JP2017024992A

JP2017024992A - 化合物の製造方法

Info

Publication number: JP2017024992A
Application number: JP2015141582A
Authority: JP
Inventors: 柴崎　正勝; Masakatsu Shibazaki; 正勝柴崎; 直哉熊谷; Naoya Kumagai; 久嗣高田; Hisashi Takada
Original assignee: Institute of Microbial Chemistry
Current assignee: Institute of Microbial Chemistry
Priority date: 2015-07-15
Filing date: 2015-07-15
Publication date: 2017-02-02
Also published as: WO2017010558A1

Abstract

【課題】抗マラリア活性を有するＮＩＴＤ６０９の合成に非常に有用な光学活性化合物を製造する方法、並びにＮＩＴＤ６０９の製造方法の提供。【解決手段】ＮＩＴＤ６０９の製造の中間体として有用な一般式（１）で表される光学活性化合物の製造方法であって、一般式（２）で表される化合物と一般式（３）で表される化合物とを、式（Ａ）で表される不斉配位子を含有する銅錯体触媒の存在下で反応させる製造方法。（Ｒ１、Ｒ２及びＲ１３はＨ又はアミノ基の保護基；Ｒ１１及びＲ１２は置換／非置換の芳香族基）【選択図】なし

Description

本発明は、ＮＩＴＤ６０９の合成に非常に有用な光学活性化合物を製造する方法、並びにＮＩＴＤ６０９の製造方法に関する。

２０１０年、ＮｏｖａｒｔｉｓＩｎｓｔｉｔｕｔｅｆｏｒＴｒｏｐｉｃａｌＤｉｓｅａｓｅｓによって抗マラリア活性を有する下記構造式で表される化合物（ＮＩＴＤ６０９）が報告された（非特許文献１及び２参照）。

この化合物は、他の抗マラリア剤に対し耐性を獲得したマラリア原虫Ｐｌａｓｍｏｄｉｕｍ．Ｆａｌｃｉｐａｒｕｍ、及びＰｌａｓｍｏｄｉｕｍ．Ｖｉｖａｘに対しても活性を示すことが報告されており、現在、治験が第二相試験に進んでいる。

しかしながら、最初に報告されている本化合物の合成法では、生成物をラセミ体として合成後、キラルカラムによる光学分割によって目的物を得ており、合成効率の点で問題が残されており、改良合成法は酵素法に頼っている。

したがって、ＮＩＴＤ６０９の合成に有用な純化学的な光学活性化合物の製造方法が求められているのが現状である。

Ｒｏｔｔａｍａｎ，Ｍ．；Ｄｉａｇａｎａ，Ｔ．Ｔ．；ｅｔａｌ．Ｓｃｉｅｎｃｅ，２０１０，３２９，１１７５．Ｒｏｔｔａｍａｎ，Ｍ．；Ｄｉａｇａｎａ，Ｔ．Ｔ．；ｅｔａｌ．Ａｎｔｉｍｉｃｒｏｂ．ＡｇｅｎｔｓＣｈｅｍｏｔｈｅｒ．２０１２，５６，３５４４．

本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、ＮＩＴＤ６０９の合成に非常に有用な光学活性化合物を製造する方法、並びにＮＩＴＤ６０９の製造方法を提供することを目的とする。

前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
本発明の化合物の製造方法は、下記一般式（１）で表される化合物の製造方法であって、
下記一般式（２）で表される化合物と、下記一般式（３）で表される化合物とを、下記一般式（Ａ）で表される不斉配位子を含有する触媒の存在下で反応させ、前記一般式（１）で表される化合物を得る反応工程を含むことを特徴とする。
ただし、前記一般式（１）、及び前記一般式（２）中、Ｒ^１は、水素原子、及びアミノ基の保護基のいずれかを表す。Ｒ^２は、水素原子、及びアミノ基の保護基のいずれかを表す。前記一般式（１）、及び前記一般式（３）中、Ｒ^１１は、置換基を有していてもよい芳香族基を表す。Ｒ^１２は、置換基を有していてもよい芳香族基を表す。Ｒ^１３は、水素原子、及びアミノ基の保護基のいずれかを表す。
ただし、前記一般式（Ａ）中、Ｒは、炭素数１〜６のアルキル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、及び環置換アラルキル基のいずれかを表す。

また、本発明の化合物の製造方法は、下記構造式（１）で表される化合物の製造方法であって、
下記一般式（２）で表される化合物と、下記一般式（３）で表される化合物とを、下記一般式（Ａ）で表される不斉配位子を含有する触媒の存在下で反応させ、前記一般式（１）で表される化合物を得る反応工程を含むことを特徴とする。
ただし、前記一般式（１）、及び前記一般式（２）中、Ｒ^１は、水素原子、及びアミノ基の保護基のいずれかを表す。Ｒ^２は、水素原子、及びアミノ基の保護基のいずれかを表す。前記一般式（１）、及び前記一般式（３）中、Ｒ^１１は、置換基を有していてもよい芳香族基を表す。Ｒ^１２は、置換基を有していてもよい芳香族基を表す。Ｒ^１３は、水素原子、及びアミノ基の保護基のいずれかを表す。
ただし、前記一般式（Ａ）中、Ｒは、炭素数１〜６のアルキル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、及び環置換アラルキル基のいずれかを表す。

本発明によれば、従来における前記諸問題を解決し、前記目的を達成することができ、ＮＩＴＤ６０９の合成に非常に有用な光学活性化合物を製造する方法、並びにＮＩＴＤ６０９の製造方法を提供することができる。

本明細書、及び特許請求の範囲に記載された化学式及び一般式における立体配置は、特に言及しない場合には、絶対配置を表す。

本発明者らは、ＮＩＴＤ６０９の効率的な合成方法について鋭意検討を行った。
本発明者らは、以下のＳｃｈｅｍｅ１に示す触媒的不斉アルキニル化反応に着目した。
ここで、「Ｐｈ」は、フェニル基を表す。Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３は、置換基を表す。
このＳｃｈｅｍｅ１に示す反応は、非特許文献（Ｙｉｎ，Ｌ．；Ｏｔｓｕｋａ，Ｙ．；Ｔａｋａｄａ，Ｈ．；Ｍｏｕｒｉ，Ｓ．；Ｙａｚａｋｉ，Ｒ．；Ｋｕｍａｇａｉ，Ｎ．；Ｓｈｉｂａｓａｋｉ，Ｍ．Ｏｒｇ．Ｌｅｔｔ．２０１３，１５，６９８）で報告されている。

本発明者らは、前記Ｓｃｈｅｍｅ１に示す触媒的不斉アルキニル化反応を応用したＮＩＴＤ６０９の合成戦略を以下のＳｃｈｅｍｅ２のように計画した。
この合成戦略は、本発明者らによって、「触媒的不斉アルキニル化反応を利用したＮＩＴＤ６０９の不斉合成研究」という発表題目として、公益財団法人日本薬学会が開催した日本薬学会第１３３年会（２０１４年）及び第１３４年会（２０１５年）、及びそれらの要旨集〔日本薬学会第１３３年会要旨集２８Ｓ−ａｍ０３（１３３年会），日本薬学会第１３４年会要旨集２８Ｄ−ｐｍ１５（１３４年会）〕において報告されている。

この合成戦略に基づく実際の合成においては、前記Ｓｃｈｅｍｅ２に記載の化合物Ｃを合成するために、前記Ｓｃｈｅｍｅ１を参考にして、下記Ｓｃｈｅｍｅ３に示す合成を試みている。

ところが、結論としては、得られた結果物は、ＮＩＴＤ６０９のエピマーであった。ここまでは既報により報告されている。

更に本発明者らは、検討を行った。
本発明者らは、前記Ｓｃｈｅｍｅ２の合成戦略によって既報において得られたエピマーの立体化学を詳細に検討した。そのところ、得られた結果物において、ジアステレオマーと分離可能な生成物は、ＮＩＴＤ６０９のエナンチオマーが主成分であることを知見した。

そこで、本発明者らは、更に検討を行った。
前記Ｓｃｈｅｍｅ１に示す触媒的不斉アルキニル化反応を応用して、前記Ｓｃｈｅｍｅ３に示す化合物Ｃ１を得ようとすると、前記Ｓｃｈｅｍｅ３に示す不斉触媒を用いるのが、当業者の当然の思考である。
しかし、本発明者らは、前記知見（ＮＩＴＤ６０９のエナンチオマーが主成分であること）を踏まえ、前記Ｓｃｈｅｍｅ２の合成戦略、及び、前記Ｓｃｈｅｍｅ３の合成を再度詳細に検討した。
その結果、前記Ｓｃｈｅｍｅ３の反応では、驚くべきことに、Ｃ１の光学異性体である、下記構造式（Ｃ１−Ａ）で表される化合物が生成していることを知見した。

