に
代えて、あるいはこれらと併用して、治療に用いること
ができる新規な抗ＨＩＶ活性物質の開発が強く求められ
ている。
ウイルスの一種であるヒト後天性免疫不全症ウイルス
（ＨＩＶ）の感染により発症するが、その有効な治療方
法がなく世界的に深刻な問題となっている。従来、レト
ロウイルスのＲＮＡの逆転写を阻害する作用を有する抗
レトロウイルス薬として、ピリミジンヌクレオシド系化
合物が数多く合成され、ＡＺＴ（アジドデオキシチミジ
ン）およびＤＤＩ（ジデオキシイノシン）が治療に供さ
れている。しかしながら、これらの既存の薬物は宿主細
胞に対しても強い毒性を示すことから、副作用のために
長期投与が行えなかったり、薬剤耐性ウイルスが出現す
るという問題があった。従って、これらの既存の薬物に
代えて、あるいはこれらと併用して、治療に用いること
ができる新規な抗ＨＩＶ活性物質の開発が強く求められ
ている。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、ＨＩＶ感
染抑制作用を有し、エイズ治療薬として利用可能な化合
物を提供することを目的として鋭意検討し、カビの１種
であるアスペルギルス・ニベウス（Aspergillus niveu
s）ＲＦ−４９８４株（以下、ＲＦ−４９８４株と略
称）が抗レトロウイルス活性を有する物質を産生するこ
とを見出した。次いで、その物質を単離精製し、構造決
定を行い、所望により化学修飾することにより、該目的
の達成に有用な化合物を得ることに成功した。
染抑制作用を有し、エイズ治療薬として利用可能な化合
物を提供することを目的として鋭意検討し、カビの１種
であるアスペルギルス・ニベウス（Aspergillus niveu
s）ＲＦ−４９８４株（以下、ＲＦ−４９８４株と略
称）が抗レトロウイルス活性を有する物質を産生するこ
とを見出した。次いで、その物質を単離精製し、構造決
定を行い、所望により化学修飾することにより、該目的
の達成に有用な化合物を得ることに成功した。
【０００４】即ち、本発明は、式Ｉ：
【化２】 （式中、Ｒは１−プロペニル、２−ヒドロキシプロピ
ル、２−アルコキシプロピルを表す）で示される化合物
またはそのアルカリ金属塩を提供するものである。本明
細書中、２−アルコキシプロピルにおけるアルコキシ基
としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ等を挙げる
ことができる。アルカリ金属塩とは、リチウム、ナトリ
ウムおよびカリウムの塩を指す。
ル、２−アルコキシプロピルを表す）で示される化合物
またはそのアルカリ金属塩を提供するものである。本明
細書中、２−アルコキシプロピルにおけるアルコキシ基
としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ等を挙げる
ことができる。アルカリ金属塩とは、リチウム、ナトリ
ウムおよびカリウムの塩を指す。
【０００５】本発明化合物の製造に有用なＲＦ−４９８
４株の菌学的性状(Taxomony)は以下の通りである。本菌
株のオ−トミ−ル寒天培地上での成育はむしろ遅く、コ
ロニ−は平坦で白色, 分生子を豊富に着生する。裏面は
無色から淡黄褐色である。分生子頭(conidial head)は
白色で、比較的ゆるい円柱状の分生子鎖を着生する。胞
子柄壁はほとんど無色で、平滑、屈曲しており、直径は
４〜６μmである。先端はふくれて半球状の頂嚢(vesicl
e)を形成し、通常の長さは３００〜６００μmである。
頂嚢は半球状で、直径は１０〜１５μmである。梗子(ph
ialide)は５〜８ x ２〜２.５μmで、平滑で薄い壁を持
ち、無色である。分生子は球形から亜球形で直径は２〜
３μmである。これらの諸性状から、ＲＦ−４９８４株
はケネス・ビ−・レイパ−ら著 " ザ・ジ−ナス・アスペル
ギルス"［ケネス(Kenneth B. Raper）およびドロシー
（DorothyI. Fennell）: THE GENUS Aspergillus, Robe
rt E. Krieger Publishing Company Huntington, New Y
ork, 1973］に記載されているアスペルギルス ニベウ
ス(Aspergillus niveus) と同定された。該菌株は工業
技術院微生物工業研究所に微工研条寄第４１１９号とし
て寄託されている（寄託日：平成４年１２月１４日）。
４株の菌学的性状(Taxomony)は以下の通りである。本菌
株のオ−トミ−ル寒天培地上での成育はむしろ遅く、コ
ロニ−は平坦で白色, 分生子を豊富に着生する。裏面は
無色から淡黄褐色である。分生子頭(conidial head)は
白色で、比較的ゆるい円柱状の分生子鎖を着生する。胞
子柄壁はほとんど無色で、平滑、屈曲しており、直径は
４〜６μmである。先端はふくれて半球状の頂嚢(vesicl
e)を形成し、通常の長さは３００〜６００μmである。
頂嚢は半球状で、直径は１０〜１５μmである。梗子(ph
ialide)は５〜８ x ２〜２.５μmで、平滑で薄い壁を持
ち、無色である。分生子は球形から亜球形で直径は２〜
３μmである。これらの諸性状から、ＲＦ−４９８４株
はケネス・ビ−・レイパ−ら著 " ザ・ジ−ナス・アスペル
ギルス"［ケネス(Kenneth B. Raper）およびドロシー
（DorothyI. Fennell）: THE GENUS Aspergillus, Robe
rt E. Krieger Publishing Company Huntington, New Y
ork, 1973］に記載されているアスペルギルス ニベウ
ス(Aspergillus niveus) と同定された。該菌株は工業
