JP2975683B2 - キラールフォスフォラン遷移金属触媒 - Google Patents

キラールフォスフォラン遷移金属触媒

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JP2975683B2
JP2975683B2 JP3508864A JP50886491A JP2975683B2 JP 2975683 B2 JP2975683 B2 JP 2975683B2 JP 3508864 A JP3508864 A JP 3508864A JP 50886491 A JP50886491 A JP 50886491A JP 2975683 B2 JP2975683 B2 JP 2975683B2
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    • C07F9/02Phosphorus compounds
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Description

【発明の詳細な説明】 発明の分野 本発明は新規なキラール(chiral)2,5−二置換フォ
スフォラン類及びそれらの製造方法に関する。該化合物
は遷移金属と錯体化された場合の、不飽和基質の鏡像対
称選択的(enantioselective)水素化のための効率的な
触媒前駆体である。
発明の背景 独特の反応性と高い鏡像対称選択性を示す新規触媒系
の開発には、遷移金属に対するキラールな配位子の合成
が必要である。一般的に、いくつかの最も成功したキラ
ール配位子はC2対称軸を有するフォスフィン類にキレー
ト結合していた。光学的に純粋な状態でこれらフォスフ
ィンを合成するには、しばしば唯一の対称体(antipod
e)に制限されるか、或いは分割工程を必要とする冗長
な合成ルートが含まれる。
一つの合成ルートはジオール中間体を経由するもので
ある。エス・マサムネら(S.Masamune et al.)、Journ
al of Organic Chemistry、第54巻、1755頁(1989)に
は、パン酵母(Baker's yeast)を用いて2,5−ヘキサン
ジオンを対応する(S,S)−ジオールに還元し、次いで
メタンスルホニルクロライドと反応させ、そしてベンジ
ルアミンを用いて閉環し、光学的に純粋な(2R,5R)−
2,5−ジメチルピロリジンを形成させる方法が教示され
ている。ウイルソンら(Wilson et al.)、Synlett、19
9−200頁、4月(1990)には2,5−ジメチルフォスフォ
ラン(化合物10)の製造において、ジケトンのパン酵母
還元を経由して形成されたジオール中間体の同様な使用
について開示されている。フォスフォランはジオールを
メタンスルホニルクロライド、次いでフェニルフォスフ
ィンと水酸化カリウムの存在下で反応させることにより
製造される。しかしながら酵素的還元は一般的に所望の
生成物の一方の鏡像対称体(enantiomer)のみを提供
し、且つ高い基質特異性、低い生成物収率の如き制限が
あるか、単離工程を含むことがある。
更に当該技術分野で公知のキラールなフォスフィン類
の多くは、リン上に少くとも2個のアリール置換基を有
し、その中心を比較的低電子状態にしている。これらの
フォスフィン類を用いる不斉誘導(asymmetric inducti
on)の機構は、リン中心上のフェニル基間の適当な構造
的相関関係に結びつけられていた。
より最近になり、比較的高電子状態(electron ric
h)のリン中心を有するキラールなフォスフィン類が報
告された。ブルンナーら(Brunner et al.)、Journal
of Organometallic Chemistry,vol.328、pp.71−80(19
87)は、塩素、メトキシ、又はジメチルアミノ置換基を
有する酒石酸から誘導された3,4−ジ置換フォスフォラ
ン類について教示している。これらはマンガン及びロジ
ウムと錯体化され、α−N−アセタミド桂皮酸の水素化
における触媒として用いられた。6.6%鏡像対称過剰(e
nantiomeric excess)〜16.8%鏡像対称過剰の、比較的
低い光学収率の(S)−N−アセチルフェニルアラニン
が得られた。
化学量論的並びに触媒的変換において、高水準の立体
化学的制御と不斉誘導を与える遷移金属錯体に対するニ
ーズが存在する。遷移金属触媒に対して高度の鏡像対称
純度を有するキラールな配位子を製造するための効率的
合成ルートに対するニーズも存在する。
それ故本発明の目的は、遷移金属のためのキラールは
配位子としての新規なフォスフォラン化合物を提供する
ことである。
更なる本発明の目的は、反応に高水準の立体化学的制
御を与える遷移金属触媒を提供することである。
更なる本発明の目的は、水素化反応において高水準の
不斉誘導をもたらす遷移金属触媒を提供することであ
る。
更なる本発明の目的は、これらのフォスフォラン化合
物を提供するための効率的合成ルートを提供することで
ある。
発明の要約 本発明は下記式I 式中、 Rは低級アルキル、トリフルオロメチル、フェニル、
置換フェニル、アラルキル、又は環置換アラルキルを表
わし;そして nは1〜12の整数である、 で示されるフォスフォラン化合物を包含してなる。
本発明は更に、式Iの化合物の遷移金属錯体を包含し
てなる。
本発明の第2の側面は、下記式II 式中、 R及びnは式Iについての上記定義のとおりであり、
そして AはCCH3、CH、N又はPである、 で示されるフォスフォラン化合物を更に包含してなる。
本発明は更に式IIの化合物の遷移金属錯体を包含して
なる。
本発明の第3の側面は、下記式III 式中、 Rは2〜6炭素原子のアルキル基、トリフルオロメチ
ル、フェニル、置換フェニル、アラルキル又は環置換ア
ラルキルである、 で示されるフォスフォラン化合物を包含してなる。
本発明の第4の側面は、上記式Iの化合物の製造方法
を包含してなり、それは式IIIのフェニル置換フォスフ
ォランをリチウム及びI)式X−(CH2−X(ここ
で、Xはハロゲンであり、nは1〜12の整数である)の
ジハロ化合物又は2)式R1O(CH2nOR1(ここで、nは
1〜12の整数であり、R1O又はRO1はメタンスルホネー
ト、トリフルオロメタンスルホネート又はp−トルエン
スルホネートである)の化合物と反応させることからな
るものである。
本発明の第5の側面は、式IIの化合物の製造方法を包
含してなり、それは上記定義の式IIIの化合物をリチウ
ム及び式A[(CH2nX](但し、Xはハロゲンであ
