JP2993128B2 - 感光性樹脂組成物の製造法 - Google Patents

感光性樹脂組成物の製造法

Info

Publication number
JP2993128B2
JP2993128B2 JP41781590A JP41781590A JP2993128B2 JP 2993128 B2 JP2993128 B2 JP 2993128B2 JP 41781590 A JP41781590 A JP 41781590A JP 41781590 A JP41781590 A JP 41781590A JP 2993128 B2 JP2993128 B2 JP 2993128B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
solution
group
polyimide precursor
resin composition
photosensitive resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP41781590A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH04224823A (ja
Inventor
弘一 国宗
▲ひろ▼利 前田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JNC Corp
Original Assignee
Chisso Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Chisso Corp filed Critical Chisso Corp
Priority to JP41781590A priority Critical patent/JP2993128B2/ja
Publication of JPH04224823A publication Critical patent/JPH04224823A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2993128B2 publication Critical patent/JP2993128B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は官能基を有するポリイミ
ド前駆体溶液の製造法および感光性樹脂組成物の製造法
に関する。
【0002】
【従来の技術】 耐熱感光材料として感光性ポリイミド
は半導体の絶縁膜やパッシベーション膜などに広く使用
されているが種々の問題点がある。例えば、特開昭54
−145794号公報には二重結合とアミノ基またはそ
の4級化塩を含む化合物が開示されている。しかし、こ
の化合物は不安定なポリアミド酸溶液に多量のアミノ基
又はその4級化塩を含む化合物を添加して造るため、溶
液の粘度の経時変化が大きくなる欠点がある。また、ポ
リアミド酸に不飽和エポキシ化合物又は二重結合を有す
るイソシアネート化合物を反応させる方法が開示されて
いる(特開昭55−45746号公報、特開昭60−1
00143号公報)。しかし、これらの方法は反応時に
ポリアミド酸の1部が分解するなどして、溶液の粘度が
変化する欠点がある。さらに特公昭55−41422号
公報ではポリアミド酸のエステル側鎖に二重結合などの
感光基を導入したポリマーの生成反応が開示されている
が、この反応の際に塩化物が副生し、この化合物の除去
が問題となる。また、特開昭61−254547号公報
では、ポリイソイミドを合成し、これに官能基を付ける
方法が開示されている。この方法では脱水剤としてジシ
クロヘキシルカルボジイミドなどのN,N′‐ジヒドロ
カルビル置換カルボジイミド、トリフルオロ酢酸無水物
などのハロゲン化低級脂肪酸無水物を使用することが開
示されている。しかし、このような脱水剤を使用した場
合は、沈殿物が副生すること、未反応の試薬の除去が必
要なことなどのため精製工程が必要となるのが欠点であ
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、上記の従来技術の欠点を改良することであ
る。すなわち、本発明の目的は、ポリアミド酸溶液から
精製工程を必要とせず、1ポット法で容易に保存安定性
の良好な感光性樹脂組成物を得る製造法、および該組成
物のベースとなる官能基を有するポリイミド前駆体溶液
の製造法を提供することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題について研究を重ねた結果、ポリアミド酸の有機溶媒
溶液にジヒドロキノリン誘導体と二重結合などの官能基
を有する化合物とを加えて反応させることによりポリイ
ミド前駆体溶液を得ることに成功し、さらに検討をすす
め本発明の官能基を有するポリイミド前駆体溶液の製造
法および感光性樹脂組成物の製造法を完成するに至っ
た。
【0005】本発明の官能基を有するポリイミド前駆体
溶液の製造法は、ポリアミド酸の有機溶媒溶液に、下記
式(I) で示されるジヒドロキノリン誘導体と下記式(II)
および式(III )で示される化合物のうち少くとも一種
とを添加して反応させることからなる。
【化4】 3 −NH−R4 … (II) R5 −OH … (III) (ただし、式(I) ,(II)および(III) において、R1
よびR2 は、それぞれ独立に炭素数1〜8の一価の有機
基、R3 は不飽和二重結合、ヒドロキシフェニル基、チ
オール基のうち一種以上を含む一価の有機基、R4 は不
飽和二重結合、ヒドロキシフェニル基、チオール基のう
