JP3031625B2 - 熱線吸収反射鏡 - Google Patents
熱線吸収反射鏡Info
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- JP3031625B2 JP3031625B2 JP1243764A JP24376489A JP3031625B2 JP 3031625 B2 JP3031625 B2 JP 3031625B2 JP 1243764 A JP1243764 A JP 1243764A JP 24376489 A JP24376489 A JP 24376489A JP 3031625 B2 JP3031625 B2 JP 3031625B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、照明器具に用いられる反射鏡に関するもの
である。さらに詳しくは、本発明は、可視光を反射する
一方で、赤外線の反射を抑制した反射鏡に関するもので
ある。
である。さらに詳しくは、本発明は、可視光を反射する
一方で、赤外線の反射を抑制した反射鏡に関するもので
ある。
［発明の技術的背景および従来技術］ ハロゲンランプ等を光源とした照明器具には、光源か
らの光を充分に照明光として利用するために、光源の背
面に反射鏡が設けられていることが多い。この反射鏡
は、可視光は反射する一方、照明によって照らされる物
が高温にならないように赤外線は反射しないような工夫
がされているのが普通である。このような工夫が施され
た反射鏡は、熱線吸収反射鏡あるいは冷光反射鏡（コー
ルドミラー）などと呼ばれている。
らの光を充分に照明光として利用するために、光源の背
面に反射鏡が設けられていることが多い。この反射鏡
は、可視光は反射する一方、照明によって照らされる物
が高温にならないように赤外線は反射しないような工夫
がされているのが普通である。このような工夫が施され
た反射鏡は、熱線吸収反射鏡あるいは冷光反射鏡（コー
ルドミラー）などと呼ばれている。
上記のような熱線吸収反射鏡は、従来より、ガラス基
体表面に可視光は反射するが赤外線は透過する多層反射
膜を設け、光源から発せられた光のうち可視光成分を反
射する一方で、赤外線は反射することなく、基体のガラ
スを通して背面から外部へと逃がすような工夫がされて
いた。ところが、このような反射鏡は基体としてガラス
を用いているために、製作する上で形状に制限があるだ
けでなく、重量も重く、さらに衝撃にも弱いという欠点
があった。
体表面に可視光は反射するが赤外線は透過する多層反射
膜を設け、光源から発せられた光のうち可視光成分を反
射する一方で、赤外線は反射することなく、基体のガラ
スを通して背面から外部へと逃がすような工夫がされて
いた。ところが、このような反射鏡は基体としてガラス
を用いているために、製作する上で形状に制限があるだ
けでなく、重量も重く、さらに衝撃にも弱いという欠点
があった。
これに対して最近、ステンレスなどの金属を基体とし
た熱線吸収反射鏡が開発されてきた。
た熱線吸収反射鏡が開発されてきた。
金属基体を有する熱線吸収反射鏡は、通常、可視光に
対しては反射率が高く、赤外線に対しては透過率の高い
誘電体膜層と、この誘電体膜層を透過してきた赤外線を
吸収し熱へと変換して金属基体に伝える働きをする吸収
層とを金属基体表面上に設けることによって上記のよう
な性能が得られるようにされている。たとえば、特開昭
64−90401号公報には、吸収層としてケイ素、チタンお
よびクロムからなる群より選ばれる元素の黒色酸化物の
薄膜を用い、誘電体膜層として高屈折率物質膜と低屈折
率膜との交互積層膜を用いた反射鏡が開示されている。
また、特開昭63−269101号公報には、金属基体の表面を
予め酸化処理して、熱放射特性の良い酸化物膜を基体自
体に形成して吸収層とした反射鏡が開示されている。さ
らには、基体金属表面を黒色化処理（たとえば、アルミ
ニウム基体の場合ならば、黒色アルマイト処理）して、
この黒色被膜を吸収層とすることも提案されている（実
公平１−16081号公報参照）。
対しては反射率が高く、赤外線に対しては透過率の高い
誘電体膜層と、この誘電体膜層を透過してきた赤外線を
吸収し熱へと変換して金属基体に伝える働きをする吸収