り、nは上記定義のとおりであり、AはCCH3、CH、N又
はPである)のトリハロ化合物と反応させることからな
るものである。
発明の詳細な説明 本発明は不斉触媒(asymmetric catolyst)における
遷移金属のための配位子として有用な、キラールなフォ
スフォランで置換されたアルカン類を提供するものであ
る。これらの化合物の過アルキル化特性(peralkylated
nature)はリン中心を高電子状態(electron rich)と
する。これらの配位子を含有する遷移金属錯体は、触媒
を用いての不飽和基質の水素化において高水準の鏡像対
称選択性制御と不斉誘導を示す。キラリティー(chiral
ity)の錯体金属中心への近接は達成される不斉誘導を
増大させることが見出された。
本発明はキラールなフォスフォラン類の効率的立体的
特異的製造方法を提供するものである。高度の鏡像対称
純度を有する光学活性1,4−ジオール類が入手可能にな
ると、高度の鏡像対称純度を有する光学活性フォスフォ
ラン化合物の製造が可能となる。
本発明は式I及びII 式I及びIIそれぞれにおいて: Rは低級アルキル、トリフルオロメチル、フェニル、
置換フェニル、 アラルキル又は環置換アラルキルであり;そして nは1〜12の整数であり; 式IIについてAはCCH3、CH、N又はPである、 の新規なフォスフォラン置換アルカン化合物を包含して
なる。
本発明は更にこれらの化合物の遷移金属錯体を包含し
てなる。好ましくはRがC1〜C6アルキルの低級アルキル
であり、nが1〜3の式I及びIIの化合物である。最も
好ましくはRがメチルであり、nが1〜3である式I及
びIIの化合物である。
かかる化合物の具体例には、これらに限定されるわけ
ではないが、1,2−ビス[(2R,5R)−2,5−ジメチルフ
ォスフォラノ]エタン;1,3−ビス[(2R,5R)−2,5−ジ
メチルフォスフォラノ]プロパン;トリス[((2S,5
S)−2,5−ジメチルフォスフォラノ)メチル]メタン;
トリス[2−[(2R,5R)−2,5−ジメチルフォスフォラ
ノ)エチル]アミン;又は1,1,1−トリス[2−[(2R,
5R)−2,5−ジメチルフォスフォラノ)エチル]エタン
が含まれる。
上記式I及びIIのフォスフォラン化合物は、周期率表
の3〜12属(Group)の遷移金属及びランタニド類並び
にアクチニド類のいずれとも錯体化することができる。
該フォスフォラン化合物の高電子状態の性質(electron
−rich nature)の故に、それらは一般的に4〜10属の
遷移金属と最も良く配位する。かかる錯体は当該技術分
野で公知の方法で形成される。本発明の好ましい遷移金
属錯体はロジウムと錯体化された上記好ましい化合物か
らなるものである。
本発明の式I及びIIのフォスフォラン化合物は、不斉
触媒における遷移金属配位子として有用である。遷移金
属触媒においてこれらの配位子を用いると、触媒を用い
た不飽和基質の水素化において高水準の鏡像対称選択性
と立体化学的制御がもたらされる。
高水準の鏡像対称選択性とは、約80%以上、好ましく
は約90%以上の鏡像対称過剰(enantiomeric excess:ee
と略す)の生成物が得られることを意味する。
鏡像対称過剰は、比(%R−%S)/(%R+%S)
(但し、%Rは光学活性化合物試料中のR鏡像対称体の
%、%Sは同じくS鏡像対称体の%である)として定義
される。
本出願の目的のためには、“高度の鏡像対称体純度を
有する化合物”又は“高い鏡像対称純度の化合物”と
は、約90%以上好ましくは約95%以上の鏡像対称過剰
(略してee)の程度の光学活性を示す化合物を意味す
る。
本発明の更なる側面は、下記式III 式中、 Rは2〜6の炭素原子のアルキル基、トリフルオロメ
チル、フェニル、置換フェニル、アラルキル又は環置換
アラルキルである、 のフォスフォラン化合物を包含してなる。
式IIIの好ましい化合物はRが2〜6の炭素原子を有
するアルキル基であるものである。
本発明の式IIIのフォスフォラン化合物は、式I及びI
Iの化合物の製造における中間体として有用である。
本発明の他の側面は、式I、II及びIIIの化合物の製
造方法を包含してなる。該フォスフォラン化合物は本発
明の方法によつて製造され、高い収率と高い基質立体選
択性を与える。該方法は以下の反応スキームIに集約さ
れる。
第1ステップは所望のキラリティー(chirality)を
導入するものであり、β−ケトエステルを対応するβ−
ヒドロキシエステルに不斉還元するために、野依ら(No
yori et al.),J.Amer.Chem.Soc.,第110巻、P629(198
8)(これは引用により本明細書に組み入れる)により
教示された如くRu(BINAP[Ru−(R)−(+)又は
(S)−(−)2,2′−ビス(ジフェニルフォスフィ
ノ)−1,1′−ビナフチル]触媒を用いる。KOHの如き強
塩基を用いた加水分解は遊離のカルボン酸を与え、それ
を電気化学的コルベーカップリングに賦しキラールなジ
オールを得る。コルベーカップリング反応においては、
式R1R2C(OH)CH2COOH(ここでR1及びR2は互いに独立に
水素、低級アルキル、フェニル、置換フェニル、アラル
キル又は環置換アラルキルであるか、或いはR1とR2は共
に結合して4−、5−又は6−員環を形成する)のβ−
ヒドロキシカルボン酸を触媒量の内応するアルカリ金属
アルコキシドと一緒に低級アルコール溶媒に溶解又は懸
濁させる。そして電流を該溶液又は懸濁液中に通し、キ
ラールなジオール生成物を当該技術分野で公知の方法で
単離する。該キラールジオールをトリエチルアミンの如
き第3級アミンの存在下、アルキルスルホニルクロライ
ド好ましくはメタンスルホニルクロライドと反応させ、
該ジオールのビス(アルキルスルホネート)誘導体を形
成させる。そしてジリチウムフェニルフォスファイド
(dilithiumphenylphosphide)を添加し、式IIIのキラ
ールな2,5−ジ置換−1−フェニルフォスフォランを得
る。
式IIIの化合物を用いる式I及びIIのフォスフォラン
化合物の製造は、更に2ステップを必要とする。式III
のフェニルフォスフォランを清浄な金属表面をもつリチ
ウムで処置すると、フェニル基の選択的開裂をもたら
し、2,5−ジ置換リン化リチウムとフェニルリチウムと
の混合物を生成する。この反応はテトラヒドロフラン又
は当価の溶媒中で実施される。それは約0℃〜約40℃、
好ましくは約20℃〜約25℃の範囲の温度で実施される。
この反応は約1気圧の圧力、不活性雰囲気下、酸素及び
水の不存在下で実施される。好ましくは不活性雰囲気は
