JP2956674B2 - 磁気記録媒体用潤滑剤、磁気記録媒体及び磁気記録装置 - Google Patents

磁気記録媒体用潤滑剤、磁気記録媒体及び磁気記録装置

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明はパーフルオロポリ
エーテル系化合物を用いた磁気記録媒体用潤滑剤、該潤
滑剤を用いた磁気記録媒体、及び、該磁気記録媒体を用
いた磁気記録装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、ハードディスク装置においては装
置の小型化および記録容量の増大への要求が顕著になる
に伴い、高記録密度化を目指した技術開発が進められて
いる。ヘッド・ディスク系に関しては、高記録密度化は
ヘッドとディスク媒体との距離をより短縮し、またディ
スク媒体をより高速で回転させることにより達成され
る。このために、磁気ヘッドを搭載しているスライダー
とディスク媒体との高速接触確率が増加し、その結果潤
滑剤に摩擦電気が発生、帯電して種々の障害が誘発され
る問題が顕在化してきた。これらの問題のうち最も深刻
なものは、帯電ディスク媒体と磁気ヘッドとの間の放電
によりヘッド素子が破壊されることである。
【０００３】このような問題はヘッドの浮上量が十分に
大きく、かつ、ディスク媒体の基板材料としてアルミニ
ウムのような導電体を使用した系では比較的起こりにく
いが、浮上量が比較的小さく、かつ、ガラスのような非
導電性基板を使用した系では頻発する問題であり、非浮
上型のコンタクト記録再生系では避けがたい重大な問題
である。
【０００４】アルミニウム基板を用いたディスク媒体と
ヘッド素子間の放電を防止するための手段として、接地
を十分にとって両者の電位差をゼロとすることが一般に
行われている。この場合、媒体上の潤滑膜や保護膜は電
気伝導性が低くても、これらの膜厚が十分に小さいため
に潤滑膜上に発生した電荷は基板を通してグランドに流
れ、ヘッド素子との間の電位差は発生しない。しかしな
がらガラス基板を用いたディスクでは、ガラス基板を通
して電荷がグランド流れることが出来ず、電荷は事実上
媒体表面に滞留する。このような問題を回避するために
は発生した電荷とグランドを結ぶ導電性の材料を潤滑剤
として用いることが有効であるが、このような効果を有
する潤滑剤に関する公知例は存在しない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ガラスの様な非導電性
の基板からなる媒体を用いた浮上系、コンタクト系のハ
ードディスク装置でのヘッド素子の放電破壊を防止する
ことが本発明が解決しようとする課題である。
【０００６】
【課題を解決するための手段】媒体潤滑膜上に発生した
電荷をグランドに流すためには、電気伝導性の高い材料
を潤滑膜として設けることが有効である。 電気伝導性
の高い潤滑膜は、従来の潤滑膜と同程度の潤滑性能を有
し、かつ、発生した電荷が滞留しないだけの電気伝導性
を有している必要がある。これらの性能を有する潤滑剤
は、従来から使用されているパーフルオロポリエーテル
系潤滑剤に、この潤滑剤よりも電気伝導性の高い高分子
化合物を混合することにより得ることが出来る。
【０００７】したがって、本発明は、パーフルオロポリ
エーテル系化合物よりも電気伝導度が大きい化合物であ
って、後述する一般式［１］、［２］、［３］で示され
る化合物から選ばれる少なくとも１種を前記パーフルオ
ロポリエーテル系化合物中に０．１〜９９．９重量％含
有してなることを特徴とする磁気記録媒体用潤滑剤を提
供する。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明の主成分であるパーフルオ
ロポリエーテル系化合物の主鎖構造は、例えば次の一般
式で示されるものである。下記一般式において、ｐ，
ｑ，ｎ，ｍ，ｌは１以上の整数、Ｇは末端官能基を示
す。 一般式 Ｇ-ＣＦ2-（Ｏ-ＣＦ2-ＣＦ2）p-（Ｏ-ＣＦ2）q
-Ｏ-ＣＦ2-Ｇ 一般式 Ｆ-（ＣＦ2-ＣＦ2-ＣＦ2）n-ＣＦ2-ＣＦ2-Ｇ 一般式 ＣＦ3-（Ｏ-ＣＦ-（ＣＦ3）-ＣＦ2）m-（Ｏ-Ｃ
Ｆ2）l-Ｇ
【０００９】但し本発明に係るパーフルオロポリエーテ
ルの主鎖構造は何等これらに限定されるものではない。
また、末端官能基Ｇの例としては、例えば-ＣＨ2ＯＨ，
-ＯＨ，-ＣＨ2ＣＯＯＨ，-ＣＯＯＨ，-Ｃ6Ｈ5，縮合環
基を挙げることができるが、何等これらに限定されるも
のではない。分子量は特に限定しないが、その中心分子