そこで、本発明らは、この知見を踏まえ、前記Ｓｃｈｅｍｅ２で示される合成戦略において、化合物Ｃの製造方法を見直すことで、本発明の完成に至った。即ち、本発明は、この知見を手に入れた本発明らであったからこそ成し得た発明である。

（一般式（１）で表される化合物の製造方法）
本発明の化合物の製造方法（その１）は、下記一般式（１）で表される化合物の製造方法であって、反応工程を少なくとも含み、更に必要に応じて、その他の工程を含む。

＜反応工程＞
前記反応工程は、下記一般式（２）で表される化合物と、下記一般式（３）で表される化合物とを反応させ、前記一般式（１）で表される化合物を得る工程である。
この反応は、下記一般式（Ａ）で表される不斉配位子を含有する触媒の存在下で行われる。

＜＜一般式（１）で表される化合物、一般式（２）で表される化合物、一般式（３）で表される化合物＞＞
ただし、前記一般式（１）、及び前記一般式（２）中、Ｒ^１は、水素原子、及びアミノ基の保護基のいずれかを表す。Ｒ^２は、水素原子、及びアミノ基の保護基のいずれかを表す。前記一般式（１）、及び前記一般式（３）中、Ｒ^１１は、置換基を有していてもよい芳香族基を表す。Ｒ^１２は、置換基を有していてもよい芳香族基を表す。Ｒ^１３は、水素原子、及びアミノ基の保護基のいずれかを表す。

−アミノ基の保護基−
前記Ｒ^１、前記Ｒ^２、及び前記Ｒ^１３における前記アミノ基の保護基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基、メチル基、エチル基、アリル基、ベンゼンスルホニル基などが挙げられる。

−置換基を有していてもよい芳香族基−
前記Ｒ^１１、及び前記Ｒ^１２の前記置換基を有していてもよい芳香族基における芳香族基は、単環構造及び多環構造のいずれでもよい。なかでも、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基が好ましい。

前記置換基を有していてもよい芳香族基の炭素数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、６〜１５が好ましい。
前記芳香族基としては、芳香族炭化水素基が好ましい。
なお、ここで、前記置換基を有していてもよい芳香族基の炭素数は、これらが置換基を有する場合、該置換基の炭素数も含む合計の炭素数を意味する。

前記置換基を有していてもよい芳香族基の置換基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、置換基を有していてもよいアルキル基などが挙げられる。前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などが挙げられる。前記アルコキシ基としては、例えば、炭素数１〜６のアルコキシ基などが挙げられる。前記アルキル基としては、例えば、炭素数１〜６のアルキル基などが挙げられる。前記置換基を有していてもよいアルキル基における置換基としては、例えば、ハロゲン原子などが挙げられる。前記置換基を有していてもよいアルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基などが挙げられる。

前記芳香族基における前記置換基の数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。前記置換基の数としては、例えば、１つ〜４つなどが挙げられる。
前記芳香族基における前記置換基の位置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、オルト位、パラ位、及びメタ位のいずれでもよい。
複数の前記置換基が、前記芳香族基に結合する場合、それらの置換基は、同じ置換基であってもよいし、異なる置換基であってもよい。

＜＜触媒＞＞
前記触媒は、下記一般式（Ａ）で表される不斉配位子を含有する。

前記触媒は、例えば、金属錯体である。前記金属錯体としては、銅錯体が好ましい。前記触媒として、前記銅錯体を用いることにより、安価な銅を触媒源に用い、高いエナンチオ選択性で前記一般式（１）で表される化合物を得ることができる。
前記銅錯体は、例えば、銅化合物と、前記一般式（Ａ）で表される不斉配位子とを混合して得られる。

−一般式（Ａ）で表される不斉配位子−
下記一般式（Ａ）で表される不斉配位子は、国際公開ＷＯ９１／１７９９８号パンフレット、及びその日本特許第２９７５６８３号公報などに掲載されている配位子であって、エナンチオ選択的触媒を形成する配位子として知られている。前記一般式（Ａ）で表される不斉配位子は、その立体化学から、（Ｒ，Ｒ）−２，５置換−ＢＰＥとも称される。
ただし、前記一般式（Ａ）中、Ｒは、炭素数１〜６のアルキル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、及び環置換アラルキル基のいずれかを表す。

前記炭素数１〜６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基などが挙げられる。

前記アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
前記置換アリール基における置換基としては、例えば、アルキル基などが挙げられる。前記アルキル基としては、例えば、炭素数１〜６のアルキル基などが挙げられる。
前記置換アリール基としては、例えば、ｐ−トリル基などが挙げられる。

前記アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基などが挙げられる。

これらのなかでも、立体選択性の点で、Ｒとしては、フェニル基が好ましい。即ち、前記一般式（Ａ）で表される不斉配位子は、下記構造式（Ａ−１）で表される不斉配位子〔（Ｒ，Ｒ）−Ｐｈ−ＢＰＥ〕が好ましい。
ただし、前記構造式（Ａ−１）中、Ｐｈは、フェニル基を表す。

−銅化合物−
前記銅化合物としては、前記一般式（Ａ）で表される不斉配位子と反応させることにより不斉銅錯体を得ることができれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。

前記銅化合物としては、例えば、一価又は二価の銅を含有する化合物が挙げられ、例えば、銅塩、その他の銅化合物などが挙げられる。

−−銅塩−−
前記銅塩としては、例えば下記一般式（Ｂ−１）で表される銅塩などが挙げられる。
［Ｃｕ_ｎ１１Ｘ^１ _ｎ１２］_ｎ１３（Ｂ−１）
（式中、ｎ１２個のＸ^１は同一又は異なって、アニオンを示し、ｎ１１〜ｎ１３は夫々独立して、自然数を示す。）

Ｘ^１で示されるアニオンとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、硝酸イオン、亜硝酸イオン、ハロゲン化物イオン、硫酸イオン、亜硫酸イオン、スルホン酸イオン、スルファミン酸イオン、炭酸イオン、水酸化物イオン、カルボン酸イオン、硫化物イオン、チオシアン酸イオン、リン酸イオン、ピロリン酸イオン、酸化物イオン、リン化物イオン、塩素酸イオン、過塩素酸イオン、ヨウ素酸イオン、ヘキサフルオロケイ酸イオン、シアン化物イオン、ホウ酸イオン、メタホウ酸イオン、ほうフッ化物イオンなどが挙げられる。

前記ハロゲン化物イオンとしては、例えば、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオンなどが挙げられる。
前記スルホン酸イオンとしては、例えば、Ｒ^１０５ＳＯ_３ ⁻（Ｒ^１０５は置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。）などで示される基が挙げられる。前記スルホン酸イオンの具体例としては、例えば、メタンスルホン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ｐ−トルエンスルホン酸イオンなどが挙げられる。
前記カルボン酸イオンとしては、例えば、Ｒ^１０６ＣＯＯ⁻（Ｒ^１０６は置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。）などで示される。前記カルボン酸イオンの具体例としては、例えば、酢酸イオン、ぎ酸イオン、プロピオン酸イオン、グルコン酸イオン、オレイン酸イオン、しゅう酸イオン、安息香酸イオン、フタル酸イオン、トリフルオロ酢酸イオンなどが挙げられる。