ち一種以上を含む一価の有機基、それ以外の一価の有機
基または水素原子を示す。)
【0006】本発明の感光性樹脂組成物の製造法は、上
記製造法で得られた官能基を有するポリイミド前駆体溶
液に感光剤、増感剤、及び光重合開始剤のうち一種以上
を添加することからなる。
【0007】本発明の製造法で用いるポリアミド酸は、
【化5】
【0008】(ただし、R6 は四価の有機基であり、R
7 は二価の有機基であり、nは正の整数である。)で表
わされる有機溶媒可溶の化合物である。ポリアミド酸
は、通常テトカラルボン酸二無水物とジアミンとを有機
溶媒中で反応して得られる。この反応溶液をそのまま、
本発明の製造法におけるポリアミド酸有機溶媒溶液とし
て用いることができる。
【0009】本発明の製造法で用いるジヒドロキノリン
誘導体は、式(I) で示される。具体例としてN‐メトキ
シカルボニル‐2‐メトキシ‐1,2‐ジヒドロキノリ
ン、N‐メトキシカルボニル‐2‐エトキシ‐1,2‐
ジヒドロキノリン、N‐エトキシカルボニル‐2‐メト
キシ‐1,2‐ジヒドロキノリン、N‐エトキシカルボ
ニル‐2‐エトキシ‐1,2‐ジヒドロキノリン、N‐
プロポキシカルボニル‐2‐プロポキシ‐1,2‐ジヒ
ドロキノリン、N‐イソブトキシカルボニル‐2‐メト
キシ‐1,2‐ジヒドロキノリン、N‐イソブトキシカ
ルボニル‐2‐エトキシ‐1,2‐ジヒドロキノリン、
N‐イソブトキシカルボニル‐2‐イソブトキシ‐1,
2‐ジヒドロキノリン、N‐ペントキシカルボニル‐2
‐ペントキシ‐1,2‐ジヒドロキノリンなどをあげる
ことができるが、必ずしもこれらに限定されるものでは
ない。
【0010】本発明の製造法で用いる式(II)で示される
化合物のR3 の具体例をつぎに示すがこれらに限定され
るものでない。
【0011】不飽和二重結合を有する基としては、
【化6】 などをあげることができる。
【0012】チオール基を含有する有機基としては、
【化7】 をあげることができる。
【0013】ヒドトシキフェニル基を含有する有機基と
しては、
【化8】 をあげることができる。
【0014】式(II)で示される化合物のR4 は、前記R
3 のいずれか又は水素原子あるいは他の一価の有機基で
ある。
【0015】本発明の製造に用いる式(III) で示される
化合物のR5 の具体例は、化6で示される不飽和二重結
合を有する一価の有機基、または化8で示されるヒドロ
キシフェニル基を含有する一価の有機基である。
【0016】本発明の製造法における溶媒、およびテト
ラカルボン酸二無水物とジアミンとの反応によるポリア
ミド酸を得るための好ましい溶媒(以下反応溶媒と言う
ことがある)として、N‐メチル‐2‐ピロリドン、
N,N‐ジメチルアセトアミド、N,N‐ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、
ピリジン、ヘキサメチルホスホルアミド、メチルホルム
アミド、N‐アセチル‐2‐ピロリドン、2‐メトキシ
エタノール、2‐エトキシエタノール、2‐ブトキシエ
タノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、
ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノブチルエーテル、シクロペンタノン、シ
クロヘキサノン、クレゾール、γ‐ブチロラクトン、イ
ソホロン、N,N,‐ジエチルアセトアミド、N,N‐
ジエチルホルムアミド、N,N‐ジメチルメトキシアセ
トアミド、テトラヒドロフラン、N‐アセチル‐2‐ピ
ロリドン、N‐メチル‐ε‐カプロラクタム、テトラヒ
ドロチオフェンジオキシド{スルフォラン(sulpholan
e)}をあげることができる。また、この反応は上記の
ような有機溶媒を、混合して得られる混合溶媒中でも行
うことができる。更に、上記の好ましい有機溶媒を、他
の非プロトン性(中性)有機溶媒、例えば、芳香族、脂
環式もしくは脂肪族炭化水素、またはそれらの塩素化誘
導体(例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン類、シク
ロヘキサン、ペンタン、ヘキサン、石油エーテル、塩化
メチレンなど)、またはジオキサン等で希釈したものを
用いることもできる。
【0017】本発明の官能基を有するポリイミド前駆体
溶液の製造法について説明する。
【0018】テトラカルボン酸二無水物とジアミンとを
有機溶媒中で反応を行なうことにより、前記式(IV)で示
されるポリアミド酸が得られる。この溶液に前記式(I)
で示されるジヒドロキノリン誘導体を添加することによ
り、後記式(V) で示されるポリイソイミドが得られる。
以下にその反応式を示す。
【化9】 (ここで、R1 ,R2 ,R6 およびR7 は前記と同じで
ある。)
【0019】副生した二酸化炭素は気体として系外に除
かれ、アルコールとキノリンは溶媒に溶解しており、改
めて除去する必要はない。反応温度は0〜100℃好ま
しくは10〜50℃である。ポリアミド酸に対して添加
するジヒドロキノリン誘導体の量は、アミド酸反復単位
一つに対して2分子のジヒドロキノリン誘導体を添加す
れば、理論上すべてのポリアミド酸をポリイソイミドに
転換することが可能である。しかし、ヒドロキノリン誘
導体を過剰に添加しても特に問題はなく、また少なくて
もよい、しかし少ない場合はイソイミド反復単位とアミ
ド酸反復単位が混在するポリマーが得られる。アミド酸
反復単位1つに対してヒドロキノリン誘導体0.2〜2
0分子、好ましくは1〜10分子、更に好ましくは1.