アルゴンである。それはリチウム金属との不均一系反応
であるので撹拌が必要である。全体の反応時間は約5〜
約30時間の範囲であることができ、典型的には約10〜約
20時間である。
得られる混合物はその後直接式R1O(CH2nOR1(但
し、OR1又はR1Oはメタンスルホネート、トリフルオロメ
タンスルホネート、又はp−トルエンスルホネートを表
わす)の化合物又は式X−(CH2−X(但し、Xは
ハロゲン、好ましくは塩素又は臭素である)のジハロア
ルカンと反応させ、式Iの所望のキラールなキレート化
(chelating)ビス(フォスフォラン類)を得る。該混
合物を式A[(CH2)nX](但し、Xはハロゲン、好
ましくは塩素又は臭素であり;AはCCH3、CH、N又はPで
あり;nは1〜12である)の化合物と反応させることによ
り、所望の式IIのトリス(フォスフォラン類)が生成す
る。これらの反応はテトラヒドロフラン溶媒中、約−78
〜約40℃、好ましくは約0℃〜約25℃の範囲の温度で実
施される。不活性雰囲気、好ましくは約1気圧のアルゴ
ン又は窒素が用いられる。反応混合物は撹拌する。これ
らの反応の全体の反応時間は、約0.5〜約2時間、典型
的には約0.5〜約1時間である。所望の生成物は蒸留、
晶析、溶媒蒸発、濾過、クロマトグラフィー等の如き当
該技術分野で公知の方法を用いて単離する。
以下の実施例は本発明を説明するものであり、いかな
る意味でもそれを限定するものではない。
一般的手順 全ての反応及び操作は窒素充満(nitrogen−filled)
真空雰囲気Dri−Labグローブボックス中又は標準のシュ
レンケ(不活性雰囲気)技術を用いて実行した。ベンゼ
ン、トルエン、ジエチルエーテル(Et2O)、テトラヒド
ロフラン(THF)、グライム(glyme)、ヘキサン、及び
ペンタンは窒素雰囲気下ベンゾフェノンナトリウム釜
(sodium benzo−phenone ketyl)から蒸留した。アセ
トニトリル(CH3CN)と塩化メチレン(CH2Cl2)はCaH2
から蒸留した。メタノール(MeOH)はMg(OMe)から
蒸留した。
融点は窒素雰囲気下で封止したキャピラリー中で、Me
l−Temp装置位を用いて測定した。HPLC分析は、HP9000
シリーズ300コンピューターワークステーションに接続
したヒューレット・パッカード(Hewlett Packard)モ
デルHP1090LCを用いて行った。旋光度はパーキン・エル
マー(Parkin Elmer)モデルポーラリメーター(Polari
meter)を用いて測定した。NMRスペクトルはニコレット
(Nicolet)NT−360広孔(wide−bore)(360MHz 1H、1
45MHz 31P)、ニコレットNMC−300広孔(300MHz 1H、12
0.5MHz 31P、75.5Mz 31C)及びニコレットQM−300狭孔
(narrow−bore)(300MHz 1H)スペクトロメーターで
得た。13C及び31P NMRケミカルシフトは外部のMe4Si及
び85%H3PO4それぞれからダウンフィールド(downfiel
d)でポジティブ[アップフィールド(upfield)でネガ
ティブ]であった。IRスペクトルはニコレット5DXB FT
−IRスペクトロメーターで記録した。元素分析はOneida
Research Service Ice.,Whitesboro,NY,又はSchwarzko
pf Microanalytical Labo−ratory,Inc.,Woodside,NYで
行った。
以下のジオール合成実施例で用いた前駆体キラールβ
−ヒドロキシエステルは、ここに引例として組み入れる
野依ら(Noyori et al.),J.Amer,Chem.Soc.,109,5856
(1987)により記載された如く製造した。β−ケトエス
テルからβ−ヒドロキシエステルへの不斉還元は、キラ
ールなフォスフィン配位子BINAP、(R)−(+)又は
(S)−(−)−2,2′−ビス(ジフェニルフォスフィ
ン)−1,1′−ビナフチル(両鏡像対称体はStrem Chemi
cals,7 Mulliker Way,Dexter Industrial Park,P.O.Box
108,Newburyport,MA 01950から商業的に入手可能)を
担持するルテニウム触媒を用いて実施した。
[実施例1] a) キラールはβ−ヒドロキシ酸の製造 水(200ml)及びエタノール(200ml)中の(3R)−3
−ヒドロキシペンタン酸メチル(290g、2.2モル)の混
合物を0℃に冷却した。この冷却溶液に水(1)中の
KOH(185g、3.3モル)の溶液を添加した。そして25℃48
時間撹拌して反応させた。得られた溶液を約500mlまで
濃縮し、pH=1に到着するまで酸性化した(濃HCl)。
沈殿した塩を濾過し、濾液をジエチルエーテル(1)
を用いて24時間連続液/液抽出にかけた。ジエチルエー
テルをロータリーエバポレーター(rotovap)にて除去
し、生成物β−ヒドロキシ酸を無色油状物(250g、97
%)として得た。該粗組成物は次の工程(コルブ−カッ
プリング)に用いるに十分な純度であった。
b) (2R,5R)−2,5−ヘキサンジオールの製造 100mlの反応槽に(3R)−3−ヒドロキシ酪酸(1.0
g、9.6ミリモル)、メタノール(30ml)及びナトリウム
・メトキサイド(メタノール中0.5N溶液1.0ml、0.05ミ
リモル)を仕込み、そして0℃に冷却した。Pt箔陽極
(5cm2)、Pt網陰極(5cm2)、及び50V/40アンプ電圧供
給器を用いて、一定電流(電流密度0.25A/cm2)を1388
クローン(1.5F/モル)が流れるまで流した。反応とガ
ス発生(H2及びCO2)は正常に約1.0F/モル電流が流れる
まで進行し、その後抵抗が上昇するのが観測された。無
色の溶液をロータリーエバポレーターで濃縮した。SiO2
でのクロマトグラフィー(70%酢酸エチル/ヘキサン)
により生成物が無色の結晶性固体(0.36g、64%)とし
て得られた。
融点53−54℃;▲[α]25 D▼=−37.6゜(c1,CHC
l3);1H NMR(CD2Cl2)δ1.15(d,JHH=6.2Hz,6H C
H3)、1.50(m,4H,CH2)、2.95(br,2H,OH)、3.75(m,
2H,CH);13C NMR(CD2Cl2)δ23.6、35.9、68.1。
c) (2R,5R)−2,5−ヘキサンジオールビス(メタン
スルフォネート)の製造 CH2Cl2(200ml)中の(2R,5R)−2,5−ヘキサンジオ
ール(8.9g、0.075モル)溶液にトリエチルアミン(26.