層とを金属基体表面上に設けることによって上記のよう
な性能が得られるようにされている。たとえば、特開昭
64−90401号公報には、吸収層としてケイ素、チタンお
よびクロムからなる群より選ばれる元素の黒色酸化物の
薄膜を用い、誘電体膜層として高屈折率物質膜と低屈折
率膜との交互積層膜を用いた反射鏡が開示されている。
また、特開昭63−269101号公報には、金属基体の表面を
予め酸化処理して、熱放射特性の良い酸化物膜を基体自
体に形成して吸収層とした反射鏡が開示されている。さ
らには、基体金属表面を黒色化処理（たとえば、アルミ
ニウム基体の場合ならば、黒色アルマイト処理）して、
この黒色被膜を吸収層とすることも提案されている（実
公平１−16081号公報参照）。
ところが、上記のような金属酸化物からなる吸収層は
いずれも、赤外線を熱へと変換し、その熱を基体金属へ
と伝える能力は優れているものの、耐久性という面では
問題がある。すなわち、前記酸化物吸収層の上に誘電体
多層膜を蒸着した場合、金属基体が熱膨張を起こすと該
吸収層と誘電体膜との間の付着力が弱い界面から剥離を
生じる。特に、ハロゲンランプ等の高輝度ランプの反射
鏡として使用する場合、点灯時と消灯時における温度差
が大きいために金属酸化物と誘電体との熱膨張の差も大
きく、点灯消灯の繰返しによってしばしば上記の剥離が
生じる。また、照明器具が湿度の高い環境で使用される
場合、この傾向はさらに顕著なものとなる。
いずれも、赤外線を熱へと変換し、その熱を基体金属へ
と伝える能力は優れているものの、耐久性という面では
問題がある。すなわち、前記酸化物吸収層の上に誘電体
多層膜を蒸着した場合、金属基体が熱膨張を起こすと該
吸収層と誘電体膜との間の付着力が弱い界面から剥離を
生じる。特に、ハロゲンランプ等の高輝度ランプの反射
鏡として使用する場合、点灯時と消灯時における温度差
が大きいために金属酸化物と誘電体との熱膨張の差も大
きく、点灯消灯の繰返しによってしばしば上記の剥離が
生じる。また、照明器具が湿度の高い環境で使用される
場合、この傾向はさらに顕著なものとなる。
一方、金属酸化物を用いずに、なんらかの方法で基体
金属表面を黒色化処理し、これを吸収層とする場合、黒
色化面には再研磨されない限り微細な凹凸が存在するの
で、この上に蒸着された誘電体膜は鏡面にならず白濁し
てしまうという問題がある。
金属表面を黒色化処理し、これを吸収層とする場合、黒
色化面には再研磨されない限り微細な凹凸が存在するの
で、この上に蒸着された誘電体膜は鏡面にならず白濁し
てしまうという問題がある。
［発明の要旨］ 本発明は、耐久性に優れ、しかも誘電体膜を白濁させ
ることのない熱線吸収反射鏡を提供することを目的とす
るものである。
ることのない熱線吸収反射鏡を提供することを目的とす
るものである。
本発明の目的は、金属基体と、この金属基体表面上に
設けられた金属クロム薄膜および、該金属クロム薄膜表
面上に直接設けられた高屈折率物質と低屈折率物質とが
交互に積層されてなる誘電体多層膜とからなり、誘電体
多層膜を、可視光の波長領域である400〜700nmの範囲内
で設定した、短波長側中心波長と長波長側中心波長との
それぞれに対して1/4となるような光学膜厚を持つ、上
側多層膜部分と下側多層膜部分とから構成し、かつ金属
クロム薄膜と下側多層膜部分との間の誘電体膜、下側多
層膜部分と上側多層膜部分との間の誘電体膜、そして上
側多層膜部分の頂部の誘電体膜のそれぞれがいずれも、
上記の短波長側中心波長および長波長側中心波長に対し
て1/4となる光学膜厚とならないような光学膜厚とし、8
00〜1400nmの波長範囲における反射率の最大値を15％以
下としたことを特徴とする熱線吸収反射鏡を提供するに
ある。
設けられた金属クロム薄膜および、該金属クロム薄膜表
面上に直接設けられた高屈折率物質と低屈折率物質とが
交互に積層されてなる誘電体多層膜とからなり、誘電体
多層膜を、可視光の波長領域である400〜700nmの範囲内
で設定した、短波長側中心波長と長波長側中心波長との
それぞれに対して1/4となるような光学膜厚を持つ、上
側多層膜部分と下側多層膜部分とから構成し、かつ金属
クロム薄膜と下側多層膜部分との間の誘電体膜、下側多
層膜部分と上側多層膜部分との間の誘電体膜、そして上
