JP2967746B2 - 磁気記録媒体用潤滑剤及びこれを用いた磁気記録媒体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、パーフルオロポリ
エーテル系化合物を含む磁気記録媒体用潤滑剤（以下単
に「潤滑剤」という。）及びこれを用いた磁気記録媒体
に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ハードディスク装置においては、
装置の小型化及び記録容量の増大への要求が顕著になる
に伴い、高記録密度化を目指した技術開発が進められて
いる。ヘッド・ディスク系における高記録密度化は、ヘ
ッドとディスクとの距離をより短縮し、またディスクを
より高速で回転させることにより達成される。このため
に、ヘッドを搭載しているスライダーとディスクとの高
速接触確率が増加し、その結果潤滑剤が劣化して種々の
障害が誘発される問題が顕在化してきた。この度の本発
明者の研究により、潤滑剤の劣化モードは次の二つに大
別されることが明らかになった。その一つは潤滑剤分子
であるパーフルオロポリエーテルの分解であり、他の一
つは高粘性物質の生成である。

【０００３】パーフルオロポリエーテルの分解は、更に
熱的分解と化学的分解とに分けられる。パーフルオロポ
リエーテルの熱的分解は、スライダーとディスクとの高
速接触摺動によって発生する摩擦熱によって引き起こさ
れる。パーフルオロポリエーテルの化学的分解は、パー
フルオロポリエーテルと、スライダー材料である Al₂O₃
-TiCや、パーフルオロポリエーテルの分解副生成物であ
る酸との化学反応によって引き起こされる。これまで、
パーフルオロポリエーテルの熱分解や、Al₂O₃-TiC との
反応による化学的分解を抑制した潤滑剤に関する公知例
は存在しない。

【０００４】ただし、酸との反応による分解を抑制する
機構を付与した潤滑剤に関しては、数多くの公知例があ
る。例えば、パーフルオロポリエーテルにアルキルアミ
ンを添加したものについては、特開平５−２０６７５号
公報、特開平６−１４５６８７号公報、特開平７−６２
７３８号公報、特開平７−９３７４４号公報、特開平７
−９３７４５号公報等に記載されている。これらのう
ち、例えば特開平５−２０６７５号公報は、末端に水酸
基を持つパーフルオロポリエーテルにアルキルアミンを
添加した潤滑剤に関するものである。アルキルアミンと
しては、直鎖、分岐の何れでもよく、また炭素数は６以
上のものが好ましいとされている。この潤滑剤により、
優れた潤滑性を長期に渡って発現でき、走行性、耐摩耗
性、耐久性ともに良好で高性能化を図ることができると
されている。本発明者の研究によっても、このような潤
滑剤はオーディオテープやビデオテープ等の磁気テープ
に用いる限りにおいては、パーフルオロポリエーテルの
分解は十分に抑制され、走行性等の高性能化が図れるこ
とが確認された。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】近年のハードディスク
装置では、ディスク回転数が 7200rpm又はこれを更に超
えるものがある。このような過酷な条件では、上記例を
はじめこれまでの公知例ではパーフルオロポリエーテル
の分解を抑制することができず、従って潤滑性能の低下
を防止することはできない。

【０００６】本発明者の研究によれば、末端に水酸基を
持つパーフルオロポリエーテルにアルキルアミンを添加
した潤滑剤では、以下の作用により潤滑性を長期にわた
って発現できたものと考えられる。すなわち、この潤滑
剤は、摺動による熱分解によって潤滑剤中に生成し、パ
ーフルオロポリエーテルの分解反応の触媒となる酸性物
質（主として有機カルボン酸）を、アルキルアミンによ
って中和してその触媒作用を消失させる効果を利用した
ものである。ところが、ハードディスク媒体では、摺動
によって生成する酸性物質（主としてフッ化水素酸）が
磁気テープの場合とは異なるためにアルキルアミンでは
十分に中和することができず、またその濃度も磁気テー
プの場合の数百から数万倍に及んでいるために十分な中
和ができなかった。このような条件においてパーフルオ
ロポリエーテルの分解を抑制するための真に有効な手段
については、これまで公知例は存在しない。また、スラ
イダー材料である Al₂O₃-TiCとの反応によるパーフルオ
ロポリエーテルの分解を抑制する方法に関する公知例は
全く存在しない。

【０００７】潤滑剤の劣化による高粘性物質の生成は、
ヘッド・ディスク系の障害発生原因として更に深刻であ
る。高粘性物質は、パーフルオロポリエーテルの分解物
と金属イオンとの錯化合物を主成分とした潤滑剤変性物
である。ディスクの保護膜上には磁性膜の主成分である
コバルトが僅かながら存在していることは広く知られて
いる。このコバルトがパーフルオロポリエーテルの分解
生成物であるフッ化水素酸の作用によってイオン化され
ることにより、錯形成反応が進行する。この高粘性物質
がスライダーに付着すると、その空気力学的特性が変化
して、スライダーの浮上量変動、ピッチ角及びロール角
変動等、浮上姿勢が変化する。その結果、記録再生時に
おけるエラーレートの増加、スライダーとディスクとの
高速接触確率の増加、スライダーエッジ部とディスクと
の高速摺動等が起こり、短時間でヘッドクラッシュに至
る可能性が増加する。このような問題を回避するために
は、スライダーとディスクとの高速接触によっても、高
粘性物質が生成しない潤滑剤を用いることが極めて有効
である。しかしながら、このような効果を有する潤滑剤
に関する公知例は存在しなかった。

【０００８】

【発明の目的】ハードディスク装置のヘッド・ディスク
系の信頼性を確保するためには、潤滑剤の劣化を防ぐこ
とが非常に有効である。前述の通り、潤滑剤の劣化は、
パーフルオロポリエーテルの熱的・化学的分解及び高粘
性物質の生成であり、それぞれの劣化を抑制することが
本発明の目的である。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成するために鋭意研究した結果、潤滑剤分子であるパ
ーフルオロポリエーテルの分解には、摩擦による熱的分
解と、酸や Al₂O₃-TiC等のルイス酸との反応による化学
的分解とがあることを明らかにした。

【００１０】熱的分解は、約150 ℃以上の温度でパーフ
ルオロポリエーテルの主鎖のエーテル結合が解裂するこ
とにより起こる。解裂に伴って２個のフッ素が脱離する
が、このフッ素ラジカルは水分子と反応して速やかに２
分子のフッ化水素酸（ＨＦ）に変化する。

【００１１】化学的分解はこのＨＦとの反応により起こ
る。すなわち、ＨＦ中のＨ⁺ が主鎖のエーテル酸素を攻
撃して、エーテル解裂を引き起こすのである。また、同
様の分解反応は、スライダー材料である Al₂O₃-TiCとの
接触によっても起こる。この際、熱分解の場合と同様に
新たに２分子のＨＦが生成する。すなわち、パーフルオ
ロポリエーテルはひとたび熱分解や Al₂O₃-TiCとの接触
分解がおこると、ＨＦによる連鎖的な化学的分解反応が
繰り返されるのである。