ｎ１１及びｎ１２は夫々独立して自然数を示すが、好ましくは１〜１０の自然数である。

前記銅塩の具体例としては、例えば、以下の銅塩などが挙げられる。
・硝酸銅〔例えば、硝酸銅（Ｉ）、硝酸銅（ＩＩ）等〕
・亜硝酸銅〔例えば、亜硝酸銅（Ｉ）、亜硝酸銅（ＩＩ）等〕
・ハロゲン化銅〔例えば、塩化銅（Ｉ）、塩化銅（ＩＩ）、臭化銅（Ｉ）、臭化銅（ＩＩ）、フッ化銅（Ｉ）、フッ化銅（ＩＩ）、ヨウ化銅（Ｉ）、ヨウ化銅（ＩＩ）等〕
・硫酸銅〔例えば、硫酸銅（ＩＩ）等〕
・亜硫酸銅〔例えば、亜硫酸銅（ＩＩ）等〕
・スルホン酸銅〔例えば、メタンスルホン酸銅（Ｉ）、メタンスルホン酸銅（ＩＩ）、ｐ−トルエンスルホン酸銅（Ｉ）、ｐ−トルエンスルホン酸銅（ＩＩ）、トリフルオロメタンスルホン酸銅（Ｉ）、トリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）等〕
・スルファミン酸銅〔例えば、スルファミン酸銅（ＩＩ）等〕
・炭酸銅〔例えば、炭酸銅（ＩＩ）等〕
・水酸化銅〔例えば、水酸化銅（ＩＩ）等〕
・カルボン酸銅〔例えば、酢酸銅（Ｉ）、酢酸銅（ＩＩ）、ギ酸銅（ＩＩ）、プロピオン酸銅（ＩＩ）、グルコン酸銅（ＩＩ）、オレイン酸銅（ＩＩ）、シュウ酸銅（ＩＩ）、安息香酸銅（ＩＩ）、フタル酸銅（ＩＩ）、カプリル酸銅（ＩＩ）、クエン酸銅（ＩＩ）、サリチル酸銅（ＩＩ）、酒石酸銅（ＩＩ）、ステアリン酸銅（ＩＩ）、ナフテン酸銅、乳酸銅（ＩＩ）、ラウリン酸銅（ＩＩ）等〕
・硫化銅〔例えば、硫化銅（Ｉ）、硫化銅（ＩＩ）等〕
・チオシアン酸銅〔例えば、チオシアン酸銅（Ｉ）、チオシアン酸銅（ＩＩ）等〕
・リン酸銅〔例えば、リン酸銅（ＩＩ）、ピロリン酸銅（ＩＩ）等〕
・酸化銅〔例えば、酸化銅（Ｉ）、酸化銅（ＩＩ）等〕
・過ハロゲン化酸銅〔例えば、塩素酸銅（Ｉ）、過塩素酸銅（ＩＩ）等〕
・ハロゲン化酸銅〔例えば、ヨウ素酸銅（ＩＩ）等〕
・ケイ酸銅〔例えば、ヘキサフルオロケイ酸銅等〕
・シアン化銅〔例えば、シアン化銅（Ｉ）、シアン化銅（ＩＩ）等〕
・ホウ酸銅〔例えば、ホウ酸銅、メタホウ酸銅、銅テトラフルオロボレート等〕

−−その他の銅化合物−−
その他の銅化合物としては、例えば下記一般式（Ｂ−２）で表される銅化合物などが挙げられる。
［Ｃｕ_ｎ１４Ｘ^２ _ｎ１５］_ｎ１６（Ｂ−２）
［式中、ｎ１５個のＸ^２は同一又は異なって、置換基を有していてもよい炭化水素基、ＯＲ^１０１（Ｒ^１０１は置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。）、ＮＲ^１０２ _２（２個のＲ^１０２は同一又は異なって、水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。）、ＰＲ^１０３ _２（２個のＲ^１０３は同一又は異なって、置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。）、ＳＲ^１０４（Ｒ^１０４は置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。）、１，３−ジカルボニル化合物或いはそのエノラート又はヒドリドを示し、ｎ１４〜ｎ１６は夫々独立して、自然数を示す。］

前記一般式（Ｂ−２）において、ｎ１４及びｎ１５は夫々独立して自然数を示すが、好ましくは１〜１０の自然数である。

前記Ｘ^２で示されるＯＲ^１０１の具体例としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、フェノキシ基などが挙げられる。
前記ＮＲ^１０２ _２の具体例としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ジフェニルアミノ基などが挙げられる。
前記ＰＲ^１０３ _２の具体例としては、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジエチルホスフィノ基、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィノ基、ジシクロヘキシルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基などが挙げられる。
前記ＳＲ^１０４の具体例としては、ＳＭｅ、ＳＥｔ、ＳＢｕ、ＳＰｈ、Ｓ（ＣＨ_３Ｃ_６Ｈ_５）などが挙げられる。ここで、「Ｍｅ」はメチル基を表し、「Ｅｔ」はエチル基を表す。
前記１，３−ジカルボニル化合物或いはそのエノラートの具体例としては、例えば、２，５−ペンタンジオン（ａｃａｃ）、１，１，１−トリフルオロ−２，５−ペンタンジオン、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロペンタンジオン（ｈｆａｃ）、ベンゾイルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチルなどが挙げられる。

前記一般式（Ｂ−２）で表される銅化合物の具体例としては、例えば、以下の銅化合物などが挙げられる。
・銅アルコキシド〔例えば、銅ジメトキシド、銅ジエトキシド、銅ジイソプロポキシド、銅ｔｅｒｔ−ブトキシド等〕
・銅フェノキシド〔例えば、銅フェノキシド等〕
・銅ホスフィド〔例えば、銅ジ（ｔｅｒｔ−ブチルホスフィド）、銅ジシクロヘキシルホスフィド、銅ジフェニルホスフィド等〕
・銅アミド〔例えば、銅ジシクロヘキシルアミド等〕
・銅チオレート〔例えば、銅ブタンチオレート、銅チオフェノレート等〕
・銅１，３−ジカルボニル化合物或いはそのエノラート〔例えば、銅２，４−ペンタンジオネート、銅ベンゾイルアセトネート、銅１，３−ジフェニル−１，３−プロパンジオネート、銅エチルアセトアセテート、銅トリフルオロペンタンジオネート、銅ヘキサフルオロペンタンジオネート等〕
・水素化銅
・炭化水素化銅〔例えば、メシチル銅、エチニル銅等〕
・シリル化銅〔例えば、トリメチルシリルエチニル銅等〕

その他の銅化合物は、また、例えば下記一般式（Ｂ−３）で表される銅化合物などが挙げられる。
［ＨＣｕＰ（Ｒ^１０７）_３］_ｎ１７（Ｂ−３）
（式中、３個のＲ^１０７は同一又は異なって、置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、ｎ１７は自然数を示す。）

前記一般式（Ｂ−３）で表される銅化合物の具体例としては、例えば、水素化銅（Ｉ）（トリフェニルホスフィン）ヘキサマー（Ｓｔｒｙｋｅｒ試薬）などが挙げられる。

前記一般式（Ｂ−３）で表される銅化合物の具体例としては、例えば、ヒドリド（トリフェニルホスフィン）銅（Ｉ）ヘキサマーなどが挙げられる。

前記銅塩及び前記その他の銅化合物等の銅化合物は、アルカリ金属（例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム等）やアルカリ土類金属（例えば、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム等）の塩と複塩を形成していてもよい。形成される複塩の具体例としては、例えば、ＫＣｕＦ_３、Ｋ_３［ＣｕＦ_６］、ＣｕＣＮ・ＬｉＣｌ、Ｌｉ_２ＣｕＣｌ_４、Ｌｉ_２ＣｕＣｌ_３、ＬｉＣｕＢｒ_２などが挙げられる。これら銅塩及び上記その他の銅化合物は、無水物でも水和物でもよい。

これらの銅化合物は、夫々単独で用いても２種以上適宜組み合わせて用いてもよい。
また、前記銅化合物は、市販品を用いても、或いは常法や、本明細書に記載の文献等に記載の方法で適宜製造したものを用いてもよい。

これらの中でも、触媒活性の点から、メシチル銅（Ｉ）が好ましい。

＜＜反応条件＞＞
前記反応工程における前記一般式（２）で表される化合物と前記一般式（３）で表される化合物との割合としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記一般式（３）で表される化合物に対して、前記一般式（２）で表される化合物が１．０当量〜３．０当量であることが好ましい。

前記反応工程において使用される溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、ＤＭＦ（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

前記反応工程における前記触媒の使用量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記一般式（３）で表される化合物に対して、０．１ｍｏｌ％〜１０ｍｏｌ％が好ましく、１ｍｏｌ％〜８ｍｏｌ％がより好ましく、３ｍｏｌ％〜６ｍｏｌ％が特に好ましい。

前記反応工程における反応温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、−５０℃〜−２０℃が好ましい。穏和な条件で反応が進行するため、反応温度を制御せずに行うことができる。そのため、例えば、常温で行うことができる。前記常温としては、例えば、２０℃〜３０℃などが挙げられる。
前記反応工程における反応時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２４時間〜１００時間が好ましく、４８時間〜９６時間が好ましい。

（構造式（１）で表される化合物の製造方法）
本発明の化合物の製造方法（その２）は、下記構造式（１）で表される化合物（ＮＩＴＤ６０９）の製造方法であって、反応工程を少なくとも含み、更に必要に応じて、その他の工程を含む。

＜反応工程＞
前記反応工程は、前記一般式（１）で表される化合物の製造方法における前記反応工程と同じであり、好ましい態様も同じである。

＜その他の工程＞
前記その他の工程としては、前記一般式（１）で表される化合物を用いて、前記構造式（１）で表される化合物を得る工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記Ｓｃｈｅｍｅ２に従って、合成を行う方法が挙げられる。
具体的には、例えば、以下の一連の反応が挙げられる。係る一連の反応は、以下の実施例においても詳述されている。係る一連の反応における個々の反応は、下記スキーム及び後述する実施例に接した当業者であれば、試行錯誤を要せずに行うことができる。