5〜4分子を添加するのが望ましい。また、反応条件に
よっては生成したイソイミドが一部イミドに変化し、イ
ミド、イソイミド、およびアミド酸反復単位を含むポリ
マーが生成する場合もある。
【0020】さらに、テトラカルボン酸二無水物とジア
ミンの反応にポリアミド酸を得る際に、フタル酸無水物
などの一官能性無水物またはアニリン、アミノプロピル
トリエトキシシランなどの一官能性アミンで末端を停止
したポリマーも同様にポリイソイミドに交換することも
可能である。
【0021】上述の反応で得られたポリイソイミドの溶
液に式(II)または式(III) で示される化合物の少なくと
も一種を添加し、反応させることによりつぎに示す式(V
I)もしくは式(VII) で示される反復単位を含む官能基を
有するポリイミド前駆体を得ることができる。
【化10】
【化11】 (ただし、R3 ,R4 ,R5 ,R6 およびR7 は前記の
とおり)
【0022】上記のようにまずポリイソイミドの溶液を
生成し、これに式(II)または式(III) で示される化合物
を反応させて本発明のポリイミド前駆体溶液を製造する
以外の方法として、式(II)または式(III) で示される化
合物をあらかじめジヒドロキノリン誘導体と混合した
後、その混合物をポリアミド酸に添加して反応を行なう
方法、あるいは式(II)もしくは(III) で示される化合物
をポリアミド酸に混合した後、その混合物にジヒドロキ
ノリン誘導体を添加して反応を行なう方法も可能であ
る。
【0023】また、式(II)及び式(III) で示される官能
基を有する化合物を同時に添加し、反応を行った場合、
一分子中に式(VI)及び(VII) で示される反復単位を同時
に有する重合体を得ることができる。
【0024】ただ、前述したポリアミド酸とジヒドロキ
ノリン誘導体により、ポリイソイミドを製造する化9で
示す工程でアルコールが副生する(R1 OH,R2
H)。このアルコールもイソイミドに付加する可能性が
ある。しかし(II)の化合物の場合はアルコールより早く
付加反応を起すため、副生アルコールの影響をあまり受
けない。式(III) の化合物の場合には副生アルコールと
競争反応になる。この様な場合式(III)の化合物を副生
アルコールに比較して多量に添加することにより、副生
アルコールの影響を減らすことができる。
【0025】本発明の製造法に係る官能基を有するポリ
イミド前駆体の対数粘度数は0.1〜5dl/gの範囲
が成膜性の点から好ましい。ここで対数粘度数とは次式
で表わされるηinh である。 ηinh =(ln η/η0 )/C (ここにηinh はウベローデ粘度計を使用し、溶媒中の
ポリマー濃度0.5g/dlの溶液を温度30±0.0
1℃で測定した粘度であり、η0 は同一粘度計を使用
し、同温度における同溶媒の粘度であり、Cは濃度0.
5g/dlである)。
【0026】ポリイミド前駆体中の式(VI)又は式(VII)
で示される官能基を有する反復単位は多いほど好ましい
が必ずしも100%である必要はない。しかし、実用的
には5%以上存在する方が好ましい。式(VI)又は式(VI
I) 以外の反復単位について特に限定する必要はない
が、本発明の製造法によれば未反応のイソイミド、アミ
ド酸、イミドもしくは副生アルコールが付加したアミド
エステル等の1種又はそれ以外が含まれる可能性があ
る。
【0027】本発明の製造法における式(II)もしくは(I
II) で示される化合物の総量はジヒドロキノリン誘導体
に対して当モル以上または以下でもよいが大体当モルな
いし5倍モル位が好ましい。反応時間は0〜100℃、
好ましくは10〜50℃くらいである。反応時間は0.