量が１０００から４０００程度であることが好ましい。
【００１０】本発明の成分のうちパーフルオロポリエー
テル以外の成分、すなわちパーフルオロポリエーテル系
化合物よりも電気伝導度が大きい化合物としては、下記
一般式［１］〜［３］で示される骨格を有するものが挙
げられる。
【００１１】一般式［１］
【化１】 〔一般式［１］中、Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ独立に、水素原
子、水酸基、ハロゲン原子、スルホン酸基、カルボン酸
基、ニトロ基、アミノ基、アルキル基、アリール基の何
れかを示す。上記アルキル基またはアリール基は置換基
を有していてもよく、また水素原子の一部または全部が
ハロゲン原子によって置換されていてもよい。Ｒ3はア
ルキル基、アリール基の何れかを示す。これらのアルキ
ル基またはアリール基は置換基を有していてもよく、ま
た水素原子の一部または全部がハロゲン原子によって置
換されていてもよい。〕
【００１２】一般式［２］
【化２】 〔一般式［２］中、Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ独立に、水素原
子、水酸基、ハロゲン原子、スルホン酸基、カルボン酸
基、ニトロ基、アミノ基、アルキル基、アリール基の何
れかを示す。上記アルキル基またはアリール基は置換基
を有していてもよく、また水素原子の一部または全部が
ハロゲン原子によって置換されていてもよい。〕
【００１３】一般式［３］
【化３】 〔一般式［３］中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4それぞれ独立
に、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、スルホン酸基、
カルボン酸基、ニトロ基、アミノ基、アルキル基、アリ
ール基の何れかを示す。上記アルキル基またはアリール
基は置換基を有していてもよく、また水素原子の一部ま
たは全部がハロゲン原子によって置換されていてもよ
い。またＨ+とＡ-はそれぞれプロトン酸のプロトンとそ
の共役塩基を示す。プロトン酸としてはスルホン酸、カ
ルボン酸、フッ酸、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、
硝酸、亜硝酸、硫酸、亜硫酸のうち、一種類もしくはこ
れらの混合物を示す。〕
【００１４】上記一般式［１］〜［３］に記載されてい
るアルキル基またはアリール基は、例えば次のような式
で示されるものである。-ＣＨ3，-ＣＨ2-ＣＨ3，-（Ｃ
Ｈ2）5-ＣＨ3，-（ＣＨ2）10-ＣＨ3，-（ＣＨ2）20-Ｃ
Ｈ3，-（ＣＨ2）29-ＣＨ3，-（ＣＨ2）3=Ｃ（ＣＨ3）-
ＣＨ2-ＣＨ3，-（ＣＨ2）5-Ｃ（ＣＨ=ＣＨ2）2-ＣＨ2-
ＣＨ3，-（ＣＨ2）6-Ｃ（ＣＨ2-ＣＨ2-ＣＨ3）2-（ＣＨ
2）3-ＣＨ（ＣＨ2-ＣＨ2-ＣＨ2-ＣＨ3）-ＣＨ2-ＣＨ3，
-ＣＦ2-ＣＦ3，-（ＣＦ2）10-ＣＨ3，-（ＣＦ2）3-Ｃ
（ＣＨ3）=ＣＦ-ＣＦ3，-（ＣＦ2）26-Ｃ（ＣＦ3）2-Ｃ
Ｆ3，-Ｃ6Ｈ5，-Ｃ6Ｈ4（ＣＨ3），-Ｃ10Ｈ7，-Ｃ10Ｈ5
（ＣＨ2-ＣＨ3）2，-Ｃ14Ｈ9，-Ｃ14Ｈ6（ＣＨ3）（Ｃ
Ｈ=ＣＨ2）（ＣＨ2-ＣＨ2-ＣＨ3），-Ｃ30Ｈ17，-Ｃ6Ｆ
5，-Ｃ10Ｆ5（ＣＨ2-ＣＨ3）2，-Ｃ10Ｆ5（-ＣＦ2-ＣＦ
3）2，-Ｃ30Ｆ17
【００１５】但し本発明においてアルキル基またはアリ
ール基は何等これらに限定されるものではない。また、
これらの基に存在してもよい置換基は、例えばアルキル
基、アリ-ル基、複素環基、-Ｆ，-Ｃｌ，-Ｂｒ，-Ｉ，-
ＯＨ，-ＣＯ，-ＳＨ，-ＳＣＨ3，-ＮＨ2，-Ｎ（ＣＨ3）
2，-ＮＯ，-ＮＯ2，-ＮＯＨ，-ＣＨＯ，-ＣＯＯＨ，-Ｃ
ＯＯＣＨ3，-ＣＮ，-ＳＯ，-ＰＨ2，-Ｐ（ＣＨ3）2，-
ＣＨ2ＯＣＨ3等を挙げることができるが、これらに限定
されるものではない。
【００１６】本発明の潤滑剤は、先に記したパーフルオ
ロポリエーテルに対して、一般式［１］〜［３］に示し
た骨格を有する化合物の少なくとも１種類が重量百分率
で０．１〜９９．９％の範囲で添加されたものである。
【００１７】また、本発明の磁気記録媒体は、前述した
本発明の磁気記録媒体用潤滑剤により潤滑膜を成膜して
なるもので、具体的には磁性膜或いは保護膜上に先に記
した潤滑剤を成膜することにより、ヘッドスライダーと
記録媒体との高速接触が多発しても、潤滑膜上に発生し