技術院微生物工業研究所に微工研条寄第４１１９号とし
て寄託されている（寄託日：平成４年１２月１４日）。
【０００６】 本発明のＲＦ−４９８４株を適当な培地
で培養するとニベフラノンＡ（Ｒ＝１−プロペニル）、
ニベフラノンＢ（Ｒ＝２−ヒドロキシプロピル）および
ニベフラノンＣ（Ｒ＝２−メトキシプロピル）を産生す
る。本発明者らは、これらを単離、精製し、核磁気共鳴
スペクトル（ＮＭＲ）、質量分析スペクトル（ＭＳ）、
赤外線スペクトル（ＩＲ）、およびニベフラノンＢのメ
チルエステルの合成により構造決定を行った。なお、本
発明のニベフラノン化合物は、遊離のカルボン酸として
は不安定であるために、ナトリウム塩として単離精製さ
れた。また、ニベフラノンＡの１−プロペニル基に低級
アルコール（例 メタノール，エタノール，プロパノー
ル等）を付加することにより、誘導体を得る。例えばメ
タノールの付加によりニベフラノンＣが得られる。上記
のごとく、本発明化合物は、ＲＦ−４９８４株を適当な
培地でニベフラノン化合物の産生に適した条件下で培養
し、培養物からニベフラノン精製物を単離、精製し、所
望により、化学修飾することによって製造することがで
きる。あるいは、当業者にとって既知の方法により、化
学合成することもできる。従って、本発明はまた、アス
ペルギルス属（Aspergillus）に属し、上記の式Ｉで示
される化合物、特にＲが１−プロペニル，２−ヒドロキ
シプロピル，または２−メトキシプロピルで示される化
合物を、産生する微生物を培養し、得られた培養物から
該化合物を分離、精製し、所望により化学修飾すること
からなる、化合物Ｉの製造方法を提供するものである。
で培養するとニベフラノンＡ（Ｒ＝１−プロペニル）、
ニベフラノンＢ（Ｒ＝２−ヒドロキシプロピル）および
ニベフラノンＣ（Ｒ＝２−メトキシプロピル）を産生す
る。本発明者らは、これらを単離、精製し、核磁気共鳴
スペクトル（ＮＭＲ）、質量分析スペクトル（ＭＳ）、
赤外線スペクトル（ＩＲ）、およびニベフラノンＢのメ
チルエステルの合成により構造決定を行った。なお、本
発明のニベフラノン化合物は、遊離のカルボン酸として
は不安定であるために、ナトリウム塩として単離精製さ
れた。また、ニベフラノンＡの１−プロペニル基に低級
アルコール（例 メタノール，エタノール，プロパノー
ル等）を付加することにより、誘導体を得る。例えばメ
タノールの付加によりニベフラノンＣが得られる。上記
のごとく、本発明化合物は、ＲＦ−４９８４株を適当な
培地でニベフラノン化合物の産生に適した条件下で培養
し、培養物からニベフラノン精製物を単離、精製し、所
望により、化学修飾することによって製造することがで
きる。あるいは、当業者にとって既知の方法により、化
学合成することもできる。従って、本発明はまた、アス
ペルギルス属（Aspergillus）に属し、上記の式Ｉで示
される化合物、特にＲが１−プロペニル，２−ヒドロキ
シプロピル，または２−メトキシプロピルで示される化
合物を、産生する微生物を培養し、得られた培養物から
該化合物を分離、精製し、所望により化学修飾すること
からなる、化合物Ｉの製造方法を提供するものである。
【０００７】本発明のニベフラノン化合物の製造を目的
とするＲＦ−４９８４株の培養は、発酵学の分野におい
て同様の場合に用いられる培地および条件を用いて行う
ことができる。例えば、ポリペプトン、グルコース、牛
肉エキス、酵母エキスおよび食塩を含むｐＨ約７.０の
培地に、温度約２５℃で約１０日間培養することにより
得たＲＦ−４９８４の種培養を接種し、振幅約７０mm、
約１６０回転／分の回転式振盪培養機にて約２８℃で約
２日間振盪培養する。次いで得られた培養液をシューク
ロース、グリセリン、酵母エキス、牛肉エキス、消泡剤
（例、ＤＰ−２０００；大日本インキ化学製）を含むｐ
Ｈ約７.０の発酵培地に植菌し、通気下、約２００回転
／分で約２８℃において、約７日間振盪培養すると本発
明化合物が産生される。
とするＲＦ−４９８４株の培養は、発酵学の分野におい
て同様の場合に用いられる培地および条件を用いて行う
ことができる。例えば、ポリペプトン、グルコース、牛
肉エキス、酵母エキスおよび食塩を含むｐＨ約７.０の
培地に、温度約２５℃で約１０日間培養することにより
得たＲＦ−４９８４の種培養を接種し、振幅約７０mm、
約１６０回転／分の回転式振盪培養機にて約２８℃で約
２日間振盪培養する。次いで得られた培養液をシューク
ロース、グリセリン、酵母エキス、牛肉エキス、消泡剤
（例、ＤＰ−２０００；大日本インキ化学製）を含むｐ
Ｈ約７.０の発酵培地に植菌し、通気下、約２００回転
／分で約２８℃において、約７日間振盪培養すると本発
明化合物が産生される。
【０００８】培地からの目的化合物の分離、精製も発酵
学の分野で既知の方法に従って行うことができる。例え
ば、濾布式遠心分離にかけて菌体と濾液に分け、濾液を
酢酸エチルで抽出する。これを濃縮し、アセトニトリル
とＰＢＳ混合液に溶解し、水酸化ナトリウムでｐＨ７.
０に調節してＭＣＩＧＥＬ ＣＨＰ−２０Ｐ等を用いる
カラムクロマトグラフィーにより、目的の化合物を分離
精製する。後述する実施例には好適な製造方法および条
件が記載されているが、本発明はこれらに限定されるも
のではなく、ＲＦ−４９８４株に適した、他の培養条
件、並びに他の分離精製法を用いても目的化合物を得る
ことが可能である。さらに、化学合成によっても得るこ
とができ、本発明はこれらの他の方法で得られる式Ｉの
化合物すべてを包含するものである。
学の分野で既知の方法に従って行うことができる。例え
ば、濾布式遠心分離にかけて菌体と濾液に分け、濾液を
酢酸エチルで抽出する。これを濃縮し、アセトニトリル
とＰＢＳ混合液に溶解し、水酸化ナトリウムでｐＨ７.
０に調節してＭＣＩＧＥＬ ＣＨＰ−２０Ｐ等を用いる
カラムクロマトグラフィーにより、目的の化合物を分離
精製する。後述する実施例には好適な製造方法および条
件が記載されているが、本発明はこれらに限定されるも
のではなく、ＲＦ−４９８４株に適した、他の培養条
件、並びに他の分離精製法を用いても目的化合物を得る
ことが可能である。さらに、化学合成によっても得るこ
とができ、本発明はこれらの他の方法で得られる式Ｉの
化合物すべてを包含するものである。
【０００９】本発明の新規なニベフラノン誘導体は、実
験例に示すように、インビトロでＨＩＶ(ＨＴＬＶ−III
Ｂ株)の感染抑制作用を示した。従って、本発明化合物
は、レトロウイルス感染症の治療に有効である。本発明
化合物は、経口的または非経口的に投与することができ
る。経口投与による場合、本発明化合物は通常の製剤、
例えば、錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル剤等の固形剤；
水剤；油性懸濁剤；またはシロップ剤もしくはエリキシ
ル剤等の液剤のいずれかの剤形としても用いることがで
きる。非経口投与による場合、本発明化合物は、水性ま
たは油性懸濁注射剤として用いることができる。その調
製に際しては、慣用の賦形剤、結合剤、滑沢剤、水性溶
剤、油性溶剤、乳化剤、懸濁化剤等のいずれも用いるこ
とができ、また他の添加剤、例えば保存剤、安定剤等を
含むものであってもよい。本発明化合物の投与量は、投
与方法、患者の年齢、体重、状態および疾患の種類によ
っても異なるが、通常、経口的には、１日あたり0.05〜
2000mg、好ましくは、0.1〜500mg、また非経口的には、
１日あたり0.01〜1000mg、好ましくは0.05〜300mgであ
り、これを1〜5回に分割して投与すればよい。以下に実
施例を挙げて本発明を詳しく説明するが、本発明はこれ
らに限定されるものではない。
験例に示すように、インビトロでＨＩＶ(ＨＴＬＶ−III
Ｂ株)の感染抑制作用を示した。従って、本発明化合物
は、レトロウイルス感染症の治療に有効である。本発明
化合物は、経口的または非経口的に投与することができ
る。経口投与による場合、本発明化合物は通常の製剤、
例えば、錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル剤等の固形剤；
水剤；油性懸濁剤；またはシロップ剤もしくはエリキシ
ル剤等の液剤のいずれかの剤形としても用いることがで
きる。非経口投与による場合、本発明化合物は、水性ま
たは油性懸濁注射剤として用いることができる。その調
製に際しては、慣用の賦形剤、結合剤、滑沢剤、水性溶
剤、油性溶剤、乳化剤、懸濁化剤等のいずれも用いるこ
とができ、また他の添加剤、例えば保存剤、安定剤等を
含むものであってもよい。本発明化合物の投与量は、投
与方法、患者の年齢、体重、状態および疾患の種類によ
っても異なるが、通常、経口的には、１日あたり0.05〜
2000mg、好ましくは、0.1〜500mg、また非経口的には、
１日あたり0.01〜1000mg、好ましくは0.05〜300mgであ
り、これを1〜5回に分割して投与すればよい。以下に実
施例を挙げて本発明を詳しく説明するが、本発明はこれ
らに限定されるものではない。
【００１０】
【実施例】実施例１ ５−（ヘキサン−１，３−ジエニル）−５−
メチル−４−オキソ−２−（プロパ−１−エニル）−
４，５−ジヒドロフラン−３−カルボン酸（ニベフラノ
ンＡ）および５−（ヘキサン−１，３−ジエニル）−２
−（２−ヒドロキシプロピル）−５−メチル−４−オキ
ソ−４，５−ジヒドロフラン−３−カルボン酸（ニベフ
ラノンＢ）
メチル−４−オキソ−２−（プロパ−１−エニル）−
４，５−ジヒドロフラン−３−カルボン酸（ニベフラノ
ンＡ）および５−（ヘキサン−１，３−ジエニル）−２
−（２−ヒドロキシプロピル）−５−メチル−４−オキ
ソ−４，５−ジヒドロフラン−３−カルボン酸（ニベフ
ラノンＢ）
【化３】 １. 発酵 ポリペプトン１.０％、グルコース ２.０％、牛肉エキ
ス ０.３％、酵母エキス０.２％、食塩０.１％、水道
水（滅菌前、ｐＰＨ７.０）よりなる培地８００mlを含
む２Ｌ容三角フラスコに２５℃で１０日間培養したアス
ペルギルス・ニベウス（Aspergillus niveus）ＲＦ−４
９８４の種培養１スラント分を接種する。接種したフラ
スコは振幅７０mm、毎分１６０回転の回転式振盪培養機
にて２８℃、２日間振盪培養を行う。この培養液８００
mlをシュークロース２.０％、グリセリン２.０％、酵母
エキス０.２％、牛肉エキス０.３％、消泡剤ＤＰ−２０
００（大日本インキ化学製）０.０２％、水道水（ＰＨ
７.０滅菌前）よりなる発酵培地１７Ｌを含む３０Ｌ容
ジャ−ファ−メンタ−に植菌し、通気量毎分１７Ｌ、撹
拌回転数毎分２００回転で２８℃、７日間培養する。
ス ０.３％、酵母エキス０.２％、食塩０.１％、水道
水（滅菌前、ｐＰＨ７.０）よりなる培地８００mlを含
む２Ｌ容三角フラスコに２５℃で１０日間培養したアス
ペルギルス・ニベウス（Aspergillus niveus）ＲＦ−４
９８４の種培養１スラント分を接種する。接種したフラ
スコは振幅７０mm、毎分１６０回転の回転式振盪培養機
にて２８℃、２日間振盪培養を行う。この培養液８００
mlをシュークロース２.０％、グリセリン２.０％、酵母
エキス０.２％、牛肉エキス０.３％、消泡剤ＤＰ−２０
００（大日本インキ化学製）０.０２％、水道水（ＰＨ
７.０滅菌前）よりなる発酵培地１７Ｌを含む３０Ｌ容
ジャ−ファ−メンタ−に植菌し、通気量毎分１７Ｌ、撹
拌回転数毎分２００回転で２８℃、７日間培養する。
【００１１】２. 分離精製 上記１で得られた発酵液６０Ｌを濾布式遠心分離機によ
り菌体と濾液に分離する。濾液はｐＨ３に調製し、酢酸
エチル４５Ｌで抽出する。抽出液は水洗後、減圧溜去し
オイル状粗物質４７.９ｇを得る。このＲＦ−４９８４
培養抽出エキス４７.９ｇの内、１０ｇを用いて以下の
工程に従い、分離精製し、標題の化合物ニベフラノンＡ
およびＢをナトリウム塩の形で、それぞれ１８４mgおよ
び１７０mg得た。また、これらの混合物１.６ｇをも得
た。他に、微量のニベラフラノンＣを得た。
り菌体と濾液に分離する。濾液はｐＨ３に調製し、酢酸
エチル４５Ｌで抽出する。抽出液は水洗後、減圧溜去し
オイル状粗物質４７.９ｇを得る。このＲＦ−４９８４
培養抽出エキス４７.９ｇの内、１０ｇを用いて以下の
工程に従い、分離精製し、標題の化合物ニベフラノンＡ
およびＢをナトリウム塩の形で、それぞれ１８４mgおよ
び１７０mg得た。また、これらの混合物１.６ｇをも得
た。他に、微量のニベラフラノンＣを得た。
【００１２】（１） ニベフラノンＡおよびＢの精製 １）ＲＦ−４９８４粗生成物（１０g）をアセトニトリ
ル（５０ml）および０.１モルＰＢＳ(pＨ７.０）４５０
mlに溶解し、水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ７.０に調
節し、カラムクロマトグラフィー用試料とする。試料を
ＭＣＩＧＥＬ ＣＨＰ−２０Ｐ（１００ml）カラムに通
し、１０％アセトニトリル／０.０５Ｍ ＰＢＳ（ｐＨ
７.０）（７５ｇ）で洗浄する。次いで、２０％アセト
ニトリル／０.０５Ｍ ＰＢＳ（ｐＨ７.０）で溶出する
分画（各１５ｇ；fr．１〜５０）および３０％アセトニ
トリル／０.０５Ｍ ＰＢＳ（ｐＨ７.０）で溶出する分
画（各１５ｇ；fr．５１〜７０）をとる。このようにし
て得られた各分画を以下の３つに分けて次工程に用い
る。 （１−１）Ｂ分画（fr.１〜１３） （１−２）Ａマイナー分画（fr.１４〜２１およびfr.３
８） （１−３）Ａ分画（fr.２２〜３７）
ル（５０ml）および０.１モルＰＢＳ(pＨ７.０）４５０
mlに溶解し、水酸化ナトリウム水溶液でｐＨ７.０に調
節し、カラムクロマトグラフィー用試料とする。試料を
ＭＣＩＧＥＬ ＣＨＰ−２０Ｐ（１００ml）カラムに通
し、１０％アセトニトリル／０.０５Ｍ ＰＢＳ（ｐＨ
７.０）（７５ｇ）で洗浄する。次いで、２０％アセト
ニトリル／０.０５Ｍ ＰＢＳ（ｐＨ７.０）で溶出する
分画（各１５ｇ；fr．１〜５０）および３０％アセトニ
トリル／０.０５Ｍ ＰＢＳ（ｐＨ７.０）で溶出する分
画（各１５ｇ；fr．５１〜７０）をとる。このようにし
て得られた各分画を以下の３つに分けて次工程に用い
る。 （１−１）Ｂ分画（fr.１〜１３） （１−２）Ａマイナー分画（fr.１４〜２１およびfr.３
８） （１−３）Ａ分画（fr.２２〜３７）
【００１３】２）上記１）で得た（１−３）Ａ分画（f
r.２２〜３７）の０.０５Ｍ ＰＢＳ５００ml中溶液を
ＭＣＩＧＥＬ ＣＨＰ−２０Ｐ（１００ml）を用いる脱
塩クロマトグラフィーに適用した。まず、試料溶液をカ
ラムに通し、１０％アセトニトリル／水（４００ml）で
洗浄し、アセトニトリル／水グラディエント（１０％→
５０％）で溶出する分画（fr.１〜５０）を得、次い
で、アセトニトリルで溶出される分画（fr.５１〜７
０）（各１０ｇ）を得る。このようにして得られた各分
画を下記の通り処理する。 （２−１）Ａ分画（ｆｒ.１３〜２０）（ｐＨ７.４）：
濃縮凍結乾燥し、目的のニベフラノンＡ（純度９８％；
Ｎａ塩）１８４mgを得る。 （２−２）Ａ分画（ｆｒ.６〜１２および２１〜２２）
（ｐＨ７.３）：濃縮凍結乾燥し、ニベフラノンＡ（不
純物含有、Ｎａ塩）４５mgを得る。 （２−３）Ａ、Ｂ混合物（含有率：Ａ＞Ｂ）（ｆｒ.
５１〜７０）（ｐＨ４.３→７）：濃縮凍結乾燥しニベ
フラノンＡおよびＢの混合物（Ｎａ塩）２４７mgを得
る。
r.２２〜３７）の０.０５Ｍ ＰＢＳ５００ml中溶液を
ＭＣＩＧＥＬ ＣＨＰ−２０Ｐ（１００ml）を用いる脱
塩クロマトグラフィーに適用した。まず、試料溶液をカ
ラムに通し、１０％アセトニトリル／水（４００ml）で
洗浄し、アセトニトリル／水グラディエント（１０％→
５０％）で溶出する分画（fr.１〜５０）を得、次い
で、アセトニトリルで溶出される分画（fr.５１〜７
０）（各１０ｇ）を得る。このようにして得られた各分
画を下記の通り処理する。 （２−１）Ａ分画（ｆｒ.１３〜２０）（ｐＨ７.４）：
濃縮凍結乾燥し、目的のニベフラノンＡ（純度９８％；
Ｎａ塩）１８４mgを得る。 （２−２）Ａ分画（ｆｒ.６〜１２および２１〜２２）
（ｐＨ７.３）：濃縮凍結乾燥し、ニベフラノンＡ（不
純物含有、Ｎａ塩）４５mgを得る。 （２−３）Ａ、Ｂ混合物（含有率：Ａ＞Ｂ）（ｆｒ.
５１〜７０）（ｐＨ４.３→７）：濃縮凍結乾燥しニベ
フラノンＡおよびＢの混合物（Ｎａ塩）２４７mgを得
る。
【００１４】３）上記１）で得た（１−１）Ｂ分画（ｆ
ｒ.１〜１３）の０.０５Ｍ ＰＢＳ５００ml中溶液を
２）と同様にＭＣＩＧＥＬ ＣＨＰ−２０Ｐ（１００m
l）を用いる脱塩クロマトグラフィーに付す。まず、試
料をカラムに通し、５％アセトニトリル／水７００mlで
洗浄する。次いで、アセトニトリル／水グラディエント
（５％→５０％）で溶出する分画（ｆｒ.１〜３７）お
よびアセトニトリルで溶出する分画（ｆｒ.３８〜５
５）（各１０ｇ）を得る。このようにして得られた各分
画を下記のごとく処理する。 （３−１）Ｂ分画（ｆｒ.１〜３０）（ｐＨ７.３）：濃
縮凍結乾燥し、目的のニベフラノンＢ（Ｎａ塩）１７０
mgを得る。 （３−２）ＡおよびＢ分画（ｆｒ.４１〜４７）（ｐＨ
２.９→７.４）：濃縮凍結乾燥しニベフラノンＡおよび
Ｂの混合物１３５０mgを得る。
ｒ.１〜１３）の０.０５Ｍ ＰＢＳ５００ml中溶液を
２）と同様にＭＣＩＧＥＬ ＣＨＰ−２０Ｐ（１００m
l）を用いる脱塩クロマトグラフィーに付す。まず、試
料をカラムに通し、５％アセトニトリル／水７００mlで
洗浄する。次いで、アセトニトリル／水グラディエント
（５％→５０％）で溶出する分画（ｆｒ.１〜３７）お
よびアセトニトリルで溶出する分画（ｆｒ.３８〜５
５）（各１０ｇ）を得る。このようにして得られた各分
画を下記のごとく処理する。 （３−１）Ｂ分画（ｆｒ.１〜３０）（ｐＨ７.３）：濃
縮凍結乾燥し、目的のニベフラノンＢ（Ｎａ塩）１７０
mgを得る。 （３−２）ＡおよびＢ分画（ｆｒ.４１〜４７）（ｐＨ
２.９→７.４）：濃縮凍結乾燥しニベフラノンＡおよび
Ｂの混合物１３５０mgを得る。
【００１５】３．構造決定 構造決定のために、ニベフラノンＢ（Ｎａ塩）のメチル
エステル誘導体、５−（ヘキサン−１，３−ジエニル）
−２−（２−ヒドロキシプロピル）−５−メチル−４−
オキソ−４，５−ジヒドロフラン−３−カルボン酸メチ
ルを製造した。上記２で得たニベフラノンＢ（Ｎａ塩）
５０mgをＤＭＦ２mlに溶解し ヨウ化メチル０.５mlを
加え室温で２時間撹拌する。次いで、溶媒を留去し、シ
リカゲルクロマトカラムを通し、残渣４２mgを得る。次
いで カラムクロマトグラフィー（Lichroprep Ｓ
ｉ60；溶媒；ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝７：３）で精
製し、ニベフラノンＢメチルエステル２５mg（純度９８
％）を得る。このエステル誘導体を用いて構造決定を行
った。
エステル誘導体、５−（ヘキサン−１，３−ジエニル）
−２−（２−ヒドロキシプロピル）−５−メチル−４−
オキソ−４，５−ジヒドロフラン−３−カルボン酸メチ
ルを製造した。上記２で得たニベフラノンＢ（Ｎａ塩）
５０mgをＤＭＦ２mlに溶解し ヨウ化メチル０.５mlを
加え室温で２時間撹拌する。次いで、溶媒を留去し、シ
リカゲルクロマトカラムを通し、残渣４２mgを得る。次
いで カラムクロマトグラフィー（Lichroprep Ｓ
ｉ60；溶媒；ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝７：３）で精
製し、ニベフラノンＢメチルエステル２５mg（純度９８
％）を得る。このエステル誘導体を用いて構造決定を行
った。
【００１６】以下にニベフラノンＡおよびＢの物理化学
的性質を示す。ニベフラノンＡ １）外観：薄褐色無晶形粉末（ナトリウム塩） ２） ＵＶ：λmax０.０５Ｍ ＰＢＳ（ｐＨ７.０）n
m；２３７,３０８ ３） ＩＲ：νmaxＫＢｒcm-1；３４２９，１６９３，
１６４４，１５８８，１５４２，１４１６，１０４６，
９８８，７９１ ４） 分子式：Ｃ15Ｈ18Ｏ4（分子量２６２） ５） ＬＳＩＭＳ；ｍ／ｚ２８５［Ｍ＋Ｎａ］+ ６） 1Ｈ ＮＭＲ：［２００ ＭＨｚ ｐｐｍ（Ｊ＝
Ｈｚ）］（Ｄ2Ｏ中）；７.２１〜６.９６（１Ｈ，
ｍ），６.３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９.８，Ｊ＝１５.
４），６.１５〜５.８４（２Ｈ，ｍ），５.５８（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５.６），２.０７（２Ｈ，ｍ），１.９
８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６.４），１.５０（３Ｈ，ｓ），
０.９４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７.２）
的性質を示す。ニベフラノンＡ １）外観：薄褐色無晶形粉末（ナトリウム塩） ２） ＵＶ：λmax０.０５Ｍ ＰＢＳ（ｐＨ７.０）n
m；２３７,３０８ ３） ＩＲ：νmaxＫＢｒcm-1；３４２９，１６９３，
１６４４，１５８８，１５４２，１４１６，１０４６，
９８８，７９１ ４） 分子式：Ｃ15Ｈ18Ｏ4（分子量２６２） ５） ＬＳＩＭＳ；ｍ／ｚ２８５［Ｍ＋Ｎａ］+ ６） 1Ｈ ＮＭＲ：［２００ ＭＨｚ ｐｐｍ（Ｊ＝
Ｈｚ）］（Ｄ2Ｏ中）；７.２１〜６.９６（１Ｈ，
ｍ），６.３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９.８，Ｊ＝１５.
４），６.１５〜５.８４（２Ｈ，ｍ），５.５８（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５.６），２.０７（２Ｈ，ｍ），１.９
８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６.４），１.５０（３Ｈ，ｓ），
０.９４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７.２）
【００１７】７）13Ｃ ＮＭＲ：［５０ ＭＨｚ ｐｐ
ｍ］Ｄ2Ｏ中；２０８.６２，１８７.８４，１７３.７
０，１４９.１８，１４４.７４，１３６.９９，１３１.
６３，１２９.８３，１２４.１２，１１３.８７，９４.
２３，２９.３４，２４.９６，２２.８８，１６.６４ ８）ＣＤ：λｍａｘ θ（ε）nm（Ｈ2Ｏ中）；３３８.
８０（−１.５９９Ｅ＋０４），３０２.７０（１.３４
４Ｅ＋０４），２７０.７０（−２.０５０Ｅ＋０４），
２５２.２０（−５.１２１Ｅ＋０４），２３０.００
（８.７５０Ｅ＋０４） ９）ＨＰＬＣ：カラム；ＣＯＳＭＯＳＩＬ ５Ｃ１８−
ＡＲ ４.６φｘ１５０mm；流速；１ml／ｍｉｎ；検
出：ＵＶ（２２０nm）；ａ）移動相；４０％アセトニト
リル／０.１％ＴＦＡ，保持時間（Ｒｔ）＝２２.２８ｍ
ｉｎ，ｂ）５０％アセトニトリル／０.１％ ＴＦＡ，
Ｒｔ＝８.８６ｍｉｎ，ｃ）２５％アセトニトリル／０.
０５Ｍ ＰＢＳ（ｐＨ７.０），Ｒｔ＝１１.７３ｍｉｎ
ｍ］Ｄ2Ｏ中；２０８.６２，１８７.８４，１７３.７
０，１４９.１８，１４４.７４，１３６.９９，１３１.
６３，１２９.８３，１２４.１２，１１３.８７，９４.
２３，２９.３４，２４.９６，２２.８８，１６.６４ ８）ＣＤ：λｍａｘ θ（ε）nm（Ｈ2Ｏ中）；３３８.
８０（−１.５９９Ｅ＋０４），３０２.７０（１.３４
４Ｅ＋０４），２７０.７０（−２.０５０Ｅ＋０４），
２５２.２０（−５.１２１Ｅ＋０４），２３０.００
（８.７５０Ｅ＋０４） ９）ＨＰＬＣ：カラム；ＣＯＳＭＯＳＩＬ ５Ｃ１８−
ＡＲ ４.６φｘ１５０mm；流速；１ml／ｍｉｎ；検
出：ＵＶ（２２０nm）；ａ）移動相；４０％アセトニト
リル／０.１％ＴＦＡ，保持時間（Ｒｔ）＝２２.２８ｍ
ｉｎ，ｂ）５０％アセトニトリル／０.１％ ＴＦＡ，
Ｒｔ＝８.８６ｍｉｎ，ｃ）２５％アセトニトリル／０.
０５Ｍ ＰＢＳ（ｐＨ７.０），Ｒｔ＝１１.７３ｍｉｎ
【００１８】ニベフラノンＢ １）外観：薄黄褐色無晶形粉末（ナトリウム塩） ２）ＵＶ：λmaxＨ2Ｏnm（Ｅ１％１cm）：２３６（７９
０），２７２（２５０） ３）ＩＲ：νｍａｘＫＢｒcm-1；３４１０，１６９０，
１５９６（ＣＯＯＮａ），１５６５（ｓｈ），１４０
６，１０３２，９８６，７８７ ４）分子式：Ｃ15Ｈ20Ｏ5（分子量２８０） ５）ＬＳＩＭＳ；ｍ／ｚ３０３［Ｍ＋Ｎａ］+ ６）ＨＲＬＳＩＭＳ：ｍ／ｚ；３０３.１２１４［Ｍ＋
Ｎａ］+，計算値（３０３.１２０８）
０），２７２（２５０） ３）ＩＲ：νｍａｘＫＢｒcm-1；３４１０，１６９０，
１５９６（ＣＯＯＮａ），１５６５（ｓｈ），１４０
６，１０３２，９８６，７８７ ４）分子式：Ｃ15Ｈ20Ｏ5（分子量２８０） ５）ＬＳＩＭＳ；ｍ／ｚ３０３［Ｍ＋Ｎａ］+ ６）ＨＲＬＳＩＭＳ：ｍ／ｚ；３０３.１２１４［Ｍ＋
Ｎａ］+，計算値（３０３.１２０８）
【００１９】７）1Ｈ ＮＭＲ：［２００ＭＨｚ ｐｐ
ｍ（Ｊ＝Ｈｚ）］（Ｄ2Ｏ中）；６.３７（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝９.６，Ｊ＝１５.４），６.１５〜５.８３（２Ｈ，
ｍ），５.５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５.４），４.２６
（１Ｈ，ｍ），３.１１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６.６），２.
０７（２Ｈ，ｍ），１.５０（３Ｈ，ｓ），１.２５（３
Ｈ，ｄ，Ｊ＝６.２），０.９４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７.
４） ８）13Ｃ ＮＭＲ：［５０ ＭＨｚ ｐｐｍ］（Ｄ2Ｏ
中）；２０５.０７，１９３.７２，１６９.６９，１４
１.２０，１３３.５９，１２７.８５，１２５.４４，１
１３.５４，９１.４０，６６.１４，３９.６８，２５.
６３，２２.８１，２１.２２，１２.９３ ９）ＨＰＬＣ：カラム；ＣＯＳＭＯＳＩＬ ５Ｃ１８−
ＡＲ ４.６φｘ１５０mm，流速；１ml／ｍｉｎ，検
出；ＵＶ（２２０nm）；ａ）移動相３５％アセトニトリ
ル／０.１％ＴＦＡ，Ｒｔ＝８.５２ｍｉｎ，ｂ）５０％
アセトニトリル／０.１％ＴＦＡ，Ｒｔ＝３.２９ｍｉ
ｎ，ｃ）２５％アセトニトリル／０.０５ＭＰＢＳ（ｐ
Ｈ７.０），Ｒｔ＝５.２０ｍｉｎ
ｍ（Ｊ＝Ｈｚ）］（Ｄ2Ｏ中）；６.３７（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝９.６，Ｊ＝１５.４），６.１５〜５.８３（２Ｈ，
ｍ），５.５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５.４），４.２６
（１Ｈ，ｍ），３.１１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６.６），２.
０７（２Ｈ，ｍ），１.５０（３Ｈ，ｓ），１.２５（３
Ｈ，ｄ，Ｊ＝６.２），０.９４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７.
４） ８）13Ｃ ＮＭＲ：［５０ ＭＨｚ ｐｐｍ］（Ｄ2Ｏ
中）；２０５.０７，１９３.７２，１６９.６９，１４
１.２０，１３３.５９，１２７.８５，１２５.４４，１
１３.５４，９１.４０，６６.１４，３９.６８，２５.
６３，２２.８１，２１.２２，１２.９３ ９）ＨＰＬＣ：カラム；ＣＯＳＭＯＳＩＬ ５Ｃ１８−
ＡＲ ４.６φｘ１５０mm，流速；１ml／ｍｉｎ，検
出；ＵＶ（２２０nm）；ａ）移動相３５％アセトニトリ
ル／０.１％ＴＦＡ，Ｒｔ＝８.５２ｍｉｎ，ｂ）５０％
アセトニトリル／０.１％ＴＦＡ，Ｒｔ＝３.２９ｍｉ
ｎ，ｃ）２５％アセトニトリル／０.０５ＭＰＢＳ（ｐ
Ｈ７.０），Ｒｔ＝５.２０ｍｉｎ
【００２０】実施例２ ５−（ヘキサン−１，３−ジエ
ニル）−２−（２−メトキシプロピル）−５−メチル−
４−オキソ−４，５−ジヒドロフラン−３−カルボン酸
（ニベフラノンＣ）ナトリウム塩
ニル）−２−（２−メトキシプロピル）−５−メチル−
４−オキソ−４，５−ジヒドロフラン−３−カルボン酸
（ニベフラノンＣ）ナトリウム塩
【化４】 実施例１で得たニベフラノンＡ（Ｎａ塩）６０mgをメタ
ノール６０ml中、室温で３日間撹拌した後、０.０５Ｍ
ＰＢＳ（ｐＨ７.０）を加え、濃縮し、分取ＨＰＬＣ
［１０mgｘ６；カラム：ＣＯＳＭＯＳＩＬ ５Ｃ１８−
ＡＲ ２０φｘ１５０ mm；検出：ＵＶ（３００nm）；
溶媒：２５％アセトニトリル／０.０５ＭＰＢＳ（ｐＨ
７.０）；流速；９.５ml／ｍｉｎ］に付す。まず、保持
時間（Ｒｔ）１３〜１７分の分画を得、濃縮し、上記と
同様に脱塩カラムにより処理する。即ち、１２０mlをＭ
ＣＩＧＥＬ ＣＨＰ２０Ｐ（５ml）に適用し、水２０ml
で洗浄し６０％アセトニトリル／水（ｐＨ７.６）１０m
lで溶離する。溶出液を濃縮し、凍結乾燥して目的のニ
ベフラノンＣ（Ｎａ塩）２５mg（純度９８％）を得る。
ノール６０ml中、室温で３日間撹拌した後、０.０５Ｍ
ＰＢＳ（ｐＨ７.０）を加え、濃縮し、分取ＨＰＬＣ
［１０mgｘ６；カラム：ＣＯＳＭＯＳＩＬ ５Ｃ１８−
ＡＲ ２０φｘ１５０ mm；検出：ＵＶ（３００nm）；
溶媒：２５％アセトニトリル／０.０５ＭＰＢＳ（ｐＨ
７.０）；流速；９.５ml／ｍｉｎ］に付す。まず、保持
時間（Ｒｔ）１３〜１７分の分画を得、濃縮し、上記と
同様に脱塩カラムにより処理する。即ち、１２０mlをＭ
ＣＩＧＥＬ ＣＨＰ２０Ｐ（５ml）に適用し、水２０ml
で洗浄し６０％アセトニトリル／水（ｐＨ７.６）１０m
lで溶離する。溶出液を濃縮し、凍結乾燥して目的のニ
ベフラノンＣ（Ｎａ塩）２５mg（純度９８％）を得る。
【００２１】保持時間１７〜２３分の分画を濃縮し、脱
塩処理する。即ち、１２０mlをＭＣＩＧＥＬ ＣＨＰ２
０Ｐ（５ml）に通し水２０mlで洗浄し、８０％アセトニ
トリル／水（ｐＨ７.８）１０mlで溶離する。溶出液を
濃縮し、凍結乾燥してニベフラノンＡ（Ｎａ塩）８mgを
回収する。
塩処理する。即ち、１２０mlをＭＣＩＧＥＬ ＣＨＰ２
０Ｐ（５ml）に通し水２０mlで洗浄し、８０％アセトニ
トリル／水（ｐＨ７.８）１０mlで溶離する。溶出液を
濃縮し、凍結乾燥してニベフラノンＡ（Ｎａ塩）８mgを
回収する。
【００２２】ニベフラノンＣの物理化学的性質を以下に
示す。ニベフラノンＣ １）外観：薄褐色無晶形粉末（ナトリウム塩） ２）ＵＶ λmaxＨ2Ｏnm；２３６，２７３ ３）ＩＲ：νmaxＫＢｒcm-1；３４２９，１６９５，１
６００，１５６８（ｓｈ），１４０７，１１２９，１０
３５，９９０，７９０ ４）分子式；Ｃ16Ｈ22Ｏ5（分子量２９４） ５）ＬＳＩＭＳ：ｍ／ｚ：３１７［Ｍ＋Ｎａ］+ ６）1Ｈ ＮＭＲ：［２００ＭＨｚ ｐｐｍ （Ｊ＝Ｈ
ｚ）］（Ｄ2Ｏ中）；６.３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９.
６，Ｊ＝１５.４），６.１６〜５.８６（２Ｈ，ｍ），
５.５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５.６），３.９３（１Ｈ，
ｍ），３.３６（３Ｈ，ｓ），３.３０〜３.０（２Ｈ，
ｍ），２.０７（２Ｈ，ｍ），１.５０（３Ｈ，ｓ），
１.２３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６.２），０.９５（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７.４）
示す。ニベフラノンＣ １）外観：薄褐色無晶形粉末（ナトリウム塩） ２）ＵＶ λmaxＨ2Ｏnm；２３６，２７３ ３）ＩＲ：νmaxＫＢｒcm-1；３４２９，１６９５，１
６００，１５６８（ｓｈ），１４０７，１１２９，１０
３５，９９０，７９０ ４）分子式；Ｃ16Ｈ22Ｏ5（分子量２９４） ５）ＬＳＩＭＳ：ｍ／ｚ：３１７［Ｍ＋Ｎａ］+ ６）1Ｈ ＮＭＲ：［２００ＭＨｚ ｐｐｍ （Ｊ＝Ｈ
ｚ）］（Ｄ2Ｏ中）；６.３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９.
６，Ｊ＝１５.４），６.１６〜５.８６（２Ｈ，ｍ），
５.５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５.６），３.９３（１Ｈ，
ｍ），３.３６（３Ｈ，ｓ），３.３０〜３.０（２Ｈ，
ｍ），２.０７（２Ｈ，ｍ），１.５０（３Ｈ，ｓ），
１.２３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６.２），０.９５（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７.４）
【００２３】７）13Ｃ ＮＭＲ：［５０ ＭＨｚ ｐｐ
ｍ］（Ｄ2Ｏ中）；２０５.０６，１９３.７０，１６９.
５５，１４１.０８，１３３.３５，１２７.９４，１２
５.６５，１１３.６０，９１.２５，７５.６２，５６.
３９，３７.１７，２５.６８，２１.３８，１９.３４，
１３.０２ ８）ＨＰＬＣ：カラム；ＣＯＳＭＯＳＩＬ ５Ｃ１８−
ＡＲ，４.６φｘ１５０mm，検出；ＵＶ（２２０nm）；
移動相；５０％ ＣＨ3ＣＮ−０.１％ＴＦＡ，流速；１
ml／ｍｉｎ，Ｒｔ＝６.３５ｍｉｎ
ｍ］（Ｄ2Ｏ中）；２０５.０６，１９３.７０，１６９.
５５，１４１.０８，１３３.３５，１２７.９４，１２
５.６５，１１３.６０，９１.２５，７５.６２，５６.
３９，３７.１７，２５.６８，２１.３８，１９.３４，
１３.０２ ８）ＨＰＬＣ：カラム；ＣＯＳＭＯＳＩＬ ５Ｃ１８−
ＡＲ，４.６φｘ１５０mm，検出；ＵＶ（２２０nm）；
移動相；５０％ ＣＨ3ＣＮ−０.１％ＴＦＡ，流速；１
ml／ｍｉｎ，Ｒｔ＝６.３５ｍｉｎ
【００２４】実験例１ ニベフラノン誘導体の生物学的
活性 実施例で製造したニベフラノン化合物のレトロウイルス
感染抑制作用および細胞毒性を以下の方法で試験した。抗ウイルス活性 （１）ＨＩＶ(ＨＴＬＶ−IIIＢ株)持続感染ヒトＴ細胞
株ＭＯＬＴ−４clone８を１０％牛胎児血清添加ＲＰＭ
Ｉ−１６４０培地で培養し、上清を濾過してウイルスの
力価を測定し、−８０℃で保存する。他方、被検化合物
を上記の培養培地で所定の濃度になるように希釈し、９
６穴マイクロプレートに５０μlずつ分注する。次にＭ
Ｔ−４細胞浮遊液を１００μl(３.５×１０4細胞)ずつ
分注し、更に上記ＨＩＶ含有上清を上記の培養培地で希
釈したものを５０μl(６０pfu（plaque forming uni
t）)ずつ加える。
活性 実施例で製造したニベフラノン化合物のレトロウイルス
感染抑制作用および細胞毒性を以下の方法で試験した。抗ウイルス活性 （１）ＨＩＶ(ＨＴＬＶ−IIIＢ株)持続感染ヒトＴ細胞
株ＭＯＬＴ−４clone８を１０％牛胎児血清添加ＲＰＭ
Ｉ−１６４０培地で培養し、上清を濾過してウイルスの
力価を測定し、−８０℃で保存する。他方、被検化合物
を上記の培養培地で所定の濃度になるように希釈し、９
６穴マイクロプレートに５０μlずつ分注する。次にＭ
Ｔ−４細胞浮遊液を１００μl(３.５×１０4細胞)ずつ
分注し、更に上記ＨＩＶ含有上清を上記の培養培地で希
釈したものを５０μl(６０pfu（plaque forming uni
t）)ずつ加える。
【００２５】（２）炭酸ガス培養器内で３７℃で５日間
培養した後、全てのウエルにＭＴＴ(３−(４,５−ジメ
チルチアゾール−２−イル)−２,５−ジフェニルテトラ
ゾリウムブロマイド）５mg／ml,ＰＢＳ)を３０μlずつ
加え、更に１時間培養する。このとき、生存する細胞は
ＭＴＴを還元してフォルマザンを析出させる。全てのウ
エルから培養上清を１５０μlずつ取り除き、代わりに
１５０μlの溶解液(１０％トリトンＸ−１００及び０.