2〜100時間、好ましくは5〜50時間ぐらいであ
る。
【0028】本発明の製造法におけるポリアミド酸はテ
トラカルボン酸の無水物とジアミンとの反応で得られる
が、そのテトラカルボン酸二無水物として次の化合物を
あげることができるが必ずしもこれらに限定されるもの
ではない。
【0029】芳香族テトラカルボン酸二無水物として
は、ピロメリット酸二無水物、3,3′,4,4′‐ビ
フェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2′,3,
3′‐ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,
3′,4′‐ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、
3,3′,4,4′‐ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物、2,3,3′,4′‐ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸二無水物、2,2′,3,3′‐ベンゾフェ
ノンテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4‐ジカル
ボキシフェニル)‐エーテル二無水物、ビス(3,4‐
ジカルボキシフェニル)‐スルホン二無水物、1,2,
5,6‐ナフタリンテトラカルボン酸二無水物、2,
3,6,7‐ナフタリンテトラカルボン酸二無水物、
2,2‐ビス(3,4‐ジカルボキシフェニル)テトラ
フロロプロパン二無水物など、脂環式テトラカルボン酸
二無水物としては、シクロブタンテトラカルボン酸二無
水物、メチルシクロブタンテトラカルボン酸二無水物な
ど、脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、1,
2,3,4‐テトラカルボキシブタン二無水物などをあ
げることができる。
【0030】ジアミンとして次の化合物を挙げることが
できるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
芳香族ジアミンとしては、4,4′‐ジアミノジフェニ
ルエーテル、4,4′‐ジアミノジフェニルメタン、
4,4′‐ジアミノジフェニルスルホン、3,3′‐ジ
アミノジフェニルスルホン、4,4′‐ジアミノジフェ
ニルスルフイド、4,4′‐ジ(メタ‐アミノフェノキ
シ)ジフェニルスルホン、4,4′‐ジ(パラ‐アミノ
フェノキシ)ジフェニルスルホン、オルト‐フェニレン
ジアミン、メタ‐フェニレンジアミン、パラ‐フェニレ
ンジアミン、ベンジジン、3,3′‐ジアミノベンゾフ
ェノン、4,4′‐ジアミノベンゾフェノン、4,4′
‐ジアミノジフェニル‐2,2′‐プロパン、1,5‐
ジアミノナフタレン、1,8‐ジアミノナフタレン、
3,4′‐ジアミノジフェニルエーテル、4,4′‐ビ
ス(4‐アミノフェノキシ)ビフェニル、2,2‐ビス
{4‐(4‐アミノフェノキシ)フェニル}ヘキサフロ
ロプロパン、1,4‐ビス(4‐アミノフェノキシ)ベ
ンゼン、1,3‐ビス(4‐アミノフェノキシ)ベンゼ
ン、1,3‐ビス(3‐アミノフェノキシ)ベンゼン、
4,4′‐ジアミノ‐3,3′‐シエチル‐5,5′‐
ジメチルジフェニルメタン、4,4′‐ジアミノ‐3,
3′‐,5,5′‐テトラメチルジフェニルメタン、
1,4‐ジアミノトルエン、メタ‐キシリレンジアミ
ン、2,2′‐ジメチルベンジジンなど、脂肪族ジアミ
ンとしては、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジ
アミン、ヘキサメチレンジアミン、4,4‐ジメチルヘ
プタメチレンジアミン、2,11‐ドデカンジアミンな
ど、シリコン系ジアミンとしては、ビス(p‐アミノフ
ェノキシ)ジメチルシラン、1,4‐ビス(3‐アミノ
プロピルジメチルシリル)ベンゼンなど、脂環式ジアミ
ンとしては、1,4‐ジアミノシクロヘキサン、ビス
(4‐アミノシクロヘキシル)メタン、イソホロンジア
ミンなど、グアナミン類としてはアセトグアナミン、ベ
ンゾグアナミンなどをあげることができる。
【0031】また、ジアミノポリシロキサンとして次の
化合物を挙げることができる。
【0032】
【化12】
【0033】
【化13】
【0034】
【化14】
【0035】
【化15】
【0036】
【化16】
【0037】
【化17】
【0038】
【化18】
【0039】
【化19】
【0040】
【化20】 (ただし、上記のpは1〜100である。)
【0041】本発明の感光性樹脂組成物の製造法につい
てのべる。以上のようにして得られた官能基を有するポ
リイミド前駆体溶液に感光剤、増感剤、もしくは光重合
開始剤のうち1種以上を添加することにより、本発明の
感光性樹脂組成物が得られる。
【0042】感光剤としてはジアジド化合物が好まし
く、具体例としては、2,6‐ジ(p‐アジドベンザ
ル)‐4‐メチルシクロヘキサノン、2,6‐ジ(p‐
アジドベンザル)シクロヘキサノン、4,4′‐ジアジ
ドカルコン、4,4′‐ジアジドベンザルアセトン、
4,4′‐ジアジドスチルベン、4,4′‐ジアジドベ
ンゾフェノン、4,4′‐ジアジドフェニルメタン、
4,4′‐ジアジドフェニルアミンなどをあげることが