た電荷が滞留しにくい磁気記録媒体である。
【００１８】本発明の磁気記録媒体の一構成例の断面図
を図１に示す。本発明の磁気記録媒体は基板１上に下地
層２を介して磁性層３が形成され、その上に保護層４が
形成されている。下地層２および保護層４はなくてもよ
い。潤滑膜５は、保護膜４の上に塗布してある。
【００１９】本発明が適用されるものとしては、磁気ヘ
ッドもしくはヘッドスライダーと接触するか、またはそ
の可能性のある磁気記録媒体であり、具体的にはハード
ディスク媒体、フロッピーディスク媒体、磁気テープ等
である。
【００２０】これらの磁気記録媒体の支持体としては、
非磁性であることの他には制限はない。すなわち、ハー
ドディスク媒体の場合には、アルミニウム、ガラス、プ
ラスチック、カーボン、シリコン等が例示され、フロッ
ピーディスクや磁気テープ媒体の場合には、ポリアセテ
ート等の合成樹脂を例示することができる。
【００２１】支持体と磁性膜との間に下地層を設けても
よい。下地層の材質、膜厚に関して制限はなく、Ｃｒ、
Ｎｉ-Ｐ等を例示することができる。
【００２２】磁性膜についてもその成膜法、材質、膜厚
に制限はない。すなわち、成膜法としては塗布、メッ
キ、蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ法等が例示される。
材質については、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の金属やこれらの
酸化物、Ｃｏ-Ｎｉ、Ｃｏ-Ｐｔ、Ｆｅ-Ｎｉ、Ｆｅ-Ｃｏ
-Ｎｉ、Ｃｏ-Ｃｒ-Ｐｔ-Ｔａ等が例示される。
【００２３】保護膜についても何等制限はなく、アモル
ファスカーボン、水素添加カーボン、窒素添加カーボ
ン、フッ素添加カーボン、各種金属添加カーボン、ダイ
アモンドライクカーボン、二酸化珪素膜等を例示するこ
とができる。
【００２４】以上示したような磁気記録媒体に潤滑剤を
成膜する方法についても特に制限はないが、ハードディ
スク媒体の場合には、ディップ法や回転成膜法を例示す
ることができる。この場合、潤滑膜厚は特に制限はない
が、１〜１０００Å程度、好ましくは５〜１００Å程度
である。
【００２５】さらに、本発明に係る磁気記録装置は、上
述した本発明の磁気記録媒体と、この磁気記録媒体上に
密接された状態で相対移動されて情報を記録または再生
する磁気ヘッドと、この磁気ヘッドを前記磁気記録媒体
に押圧させる支持ばねとからなるものである。本発明に
係る磁気記録装置の概略構成を説明する図を図２に示
す。図において、９は磁気ディスク媒体であり、例えば
４枚を等間隔に固定している。これらの磁気ディスク媒
体は回転機構１０により回転される。各磁気ディスク媒
体９の両面には、本発明に係る潤滑剤の少なくとも１つ
が塗布されている。各磁気ディスク媒体９の両面近傍に
は、各磁気ディスク媒体９を挟む関係に合計８個の磁気
ヘッド６が配置されており、これら磁気ヘッド６はそれ
ぞれ支持ばね１１を介してキャリッジ７に支持されてい
る。キャリッジ７は、磁気ヘッド移動機構８により移動
制御される。
【００２６】
【実施例】以下、本発明の具体的な実施例について説明
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。以後、一般式［１］〜［３］等に示した化合物を
導電性高分子化合物と称する。
【００２７】（実施例１〜１０）実施例１〜１０は、一
般式［１］で示されたもののうち、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3が
いずれも-（ＣＦ2）5-ＣＦ3又はそれに置換基を導入し
たものである導電性高分子化合物とパーフルオロポリエ
ーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実施例であ
る。
【００２８】（１）ハードディスク媒体の製造 一般式［１］の化合物うち、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3がいずれ
も-（ＣＦ2）5-ＣＦ3である分子構造を有する導電性高
分子化合物１ｇを塩化メチレン１０ｍｌに溶解し、その
溶液をフォンブリンＺ-ＤＯＬ（モンテフルオス社製）
１０ｇに加えてよく攪拌した。この混合液について６０
℃で減圧蒸留を３０分継続して塩化メチレンを除去し、
本実施例に係る潤滑剤を得た。
【００２９】この潤滑剤をフルオロカーボン系溶媒であ
るフロリナートＦＣ-７７（住友スリーエム株式会社