【００１２】高粘性物質は、エーテル解裂したパーフル
オロポリエーテルの断片が金属イオンと錯体を形成する
ことによって形成される。金属イオンは、磁性膜の金属
成分が媒体保護層を通して表面に拡散したり、媒体保護
層の摩耗、亀裂、剥離等により露出した磁性膜が潤滑剤
中のＨＦと反応したりすることにより生成する。

【００１３】潤滑剤分子の連鎖的な化学的分解や金属錯
体の生成を抑制するためには、ＨＦやAl₂O₃-TiC や金属
イオンがパーフルオロポリエーテルと反応することを阻
害することが有効であると考えられる。すなわち、スラ
イダーとディスクとの高速接触により潤滑剤が熱的に分
解するとＨＦが生成するが、このＨＦとの反応速度がパ
ーフルオロポリエーテルよりも十分大きい物質を添加す
ることにより、ＨＦとパーフルオロポリエーテルとの反
応は事実上問題とならない程度まで抑制される。また、
Al₂O₃-TiC の表面に吸着する物質を添加することによ
り、Al₂O₃-TiC とパーフルオロポリエーテルとの接触が
防止され、その分解が阻害される。

【００１４】更に、高粘性物質の生成についても金属イ
オンとの錯生成定数がパーフルオロポリエーテルよりも
十分大きい物質を添加することにより、金属イオンとパ
ーフルオロポリエーテルとの反応も事実上問題とならな
い程度まで抑制されると考えられる。

【００１５】本発明は、このような考え方に立脚してな
されたものである。すなわち、本発明では、Al₂O₃-TiC
の表面に吸着してパーフルオロポリエーテルの接触を阻
害する物質の一般式を提示し、ＨＦとの反応速度がパー
フルオロポリエーテルよりも数百〜数千倍大きく、同時
に金属イオンとの錯生成定数がパーフルオロポリエーテ
ルよりも数十〜数万倍大きい物質の一般式を提示し、更
にこれらの化合物をパーフルオロポリエーテルに添加し
た新規な潤滑剤を提示している。

【００１６】これらの新規な潤滑剤を磁気ディスクに適
用した結果、スライダーとディスクとの高速接触が定常
的に起こる条件においても、パーフルオロポリエーテル
の連鎖的な化学分解が抑制され、また同時に高粘性物質
の生成も抑制されることが確認された。換言すれば、潤
滑性能の観点からはＣＳＳ（コンタクト・スタート・ア
ンド・ストップ) 試験により摩擦係数μの変化が小さ
く、また、シーク試験によりヘッドスライダーへの高粘
性物質の付着量が少なくなることが確認された。

【００１７】本発明に係る潤滑剤は、特に、近年盛んに
研究開発が行われているヘッドと媒体が密接して摺動す
るタイプのコンタクトレコーディング又はニアコンタク
トレコーディングと呼ばれる磁気記録装置に適用した場
合に効果を発揮する。すなわち、従来の浮上記録方式の
磁気記録装置では、ディスク回転時には、ヘッドとディ
スクが接触しないことが前提とされている。しかし、コ
ンタクトレコーディング又はニアコンタクトレコーディ
ングでは、ヘッドと回転中のディスク面との接触時間が
連続的であるためにヘッドとディスクとの摩擦が大きな
問題となってくる。このような条件下で本発明に係る潤
滑剤を用いた場合に、著しい効果が得られる。更に、当
該潤滑剤をフロッピーディスク、オーディオテープ、ビ
デオテープに適用した結果、走行性、耐摩耗性、耐久性
ともに良好で高性能化を図ることができた。

【００１８】

【発明の実施の形態】本発明の主成分であるパーフルオ
ロポリエーテル系化合物の主鎖構造は、例えば次の一般
式で示されるものである。 一般式〔１１〕 -CF₂-(O-CF₂-CF₂)_p -(O-CF₂)_q -O-CF₂- 一般式〔１２〕 F-(CF₂-CF₂-CF₂) _n -CF₂-CF₂- 一般式〔１３〕 CF₃-(O-CF-(CF₃)-CF₂)_m -(O-CF₂)_l - p,q,n,m,l は１以上の整数を示す。但し、本発明に係る
パーフルオロポリエーテルの主鎖構造は何等これらに限
定されるものではない。また、末端官能基の例として
は、例えば -CH₂OH, -OH, -CH₂COOH,-COOH, -C₆H₅,縮合
環基等を挙げることができるが、何等これらに限定され
るものではない。分子量は特に限定しないが、その中心
分子量が２０００から４０００程度が好ましい。

【００１９】本発明の成分のうちパーフルオロポリエー
テル以外の成分の骨格は下記のとおりである。

【００２０】

【化８】

【００２１】（一般式〔３〕中、Ｚは窒素原子又はリン
原子の何れかを示す。また、Ｒ¹ は水素原子、アルキル
基又はアリール基の何れかを示す。これらのアルキル基
又はアリール基は置換基を有していてもよく、また水素
原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換されてい
てもよい。また、一般式〔３〕中、Ｒ² はアルキル基又
はアリール基の何れかを示す。このアルキル基又はアリ
ール基は置換基を有していてもよく、また水素原子の一
部又は全部がフッ素原子によって置換されていてもよ
い。）

【００２２】一般式〔４〕 Ｚ≡Ｒ （一般式〔４〕中、Ｚは窒素原子又はリン原子の何れか
を示す。また、Ｒはアルキル基又はアリール基の何れか
を示す。このアルキル基又はアリール基は置換基を有し
ていてもよく、また水素原子の一部又は全部がフッ素原
子によって置換されていてもよい。）

【００２３】

【化９】

【００２４】（一般式〔５〕中、Ｚそれぞれ独立に窒素
原子又はリン原子の何れかを示す。また、Ｒ¹ 〜Ｒ⁴ は
それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基
の何れかを示す。これらのアルキル基又はアリール基は
置換基を有していてもよく、また水素原子の一部又は全
部がフッ素原子によって置換されていてもよい。〕

【００２５】

【化１０】

【００２６】（一般式〔６〕中、Ｚはそれぞれ独立に窒
素原子、リン原子の何れかを示す。また、Ｒ¹ 〜Ｒ⁵ は
それぞれ独立に、アルキル基、アリール基の何れかを示
す。また、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ は水素原子でもよ
い。これらのアルキル基又はアリール基は置換基を有し
ていてもよく、また水素原子の一部又は全部がフッ素原
子によって置換されていてもよい。）

【００２７】一般式〔７〕 Ｒ¹ −Ｚ−Ｒ² （一般式〔７〕中、Ｚは酸素原子又はイオウ原子の何れ
かを示す。また、Ｒ¹ 、Ｒ² はそれぞれ独立に、水素原
子、アルキル基又はアリール基の何れかを示す。これら
のアルキル基又はアリール基は置換基を有していてもよ
く、また水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって
置換されていてもよい。〕

【００２８】一般式〔８〕 Ｚ＝Ｒ （一般式〔８〕中、Ｚは酸素原子又はイオウ原子の何れ
かを示す。また、Ｒはアルキル基又はアリール基の何れ
かを示す。このアルキル基又はアリール基は置換基を有
していてもよく、また水素原子の一部又は全部がフッ素
原子によって置換されていてもよい。）