側多層膜部分の頂部の誘電体膜のそれぞれがいずれも、
上記の短波長側中心波長および長波長側中心波長に対し
て1/4となる光学膜厚とならないような光学膜厚とし、8
00〜1400nmの波長範囲における反射率の最大値を15％以
下としたことを特徴とする熱線吸収反射鏡を提供するに
ある。
本発明の反射鏡は、吸収層として、金属基体および誘
電体膜のいずれにも付着力の大きいクロム金属薄膜を用
いているので、吸収層が金属基体や誘電体膜から剥離す
ることが少ない。また、クロム金属薄膜の表面は滑らか
であるから、この上に直接形成される誘電体膜が白濁す
ることもない。
電体膜のいずれにも付着力の大きいクロム金属薄膜を用
いているので、吸収層が金属基体や誘電体膜から剥離す
ることが少ない。また、クロム金属薄膜の表面は滑らか
であるから、この上に直接形成される誘電体膜が白濁す
ることもない。
本発明の反射鏡においては、クロム金属膜の上に直接
形成する誘電体多層膜の各層の膜厚を、800nm〜1400nm
の波長範囲における反射率の最大値が15％以下になるよ
うに精密に調節することで、クロム金属膜による赤外線
の反射を抑制している。
形成する誘電体多層膜の各層の膜厚を、800nm〜1400nm
の波長範囲における反射率の最大値が15％以下になるよ
うに精密に調節することで、クロム金属膜による赤外線
の反射を抑制している。
本発明の熱線吸収反射鏡は、赤外線の反射率が低く、
耐久性に優れているのでハロゲンランプの反射鏡だけで
なく、さらに高出力の光源ランプの反射鏡としても利用
できる。
耐久性に優れているのでハロゲンランプの反射鏡だけで
なく、さらに高出力の光源ランプの反射鏡としても利用
できる。
本発明における好ましい態様を以下に示す。
（１）上記800nm〜1400nmの波長範囲における反射率の
最大値が10％以下であることを特徴とする熱線吸収反射
鏡。
最大値が10％以下であることを特徴とする熱線吸収反射
鏡。
（２）上記誘電体多層膜の層数が18層から36層の範囲で
あることを特徴とする熱線吸収反射鏡。
あることを特徴とする熱線吸収反射鏡。
［発明の詳しい記述］ まず、添付図面を参照しながら、本発明の構成につい
て説明する。
て説明する。
第１図に、本発明の熱線吸収反射鏡の一例の断面図を
模式的に示す。第１図において、１は基体金属であるア
ルミニウム、２は吸収層であるクロム金属薄膜、３は誘
電体多層膜５を構成する高屈折率透明誘電体である硫化
亜鉛（ZnS）膜、４は硫化亜鉛（ZnS）膜３とともに誘電
体多層膜５を構成する低屈折率透明誘電体であるフッ化
マグネシウム（MgF2）膜、５は誘電体多層膜である。
模式的に示す。第１図において、１は基体金属であるア
ルミニウム、２は吸収層であるクロム金属薄膜、３は誘
電体多層膜５を構成する高屈折率透明誘電体である硫化
亜鉛（ZnS）膜、４は硫化亜鉛（ZnS）膜３とともに誘電
体多層膜５を構成する低屈折率透明誘電体であるフッ化
マグネシウム（MgF2）膜、５は誘電体多層膜である。
第１図に示した反射鏡は、誘電体多層膜５が光源に面
するように使用される。光源から発せられた光のうち、
可視光は誘電体多層膜５によって反射され再び光源の方
向に向う一方、赤外線は誘電体多層膜５を透過し、クロ
ム金属薄膜の吸収層２に吸収され、熱へと変換される。
この熱は金属基体１へと伝えられて、外部へと放出され
る。
するように使用される。光源から発せられた光のうち、
可視光は誘電体多層膜５によって反射され再び光源の方
向に向う一方、赤外線は誘電体多層膜５を透過し、クロ
ム金属薄膜の吸収層２に吸収され、熱へと変換される。
この熱は金属基体１へと伝えられて、外部へと放出され
る。
次に本発明の反射鏡の各部分について述べる。
金属基体としては、アルミニウム、鉄、ステンレスな
ど従来の金属基板を用いたコールドミラーに用いること
のできるものであれば、いかなるものでも用いることが
できる。
ど従来の金属基板を用いたコールドミラーに用いること
のできるものであれば、いかなるものでも用いることが
できる。
吸収層であるクロム金属薄膜は、真空蒸着、スパッタ
リングなど一般に行なわれる方法によって成膜すること
ができる。たとえば、粒状の金属クロムを原料とし、タ
ングステンボートなどの抵抗加熱蒸発源や電子ビーム蒸