2ml、0.188モル)を添加した。該溶液を0℃に冷却し、
CH2Cl2(30ml)中のメタンスルフォン酸クロライド(1
2.82ml、0.166モル)を30分かけて滴加した。完全に添
加した後、沈澱した塩を含む混合物を0℃で30分間、そ
して25℃で30分間撹拌した。そして該混合物を0℃で1N
HCl(250ml)に注入した。振盪した後、層を分離し、
水相をCH2Cl2(2×50ml)で抽出した合体した有機相
を、1N HCl(50ml)、飽和NaHCO3、及びブライン続けて
洗浄した。乾燥(MgSO4)後、溶液をロータリーエバポ
レーターで濃縮し、淡黄色油状物(18.2g、88%)とし
た。このようにして得られた粗生成物は次の反応に用い
るに十分な純度であった。
1H NMR(CD2Cl2)δ1.41(d,JHH=6.3Hz,6H,CH3)、
1.78(m,4H,CH2)、3.0(s,6H,CH3)、4.85(m,2H,C
H)。
d) (2R,5R)−2,5−ジメチル−1−フェニルフォス
フォランの製造 −78℃のTHF(300ml)中のLi2PPh−THF(20.3g、0.10
5モルのスラリーに、THF(50ml)中の(2S,5S)−2,5−
ヘキサンジオールビス(メタンスルフォネート)26.0
g、0.095モル)の溶液を滴加した。完全に添加した後、
橙色の混合物を−78℃で1時間撹拌した。そして反応系
をゆっくり25℃まで温め、そして16時間撹拌をつづけ
た。得られた淡黄色混合物を粗い陶器を通して濾過し、
半固体まで濃縮したペンタン(100ml)で抽出し、濾過
し、真空中で濃縮して淡黄色油状物を得た。蒸留するこ
とにより生成物が無色油状物(13.9g、76%)として得
られた。
沸点61−64℃(0.2トール);▲[α]25 D▼=−49.0
±2゜(c1、ヘキサン);1H NMR(C6D6)δ0.70(dd,J
HH=7.2Hz,JPH=10.6Hz,3H,CH3)、1.1−1.3(m,2H,C
H2)、1.20(dd,JHH=7.2Hz,JPH=18.8Hz,3H,CH3)、1.
65(m,1H,CH)、2.0(m,2H,CH2)、2.45(m,1H,CH);31
P NMR(C6D6)δ10.0;13C NMR(C6D6)δ15.43(C
H3)、21.23(d,Jpc=34.2Hz,CH3)、32.25(d,Jpc=1
0.0Hz,CH)、35.62(d,Jpc=13.1Hz,CH)、37.17(C
H2)、37.24(d,Jpc=3.6Hz,CH2)、128.11、128.30、1
34.51(d,Jpc=19.0Hz,オルソ)、137.67(d,Jpc=28.1
Hz,ipso ph);HRMS(E1,直接挿入):m/z192.1068(M+,C
12H17Pについて計算された正確な質量:192.1068)、17
7.0839(M−CH3)、150.0559(M−C3H6)、135.0367
(M−C4H9)、108.0127(C6H5P断片)。
e) (2S,5S)−2,5−ジメチル−1−フェニルフォス
フォラン▲[α]25 D▼=+51.6±2゜(C1、ヘキサ
ン)。他の分光特性は実施例1d)に同じであつた。
f) 1,2−ビス((2R,5R)−2,5−ジメチルフォスフ
ォラン)エタンの製造 Ar雰囲気下25℃の、THF(200ml)中の実施例1d)のフ
ォスフォラン(6.0g、0.031モル)に、清浄なLiリボン
(0.54g、0.078モル)を添加し、反応系を10時間撹拌し
た。得られた渇/緑色混合物に、THF(100ml)中のエチ
レングリコールジ−p−トシレート(6.90g、0.018モ
ル)を滴加した。1時間撹拌後、該混合物を濾過(粗い
陶器)し、濾液にMeOH(2ml)を添加したら淡黄色に変
化した。反応系を30分間撹拌し、そして濾過した。濾液
を真空下濃縮乾固し、得られた固体をペンタン(200m
l)で抽出し、濾過した。ペンタン濾液を黄色油状物ま
で濃縮し、それを蒸留して生成物を無色油状物(2.10
g、52%)として得た。
沸点64−67℃(0.06トール);▲[α]25 D▼=+222
±6゜(c1,ヘキサン);1H NMR(C6D6)δ0.98(dd,JHH
=7.2Hz,JPH=9.1Hz,3H,CH3)、1.0−1.35(m,5H,C
H2)、1.22(dd,JHH=7.2Hz,JPH=17.3Hz,3H,CH3)、1.
55(m,2H,CH,CH2)、1.70(m,5H,CH,CH2)、1.90(m,4
H,CH,CH2);31P NMR(C6D6)δ3.2;13C NMR(C6D6)δ1
4.6(CH3)、20.71(d,Jpc=6.0Hz,CH3)、21.48(dd,J
pc=15.5Hz,架橋CH2)、34.44(dd,Jpc=5.8,5.9Hz,rin
g CH)、37.02(ring CH2)、37.42(ring CH2)、38.3
2(dd,Jpc=5.5Hz,環CH);HRMS(E1,直接挿入):m/z25
8.1670(M+,C14H28P2として計算された正確な質量:258.