【００２９】一般式

〔９〕 Ｒ¹ −Ｚ−Ｚ−Ｒ² （一般式

〔９〕中、Ｚはそれぞれ独立に酸素原子又はイ
オウ原子の何れかを示す。また、Ｒ¹ 、Ｒ² はそれぞれ
独立に水素原子、アルキル基又はアリール基の何れかを
示す。これらのアルキル基又はアリール基は置換基を有
していてもよく、また水素原子の一部又は全部がフッ素
原子によって置換されていてもよい。）

【００３０】 一般式〔１０〕 Ｒ¹ −Ｚ−Ｒ² −Ｚ−Ｒ³ （一般式〔１０〕中、Ｚはそれぞれ独立に酸素原子又は
イオウ原子の何れかを示す。また、Ｒ¹ 〜Ｒ³ はそれぞ
れ独立にアルキル基又はアリール基の何れかを示す。ま
た、Ｒ¹ 、Ｒ³ は水素原子でもよい。これらのアルキル
基又はアリール基は置換基を有していてもよく、また水
素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換されて
いてもよい。）

【００３１】一般式〔１〕〜〔１０〕に記載されている
アルキル基又はアリール基は、例えば次のような式で示
されるものである。 -CH₃, -CH₂-CH₃, -(CH₂)₅-CH₃, -(CH₂)_{1 0}-CH₃, -(CH₂)_2
0-CH₃,-(CH₂)₂₉-CH₃, -(CH₂)₃=C(CH₃)-CH₂-CH₃, -(CH₂)
₅-C(CH=CH₂)₂-CH₂-CH₃,-(CH₂)₆-C(CH₂-CH₂-CH₃)₂-(CH₂)
₃-CH(CH₂-CH₂-CH₂-CH₃)-CH₂-CH₃,-CF₂-CF₃, -(CF₂)₁₀-C
H₃, -(CF₂)₃-C(CH₃)=CF-CF₃, -(CF₂)_{2 6}-C(CF₃)₂-CF₃,-C
₆H₅, -C₆H₄(-CH₃), -C₁₀H₇, -C₁₀H₅(-CH₂-CH₃)₂, -C_{1 4}H
₉,-C₁₄H₆(-CH₃)(-CH=CH₂)(-CH₂-CH₂-CH₃), -C_{3 0}H₁₇, -C
₆F₅,-C₁₀F₅(-CH₂-CH₃)₂, -C_{1 0}F₅(-CF₂-CF₃)₂, -C₃₀F_{1 7} 但し、本発明に係るアルキル基又はアリール基は何等こ
れらに限定されるものではない。

【００３２】また、これらの基に存在してもよい置換基
は、例えばアルキル基、アリール基、複素環基、-Cl, -
Br, -I, -OH, -CO, -SH, -SCH₃, -NH₂, -N(CH₃)₂, -NO,
-NO₂, -NOH, -CHO, -COOH, -COOCH₃, -CN, -SO, -PH₂,
-P(CH₃)₂, -CH₂OCH₃ 等を挙げることができるが、これ
らに限定されるものではない。

【００３３】本発明の潤滑剤は、先に記したパーフルオ
ロポリエーテルに対して、一般式〔１〕又は一般式
〔２〕に示される化合物の何れか又は両方を化合物１種
類について 0.01 〜50％含有し、且つ、一般式〔３〕に
示される骨格を有する化合物の少なくとも１種類を0.00
0001〜10％含有したものである。

【００３４】更に、本発明の磁気記録媒体は、磁性層又
は保護層上に先に記した潤滑剤を成膜することにより、
ヘッドスライダーと記録媒体との高速接触が多発して
も、潤滑膜が劣化しにくいものである。

【００３５】本発明の磁気記録媒体の一構成例の断面図
を図１に示す。

【００３６】本発明の磁気記録媒体は基板１上に下地層
２を介して磁性層３が形成され、その上に保護層４が形
成されている。下地層２及び保護層４はなくてもよい。
潤滑膜５は、保護層４の上に塗布してある。本発明が適
用されるものとしては、記録再生ヘッド又はヘッドスラ
イダーと接触するか、又はその可能性のある磁気記録媒
体であり、具体的にはハードディスク媒体、フロッピー
ディスク媒体、磁気テープ等である。

【００３７】これらの磁気記録媒体の支持体としては、
非磁性であることの他には制限はない。すなわち、ハー
ドディスク媒体の場合には、アルミニウム、ガラス、プ
ラスチック、カーボン、シリコン等が例示され、フロッ
ピーディスクや磁気テープ媒体の場合には、ポリアセテ
ート等の合成樹脂を例示することができる。支持体と磁
性膜との間に下地層を設けてもよい。下地層の材質、膜
厚に関して制限はなく、Cr, Ni-P等を例示することがで
きる。磁性膜についてもその成膜法、材質、膜厚に制限
はない。すなわち、成膜法としては塗布、メッキ、蒸
着、スパッタリング、ＣＶＤ法等が例示される。材質に
ついては、Fe, Co, Ni等の金属やこれらの酸化物、Co-N
i, Co-Pt, Fe-Ni, Fe-Co-Ni, Co-Cr-Pt-Ta等が例示され
る。保護層についても何等制限はなく、アモルファスカ
ーボン、水素添加カーボン、窒素添加カーボン、フッ素
添加カーボン、各種金属添加カーボン、ダイアモンドラ
イクカーボン、二酸化シリコン膜等を例示することがで
きる。

【００３８】以上示したような磁気記録媒体に潤滑剤を
成膜する方法についても特に制限はないが、ハードディ
スク媒体の場合には、ディップ法や回転成膜法を例示す
ることができる。この場合、潤滑膜厚は特に制限はない
が、1 〜1000オングストローム程度、好ましくは 5〜10
0 オングストローム程度である。

【００３９】本発明を適用した磁気記録装置の概略構成
を説明する図を図２に示す。

【００４０】図において、９は磁気ディスクであり、例
えば４枚を等間隔に固定している。これらの磁気ディス
クは回転機構１０により回転される。各磁気ディスク９
の両面には、本発明の潤滑剤の少なくとも１つが塗布さ
れている。各磁気ディスク９の両面近傍には、各磁気デ
ィスク９を挟む関係に合計８個の磁気ヘッド６が配置さ
れており、これら磁気ヘッド６はそれぞれ支持ばね１１
を介してキャリッジ７に支持されている。キャリッジ７
は、磁気ヘッド移動機構８により移動制御される。

【００４１】

【実施例】以下、本発明の具体的な実施例について説明
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。

【００４２】（実施例１〜１５）一般式〔１〕で示され
るもののうちＭ=2H 、Ｒ¹ 〜Ｒ¹²=-CH₃ である化合物、
一般式〔３〕で示されるもののうちＺ=N、Ｒ¹,Ｒ² に種
々の置換基を導入した化合物と、パーフルオロポリエー
テル系化合物とからなる潤滑剤についての実施例