発源を用いて、150℃から220℃に加熱された金属基体上
に毎秒0.25nm程度の速さで形成することができる。ま
た、金属基体の形状が曲率の大きな曲面などの場合は、
１×10-3Torr程度のアルゴンガスを導入することによっ
て金属基体表面に均一なクロム膜を形成することができ
る。膜厚の制御は光学モニターまたは水晶振動子モニタ
ーまたはこれらを併用することで容易に行なえる。クロ
ム膜の膜厚は、幾何学的膜厚（実際の膜厚）で50nm〜50
0nmの範囲である。
リングなど一般に行なわれる方法によって成膜すること
ができる。たとえば、粒状の金属クロムを原料とし、タ
ングステンボートなどの抵抗加熱蒸発源や電子ビーム蒸
発源を用いて、150℃から220℃に加熱された金属基体上
に毎秒0.25nm程度の速さで形成することができる。ま
た、金属基体の形状が曲率の大きな曲面などの場合は、
１×10-3Torr程度のアルゴンガスを導入することによっ
て金属基体表面に均一なクロム膜を形成することができ
る。膜厚の制御は光学モニターまたは水晶振動子モニタ
ーまたはこれらを併用することで容易に行なえる。クロ
ム膜の膜厚は、幾何学的膜厚（実際の膜厚）で50nm〜50
0nmの範囲である。
誘電体多層膜は高屈折率の誘電体と低屈折率の誘電体
とが交互に積層された構造を有している。高屈折率の誘
電体としては、硫化亜鉛（ZnS）、二酸化チタン（Ti
O2）、酸化ジルコニウム（ZrO2）などが用いられ、また
低屈折率の誘電体としては、フッ化マグネシウム（Mg
F2）、二酸化ケイ素（SiO2）、Na3AlF6などを用いるこ
とができる。
とが交互に積層された構造を有している。高屈折率の誘
電体としては、硫化亜鉛（ZnS）、二酸化チタン（Ti
O2）、酸化ジルコニウム（ZrO2）などが用いられ、また
低屈折率の誘電体としては、フッ化マグネシウム（Mg
F2）、二酸化ケイ素（SiO2）、Na3AlF6などを用いるこ
とができる。
誘電体多層膜の層数は18層から36層の範囲であり、膜
厚は可視光の波長領域（400nm〜700nm）で反射率が100
％程度になり、赤外線の波長領域（800nm〜1400nm）で
反射率の最大値が15％以下となるように設計される。こ
の800nm〜1400nmの波長範囲における反射率の最大値は1
0％以下であることがさらに好ましい。実際の膜厚の算
出はコンピュターによるシュミレーションによって行な
われ、各膜厚は、シュミレーションの結果による逐次近
似によって決定される。
厚は可視光の波長領域（400nm〜700nm）で反射率が100
％程度になり、赤外線の波長領域（800nm〜1400nm）で
反射率の最大値が15％以下となるように設計される。こ
の800nm〜1400nmの波長範囲における反射率の最大値は1
0％以下であることがさらに好ましい。実際の膜厚の算
出はコンピュターによるシュミレーションによって行な
われ、各膜厚は、シュミレーションの結果による逐次近
似によって決定される。
誘電体多層膜の成膜は、クロム金属薄膜の場合と同
様、常法により行なう。すなわち、クロム金属薄膜の吸
収層の上に目的とする膜を順に、所定膜厚となるまで成
膜する。成膜は真空蒸着、スパッタリングなど一般に行
なわれる方法によって行ない、膜厚の制御も、クロム金
属薄膜の場合と同様、光学モニター、水晶振動子モニタ
ーなどを用いて行なうことができる。
様、常法により行なう。すなわち、クロム金属薄膜の吸
収層の上に目的とする膜を順に、所定膜厚となるまで成
膜する。成膜は真空蒸着、スパッタリングなど一般に行
なわれる方法によって行ない、膜厚の制御も、クロム金
属薄膜の場合と同様、光学モニター、水晶振動子モニタ
ーなどを用いて行なうことができる。
以下、第１図に示したような、高屈折率物質として硫
化亜鉛（ZnS）を、低屈折率物質としてフッ化マグネシ
ウム（MgF2）を用い、各層の膜厚を下記第１表に示した
ようにした本発明の反射鏡（誘電体多層膜の層数:22）
を例にとって誘電体多層膜についてさらに説明する。た
だし、第１表に示した各膜厚は、実際の膜厚（幾何学的
膜厚）に各物質の屈折率を乗じた光学的膜厚である。
化亜鉛（ZnS）を、低屈折率物質としてフッ化マグネシ
ウム（MgF2）を用い、各層の膜厚を下記第１表に示した
