JP3155936B2 - リニアモータとステージ装置及びこれを用いた走査型露光装置やデバイス製造方法 - Google Patents
リニアモータとステージ装置及びこれを用いた走査型露光装置やデバイス製造方法Info
- Publication number
- JP3155936B2 JP3155936B2 JP17026997A JP17026997A JP3155936B2 JP 3155936 B2 JP3155936 B2 JP 3155936B2 JP 17026997 A JP17026997 A JP 17026997A JP 17026997 A JP17026997 A JP 17026997A JP 3155936 B2 JP3155936 B2 JP 3155936B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- scanning
- wafer
- linear motor
- reticle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70758—Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Linear Motors (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は高精度の位置決めを
行うのに用いられるリニアモータやステージ装置、及び
このステージ装置を用いた微小デバイス等の製造に適し
た走査型露光装置に関する。
行うのに用いられるリニアモータやステージ装置、及び
このステージ装置を用いた微小デバイス等の製造に適し
た走査型露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体デバイス等の製造に使用される露
光装置として、近年、大きな露光領域を有する走査型の
露光装置が注目されている。この装置は、レチクル上に
描かれた半導体デバイスのパターンの一部を感光剤が塗
布された半導体基板上に投影するための露光光学系と、
レチクルを走査移動させるためのレチクルステージと、
ウエハを走査移動させるためのウエハステージとを有
し、それぞれのステージは走査移動を行う。走査移動の
際は、露光光学系によってウエハ上に形成されるレチク
ルパターンの像がぼけたり歪んだりしないように、精度
良く互いに位置関係が制御される。ステージの位置はレ
ーザ干渉計による測長器によって計測される。ステージ
の駆動手段としては制御性の優れた電磁式のリニアモー
タが使用される。
光装置として、近年、大きな露光領域を有する走査型の
露光装置が注目されている。この装置は、レチクル上に
描かれた半導体デバイスのパターンの一部を感光剤が塗
布された半導体基板上に投影するための露光光学系と、
レチクルを走査移動させるためのレチクルステージと、
ウエハを走査移動させるためのウエハステージとを有
し、それぞれのステージは走査移動を行う。走査移動の
際は、露光光学系によってウエハ上に形成されるレチク
ルパターンの像がぼけたり歪んだりしないように、精度
良く互いに位置関係が制御される。ステージの位置はレ
ーザ干渉計による測長器によって計測される。ステージ
の駆動手段としては制御性の優れた電磁式のリニアモー
タが使用される。
【０００３】図１１はリニアモータを用いた従来のステ
ージ装置の概念を示した図である。レチクルなどの工作
物１００を搭載したステージ可動部の両側に可動子１０
１が配置されており、ガイド１０２に搭載されている。
各可動子１０１に対応する位置に、可動子１０１とは非
接触に固定子１０３が配置されている。固定子１０３は
移動方向に配列された固定子となる複数のコイル１０４
及びコイルを支持する固定子枠１０５よりなる。可動子
１０１は磁石１０６とヨーク１０７よりなる。コイル１
０４に電流を流すことによって可動子１０１に推力を発
生させる。移動にともなって順次電流を流すコイルを切
り替えて移動ストロークを大きくし、必要な移動ストロ
ークを確保している。
ージ装置の概念を示した図である。レチクルなどの工作
物１００を搭載したステージ可動部の両側に可動子１０
１が配置されており、ガイド１０２に搭載されている。
各可動子１０１に対応する位置に、可動子１０１とは非
接触に固定子１０３が配置されている。固定子１０３は
移動方向に配列された固定子となる複数のコイル１０４
及びコイルを支持する固定子枠１０５よりなる。可動子
１０１は磁石１０６とヨーク１０７よりなる。コイル１
０４に電流を流すことによって可動子１０１に推力を発
生させる。移動にともなって順次電流を流すコイルを切
り替えて移動ストロークを大きくし、必要な移動ストロ
ークを確保している。
【０００４】このステージ装置は走査移動方向は１方向
のみであり、移動方向以外の方向はエアベアリングなど
の案内手段によって拘束している。
のみであり、移動方向以外の方向はエアベアリングなど
の案内手段によって拘束している。
【０００５】
【発明が解決しようとしている課題】ところが、図１１
に示すステージ装置を走査型露光装置のレチクルステー
ジに適用した場合、レチクルの走査移動方向以外の位置
あるいは真直度は、案内手段の案内面の形状などによっ
て定まる。すなわち、案内手段によって移動方向以外の
方向を拘束しているため、その方向に関する位置決めは
案内手段の機械的性能の制限を受ける。
に示すステージ装置を走査型露光装置のレチクルステー
ジに適用した場合、レチクルの走査移動方向以外の位置
あるいは真直度は、案内手段の案内面の形状などによっ
て定まる。すなわち、案内手段によって移動方向以外の
方向を拘束しているため、その方向に関する位置決めは
案内手段の機械的性能の制限を受ける。
【０００６】走査露光のための走査移動では、レチクル
パターンの投影像の動きと、ウエハの動きとを所定の誤
差内で一致させることが重要である。投影像の動きとウ
エハの動きが大きくずれている場合には、パターン像が
ぼけてウエハに転写されたり、全体のパターン形状が歪
んで転写されたりする要因となる。
パターンの投影像の動きと、ウエハの動きとを所定の誤
差内で一致させることが重要である。投影像の動きとウ
エハの動きが大きくずれている場合には、パターン像が
ぼけてウエハに転写されたり、全体のパターン形状が歪
んで転写されたりする要因となる。
【０００７】従って、レチクルステージとウエハステー
ジとは、露光動作のための走査移動の最中には両者の相
対的な位置関係を所定の高い精度内に管理しなければな
らず、これをいかに向上させるかが走査型露光装置の性
能を向上させる上での課題である。
ジとは、露光動作のための走査移動の最中には両者の相
対的な位置関係を所定の高い精度内に管理しなければな
らず、これをいかに向上させるかが走査型露光装置の性
能を向上させる上での課題である。
【０００８】本発明は上記課題を解決すべくなされたも
ので、走査型露光装置に適した真直度の高いリニアモー
タやステージ装置を提供すること目的とする。さらにこ
のステージ装置を用いることによって露光転写精度を高
めた走査型露光装置を提供することを目的とする。
ので、走査型露光装置に適した真直度の高いリニアモー
タやステージ装置を提供すること目的とする。さらにこ
のステージ装置を用いることによって露光転写精度を高
めた走査型露光装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るための本発明のリニアモータは、固定子に対して可動
子を所定のストロークに渡って走査移動させるリニアモ
ータにおいて、該可動子を走査方向と共にこれと直交す
る方向にも変位させる駆動力を生成する電磁手段を備
え、該電磁手段は、該走査方向に沿って複数個並べて切
り替えて用いる第１コイルと、該走査方向と直交する方
向に前記ストロークと比べて小さいストロークで駆動力
を発生させるための単一の第２コイルとを備えた固定子
を有することを特徴とするものである。
るための本発明のリニアモータは、固定子に対して可動
子を所定のストロークに渡って走査移動させるリニアモ
ータにおいて、該可動子を走査方向と共にこれと直交す
る方向にも変位させる駆動力を生成する電磁手段を備
え、該電磁手段は、該走査方向に沿って複数個並べて切
り替えて用いる第１コイルと、該走査方向と直交する方
向に前記ストロークと比べて小さいストロークで駆動力
を発生させるための単一の第２コイルとを備えた固定子