【００４３】(1) ハードディスク媒体の製造 ・濃度展開サンプルの製造 一般式〔１〕で示される化合物（添加剤１) のうち、Ｍ
=2H 、Ｒ¹ 〜Ｒ¹²=-CH₃ である分子構造を有する化合物
10mgと、一般式〔３〕で示される化合物（添加剤２) の
うち、Ｚ=N、Ｒ¹= -(CH₂)_{1 0}-CH₃ 、Ｒ²=CH(CH₂)_{1 0}-CH₃
である分子構造を有する化合物 0.01mg を秤取り、これ
をメチルエチルケトン10mlに溶解し、その溶液をフォン
ブリンZ-DOL （モンテフルオス社製）10g に加えてよく
攪拌した。この混合液について80℃で減圧乾燥を 30min
継続してメチルエチルケトンを除去し、本実施例に係る
潤滑剤を得た。

【００４４】この潤滑剤をフルオロカーボン系溶媒であ
るフロリナートFC-77 （住友スリーエム株式会社製）に
溶解して0.08％溶液を調製した。この溶液を用いて、ス
パッタ法でカーボン保護層を成膜したディスクに、通常
のディップ法により潤滑膜を成膜してサンプルディスク
を作製した。同様にして、潤滑膜中の濃度が添加剤１に
ついては 0.1〜50％、添加剤２については0.000001％の
範囲で濃度展開サンプルディスクを作製した。

【００４５】サンプルディスクの構成を図１に示す。サ
ンプルディスクは、基板の突起高さが1.5 μ" 以下にな
るように基板表面に粗面加工を施した直径3.5"のアルミ
ニウム製基板を用い、この表面にNi-P下地層を成膜し、
その上に磁性層を成膜し、更にスパッタ法により水素添
加カーボンから成る保護層を10nm成膜し、保護層の表面
にディップ法により潤滑剤を20オングストロームの膜厚
で成膜して製造した。

【００４６】・添加剤展開サンプルの製造 添加剤１はＭ=2H 、Ｒ¹ 〜Ｒ¹²=-CH₃ の化合物を使用
し、添加剤２についてはＺ=N、Ｒ¹,Ｒ² に種々の置換基
を導入した化合物を使用し、その濃度は添加剤１は10％
に固定し、添加剤２は0.000001％に固定して添加剤展開
サンプルディスクを作製した。

【００４７】・公知ディスクの製造 公知例と比較することを目的として、特開平５−２０６
７５号公報に記載されたアルキルアミンの一種であるト
リ−ｎ−ウンデシルアミン N((CH₂)₁₀-CH₃)₃を0.1 ％添
加した潤滑剤を成膜したサンプルディスクを作製した。
これを、以下公知ディスクと称する。

【００４８】・リファレンスディスクの製造 添加剤を加えないこと以外は全く同様の操作を行ったリ
ファレンスディスクを作製した。

【００４９】(2) 潤滑性能試験 添加剤展開サンプルディスク、公知ディスク、リファレ
ンスディスクの潤滑性能は、ＣＳＳ及びシーク試験によ
り評価した。試験条件をまとめて図３に示す。

【００５０】ＣＳＳ試験は、評価するディスクをスピン
ドルに装着し、スライダーを予め設定された荷重でディ
スク面を押しつけるように調整して装着し、スライダー
を外周又は内周方向に動かないように固定してディスク
の回転数を 0〜3600rpm まで上昇させ、（このときのス
ライダーの浮上量は 5nm）直ちに再び0rpmまで下降させ
ることを１サイクルとし、２万サイクル後の摩擦係数μ
を初期の値と比較して評価した。この試験で使用するス
ライダーの大きさは、ナノスライダー（50％スライダ
ー）の２レールタイプとし、Al₂O₃-TiC 製で ABS（レー
ル摺動面）に DLC保護層が10nm成膜されたものを使用し
た。

【００５１】シーク試験は、ＣＳＳ試験と同様にディス
ク及びスライダーを装着し、ディスク回転数を 3600rpm
一定に保ち、スライダーを最外周から最内周へ再び最外
周へと高速で繰り返し動作させた。この動作を連続で72
時間行い、試験後、スライダーのレール摺動面の付着物
の量を目視で測定した。測定は付着物が覆うレール摺動
面の面積を11段階に点数化して評価した。すなわち、０
点は付着物が全く観察されない場合、１点はスライダー
のレール摺動面の１％未満の面積が付着物で被覆された
場合、２点は１％以上２％未満が被覆された場合、以下
同様に10点は10％以上の面積が被覆された場合とした。

【００５２】(3) 添加剤濃度と潤滑性能との関係につい
ての検討結果 添加剤１濃度展開サンプルディスクの潤滑性能評価を行
った結果を図４に示す。この結果から、実施例１に記載
した本発明に係る潤滑剤は、添加剤１濃度が0.1 〜50
％、添加剤２濃度が0.000001％の範囲内でＣＳＳ後の摩
擦係数μの上昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制
する効果があることがわかった。

【００５３】(4) 添加剤の種類と潤滑性能の関係につい
ての検討結果 添加剤展開サンプルディスク及び公知ディスクについ
て、図３に示す条件により潤滑性能の評価を行った。添
加剤の種類と評価結果を図５に示す。この結果から、一
般式〔１〕で示されるもののうちＭ=2H 、Ｒ¹ 〜Ｒ¹²=-
CH₃ である化合物と、一般式〔３〕で示されるもののう
ちＺ=N、Ｒ¹,Ｒ² に種々の置換基を導入した化合物と、
パーフルオロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤
は、添加剤１は0.1 〜50％、添加剤２は0.000001％の濃
度範囲でＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライダ
ー付着物の生成を抑制する効果があることがわかった。
また、本発明の評価条件では特開平５−２０６７５号公
報に記載された潤滑剤は、良好な潤滑性能を得ることが
できず、また、ヘッド付着物の発生を抑制することもで
きないことがわかった。

【００５４】（実施例１６〜２５）一般式〔１〕で示さ
れるもののうちＭ=Ti 、Ｒ¹ 〜Ｒ¹²=-CH₂CH₃である化合
物と、一般式〔４〕で示されるもののうちＺ=P、Ｒに種
々の置換基を導入した化合物と、パーフルオロポリエー
テル系化合物とからなる潤滑剤についての実施例

【００５５】実施例１〜１５と同様の方法で濃度展開サ
ンプルディスク、添加剤展開サンプルディスク、公知デ
ィスク及びリファレンスディスクを作製し、添加剤の濃
度、種類と潤滑性能との関係についての検討を行った。
濃度展開サンプルに使用した添加剤１は、一般式〔１〕
で示されるもののうちＭ=Ti 、Ｒ¹ 〜Ｒ¹²=-CH₂CH₃であ
る化合物、添加剤２は一般式〔４〕で示されるもののう
ちＺ=P、Ｒ= ≡C(CH₂)₂₀-CH₃である化合物を使用した。
その濃度は添加剤１では0 〜50％に展開し、添加剤２は
0.00001 ％に固定した。添加剤展開サンプルディスクで
は、添加剤１は濃度展開サンプルディスクと同じ化合物
を用い、添加剤２はＲに種々の置換基を導入した化合物
を用いた。その濃度は添加剤１では10％, 添加剤２では
0.00001％に固定した。