以下に本発明の実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
なお、以下の実施例において、
「Ｂｏｃ」は、「ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基」を表す。
「Ａｃ」は、「アセチル基」を表す。
「Ｅｔ」は、「エチル基」を表す。
「ＤＭＦ」は、「Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド」を表す。
「ＰＭＢ」は、「ｐ−メトキシベンジル基」を表す。
「Ｐｈ」は、「フェニル基」を表す。
「ＴＨＦ」は、「テトラヒドロフラン」を表す。
「ＴＦＡ」は、「トリフルオロ酢酸」を表す。
「Ｃｂｚ」は、「ベンジルオキシカルボニル基」を表す。
「Ｍｅ」は、「メチル基」を表す。
「Ｔｆ」は、「トリフルオロメチルスルホニル基」を表す。
「ＤＣＥ」は、「ジクロロエタン」を表す。

（合成例１）
以下のＳｃｈｅｍｅ４に従って、合成を行った。

５−Ｃｈｌｏｒｏ−２−ｅｔｈｙｎｙｌ−４−ｆｌｕｏｒｏａｎｉｌｉｎｅ（３４．０ｍｇ，０．２００５ｍｍｏｌ）に室温でＢｏｃ_２Ｏ（５２．５ｍｇ，０．２４０６ｍｍｏｌ）を加え８０℃で１８時間撹拌したのち、Ｂｏｃ_２Ｏ（２６．３ｍｇ，０．１２０５ｍｍｏｌ）を加えさらに８時間撹拌した。さらにＢｏｃ_２Ｏ（２６．３ｍｇ，０．１２０５ｍｍｏｌ）を加え１７時間撹拌したのちに室温まで冷却し、反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ〔ＡｃＯＥｔ／Ｈｅｘａｎｅ＝１／３９（体積比）〕にて精製しｔｅｒｔ−Ｂｕｔｙｌ（５−ｃｈｌｏｒｏ−２−ｅｔｈｙｎｙｌ−４−ｆｌｕｏｒｏｐｈｅｎｙｌ）ｃａｒｂａｍａｔｅ（４９．９ｍｇ，収率９２％）を得た。
得られた化合物の^１ＨＮＭＲ測定結果を以下に示す。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）： δ ８．２９（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ），７．１６（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．１８−７．０４（ｂｒ，１Ｈ），３．５２（ｓ，３Ｈ），１．５１ｐｐｍ（ｓ，Ｈ）．

（合成例２）
以下のＳｃｈｅｍｅ５に従って、合成を行った。

市販の５−Ｃｈｌｏｒｏｉｓａｔｉｎ（９．０８ｇ，５０．００ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（２５ｍｌ）に溶解し、室温でＫ_２ＣＯ_３（８．９８ｇ，６５．００ｍｍｏｌ）、ＫＩ（８３．０ｍｇ，０．５００ｍｍｏｌ）、及びＰＭＢＣｌ（８．１４ｍｌ，６０．００ｍｍｏｌ）を加え４．５時間撹拌した。５０％ＮａＣｌａｑ．（３００ｍｌ）、及び１．２ＭＨＣｌａｑ．（１００ｍｌ）を加え反応を停止後、ＡｃＯＥｔ（１００ｍｌ）で３回抽出し、有機層をｓａｔ．ＮａＨＣＯ_３ａｑ．で１回、及び飽和食塩水で１回洗浄した。有機層をＮａ_２ＳＯ_４で脱水後、溶媒を留去した。粗生成物をＣＨ_２Ｃｌ_２／Ｈｅｘａｎｅで再結晶し、５−Ｃｈｌｏｒｏ−１−（４−ｍｅｔｈｏｘｙｂｅｎｚｙｌ）ｉｎｄｏｌｉｎｅ−２，３−ｄｉｏｎｅ（１４．８０ｇ，収率９８％）を得た。
得られた化合物の^１ＨＮＭＲ測定結果を以下に示す。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ７．５４（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），７．４２（ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．４Ｈｚ，１Ｈ），７．２２（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），６．８５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），６．７２（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），４．８４（ｓ，２Ｈ），３．７７ｐｐｍ（ｓ，３Ｈ）．

（合成例３）
以下のＳｃｈｅｍｅ６に従って、合成を行った。

５−Ｃｈｌｏｒｏ−１−（４−ｍｅｔｈｏｘｙｂｅｎｚｙｌ）ｉｎｄｏｌｉｎｅ−２，３−ｄｉｏｎｅ（６０３．４ｍｇ，２．０００ｍｍｏｌ）をＣＨ_２Ｃｌ_２（２０ｍｌ）に溶解し、−７８℃にてＥｔ_３Ｎ（１．３９ｍｌ，１０．００ｍｍｏｌ）、及びＴｉＣｌ_４（１．０ＭｓｏｌｕｔｉｏｎｉｎＣＨ_２Ｃｌ_２，２．４０ｍｌ，２．４００ｍｍｏｌ）を加え−４０℃で１５分撹拌したのち、Ｐｈ_２Ｐ（＝Ｓ）ＮＨ_２（４９０ｍｇ，２．１００ｍｍｏｌ）を加え２６時間撹拌した。ｓａｔ．ＮＨ_３ｉｎＣＨ_２Ｃｌ_２（５．０ｍｌ）を加え反応を停止後、析出物をＣｅｌｉｔｅｐａｄにて分離した。ろ液を濃縮後、粗生成物をＴＨＦ／Ｈｅｘａｎｅで再結晶し、（Ｚ）−Ｎ−（５−Ｃｈｌｏｒｏ−１−（４−ｍｅｔｈｏｘｙｂｅｎｚｙｌ）−２−ｏｘｏｉｎｄｏｌｉｎ−３−ｙｌｉｄｅｎｅ）−Ｐ，Ｐ−ｄｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｏｔｈｉｏｉｃａｍｉｄｅ（６９５．９ｍｇ，収率６７％）を得た。
得られた化合物の^１ＨＮＭＲ測定結果を以下に示す。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ８．１２−８．０２（ｍ，５Ｈ），７．４８−７．４０（ｍ，６Ｈ），７．２６（ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．１７（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），６．８２（ｄｔ，Ｊ＝６．４，２．０Ｈｚ，２Ｈ），６．６０（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），４．７８（ｓ，２Ｈ），３．７５ｐｐｍ（ｓ，３Ｈ）．