を有することを特徴とするものである。
【００１０】ここで例えば、前記可動子は、走査方向に
沿って並べた第１の永久磁石と、該走査方向と直交する
方向に沿って並べた第２の永久磁石とを有することで前
記電磁手段を構成している。
沿って並べた第１の永久磁石と、該走査方向と直交する
方向に沿って並べた第２の永久磁石とを有することで前
記電磁手段を構成している。
【００１１】また、本発明のステージ装置は、上記リニ
アモータによって可動ステージを移動させることを特徴
とするものである。
アモータによって可動ステージを移動させることを特徴
とするものである。
【００１２】また、本発明の走査型露光装置は、レチク
ルのパターンの一部をウエハに投影し、レチクル及びウ
エハを共に走査することによってレチクルのパターンを
ウエハに露光転写する走査型露光装置であって、レチク
ルを走査移動させるためのステージ装置が上記構成を備
えることを特徴とするものである。
ルのパターンの一部をウエハに投影し、レチクル及びウ
エハを共に走査することによってレチクルのパターンを
ウエハに露光転写する走査型露光装置であって、レチク
ルを走査移動させるためのステージ装置が上記構成を備
えることを特徴とするものである。
【００１３】また、上記走査型露光装置を用いてデバイ
スを製造するデバイス製造方法も本発明の範疇に含まれ
る。
スを製造するデバイス製造方法も本発明の範疇に含まれ
る。
【００１４】
＜リニアモータを有する走査型露光装置の実施形態＞以
下、図面を用いて本発明の実施形態を説明する。図１は
本実施形態の走査型露光装置の側面図、図２は斜視図で
ある。
下、図面を用いて本発明の実施形態を説明する。図１は
本実施形態の走査型露光装置の側面図、図２は斜視図で
ある。
【００１５】本例の装置では、レチクルステージ上のレ
チクル（原版）のパターンの一部を投影光学系を介して
ウエハステージ上のウエハ（被露光基板）に投影し、投
影光学系に対しレチクルとウエハとをＹ方向に走査する
ことによりレチクルパターンを感光剤を塗布したウエハ
に露光転写する。走査露光はウエハ上の複数の転写領域
（ショット）に対して繰り返し行なわれ、ウエハステー
ジはステップ移動と走査移動を交互にを行う。それゆえ
ステップ・アンド・スキャン型の露光装置と称する。レ
チクルステージに搭載されたレチクルの一部に照明光学
系から露光用の照明光が照射される。この照射領域はス
リット状であり、レチクルのパターン領域の一部をカバ
ーする。このスリット部分に相当するパターンは投影光
学系によって１／４のサイズに縮小されて、ウエハステ
ージに搭載されたウエハ上に縮小投影される。
チクル（原版）のパターンの一部を投影光学系を介して
ウエハステージ上のウエハ（被露光基板）に投影し、投
影光学系に対しレチクルとウエハとをＹ方向に走査する
ことによりレチクルパターンを感光剤を塗布したウエハ
に露光転写する。走査露光はウエハ上の複数の転写領域
（ショット）に対して繰り返し行なわれ、ウエハステー
ジはステップ移動と走査移動を交互にを行う。それゆえ
ステップ・アンド・スキャン型の露光装置と称する。レ
チクルステージに搭載されたレチクルの一部に照明光学
系から露光用の照明光が照射される。この照射領域はス
リット状であり、レチクルのパターン領域の一部をカバ
ーする。このスリット部分に相当するパターンは投影光
学系によって１／４のサイズに縮小されて、ウエハステ
ージに搭載されたウエハ上に縮小投影される。
【００１６】図１、図２において、レチクルステージ１
はレチクルステージリニアモータ４によってＹ方向に駆
動される。後述するように本実施形態の特徴の一つはこ
のリニアモータ４の構造および機能にある。また、ウエ
ハステージ３（３ａ〜３ｄ）のウエハＸステージ３ａは
ウエハＸステージリニアモータ５によってＸ方向に駆動
される。ウエハＹステージ３ｂはウエハＸステージリニ
アモータ５を搭載しており、ウエハＹステージリニアモ
ータ６によってＹ方向に駆動される。
はレチクルステージリニアモータ４によってＹ方向に駆
動される。後述するように本実施形態の特徴の一つはこ
のリニアモータ４の構造および機能にある。また、ウエ
ハステージ３（３ａ〜３ｄ）のウエハＸステージ３ａは
ウエハＸステージリニアモータ５によってＸ方向に駆動
される。ウエハＹステージ３ｂはウエハＸステージリニ
アモータ５を搭載しており、ウエハＹステージリニアモ
ータ６によってＹ方向に駆動される。
【００１７】露光動作中のレチクル及びウエハの移動は
レチクルステージ１及びウエハＹステージ３ｂをＹ方向
へのおおむね一定の速度比率（例えば４：−１、「−」
は移動方向が逆向きであることを示す）で駆動させるこ
とにより行う。ウエハＸステージ３ａにはＺチルトステ
ージ３ｃが搭載され、その上にはウエハ５１を保持する
ウエハチャック３ｄが取り付けられている。ウエハＸス
テージ３ａはエアベアリング５２によってステージ定盤
７上をＺ方向に拘束されてＸ方向及びＹ方向に案内され
る。ウエハＺチルトステージ３ｃはウエハＸステージ３
ａに対して複数のリニアモータ１５によってＺチルト方
向に駆動される。ウエハＺステージ３ｃとウエハＸステ
ージ３ａとの間のセンサ１６によってＺチルト方向の相
対位置が計測される。
レチクルステージ１及びウエハＹステージ３ｂをＹ方向
へのおおむね一定の速度比率（例えば４：−１、「−」
は移動方向が逆向きであることを示す）で駆動させるこ
とにより行う。ウエハＸステージ３ａにはＺチルトステ
ージ３ｃが搭載され、その上にはウエハ５１を保持する
ウエハチャック３ｄが取り付けられている。ウエハＸス
テージ３ａはエアベアリング５２によってステージ定盤
７上をＺ方向に拘束されてＸ方向及びＹ方向に案内され
る。ウエハＺチルトステージ３ｃはウエハＸステージ３
ａに対して複数のリニアモータ１５によってＺチルト方
向に駆動される。ウエハＺステージ３ｃとウエハＸステ
ージ３ａとの間のセンサ１６によってＺチルト方向の相
対位置が計測される。
【００１８】ウエハステージ３はステージ定盤上７に設
けられ、ステージ定盤７は３つのダンパ８を介して３箇
所でベースフレーム１０の底面上に支持されている。ま
た、レチクルステージ１、投影光学系２及び照明系１４
は鏡筒定盤９に固定して設けられている。鏡筒定盤９は
床に載置されたベースフレーム１０の３本の支柱１２上
に３つのダンパ１１を介して支持されている。ダンパ８
は６軸方向にアクティブに制振もしくは除振するアクテ
ィブダンパであるが、高い減衰特性と適度な弾性率を兼
ね備えた材料あるいは構造を用いたパッシブダンパを用
いて支持してもよい。
けられ、ステージ定盤７は３つのダンパ８を介して３箇
所でベースフレーム１０の底面上に支持されている。ま
た、レチクルステージ１、投影光学系２及び照明系１４
は鏡筒定盤９に固定して設けられている。鏡筒定盤９は
床に載置されたベースフレーム１０の３本の支柱１２上
に３つのダンパ１１を介して支持されている。ダンパ８
は６軸方向にアクティブに制振もしくは除振するアクテ
ィブダンパであるが、高い減衰特性と適度な弾性率を兼
ね備えた材料あるいは構造を用いたパッシブダンパを用
いて支持してもよい。
【００１９】さらに各種の計測手段として、ウエハステ
ージの位置の計測器であるレーザ干渉計２３、ウエハと
投影光学系との光軸方向の位置及び姿勢を計測するフォ
ーカス検出器２１及び２２、レチクルステージの位置を
計測する計測器であるレーザ干渉計２４が設けられてい
る。さらにレチクルステージを支持する鏡筒定盤９とウ
エハステージを支持するウエハ定盤７とのＺ方向の相対
的な位置関係を計測するためにギャップセンサ１３が設
けられている。
ージの位置の計測器であるレーザ干渉計２３、ウエハと
投影光学系との光軸方向の位置及び姿勢を計測するフォ
ーカス検出器２１及び２２、レチクルステージの位置を
計測する計測器であるレーザ干渉計２４が設けられてい
る。さらにレチクルステージを支持する鏡筒定盤９とウ
エハステージを支持するウエハ定盤７とのＺ方向の相対
的な位置関係を計測するためにギャップセンサ１３が設
けられている。
【００２０】レチクルステージが加減速する際には、リ
ニアモータの固定子はステージの加減速方向と反対方向
に、加減速推力の反力を受ける。この反力によって鏡筒
定盤が揺れるのを軽減するために、レチクルステージの
モータ固定子はレチクルステージ反力受け手段４９によ
って露光装置本体とは別に床から支持されたフレーム９