【００５６】評価条件を図６に、濃度展開サンプルディ
スクの潤滑性能評価結果を図７に、添加剤展開サンプル
ディスクの評価結果を図８に示す。図７に示す結果か
ら、実施例１６に記載した本発明に係る潤滑剤は、添加
剤１濃度が0.1 〜50％、添加剤２濃度が 0.00001％の範
囲内でＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライダー
付着物の生成を抑制する効果があることがわかった。図
８に示す結果から、一般式〔１〕で示されるもののうち
Ｍ=Ti 、Ｒ¹ 〜Ｒ¹²=-CH₂CH₃である化合物と、一般式
〔４〕で示されるもののうちＺ=P、Ｒに種々の置換基を
導入した化合物と、パーフルオロポリエーテル系化合物
とからなる潤滑剤は、添加剤１は 0.1〜50％, 添加剤２
は 0.00001％の濃度範囲でＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇
を抑え、スライダー付着物の生成を抑制する効果がある
ことがわかった。また、本発明の評価条件では特開平５
−２０６７５号公報に記載された潤滑剤は、良好な潤滑
性能を得ることができず、また、ヘッド付着物の発生を
抑制することもできないことがわかった。

【００５７】（実施例２６〜４０）一般式〔１〕で示さ
れるもののうちＭ=V, Ｒ¹ 〜Ｒ⁸= -CH₂CH₃、Ｒ⁹ 〜Ｒ¹²
=-C₆H₅ である化合物と、一般式〔５〕で示されるもの
のうちＺ=P、Ｒ¹ 〜Ｒ⁴ に種々の置換基を導入した化合
物と、パーフルオロポリエーテル系化合物とからなる潤
滑剤についての実施例

【００５８】実施例１〜１５と同様の方法で濃度展開サ
ンプルディスク、添加剤展開サンプルディスク、公知デ
ィスク及びリファレンスディスクを作製し、添加剤の濃
度、種類と潤滑性能の関係についての検討を行った。濃
度展開サンプルに使用した添加剤１は、一般式〔１〕で
示されるもののうちＭ=V、Ｒ¹ 〜Ｒ⁸=-CH₂CH₃ 、Ｒ⁹〜
Ｒ¹²=-C₆H₅である化合物、添加剤２は一般式〔５〕で示
されるもののうちＺ=P、Ｒ¹ 〜Ｒ⁴=-(CH₂)₁₀-CH₃である
化合物を使用した。その濃度は添加剤１では 0〜50％に
展開し、添加剤２は0.0001％に固定した。添加剤展開サ
ンプルディスクでは、添加剤１は濃度展開サンプルディ
スクと同じ化合物を用い、添加剤２はＲ¹ 〜Ｒ⁴ に種々
の置換基を導入した化合物を用いた。その濃度は添加剤
１では10％、添加剤２では0.001 ％に固定した。

【００５９】評価条件を図９に、濃度展開サンプルディ
スクの潤滑性能評価結果を図１０に、添加剤展開サンプ
ルディスクの評価結果を図１１に示す。図１０に示す結
果から、実施例２６の潤滑剤は、添加剤１濃度が 0.1〜
50％、添加剤２濃度が0.0001％の範囲内でＣＳＳ後の摩
擦係数μの上昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制
する効果があることがわかった。図１１に示す結果か
ら、一般式〔１〕で示されるもののうちＭ=V、Ｒ¹ 〜Ｒ
⁸=-CH₂CH₃ 、Ｒ⁹ 〜Ｒ¹²=-C₆H₅である化合物と、一般式
〔５〕で示されるもののうちＺ=P、Ｒに種々の置換基を
導入した化合物と、パーフルオロポリエーテル系化合物
とからなる潤滑剤は、添加剤１は0.1 〜50％、添加剤２
は0.0001％の濃度範囲でＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を
抑え、スライダー付着物の生成を抑制する効果があるこ
とがわかった。また、本発明の評価条件では特開平５−
２０６７５号公報に記載された潤滑剤は、良好な潤滑性
能を得ることができず、また、ヘッド付着物の発生を抑
制することもできないことがわかった。

【００６０】（実施例４１〜５５）一般式〔１〕で示さ
れるもののうちＭ=Cr 、Ｒ¹ 〜Ｒ¹²=-C₆H₅である化合物
と、一般式〔６〕で示されるもののうちＺ=P、Ｒ¹ 〜Ｒ
⁵ に種々の置換基を導入した化合物と、パーフルオロポ
リエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実施例

【００６１】実施例１〜１５と同様の方法で濃度展開サ
ンプルディスク、添加剤展開サンプルディスク、公知デ
ィスク及びリファレンスディスクを作製し、添加剤の濃
度、種類と潤滑性能との関係についての検討を行った。
濃度展開サンプルに使用した添加剤１は、一般式〔１〕
で示されるもののうちＭ=Cr 、Ｒ¹ 〜Ｒ¹²=-C₆H₅である
化合物、添加剤２は一般式〔６〕で示されるもののうち
Ｚ=N、Ｒ¹=Ｒ²=Ｒ⁴=Ｒ⁵= -(CH₂)_{1 0}-CH₃ 、Ｒ³= -(CH₂)_1
0-である化合物を使用した。その濃度は添加剤１では0
〜50％に展開し、添加剤２は0.001 ％に固定した。添加
剤展開サンプルディスクでは、添加剤１は濃度展開サン
プルディスクと同じ化合物を用い、添加剤２はＲ¹ 〜Ｒ
⁵ に種々の置換基を導入した化合物を用いた。その濃度
は添加剤１では10％, 添加剤２では 0.001％に固定し
た。

【００６２】評価条件を図１２に、濃度展開サンプルデ
ィスクの潤滑性能評価結果を図１３に、添加剤展開サン
プルディスクの評価結果を図１４に示す。図１３に示す
結果から、実施例４１の潤滑剤は、添加剤１濃度が 0.1
〜50％、添加剤２濃度が 0.001％の範囲内でＣＳＳ後の
摩擦係数μの上昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑
制する効果があることがわかった。図１４に示す結果か
ら、一般式〔１〕で示されるもののうちＭ=Cr 、Ｒ¹ 〜
Ｒ¹²=-C₆H₅である化合物と、一般式〔６〕で示されるも
ののうちＺ=N、Ｒ¹ 〜Ｒ⁵ に種々の置換基を導入した化
合物と、パーフルオロポリエーテル系化合物とからなる
潤滑剤は、添加剤１は 0.1〜50％、添加剤２は 0.001％
の濃度範囲でＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、スラ
イダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。また、本発明の評価条件では特開平５−２０６７５
号公報に記載された潤滑剤は、良好な潤滑性能を得るこ
とができず、また、ヘッド付着物の発生を抑制すること
もできないことがわかった。