ようにした本発明の反射鏡（誘電体多層膜の層数:22）
を例にとって誘電体多層膜についてさらに説明する。た
だし、第１表に示した各膜厚は、実際の膜厚（幾何学的
膜厚）に各物質の屈折率を乗じた光学的膜厚である。
第２図には、この反射鏡の分光反射率特性を示す反射
スペクトルを示す。
スペクトルを示す。
誘電体多層膜は、一般に、可視光波長領域の長波長側
を反射するための部分（スタック：積層部分）と可視光
波長領域の短波長側を反射するためのスタックから成っ
ている。第１表に示した反射鏡の場合、No.2〜No.11の
スタックが長波長側を反射し、No.12〜No.23のスタック
が短波長側を反射するように設計されている。
を反射するための部分（スタック：積層部分）と可視光
波長領域の短波長側を反射するためのスタックから成っ
ている。第１表に示した反射鏡の場合、No.2〜No.11の
スタックが長波長側を反射し、No.12〜No.23のスタック
が短波長側を反射するように設計されている。
従来の金属酸化物を吸収層とした反射鏡では、これら
スタックを構成する各層は、光学的膜厚が反射しようと
する波長領域の中心波長の1/4となるように設計され
る。ところが、本発明の反射鏡は、吸収層としてクロム
金属薄膜を用いているので、従来のように中心波長の1/
4となるようにスタックの光学的膜厚を設計すると赤外
線の反射率を低く抑えることができない。このことを示
すために、第３図には吸収層としてクロム金属薄膜を用
い、誘電体多層膜の膜厚を従来のようにした反射鏡の分
光反射率特性を示す。第３図に示したように、上記のよ
うな反射鏡では800nm〜1400nmの波長範囲における反射
率の最大値は30％以上になる。
スタックを構成する各層は、光学的膜厚が反射しようと
する波長領域の中心波長の1/4となるように設計され
る。ところが、本発明の反射鏡は、吸収層としてクロム
金属薄膜を用いているので、従来のように中心波長の1/
4となるようにスタックの光学的膜厚を設計すると赤外
線の反射率を低く抑えることができない。このことを示
すために、第３図には吸収層としてクロム金属薄膜を用
い、誘電体多層膜の膜厚を従来のようにした反射鏡の分
光反射率特性を示す。第３図に示したように、上記のよ
うな反射鏡では800nm〜1400nmの波長範囲における反射
率の最大値は30％以上になる。
従って、本発明の反射鏡においては、誘電体多層膜の
膜厚はコンピュターによるシュミレーションによって精
密に決定される。第１表に示した反射鏡の場合、No.2、
No.12、No.21、No.22およびNo.23の各層の膜厚を精密に
調節することによって赤外線の反射を抑制している。
膜厚はコンピュターによるシュミレーションによって精
密に決定される。第１表に示した反射鏡の場合、No.2、
No.12、No.21、No.22およびNo.23の各層の膜厚を精密に
調節することによって赤外線の反射を抑制している。
次に本発明の実施例を記載する。ただし、これらの各
例は本発明を限定するものではない。なお、以下の実施
例は、すべて上記の真空蒸着法による常法によって作成
した。
例は本発明を限定するものではない。なお、以下の実施
例は、すべて上記の真空蒸着法による常法によって作成
した。
［実施例１］ 第１図に断面図を示したような、高屈折率物質として
硫化亜鉛（ZnS）を、低屈折率物質としてフッ化マグネ
シウム（MgF2）を用い、各層の膜厚を下記第１表に示し
たようにした本発明の反射鏡（誘電体多層膜の層数:2
2）を製作した。
硫化亜鉛（ZnS）を、低屈折率物質としてフッ化マグネ
シウム（MgF2）を用い、各層の膜厚を下記第１表に示し
たようにした本発明の反射鏡（誘電体多層膜の層数:2
2）を製作した。
この熱線吸収反射鏡の分光反射特性を測定した結果を
第２図に示した。第２図に示したように、この反射鏡の
800nm〜1400nmの波長範囲における反射率の最大値は10
％以下であった。また、可視光の反射を妨げる白濁も生
じていなかった。
第２図に示した。第２図に示したように、この反射鏡の
800nm〜1400nmの波長範囲における反射率の最大値は10
％以下であった。また、可視光の反射を妨げる白濁も生
じていなかった。
さらに、この熱線吸収反射鏡について、330℃、2000