９に連結されている。フレーム９９は露光装置空調チャ
ンバの機械室フレームであり、鏡筒定盤とは独立して床
に設置されたものである。
ニアモータの固定子はステージの加減速方向と反対方向
に、加減速推力の反力を受ける。この反力によって鏡筒
定盤が揺れるのを軽減するために、レチクルステージの
モータ固定子はレチクルステージ反力受け手段４９によ
って露光装置本体とは別に床から支持されたフレーム９
９に連結されている。フレーム９９は露光装置空調チャ
ンバの機械室フレームであり、鏡筒定盤とは独立して床
に設置されたものである。
【００２１】図３はレチクルステージ１の近傍の詳細を
示したものである。レチクルは可動ステージ１上に設置
される。４１はエアベアリングガイドで上面が案内面と
なっている。可動ステージ１の下部にはエアベアリング
のパッドが設けられており、可動ステージ１を案内面上
で鉛直Ｚ方向（露光装置投影光学系の光軸方向）に支持
して、水平ＸＹ面内（レチクルパターン面内方向）に可
動となっている。
示したものである。レチクルは可動ステージ１上に設置
される。４１はエアベアリングガイドで上面が案内面と
なっている。可動ステージ１の下部にはエアベアリング
のパッドが設けられており、可動ステージ１を案内面上
で鉛直Ｚ方向（露光装置投影光学系の光軸方向）に支持
して、水平ＸＹ面内（レチクルパターン面内方向）に可
動となっている。
【００２２】２４１と２４２とは可動ステージ１の位置
を計測するための計測手段の反射部材（コーナーキュー
ブ）、２４２と２４４はレーザ干渉計であり、先の図１
でレーザ干渉計２４として大まかに示したものである。
これら２つのレーザ干渉計によって可動ステージ１の走
査方向（Ｙ）の位置、及び露光光軸回りの回転方向
（θ）の姿勢（ヨーイング）の計測を行う。２４５は可
動ステージ１の走査方向に対してレチクルパターン面内
で直角方向（Ｘ）を計測するための反射部材となるミラ
ーであり、２４６はこれに対応するレーザ干渉計であ
る。
を計測するための計測手段の反射部材（コーナーキュー
ブ）、２４２と２４４はレーザ干渉計であり、先の図１
でレーザ干渉計２４として大まかに示したものである。
これら２つのレーザ干渉計によって可動ステージ１の走
査方向（Ｙ）の位置、及び露光光軸回りの回転方向
（θ）の姿勢（ヨーイング）の計測を行う。２４５は可
動ステージ１の走査方向に対してレチクルパターン面内
で直角方向（Ｘ）を計測するための反射部材となるミラ
ーであり、２４６はこれに対応するレーザ干渉計であ
る。
【００２３】４２及び４３は可動ステージ１に一体的に
固定されたリニアモータ可動子ユニットであり、可動ス
テージ１の両側２カ所に設けられる。これは先の図１で
リニアモータ４として大まかに示したものである。一
方、４４及び４５は露光装置のフレームなどに固定され
たリニアモータ固定子ユニットであり、それぞれ可動子
ユニット４２、４３に対応して配置されている。固定子
ユニット４４、４５はともに両端部が鏡筒定盤９に板バ
ネ４９１を介して低剛性に連結されている。この板バネ
４９１は、可動ステージ１を走査する際の加減速推力に
よる固定子ユニットにかかる反力が鏡筒定盤９に伝わる
のを軽減するものである。この反力の大部分は反力受け
ロッド４９を介してフレーム９９に負担させる。反力受
けロッド４９は途中２個所に十字バネ部４９３、４９４
を備えており、鏡筒定盤９とフレーム９９との反力付加
方向以外の方向の相対的な変形をかわしている。
固定されたリニアモータ可動子ユニットであり、可動ス
テージ１の両側２カ所に設けられる。これは先の図１で
リニアモータ４として大まかに示したものである。一
方、４４及び４５は露光装置のフレームなどに固定され
たリニアモータ固定子ユニットであり、それぞれ可動子
ユニット４２、４３に対応して配置されている。固定子
ユニット４４、４５はともに両端部が鏡筒定盤９に板バ
ネ４９１を介して低剛性に連結されている。この板バネ
４９１は、可動ステージ１を走査する際の加減速推力に
よる固定子ユニットにかかる反力が鏡筒定盤９に伝わる
のを軽減するものである。この反力の大部分は反力受け
ロッド４９を介してフレーム９９に負担させる。反力受
けロッド４９は途中２個所に十字バネ部４９３、４９４
を備えており、鏡筒定盤９とフレーム９９との反力付加
方向以外の方向の相対的な変形をかわしている。
【００２４】次に、本実施形態の特徴の一つであるレチ
クルリニアモータの詳細な構造並びに機能について説明
する。このリニアモータは、可動子を走査方向と共にこ
れと直交する方向にも変位させる駆動力を生成する電磁
手段を備えたことを特徴とする。これにより、可動子が
Ｙ方向の走査移動範囲のどこに位置しようとも可動子に
対してＸ方向の駆動力を発生させることができ、逆に可
動子がＸ方向の可動範囲のどこに位置しようとも、可動
子に対してＹ方向の駆動力を発生させることができる。
クルリニアモータの詳細な構造並びに機能について説明
する。このリニアモータは、可動子を走査方向と共にこ
れと直交する方向にも変位させる駆動力を生成する電磁
手段を備えたことを特徴とする。これにより、可動子が
Ｙ方向の走査移動範囲のどこに位置しようとも可動子に
対してＸ方向の駆動力を発生させることができ、逆に可
動子がＸ方向の可動範囲のどこに位置しようとも、可動
子に対してＹ方向の駆動力を発生させることができる。
【００２５】図４は可動子及び固定子を有するレチクル
リニアモータの断面を示したもの、図５は固定子ユニッ
トの平面図、また図６は可動子ユニットの平面図であ
る。
リニアモータの断面を示したもの、図５は固定子ユニッ
トの平面図、また図６は可動子ユニットの平面図であ
る。
【００２６】図４、図５に示すように固定子ユニット
は、Ｙ方向（走査方向）で所定の走査範囲に駆動力を発
生させるためのＹ方向に沿って配列した複数のコイル列
４５１（第１のコイル）を備えると共に、さらにＹ方向
と直交するＸ方向でも微小な範囲で駆動力を発生させる
ための単一のコイル４５２（第２のコイル）とを有して
いる。第１のコイルと第２のコイルは同一平面内に配列
されている。なお第２のコイルの数は必ずしも１つでな
くてもよいが、第１のコイルよりは数が少ない。
は、Ｙ方向（走査方向）で所定の走査範囲に駆動力を発
生させるためのＹ方向に沿って配列した複数のコイル列
４５１（第１のコイル）を備えると共に、さらにＹ方向
と直交するＸ方向でも微小な範囲で駆動力を発生させる
ための単一のコイル４５２（第２のコイル）とを有して
いる。第１のコイルと第２のコイルは同一平面内に配列
されている。なお第２のコイルの数は必ずしも１つでな
くてもよいが、第１のコイルよりは数が少ない。
【００２７】図５において、第２のコイルであるコイル
４５２のＹ方向の長さは、第１のコイルがＹ方向に配列
された長さとほぼ等しくなっている。これら第１および
第２のコイルからなる固定子は一つのユニットとして構
成され、周囲を液媒ジャケット４５３に覆われている。
４５４は液媒ジャケットへの液媒の導入部、４５５は冷
媒の排出部である。液媒ジャケットの中に温度制御され
た液媒が流すことによってコイルの温度上昇を抑えるこ
とができる。
４５２のＹ方向の長さは、第１のコイルがＹ方向に配列
された長さとほぼ等しくなっている。これら第１および
第２のコイルからなる固定子は一つのユニットとして構
成され、周囲を液媒ジャケット４５３に覆われている。
４５４は液媒ジャケットへの液媒の導入部、４５５は冷
媒の排出部である。液媒ジャケットの中に温度制御され
た液媒が流すことによってコイルの温度上昇を抑えるこ
とができる。
【００２８】一方、可動子ユニットは、固定子の各方向
のコイルに対応した位置に適切な磁気回路を構成するよ
うに永久磁石とヨークを有する。図４、図６において、
４３０、４３１はＹ方向（走査方向）用の永久磁石列
（第１の永久磁石）であり、固定子コイル４５１の両側
から挟むように設けられている。第１の永久磁石はＹ方
向に沿ってＳ磁石とＮ磁石が交互に配列されている。磁
石列４３０、４３１は基本的には従来例の図１１の可動
子の磁石と同様である。また、磁石４３２〜４３５はＹ
方向と直交するＸ方向用の永久磁石（第２の永久磁石）
であり、Ｘ固定子の第２のコイル４５２を両側から挟む
位置に配置される。なお第２の永久磁石は必ずしも４つ
でなくてもよいが、第１の永久磁石よりは数が少ない。
のコイルに対応した位置に適切な磁気回路を構成するよ
うに永久磁石とヨークを有する。図４、図６において、