できる。しかし、かならずしもこれらに限定されるもの
でない。
【0043】感光剤の添加量は官能基を有するポリイミ
ド前駆体に対して0〜50重量%、好ましくは1〜20
重量%である。
【0044】増感剤または光重合開始剤の具体例として
は、ベンゾイン、ベンゾインエーテル、ベンゾフェノ
ン、p,p′‐ジメチルベンゾフェノン、4,4′‐ビ
ス‐(ジエチルアミノベンゾフェノン)、ミヒラーズケ
トン、2‐ニトロフルオレン、5‐ニトロアセナフテ
ン、4‐ニトロ‐1‐ナフチルアミン、アントロン、
1,9‐ベンゾアントロン、ジベンザルアセトン、アン
トラキノン、2‐メチルアントラキノン、1‐ニトロピ
レン、1,8‐ジニトロピレン、ピレン‐1,6‐キノ
ン、シアノアクリジン、ベンゾキノン、1,2‐ナフト
キノン、1,4‐ナフトキノン、1,2‐ベンズアント
ラキノンなどをあげることができる。しかし、かならず
しもこれらに限定されるものではない。
【0045】増感剤又は光重合開始剤の添加量はその各
々が官能基を有するポリイミド前駆体に対して0〜20
重量%、好ましくは0〜10重量%である。感光剤、増
感剤及び光重合開始剤の添加量の合計は0.1〜50重
量%である。
【0046】さらに必要により架橋助剤としてポリイミ
ド前駆体に対して20重量%以下の炭素−炭素二重結合
を有する化合物あるいは多価チオール類を添加すること
もできる。具体例としては、ブチルアクリラート、シク
ロヘキシルアクリラート、ジメチルアミノエチルメタク
リラート、ベンジルアクリラート、カルビトールアクリ
ラート、2‐エチルヘキシルアクリラート、2‐エチル
ヘキシルメタクリラート、ラウリルメタクリラート、2
‐ヒドロキシエチルアクリラート、2‐ヒドロキシエチ
ルメタクリラート、2‐ヒドロキシプロピルアクリラー
ト、2‐ヒドロキシプロピルメタクリラート、グリシジ
ルメタクリラート、N‐メチロールアクリルアミド、N
‐ジアセトンアクリルアミド、N,N′‐メチレンビス
アクリルアミド、N‐ビニルピロリドン、エチレングリ
コールジアクリラート、ジエチレングリコールジアクリ
ラート、トリエチレングリコールジアクリラート、ブチ
レングリコールジアクリラート、ブチレングリコールジ
メタクリラート、ネオペンチルグリコールジアクリラー
ト、ネオペンチルグリコールジメタクリラート、1,4
‐ブタンジオールジアクリラート、1,6‐ヘキサンジ
オールジアクリラート、1,6‐ヘキサンジオールジメ
タクリラート、ペンタエリスリトールジアクリラート、
ペンタエリスリトールトリアクリラート、トリメチロー
ルプロパントリアクリラート、トリメチロールプロパン
トリメタアクリラート、ペンタエリスリトールテトラ
(3‐メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリト
ールテトラ(メルカプトアセテート)などをあげること
ができる。
【0047】場合によりハイドロキノン、p‐メトキシ
フェノールなどの重合禁止剤または染料、顔料などの副
素材を添加することもできる。
【0048】以上説明したように本発明の製造法により
ポリアミド酸の合成、ポリイソイミドの合成につづいて
官能基の導入されたポリイソイミド前駆体を製造し、こ
れに必要な感光剤、増感剤もしくは光重合開始剤を添加
することにより本発明の感光性樹脂組成物を製造すると
いう工程のすべてを1ポット法により行なうことが可能
である。
【0049】次に、本発明の製造法により得られる重合
体溶液または感光性樹脂組成物を用いたパターン化され
たポリイミド膜の形成法について説明する。本発明の重
合体溶液または感光性樹脂組成物はスピンコート、浸漬
または噴霧印刷などの公知の方法によりシリコンウエハ
ー、金属板、プラスチック板、あるいはガラス板などの
基板上に塗布することが可能である。塗膜は電気炉ある
いはホットプレート等の加熱手段を用い30〜150℃
の温度で数分〜数十分のプリベークを行なうことにより
塗膜中の大部分の溶媒の除去を行なう。この塗膜にネガ
マスクを置き、化学線を照射する。化学線としてはX
線、電子線、紫外線、遠紫外線あるいは可視光線などが
例として挙げられるが、紫外線又は遠紫外線が特に好適
である。ついで未露光部を現像液で溶解除去することに
よりレリーフ・パターンをうる。現像液は反応溶媒中よ
り選択することができるがこれと本発明の感光性重合体
の非溶媒であるメタノール、エタノールあるいはプロパ
ノール等の低級アルコールとの混合液を使用することも
できる。
【0050】必要により上記非溶媒中でリンスし、さら
に150℃以下の温度で乾燥を行ないレリーフ・パター
ンの安定化を行なうことができる。またプリベーク後の
いずれかの時点で基板からフイルムをはがし、単独のフ
イルムとして使用することもできる。現像により形成さ
れたレリーフ・パターンのポリマーは前駆体の形である
ため、これを上記加熱手段により200〜500℃、好
ましくは300〜400℃の温度で数十分〜数時間加熱
することによりパターン化されたポリイミド膜が形成さ
れる。この場合の化学反応は下記に示すとおりである。
感光成分は熱分解により揮散してポリイミドが形成され
る。
【0051】
【化21】 (ただし、R4 ,R6 及びR7 は前述の通り。Qは架橋
した官能基を含む成分を示す)。このようにして本発明