時間の連続加熱試験、熱湯による30分以上の煮沸試験、
粘着テープによる引き離し試験および25℃、湿度100
％、260時間の環境試験を行なったところ、これらいず
れの耐久試験においても反射鏡に剥離が生じることはな
かった。
時間の連続加熱試験、熱湯による30分以上の煮沸試験、
粘着テープによる引き離し試験および25℃、湿度100
％、260時間の環境試験を行なったところ、これらいず
れの耐久試験においても反射鏡に剥離が生じることはな
かった。
以上の各実施例より明らかなように、本発明の熱線吸
収反射鏡は耐久性に優れ、赤外線の吸収にも優れたもの
である。
収反射鏡は耐久性に優れ、赤外線の吸収にも優れたもの
である。
【図面の簡単な説明】 第１図は本発明の熱線吸収反射鏡の一例の断面を模式的
に示した図である。 第２図は本発明の熱線吸収反射鏡の一例の分光反射特性
を示す反射スペクトルである。 第３図はクロム金属薄膜の吸収層と従来の誘電体多層膜
とを有する熱線吸収反射鏡の分光反射特性を示す反射ス
ペクトルである。 1:基体金属、2:クロム金属薄膜吸収層、 3:高屈折率透明誘電体膜 4:低屈折率透明誘電体膜 5:誘電体多層膜
に示した図である。 第２図は本発明の熱線吸収反射鏡の一例の分光反射特性
を示す反射スペクトルである。 第３図はクロム金属薄膜の吸収層と従来の誘電体多層膜
とを有する熱線吸収反射鏡の分光反射特性を示す反射ス
ペクトルである。 1:基体金属、2:クロム金属薄膜吸収層、 3:高屈折率透明誘電体膜 4:低屈折率透明誘電体膜 5:誘電体多層膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 原 和雄 神奈川県川崎市宮前区有馬１丁目10番３ 号 (56)参考文献 特開 平１−251503（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−288008（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−90401（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−269102（ＪＰ，Ａ) 実開 昭61−61501（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02B 5/08 F21V 7/22
Claims (2)
- 【請求項１】金属基体と、この金属基体表面上に設けら
れた金属クロム薄膜および、該金属クロム薄膜表面上に
直接設けられた高屈折率物質と低屈折率物質とが交互に
積層されてなる誘電体多層膜とからなり、誘電体多層膜
を、可視光の波長領域である400〜700nmの範囲内で設定
した、短波長側中心波長と長波長側中心波長とのそれぞ
れに対して1/4となるような光学膜厚を持つ、上側多層
膜部分と下側多層膜部分とから構成し、かつ金属クロム
薄膜と下側多層膜部分との間の誘電体膜、下側多層膜部
分と上側多層膜部分との間の誘電体膜、そして上側多層
膜部分の頂部の誘電体膜のそれぞれがいずれも、上記の
短波長側中心波長および長波長側中心波長に対して1/4
となる光学膜厚とならないような光学膜厚とし、800〜1
400nmの波長範囲における反射率の最大値を15％以下と
したことを特徴とする熱線吸収反射鏡。 - 【請求項２】高屈折率物質が硫化亜鉛で、かつ低屈折率
物質がフッ化マグネシウムである特許請求の範囲第１項
記載の熱線吸収反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1243764A JP3031625B2 (ja) | 1989-09-20 | 1989-09-20 | 熱線吸収反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1243764A JP3031625B2 (ja) | 1989-09-20 | 1989-09-20 | 熱線吸収反射鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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