1667)、230.1344(M−C2H4)、175.0785(M−C
6H11)、144.1072(M−C6H11P)、116.0748(M−C8H
15P)。
g) フォスフィンの光学純度 実施例1d)、e)及びf)のフォスフィンは、それぞ
れ(R)−[ジメチル−(α−メチルベンジル)−アミ
ネート−C、N]パラジウム(II)クロライド二量体を
反応させ、31P NMRスペクトルで監視することにより、
光学的に純粋(検出限度内で)であることを確認した。
反対のフォスフィン鏡像対称体(enantiomer)のスペク
トルを用いて比較を行つた。
[実施例2] 1,3−ビス((2R,5R)−2,5−ジメチルフォスフォラ
ノ)プロパンの製造 Ar雰囲気下25℃の、THF(200ml)中の実施例1 d)の
フォスフォラン(6.0g、0.031モル)に、清浄なLiリボ
ン(0.54g、0.078モル)を添加し、反応系を10時間撹拌
した。得られた渇/緑色混合物に、THF(25ml)中の1,3
−ジクロロプロパン(2.11g、0.018モル)の溶液を滴加
した。添加終了近くに反応系の色が消え、そして30分間
撹拌した後MeOH(2ml)を添加した。この混合物を10分
間撹拌し、そして濾過し、濾液を真空下濃縮した。得ら
れた油状物をペンタン(125ml)で抽出し、濾過し、そ
してペンタン層を濃縮して黄色油状物とした。蒸留によ
り生成物が無色油状物(3.2g、75%)として得られた。
沸点98−101℃(0.08トール);▲[α]25 D▼=+27
9±6(c1,ヘキサン);1H NMR(C6D6)δ1.0(dd,JHH
7.1Hz,JPH=9.6Hz,3H,CH3)、1.05(m,2H,CH2)、1.20
(dd,JHH=7.1Hz,JPH=17.5,3H,CH3)、1.20(m,2H,C
H2)、1.40(m,2H,CH2)、1.55(m,4H,CH2)、1.70(m,
4H,CH,CH2)、1.90(m,4H,CH,CH2);31P NMR(C6D6)δ
−2.85;13C NMR(C6D6)δ14.6(CH3)、21.45(d,Jpc
=30.8Hz,CH3)、24.34(t,Jpc=18.9Hz,架橋中心C
H2)、25.70(dd,Jpc=11.3,22.3Hz,架橋CH2)、34.05
(d,Jpc=12.1Hz,環CH)、37.10(d,Jpc=3.6Hz,環C
H2)、37.51(環CH2)、38.30(d,Jpc=11.5Hz,環CH);
HRMS(E1,直接挿入):m/z272.1816(M+C15H30P2とし
ての正確な質量:272.1823)、229.1283(M−C3H7)、1
88.0831(M−C6H12)、157.1139(M−C6H12P)、130.
0900(M−C8H15P)、116.0742(C6H13P断片)。
光学純度 実施例2のフォスフォランは、それを(R)−[ジメ
チル−(α−メチルベンジル−アミネート−C、N)パ
ラジウム(II)クロライド2量体と反応させ、31P NMR
スペクトルで監視することにより、光学的に純粋(検出
限度内で)であることを確認した。比較は反対のフォス
フィン鏡像対称体のスペクトルを用いて行った。
[実施例3] a) ロジウム錯体[(COD)Rh(1,3−ビス((2R,5
R)−2,5−ジメチルフォスフォラノ)プロパン)]+PF6
- 25℃の、THF(20ml)中の[(COD)RhCl](0.44
g、0.89ミリモル、COD=1,5−シクロオクタジエン)とN
aPF6(0.40g、2.4ミリモル)の混合物に、THF(5ml)中
の1,3−ビス((2R,5R)−2,5−ジメチルフォスフォラ
ノ)プロパン(0.50g、1.8ミリモル)の溶液を滴加し
た。フォスフィン添加により、溶液は黄色から橙色にか
わった。反応系を30分間撹拌し、そして約5mlの容積ま
で濃縮した。該溶液にEt2O(30ml)をゆっくり添加する
ことにより橙色沈澱物が形成され、それを濾過し、Et2O
で洗浄し、簡単に乾燥した。固体をCH2Cl2(5ml)に溶
解し、濾過しそして橙色の濾液にEt2O(30ml)をゆっく
り添加し、生成物を橙色の微結晶固体(0.86g、75%)
として得た。
1H NMR(CD2Cl2)δ1.15(dd,JHH=6.9Hz,JPH=14.8H
z,6H,CH3)、1.50(dd,JHH=7.2Hz,JPH=18.7Hz,6H,C
H3)、1.3−1.6(m,6H,CH2)、1.80(m,2H,CH,CH2)、
2.10(m,4H,CH,CH2)、2.20−2.60(m,12H,CH2,CH)、
4.80(m(br),2H,COD−CH)、5.15(m(br),2H,COD
−CH);31P NMR(CD2Cl2)δ27.7(d,JRhP=139.6H
z)、−145(分離,PF6);C23H42F6P3Rhとして分析計算:
C,43.96;H,6.74,実測:C,44.19;H,6.43。
b) ロジウム錯体[(COD)Rh((2R,5R)−2,5−ジ
メチル−1−ジフェニルフォスフォラノ)+SbF6 - この錯体は実施例3a)と類似の方法で製造した。
1H NMR(CD2Cl2)δ0.70(dd,JHH=6.9Hz,JPH=13.8H
z,6H,CH3)、1.00(m,2H,CH2)、1.40(m,2H,CH2)、1.
62(dd,JHH=7.2Hz,JPH=18.6Hz,6H,CH3)、1.90(m,2
H,CH2,CH)、2.20(m,6H,CH2,CH)、2.40(m,8H,COD−C
H2)、4.90(br,2H,COD−CH)、5.34(br,2H,COD−C
H)、7.0(m,4H,Ph)、7.30(m,4H,Ph)、7.40(m,2H,P
h);31P NMR(CD2Cl2)δ43.8(d,JRhP=143.4Hz)。
C32H46P2F6SbRhについて分析計算:C,46.23;H,5.58;P,7.
45。
実測:C,46.26;H,5.47;P,7.43。
X線結晶学的分析 C32H46F6P2RhSbについての結晶データ:モノクリニツ
ク、P21(No.4)、a=12.184(a)Å、b=12.734
(2)Å、c=10.771(1)Å、β=96.83(1)゜、
T=−100℃、V=1659.3Å、MoKα放射、μcalcd=14.