の感光性樹脂組成物からパターン化された耐熱性のポリ
イミド膜を得ることができる。
【0052】本発明の感光性樹脂組成物は電子材料用
途、特に半導体のパッシベーション膜、プリント回路等
に適用可能である。
【0053】
【実施例】以下に実施例によって本発明を更に具体的に
説明するが、本発明はこれらの実施例によってなんら限
定されるものではない。
【0054】(実施例1)撹拌装置、滴下漏斗、温度
計、コンデンサーおよび窒素置換装置を付した1リット
ルのフラスコを冷水中に固定した。フラスコ内に窒素ガ
スにより置換した後、脱水精製したN‐メチル‐2‐ピ
ロリドン(以下NMPと略記する)の500g、4,
4′‐ジアミノジフェニルエーテルの21.92g
(0.109モル)および3,3′,4,4′‐ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸二無水物の35.28g
(0.109モル)を添加し、常法に従ってポリアミド
酸溶液を得た。この溶液にN‐エトキシカルボニル‐2
‐エトキシ‐1,2‐ジヒドロキノリン(以下EEDQ
と略称する)の43.13g(0.174モル)を添加
し、10〜20℃で3時間反応を行なうことにより、激
しく二酸化炭素ガスを発生した。この溶液にジアリルア
ミンの16.91g(0.174モル)を添加し、20
〜30℃で5時間反応を行ない官能基を有するポリイミ
ド前駆体(対数粘度数1.35dl/g)を含む溶液を
得た。さらに2,6‐ジ(p‐アジドベンザル)‐4‐
メチルシクロヘキサノン(以下ビスアジド−1)と略称
する)の1.60gおよびミヒラーズケトンの1.03
gを添加し、溶解させることにより本発明の感光性樹脂
組成物を得た。
【0055】(実施例2)実施例1と同様の装置および
方法により、500gのN,N‐ジメチルアセトアミド
(DMACと略記する)の500g、3,3′‐ジアミ
ノジフェニルスルホンの13.89g(0.0559モ
ル)および3,3′,4,4′‐ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸二無水物18.02g(0.0559モル)
を混合し、常法に従ってポリアミド酸溶液を得た。この
溶液にEEDQの27.65g(0.112モル)とp
‐アミノフェノールの12.21g(0.112モル)
を添加し、20〜30℃で10時間反応を行なうことに
より対数粘度数が0.51dl/gの官能基を有するポ
リイミド前駆体を含む溶液を得た。この溶液に2,6‐
ジ(p‐アジドベンザル)シクロヘキサノンの1.60
gおよびベンズアンスロンの0.85gを添加し、溶解
させることにより本発明の感光性樹脂組成物を得た。
【0056】(実施例3)実施例1と同様の装置および
方法により、ジメチルカルビトールの500g、3,
3′4,4′‐ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水
物の25.11g(0.0779モル)、3,3′‐ジ
アミノジフェニルスルホンの15.48g(0.062
3モル)およびω‐ω′‐ビス‐(3‐アミノプロピ
ル)ポリジメチルシロキサン(分子量960)の14.
96g(0.0159モル)を混合し、常法に従ってポ
リアミド酸溶液を得た。この溶液にEEDQの34.6
8g(0.140モル)を添加し、20〜30℃で20
時間反応を行なった後、ジアリルアミンの13.60g
(0.140モル)を添加し、さらに5時間反応を行な
い、対数粘度数が0.48dl/gである官能基を有す
るポリイミド前駆体を含む溶液を得た。この溶液にペン
タエリスリトールテトラ(3‐メルカプトプロピオネー
ト)(以下チオール−1と略称する)の2.78g、
3,3‐,4,4′‐テトラ(t‐ブチルパーオキシカ
ルボニル)ベンゾフェノン(以下BTTBと略称する)
の2.22g、およびp‐メトキシフェノールの0.1
1gを添加し、溶解させることにより本発明の感光性樹
脂組成物を得た。
【0057】(実施例4)実施例1と同様の装置および
方法により、ジメチルカルビトールの500g、ヘキサ
フロロイソプロピリデン‐2,2‐ビス(無水フタル
酸)の47.94g(0.108モル)および2,2‐
ビス〔4‐(4‐アミノフェノキシ)フェニル〕ヘキサ
フロロプロパンの40.30g(0.0982モル)を
混合し、常法に従ってポリアミド酸溶液を得た。この溶
液にジアリルアミンの20.01g(0.206モル)
をあらかじめ添加した後、EEDQの46.14g
(0.187モル)を添加し、20〜30℃で20時間
反応を行なうことにより、対数粘度数が0.41dl/
gである官能基を有するポリイミド前駆体を含む溶液を
得た。この溶液にチオール−1の4.41g、BTTB
の3.53gおよびp‐メトキシフェノールの0.18
gを添加し溶解させることにより、本発明の感光性樹脂
組成物を得た。
【0058】(実施例5)実施例1と同様の装置および
方法により、DMACの500g、4,4′‐ジアミノ
ジフェニルエーテルの52.76g(0.264モ
ル)、ピロメリット酸二無水物の53.88g(0.2
47モル)および無水フタル酸の4.89g(0.03
3モル)を混合し、常法に従ってポリアミド酸溶液を得
た。この溶液にEEDQの73.30g(0.296モ
ル)と2‐ヒドロキシエチルメタクリレートの115.