４３０、４３１はＹ方向（走査方向）用の永久磁石列
（第１の永久磁石）であり、固定子コイル４５１の両側
から挟むように設けられている。第１の永久磁石はＹ方
向に沿ってＳ磁石とＮ磁石が交互に配列されている。磁
石列４３０、４３１は基本的には従来例の図１１の可動
子の磁石と同様である。また、磁石４３２〜４３５はＹ
方向と直交するＸ方向用の永久磁石（第２の永久磁石）
であり、Ｘ固定子の第２のコイル４５２を両側から挟む
位置に配置される。なお第２の永久磁石は必ずしも４つ
でなくてもよいが、第１の永久磁石よりは数が少ない。
【００２９】そして、Ｙ方向用ならびにＸ方向用の永久
磁石と共に、これらを保持する鉄部材のヨーク４３６、
４３７、４３８によってリニアモータの可動子ユニット
を構成している。また部材４３８は可動子と可動ステー
ジ１とを連結する連結部材としての機能も有している。
磁石と共に、これらを保持する鉄部材のヨーク４３６、
４３７、４３８によってリニアモータの可動子ユニット
を構成している。また部材４３８は可動子と可動ステー
ジ１とを連結する連結部材としての機能も有している。
【００３０】このようにユニット化された可動子ユニッ
トは、Ｘ方向用の磁石の磁気回路を構成するためのヨー
クと、Ｙ方向用の磁石の磁気回路を構成するためのヨー
クとを同一部材のものから構成して一体化しているた
め、構成が簡単かつ堅固であり、ステージ可動部へ力を
及ぼす部分の剛性が向上することからステージの制御性
が良い。
トは、Ｘ方向用の磁石の磁気回路を構成するためのヨー
クと、Ｙ方向用の磁石の磁気回路を構成するためのヨー
クとを同一部材のものから構成して一体化しているた
め、構成が簡単かつ堅固であり、ステージ可動部へ力を
及ぼす部分の剛性が向上することからステージの制御性
が良い。
【００３１】図７はレチクルリニアモータの駆動原理を
説明する図であり、走査移動に伴う可動子の位置とその
位置で選択されるコイル、さらにはコイルに流れる電流
の方向を示している。図中、記号ＡとＢとは電流の向き
を示すもので、ともに紙面に垂直な方向で流れる電流の
向きは互いに逆方向である。記号Ａ，Ｂが描かれていな
いコイルには電流は流れていない。このコイルの切り替
えはステージ可動部のＹ方向の位置を検出して行う。Ｙ
方向への駆動推進力はＹ方向固定子の複数のコイル列に
順次電流を流すことによって得られる。可動部の両側の
コイルに流す電流値のバランスは、可動部のＹ方向の位
置の計測値とヨーイング姿勢の計測値とから制御され
る。Ｘ方向のコイルに流す電流はステージ可動部のＸ方
向の位置の計測値によって制御される。
説明する図であり、走査移動に伴う可動子の位置とその
位置で選択されるコイル、さらにはコイルに流れる電流
の方向を示している。図中、記号ＡとＢとは電流の向き
を示すもので、ともに紙面に垂直な方向で流れる電流の
向きは互いに逆方向である。記号Ａ，Ｂが描かれていな
いコイルには電流は流れていない。このコイルの切り替
えはステージ可動部のＹ方向の位置を検出して行う。Ｙ
方向への駆動推進力はＹ方向固定子の複数のコイル列に
順次電流を流すことによって得られる。可動部の両側の
コイルに流す電流値のバランスは、可動部のＹ方向の位
置の計測値とヨーイング姿勢の計測値とから制御され
る。Ｘ方向のコイルに流す電流はステージ可動部のＸ方
向の位置の計測値によって制御される。
【００３２】本実施形態のレチクルリニアモータは、Ｙ
方向に十分なストロークを有し、Ｘ方向にはＹ方向に比
べて小さいストローク（例えば１０分の１以下）となっ
ている。このストローク比は、Ｙ方向／Ｘ方向のそれぞ
れの固定子コイルの数や大きさによって決定される。
方向に十分なストロークを有し、Ｘ方向にはＹ方向に比
べて小さいストローク（例えば１０分の１以下）となっ
ている。このストローク比は、Ｙ方向／Ｘ方向のそれぞ
れの固定子コイルの数や大きさによって決定される。
【００３３】このリニアモータを走査型露光装置のレチ
クルステージの駆動源として使用する際には、Ｙ方向を
レチクルの走査方向と一致させる。すなわち走査露光装
置では、レチクルを所定の走査速度に達するまで加速す
る必要があり、素早い加速を行うのに十分な推力が走査
方向（Ｙ方向）の駆動系に要求されるが、走査方向に直
角なＸ方向には走査移動の速度に対応する加速を行う必
要ははない。従って、Ｘ方向の駆動系にはＹ方向への加
速の際に発生してしまう僅かな他成分方向の力や、外乱
などの力に対向するだけの推力があればよい。また、必
要とするＸな方向の移動ストロークも僅かである。
クルステージの駆動源として使用する際には、Ｙ方向を
レチクルの走査方向と一致させる。すなわち走査露光装
置では、レチクルを所定の走査速度に達するまで加速す
る必要があり、素早い加速を行うのに十分な推力が走査
方向（Ｙ方向）の駆動系に要求されるが、走査方向に直
角なＸ方向には走査移動の速度に対応する加速を行う必
要ははない。従って、Ｘ方向の駆動系にはＹ方向への加
速の際に発生してしまう僅かな他成分方向の力や、外乱
などの力に対向するだけの推力があればよい。また、必
要とするＸな方向の移動ストロークも僅かである。
【００３４】ところで、図３のレチクルステージ装置に
おいて、一方のリニアモータ４５のみを図４〜６で説明
したリニアモータの構成とし、他方のリニアモータ４４
を図１１に示すような従来タイプの構成としてもよい
し、あるいは両方ともを図４〜６で説明したリニアモー
タの構成としてもよい。
おいて、一方のリニアモータ４５のみを図４〜６で説明
したリニアモータの構成とし、他方のリニアモータ４４
を図１１に示すような従来タイプの構成としてもよい
し、あるいは両方ともを図４〜６で説明したリニアモー
タの構成としてもよい。
【００３５】一方のリニアモータ４５のみを図４〜６で
説明したリニアモータの構成とし、他方のリニアモータ
４４を図１１に示すような従来タイプの構成とする場合
には、干渉計２４６によって計測されたレチクルステー
ジ１のＸ方向の位置の計測値を用いてコイル４５２の電
流を制御する。具体的には、ミラー２４５の測定面形状
や、取り付け姿勢、干渉計のオフセット値などを補正す
るための予め位置Ｙの関数としてデータ列あるいは数式
表現で与えられる所定の補正値及び位置Ｘの指令値と、
干渉計２４６によって計測されたレチクルステージ１の
Ｘ方向の位置の計測値との差を誤差信号としてコイル４
５２の電流を制御する電流ドライバの制御系に入力す
る。
説明したリニアモータの構成とし、他方のリニアモータ
４４を図１１に示すような従来タイプの構成とする場合
には、干渉計２４６によって計測されたレチクルステー
ジ１のＸ方向の位置の計測値を用いてコイル４５２の電
流を制御する。具体的には、ミラー２４５の測定面形状
や、取り付け姿勢、干渉計のオフセット値などを補正す
るための予め位置Ｙの関数としてデータ列あるいは数式
表現で与えられる所定の補正値及び位置Ｘの指令値と、
干渉計２４６によって計測されたレチクルステージ１の
Ｘ方向の位置の計測値との差を誤差信号としてコイル４
５２の電流を制御する電流ドライバの制御系に入力す
る。
【００３６】また、両方を上述のタイプのリニアモータ
とする場合には、前記の誤差信号を左右それぞれのＸ方
向駆動コイルの電流を制御する電流ドライバの制御系に
入力すればよい。これらの場合、位置Ｙに対して指令値
が一定の値とすることによって、ステージを真直に走査
移動させることができる。
とする場合には、前記の誤差信号を左右それぞれのＸ方
向駆動コイルの電流を制御する電流ドライバの制御系に
入力すればよい。これらの場合、位置Ｙに対して指令値
が一定の値とすることによって、ステージを真直に走査
移動させることができる。
【００３７】また、走査露光装置のステージには次のよ
うな制御方法がある。走査型露光装置において求められ
るのは、レチクルステージとウエハステージとの走査移
動における位置関係を、所定の高い精度内に一致させる
ことである。この位置合わせは走査速度の精度に要求さ
れる制限の範囲で行うことができるため、それぞれのス
テージを走査移動させながら、いずれか、あるいは両方
のステージを微妙に移動させてそれぞれの位置関係を相
対的に合わせていく方法がとられる。上述した本実施形
態によるステージ装置は、可動部の構造が堅固に構成で
き、かつ可動部の重心にリニアモータの推力の作用点を
一致させることができるので制御特性が良好であるとい
う利点がある。この制御特性の良いことを利用して、レ