58cm-1、dcalcd=1.664gcm-3、z=2、FW=831.33。
25℃のCH2Cl2溶液にEt2Oの蒸気をゆTTくり拡散させ
て、好適なロジウム錯体結晶を得た。寸法0.16×0.32×
0.38mmの橙色針状結晶を窒素充填薄壁ガラスキャピラリ
ーにはめ込み、−100℃でSyntexR3回折測定器でデータ
を集めた。単位セルの寸法は49の反射の最小二乗法(le
ast squares refinement of 49 reflections)で求め
た。結晶の安定性は180データ点全てについて3つの標
準反射の強度を測定してデータ収集の間監視した。該デ
ータはデータ取得の問題に亘り、強度における2%減少
について調製した。比較的大きな吸収係数μ(Mo)−1
4.58cm-1のために、ローレンチアン(Lorentzian)、分
極及び吸収(azimuthal)修正がなされた。
構造は直接法(SHELXS)を用いて解いた。全水素原子
は差分フーリエマップ(difference Fourier maps)か
ら決定し、理想化した(idealized)(C−H=0.95
Å)。異方性修正(anisotropic refinement)はFにつ
いての全マトリックス最小二乗(full−matrix least s
quares on F)により行った。
P、Rh及びSbについての中性原子散乱因子(neutral
atom scattering factor)及び不規則散乱項(anomalou
s scattering term)は、ここに引用により組み入れるt
he International Table for X−ray Crystallography,
Vol.IVから得た。378パラメーターの全てについて、水
素以外の原子は異方性的に、そして水素原子は等方性的
に修正(refine)した。修正(refinement)は1>3.0
σ(1)をもつ6845の独自反射(unique reflection)
についてR=0.035、Rw=0.041及びEOF=1.61に集中し
た。全ての非−H原子につき断片的配位(fractional c
oordinate)と等方性熱的パラメーターを表S−1に示
した。一方異方性熱的パラメーターは表S−2に示し
た。結合長と角度の完全なリストも提示した。
構造は、Rh(I)の通常の四角い平面幾何形がいくら
か歪んでいる不連続の分子からなっていた。該分子はC2
対称性を有しているが、1,5−シクロオクタジエン環は
P−Rh−P平面の外に17.1度で回転していた。この歪み
はフォスフィン配位子のメチル基との相互作用の結果で
あった。Rh−C間の距離もC2及びC6よりも近く、C1及び
C5とは同じでなかった。フェニル環とフッ素原子のかな
り大きな熱運動は自明であり、そして構造の特質を制限
していた。水素原子を修正する試みは十分でなく、これ
らの原子は理想化され、それらが関連する炭素原子より
1つ高い等方性熱的パラメーターに固定した。データの
完全半球(full hemisphere)は構造の修正(refinemen
t)において用いられ、左右像構造(enantiomorphic so
ructure)はR=0.039及びRw=0.048という高い値に修
正した。
c) ロジウム錯体[(COD)Rh−ビス((2R,5R)−2,
5−ジメチルフォスフォランエタン]+SbF6 - この錯体は実施例3a)と類似の方法で製造した。
1H NMR(CD2Cl2)δ1.20(dd,JHH=6.9Hz,JPH=14.4H
z,6H,CH3)、1.40(dd,JHH=7.1Hz,JPH=17.7Hz,6H,C
H3)、1.3−1.6(m,6H,CH2)、1.95(m,2H,CH,CH2)、
2.10−2.60(m,10H,CH2、CH)、4.95(br,2H,COD−C
H)、5.40(br,2H,COD−CH);31P NMR(CD2Cl2)δ76.7
(d,JRhP=146.3Hz)。C22H40F6P2SbRhについて計算:C,
37.47;H,5.72。実測値:C,37.64;H,5.37。
X線結晶学的分析 ロジウム錯体の適切な結晶を、25℃でCH2Cl2/ヘキサ
ン(2/1)溶液からゆっくり結晶化させることにより得
た。0.10×0.12×0.71mm寸法の橙色針状結晶を窒素充填
薄壁ガラスキャピラリーにはめ込み、−100℃でSyntexR
3回折測定器でデータを集めた。単位セルの寸法は49の
反射の最小二乗法で求めた。結晶の安定化は182データ
点全てについての3つの標準反射の強度を測定して、デ
ータ収集の間監視した。該データはデータ取得の間、強
度における4%減少について調整した。比較的大きな吸
収係数μ(Mo)=17.72cm-1のために、ローレンチア
ン、分極及び吸収(azimuthal)修正がなされた。
構造は直接法(SHELXS)を用いて解いた。全水素原子
は差分フーリエマップから決定し、理想化した(C−H
=0.95Å)。異方性修正はFについても全マトリックス
最小二乗により行った。
P、Ph及びSbについて中性原子散乱因子および不規則
散乱項はここに引用により組み入れるthe Internationa
l Table for X−ray Crystal lography,Vol.IVから得
た。289パラメーターの全てについて、非水素原子は異
方性的に、水素原子は等方性的に修正した。該修正はR
=0.038、Rw=0.036及びEOF=1.07に集中した。全ての
非−H原子につき断片的配位と等方性熱的パラメーター
を表S−1に示し、一方、異方性熱的パラメーターは表
S−2に示した。結合の長さと角度の完全なリストを提
示した。
実施例3a)のRh錯体のように、この構造は通常の四角
い平面幾何形が一層大きく歪んでいる不連続の分子から
なっていた。該錯体は24.3でP−Rh−P平面の外に回転
した1,5−シクロオクタジエン配位子を有するC2対称性
を本質的に有していた。
[実施例4] 水素化方法 ドライボックス中で、100mlのフィッシャー・ポータ
ー管に基質(1.26ミリモル)、乾燥脱ガスMeOH又はTHF
(20ml)及び実施例3a)、b)又はc)の触媒(0.2モ
ル%)を仕込んだ。2回の凍結−ポンプ−融解サイクル