44g(0.888モル)との混合物を添加し、25〜
35℃で40時間反応を行なうことにより、対数粘度数
が0.75dl/gである官能基を有するポリイミド前
駆体を含む溶液を得た。この溶液にBTTBの4.46
g、ミヒラーズケトンの2.23g、p‐メトキシフェ
ノールの0.22gおよびトリメチロールプロパントリ
メタクリレートの3.34gを添加し、溶解させること
により本発明の感光性樹脂組成物を得た。
【0059】(実施例6)実施例1と同様の装置および
方法により、NMPの500g15.78g(0.14
6モル)のp‐フェニレンジアミンの15.78g
(0.146モル)、アニリンの1.94g(0.02
08モル)、および3,3′,4,4′‐ベンゾフェノ
ンテトラカルボン酸二無水物の50.35g(0.15
6モル)を混合し、常法に従ってポリアミド酸溶液を得
た。この溶液にN‐イソブトキシカルボニル‐2‐イソ
ブトキシ‐1,2‐ジヒドロキノリンの75.68g
(0.250モル)を添加し、10〜20℃で2時間反
応を行なった後、アミノエタンチオールの9.64g
(0.125モル)およびジアリルアミンの12.15
g(0.125モル)を添加し、さらに10時間反応を
続けた結果、対数粘度数が0.82dl/gである官能
基を有するポリイミド前駆体を含む溶液を得た。この溶
液にBTTBの2.38gおよび0.14gのp‐メト
キシフェノールの0.14gを添加し、溶解させること
により、本発明の感光性樹脂組成物を得た。
【0060】(実施例7)実施例1と同様の装置及び方
法により、NMPの500g、4,4′‐オキシジフタ
ル酸無水物の93.24g(0.301モル)、無水マ
レイン酸の6.55g(0.0668モル)、および
4,4′‐ジアミノジフェニルエーテルの66.86g
(0.334モル)を混合し、常法に従いポリアミド酸
溶液を得た。この溶液に165.5g(0.602モ
ル)のN‐イソブトキシカルボニル‐2‐エトキシ‐
1,2‐ジヒドロキノリンの165.5g(0.602
モル)、およびジアリルアミンの58.49gを添加
し、20〜30時間で2時間、さらに40〜50℃で3
時間反応を行なうことにより、対数粘度数が0.47d
l/gの官能基を有するポリイミド前駆体を含む溶液を
得た。この溶液にビスアジト−1の8.33gおよび2
‐ニトロフルオレンの5.00gを添加し、溶解させる
ことにより本発明の感光性樹脂組成物を得た。
【0061】(実施例8)実施例1〜7で調製した本発
明の感光性樹脂組成物をシリコンウエハー上にスピンコ
ートし、70℃、40分間プリベークを行なうことによ
り膜厚がほぼ3μである均一の膜を形成せしめた。この
際膜厚のスピンナーの回転速度およびワニスの溶媒によ
る希釈により調製した。つぎにマスクを通して、超高圧
水銀灯(20mW/cm2 )で15秒間照射して、露光し
た。これをNMPとエチルアルコールとの混合液(容積
比4:1)に浸漬することにより現像を行い、エチルア
ルコール中でリンスし、乾燥した。このようにして鮮明
なレリーフ・パターンを得た。これを200℃で30分
間、さらに350℃で1時間電気炉中で焼成を行い、パ
ターン化されたポリイミド膜を得た。未露光部の最終膜
厚を測定し、第1表に示した。さらにワニスの保存安定
性を調べるために、各ワニスを4℃の冷蔵庫中に保存
し、1ケ月後に同様の操作によりパターニングを行なっ
たところ、すべて鮮明なレリーフ・パターンを得た。さ
らに同様に焼成後の未露光部の最終膜厚を測定し第1表
に示した。これを見れば明らかなように本発明の感光性
樹脂組成物は実用上十分の感度および保存安定性を有し
ていることが明らかである。
【表1】
【0062】
【発明の効果】本発明の製造法は精製工程を必要とせず
に、1ポット法でポリアミド酸に官能基を導入する方法
を提供するとともに、得られる官能基を有するポリイミ
ド前駆体に感光剤などの添加剤を添加するだけで容易に
感光性樹脂組成物を得ることを可能にした。さらに本発
明の製造法で得られる感光性樹脂組成物は実用上十分な
感度と保存安定性を有してあり、その工業的な効果は大
きい。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C08G 73/10 C08L 79/08 CA(STN) REGISTRY(STN)

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ポリアミド酸の有機溶媒溶液に、下記式
    (I) で示されるジヒドロキノリン誘導体と下記式(II)お
    よび式(III) で示される化合物のうち少くとも一種とを
    添加して反応させることからなる官能基を有するポリイ
    ミド前駆体溶液の製造法。 【化1】 3 −NH−R4 … (II) R5 −OH … (III) (ただし、式(I) ,(II)および(III) において、R1
    よびR2 はそれぞれ独立に炭素数1〜8の一価の有機
    基、R3 は不飽和二重結合、ヒドロキシフェニル基、チ
    オール基のうちの一種以上を含む一価の有機基、R4
    不飽和二重結合、ヒドロキシフェニル基、チオール基の
    うち一種以上を含む一価の有機基、それ以外の一価の有
    機基または水素原子を示す。)
  2. 【請求項2】 ポリアミド酸の有機溶媒溶液がテトラカ
    ルボン酸二無水物とジアミンとを有機溶媒中で反応させ
    て得られた溶液である請求項1記載の重合体溶液の製造
    法。
  3. 【請求項3】 官能基を有するポリイミド前駆体溶液が
    式(VI)もしくは式 (VII) で示される反復単位を有する重合体の溶液また
    は、式(VI)および式 (VII) で示される反復単位を同時に含む重合体の溶液で
    ある請求項1又は請求項2記載のポリイミド前駆体溶液
    の製造法。 【化2】 【化3】 (ただし、R3 は不飽和二重結合、ヒドロキシフェニル
    基、チオール基のうちの一種以上を含む一価の有機基、
    4 は不飽和二重結合、ヒドロキシフェニル基、チオー
    ル基のうち一種以上を含む一価の有機基または水素原子