製）に溶解して０．０８％の溶液を調製した。この溶液
を用いて、スパッタ法でカーボン保護膜を成膜したディ
スク媒体に、通常のディップ法により潤滑膜を成膜して
サンプルディスク媒体を作製した。同様にして、導電性
高分子化合物量を調節して潤滑剤に対する濃度を０．１
〜９９．９％まで展開した濃度展開サンプルディスク媒
体を作製した。尚、潤滑膜中の添加剤濃度は成膜前の添
加剤濃度とほぼ等しかった。サンプルディスク媒体の構
成を図１に示す。サンプルディスク媒体は、基板の面粗
さＲａが２ｎｍ以下になるように基板表面を研磨加工を
施した直径２．５”のガラス製基板を用い、この表面に
ＣｒＭｏ下地層を成膜し、その上にＣｏＣｒＰｔ磁性層
を成膜し、更にスパッタ法によりアモルファスカーボン
から成る保護層を５ｎｍ成膜し、保護層の表面にディッ
プ法により本発明に係る潤滑剤を２ｎｍ塗布して製造し
た。
【００３０】また、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3に種々の置換基を導
入した１５種類の導電性高分子化合物について、その濃
度を１０％とした導電性高分子化合物展開サンプルディ
スク媒体を作製した。さらに、導電性高分子化合物を加
えないこと以外は全く同様の操作を行ったリファレンス
ディスクも作製した。
【００３１】（２）摺動試験 導電性高分子化合物展開サンプルディスク媒体の評価
は、ヘッドにディスク媒体を接触させた状態で摺動させ
（ＤＲＡＧ試験）、ヘッド出力が初期値の５０％に減少
するまでの時間を評価した。ＤＲＡＧ試験は、評価する
ディスクをスピンドルに装着し、スライダーを予め設定
された荷重（５００ｍｇ）でディスク面を押しつけるよ
うに調整して装着し、スライダーを外周または内周方向
に動かないように固定してディスクの回転数を３６００
ｒｐｍに維持して（このときの線速は５ｍ／ｓ）、ヘッ
ド出力の変化を観測した。ヘッドスライダーはＡｌ2Ｏ3
-ＴｉＣ製で摺動面には保護膜が成膜されていないもの
を使用した。
【００３２】（３）導電性高分子化合物濃度とヘッド寿
命との関係についての検討結果 濃度展開サンプルディスク媒体によるヘッド寿命測定評
価を行った結果を表１に示す。
【表１】 以上の結果から、実施例１に記載した本発明に係る潤滑
剤は、導電性高分子化合物の濃度が０．１〜９９．９％
の範囲内でヘッド寿命が延長される効果があることがわ
かった。
【００３３】（４）導電性高分子化合物の種類と潤滑性
能の関係についての検討結果 Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3に種々の置換基を導入した導電性高分子
化合物展開サンプルディスク媒体およびリファレンスデ
ィスク媒体について、ヘッド寿命評価を行った。導電性
高分子化合物の種類と評価結果を表２に示す。
【表２】 以上の結果から、一般式［１］で示される化合物をパー
フルオロポリエーテルに添加した潤滑剤は摺動状態にお
けるヘッドの寿命を延長する効果があることがわかっ
た。
【００３４】（実施例１１〜２０）実施例１１〜２０
は、一般式［２］で示されたもののうち、Ｒ1及びＲ2が
いずれも-（ＣＦ2）5-ＣＦ3又はそれに置換基を導入し
たものである導電性高分子化合物とパーフルオロポリエ
ーテル系化合物とからなる潤滑剤についての実施例であ
る。
【００３５】前記実施例１〜１０と同様の方法で導電性
高分子化合物展開サンプルディスク媒体およびリファレ
ンスディスク媒体を作製し、導電性高分子化合物の種類
とヘッド寿命の関係についての検討を行った。評価結果
を表３に示す。
【表３】 以上の結果から、一般式［２］で示される化合物をパー
フルオロポリエーテルに添加した潤滑剤は摺動状態にお
けるヘッドの寿命を延長する効果があることがわかっ
た。
【００３６】（実施例２１〜３０）一般式［３］で示さ
れたもののうち、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4がいずれも-
（ＣＦ2）5-ＣＦ3又はそれに置換基を導入したものであ
る導電性高分子化合物とパーフルオロポリエーテル系化
合物とからなる潤滑剤についての実施例である。
【００３７】前記実施例１〜１０と同様の方法で導電性
高分子化合物展開サンプルディスク媒体およびリファレ
ンスディスク媒体を作製し、導電性高分子化合物の種類
とヘッド寿命の関係についての検討を行った。評価結果
を表４に示す。
【表４】 以上の結果から、一般式［３］で示される化合物をパー