【００６３】（実施例５６〜７０）一般式〔２〕で示さ
れるもののうちＭ=2H 、Ａ¹ 〜Ａ⁴=ベンゼン環である化
合物と、一般式〔７〕で示されるもののうちＺ=O、Ｒ¹,
Ｒ ²に種々の置換基を導入した化合物と、パーフルオロ
ポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実施
例

【００６４】実施例１〜１５と同様の方法で濃度展開サ
ンプルディスク、添加剤展開サンプルディスク、公知デ
ィスク及びリファレンスディスクを作製し、添加剤の濃
度、種類と潤滑性能との関係についての検討を行った。
濃度展開サンプルに使用した添加剤１は、一般式〔２〕
で示されるもののうちＭ=2H 、Ａ¹ 〜Ａ⁴=ベンゼン環で
ある化合物、添加剤２は一般式〔７〕で示されるものの
うちＺ=O, Ｒ¹=Ｒ²=-(CH₂)₁₀-CH₃である化合物を使用し
た。その濃度は添加剤１では O〜50％に展開し、添加剤
２は0.01％に固定した。添加剤展開サンプルディスクで
は、添加剤１は濃度展開サンプルディスクと同じ化合物
を用い、添加剤２はＲ¹,Ｒ² に種々の置換基を導入した
化合物を用いた。その濃度は添加剤１では10％、添加剤
２では0.01％に固定した。

【００６５】評価条件を図１５に、濃度展開サンプルデ
ィスクの潤滑性能評価結果を図１６に、添加剤展開サン
プルディスクの評価結果を図１７に示す。図１６に示す
結果から、実施例５６の潤滑剤は、添加剤１濃度が 0.1
〜50％，添加剤２濃度が 0.01 ％の範囲内でＣＳＳ後の
摩擦係数μの上昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑
制する効果があることがわかった。図１７に示す結果か
ら、一般式〔２〕で示されるもののうちＭ=2H 、Ｒ¹ 〜
Ｒ⁴=ベンゼン環である化合物と、一般式〔７〕で示され
るもののうちＺ=O、Ｒ¹,Ｒ² に種々の置換基を導入した
化合物と、パーフルオロポリエーテル系化合物とからな
る潤滑剤は、添加剤１は 0.1〜50％, 添加剤２は 0.01
％の濃度範囲でＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、ス
ライダー付着物の生成を抑制する効果があることがわか
った。また、本発明の評価条件では特開平５−２０６７
５号公報に記載された潤滑剤は、良好な潤滑性能を得る
ことができず、また、ヘッド付着物の発生を抑制するこ
ともできないことがわかった。

【００６６】（実施例７１〜８０）一般式〔２〕で示さ
れるもののうちＭ=Mn 、Ａ¹ 〜Ａ⁴=ナフタレン環である
化合物と、一般式〔８〕で示されるもののうちＺ=S、Ｒ
に種々の置換基を導入した化合物と、パーフルオロポリ
エーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実施例

【００６７】実施例１〜１５と同様の方法で濃度展開サ
ンプルディスク、添加剤展開サンプルディスク、公知デ
ィスク及びリファレンスディスクを作製し、添加剤の濃
度、種類と潤滑性能との関係についての検討を行った。
濃度展開サンプルに使用した添加剤１は、一般式〔２〕
で示されるもののうちＭ=Mn 、Ａ¹ 〜Ａ⁴=ナフタレン環
である化合物、添加剤２は一般式〔８〕で示されるもの
のうちＺ=S、Ｒ=-CH(CH₂)_{1 0}-CH₃ である化合物を使用し
た。その濃度は添加剤１では O〜50％に展開し、添加剤
２は0.1 ％に固定した。添加剤展開サンプルディスクで
は、添加剤１は濃度展開サンプルディスクと同じ化合物
を用い、添加剤２はＲに種々の置換基を導入した化合物
を用いた。その濃度は添加剤１では10％, 添加剤２では
0.1 ％に固定した。

【００６８】評価条件を図１８に、濃度展開サンプルデ
ィスクの潤滑性能評価結果を図１９に、添加剤展開サン
プルディスクの評価結果を図２０に示す。図１９に示す
結果から、実施例７１に記載した本発明に係る潤滑剤
は、添加剤１濃度が 0.1〜50％, 添加剤２濃度が 0.1％
の範囲内でＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライ
ダー付着物の生成を抑制する効果があることがわかっ
た。図２０に示す結果から、一般式〔２〕で示されるも
ののうちＭ=Mn 、Ｒ¹ 〜Ｒ⁴=ナフタレン環である化合物
と、一般式〔８〕で示されるもののうちＺ=S、Ｒに種々
の置換基を導入した化合物と、パーフルオロポリエーテ
ル系化合物とからなる潤滑剤は、添加剤１は0.1〜50％,
添加剤２は 0.1％の濃度範囲でＣＳＳ後の摩擦係数μ
の上昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制する効果
があることがわかった。また、本発明の評価条件では特
開平５−２０６７５号公報に記載された潤滑剤は、良好
な潤滑性能を得ることができず、また、ヘッド付着物の
発生を抑制することもできないことがわかった。

【００６９】（実施例８１〜９５）一般式〔２〕で示さ
れるもののうちＭ=Fe 、Ａ¹ 〜Ａ⁴=アントラセン環であ
る化合物と、一般式

〔９〕で示されるもののうちＺ=Se
、Ｒ¹,Ｒ² に種々の置換基を導入した化合物と、パー
フルオロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤につい
ての実施例

【００７０】実施例１〜１５と同様の方法で濃度展開サ
ンプルディスク、添加剤展開サンプルディスク、公知デ
ィスク及びリファレンスディスクを作製し、添加剤の濃
度、種類と潤滑性能との関係についての検討を行った。
濃度展開サンプルに使用した添加剤１は、一般式〔２〕
で示されるもののうちＭ=Fe 、Ａ¹ 〜Ａ⁴=アントラセン
環である化合物、添加剤２は一般式

〔９〕で示されるも
ののうちＺ=Se 、Ｒ¹=Ｒ²=-(CH₂)₁₀-CH₃である化合物を
使用した。その濃度は添加剤１では 0〜50％に展開し、
添加剤２は１％に固定した。添加剤展開サンプルディス
クでは、添加剤１は濃度展開サンプルディスクと同じ化
合物を用い、添加剤２はＲ¹,Ｒ² に種々の置換基を導入
した化合物を用いた。その濃度は添加剤１では10％, 添
加剤２では１％に固定した。

【００７１】評価条件を図２１に、濃度展開サンプルデ
ィスクの潤滑性能評価結果を図２２に、添加剤展開サン
プルディスクの評価結果を図２３に示す。図２２に示す
結果から、実施例８１に記載した本発明に係る潤滑剤
は、添加剤１濃度が 0.1〜50％, 添加剤２濃度が１％の
範囲内でＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライダ
ー付着物の生成を抑制する効果があることがわかった。
図２３に示す結果から、一般式〔２〕で示されるものの
うちＭ=Fe 、Ｒ¹ 〜Ｒ⁴=アントラセン環である化合物
と、一般式