（実施例１）
以下のＳｃｈｅｍｅ７に従って、合成を行った。

（Ｒ，Ｒ）−Ｐｈ−ＢＰＥ（１５２ｍｇ，０．３００ｍｍｏｌ）、及びｍｅｓｉｔｙｌｃｏｐｐｅｒ（５７．７ｍｇ，０．３００ｍｍｏｌ）をＡｒ雰囲気下、室温にてＤＭＦ（６０ｍｌ）に溶解し、１５分撹拌したのち、ｔｅｒｔ−Ｂｕｔｙｌ−（５−ｃｈｌｏｒｏ−２−ｅｔｈｙｎｙｌ−４−ｆｌｕｏｒｏｐｈｅｎｙｌ）ｃａｒｂａｍａｔｅ（１．９４ｇ，７．２００ｍｍｏｌ）を加え１０分撹拌した。−３０℃に冷却後、（Ｚ）−Ｎ−（５−Ｃｈｌｏｒｏ−１−（４−ｍｅｔｈｏｘｙｂｅｎｚｙｌ）−２−ｏｘｏｉｎｄｏｌｉｎ−３−ｙｌｉｄｅｎｅ）−Ｐ，Ｐ−ｄｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｏｔｈｉｏｉｃａｍｉｄｅ（３．１０ｇ，６．０００ｍｍｏｌ）を加え２４時間撹拌した。１．２ＭＨＣｌａｑ．（１０ｍｌ）を加え反応を停止後、ＡｃＯＥｔ（５０ｍｌ）で３回抽出し、有機層をｓａｔ．ＮａＨＣＯ_３ａｑ．で１回、５０％食塩水で１回、及び飽和食塩水で１回洗浄した。有機層をＮａ_２ＳＯ_４で脱水後、溶媒を留去した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ〔ＴＨＦ／Ｈｅｘａｎｅ＝１／３（体積比）〕で精製し、ｔｅｒｔ−Ｂｕｔｙｌ（Ｓ）−（５−ｃｈｌｏｒｏ−２−（（５−ｃｈｌｏｒｏ−３−（（ｄｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｏｒｏｔｈｉｏｙｌ）ａｍｉｎｏ）−１−（４−ｍｅｔｈｏｘｙｂｅｎｚｙｌ）−２−ｏｘｏｉｎｄｏｌｉｎ−３−ｙｌ）ｅｔｈｙｎｙｌ）−４−ｆｌｕｏｒｏｐｈｅｎｙｌ）ｃａｒｂａｍａｔｅ（４．５６ｇ，収率９７％，９６％ｅｅ）を得た。
得られた化合物の^１ＨＮＭＲ測定結果を以下に示す。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ８．２３（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ），８．１０（ｄｄｄ，Ｊ＝１４．０，８．０，１．６Ｈｚ，２Ｈ），７．８４（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．８０（ｄｄｄ，Ｊ＝１３．６，７．２，１．２Ｈｚ，２Ｈ），７．６７（ｓ，１Ｈ），７．４８−７．３８（ｍ，３Ｈ），７．３５（ｔｄ，Ｊ＝８．０，２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．２８−７．２２（ｍ，３Ｈ），７．０１（ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．０Ｈｚ，１Ｈ），６．９０（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），６．８６（ｄｔ，Ｊ＝８．８，２．０Ｈｚ，２Ｈ），６．５６（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），４．９１（ｄ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ，１Ｈ），４．８２（ｄ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ，１Ｈ），３．７６（ｓ，３Ｈ），３．６１（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ），１．５６ｐｐｍ（ｓ，９Ｈ）．
得られた化合物の旋光度測定結果を以下に示す。
［α］_Ｄ ^２３９１．１（ｃ０．９９，ＣＨＣｌ_３）．
得られた化合物のキラルＨＰＬＣ測定結果を以下に示す。
ＨＰＬＣａｎａｌｙｓｉｓ（ＣＨＩＲＡＬＰＡＫＩＡ（φ ＝０．４６ｃｍｘ２５ｃｍ），ｎ−ｈｅｘａｎｅ／２−ｐｒｏｐａｎｏｌ＝９０／１０，ｆｌｏｗｒａｔｅ＝１．０ｍＬ／ｍｉｎ，ｄｅｔｅｃｔｉｏｎａｔ２５４ｎｍ，ｔ_Ｒ＝１４．３ｍｉｎ（ｍｉｎｏｒ），２２．９ｍｉｎ（ｍａｊｏｒ）．

（実施例２）
＜Ｓｃｈｅｍｅ８＞
以下のＳｃｈｅｍｅ８に従って、合成を行った。

ｔｅｒｔ−Ｂｕｔｙｌ（Ｓ）−（５−ｃｈｌｏｒｏ−２−（（５−ｃｈｌｏｒｏ−３−（（ｄｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｏｒｏｔｈｉｏｙｌ）ａｍｉｎｏ）−１−（４−ｍｅｔｈｏｘｙｂｅｎｚｙｌ）−２−ｏｘｏｉｎｄｏｌｉｎ−３−ｙｌ）ｅｔｈｙｎｙｌ）−４−ｆｌｕｏｒｏｐｈｅｎｙｌ）ｃａｒｂａｍａｔｅ（４．５６ｇ，５．７９９ｍｍｏｌ）をＣＨ_２Ｃｌ_２（４６ｍｌ）に溶解し、Ａｒ雰囲気下−１５℃にてＴＦＡ（１２ｍｌ）を加えたのち、−１０℃にて９時間撹拌した。−７８℃に冷却後、Ｅｔ_３Ｎ（２５．３ｍｌ）、５０％食塩水（８０ｍｌ）、及びＣＨ_２Ｃｌ_２（５０ｍｌ）を順次加え反応を停止後、ＣＨ_２Ｃｌ_２（５０ｍｌ）で３回抽出し、有機層をｓａｔ．ＮａＨＣＯ_３ａｑ．で１回、１．２ＭＨＣｌａｑ．で１回、ｓａｔ．ＮａＨＣＯ_３ａｑ．で１回、及び飽和食塩水で１回洗浄した。有機層をＮａ_２ＳＯ_４で脱水後、溶媒を留去した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ〔ＴＨＦ／Ｈｅｘａｎｅ＝１／３〜１／２．５（体積比）〕で精製し、（Ｓ）−Ｎ−（３−（（２−Ａｍｉｎｏ−４−ｃｈｌｏｒｏ−５−ｆｌｕｏｒｏｐｈｅｎｙｌ）ｅｔｈｙｎｙｌ）−５−ｃｈｌｏｒｏ−１−（４−ｍｅｔｈｏｘｙｂｅｎｚｙｌ）−２−ｏｘｏｉｎｄｏｌｉｎ−３−ｙｌ）−Ｐ，Ｐ−ｄｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｏｔｈｉｏｉｃａｍｉｄｅ（２．６１ｇ，収率６６％）を得た。
得られた化合物の^１ＨＮＭＲ測定結果を以下に示す。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ８．０６（ｄｄｄ，Ｊ＝１４．０，８．４，１．６Ｈｚ，２Ｈ），７．７８（ｄｄｄ，Ｊ＝１３．６，８．４，１．２Ｈｚ，２Ｈ），７．６５（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．５１−７．４０（ｍ，３Ｈ），７．３４（ｔｄ，Ｊ＝７．２，２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．２８−７．２１（ｍ，４Ｈ），６．９８（ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．０Ｈｚ，１Ｈ），６．８６（ｔｄ，Ｊ＝８．８，２．８Ｈｚ，２Ｈ），６．８３（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），６．６２（ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，１Ｈ），６．５４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），４．９１（ｄ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ，１Ｈ），４．８０（ｄ，Ｊ＝１５．２Ｈｚ，１Ｈ），４．４４−４．３４（ｂｒ，１Ｈ），３．７７（ｓ，３Ｈ），３．６８ｐｐｍ（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ）．

＜Ｓｃｈｅｍｅ９＞
以下のＳｃｈｅｍｅ９に従って、合成を行った。

（Ｓ）−Ｎ−（３−（（２−Ａｍｉｎｏ−４−ｃｈｌｏｒｏ−５−ｆｌｕｏｒｏｐｈｅｎｙｌ）ｅｔｈｙｎｙｌ）−５−ｃｈｌｏｒｏ−１−（４−ｍｅｔｈｏｘｙｂｅｎｚｙｌ）−２−ｏｘｏｉｎｄｏｌｉｎ−３−ｙｌ）−Ｐ，Ｐ−ｄｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｏｔｈｉｏｉｃａｍｉｄｅ（２．５７ｇ，３．７３６ｍｍｏｌ）、及びＣｕＩ（７１．２ｍｇ，０．３７３６ｍｍｏｌ）をＡｒ雰囲気下ＤＭＦ（３７．４ｍｌ）に溶解し、９０℃にて１４時間撹拌した。室温に冷却後、５０％食塩水（１００ｍｌ）を加え反応を停止後、ＡｃＯＥｔ（５０ｍｌ）で３回抽出し、有機層を飽和食塩水で１回洗浄した。有機層をＮａ_２ＳＯ_４で脱水後、溶媒を留去した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ〔ＴＨＦ／Ｈｅｘａｎｅ＝１／３（体積比）〕で精製し、（Ｒ）−Ｎ−（５−Ｃｈｌｏｒｏ−３−（６−ｃｈｌｏｒｏ−５−ｆｌｕｏｒｏ−１Ｈ−ｉｎｄｏｌ−２−ｙｌ）−１−（４−ｍｅｔｈｏｘｙｂｅｎｚｙｌ）−２−ｏｘｏｉｎｄｏｌｉｎ−３−ｙｌ）−Ｐ，Ｐ−ｄｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｏｔｈｉｏｉｃａｍｉｄｅ（２．４０ｇ，収率９３％）を得た。
得られた（Ｒ）−Ｎ−（５−Ｃｈｌｏｒｏ−３−（６−ｃｈｌｏｒｏ−５−ｆｌｕｏｒｏ−１Ｈ−ｉｎｄｏｌ−２−ｙｌ）−１−（４−ｍｅｔｈｏｘｙｂｅｎｚｙｌ）−２−ｏｘｏｉｎｄｏｌｉｎ−３−ｙｌ）−Ｐ，Ｐ−ｄｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｏｔｈｉｏｉｃａｍｉｄｅ（３．０７ｇ，９６％ｅｅ）にＡｃＯＥｔ／Ｈｅｘａｎｅにて再結晶を行うと、結晶（ｒａｃｅｍａｔｅ）とろ液（２．９５ｇ，収率９６％，９９．８％ｅｅ）が得られた。
得られた化合物の^１ＨＮＭＲ測定結果を以下に示す。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ９．８８−９．８０（ｂｒ，１Ｈ），７．８８（ｄｄｄ，Ｊ＝１４．０，８．４，１．６Ｈｚ，２Ｈ），７．７８（ｄｄｄ，１４．０，８．４，１．２Ｈｚ，２Ｈ），７．５０（ｔｄ，Ｊ＝７．６，２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．４２（ｔｄ，Ｊ＝７．６，３．６Ｈｚ，２Ｈ），７．３５（ｔｄ，Ｊ＝７．６，１．６Ｈｚ，１Ｈ），７．３８−７．３２（ｍ，２Ｈ），７．２１（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．１６（ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ，１Ｈ），６．９９（ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．４Ｈｚ，１Ｈ），６．８３（ｄｔ，Ｊ＝８．８，２．８Ｈｚ，２Ｈ），６．５５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），６．１２（ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，１Ｈ），６．９５（ｄ，Ｊ＝１５．２Ｈｚ，１Ｈ），４．７０（ｄ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ，１Ｈ），４．０２（ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，１Ｈ），３．７４ｐｐｍ（ｓ，３Ｈ）．