の後、該管をH2[マテソン(Matheson)、99.998%]で
初期圧10psigに加圧した。反応系を25℃で3−12時間撹
拌した。水素消費を監視し、反応完結はGC及びNMR分析
で示した。反応系は前記のように後処理した。鏡像対称
過剰はHPLC(メチルアセトアミドフェニルアラニン、Ch
iralcel OB、5%IPA/ヘキサン)又は変移剤(shift re
agent)(メチルコハク酸ジメチル、(+)−Eu(hfc)
)分析で定めた。得られたデータは表Iに列挙した。
表 I 基質 鏡像対称過剰 アセトアミド桂皮酸メチル 85% イタコン酸ジメチル 91% [実施例5] トリス[((2S,5S)−2,5−ジメチルフォスフォラノ)
メチル]メタンの製造 Ar雰囲気下、25℃の、THF(200ml)中の(2S,5S)−
2,5−ジメチル−1−フェニルフォスフォラン(6.07g、
0.032モル)に、清浄なLiリボン(0.55g、0.079ミリモ
ル)を添加し、反応系を15時間撹拌した。得られた褐色
−橙色混合物に、25℃のTHF(15ml)中の1,3−ジクロロ
−2−(クロロメチルプロパン)(1.70g、10.5ミリモ
ル)の溶液を滴加した。添加の間中反応系は褐色であり
つづけた。そして30分撹拌後MeOH(3ml)を加えた。得
られた無色の混合物を15分間撹拌し、そしてセライトパ
ッド(celite pad)を通して濾過し濾液を真空中で濃縮
した。得られた固体をペンタン(125ml)で抽出し濾過
し、ペンタン層を約15mlに濃縮した。急速濾過により生
成物が無色の結晶質固体(1.0g)として得られた。そし
て濾液を淡黄色固体まで濃縮し、それを最少量のEt2O
(3ml)に溶解した。この溶液にMeOH(15ml)を添加
し、混合物を12時間−20℃迄冷却した。得られた白色結
晶を濾過し、冷MeOHで洗い、真空下乾燥した。(1.65
g)。合体収量2.65g(63%)。
▲[α]25 D▼=−329±6゜(c1,ヘキサン);1H NMR
(C6D6)δ1.0−1.2(m,3H,CH,CH2)、1.07(dd,JHH
7.2Hz,JPH=9.8Hz,9H,CH3)、1.29(dd,JHH=7.0Hz,JPH
=17.6Hz,9H,CH3)、1.40(m,3H,CH,CH2)、1,60(m,3
H,CH2)、1.80(m,3H,CH,CH2)、1.9−2.2(m,13H,CH,C
H2);31P NMR(C6D6)δ−8.O;13C NMR(C6D6)δ14.89
(CH3)、21.51(d,Jpc=30.7Hz,CH3)、31.85(dt,Jpc
=8.3,22.1Hz,架橋P−CH2)、32.67(q,Jpc=14.9Hz,
架橋CH)、34.12(d,Jpc=11.6Hz,環CH)、37.30(d,Jp
c=3.8Hz,環CH2)、37.47(環CH2)、38.49(d,Jpc=1
1.3Hz,環CH);HRMS(E1,直接挿入):m/z400.2583(M+
C22H43P3として計算した正確な質量:400.2578)、357.2
021(M−C3H7)、315.1557(M−C6H13)、285.1896
(M−C6H12P)、273.1104(M−C9H19)、232.0678
(M−C12H24)、201,0955(M−C12H24P)。
[実施例6] トリス(2−((2R,5R)−2,5−ジメチルフォスフォラ
ノ)エチル)アミンの製造 Ar雰囲気下25℃の、THF(100ml)中の(2R,5R)−2,5
−ジメチル−1−フェニルフォスフォラン(3.0g、15.6
ミリモル)に、清浄Liリボン(0.27g、39.0ミリモル)
を添加し、反応系を15時間撹拌した。得られた褐色/橙
色混合物に、25℃のTHF(15ml)中のトリス(2−クロ
ロエチル)アミン(1.06g、5.2ミリモル)の溶液を滴加
した。反応系は添加の間中褐色でありつづけ30分間撹拌
後、MeOH(3ml)を加えた。得られた無色混合物を15分
間撹拌し、そしてセライトパッドを通して濾過し、濾液
を真空乾燥した。得られた固体をペンタン(125ml)で
抽出し、濾過し、そしてペンタン層を約15ml迄濃縮し
た。急速濾過により、生成物が無色結晶質固体(0.6g)
として得られた。そして濾液を淡黄色固体迄濃縮し、そ
れを最少量のEt2O(3ml)に溶かした。この溶液にMeOH
(10ml)を添加し、混合物を12時間−20℃迄冷却した。
得られた白色結晶を濾過し、冷MeOHで洗浄し、そして真
空下乾燥した(1.13g)。合体収量1.73g(75%)。
▲[α]25 D▼=+167±2(c1,ヘキサン);1H NMR
(C6D6)δ1.0−1.2(m,3H,CH,CH2)、1.11(dd,JHH
7.2Hz,JPH=9.8Hz,9H,CH3)、1.32(dd,JHH=7.0Hz,JPH
=17.7Hz,9H,CH3)、1.30−1.45(m,3H,CH,CH2)、1.55
(m,3H,CH2)、1.70−2.15(m,15H,CH,CH2)、2.80(m,
6H,NCH2);31P NMR(C6D6)δ−3.4。
[実施例7] 1,1,1−トリス(2−((2R,5R)−2,5−ジメチルフォ
スフォラノ)エチル)エタンの製造 Ar雰囲気下25℃の、THF(100ml)中の(2R,5R)−2,5
−ジメチル−1−フェニルフォスフォラン(0.53g、2.7
6ミリモル)に、清浄Liリボン(0.048g、6.9ミリモル)
を添加し、そして反応系を15時間撹拌した。得られた褐
色/橙色混合物に、25℃でTHF(5ml)中の1,1,1−トリ
ス(2−クロロエチル)エタン(0.2g、0.92ミリモル)
の溶液を滴加した。反応系は滴加の間中褐色でありつづ
け、そして30分撹拌後、MeOH(1ml)を加えた。得られ
た無色混合物を15分間撹拌し、そしてセライトパッドを
通して濾過し、濾液を真空下濃縮した。得られた固体/
油状物をペンタン(50ml)で抽出し、濾過し、そしてペ
ンタン層を濃縮して生成物を無色粘稠油状物(0.257g、
61%)として得た。
1H NMR(C6D6)δ0.84(s,3H,CH3)、1.11(dd,JHH
6.9Hz,JPH=9.8Hz,9H,CH3)、1.20(dd,JHH=7.2Hz,JPH