〔９〕で示されるもののうちＺ=Se 、Ｒ¹,Ｒ
² に種々の置換基を導入した化合物と、パーフルオロポ
リエーテル系化合物とからなる潤滑剤は、添加剤１は
0.1〜50％, 添加剤２は１％の濃度範囲でＣＳＳ後の摩
擦係数μの上昇を抑え、スライダー付着物の生成を抑制
する効果があることがわかった。また、本発明の評価条
件では特開平５−２０６７５号公報に記載された潤滑剤
は、良好な潤滑性能を得ることができず、また、ヘッド
付着物の発生を抑制することもできないことがわかっ
た。

【００７２】（実施例９６〜１１０）一般式〔２〕で示
されるもののうちＭ=Ru 、Ａ¹ 〜Ａ⁴=パーフルオロピレ
ン環である化合物と、一般式〔１０〕で示されるものの
うちＺ=O、Ｒ¹ 〜Ｒ³ に種々の置換基を導入した化合物
と、パーフルオロポリエーテル系化合物とからなる潤滑
剤についての実施例

【００７３】実施例１〜１５と同様の方法で濃度展開サ
ンプルディスク、添加剤展開サンプルディスク、公知デ
ィスク及びリファレンスディスクを作製し、添加剤の濃
度、種類と潤滑性能との関係についての検討を行った。
濃度展開サンプルに使用した添加剤１は、一般式〔２〕
で示されるもののうちＭ=Ru 、Ａ¹ 〜Ａ⁴=パーフルオロ
ピレン環である化合物、添加剤２は一般式〔１０〕で示
されるもののうちＺ=O、Ｒ¹=Ｒ³=-(CH₂)₁₀-CH₃、Ｒ²=-
(CH₂)₁₀- である化合物を使用した。その濃度は添加剤
１では0 〜50％に展開し、添加剤２は10％に固定した。
添加剤展開サンプルディスクでは、添加剤１は濃度展開
サンプルディスクと同じ化合物を用い、添加剤２はＲ¹
〜Ｒ³ に種々の置換基を導入し化合物を用いた。その濃
度は添加剤１では10％, 添加剤２では10％に固定した。

【００７４】評価条件を図２３に、濃度展開サンプルデ
ィスクの潤滑性能評価結果を図２４に、添加剤展開サン
プルディスクの評価結果を図２５に示す。図２４に示す
結果から、実施例９６に記載した本発明に係る潤滑剤
は、添加剤１濃度が０．１〜５０％、添加剤２濃度が１
０％の範囲内でＣＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、ス
ライダー付着物の生成を抑制する効果があることがわか
った。図２５に示す結果から、一般式〔２〕で示される
もののうちＭ=Ru 、Ｒ¹ 〜Ｒ⁴=パーフルオロピレン環で
ある化合物と、一般式〔１０〕で示されるもののうちＺ
=O、Ｒ¹ 〜Ｒ³ に種々の置換基を導入した化合物と、パ
ーフルオロポリエーテル系化合物とからなる潤滑剤は、
添加剤１は 0.1〜50％, 添加剤２は10％の濃度範囲でＣ
ＳＳ後の摩擦係数μの上昇を抑え、スライダー付着物の
生成を抑制する効果があることがわかった。また、本発
明の評価条件では特開平５−２０６７５号公報に記載さ
れた潤滑剤は、良好な潤滑性能を得ることができず、ま
た、ヘッド付着物の発生を抑制することもできないこと
がわかった。

【００７５】

【発明の効果】本発明に係る潤滑剤は、パーフルオロポ
リエーテルの分解及び高粘性物質の生成を防ぐので、Ｃ
ＳＳによる摩擦係数μの上昇を抑え、また、スライダー
付着物の生成を抑制する効果がある。このために、この
潤滑剤を用いた磁気記録媒体は、如何なる使用条件下に
おいても長期間にわたってその潤滑性を保つことができ
る。したがって、この磁気記録媒体を用いた磁気記録装
置は、従来の装置よりも信頼性が高く、装置寿命が延長
される効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る磁気記録媒体の一実施形態を示す
要部概略断面図である。

【図２】本発明に係る磁気記録媒体を用いた磁気記録装
置の一実施形態を示す概略図である。

【図３】本発明の実施例１〜１５における、潤滑性能の
評価試験条件を示す図表である。

【図４】本発明の実施例１〜１５における、添加剤１濃
度と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表で
ある。

【図５】本発明の実施例１〜１５における、添加剤２の
種類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表
である。

【図６】本発明の実施例１６〜２５における、潤滑性能
の評価試験条件を示す図表である。

【図７】本発明の実施例１６〜２５における、添加剤１
濃度と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表
である。

【図８】本発明の実施例１６〜２５における、添加剤の
種類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図表
である。

【図９】本発明の実施例２６〜４０における、潤滑性能
の評価試験条件を示す図表である。

【図１０】本発明の実施例２６〜４０における、添加剤
１濃度と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図
表である。

【図１１】本発明の実施例２６〜４０における、添加剤
の種類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図
表である。

【図１２】本発明の実施例４１〜５５における、潤滑性
能の評価試験条件を示す図表である。

【図１３】本発明の実施例４１〜５５における、添加剤
１濃度と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図
表である。

【図１４】本発明の実施例４１〜５５における、添加剤
の種類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図
表である。

【図１５】本発明の実施例５６〜７０における、潤滑性
能の評価試験条件を示す図表である。

【図１６】本発明の実施例５６〜７０における、添加剤
１濃度と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図
表である。

【図１７】本発明の実施例５６〜７０における、添加剤
の種類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図
表である。

【図１８】本発明の実施例７１〜８０における、潤滑性
能の評価試験条件を示す図表である。

【図１９】本発明の実施例７１〜８０における、添加剤
１濃度と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図
表である。

【図２０】本発明の実施例７１〜８０における、添加剤
の種類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図
表である。

【図２１】本発明の実施例８１〜９５における、潤滑性
能の評価試験条件を示す図表である。

【図２２】本発明の実施例８１〜９５における、添加剤
１濃度と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図
表である。

【図２３】本発明の実施例８１〜９５における、添加剤
の種類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す図
表である。

【図２４】本発明の実施例９６〜１１０における、潤滑
性能の評価試験条件を示す図表である。

【図２５】本発明の実施例９６〜１１０における、添加
剤１濃度と潤滑性能との関係についての評価結果を示す
図表である。

【図２６】本発明の実施例９６〜１１０における、添加
剤の種類と潤滑性能との関係についての評価結果を示す
図表である。

【符号の説明】

１ 基板 ２ 下地層 ３ 磁性層 ４ 保護層 ５ 潤滑膜 ６ 磁気ヘッド ７ キャリッジ ８ 磁気ヘッド移動機構 ９ 磁気ディスク １０ 磁気ディスク回転機構 １１ 支持ばね

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ１０Ｍ 107:38 133:58 133:24 133:26 133:04 137:12） Ｃ１０Ｎ 40:18