    を示す。またR6 は四価の有機基であり、R7 は二価の
    有機基である。)
  4. 【請求項4】 請求項1記載の製造法で得られる官能基
    を有するポリイミド前駆体溶液に感光剤、増感剤及び光
    重合開始剤のうち一種以上を添加してなる感光性樹脂組
    成物の製造法。
  5. 【請求項5】 請求項2記載の製造法で得られる官能基
    を有するポリイミド前駆体溶液に感光剤、増感剤及び光
    重合開始剤のうち一種以上を添加してなる感光性樹脂組
    成物の製造法。
  6. 【請求項6】 請求項3記載の製造法で得られる官能基
    を有するポリイミド前駆体溶液に感光剤、増感剤及び光
    重合開始剤のうち一種以上を添加してなる感光性樹脂組
    成物の製造法。
JP41781590A 1990-12-26 1990-12-26 感光性樹脂組成物の製造法 Expired - Lifetime JP2993128B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP41781590A JP2993128B2 (ja) 1990-12-26 1990-12-26 感光性樹脂組成物の製造法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP41781590A JP2993128B2 (ja) 1990-12-26 1990-12-26 感光性樹脂組成物の製造法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04224823A JPH04224823A (ja) 1992-08-14
JP2993128B2 true JP2993128B2 (ja) 1999-12-20

Family

ID=18525852

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP41781590A Expired - Lifetime JP2993128B2 (ja) 1990-12-26 1990-12-26 感光性樹脂組成物の製造法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2993128B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102008162B1 (ko) 2013-03-18 2019-08-07 아사히 가세이 가부시키가이샤 수지 전구체 및 그것을 함유하는 수지 조성물, 수지 필름 및 그 제조 방법, 그리고, 적층체 및 그 제조 방법
CN116909101B (zh) * 2023-07-14 2024-05-24 广东工业大学 一种基于点击反应的可碱性显影负性光敏聚酰亚胺光刻胶

Also Published As

Publication number Publication date
JPH04224823A (ja) 1992-08-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5342739A (en) Method of preparing a negative pattern utilizing photosensitive polymer composition containing quinonediazide compound and a poly(amido)imide precursor
JP3211108B2 (ja) 感光性樹脂組成物
US5025088A (en) Photosensitive poly(amide)imide heat-resistant polymer
JP3051821B2 (ja) 感光性樹脂組成物及びそれを用いるパターン化されたポリイミド皮膜の形成方法
EP0456469B1 (en) Photosensitive heat-resistant polymer having hydroxyphenyl group
US5616448A (en) Photosensitive resin composition and a process for forming a patterned polyimide film using the same
US5055549A (en) Process for preparing photosensitive heat-resistant polymer
JPS6234052B2 (ja)
JP3165024B2 (ja) 感光性樹脂組成物及びそれを用いるパターン化されたポリイミド皮膜の形成方法
JP2993128B2 (ja) 感光性樹脂組成物の製造法
JPH1192660A (ja) 感光性樹脂組成物
US5026788A (en) Photosensitive polymer having thiol group
JP2862627B2 (ja) 感光性樹脂組成物及びパターン形成方法
JP3040866B2 (ja) 感光性樹脂組成物
EP0341028A2 (en) Process for the preparation of photosensitive polymers
JPH05216224A (ja) 感光性樹脂組成物
KR930003717B1 (ko) 감광성 내열성 중합체의 제조방법
JP2862620B2 (ja) 感光性樹脂及びその製造方法
JP2643635B2 (ja) 感光性樹脂溶液組成物
JP2003015290A (ja) 感光性樹脂組成物およびポジ型パターン形成方法
JPH06282071A (ja) 感放射線性樹脂組成物
JPH07196917A (ja) 感光性樹脂組成物及びそれを用いるパターン化されたポリイミド皮膜の形成方法
JPH04240856A (ja) 感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法
JPH09208696A (ja) 高分子化合物の製造方法
JPS62145241A (ja) ポジ型感光性耐熱材料