フルオロポリエーテルに添加した潤滑剤は摺動状態にお
けるヘッドの寿命を延長する効果があることがわかっ
た。
【００３８】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の潤滑剤はヘッドスライダーとの摺動により発生する
電荷の媒体上の滞留を防ぐので、ヘッド素子とディスク
媒体との間の放電によるヘッド素子の破壊を抑え、よっ
てヘッド寿命を延長する効果がある。従って本発明の潤
滑剤を用いた磁気記録媒体及び該磁気記録媒体を用いた
磁気記録装置は、従来の媒体及び装置よりも信頼性が高
く、媒体及び装置の寿命が延長される効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の磁気記録媒体の一構成例を示す要部拡
大断面図。
【図２】本発明の磁気記録装置の模式図。
【符号の説明】
１ 基板 ２ 下地層 ３ 磁性層 ４ 保護層 ５ 潤滑膜 ６ 磁気ヘッド ７ キャリッジ ８ 磁気ヘッド移動機構 ９ 磁気ディスク １０ 磁気ディスク回転機構 １１ 支持ばね
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ１０Ｎ 40:18 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C10M 133/44 C10M 133/12 C10M 135/34 G11B 5/72 C10N 40:18 ＣＡ（ＳＴＮ) ＣＡＯＬＤ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 下記一般式［１］で示される化合物をパ
    ーフルオロポリエーテル系化合物中に０．１〜９９．９
    重量％含有してなることを特徴とする磁気記録媒体用潤
    滑剤。 一般式［１］ 【化１】 〔一般式［１］中、Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ独立に、水素原
    子、水酸基、ハロゲン原子、スルホン酸基、カルボン酸
    基、ニトロ基、アミノ基、アルキル基、アリール基の何
    れかを示す。上記アルキル基またはアリール基は置換基
    を有していてもよく、また水素原子の一部または全部が
    ハロゲン原子によって置換されていてもよい。Ｒ3はア
    ルキル基、アリール基の何れかを示す。これらのアルキ
    ル基またはアリール基は置換基を有していてもよく、ま
    た水素原子の一部または全部がハロゲン原子によって置
    換されていてもよい。〕
  2. 【請求項２】 下記一般式［２］で示される化合物をパ
    ーフルオロポリエーテル系化合物中に０．１〜９９．９
    重量％含有してなることを特徴とする磁気記録媒体用潤
    滑剤。 一般式［２］ 【化２】 〔一般式［２］中、Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ独立に、水素原
    子、水酸基、ハロゲン原子、スルホン酸基、カルボン酸
    基、ニトロ基、アミノ基、アルキル基、アリール基の何
    れかを示す。上記アルキル基またはアリール基は置換基
    を有していてもよく、また水素原子の一部または全部が
    ハロゲン原子によって置換されていてもよい。〕
  3. 【請求項３】 下記一般式［３］で示される化合物をパ
    ーフルオロポリエーテル系化合物中に０．１〜９９．９
    重量％含有し、かつ、下記一般式［３］に示される化合
    物を構成する窒素原子に対してプロトン酸０．１〜１０
    ０モル％を含有してなることを特徴とする磁気記録媒体
    用潤滑剤。 一般式［３］ 【化３】 〔一般式［３］中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4はそれぞれ独立
    に、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、スルホン酸基、
    カルボン酸基、ニトロ基、アミノ基、アルキル基、アリ
    ール基の何れかを示す。上記アルキル基またはアリール
    基は置換基を有していてもよく、また水素原子の一部ま
    たは全部がハロゲン原子によって置換されていてもよ
    い。またＨ+とＡ-はそれぞれプロトン酸のプロトンとそ
    の共役塩基を示す。プロトン酸としてはスルホン酸、カ
    ルボン酸、フッ酸、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、