チクルステージの位置とウエハステージの位置との相対
位置誤差を制御信号を、レチクルステージの制御系にフ
ィードバックすることによってより露光精度の高い走査
露光装置を実現することができる。
うな制御方法がある。走査型露光装置において求められ
るのは、レチクルステージとウエハステージとの走査移
動における位置関係を、所定の高い精度内に一致させる
ことである。この位置合わせは走査速度の精度に要求さ
れる制限の範囲で行うことができるため、それぞれのス
テージを走査移動させながら、いずれか、あるいは両方
のステージを微妙に移動させてそれぞれの位置関係を相
対的に合わせていく方法がとられる。上述した本実施形
態によるステージ装置は、可動部の構造が堅固に構成で
き、かつ可動部の重心にリニアモータの推力の作用点を
一致させることができるので制御特性が良好であるとい
う利点がある。この制御特性の良いことを利用して、レ
チクルステージの位置とウエハステージの位置との相対
位置誤差を制御信号を、レチクルステージの制御系にフ
ィードバックすることによってより露光精度の高い走査
露光装置を実現することができる。
【００３８】図８は上述の説明のリニアモータをレチク
ルステージの駆動源として適用した走査露光装置の制御
系の示すブロック図である。同図において、レチクルス
テージ５００においては、レチクルステージ制御系５０
１によって計測されたレチクルステージの可動部の位置
Ｘ、Ｙ、及びθ方向（走査方向のヨーイング方向）の位
置がレチクルステージ駆動制御系５０２に入力される。
一方、ウエハステージ５０３においては、ウエハステー
ジ位置計測系５０４によって計測されたＸ，Ｙ，及びθ
方向の位置がウエハステージ駆動制御系５０５と共に、
レチクルステージ駆動制御系に、Ｐ入力される。また、
露光装置制御系５０６からの信号がステージ制御系５０
７に入力され、ここからレチクルステージ駆動制御系５
０２ならびにウエハステージ駆動制御系５０５に入力さ
れる。
ルステージの駆動源として適用した走査露光装置の制御
系の示すブロック図である。同図において、レチクルス
テージ５００においては、レチクルステージ制御系５０
１によって計測されたレチクルステージの可動部の位置
Ｘ、Ｙ、及びθ方向（走査方向のヨーイング方向）の位
置がレチクルステージ駆動制御系５０２に入力される。
一方、ウエハステージ５０３においては、ウエハステー
ジ位置計測系５０４によって計測されたＸ，Ｙ，及びθ
方向の位置がウエハステージ駆動制御系５０５と共に、
レチクルステージ駆動制御系に、Ｐ入力される。また、
露光装置制御系５０６からの信号がステージ制御系５０
７に入力され、ここからレチクルステージ駆動制御系５
０２ならびにウエハステージ駆動制御系５０５に入力さ
れる。
【００３９】この制御系では、ウエハステージ計測系５
０４によってウエハステージの可動部の位置が計測さ
れ、この値からウエハステージ可動部の相当するレチク
ル上での位置（４：−１の投影系による）が演算され
る。一方、レチクルステージ計測系５０１によってレチ
クルテージの可動部の位置が計測される。そしてレチク
ル上での相対的な位置ズレ量が演算され、このズレを小
さくする方向のレチクルステージの駆動力に対応する制
御量を算出し、この制御信号によってレチクルステージ
のＸ方向のアクチュエータが駆動される。
０４によってウエハステージの可動部の位置が計測さ
れ、この値からウエハステージ可動部の相当するレチク
ル上での位置（４：−１の投影系による）が演算され
る。一方、レチクルステージ計測系５０１によってレチ
クルテージの可動部の位置が計測される。そしてレチク
ル上での相対的な位置ズレ量が演算され、このズレを小
さくする方向のレチクルステージの駆動力に対応する制
御量を算出し、この制御信号によってレチクルステージ
のＸ方向のアクチュエータが駆動される。
【００４０】＜デバイス製造方法の実施形態＞次に上記
説明した露光装置を利用したデバイス製造方法の実施形
態を説明する。図１０は微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等
の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッ
ド、マイクロマシン等）の製造のフローを示す。ステッ
プ１（回路設計）ではデバイスのパターン設計を行な
う。ステップ２（マスク製作）では設計したパターンを
形成したマスクを製作する。一方、ステップ３（ウエハ
製造）ではシリコンやガラス等の材料を用いてウエハを
製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼
ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラ
フィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次
のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ
４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化す
る工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンデ
ィング）、パッケージング工程（チップ封入）等の工程
を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製され
た半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の
検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完
成し、これが出荷（ステップ７）される。
説明した露光装置を利用したデバイス製造方法の実施形
態を説明する。図１０は微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等
の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッ
ド、マイクロマシン等）の製造のフローを示す。ステッ
プ１（回路設計）ではデバイスのパターン設計を行な
う。ステップ２（マスク製作）では設計したパターンを
形成したマスクを製作する。一方、ステップ３（ウエハ
製造）ではシリコンやガラス等の材料を用いてウエハを
製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼
ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラ
フィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次
のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ
４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化す
る工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンデ
ィング）、パッケージング工程（チップ封入）等の工程
を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製され
た半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の
検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完
成し、これが出荷（ステップ７）される。
【００４１】図１１は上記ウエハプロセスの詳細なフロ
ーを示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶
縁膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ
上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオ
ン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１
５（レジスト処理）ではウエハにレジストを塗布する。
ステップ１６（露光）では上記説明した露光装置によっ
てマスクの回路パターンをウエハの複数のショット領域