=17.6Hz,9H,CH3)、1.00−1.50(m,18H,CH,CH2)、1.8
0(m,3H,CH2)、1.90−2.15(m,9H,CH,CH2);31P NMR
(C6D6)δ0.3;HRMS(E1,直接挿入):m/z456.3170(M+C
26H51P3として計算した正確な質量:456.3204)、371.22
06(M−C6H13)、341.2645(M−C6H12P)、257.1612
(M−C12H24P)。
なお、本発明の主たる特徴及び態様を示せば次のとお
りである。
1.下記式I 式中、 RはC1〜C6アルキル、トリフルオロメチル、フェニ
ル、置換フェニル、アラルキル又は環置換アラルキルで
あり; nは1〜12の整数である、 で示される化合物。
2.90%又はそれより以上の光学活性を示す上記第1項の
化合物。
3.RがC1〜C6アルキル基である上記第1項の化合物。
4.Rがメチルである上記第3項の化合物。
5.nが1〜3である上記第3項の化合物。
6.1,2−ビス−(2,5−ジメチル−フォスフォラノ)エタ
ンである上記第1項の化合物。
7.1,3−ビス(2,5−ジメチルフォスフォラノ)プロパン
である上記第1項の化合物。
8.1又はそれ以上の遷移金属、ランタニド類又はアクチ
ニド類及び1又はそれ以上の配位子としての上記第1項
の化合物を含有してなる錯体。
9.該遷移金属がロジウム(rhodium)である上記第8項
の錯体。
10.[(COD)Rh−ビス[(2R,5R)−2,5−ジメチルフォ
スフォラノ]エタン]+SbF6 -である上記第9項の遷移金
属錯体。
11.[(COD)Rh−1,3−ビス[(2R,5R)−2,5−ジメチ
ルフォスフォラノ]プロパン]+PF6 -である上記第9項
の遷移金属錯体。
12.下記式II 式中、 RはC1〜C6アルキル、トリフルオロメチル、フェニ
ル、置換フェニル、アラルキル又は環置換アラルキルで
あり; AはCCH3、CH、N又はPであり;そして nは1〜12の整数である、 で示される化合物。
13.90%又はそれ以上の光学活性を示す上記第12項の化
合物。
14.RがC1〜C6アルキル基である上記第13項の化合物。
15.Rがメチルである上記第14項の化合物。
16.nが1〜3である上記第14項の化合物。
17.トリス[(2S,5S)−2,5−ジメチルフォスフォラ
ノ)メチル]メタンである上記第13項の化合物。
18.トリス(2−[(2R,5R)−2,5−ジメチルフォスフ
ォラノ]エチル)アミンである上記第13項の化合物。
19.1,1,1−トリス(2−[(2R,5R)−2,5−ジメチルフ
ォスフォラノ]エチル)エタンである上記第13項の化合
物。
20.1又はそれ以上の遷移金属、ランタニド類又はアクチ
ニド類及び1又はそれ以上の配位子としての上記第13項
の化合物を含有してなる錯体。
21.遷移金属及び1又はそれ以上の配位子としての上記
第13項の化合物を含有してなる上記第20項の錯体。
22.下記式III 式中、Rは2〜6個の炭素原子を有するアルキル基、
トリフルオロメチル、フェニル、置換フェニル、アラル
キル又は環置換アラルキルである、 で示される化合物。
23.90%又はそれ以上の光学活性を示す上記第22項の化
合物。
24.[(COD)Rh((2R,5R)−2,5−ジメチル−1−フェ
ニルフォスフォラン)2]+SbF6 -である遷移金属錯体。
25.式III 式中、RはC1〜C6アルキル、トリフルオロメチル、フ
ェニル、置換フェニル、アラルキル又は環置換アラルキ
ルである、 で示されるフェニル置換フォスフォランを、リチウム及
び式 X−(CH2−X 又は R1O−(CH2−OR1 式中、Xはハロゲンであり、OR1又はR1Oはメタンスル
ホネート、トリフルオロメタンスルホネート又はp−ト
ルエンスルホネートであり、 nは1〜12の整数である、 で示される化合物と反応させて所望の式Iの化合物を生
成させることからなる式I 式中、R及びnは上記定義のとおりである、 で示される化合物の製造方法。
26.溶媒としてのテトラヒドロフラン中で実施される上
記第25項の方法。
27.約0℃〜約40℃の温度の実施される上記第25項の方
法。
28.不活性雰囲気中で実施される上記第25項の方法。
29.式III 式中、RはC1〜C6アルキル、トリフルオロメチル、フ
ェニル、置換フェニル、アラルキル又は環置換アラルキ
ルである、 で示されるフェニル置換フォスフォランを、リチウム及
び式 A[(CH2nX] 式中、Xはハロゲンであり、AはCCH3、CH、N又はP
であり、nは1〜12の値を有する整数である、 で示されるトリハロ化合物と反応させて式IIの所望の化
合物を生成せしめることからなる式II 式中、R、n及びAは上記定義のとおりである、 で示される化合物の製造方法。
30.溶媒としてのテトラヒドロフラン中で実施される上
記第29項の方法。
31.約−78℃〜約40℃の温度で実施される上記第29項の
方法。
32.不活性雰囲気中で実施される上記第29項の方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07F 9/6568 CA(STN) REGISTRY(STN)

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】下記式I 式中、 RはC1〜C6アルキル、トリフルオロメチル、フェニル、
    置換フェニル、アラルキル又は環置換アラルキルであ
    り; AはCCH3、CH、N又はPであり;そして nは1〜12の整数である、 で示される化合物。
  2. 【請求項2】下記式II 式中、 RはC1〜C6アルキル、トリフルオロメチル、フェニル、
    置換フェニル、アラルキル又は環置換アラルキルであ
    り; nは1〜12の整数である、 で示される化合物。
  3. 【請求項3】下記式III 式中、Rは2〜6個の炭素原子を有するアルキル基、ト
    リフルオロメチル、フェニル、置換フェニル、アラルキ
    ル又は環置換アラルキルである、 で示される化合物。
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