＜Ｓｃｈｅｍｅ１０＞
以下のＳｃｈｅｍｅ１０に従って、合成を行った。

（Ｒ）−Ｎ−（５−Ｃｈｌｏｒｏ−３−（６−ｃｈｌｏｒｏ−５−ｆｌｕｏｒｏ−１Ｈ−ｉｎｄｏｌ−２−ｙｌ）−１−（４−ｍｅｔｈｏｘｙｂｅｎｚｙｌ）−２−ｏｘｏｉｎｄｏｌｉｎ−３−ｙｌ）−Ｐ，Ｐ−ｄｉｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｉｎｏｔｈｉｏｉｃａｍｉｄｅ（２．９０ｇ，４．２１７ｍｍｏｌ）をＡｒ雰囲気下ＣＨ_３ＣＮ（２１０ｍｌ）に溶解し、室温でＲａｎｅｙ−Ｎｉ（ｃａ．２１．１ｇ）を加えたのちに６０℃にて４時間撹拌した。室温に冷却後、ＡｃＯＨ（２５．３ｍｌ）を加えさらに３時間撹拌した。ＴＨＦ（２００ｍｌ）を加えたのちにＣｅｌｉｔｅｐａｄにてろ過をし、ろ液を留去した。ＣＨ_２Ｃｌ_２（５０ｍｌ）、及び２ＭＮａＯＨａｑ．（２５０ｍｌ）を加えたのちＣＨ_２Ｃｌ_２（２００ｍｌ）で３回抽出し、有機層を５０％食塩水（２０００ｍｌ）で１回、及び飽和食塩水で１回洗浄した。有機層をＮａ_２ＳＯ_４で脱水後、溶媒を留去した。得られた（Ｒ）−３−Ａｍｉｎｏ−５−ｃｈｌｏｒｏ−３−（６−ｃｈｌｏｒｏ−５−ｆｌｕｏｒｏ−１Ｈ−ｉｎｄｏｌ−２−ｙｌ）−１−（４−ｍｅｔｈｏｘｙｂｅｎｚｙｌ）ｉｎｄｏｌｉｎ−２−ｏｎｅを含む粗生成物を精製せずに次の反応に用いた。

＜Ｓｃｈｅｍｅ１１＞
以下のＳｃｈｅｍｅ１１に従って、合成を行った。

（Ｒ）−３−Ａｍｉｎｏ−５−ｃｈｌｏｒｏ−３−（６−ｃｈｌｏｒｏ−５−ｆｌｕｏｒｏ−１Ｈ−ｉｎｄｏｌ−２−ｙｌ）−１−（４−ｍｅｔｈｏｘｙｂｅｎｚｙｌ）ｉｎｄｏｌｉｎ−２−ｏｎｅを含む粗生成物をＣＨ_２Ｃｌ_２（１０．５ｍｌ）、及びｐｙｒｉｄｉｎｅ（１０．５ｍｌ）に溶解し、Ａｒ雰囲気下０℃にてＢｅｎｚｙｌｃｈｌｏｒｏｆｏｒｍａｔｅ（２．３８ｍｌ，１６．８７ｍｍｏｌ）を加えたのち、室温にて３０分撹拌した。０℃に冷却後、１．２ＭＨＣｌａｑ．（４０ｍｌ）を加え反応を停止後、ＡｃＯＥｔ（５０ｍｌ）で３回抽出し、有機層をｓａｔ．ＮａＨＣＯ_３ａｑ．で１回、及び飽和食塩水で１回洗浄した。有機層をＮａ_２ＳＯ_４で脱水後、溶媒を留去した。得られたＢｅｎｚｙｌ（Ｒ）−（５−ｃｈｌｏｒｏ−３−（６−ｃｈｌｏｒｏ−５−ｆｌｕｏｒｏ−１Ｈ−ｉｎｄｏｌ−２−ｙｌ）−１−（４−ｍｅｔｈｏｘｙｂｅｎｚｙｌ）−２−ｏｘｏｉｎｄｏｌｉｎ−３−ｙｌ）ｃａｒｂａｍａｔｅを含む粗生成物を精製せずに次の反応に用いた。

＜Ｓｃｈｅｍｅ１２＞
以下のＳｃｈｅｍｅ１２に従って、合成を行った。

Ｂｅｎｚｙｌ（Ｒ）−（５−ｃｈｌｏｒｏ−３−（６−ｃｈｌｏｒｏ−５−ｆｌｕｏｒｏ−１Ｈ−ｉｎｄｏｌ−２−ｙｌ）−１−（４−ｍｅｔｈｏｘｙｂｅｎｚｙｌ）−２−ｏｘｏｉｎｄｏｌｉｎ−３−ｙｌ）ｃａｒｂａｍａｔｅを含む粗生成物をＰＯＣｌ_３（３．３６ｍｌ）に溶解し、Ａｒ雰囲気下０℃にてＤＭＦ（０．８４ｍｌ）を加えたのち、室温にて５時間撹拌した。０℃に冷却後、ＣＨ_２Ｃｌ_２（５０ｍｌ）を加えたのち、反応混合物を２ＭＮａＯＨａｑ．（１００ｍｌ）を含む氷浴へ１０回に分けて注いだ。これをＣＨ_２Ｃｌ_２（１００ｍｌ）で３回抽出し、有機層を５０％食塩水で１回、及び飽和食塩水で１回洗浄した。有機層をＮａ_２ＳＯ_４で脱水後、溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ〔ＡｃＯＥｔ／Ｈｅｘａｎｅ＝１／４〜１／２（体積比）〕で精製し、Ｂｅｎｚｙｌ（Ｒ）−（５−ｃｈｌｏｒｏ−３−（６−ｃｈｌｏｒｏ−５−ｆｌｕｏｒｏ−３−ｆｏｒｍｙｌ−１Ｈ−ｉｎｄｏｌ−２−ｙｌ）−１−（４−ｍｅｔｈｏｘｙｂｅｎｚｙｌ）−２−ｏｘｏｉｎｄｏｌｉｎ−３−ｙｌ）ｃａｒｂａｍａｔｅ（１．０５ｇ，収率４０％，３ｓｔｅｐｓ）を得た。
得られた化合物の^１ＨＮＭＲ測定結果を以下に示す。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ９．７０−９．３４（ｂｒ，２Ｈ），８．０４（ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ，１Ｈ），７．４８（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．３０−７．２３（ｍ，３Ｈ），７．２１（ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１Ｈ），７．１６−７．０２（ｂｒ，４Ｈ），６．８６−６．８２（ｂｒ，１Ｈ），６．７８（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），６．７０（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），５．０２（ｄ，Ｊ＝１１．６Ｈｚ，１Ｈ），４．９８−４．８８（ｂｒ，１Ｈ），４．８２−４．６６（ｂｒ，２Ｈ），３．７２ｐｐｍ（ｓ，３Ｈ）．

＜Ｓｃｈｅｍｅ１３＞
以下のＳｃｈｅｍｅ１３に従って、合成を行った。

Ｂｅｎｚｙｌ（Ｒ）−（５−ｃｈｌｏｒｏ−３−（６−ｃｈｌｏｒｏ−５−ｆｌｕｏｒｏ−３−ｆｏｒｍｙｌ−１Ｈ−ｉｎｄｏｌ−２−ｙｌ）−１−（４−ｍｅｔｈｏｘｙｂｅｎｚｙｌ）−２−ｏｘｏｉｎｄｏｌｉｎ−３−ｙｌ）ｃａｒｂａｍａｔｅ（１２７ｍｇ，０．２０００ｍｍｏｌ）をＥｔＮＯ_２（１６．０ｍｌ）に溶解し、室温でＮＨ_４ＯＡｃ（２３１ｍｇ，３．０００ｍｍｏｌ）を加え６０℃で４８時間撹拌した。室温に冷却後、５０％食塩水（１０ｍｌ）を加え反応を停止後、ＡｃＯＥｔ（２０ｍｌ）で３回抽出し、有機層を飽和食塩水で１回洗浄した。有機層をＮａ_２ＳＯ_４で脱水後、溶媒を留去した。得られたＢｅｎｚｙｌ（Ｒ，Ｅ）−（５−ｃｈｌｏｒｏ−３−（６−ｃｈｌｏｒｏ−５−ｆｌｕｏｒｏ−３−（２−ｎｉｔｒｏｐｒｏｐ−１−ｅｎ−１−ｙｌ）−１Ｈ−ｉｎｄｏｌ−２−ｙｌ）−１−（４−ｍｅｔｈｏｘｙｂｅｎｚｙｌ）−２−ｏｘｏｉｎｄｏｌｉｎ−３−ｙｌ）ｃａｒｂａｍａｔｅを含む粗生成物を精製せずに次の反応に用いた。

＜Ｓｃｈｅｍｅ１４＞
以下のＳｃｈｅｍｅ１４に従って、合成を行った。

Ｂｅｎｚｙｌ（Ｒ，Ｅ）−（５−ｃｈｌｏｒｏ−３−（６−ｃｈｌｏｒｏ−５−ｆｌｕｏｒｏ−３−（２−ｎｉｔｒｏｐｒｏｐ−１−ｅｎ−１−ｙｌ）−１Ｈ−ｉｎｄｏｌ−２−ｙｌ）−１−（４−ｍｅｔｈｏｘｙｂｅｎｚｙｌ）−２−ｏｘｏｉｎｄｏｌｉｎ−３−ｙｌ）ｃａｒｂａｍａｔｅを含む粗生成物をＥｔＯＨ（１．９０ｍｌ）、及びＡｃＯＨ（０．１０ｍｌ）に溶解し、室温で亜鉛粉末（１３１ｍｇ，２．０００ｍｍｏｌ）を加えたのちに６０℃で１時間半撹拌した。２ＭＨＣｌ（ｉｎＭｅＯＨ）を４．０ｍｌ、Ｈ_２Ｏを１．０ｍｌ加えたのち、さらに４時間撹拌した。室温に冷却後、ｓａｔ．ＮａＨＣＯ_３ａｑ．（２０ｍｌ）を加えたのちＡｃＯＥｔ（２０ｍｌ）で３回抽出し、有機層を飽和食塩水で１回洗浄した。有機層をＮａ_２ＳＯ_４で脱水後、溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ〔ＡｃＯＥｔ／Ｈｅｘａｎｅ＝１／３（体積比）〕にて精製し、Ｂｅｎｚｙｌ（Ｒ）−（５−ｃｈｌｏｒｏ−３−（６−ｃｈｌｏｒｏ−５−ｆｌｕｏｒｏ−３−（２−ｏｘｏｐｒｏｐｙｌ）−１Ｈ−ｉｎｄｏｌ−２−ｙｌ）−１−（４−ｍｅｔｈｏｘｙｂｅｎｚｙｌ）−２−ｏｘｏｉｎｄｏｌｉｎ−３−ｙｌ）ｃａｒｂａｍａｔｅ（６７．９ｍｇ，収率５１％，２ｓｔｅｐｓ）を得た。
得られた化合物の^１ＨＮＭＲ測定結果を以下に示す。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３） δ ７．８１（ｓ，１Ｈ），７．４１（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．３４−７．２５（ｍ，６Ｈ），７．１７−７．０６（ｂｒ，２Ｈ），７．１０（ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ，１Ｈ），６．７７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），６．６５（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），５．０７（ｄ，Ｊ＝１２．８Ｈｚ，１Ｈ），５．０４−４．７５（ｂｒ，２Ｈ），４．７２（ｄ，Ｊ＝１５．２Ｈｚ，１Ｈ），４．５３（ｄ，Ｊ＝１７．６Ｈｚ，１Ｈ），３．８７（ｄ，Ｊ＝１７．６Ｈｚ，１Ｈ），３．７３（ｓ，３Ｈ），２．３１ｐｐｍ（ｓ，３Ｈ）．

＜Ｓｃｈｅｍｅ１５＞
以下のＳｃｈｅｍｅ１５に従って、合成を行った。

Ｐｄ（ＯＡｃ）_２（４．１ｍｇ，０．０１８２６ｍｍｏｌ）をＡｒ雰囲気下ＣＨ_２Ｃｌ_２（０．９ｍｌ）に溶解し室温でＥｔ_３Ｎ（５．１μｌ，０．０３６４９ｍｍｏｌ）、及びＴｒｉｅｔｈｙｌｓｉｌａｎｅ（ＴＥＳＨ、８７．０μｌ，０．５４６１ｍｍｏｌ）を加え１０分間撹拌した。この溶液の４１８μｌをＢｅｎｚｙｌ（Ｒ）−（５−ｃｈｌｏｒｏ−３−（６−ｃｈｌｏｒｏ−５−ｆｌｕｏｒｏ−３−（２−ｏｘｏｐｒｏｐｙｌ）−１Ｈ−ｉｎｄｏｌ−２−ｙｌ）−１−（４−ｍｅｔｈｏｘｙｂｅｎｚｙｌ）−２−ｏｘｏｉｎｄｏｌｉｎ−３−ｙｌ）ｃａｒｂａｍａｔｅ（５５．９ｍｇ，０．０８４６３ｍｍｏｌ）をＣＨ_２Ｃｌ_２（４３２μｌ）に溶解した溶液に加えた。３時間撹拌したのち０℃へ冷却後Ｔｒｉｆｌｕｏｒｏａｃｅｔｉｃａｃｉｄ（２５９μｌ，０．３３８５ｍｍｏｌ）を加え、室温で１．５時間撹拌した。反応終了後Ａｒ雰囲気下にて減圧留去し、反応を停止した。これをＣＨ_２Ｃｌ_２（８５０μｌ）に溶解し−３０℃にてＢＨ_３・２−ｐｉｃｏｌｉｎｅ（２７．２ｍｇ，０．２５３９ｍｍｏｌ）を加え２時間撹拌した。１．２ＭＨＣｌａｑ．（５．０ｍｌ）を加え反応を停止後、ＡｃＯＥｔ（２０ｍｌ）で３回抽出し、有機層をｓａｔ．ＮａＨＣＯ_３ａｑ．で１回、及び飽和食塩水で１回洗浄した。有機層をＮａ_２ＳＯ_４で脱水後、溶媒を留去した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ〔ＡｃＯＥｔ／Ｈｅｘａｎｅ＝１／２．５（体積比）〕で精製し、（３Ｒ，３’Ｓ）−５，７’−Ｄｉｃｈｌｏｒｏ−６’−ｆｌｕｏｒｏ−１−（４−ｍｅｔｈｏｘｙｂｅｎｚｙｌ）−３’−ｍｅｔｈｙｌ−２’，３’，４’，９’−ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｓｐｉｒｏ［ｉｎｄｏｌｉｎｅ−３，１’−ｐｙｒｉｄｏ［３，４−ｂ］ｉｎｄｏｌ］−２−ｏｎｅ（３７．９ｍｇ，収率８８％）を得た。
得られた化合物の^１ＨＮＭＲ測定結果を以下に示す。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６） δ １０．７０（ｓ，１Ｈ），７．４５（ｄ，Ｊ＝１０．０Ｈｚ，１Ｈ），７．３６（ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．４Ｈｚ，１Ｈ），７．３２（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．２８（ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，１Ｈ），７．１２（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），６．９８（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），６．９０（ｄｔ，Ｊ＝８．８，２．０Ｈｚ，２Ｈ），４．８３（ｄ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ，１Ｈ），４．７７（ｄ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ，１Ｈ），４．０２−３．８８（ｍ，１Ｈ），３．７３（ｓ，３Ｈ），３．１９（ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，１Ｈ），２．８１（ｄｄ，Ｊ＝１５．２，４．０Ｈｚ，１Ｈ），２．４１（ｄｄ，Ｊ＝１５．２，１０．４Ｈｚ，１Ｈ），１．１８ｐｐｍ（ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，３Ｈ）．