に並べて焼付露光する。ステップ１７（現像）では露光
したウエハを現像する。ステップ１８（エッチング）で
は現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ
１９（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不要とな
ったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し
行なうことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが
形成される。本実施例の生産方法を用いれば、従来以上
に高精度な微小デバイスを製造することができる。
ーを示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶
縁膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ
上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオ
ン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１
５（レジスト処理）ではウエハにレジストを塗布する。
ステップ１６（露光）では上記説明した露光装置によっ
てマスクの回路パターンをウエハの複数のショット領域
に並べて焼付露光する。ステップ１７（現像）では露光
したウエハを現像する。ステップ１８（エッチング）で
は現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ
１９（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不要とな
ったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し
行なうことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが
形成される。本実施例の生産方法を用いれば、従来以上
に高精度な微小デバイスを製造することができる。
【００４２】
【発明の効果】以上のように本発明のリニアモータによ
れば、走査方向と共にこれと直交する方向にも微小移動
可能なように固定子、可動子を配列してユニット化した
ので、構成が簡単かつ剛性の高いリニアモータが提供で
きる。このリニアモータをステージ装置に適用すれば、
モータ剛性が向上することからステージの制御性が良好
なものとなる。
れば、走査方向と共にこれと直交する方向にも微小移動
可能なように固定子、可動子を配列してユニット化した
ので、構成が簡単かつ剛性の高いリニアモータが提供で
きる。このリニアモータをステージ装置に適用すれば、
モータ剛性が向上することからステージの制御性が良好
なものとなる。
【００４３】また上記ステージ装置を走査型露光装置の
特にレチクルステージ側に適用すれば、ウエハステージ
とレチクルステージの走査方向と直交する方向のずれ
を、制御応答性のよいレチクルステージ側で制御するこ
とになるため、高い露光転写精度が得られる。
特にレチクルステージ側に適用すれば、ウエハステージ
とレチクルステージの走査方向と直交する方向のずれ
を、制御応答性のよいレチクルステージ側で制御するこ
とになるため、高い露光転写精度が得られる。
【図１】走査型露光装置の全体を示す平面図
【図２】図１の装置の斜視図
【図３】レチクルステージに適用したリニアモータの構
成図
成図
【図４】可動子及び固定子を含むリニアモータの断面図
【図５】固定子の平面図
【図６】可動子の平面図
【図７】リニアモータの駆動原理を説明する図
【図８】走査型露光装置の制御系のブロック図
【図９】半導体デバイス製造のフローを示す図
【図１０】ウエハプロセスの詳細なフローを示す図
【図１１】従来例のリニアモータの構成を示す図
１ レチクル可動ステージ ２ 投影光学系 ３ ウエハステージ ４ レチクルステージのリニアモータ ５ ウエハステージのＸリニアモータ ６ ウエハステージのＹリニアモータ ７ ウエハ定盤 ８ ダンパ ９ 鏡筒定盤 １０ ベースフレーム １１ ダンパ １２ 支柱 １３ ギャップセンサ １４ 照明系 ４９ 反力受けロッド ９９ 反力受けフレーム ４５１ Ｙ方向駆動のためのコイル ４５２ Ｘ方向駆動のためのコイル ４５３ 冷媒ジャケット ４３０ ４３１ Ｙ方向駆動のための永久磁石 ４３２〜４３５ Ｘ方向駆動のための永久磁石 ４３６、４３７、４３８ ヨーク
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１５Ｇ ５１８ (56)参考文献 特開 平７−131966（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−51756（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−178747（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−31728（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−365050（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−163353（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−163359（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−294750（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−37151（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−167792（ＪＰ，Ａ) 実開 平４−28780（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H02K 41/03
Claims (5)
- 【請求項１】 固定子に対して可動子を所定のストロー
クに渡って走査移動させるリニアモータにおいて、該可
動子を走査方向と共にこれと直交する方向にも変位させ
る駆動力を生成する電磁手段を備え、該電磁手段は、該
走査方向に沿って複数個並べて切り替えて用いる第１コ
イルと、該走査方向と直交する方向に前記ストロークと
比べて小さいストロークで駆動力を発生させるための単
一の第２コイルとを備えた固定子を有することを特徴と
するリニアモータ。 - 【請求項２】 前記可動子は、走査方向に沿って並べた
第１の永久磁石と、該走査方向と直交する方向に沿って
並べた第２の永久磁石とを有することで前記電磁手段を
構成したことを特徴とする請求項１記載のリニアモー
タ。 - 【請求項３】 請求項１又は２記載のリニアモータによ
って可動ステージを移動させることを特徴とするステー
ジ装置。 - 【請求項４】 レチクルのパターンの一部をウエハに投
影し、レチクル及びウエハを共に走査することによって
レチクルのパターンをウエハに露光転写する走査型露光
装置であって、レチクルを走査移動させるための請求項
３に記載の構成を備えるステージ装置を有することを特
徴とする走査型露光装置。 - 【請求項５】 請求項４記載の走査型露光装置を用いて
デバイスを製造することを特徴とするデバイス製造方
法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17026997A JP3155936B2 (ja) | 1997-06-26 | 1997-06-26 | リニアモータとステージ装置及びこれを用いた走査型露光装置やデバイス製造方法 |
| US09/102,814 US6252314B1 (en) | 1997-06-26 | 1998-06-23 | Linear motor and stage system, and scanning exposure apparatus using the same |