    硝酸、亜硝酸、硫酸、亜硫酸のうち、一種類もしくはこ
    れらの混合物を示す。〕
  4. 【請求項４】 請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁
    気記録媒体用潤滑剤により潤滑膜を成膜してなることを
    特徴とする磁気記録媒体。
  5. 【請求項５】 請求項４に記載の磁気記録媒体と、この
    磁気記録媒体上に密接された状態で相対移動されて情報
    を記録または再生する磁気ヘッドと、この磁気ヘッドを
    前記磁気記録媒体に押圧させる支持ばねとからなること
    を特徴とする磁気記録装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20030010508A (ko) * 2001-07-25 2003-02-05 메르크 파텐트 게엠베하 모노-, 올리고- 및 폴리-4-플루오로티오펜 및 전하 이동물질로서의 이들의 용도
ATE409714T1 (de) * 2001-07-25 2008-10-15 Merck Patent Gmbh Mono-, oligo and poly-3-(1,1- difluoroalkyl)thiophene und ihre verwendung als ladungstransportmaterial
JP2009146511A (ja) * 2007-12-14 2009-07-02 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv 磁気ディスク及び磁気ディスク装置
EP2467353B1 (en) 2009-08-21 2016-01-13 The University Of South Dakota Fluorinated aromatic materials and their use in optoelectronics
US8717710B2 (en) * 2012-05-08 2014-05-06 HGST Netherlands, B.V. Corrosion-resistant bit patterned media (BPM) and discrete track media (DTM) and methods of production thereof

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5841426A (ja) * 1981-09-03 1983-03-10 Hitachi Maxell Ltd 磁気記録媒体
US4404247A (en) * 1982-07-02 1983-09-13 Minnesota Mining And Manufacturing Company Protective covering for magnetic recording medium
US4526833A (en) * 1983-10-03 1985-07-02 Minnesota Mining And Manufacturing Company Magnetic recording medium having a perfluoropolyether polymer protective coating
US5154845A (en) * 1987-08-10 1992-10-13 Pcr Group, Inc. Fluorine containing lubricating composition for relatively moving metal surfaces
US5741577A (en) * 1994-11-10 1998-04-21 Kao Corporation Magnetic recording medium having a lubricant layer with a specified structure of a specified perfluoropolyether lubricant
US5908817A (en) * 1998-05-18 1999-06-01 The Dow Chemical Company Lubricants containing a perfluoropolyalkyl ether and a fluoroalkylphosphazene

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