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 フタロシアニン、下記一般式[１]で示さ
   れる分子構造式のＡ１，Ａ２，Ａ３，Ａ４に芳香環が導
   入されたフタロシアニン誘導体、ポルフィリン、又は下
   記一般式[２]で示される分子構造式のＲ１〜Ｒ１２にア
   ルキル基若しくはアリール基が導入されたポルフィリン
   誘導体のうち、１種類以上を０．１〜５０ｗｔ％、及
   び、 ＨＦとの反応速度がＨＦとパーフルオロポリエーテルと
   の場合よりも大きく、且つ、金属イオンとの錯生成定数
   が上記パーフルオロポリエーテルよりも大きい物質を
   ０．０００００１〜１０ｗｔ％、 パーフルオロポリエーテル系化合物中に含有してなるこ
   とを特徴とする磁気記録媒体用潤滑剤。【化１】 【化２】
2. 【請求項２】 パーフルオロポリエーテル系化合物に対
   して、 下記一般式［１〕に示される化合物若しくは下記一般式
   ［２〕に示される化合物の何れか又は両方のそれぞれ１
   種類又は複数種類を、化合物１種類について０．１〜５
   ０ｗｔ％含有し、 且つ、下記一般式〔３〕〜〔１０〕に示される骨格を有
   する化合物の少なくとも１種類を０．０００００１〜１
   ０ｗｔ％含有してなることを特徴とする、磁気記録媒体
   用潤滑剤。 【化３】 （一般式〔１〕中、Ｍは１個の金属イオン又は２個の水
   素イオンを示す。Ａ¹ 〜Ａ⁴ は、それぞれ独立にベンゼ
   ン環、ナフタレン環、アセナフチレン環、フルオレン
   環、フェナレン環、フェナントレン環、アントラセン
   環、フルオランテン環、アセフェナントリレン環、トリ
   フェニレン環、ピレン環、クリセン環、ナフタセン環、
   プレイアデン環、ピセン環、ペリレン環、ペンタフェン
   環、ペンタセン環、ヘキセン環、クロネン環、ヘプタセ
   ン環を示す。また、これらの環はカルボニル基又はアミ
   ノ基を含んでいてもよい。さらにまた、これらの環は窒
   素原子、酸素原子又はイオウ原子を含んだ複素環であっ
   てもよい。これらの環に結合している水素原子はアルキ
   ル基又はアリール基によって置換されていてもよい。こ
   れらのアルキル基又はアリール基は置換基を有していて
   もよく、また水素原子の一部又は全部がフッ素原子によ
   って置換されていてもよい。） 【化４】 （一般式〔２〕中、Ｒ¹ 〜Ｒ¹²は、水素原子、アルキル
   基又はアリール基の何れかを示す。これらのアルキル基
   又はアリール基は置換基を有していてもよく、また水素
   原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換されてい
   てもよい。） 【化５】 （一般式〔３〕中、Ｚは窒素原子又はリン原子の何れか
   を示す。また、Ｒ¹ は水素原子、アルキル基又はアリー
   ル基の何れかを示す。これらのアルキル基又はアリール
   基は置換基を有していてもよく、また水素原子の一部又
   は全部がフッ素原子によって置換されていてもよい。ま
   た、一般式〔３〕中、Ｒ² はアルキル基又はアリール基
   の何れかを示す。このアルキル基又はアリール基は置換
   基を有していてもよく、また水素原子の一部又は全部が
   フッ素原子によって置換されていてもよい。） 一般式〔４〕 Ｚ≡Ｒ （一般式〔４〕中、Ｚは窒素原子又はリン原子の何れか
   を示す。また、Ｒはアルキル基又はアリール基の何れか
   を示す。これらのアルキル基又はアリール基は置換基を
   有していてもよく、また水素原子の一部又は全部がフッ
   素原子によって置換されていてもよい。） 【化６】 （一般式〔５〕中、Ｚそれぞれ独立に窒素原子又はリン
   原子の何れかを示す。また、Ｒ¹ 〜Ｒ⁴ はそれぞれ独立
   に、水素原子、水酸基、アルキル基又はアリール基の何
   れかを示す。これらのアルキル基又はアリール基は置換
   基を有していてもよく、また水素原子の一部又は全部が
   フッ素原子によって置換されていてもよい。） 【化７】 （一般式〔６〕中、Ｚはそれぞれ独立に窒素原子又はリ
   ン原子の何れかを示す。また、Ｒ¹ 〜Ｒ⁵ はそれぞれ独
   立に、アルキル基又はアリール基の何れかを示す。ま
   た、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁵ は水素原子でもよい。これ
   らのアルキル基又はアリール基は置換基を有していても
   よく、また水素原子の一部又は全部がフッ素原子によっ
   て置換されていてもよい。） 一般式〔７〕 Ｒ¹ −Ｚ−Ｒ² （一般式〔７〕中、Ｚは酸素原子又はイオウ原子の何れ
   かを示す。また、Ｒ¹ 、Ｒ² はそれぞれ独立に、水素原
   子、アルキル基又はアリール基の何れかを示す。これら
   のアルキル基又はアリール基は置換基を有していてもよ
   く、また水素原子の一部又は全部がフッ素原子によって
   置換されていてもよい。） 一般式〔８〕 Ｚ＝Ｒ （一般式〔８〕中、Ｚは酸素原子又はイオウ原子の何れ
   かを示す。また、Ｒはアルキル基又はアリール基の何れ
   かを示す。このアルキル基又はアリール基は置換基を有
   していてもよく、また水素原子の一部又は全部がフッ素
   原子によって置換されていてもよい。） 一般式〔９〕 Ｒ¹ −Ｚ−Ｚ−Ｒ² （一般式〔９〕中、Ｚはそれぞれ独立に酸素原子又はイ
   オウ原子の何れかを示す。また、Ｒ¹ 、Ｒ² はそれぞれ
   独立に水素原子、アルキル基又はアリール基の何れかを
   示す。これらのアルキル基又はアリール基は置換基を有
   していてもよく、また水素原子の一部又は全部がフッ素
   原子によって置換されていてもよい。） 一般式〔１０〕 Ｒ¹ −Ｚ−Ｒ² −Ｚ−Ｒ³ （一般式〔１０〕中、Ｚはそれぞれ独立に酸素原子又は
   イオウ原子の何れかを示す。また、Ｒ¹ 〜Ｒ³ はそれぞ
   れ独立にアルキル基又はアリール基の何れかを示す。ま
   た、Ｒ¹ 、Ｒ³ は水素原子でもよい。これらのアルキル
   基又はアリール基は置換基を有していてもよく、また水
   素原子の一部又は全部がフッ素原子によって置換されて
   いてもよい。）
3. 【請求項３】 基板上に直接又は下地層を介して磁性膜
   が形成され、この磁性膜上に直接又は保護層を介して請
   求項１又は２の磁気記録媒体用潤滑剤が塗布されている
   磁気記録媒体。
4. 【請求項４】 前記下地層がＮｉ−Ｐ又はＣｒからな
   る、請求項３記載の磁気記録媒体。
5. 【請求項５】 前記保護層が水素添加カーボン又は水素
   及び窒素添加カーボンからなる、請求項３又は４記載の
   磁気記録媒体。