| KR10-1998-0024306A KR100369730B1 (ko) | 1997-06-26 | 1998-06-26 | 리니어모터와스테이지장치및이것을이용한주사형노광장치및디바이스제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17026997A JP3155936B2 (ja) | 1997-06-26 | 1997-06-26 | リニアモータとステージ装置及びこれを用いた走査型露光装置やデバイス製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1118406A JPH1118406A (ja) | 1999-01-22 |
| JP3155936B2 true JP3155936B2 (ja) | 2001-04-16 |
Family
ID=15901814
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17026997A Expired - Fee Related JP3155936B2 (ja) | 1997-06-26 | 1997-06-26 | リニアモータとステージ装置及びこれを用いた走査型露光装置やデバイス製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6252314B1 (ja) |
| JP (1) | JP3155936B2 (ja) |
| KR (1) | KR100369730B1 (ja) |
Families Citing this family (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU6365499A (en) * | 1998-10-28 | 2000-05-15 | Nikon Corporation | Stage device, exposure system, method of device manufacture, and device |
| JP4304709B2 (ja) * | 1999-01-13 | 2009-07-29 | 株式会社安川電機 | 可動巻線型リニアモータ |
| US6590355B1 (en) * | 1999-06-07 | 2003-07-08 | Nikon Corporation | Linear motor device, stage device, and exposure apparatus |
| JP2001037200A (ja) * | 1999-07-19 | 2001-02-09 | Canon Inc | リニアモータ、ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
| TWI248718B (en) * | 1999-09-02 | 2006-02-01 | Koninkl Philips Electronics Nv | Displacement device |
| JP2001297960A (ja) * | 2000-04-11 | 2001-10-26 | Nikon Corp | ステージ装置および露光装置 |
| US6405659B1 (en) | 2000-05-01 | 2002-06-18 | Nikon Corporation | Monolithic stage |
| JP2002176761A (ja) * | 2000-12-08 | 2002-06-21 | Canon Inc | リニアモータ及び該リニアモータを用いた露光装置 |
| US6496248B2 (en) * | 2000-12-15 | 2002-12-17 | Nikon Corporation | Stage device and exposure apparatus and method |
| TWI338323B (en) | 2003-02-17 | 2011-03-01 | Nikon Corp | Stage device, exposure device and manufacguring method of devices |
| JP4484621B2 (ja) * | 2003-08-04 | 2010-06-16 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | リソグラフィ装置 |
| DE102004010849A1 (de) * | 2004-03-05 | 2005-09-22 | BSH Bosch und Siemens Hausgeräte GmbH | Lineare Antriebseinheit mit Schwingungsankerteil und Feder |
| US20060049697A1 (en) * | 2004-09-08 | 2006-03-09 | Nikon Corporation | Split coil linear motor for z force |
| US7456935B2 (en) * | 2005-04-05 | 2008-11-25 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a positioning device for positioning an object table |
| EP1927180B1 (en) * | 2005-08-29 | 2015-11-04 | Koninklijke Philips N.V. | Ironless magnetic linear motors having levitating and transversal force capacities |
| JP2007312516A (ja) | 2006-05-18 | 2007-11-29 | Canon Inc | 駆動装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
| JP5088536B2 (ja) * | 2007-03-29 | 2012-12-05 | 日立金属株式会社 | 可動コイル型リニアモータの組立方法 |
| US8432072B2 (en) * | 2008-04-17 | 2013-04-30 | Nikon Corporation | Three axis linear actuator |
| JP5240563B2 (ja) * | 2008-09-19 | 2013-07-17 | 株式会社安川電機 | Ｘｙ軸コアレスリニアモータ及びそれを用いたステージ装置 |
| US8084896B2 (en) * | 2008-12-31 | 2011-12-27 | Electro Scientific Industries, Inc. | Monolithic stage positioning system and method |
| JP5488831B2 (ja) | 2010-10-07 | 2014-05-14 | 株式会社安川電機 | リニアモータ及びステージ装置 |
| WO2016126494A1 (en) * | 2015-02-08 | 2016-08-11 | Hyperloop Technologies, Inc. | Continuous winding for electric motors |
| CN114294322B (zh) * | 2021-12-30 | 2022-10-04 | 哈尔滨工业大学 | 一种基于被动补偿结构的准零刚度柔性导向机构 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3376578A (en) * | 1966-05-31 | 1968-04-02 | Bruce A. Sawyer | Magnetic positioning device |
| NL8902471A (nl) * | 1989-10-05 | 1991-05-01 | Philips Nv | Tweetraps positioneerinrichting. |
| JPH07131966A (ja) * | 1993-11-05 | 1995-05-19 | Sharp Corp | ２次元リニアモータ |
| JP3695542B2 (ja) * | 1994-02-23 | 2005-09-14 | 日本トムソン株式会社 | リニア電磁アクチュエータを具備したｘｙ駆動装置 |