４％(v／v)ＨＣl添加イソプロパノール)を加え、プレー
トミキサーで振とうしてフォルマザンを溶出する。フォ
ルマザンをＯＤ ５４０nmで測定し、結果を被対照と比
較する。ウイルスによる細胞障害を５０％抑制する化合
物濃度をＩＣ50とする。試験結果を表１に示す。
培養した後、全てのウエルにＭＴＴ(３−(４,５−ジメ
チルチアゾール−２−イル)−２,５−ジフェニルテトラ
ゾリウムブロマイド）５mg／ml,ＰＢＳ)を３０μlずつ
加え、更に１時間培養する。このとき、生存する細胞は
ＭＴＴを還元してフォルマザンを析出させる。全てのウ
エルから培養上清を１５０μlずつ取り除き、代わりに
１５０μlの溶解液(１０％トリトンＸ−１００及び０.
４％(v／v)ＨＣl添加イソプロパノール)を加え、プレー
トミキサーで振とうしてフォルマザンを溶出する。フォ
ルマザンをＯＤ ５４０nmで測定し、結果を被対照と比
較する。ウイルスによる細胞障害を５０％抑制する化合
物濃度をＩＣ50とする。試験結果を表１に示す。
【表１】 表１ ニベフラノンのＨＩＶ感染抑制活性 化合物 ＩＣ50（μｇ／ml） ニベフラノンＡ ０.７８ ニベフラノンＢ １.６ ニベフラノンＣ １.６
【００２６】細胞毒性 上記（１）において、ＨＩＶ含有上清（ウイルス液）の
代わりに各ウエルに培養培地５０μlずつ加え、（２）
と同様に処理し化合物の細胞毒性を調べる。化合物によ
る細胞毒性が５０％である化合物濃度をＣＣ50とする。
正常細胞であるヒト胎児肺２倍体細胞（ＷＩ３８）に対
する毒性試験は細胞をマイクロプレートに分注して１日
培養後、所定濃度の化合物を添加し、更に２日培養した
後、（２）と同様に処理し、化合物のＷＩ３８細胞に対
するＣＣ50を求める。試験結果を表２に示す。
代わりに各ウエルに培養培地５０μlずつ加え、（２）
と同様に処理し化合物の細胞毒性を調べる。化合物によ
る細胞毒性が５０％である化合物濃度をＣＣ50とする。
正常細胞であるヒト胎児肺２倍体細胞（ＷＩ３８）に対
する毒性試験は細胞をマイクロプレートに分注して１日
培養後、所定濃度の化合物を添加し、更に２日培養した
後、（２）と同様に処理し、化合物のＷＩ３８細胞に対
するＣＣ50を求める。試験結果を表２に示す。
【００２７】
【表２】 表２ ニベフラノンの細胞毒性 化合物 ＣＣ50μg／ml ニベフラノン ＭＴ−４ ＷＩ３８ Ａ １.６ 〜 ３.１ １１.５ Ｂ ６.２５〜１２.５ ＞１００ Ｃ ６.２５〜１２.５ ４９.４
【００２８】
【発明の効果】表１および表２に示した結果から明らか
なように、本発明のニベフラノン化合物は抗レトロウイ
ルス活性を有する。したがって、本発明化合物を用いて
エイズ等のＨＩＶウイルス感染症の治療を行うこと、並
びに、該化合物を用いてさらに薬効の優れた誘導体を開
発することが可能である。
なように、本発明のニベフラノン化合物は抗レトロウイ
ルス活性を有する。したがって、本発明化合物を用いて
エイズ等のＨＩＶウイルス感染症の治療を行うこと、並
びに、該化合物を用いてさらに薬効の優れた誘導体を開
発することが可能である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ //(Ｃ１２Ｎ 1/14 Ｃ１２Ｒ 1:66） (Ｃ１２Ｐ 17/04 Ｃ１２Ｒ 1:66） (72)発明者 板崎 弘 兵庫県宝塚市清荒神４−９−３ (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07D 307/68 C12P 17/04 C12N 1/14 ＢＩＯＳＩＳ（ＤＩＡＬＯＧ) ＷＰＩ（ＤＩＡＬＯＧ) ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (6)
- 【請求項１】 式Ｉ： 【化１】 （式中、Ｒは１−プロペニル、２−ヒドロキシプロピル
または２−アルコキシプロピルを表す）で示される化合
物またはそのアルカリ金属塩。 - 【請求項２】 Ｒが１−プロペニル，２−ヒドロキシプ
ロピル，または２−メトキシプロピルで示される請求項
１の化合物。 - 【請求項３】 請求項１または２の化合物の有効量と薬
学上許容される担体とを含有するＨＩＶ感染症の予防ま
たは治療剤 - 【請求項４】 アスペルギルス・ニベウス（Aspergillu
s niveus）種に属し請求項２の化合物を産生する微生
物。 - 【請求項５】 アスペルギルス・ニベウス（Aspergillu
s niveus）ＲＦ−４９８４株（ＦＥＲＭ ＢＰ−４１１
９）である請求項４記載の微生物。 - 【請求項６】 アスペルギルス属（Aspergillus）に属
し請求項２の化合物を産生する微生物を培養し、得られ
た培養物から該化合物を分離、精製し、所望により化学
修飾することからなる請求項１の化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3034293A JP3160409B2 (ja) | 1993-02-19 | 1993-02-19 | 抗ｈｉｖ活性ニベフラノン |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3034293A JP3160409B2 (ja) | 1993-02-19 | 1993-02-19 | 抗ｈｉｖ活性ニベフラノン |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06239852A JPH06239852A (ja) | 1994-08-30 |
| JP3160409B2 true JP3160409B2 (ja) | 2001-04-25 |
Family
ID=12301166
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3034293A Expired - Fee Related JP3160409B2 (ja) | 1993-02-19 | 1993-02-19 | 抗ｈｉｖ活性ニベフラノン |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3160409B2 (ja) |
-
1993
- 1993-02-19 JP JP3034293A patent/JP3160409B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06239852A (ja) | 1994-08-30 |
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