＜Ｓｃｈｅｍｅ１６＞
以下のＳｃｈｅｍｅ１６に従って、合成を行った。

（３Ｒ，３’Ｓ）−５，７’−Ｄｉｃｈｌｏｒｏ−６’−ｆｌｕｏｒｏ−１−（４−ｍｅｔｈｏｘｙｂｅｎｚｙｌ）−３’−ｍｅｔｈｙｌ−２’，３’，４’，９’−ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｓｐｉｒｏ［ｉｎｄｏｌｉｎｅ−３，１’−ｐｙｒｉｄｏ［３，４−ｂ］ｉｎｄｏｌ］−２−ｏｎｅ（３７．９ｍｇ，０．０７４２６ｍｍｏｌ）をＣＨ_２Ｃｌ_２（１．３５ｍｌ）に溶解し、−２０℃でＴｒｉｆｌｕｏｒｏｍｅｔｈａｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃａｃｉｄ（０．１５ｍｌ）を加え１３．５時間撹拌した。ｓａｔ．ＮａＨＣＯ_３ａｑ．（１０ｍｌ）を加え反応を停止後ＡｃＯＥｔ（２０ｍｌ）で３回抽出し、有機層を飽和食塩水で１回洗浄した。有機層をＮａ_２ＳＯ_４で脱水後、溶媒を留去した。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ〔ＭｅＯＨ／ＣＨ_２Ｃｌ_２＝１／３９（体積比）〕で精製し、（３Ｒ，３’Ｓ）−５，７’−Ｄｉｃｈｌｏｒｏ−６’−ｆｌｕｏｒｏ−３’−ｍｅｔｈｙｌ−２’，３’，４’，９’−ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｓｐｉｒｏ［ｉｎｄｏｌｉｎｅ−３，１’−ｐｙｒｉｄｏ［３，４−ｂ］ｉｎｄｏｌ］−２−ｏｎｅ（１７．５ｍｇ，収率６０％）を得た。
得られた化合物の^１ＨＮＭＲ測定結果を以下に示す。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ_６） δ １０．６９（ｓ，１Ｈ），１０．５４（ｓ，１Ｈ），７．４２（ｄ，Ｊ＝１０．０Ｈｚ，１Ｈ），７．３２（ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．４Ｈｚ，１Ｈ），７．２５（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．０３（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），６．９２（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），３．９６−３．８３（ｍ，１Ｈ），３．１１（ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ），２．７６（ｄｄ，Ｊ＝１５．２，３．６Ｈｚ，１Ｈ），２．３６（ｄｄ，Ｊ＝１５．２，１０．８Ｈｚ，１Ｈ），１．１５ｐｐｍ（ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，３Ｈ）．

（実施例３及び参考例）
実施例１において、反応温度、反応時間を以下の表１に記載のように変更して、反応を行った。結果を表１に示した。なお、表１のＥｎｔｒｙ６は、実施例１に対応する。
なお、参考までに、（Ｓ，Ｓ）−Ｐｈ−ＢＰＥを用いた参考例（Ｅｎｔｒｙ０１，０２）を示した。参考例では、Ｓｃｈｅｍｅ７の反応の生成物とは逆の立体化学を有する生成物が得られていることを確認した。

Ｎ．Ｄ．；未決定

本発明の態様は、例えば、以下の通りである。
＜１＞下記一般式（１）で表される化合物の製造方法であって、
下記一般式（２）で表される化合物と、下記一般式（３）で表される化合物とを、下記一般式（Ａ）で表される不斉配位子を含有する触媒の存在下で反応させ、前記一般式（１）で表される化合物を得る反応工程を含むことを特徴とする化合物の製造方法である。
ただし、前記一般式（１）、及び前記一般式（２）中、Ｒ^１は、水素原子、及びアミノ基の保護基のいずれかを表す。Ｒ^２は、水素原子、及びアミノ基の保護基のいずれかを表す。前記一般式（１）、及び前記一般式（３）中、Ｒ^１１は、置換基を有していてもよい芳香族基を表す。Ｒ^１２は、置換基を有していてもよい芳香族基を表す。Ｒ^１３は、水素原子、及びアミノ基の保護基のいずれかを表す。
ただし、前記一般式（Ａ）中、Ｒは、炭素数１〜６のアルキル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、及び環置換アラルキル基のいずれかを表す。
＜２＞前記一般式（Ａ）で表される不斉配位子のＲが、フェニル基である前記＜１＞に記載の化合物の製造方法である。
＜３＞前記触媒が、銅錯体である前記＜１＞に記載の化合物の製造方法である。
＜４＞前記銅錯体が、銅化合物と、前記一般式（Ａ）で表される不斉配位子とを混合して得られる前記＜３＞に記載の化合物の製造方法である。
＜５＞下記構造式（１）で表される化合物の製造方法であって、
下記一般式（２）で表される化合物と、下記一般式（３）で表される化合物とを、下記一般式（Ａ）で表される不斉配位子を含有する触媒の存在下で反応させ、前記一般式（１）で表される化合物を得る反応工程を含むことを特徴とする化合物の製造方法である。
ただし、前記一般式（１）、及び前記一般式（２）中、Ｒ^１は、水素原子、及びアミノ基の保護基のいずれかを表す。Ｒ^２は、水素原子、及びアミノ基の保護基のいずれかを表す。前記一般式（１）、及び前記一般式（３）中、Ｒ^１１は、置換基を有していてもよい芳香族基を表す。Ｒ^１２は、置換基を有していてもよい芳香族基を表す。Ｒ^１３は、水素原子、及びアミノ基の保護基のいずれかを表す。
ただし、前記一般式（Ａ）中、Ｒは、炭素数１〜６のアルキル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、及び環置換アラルキル基のいずれかを表す。
＜６＞前記一般式（Ａ）で表される不斉配位子のＲが、フェニル基である前記＜５＞に記載の化合物の製造方法である。
＜７＞前記触媒が、銅錯体である前記＜５＞に記載の化合物の製造方法である。
＜８＞前記銅錯体が、銅化合物と、前記一般式（Ａ）で表される不斉配位子とを混合して得られる前記＜７＞に記載の化合物の製造方法である。

本発明の化合物の製造方法は、所謂ＮＩＴＤ６０９の製造に好適に用いることができる。

Claims

下記一般式（１）で表される化合物の製造方法であって、
下記一般式（２）で表される化合物と、下記一般式（３）で表される化合物とを、下記一般式（Ａ）で表される不斉配位子を含有する触媒の存在下で反応させ、前記一般式（１）で表される化合物を得る反応工程を含むことを特徴とする化合物の製造方法。
ただし、前記一般式（１）、及び前記一般式（２）中、Ｒ^１は、水素原子、及びアミノ基の保護基のいずれかを表す。Ｒ^２は、水素原子、及びアミノ基の保護基のいずれかを表す。前記一般式（１）、及び前記一般式（３）中、Ｒ^１１は、置換基を有していてもよい芳香族基を表す。Ｒ^１２は、置換基を有していてもよい芳香族基を表す。Ｒ^１３は、水素原子、及びアミノ基の保護基のいずれかを表す。
ただし、前記一般式（Ａ）中、Ｒは、炭素数１〜６のアルキル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、及び環置換アラルキル基のいずれかを表す。
前記一般式（Ａ）で表される不斉配位子のＲが、フェニル基である請求項１に記載の化合物の製造方法。
前記触媒が、銅錯体である請求項１に記載の化合物の製造方法。
前記銅錯体が、銅化合物と、前記一般式（Ａ）で表される不斉配位子とを混合して得られる請求項３に記載の化合物の製造方法。
下記構造式（１）で表される化合物の製造方法であって、
下記一般式（２）で表される化合物と、下記一般式（３）で表される化合物とを、下記一般式（Ａ）で表される不斉配位子を含有する触媒の存在下で反応させ、前記一般式（１）で表される化合物を得る反応工程を含むことを特徴とする化合物の製造方法。
ただし、前記一般式（１）、及び前記一般式（２）中、Ｒ^１は、水素原子、及びアミノ基の保護基のいずれかを表す。Ｒ^２は、水素原子、及びアミノ基の保護基のいずれかを表す。前記一般式（１）、及び前記一般式（３）中、Ｒ^１１は、置換基を有していてもよい芳香族基を表す。Ｒ^１２は、置換基を有していてもよい芳香族基を表す。Ｒ^１３は、水素原子、及びアミノ基の保護基のいずれかを表す。
ただし、前記一般式（Ａ）中、Ｒは、炭素数１〜６のアルキル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、及び環置換アラルキル基のいずれかを表す。
前記一般式（Ａ）で表される不斉配位子のＲが、フェニル基である請求項５に記載の化合物の製造方法。
前記触媒が、銅錯体である請求項５に記載の化合物の製造方法。
前記銅錯体が、銅化合物と、前記一般式（Ａ）で表される不斉配位子とを混合して得られる請求項７に記載の化合物の製造方法。