| US5850280A (en) * | 1994-06-16 | 1998-12-15 | Nikon Corporation | Stage unit, drive table, and scanning exposure and apparatus using same |
| JP2908249B2 (ja) * | 1994-08-10 | 1999-06-21 | 住友重機械工業株式会社 | 平面モータ装置 |
| TW318255B (ja) | 1995-05-30 | 1997-10-21 | Philips Electronics Nv | |
| DE69608204T2 (de) | 1995-05-30 | 2001-01-04 | Asm Lithography Bv | Lithographisches gerät mit einem sowie horizontal als auch vertikal justierbaren maskenhalter |
| DE69629087T2 (de) | 1995-05-30 | 2004-04-22 | Asml Netherlands B.V. | Positionierungsgerät mit einem referenzrahmen für ein messsystem |
| JP3815750B2 (ja) | 1995-10-09 | 2006-08-30 | キヤノン株式会社 | ステージ装置、ならびに前記ステージ装置を用いた露光装置およびデバイス製造方法 |
| US6084319A (en) * | 1996-10-16 | 2000-07-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Linear motor, and stage device and exposure apparatus provided with the same |
-
1997
- 1997-06-26 JP JP17026997A patent/JP3155936B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-06-23 US US09/102,814 patent/US6252314B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-06-26 KR KR10-1998-0024306A patent/KR100369730B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6252314B1 (en) | 2001-06-26 |
| KR100369730B1 (ko) | 2003-03-17 |
| JPH1118406A (ja) | 1999-01-22 |
| KR19990007368A (ko) | 1999-01-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3155936B2 (ja) | リニアモータとステージ装置及びこれを用いた走査型露光装置やデバイス製造方法 | |
| US7368838B2 (en) | High efficiency voice coil motor | |
| US7282874B2 (en) | Alignment apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
| US7280185B2 (en) | Stage system including fine-motion cable unit, exposure apparatus, and method of manufacturing device | |
| US6396566B2 (en) | Stage system for exposure apparatus and device manufacturing method in which a stage supporting member and a countermass supporting member provide vibration isolation | |
| JPH09219353A (ja) | ステージ装置、及びこれを用いた露光装置やデバイス生産方法 | |
| JPH11191585A (ja) | ステージ装置、およびこれを用いた露光装置、ならびにデバイス製造方法 | |
| US6603531B1 (en) | Stage assembly including a reaction assembly that is connected by actuators | |
| US7586218B2 (en) | Moving apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
| JP3869938B2 (ja) | ステージ装置、露光装置、およびデバイス製造方法 | |
| US20030173833A1 (en) | Wafer stage with magnetic bearings | |
| US20060061218A1 (en) | Dual force wafer table | |
| US20070268475A1 (en) | System and method for controlling a stage assembly | |
| US20030218732A1 (en) | Stage assembly including a reaction assembly | |
| US7468783B2 (en) | Exposure apparatus, control method for the same, and device manufacturing method | |
| US7221433B2 (en) | Stage assembly including a reaction assembly having a connector assembly | |
| JPH07318699A (ja) | ステージ装置及びこれを有する露光装置とデバイス製造方法 | |
| JP2001148336A (ja) | テーブル駆動装置、露光装置およびデバイス製造方法 | |
| US20060232140A1 (en) | System and method for controlling a stage assembly | |
| JP2006156554A (ja) | ステージ装置およびそれを用いた露光装置、デバイス製造方法 | |
| WO2001081171A1 (en) | Wafer stage with magnetic bearings | |
| JP2000223411A (ja) | 位置決め装置および露光装置ならびにデバイス製造方法 | |
| JPH09306815A (ja) | 露光装置とこれを利用したデバイス生産方法 | |
| JPH07321019A (ja) | ステージ装置、並びにこれを有する走査型露光装置やデバイス製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20010116 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080202 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090202 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100202 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100202 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110202 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120202 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130202 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140202 Year of fee payment: 13 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |